JP2020124654A - Reductant feeder and application method therefor - Google Patents

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Abstract

To prevent occurrence of topical unbalance in concentration distribution of a reductant by drift affection resulting from obstacles.SOLUTION: There is provided a reductant feeder feeding the reductant at the upstream side of an SCR catalyst in an exhaust flow path in which obstacles are disposed. The feeder comprises: plural injection nozzles disposed at intervals along one direction crossing with an exhaust flow direction in the downstream of the obstacle in the exhaust flow direction; and plural reductant feeding lines feeding the reductant to plural injection nozzles. Plural injection nozzles are plural that nozzle groups including at least one injection nozzle in which the reductant is fed by the same reductant feeding line when defining the nozzle located at the downstream of the obstacle among plural nozzles as a first injection nozzle, and that which is not located at the downstream as a second injection nozzle, and are partitioned into the first injection nozzle groups including the first nozzle and the second nozzle groups including the second nozzle.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本開示は、還元剤供給装置、及び還元剤供給装置の運用方法に関する。 The present disclosure relates to a reducing agent supply device and a method of operating the reducing agent supply device.

従来、例えば化石燃料等の燃焼排ガスからNOxを除去するために、排ガス中にアンモニア等の還元剤を混入し、脱硝触媒(例えばSCR触媒など)を用いて反応を促進させるように構成された脱硝装置が知られている。例えば特許文献1には、アンモニア供給管に取り付けられたノズルの向き及び角度を、排ガスダクトの排ガス流路形状に沿って変化させ、ノズルから噴出されるアンモニアを排ガス中に均一に分布させるように構成されたアンモニア注入装置が開示されている。 Conventionally, in order to remove NOx from a combustion exhaust gas such as fossil fuel, a denitration agent that is mixed with a reducing agent such as ammonia in the exhaust gas and uses a denitration catalyst (such as an SCR catalyst) to accelerate the reaction The device is known. For example, in Patent Document 1, the direction and angle of the nozzle attached to the ammonia supply pipe are changed along the shape of the exhaust gas flow path of the exhaust gas duct so that the ammonia ejected from the nozzle is evenly distributed in the exhaust gas. A configured ammonia injector is disclosed.

特開平9−24246号公報JP, 9-24246, A

ところで、上記のような脱硝触媒は、概して排ガス流路の全幅に亘って配置される。このため、排ガス流路の幅方向における還元剤の濃度分布を均一にして触媒を通過させるべく、アンモニア供給管には該供給管の延在方向に間隔を隔てて複数のノズルが配置され得る。一方、流路内におけるアンモニア供給管の上流には配管やストラット等を含む様々な障害物が配置され得る。このような障害物の下流では局所的に偏流が生じるため、障害物の下流では上記幅方向における還元剤の濃度分布が不均一になり、脱硝触媒の脱硝性能が低下する虞がある。
この点、特許文献1には、アンモニア供給管の上流に位置する障害物の存在による偏流の影響による還元剤の濃度分布のアンバランスに関する知見は開示されていない。
By the way, the denitration catalyst as described above is generally arranged over the entire width of the exhaust gas passage. Therefore, in order to make the concentration distribution of the reducing agent uniform in the width direction of the exhaust gas passage and to pass the catalyst, a plurality of nozzles may be arranged in the ammonia supply pipe at intervals in the extending direction of the supply pipe. On the other hand, various obstacles including pipes and struts may be arranged upstream of the ammonia supply pipe in the flow path. Since a nonuniform flow locally occurs in the downstream of such an obstacle, the concentration distribution of the reducing agent in the width direction becomes non-uniform in the downstream of the obstacle, and the denitration performance of the denitration catalyst may deteriorate.
In this regard, Patent Document 1 does not disclose any knowledge about the imbalance in the concentration distribution of the reducing agent due to the influence of the drift caused by the presence of the obstacle located upstream of the ammonia supply pipe.

上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、障害物に起因した偏流の影響による還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置、又は還元剤供給装置の運用方法を提供することを目的とする。 In view of the above-mentioned circumstances, at least one embodiment of the present invention is a reducing agent supply device or a reducing agent supply device capable of suppressing an imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of a drift caused by an obstacle. The purpose is to provide the operation method of.

(1)本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置は、
障害物が配置された排ガスの流路内におけるSCR触媒の上流に還元剤を供給するための還元剤供給装置であって、
前記排ガスの流れ方向における前記障害物の下流において、前記排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズルと、
前記複数の噴射ノズルに対して前記還元剤を供給するように構成された複数の還元剤供給ラインと、
を備え、
前記複数の噴射ノズルのうち、前記障害物の下流に位置する噴射ノズルを第1噴射ノズル、前記障害物の下流に位置しない噴射ノズルを第2噴射ノズルと定義した場合に、
前記複数の噴射ノズルは、同一の前記還元剤供給ラインによって前記還元剤が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズルを含む複数の噴射ノズル群であって、前記第1噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第1噴射ノズル群、及び前記第2噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第2噴射ノズル群を含む複数の噴射ノズル群、に区分される。
(1) The reducing agent supply device according to at least one embodiment of the present invention is
A reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path in which an obstacle is arranged,
Downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas, a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas,
A plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of injection nozzles,
Equipped with
Of the plurality of ejection nozzles, the ejection nozzle located downstream of the obstacle is defined as a first ejection nozzle, and the ejection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as a second ejection nozzle,
The plurality of injection nozzles is a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and includes the first injection nozzle. It is divided into a first ejection nozzle group that is the ejection nozzle group and a plurality of ejection nozzle groups that include the second ejection nozzle group that is the ejection nozzle group that includes the second ejection nozzle.

上記(1)の構成によれば、排ガスの流路内に該排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って配置された複数の噴射ノズルが、障害物の下流に位置する第1噴射ノズルを含む第1噴射ノズル群と、障害物の下流に位置しない第2噴射ノズルを含む噴射ノズル群とに区分され、各々の噴射ノズル群には同一の還元剤供給ラインによって還元剤が供給される。これにより、障害物の下流に位置する第1噴射ノズルを含む第1噴射ノズル群から噴射する還元剤の噴射量を第2噴射ノズル群とは独立に調整することができる。よって、仮に障害物の存在により該障害物の下流に偏流が生じても、第1噴射ノズル群に供給する還元剤の量を適切に調整すれば、上記偏流に起因して噴射ノズル群の下流で生じる、排ガスの流れ方向に交差する一方向における還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制することができる。すなわち、障害物に起因した偏流の影響による還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置を提供することができる。 According to the above configuration (1), the plurality of injection nozzles arranged in the exhaust gas flow path along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas are the first injections located downstream of the obstacle. It is divided into a first injection nozzle group including nozzles and an injection nozzle group including second injection nozzles that are not located downstream of the obstacle, and the reducing agent is supplied to each of the injection nozzle groups by the same reducing agent supply line. It Thereby, the injection amount of the reducing agent injected from the first injection nozzle group including the first injection nozzle located downstream of the obstacle can be adjusted independently of the second injection nozzle group. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle due to the presence of the obstacle, if the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group is appropriately adjusted, the flow is caused downstream of the injection nozzle group due to the drift. It is possible to suppress the imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent in one direction that intersects with the flow direction of the exhaust gas, which occurs in step 1. That is, it is possible to provide a reducing agent supply device capable of suppressing an imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of uneven flow due to an obstacle.

(2)幾つかの実施形態では、上記(1)の構成において、
一つの前記第1噴射ノズル群に含まれる前記第1噴射ノズルの数が、一つの前記第2噴射ノズル群に含まれる前記第2噴射ノズルの数よりも少なくてもよい。
(2) In some embodiments, in the configuration of (1) above,
The number of the first injection nozzles included in one of the first injection nozzle groups may be smaller than the number of the second injection nozzles included in one of the second injection nozzle groups.

上記(2)の構成によれば、排ガスの流路の流路断面積に占める第1噴射ノズル群の割合が第2噴射ノズル群よりも小さいから、第2噴射ノズル群では対応できない、流路断面積に占める割合が小さな障害物(例えば細めの配管やストラットなど)による局所的な還元剤の濃度分布への影響を、より細かく抑制して濃度分布の均一化を図ることができる。 According to the above configuration (2), since the ratio of the first injection nozzle group to the flow passage cross-sectional area of the exhaust gas passage is smaller than that of the second injection nozzle group, the second injection nozzle group cannot cope with the flow passage. It is possible to more finely suppress the influence on the local concentration distribution of the reducing agent by an obstacle (for example, a thin pipe or strut) occupying a small portion of the cross-sectional area, and to make the concentration distribution uniform.

(3)幾つかの実施形態では、上記(1)又は(2)の構成において、
前記一方向における前記流路の幅W、前記流れ方向における前記障害物の幅Dとして、前記流れ方向における前記障害物と前記第1噴射ノズル群との距離Lが、次式(i)又は(ii)を満たしてもよい。
L≦2W ・・・(i)
L≦20D ・・・(ii)
(3) In some embodiments, in the configuration of (1) or (2) above,
As a width W of the flow path in the one direction and a width D of the obstacle in the flow direction, a distance L between the obstacle and the first injection nozzle group in the flow direction is represented by the following formula (i) or ( ii) may be satisfied.
L≦2W (i)
L≦20D (ii)

障害物から十分に離れた下流の位置では該障害物の後流の影響が小さく、排ガスの流れ方向に対して交差する一方向における還元剤の濃度分布が均一に近づくから、噴射ノズル群を局所的に区分する必要性は低下する。一方、障害物と噴射ノズル群との距離が近く、後流の影響が顕著な位置では局所的に噴射ノズル群を区分することで局所的な濃度分布のアンバランスを効果的に低減することができる。
この点、上記(3)の構成によれば、障害物の後流の影響が大きい(i)又は(ii)の関係を満たす位置に第1噴射ノズル群を配置することにより、上記(1)又は(2)で述べた効果を最大限に享受することができる。
At the downstream position that is sufficiently distant from the obstacle, the influence of the wake of the obstacle is small and the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas approaches a uniform value. The need for physical classification is reduced. On the other hand, at a position where the distance between the obstacle and the injection nozzle group is short and the influence of the wake is significant, the injection nozzle group is locally divided to effectively reduce the local imbalance of the concentration distribution. it can.
In this regard, according to the configuration of (3) above, by arranging the first injection nozzle group at a position satisfying the relationship of (i) or (ii) where the influence of the wake of the obstacle is large, the above (1) Alternatively, it is possible to maximize the effect described in (2).

(4)幾つかの実施形態では、上記(1)〜(3)の何れか一つの構成において、
前記複数の噴射ノズルは、前記流路の全幅に亘って離散的に配置されていてもよい。
(4) In some embodiments, in any one of the configurations (1) to (3) above,
The plurality of injection nozzles may be arranged discretely over the entire width of the flow path.

上記(4)の構成によれば、排ガスの流路の全幅に亘って還元剤の濃度分布の均一化を図ることができる。よって、例えば流路の全幅に亘って設けられたSCR触媒の上流に還元剤供給装置が配置された場合に、上記(1)で述べた効果を最大限に享受して上記SCR触媒の脱硝性能を最大限に発揮させることができる。 According to the above configuration (4), the concentration distribution of the reducing agent can be made uniform over the entire width of the exhaust gas passage. Therefore, for example, when the reducing agent supply device is arranged upstream of the SCR catalyst provided over the entire width of the flow path, the denitration performance of the SCR catalyst can be maximized by enjoying the effect described in (1) above. Can be maximized.

(5)幾つかの実施形態では、上記(1)〜(4)の何れか一つの構成において、
還元剤供給装置は、
前記流れ方向において前記複数の噴射ノズル群の下流に配置され、前記一方向における前記排ガス中の前記還元剤の濃度分布を測定するための濃度センサと、
前記複数の還元剤供給ラインの各々に対応して設けられた複数の流量調整弁及び当該複数の流量調整弁の各々の開度を独立に変更可能な複数のバルブアクチュエータと、
前記濃度センサの検出信号に応じて前記一方向における前記還元剤の濃度分布を均一化するように前記バルブアクチュエータを駆動するコントローラと、をさらに備えていてもよい。
(5) In some embodiments, in any one of the configurations (1) to (4) above,
The reducing agent supply device is
A concentration sensor arranged downstream of the plurality of injection nozzle groups in the flow direction, for measuring the concentration distribution of the reducing agent in the exhaust gas in the one direction,
A plurality of flow rate adjusting valves provided corresponding to each of the plurality of reducing agent supply lines and a plurality of valve actuators capable of independently changing the opening degree of each of the plurality of flow rate adjusting valves;
The controller may further include a controller that drives the valve actuator so as to uniformize the concentration distribution of the reducing agent in the one direction according to the detection signal of the concentration sensor.

上記(5)の構成によれば、濃度センサからの検出信号に応じてコントローラが排ガスの流れ方向と交差する一方向における還元剤の濃度分布を均一化するように各々のバルブアクチュエータをフィードバック制御することができる。これにより、例えば作業員による個別のバルブの開度調整作業を要することなく、排ガスの流れ方向と交差する一方向における還元剤の濃度分布をリアルタイムに均一化することができる。 According to the above configuration (5), the controller feedback-controls each valve actuator in accordance with the detection signal from the concentration sensor so as to make the concentration distribution of the reducing agent uniform in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas. be able to. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas can be made uniform in real time without requiring an operator to individually adjust the opening degree of the valve.

(6)本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置の運用方法は、
障害物が配置された排ガスの流路内におけるSCR触媒の上流に還元剤を供給するための還元剤供給装置の運用方法であって、
前記還元剤供給装置は、
前記排ガスの流れ方向における前記障害物の下流において、前記排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズルと、
前記複数の噴射ノズルに対して前記還元剤を供給するように構成された複数の還元剤供給ラインと、
を備え、
前記複数の噴射ノズルのうち、前記障害物の下流に位置する噴射ノズルを第1噴射ノズル、前記障害物の下流に位置しない噴射ノズルを第2噴射ノズルと定義した場合に、
前記複数の噴射ノズルは、同一の前記還元剤供給ラインによって前記還元剤が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズルを含む複数の噴射ノズル群であって、前記第1噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第1噴射ノズル群、及び前記第2噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第2噴射ノズル群を含む複数の噴射ノズル群、に区分され、
前記還元剤供給装置の運用方法は、
前記排ガスの流れ方向における前記複数の噴射ノズルの下流で前記一方向における前記還元剤又はNOxの濃度分布を測定するステップと、
前記濃度分布の測定結果に応じて、前記第1噴射ノズル群及び前記第2噴射ノズル群に供給する前記還元剤の量を個別に調整するステップと、を備えている。
(6) The operating method of the reducing agent supply device according to at least one embodiment of the present invention is
A method of operating a reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path in which an obstacle is arranged,
The reducing agent supply device,
Downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas, a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas,
A plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of injection nozzles,
Equipped with
Of the plurality of ejection nozzles, the ejection nozzle located downstream of the obstacle is defined as a first ejection nozzle, and the ejection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as a second ejection nozzle,
The plurality of injection nozzles is a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and includes the first injection nozzle. A plurality of ejection nozzle groups including a first ejection nozzle group that is the ejection nozzle group and a second ejection nozzle group that is the ejection nozzle group that includes the second ejection nozzle;
The operating method of the reducing agent supply device is
Measuring the concentration distribution of the reducing agent or NOx in the one direction downstream of the plurality of injection nozzles in the flow direction of the exhaust gas;
Adjusting the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group and the second injection nozzle group individually according to the measurement result of the concentration distribution.

上記(6)の方法によれば、上記(1)で述べたように、排ガスの流路内に該排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って配置された複数の噴射ノズルが、障害物の下流に位置する第1噴射ノズルを含む第1噴射ノズル群と、障害物の下流に位置しない第2噴射ノズルを含む噴射ノズル群とに区分され、各々の噴射ノズル群には同一の還元剤供給ラインによって還元剤が供給される。これにより、障害物の下流に位置する第1噴射ノズルを含む第1噴射ノズル群から噴射する還元剤の噴射量を第2噴射ノズル群とは独立に調整することができる。よって、仮に障害物の存在により該障害物の下流に偏流が生じても、第1噴射ノズル群に供給する還元剤の量を適切に調整すれば、上記偏流に起因して噴射ノズル群の下流で生じる、排ガスの流れ方向に交差する一方向における還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制することができる。すなわち、障害物に起因した偏流の影響による還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置の運用方法を提供することができる。また、上記(5)で述べたように、複数の噴射ノズルの下流で測定された排ガスの流れ方向と交差する一方向における還元剤の濃度分布に応じて第1噴射ノズル群及び第2噴射ノズル群に供給する還元剤の量を個別に調整することができる。これにより、例えば作業員による個別の噴射ノズルの開度調整作業を要することなく、排ガスの流れ方向と交差する一方向における還元剤の濃度分布を均一化することができる。 According to the method of (6), as described in (1) above, a plurality of injection nozzles arranged in the exhaust gas passage along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas, The jet nozzle group is divided into a first jet nozzle group including a first jet nozzle located downstream of the obstacle and a jet nozzle group including a second jet nozzle not located downstream of the obstacle. The reducing agent is supplied by the reducing agent supply line. Thereby, the injection amount of the reducing agent injected from the first injection nozzle group including the first injection nozzle located downstream of the obstacle can be adjusted independently of the second injection nozzle group. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle due to the presence of the obstacle, if the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group is appropriately adjusted, the flow is caused downstream of the injection nozzle group due to the drift. It is possible to suppress the imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent in one direction that intersects with the flow direction of the exhaust gas, which occurs in step 1. That is, it is possible to provide a method for operating a reducing agent supply device capable of suppressing an imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent due to the effect of drift caused by an obstacle. Further, as described in (5) above, the first injection nozzle group and the second injection nozzles are arranged according to the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas measured downstream of the plurality of injection nozzles. The amount of reducing agent supplied to the group can be adjusted individually. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas can be made uniform without requiring an operator to adjust the opening degree of each injection nozzle.

本発明の少なくとも一実施形態によれば、障害物に起因した偏流の影響による還元剤の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置、及び還元剤供給装置の運用方法を提供することができる。 According to at least one embodiment of the present invention, there is provided a reducing agent supply device capable of suppressing an unbalance of the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of a drift caused by an obstacle, and a method of operating the reducing agent supply device. can do.

本発明の一実施形態に係る還元剤供給装置が適用されるボイラシステムの排ガス流路下流側の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the exhaust gas flow path downstream of the boiler system to which the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment of this invention is applied. 一実施形態に係る還元剤供給装置の構成を概略的に示す側断面図である。It is a side sectional view showing roughly the composition of the reducing agent supply unit concerning one embodiment. 一実施形態に係る還元剤供給装置の構成を概略的に示す図であり、図2に示すIII部の部分拡大図である。It is a figure which shows schematically the structure of the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment, and is a partial expanded view of the III section shown in FIG. 一実施形態に係る還元剤供給装置による還元剤の濃度調整を概略的に示す側断面図である。It is a sectional side view which shows roughly the density|concentration adjustment of the reducing agent by the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る還元剤供給装置における制御系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control system in the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment. 本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給方法を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows the reducing agent supply method concerning at least one embodiment of the present invention.

以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
また例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described as the embodiments or shown in the drawings are not intended to limit the scope of the present invention thereto, but are merely illustrative examples. Absent.
For example, the expressions representing relative or absolute arrangements such as "in a certain direction", "along a certain direction", "parallel", "orthogonal", "center", "concentric", or "coaxial" are strict. In addition to representing such an arrangement, it also represents a state of relative displacement, or a state of relative displacement with an angle or a distance at which the same function can be obtained.
Further, for example, an expression representing a shape such as a quadrangle or a cylindrical shape does not only represent a shape such as a quadrangle or a cylindrical shape in a geometrically strict sense, but also an uneven portion or The shape including the chamfered portion and the like is also shown.
On the other hand, the expressions “comprising”, “comprising”, “comprising”, “including”, or “having” one element are not exclusive expressions excluding the existence of other elements.

図1は、本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置10が適用されるボイラシステムの排ガス流路下流側の構成を示す概略図である。
なお、以下の説明では、一例として石炭炊きボイラ(ボイラ4)の排ガス流路2内に脱硝装置1が配置された場合について説明する。ボイラ4は、図1に示す火炉5及び燃焼装置(図示略)と、排ガス流路2に続く煙道6とを備えている。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration on a downstream side of an exhaust gas passage of a boiler system to which a reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention is applied.
In the following description, as an example, the case where the denitration device 1 is arranged in the exhaust gas passage 2 of the coal-fired boiler (boiler 4) will be described. The boiler 4 includes a furnace 5 and a combustion device (not shown) shown in FIG. 1, and a flue 6 continuing to the exhaust gas passage 2.

図1に示したように、ボイラシステム100の排ガス流路2下流側には脱硝装置1が配置されている。この脱硝装置1は、ボイラ4から排出される排ガスGを導く排ガス流路2内の下流側に、排ガスGの流れ方向と交差する方向(すなわち排ガス流路2の幅方向)に沿って延在するように配置されたSCR触媒3と、排ガス流路2内におけるSCR触媒3の上流に還元剤8(例えば無水のアンモニア、アンモニア水、尿素、尿素水、又はこれらの少なくとも一つと空気との混合気体等)を供給するための還元剤供給装置10と、を備えている。なお、以下の説明では、還元剤8の一例としてアンモニア(より詳細にはアンモニアと空気との混合気体)を排ガスG中に噴霧するものとする。 As shown in FIG. 1, the denitration device 1 is arranged downstream of the exhaust gas flow path 2 of the boiler system 100. The denitration device 1 extends along the direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G (that is, the width direction of the exhaust gas flow path 2) on the downstream side in the exhaust gas flow path 2 that guides the exhaust gas G discharged from the boiler 4. And a reducing agent 8 (for example, anhydrous ammonia, ammonia water, urea, urea water, or a mixture of at least one of these with air) upstream of the SCR catalyst 3 in the exhaust gas flow path 2. A reducing agent supply device 10 for supplying a gas or the like). In the following description, it is assumed that ammonia (more specifically, a mixed gas of ammonia and air) is sprayed into the exhaust gas G as an example of the reducing agent 8.

SCR触媒3は、選択式触媒還元(selective catalytic reduction:SCR)脱硝装置に用いられる脱硝触媒であり、例えば炭素含有燃料等が燃焼して生じた排ガスG中の窒素酸化物(NOx)と、還元剤供給装置10から供給された還元剤8との反応を促進して、排ガスG中のNOx成分を除去するように構成されている。なお、SCR触媒3の詳細な説明は省略するが、該SCR触媒3は、例えば種々のセラミックスや酸化チタン等を担体として用いて構成される。 The SCR catalyst 3 is a denitration catalyst used in a selective catalytic reduction (SCR) denitration device, and, for example, nitrogen oxides (NOx) in exhaust gas G produced by combustion of a carbon-containing fuel and reduction, It is configured to promote the reaction with the reducing agent 8 supplied from the agent supply device 10 to remove the NOx component in the exhaust gas G. Although a detailed description of the SCR catalyst 3 is omitted, the SCR catalyst 3 is configured by using, for example, various ceramics or titanium oxide as a carrier.

還元剤供給装置10は、上述した還元剤8を排ガス流路2内に噴霧するための装置である。本開示で述べる還元剤供給装置10は、排ガスGの流れ方向に交差する方向においてアンモニアの濃度分布が均一になるようにアンモニアを噴射するように構成されている。 The reducing agent supply device 10 is a device for spraying the reducing agent 8 described above into the exhaust gas passage 2. The reducing agent supply device 10 described in the present disclosure is configured to inject ammonia such that the concentration distribution of ammonia becomes uniform in the direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G.

続いて、本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置10について説明する。
図2は一実施形態に係る還元剤供給装置の構成を概略的に示す側断面図である。図3は一実施形態に係る還元剤供給装置の構成を概略的に示す図であり、図2に示すIII部の部分拡大図である。
図2及び図3に例示するように、本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置10は、アンモニア注入装置又はアンモニア注入グリッド(ammonia injection grid:AIG)とも称される装置であり、内部にアンモニアを流通可能に構成されて排ガス流路2内に延在する少なくとも一つのヘッダー管12を備えている。また、還元剤供給装置10は、障害物7が配置された排ガスGの流路(排ガス流路2)内におけるSCR触媒3の上流に還元剤8を供給するための還元剤供給装置10であって、排ガスGの流れ方向における障害物7の下流において、排ガスGの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズル20と、複数の噴射ノズル20に対して還元剤8を供給するように構成された複数の還元剤供給ライン30と、を備えている。
Next, the reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention will be described.
FIG. 2 is a side sectional view schematically showing the configuration of the reducing agent supply device according to the embodiment. FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of the reducing agent supply device according to the embodiment, and is a partially enlarged view of a III portion shown in FIG. 2.
As illustrated in FIGS. 2 and 3, the reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention is a device that is also called an ammonia injection device or an ammonia injection grid (AIG), and has an internal structure. In addition, at least one header pipe 12 that is configured to allow ammonia to flow and extends into the exhaust gas flow path 2 is provided. Further, the reducing agent supply device 10 is a reducing agent supply device 10 for supplying the reducing agent 8 upstream of the SCR catalyst 3 in the flow path of the exhaust gas G (exhaust gas flow path 2) in which the obstacle 7 is arranged. Then, in the downstream of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G, the plurality of injection nozzles 20 arranged at intervals along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, and the plurality of injection nozzles 20 are provided. A plurality of reducing agent supply lines 30 configured to supply the reducing agent 8 thereto.

複数の噴射ノズル20は夫々、ヘッダー管12に対して排ガスGの流れ方向の下流側において該ヘッダー管12に配設されており、当該下流に向けて還元剤8を噴射するように設けられている。例えば複数の噴射ノズル20は、ヘッダー管12の延在方向に沿って等間隔に離れて配置されていてもよい。
そして、上記複数の噴射ノズル20は、当該複数の噴射ノズル20のうち、障害物7の下流に位置する噴射ノズル20を第1噴射ノズル21A、障害物7の下流に位置しない噴射ノズル20を第2噴射ノズル22Aと定義した場合に、同一の還元剤供給ライン30によって還元剤8が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズル20を含む複数の噴射ノズル群24であって、第1噴射ノズル21Aを含む噴射ノズル群24である第1噴射ノズル群21、及び第2噴射ノズル22Aを含む噴射ノズル群24である第2噴射ノズル群22を含む複数の噴射ノズル群24、に区分される。
The plurality of injection nozzles 20 are respectively arranged in the header pipe 12 on the downstream side in the flow direction of the exhaust gas G with respect to the header pipe 12, and are arranged so as to inject the reducing agent 8 toward the downstream side. There is. For example, the plurality of injection nozzles 20 may be arranged at equal intervals along the extending direction of the header tube 12.
Among the plurality of ejection nozzles 20, among the plurality of ejection nozzles 20, the ejection nozzle 20 located downstream of the obstacle 7 is the first ejection nozzle 21A and the ejection nozzle 20 not located downstream of the obstacle 7 is the first ejection nozzle 20. When defined as two injection nozzles 22A, a plurality of injection nozzle groups 24 including at least one injection nozzle 20 configured to supply the reducing agent 8 by the same reducing agent supply line 30, It is divided into a first jet nozzle group 21 which is a jet nozzle group 24 including the jet nozzle 21A, and a plurality of jet nozzle groups 24 which includes a second jet nozzle group 22 which is a jet nozzle group 24 including the second jet nozzle 22A. It

例えば第1噴射ノズル群21は、排ガス流路2内において第1噴射ノズル群21の上流に位置する障害物7の、下流への投影より上記一方向に幅広い第1ヘッダー管セグメント12Aに配置されていてもよい。この場合、第2噴射ノズル22Aは、第1ヘッダー管セグメント12Bよりも上記一方向に幅広い第2ヘッダー管セグメント12Bに配置され得る。各ヘッダー管セグメント12A,12Bは、各々の還元剤供給ライン30から供給された還元剤を各々の噴射ノズル20に導くための内部流路を含んでいてもよい。 For example, the first injection nozzle group 21 is arranged in the first header pipe segment 12A that is wider in one direction than the downstream projection of the obstacle 7 located upstream of the first injection nozzle group 21 in the exhaust gas flow path 2. May be. In this case, the second injection nozzle 22A may be arranged in the second header pipe segment 12B wider in the one direction than the first header pipe segment 12B. Each header pipe segment 12A, 12B may include an internal flow path for guiding the reducing agent supplied from each reducing agent supply line 30 to each injection nozzle 20.

上記複数の還元剤供給ライン30は、図示しないメイン供給ラインから分岐して排ガス流路2内に延在していてもよく、夫々に対応する噴射ノズル群24に還元剤を供給するように構成され得る。 The plurality of reducing agent supply lines 30 may branch from a main supply line (not shown) and extend into the exhaust gas passage 2, and are configured to supply the reducing agent to the corresponding injection nozzle groups 24. Can be done.

上記のように構成された還元剤供給装置10によれば、排ガスGの流路2内に該排ガスGの流れ方向に対して交差する一方向に沿って配置された複数の噴射ノズル20が、障害物7の下流に位置する第1噴射ノズル21Aを含む第1噴射ノズル群21と、障害物7の下流に位置しない第2噴射ノズル22Aを含む噴射ノズル群24とに区分され、各々の噴射ノズル群24には同一の還元剤供給ライン30によって還元剤8が供給される。これにより、障害物7の下流に位置する第1噴射ノズル21Aを含む第1噴射ノズル群21から噴射する還元剤8の噴射量を第2噴射ノズル群22とは独立に調整することができる。よって、仮に障害物7の存在により該障害物7の下流に偏流が生じても、第1噴射ノズル群21に供給する還元剤8の量を適切に調整すれば、上記偏流に起因して噴射ノズル群24の下流で生じる、排ガスGの流れ方向に交差する一方向における還元剤8の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制することができる。すなわち、障害物7に起因した偏流の影響による還元剤8の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置10を提供することができる。 According to the reducing agent supply device 10 configured as described above, the plurality of injection nozzles 20 arranged in the flow path 2 of the exhaust gas G along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, The jetting is divided into a first jetting nozzle group 21 including a first jetting nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 and a jetting nozzle group 24 including a second jetting nozzle 22A not located downstream of the obstacle 7 and each jetting. The reducing agent 8 is supplied to the nozzle group 24 through the same reducing agent supply line 30. Thereby, the injection amount of the reducing agent 8 injected from the first injection nozzle group 21 including the first injection nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 can be adjusted independently of the second injection nozzle group 22. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle 7 due to the presence of the obstacle 7, if the amount of the reducing agent 8 supplied to the first injection nozzle group 21 is appropriately adjusted, the injection is caused due to the drift. It is possible to suppress the imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction that intersects the flow direction of the exhaust gas G, which occurs downstream of the nozzle group 24. That is, it is possible to provide the reducing agent supply device 10 capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 due to the influence of the drift caused by the obstacle 7.

上記構成において、幾つかの実施形態では、例えば図3に例示するように、一つの第1噴射ノズル群21に含まれる第1噴射ノズル21Aの数が、一つの第2噴射ノズル群22に含まれる第2噴射ノズル22Aの数よりも少なくてもよい。 In the above configuration, in some embodiments, as illustrated in FIG. 3, for example, the number of the first injection nozzles 21A included in one first injection nozzle group 21 is included in one second injection nozzle group 22. The number may be smaller than the number of second injection nozzles 22A that are provided.

このように一つの第1噴射ノズル群21に含まれる第1噴射ノズル21Aの数が、一つの第2噴射ノズル群22に含まれる第2噴射ノズル22Aの数よりも少ない構成によれば、排ガス流路2の流路断面積に占める第1噴射ノズル群21の割合が第2噴射ノズル群22よりも小さいから、第2噴射ノズル群22では対応できない、流路断面積に占める割合が小さな障害物7(例えば細めの配管やストラットなど)による局所的な還元剤8の濃度分布への影響を、より細かく抑制して濃度分布の均一化を図ることができる。 According to the configuration in which the number of the first injection nozzles 21A included in the one first injection nozzle group 21 is smaller than the number of the second injection nozzles 22A included in the one second injection nozzle group 22 as described above, the exhaust gas Since the ratio of the first injection nozzle group 21 to the flow path cross-sectional area of the flow path 2 is smaller than that of the second injection nozzle group 22, the second injection nozzle group 22 cannot deal with the problem, and the ratio to the flow path cross-sectional area is small. It is possible to more finely suppress the influence of the object 7 (for example, a thin pipe or a strut) on the local concentration distribution of the reducing agent 8, and to make the concentration distribution uniform.

上述した何れか一つの構成において、幾つかの実施形態では、例えば図2及び図3に例示するように、上記排ガスGの流れ方向に交差する一方向における排ガス流路2の幅W、上記流れ方向における障害物7の幅Dとして、上記流れ方向における障害物7と第1噴射ノズル群21との距離Lが、次式(i)又は(ii)を満たしてもよい。
L≦2W ・・・(i)
L≦20D ・・・(ii)
In any one of the configurations described above, in some embodiments, as illustrated in, for example, FIGS. 2 and 3, the width W of the exhaust gas passage 2 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, the flow As the width D of the obstacle 7 in the direction, the distance L between the obstacle 7 and the first injection nozzle group 21 in the flow direction may satisfy the following expression (i) or (ii).
L≦2W (i)
L≦20D (ii)

すなわち、第1噴射ノズル群21及び第2噴射ノズル群22を含む噴射ノズル群24と障害物7との排ガス流路2に沿う距離Lは、排ガス流路2の幅Wの概ね2倍以下であってもよく、また、障害物7の幅D(例えば配管等が障害物7である場合はその外径)の概ね20倍以下であってもよい。 That is, a distance L between the obstacle 7 and the injection nozzle group 24 including the first injection nozzle group 21 and the second injection nozzle group 22 along the exhaust gas flow path 2 is approximately twice the width W of the exhaust gas flow path 2 or less. The width may be about 20 times or less of the width D of the obstacle 7 (for example, the outer diameter of the obstacle when the pipe or the like is the obstacle 7).

ここで、障害物7から十分に離れた下流の位置では該障害物7の後流の影響が小さく、排ガスGの流れ方向に対して交差する一方向における還元剤8の濃度分布が均一に近づくから、噴射ノズル群24を局所的に区分する必要性は低下する。一方、障害物7と噴射ノズル群24との距離が近く、後流の影響が顕著な位置では局所的に噴射ノズル群24を区分することで局所的な濃度分布のアンバランスを効果的に低減することができる。
この点、上記のように、排ガス流路2の幅W、排ガスGの流れ方向における障害物7の幅D、及び上記流れ方向における障害物7と第1噴射ノズル群21との距離Lが上記式(i)又は式(ii)を満たす構成によれば、障害物7の後流の影響が大きい式(i)又は式(ii)の関係を満たす位置に第1噴射ノズル群21を配置することにより、上述した何れか一つの実施形態で述べた効果を最大限に享受することができる。
なお、上記式(i)又は(ii)における距離Lは、排ガスGの流れ方向においてヘッダー管12の下流側端部、すなわち噴射ノズル20の基端部を下流側端としてもよいし、噴射ノズル20の下流側端部を下流側端としてもよい。また、距離Lの上流側端は、障害物7の下流側端部を適用してもよいし、障害物7の中心(例えば図3における障害物7の図心)を上流側端としてもよい。
Here, at a downstream position sufficiently distant from the obstacle 7, the influence of the wake of the obstacle 7 is small, and the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas G becomes closer to uniform. Therefore, the necessity of locally dividing the injection nozzle group 24 is reduced. On the other hand, when the distance between the obstacle 7 and the injection nozzle group 24 is short and the influence of the wake is significant, the injection nozzle group 24 is locally divided to effectively reduce the imbalance in the local concentration distribution. can do.
In this respect, as described above, the width W of the exhaust gas passage 2, the width D of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G, and the distance L between the obstacle 7 and the first injection nozzle group 21 in the flow direction are as described above. According to the configuration that satisfies the expression (i) or the expression (ii), the first injection nozzle group 21 is arranged at a position that satisfies the relationship of the expression (i) or the expression (ii) where the influence of the wake of the obstacle 7 is large. As a result, the effect described in any one of the above-described embodiments can be maximized.
The distance L in the above formula (i) or (ii) may be set such that the downstream end of the header pipe 12, that is, the base end of the injection nozzle 20 in the flow direction of the exhaust gas G may be the downstream end. The downstream end of 20 may be the downstream end. The downstream end of the obstacle 7 may be applied to the upstream end of the distance L, or the center of the obstacle 7 (for example, the centroid of the obstacle 7 in FIG. 3) may be the upstream end. ..

上述した何れか一つの構成において、幾つかの実施形態では、例えば図3に例示するように、第1噴射ノズル群21は、例えば排ガスGの流れ方向乃至排ガス流路2の管軸に対して障害物7による偏流の及ぶ角度範囲をθとした場合に、排ガス流路2の幅W方向に対して、D+2Lsinθの範囲に含まれる噴射ノズル20を第1噴射ノズル21Aとして含んでいてもよい。
また、幾つかの実施形態では、例えば第1噴射ノズル群21の上流に位置する障害物7の流れ方向への投影に対して上記一方向にずれて配置された噴射ノズル20を第1噴射ノズル21Aと定義してもよい。例えば第1噴射ノズル21Aは、排ガス流路2の下流に向けた障害物7の投影に対して該排ガス流路2の管軸方向視にて全体がオーバーラップするように配置されていてもよい。また、第1噴射ノズル21Aは、上記障害物7の投影に対して該排ガス流路2の管軸方向視にて少なくとも一部がオーバーラップするように配置されていてもよい。さらに、第1噴射ノズル21Aは、上記投影とはオーバーラップしないように排ガス流路2の幅方向にずれて配置されていてもよい。
なお、第1噴射ノズル群21は、上流に位置する障害物7の投影に対して、排ガス流路2の幅方向(排ガスGの流れ方向と交差する一方向)において上記投影の直近に位置する噴射ノズル20を第1噴射ノズル21Aとして含んでいてもよい。或いは、第1噴射ノズル群21は、上流に位置する障害物7の後流の影響を受け得る範囲に含まれる一又は複数の噴射ノズル20を第1噴射ノズル21Aとして含んでいてもよい。
In any one of the above-described configurations, in some embodiments, for example, as illustrated in FIG. 3, the first injection nozzle group 21 includes, for example, the flow direction of the exhaust gas G or the pipe axis of the exhaust gas passage 2. When the angular range of the drift caused by the obstacle 7 is θ, the injection nozzle 20 included in the range of D+2Lsin θ with respect to the width W direction of the exhaust gas passage 2 may be included as the first injection nozzle 21A.
Further, in some embodiments, for example, the injection nozzles 20 that are displaced in the one direction with respect to the projection of the obstacle 7 located upstream of the first injection nozzle group 21 in the flow direction are replaced by the first injection nozzles. It may be defined as 21A. For example, the first injection nozzle 21A may be arranged so as to entirely overlap the projection of the obstacle 7 toward the downstream side of the exhaust gas passage 2 in the pipe axis direction of the exhaust gas passage 2. .. Further, the first injection nozzle 21A may be arranged so that at least a part of the first injection nozzle 21A overlaps the projection of the obstacle 7 when viewed in the pipe axis direction of the exhaust gas flow path 2. Further, the first injection nozzle 21A may be arranged so as to be displaced in the width direction of the exhaust gas flow channel 2 so as not to overlap with the above projection.
The first injection nozzle group 21 is located immediately adjacent to the projection of the obstacle 7 located upstream in the width direction of the exhaust gas passage 2 (one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas G). The ejection nozzle 20 may be included as the first ejection nozzle 21A. Alternatively, the first injection nozzle group 21 may include, as the first injection nozzle 21A, one or a plurality of injection nozzles 20 included in a range that may be affected by the wake of the obstacle 7 located upstream.

ここで、障害物7に起因した偏流は、該障害物7の形状、障害物7と噴射ノズル20との距離L、或いは排ガスGの流速等により多様に変化し得るから、排ガスGの流れにおいて障害物7の厳密な下流位置に配置された噴射ノズル20からの噴射量を調整するだけでは濃度分布の均一化を効率的に行えない虞がある。
この点、上記の構成によれば、排ガスGの流れ方向への障害物7の投影に対して、排ガスGの流れ方向と交差する一方向にずれて配置された第1噴射ノズル21Aを含む第1噴射ノズル群21への還元剤8の供給量を個別に調整することができる。よって、排ガス流路2内における障害物7等の様々な配置や設計に応じて、複数の噴射ノズル20のうち第1噴射ノズル群21として区分する噴射ノズル20を決定する際の設計自由度を向上させることができる。
Here, the drift caused by the obstacle 7 can be variously changed depending on the shape of the obstacle 7, the distance L between the obstacle 7 and the injection nozzle 20, the flow velocity of the exhaust gas G, and the like. There is a possibility that the concentration distribution cannot be efficiently made uniform simply by adjusting the injection amount from the injection nozzle 20 arranged at the strictly downstream position of the obstacle 7.
In this respect, according to the above configuration, the first injection nozzle 21A including the first injection nozzle 21A arranged so as to be displaced in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G with respect to the projection of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G is provided. The supply amount of the reducing agent 8 to the one injection nozzle group 21 can be individually adjusted. Therefore, the degree of freedom in design when deciding the injection nozzles 20 to be divided into the first injection nozzle group 21 among the plurality of injection nozzles 20 according to various arrangements and designs of the obstacles 7 and the like in the exhaust gas flow path 2 is provided. Can be improved.

図4は一実施形態に係る還元剤供給装置による還元剤の濃度調整を概略的に示す側断面図である。
上述した何れか一つの構成において、幾つかの実施形態では、例えば図2〜図4に例示するように、複数の噴射ノズル20は、排ガス流路2の全幅に亘って離散的に配置されていてもよい。各噴射ノズル20間の間隔や、排ガス流路2の幅方向における噴射ノズル20の数等は任意に設定してもよい。
FIG. 4 is a side sectional view schematically showing concentration adjustment of the reducing agent by the reducing agent supply device according to the embodiment.
In any one of the configurations described above, in some embodiments, as illustrated in, for example, FIGS. 2 to 4, the plurality of injection nozzles 20 are discretely arranged over the entire width of the exhaust gas passage 2. May be. The intervals between the injection nozzles 20 and the number of the injection nozzles 20 in the width direction of the exhaust gas passage 2 may be set arbitrarily.

このように、複数の噴射ノズル20が排ガス流路2の全幅に亘って離散的に配置された構成によれば、排ガス流路2の全幅に亘って還元剤8の濃度分布の均一化を図ることができる。よって、例えば排ガス流路2の全幅に亘って設けられたSCR触媒3の上流に還元剤供給装置10が配置された場合に、排ガス流路2の幅方向における還元剤の濃度分布を均一化する効果を最大限に享受して上記SCR触媒3の脱硝性能を最大限に発揮させることができる。
なお、複数の噴射ノズル20は、例えば図4に例示するように、排ガス流路2内の幅方向において、排ガスGの流速が異なる流速域毎に区分されていてもよい。
As described above, according to the configuration in which the plurality of injection nozzles 20 are discretely arranged over the entire width of the exhaust gas passage 2, the concentration distribution of the reducing agent 8 is made uniform over the entire width of the exhaust gas passage 2. be able to. Therefore, for example, when the reducing agent supply device 10 is arranged upstream of the SCR catalyst 3 provided over the entire width of the exhaust gas passage 2, the reducing agent concentration distribution in the width direction of the exhaust gas passage 2 is made uniform. It is possible to maximize the effect and maximize the denitration performance of the SCR catalyst 3.
The plurality of injection nozzles 20 may be divided into flow velocity regions in which the flow velocity of the exhaust gas G is different in the width direction of the exhaust gas passage 2 as illustrated in FIG. 4, for example.

図5は一実施形態に係る還元剤供給装置における制御系の構成を示すブロック図である。
上述した何れか一つの構成において、幾つかの実施形態では、例えば図2、図4及び図5に例示するように、還元剤供給装置10は、流れ方向において複数の噴射ノズル群24の下流に配置され、上記排ガスGの流れ方向と交差する一方向における排ガスG中の還元剤8の濃度分布を測定するための濃度センサ40と、複数の還元剤供給ライン30の各々に対応して設けられた複数の流量調整弁32及び当該複数の流量調整弁32の各々の開度を独立に変更可能な複数のバルブアクチュエータ34と、濃度センサ40の検出信号に応じて排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8の濃度分布を均一化するようにバルブアクチュエータ34を駆動するコントローラ50と、をさらに備えていてもよい。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a control system in the reducing agent supply device according to the embodiment.
In any one of the configurations described above, in some embodiments, as illustrated in, for example, FIG. 2, FIG. 4, and FIG. 5, the reducing agent supply device 10 is disposed downstream of the plurality of injection nozzle groups 24 in the flow direction. A concentration sensor 40 arranged to measure the concentration distribution of the reducing agent 8 in the exhaust gas G in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G and a plurality of reducing agent supply lines 30 are provided corresponding to each. The plurality of flow rate adjusting valves 32 and the plurality of valve actuators 34 capable of independently changing the opening of each of the plurality of flow rate adjusting valves 32, and the flow direction of the exhaust gas G depending on the detection signal of the concentration sensor 40. The controller 50 which drives the valve actuator 34 so as to make the concentration distribution of the reducing agent 8 uniform in one direction may be further provided.

濃度センサ40は、例えば排ガス流路2の幅方向における還元剤の濃度分布を測定するように構成されていてもよい。 The concentration sensor 40 may be configured to measure the concentration distribution of the reducing agent in the width direction of the exhaust gas passage 2, for example.

コントローラ50は、例えばコンピュータであり、CPU51、該CPU51が実行する各種プログラムやテーブル等のデータを記憶するための記憶部としてのROM(Read Only Memory)53、各プログラムを実行する際の展開領域や演算領域等のワーク領域として機能するRAM(Random Access Memory)52の他、図示しない大容量記憶装置としてのハードディスクドライブ(HDD)、通信ネットワークに接続するための通信インターフェース、及び外部記憶装置が装着されるアクセス部などを備えていてもよい。これらは全て、バス55を介して接続されている。更に、コントローラ50は、例えば、キーボードやマウス、タッチパネル等からなる入力部(図示省略)及びデータを表示する液晶表示装置等からなる表示部(図示省略)等と接続されていてもよい。 The controller 50 is, for example, a computer, and includes a CPU 51, a ROM (Read Only Memory) 53 as a storage unit for storing various programs executed by the CPU 51 and data such as a table, a development area for executing each program, In addition to a RAM (Random Access Memory) 52 which functions as a work area such as a calculation area, a hard disk drive (HDD) as a mass storage device (not shown), a communication interface for connecting to a communication network, and an external storage device are mounted. It may be provided with an access unit or the like. All of these are connected via a bus 55. Further, the controller 50 may be connected to, for example, an input unit (not shown) including a keyboard, a mouse, a touch panel, etc., a display unit (not shown) including a liquid crystal display device for displaying data, and the like.

幾つかの実施形態では、ROM53内に、例えば濃度センサ40からの検出信号に応じて、排ガス流路2の幅方向における還元剤の濃度が均一となるように、各々のバルブアクチュエータ34を駆動して流量調整弁32の開度を調整し、各々の第1噴射ノズル群21又は第2噴射ノズル群22の噴射ノズル20から噴射される還元剤の噴射量を調整するための還元剤噴射量調整プログラム54が格納されていてもよい。 In some embodiments, in the ROM 53, each valve actuator 34 is driven so that the concentration of the reducing agent becomes uniform in the width direction of the exhaust gas passage 2 in response to a detection signal from the concentration sensor 40, for example. The reducing agent injection amount adjustment for adjusting the opening degree of the flow rate adjusting valve 32 and adjusting the injection amount of the reducing agent injected from the injection nozzle 20 of each of the first injection nozzle group 21 or the second injection nozzle group 22. The program 54 may be stored.

このように濃度センサ40、流量調整弁32、バルブアクチュエータ34及びコントローラ50をさらに備えた構成によれば、濃度センサ40からの検出信号に応じてコントローラ50が排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8の濃度分布を均一化するように各々のバルブアクチュエータ34をフィードバック制御することができる。これにより、例えば作業員による個別の流量調整弁32の開度調整作業を要することなく、排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8の濃度分布をリアルタイムに均一化することができる。 According to the configuration further including the concentration sensor 40, the flow rate adjusting valve 32, the valve actuator 34, and the controller 50 in this way, the controller 50 is unidirectional in which the controller 50 intersects the flow direction of the exhaust gas G according to the detection signal from the concentration sensor 40. The respective valve actuators 34 can be feedback-controlled so as to make the concentration distribution of the reducing agent 8 in the above equation uniform. As a result, the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G can be made uniform in real time without requiring, for example, an operator to adjust the opening degree of the individual flow rate adjusting valve 32.

続いて本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給方法について説明する。
図6は本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給方法を示すフローチャートである。
図6に例示するように、本発明の少なくとも一実施形態に係る還元剤供給装置10の運用方法は、障害物7が配置された排ガス流路2内におけるSCR触媒3の上流に還元剤8を供給するための還元剤供給装置10の運用方法である。
この方法における還元剤供給装置10は、排ガスGの流れ方向における障害物7の下流において、排ガスGの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズル20と、複数の噴射ノズル20に対して還元剤8を供給するように構成された複数の還元剤供給ライン30と、を備えている。複数の噴射ノズル20のうち、障害物7の下流に位置する噴射ノズル20を第1噴射ノズル21A、障害物7の下流に位置しない噴射ノズル20を第2噴射ノズル22Aと定義した場合に、複数の噴射ノズル20は、同一の還元剤供給ライン30によって還元剤8が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズル20を含む複数の噴射ノズル群24であって、第1噴射ノズル21Aを含む噴射ノズル群24である第1噴射ノズル群21、及び第2噴射ノズル22Aを含む噴射ノズル群24である第2噴射ノズル群22を含む複数の噴射ノズル群24、に区分される。
そして、還元剤供給装置10の運用方法は、排ガスGの流れ方向における複数の噴射ノズル20の下流で上記排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8又はNOxの濃度分布を測定するステップ(ステップS10)と、該濃度分布の測定結果に応じて、第1噴射ノズル群21及び第2噴射ノズル群22に供給する還元剤8の量を個別に調整するステップ(ステップS20)と、を備えている。
Next, a reducing agent supply method according to at least one embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a flowchart showing a reducing agent supply method according to at least one embodiment of the present invention.
As illustrated in FIG. 6, the operating method of the reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention is to install the reducing agent 8 upstream of the SCR catalyst 3 in the exhaust gas passage 2 in which the obstacle 7 is arranged. It is an operating method of the reducing agent supply device 10 for supplying.
The reducing agent supply apparatus 10 in this method includes a plurality of injection nozzles 20 arranged at intervals downstream of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G along one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas G. And a plurality of reducing agent supply lines 30 configured to supply the reducing agent 8 to the plurality of injection nozzles 20. Among the plurality of ejection nozzles 20, when the ejection nozzle 20 located downstream of the obstacle 7 is defined as the first ejection nozzle 21A and the ejection nozzle 20 not located downstream of the obstacle 7 is defined as the second ejection nozzle 22A, a plurality of ejection nozzles The injection nozzle 20 of No. 1 is a plurality of injection nozzle groups 24 including at least one injection nozzle 20 configured to supply the reducing agent 8 by the same reducing agent supply line 30, and includes the first injection nozzle 21A. It is divided into a plurality of ejection nozzle groups 24 including a first ejection nozzle group 21 which is an ejection nozzle group 24 including the same, and a second ejection nozzle group 22 which is an ejection nozzle group 24 including a second ejection nozzle 22A.
Then, the operating method of the reducing agent supply device 10 is a step of measuring the concentration distribution of the reducing agent 8 or NOx in one direction that intersects the flow direction of the exhaust gas G downstream of the plurality of injection nozzles 20 in the flow direction of the exhaust gas G. (Step S10) and a step (Step S20) of individually adjusting the amount of the reducing agent 8 to be supplied to the first injection nozzle group 21 and the second injection nozzle group 22 according to the measurement result of the concentration distribution. I have it.

この方法によれば、排ガスGの流路2内に該排ガスGの流れ方向に対して交差する一方向に沿って配置された複数の噴射ノズル20が、障害物7の下流に位置する第1噴射ノズル21Aを含む第1噴射ノズル群21と、障害物7の下流に位置しない第2噴射ノズル22Aを含む噴射ノズル群24とに区分され、各々の噴射ノズル群24には同一の還元剤供給ライン30によって還元剤8が供給される。これにより、障害物7の下流に位置する第1噴射ノズル21Aを含む第1噴射ノズル群21から噴射する還元剤8の噴射量を第2噴射ノズル群22とは独立に調整することができる。よって、仮に障害物7の存在により該障害物7の下流に偏流が生じても、第1噴射ノズル群21に供給する還元剤8の量を適切に調整すれば、上記偏流に起因して噴射ノズル群24の下流で生じる、排ガスGの流れ方向に交差する一方向における還元剤8の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制することができる。さらに、複数の噴射ノズル20の下流で測定された排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8の濃度分布に応じて還元剤8の濃度分布を均一化するように第1噴射ノズル群21及び第2噴射ノズル群22に供給する還元剤8の量を個別に調整することができる。これにより、例えば作業員による個別の噴射ノズル20の開度調整作業を要することなく、排ガスGの流れ方向と交差する一方向における還元剤8の濃度分布を均一化することができる。 According to this method, the plurality of injection nozzles 20 arranged in the flow path 2 of the exhaust gas G along one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas G are located at the downstream side of the obstacle 7. It is divided into a first injection nozzle group 21 including the injection nozzle 21A and an injection nozzle group 24 including a second injection nozzle 22A that is not located downstream of the obstacle 7, and the same reducing agent is supplied to each injection nozzle group 24. The reducing agent 8 is supplied through the line 30. Thereby, the injection amount of the reducing agent 8 injected from the first injection nozzle group 21 including the first injection nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 can be adjusted independently of the second injection nozzle group 22. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle 7 due to the presence of the obstacle 7, if the amount of the reducing agent 8 supplied to the first injection nozzle group 21 is appropriately adjusted, the injection is caused due to the drift. It is possible to suppress an imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction that intersects with the flow direction of the exhaust gas G, which occurs downstream of the nozzle group 24. Further, the first injection nozzle group is configured to make the concentration distribution of the reducing agent 8 uniform according to the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G measured downstream of the plurality of injection nozzles 20. 21 and the amount of the reducing agent 8 supplied to the second injection nozzle group 22 can be individually adjusted. As a result, the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G can be made uniform without requiring, for example, an operator to adjust the opening degree of each individual injection nozzle 20.

以上述べた本発明の少なくとも一実施形態によれば、障害物7に起因した偏流の影響による還元剤8の局所的な濃度分布のアンバランスを抑制可能な還元剤供給装置10、及び還元剤供給装置10の運用方法を提供することができる。 According to at least one embodiment of the present invention described above, the reducing agent supply device 10 and the reducing agent supply capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 due to the influence of the drift caused by the obstacle 7. A method of operating the device 10 can be provided.

本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes a modified form of the above-described embodiment and a combination of these forms as appropriate.

1 脱硝装置
2 排ガス流路(流路/煙道)
3 SCR触媒(脱硝触媒)
4 ボイラ
5 火炉
6 煙道
7 障害物
8 還元剤
10 還元剤供給装置
12 ヘッダー管
12A 第1ヘッダー管セグメント
12B 第2ヘッダー管セグメント
20 噴射ノズル
21 第1噴射ノズル群
21A 第1噴射ノズル
22 第2噴射ノズル群
22A 第2噴射ノズル
24 噴射ノズル群
30 還元剤供給ライン
32 流量調整弁
34 バルブアクチュエータ
40 濃度センサ
50 コントローラ
51 CPU
52 RAM
53 ROM
54 還元剤噴射量調整プログラム
55 バス
100 ボイラシステム
G 排ガス
1 DeNOx device 2 Exhaust gas flow path (flow path/flue)
3 SCR catalyst (DeNOx catalyst)
4 Boiler 5 Furnace 6 Flue 7 Obstacle 8 Reducing agent 10 Reducing agent supplying device 12 Header pipe 12A First header pipe segment 12B Second header pipe segment 20 Injection nozzle 21 First injection nozzle group 21A First injection nozzle 22 Second Injection nozzle group 22A Second injection nozzle 24 Injection nozzle group 30 Reductant supply line 32 Flow rate adjusting valve 34 Valve actuator 40 Concentration sensor 50 Controller 51 CPU
52 RAM
53 ROM
54 Reducing agent injection amount adjustment program 55 Bus 100 Boiler system G Exhaust gas

Claims (6)

障害物が配置された排ガスの流路内におけるSCR触媒の上流に還元剤を供給するための還元剤供給装置であって、
前記排ガスの流れ方向における前記障害物の下流において、前記排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズルと、
前記複数の噴射ノズルに対して前記還元剤を供給するように構成された複数の還元剤供給ラインと、
を備え、
前記複数の噴射ノズルのうち、前記障害物の下流に位置する噴射ノズルを第1噴射ノズル、前記障害物の下流に位置しない噴射ノズルを第2噴射ノズルと定義した場合に、
前記複数の噴射ノズルは、同一の前記還元剤供給ラインによって前記還元剤が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズルを含む複数の噴射ノズル群であって、前記第1噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第1噴射ノズル群、及び前記第2噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第2噴射ノズル群を含む複数の噴射ノズル群、に区分される
還元剤供給装置。
A reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path in which an obstacle is arranged,
Downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas, a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas,
A plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of injection nozzles,
Equipped with
Of the plurality of ejection nozzles, the ejection nozzle located downstream of the obstacle is defined as a first ejection nozzle, and the ejection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as a second ejection nozzle,
The plurality of injection nozzles is a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and includes the first injection nozzle. A reducing agent supply device divided into a first injection nozzle group that is the injection nozzle group and a plurality of injection nozzle groups that include the second injection nozzle group that is the injection nozzle group that includes the second injection nozzle.
一つの前記第1噴射ノズル群に含まれる前記第1噴射ノズルの数が、一つの前記第2噴射ノズル群に含まれる前記第2噴射ノズルの数よりも少ない
請求項1に記載の還元剤供給装置。
The reducing agent supply according to claim 1, wherein the number of the first injection nozzles included in one of the first injection nozzle groups is smaller than the number of the second injection nozzles included in one of the second injection nozzle groups. apparatus.
前記一方向における前記流路の幅W、前記流れ方向における前記障害物の幅Dとして、前記流れ方向における前記障害物と前記第1噴射ノズル群との距離Lが、次式(i)又は(ii)を満たす、請求項1又は2に記載の還元剤供給装置。
L≦2W ・・・(i)
L≦20D ・・・(ii)
As a width W of the flow path in the one direction and a width D of the obstacle in the flow direction, a distance L between the obstacle and the first injection nozzle group in the flow direction is represented by the following formula (i) or ( The reducing agent supply device according to claim 1 or 2, which satisfies ii).
L≦2W (i)
L≦20D (ii)
前記複数の噴射ノズルは、前記流路の全幅に亘って離散的に配置されている
請求項1〜3の何れか一項に記載の還元剤供給装置。
The reducing agent supply device according to claim 1, wherein the plurality of injection nozzles are discretely arranged over the entire width of the flow path.
前記流れ方向において前記複数の噴射ノズル群の下流に配置され、前記一方向における前記排ガス中の前記還元剤又はNOxの濃度分布を測定するための濃度センサと、
前記複数の還元剤供給ラインの各々に対応して設けられた複数の流量調整弁及び当該複数の流量調整弁の各々の開度を独立に変更可能な複数のバルブアクチュエータと、
前記濃度センサの検出信号に応じて前記バルブアクチュエータを駆動するコントローラと、をさらに備えた
請求項1〜4の何れか一項に記載の還元剤供給装置。
A concentration sensor arranged downstream of the plurality of injection nozzle groups in the flow direction, for measuring the concentration distribution of the reducing agent or NOx in the exhaust gas in the one direction,
A plurality of flow rate adjusting valves provided corresponding to each of the plurality of reducing agent supply lines and a plurality of valve actuators capable of independently changing the opening degree of each of the plurality of flow rate adjusting valves;
The reducing agent supply device according to claim 1, further comprising a controller that drives the valve actuator according to a detection signal of the concentration sensor.
障害物が配置された排ガスの流路内におけるSCR触媒の上流に還元剤を供給するための還元剤供給装置の運用方法であって、
前記還元剤供給装置は、
前記排ガスの流れ方向における前記障害物の下流において、前記排ガスの流れ方向に対して交差する一方向に沿って間隔を隔てて配置された複数の噴射ノズルと、
前記複数の噴射ノズルに対して前記還元剤を供給するように構成された複数の還元剤供給ラインと、
を備え、
前記複数の噴射ノズルのうち、前記障害物の下流に位置する噴射ノズルを第1噴射ノズル、前記障害物の下流に位置しない噴射ノズルを第2噴射ノズルと定義した場合に、
前記複数の噴射ノズルは、同一の前記還元剤供給ラインによって前記還元剤が供給されるように構成された少なくとも一つの噴射ノズルを含む複数の噴射ノズル群であって、前記第1噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第1噴射ノズル群、及び前記第2噴射ノズルを含む前記噴射ノズル群である第2噴射ノズル群を含む複数の噴射ノズル群、に区分され、
前記還元剤供給装置の運用方法は、
前記排ガスの流れ方向における前記複数の噴射ノズルの下流で前記一方向における前記還元剤又はNOxの濃度分布を測定するステップと、
前記濃度分布の測定結果に応じて、前記第1噴射ノズル群及び前記第2噴射ノズル群に供給する前記還元剤の量を個別に調整するステップと、を備える
還元剤供給装置の運用方法。
A method of operating a reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path in which an obstacle is arranged,
The reducing agent supply device,
Downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas, a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas,
A plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of injection nozzles,
Equipped with
Of the plurality of ejection nozzles, the ejection nozzle located downstream of the obstacle is defined as a first ejection nozzle, and the ejection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as a second ejection nozzle,
The plurality of injection nozzles is a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and includes the first injection nozzle. A plurality of ejection nozzle groups including a first ejection nozzle group that is the ejection nozzle group and a second ejection nozzle group that is the ejection nozzle group that includes the second ejection nozzle;
The operating method of the reducing agent supply device is
Measuring the concentration distribution of the reducing agent or NOx in the one direction downstream of the plurality of injection nozzles in the flow direction of the exhaust gas;
Adjusting the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group and the second injection nozzle group individually according to the measurement result of the concentration distribution.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022083322A (en) * 2020-11-24 2022-06-03 トリニティ工業株式会社 Filter module for painting equipment

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113685248A (en) * 2021-08-09 2021-11-23 沪东重机有限公司 Novel diesel engine tail gas low pressure selective catalytic reduction denitration system

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5060253A (en) * 1973-09-27 1975-05-24
JPS58119326A (en) * 1982-01-11 1983-07-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Ammonia injection in denitrification of flue gas
JP2004141754A (en) * 2002-10-23 2004-05-20 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus and method for denitrifying stack gas

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08281074A (en) * 1995-04-19 1996-10-29 Babcock Hitachi Kk Denitrification equipment using urea
JPH0924246A (en) 1995-07-13 1997-01-28 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Ammonia injection device in denitration device
KR200204735Y1 (en) * 2000-06-17 2000-12-01 주식회사제너럴시스템 Improvement of nox reducing system
US8591848B2 (en) * 2007-11-09 2013-11-26 Fuel Tech, Inc. Selective catalytic NOx reduction process and control system
CN102527233A (en) * 2012-01-05 2012-07-04 北京龙电宏泰环保科技有限公司 Zoning-regulating double-layer ammonia injection grid applied to selective catalytic reduction denitrification device for industrial flue gas
KR101277518B1 (en) * 2013-04-09 2013-06-21 포항공과대학교 산학협력단 Scr/sncr combined de-nox system for reducing yellow plume and nox
KR102182935B1 (en) * 2015-03-13 2020-11-25 현대중공업 주식회사 Low Pressure Selective Catalytic Reduction System
CN206535431U (en) * 2016-12-28 2017-10-03 华电电力科学研究院 A kind of rotary ammonia-spraying grid applied to SCR denitration system
CN206996271U (en) * 2017-05-23 2018-02-13 国电科学技术研究院 A kind of device for realizing the multistage spray ammonia of SCR denitrating flue gas
CN207913518U (en) * 2017-12-22 2018-09-28 上海明华电力技术工程有限公司 The accurate spray ammonia system of the adaptive leveling of full load

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5060253A (en) * 1973-09-27 1975-05-24
JPS58119326A (en) * 1982-01-11 1983-07-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Ammonia injection in denitrification of flue gas
JP2004141754A (en) * 2002-10-23 2004-05-20 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus and method for denitrifying stack gas

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022083322A (en) * 2020-11-24 2022-06-03 トリニティ工業株式会社 Filter module for painting equipment

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