KR102327593B1 - The barrier film and manufacturing method thereof - Google Patents

The barrier film and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR102327593B1
KR102327593B1 KR1020160082606A KR20160082606A KR102327593B1 KR 102327593 B1 KR102327593 B1 KR 102327593B1 KR 1020160082606 A KR1020160082606 A KR 1020160082606A KR 20160082606 A KR20160082606 A KR 20160082606A KR 102327593 B1 KR102327593 B1 KR 102327593B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
resin
adhesive layer
barrier
weight
Prior art date
Application number
KR1020160082606A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180003143A (en
Inventor
한아름
김대식
김인기
Original Assignee
코오롱인더스트리 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱인더스트리 주식회사 filed Critical 코오롱인더스트리 주식회사
Priority to KR1020160082606A priority Critical patent/KR102327593B1/en
Publication of KR20180003143A publication Critical patent/KR20180003143A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102327593B1 publication Critical patent/KR102327593B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/24Organic non-macromolecular coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/08Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation
    • B32B2310/0806Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B32B2310/0831Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 배리어 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 구체적으로 취급성 및 균일성을 향상시킨 배리어 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다. The present invention relates to a barrier film and a method for manufacturing the same, and specifically to a barrier film having improved handling and uniformity, and a method for manufacturing the same.

Description

배리어 필름 및 이의 제조방법{The barrier film and manufacturing method thereof}Barrier film and manufacturing method thereof

본 발명은 배리어 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a barrier film and a method for manufacturing the same.

양자점(quantum dot)은 수 나노 크기의 결정 구조를 가진 반도체 물질로서, 그 크기에 따라 방출하는 파장이 다른 특성을 지니며, 이러한 양자점을 형광물질 또는 발광물질로 사용하여, 디스플레이의 특성을 향상시키거나 디스플레이 자체로 활용할 수 있음이 알려져 있다. 한편, 상기 양자점은 예를 들어 백라이트 유닛(BLU)에 들어가는 고분자 광학시트 내에 소량으로 결합되어 사용되고 있다.Quantum dots are semiconductor materials with a crystal structure of several nanometers, and have different wavelengths depending on their size. Or it is known that it can be used as a display itself. On the other hand, the quantum dots are used, for example, combined in a small amount in a polymer optical sheet that enters the backlight unit (BLU).

그러나 상기 양자점은 공기 중의 수분과 산소에 노출되면 표면산화에 의한 산화 문제점이 있어, 이를 보완하기 위한 방법으로 2장의 배리어필름 사이에 양자점이 분산된 고분자 수지를 분산시킨 후 경화시켜 광학시트로 제조하는 것이 일반적이며, 상기 광학시트는 청색 BLU 모듈의 도광판 위에 배치(on-surface 방식)되고 있다. 한편 상기 광학시트는 소형부터 대형까지 다양한 디스플레이 화면 크기에 대응할 수 있다.However, when the quantum dots are exposed to moisture and oxygen in the air, there is an oxidation problem due to surface oxidation. In general, the optical sheet is disposed on the light guide plate of the blue BLU module (on-surface method). On the other hand, the optical sheet can respond to various display screen sizes from small to large.

한편, 상기와 같은 광학시트는 배리어필름으로 인하여 수분과 산소에 대한 어느 정도의 배리어성능은 가지고 있으나, 고온·고습 조건에 노출 시 배리어필름의 배리어성능이 급격히 떨어지게 되는 문제점이 있고, 이에 따라 광학시트의 휘도를 안정적으로 유지할 수 없는 문제점이 있다. On the other hand, the optical sheet as described above has a certain degree of barrier performance against moisture and oxygen due to the barrier film, but there is a problem in that the barrier performance of the barrier film rapidly decreases when exposed to high temperature and high humidity conditions. There is a problem in that the luminance cannot be stably maintained.

또한, 배리어필름의 주요 구성인 무기물층은 일반적으로 ALD, PE-CVD, Sputter, 열증착 등을 통해 제작이 이루어 지며 Roll to Roll 공정으로 샘플 제작 시 무기층의 성능을 높이고 가격을 낮추는 연구들이 이루어 지고 있다. 특히 진공 상태에서 성막이 이루어 지다보니 수율을 높이기 위해 기재의 두께는 얇게 성막 속도는 높게 설정이 되어 있으며, 얇은 기재로 인한 무기층의 Crack 발생이 높아져Barrier Film의 취급성 및 Barrier 특성의 균일도 등의 특성이 요구 되고 있으며, 이를 해결하기 위한 연구가 절실히 필요하다.In addition, the inorganic layer, which is the main component of the barrier film, is generally produced through ALD, PE-CVD, sputter, thermal evaporation, etc., and researches to improve the performance of the inorganic layer and lower the price have been conducted during sample production through the Roll to Roll process. is losing In particular, since the film is formed in a vacuum, the thickness of the substrate is thin and the film formation speed is set high to increase the yield. Characteristics are required, and research to solve them is urgently needed.

이에 본 발명은 취급성 및 균일성을 향상시킨 배리어 필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a barrier film having improved handleability and uniformity, and a method for manufacturing the same.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 제 1 구현예는 기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층; 및 상기 배리어층의 어느 일면에 접착층 및 기재층이 적층되고, 상기 접착층 및 기재층이 적층되는 순서가 상기 배리어층으로부터 순차적으로 접착층과 기재층이 적층된 것을 포함하는 배리어 필름을 제공하는 것이다.A first preferred embodiment of the present invention for solving the above problems is a barrier layer consisting of a substrate layer and an inorganic material layer; And an adhesive layer and a base layer are laminated on any one surface of the barrier layer, and the order in which the adhesive layer and the base layer are laminated is to provide a barrier film comprising a laminated adhesive layer and a base layer sequentially from the barrier layer.

상기 접착층 및 기재층이 적층된 배리어층의 다른 일면에 접착층 및 별도의 배리어층이 순차적으로 적층된 것을 특징으로 한다. It is characterized in that the adhesive layer and a separate barrier layer are sequentially laminated on the other surface of the barrier layer on which the adhesive layer and the base layer are laminated.

상기 접착층이 적층되지 않은 배리어층의 다른 일면에 오버코팅층이 적층된 것을 특징으로 한다.It is characterized in that the overcoat layer is laminated on the other surface of the barrier layer on which the adhesive layer is not laminated.

상기 기재층은 환상 올리핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지), 폴리메타아크릴계 수지, 폴리카보네이트계수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이츠를 포함하는 폴리에스테르계 수지, 나일론을 포함하는 폴리아마이드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 아세탈계 수지, 셀룰로오스계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다. The base layer is a cyclic olipine-based resin, polystyrene-based resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polymethacrylic resin, polycarbonate-based resin, polyethylene A polyester-based resin including terephthalate and polyethylene naphthalate, a polyamide-based resin including nylon, a polyurethane-based resin, an acetal-based resin, and any one or more selected from the group consisting of a cellulose-based resin do it with

상기 무기물층은 규소(Si), 알루미늉(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화진화물, 산화 탄화물, 질화탄화물, 산화질화탄화물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 무기물을 포함하는 것을 특징으로 한다. The inorganic material layer is silicon (Si), aluminum (Al), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), zirconium (Zr), titanium (Ti), copper (Cu), cerium (Ce), At least one metal selected from the group consisting of yttrium (Yt), lanthanum (La), barium (Ba), magnesium (Mg), fluorine (F2), antimony (Sb), strontium (Sr), and tantalum (Ta); It is characterized in that it contains any one or more inorganic substances selected from the group consisting of oxides, nitrides, carbides, oxidized carbides, oxidized carbides, nitrided carbides, and oxynitride carbides.

상기 접착층은 UV 경화형 수지 및 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 한다. The adhesive layer is characterized in that it comprises a UV curable resin and a photoinitiator.

상기 접착층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 25중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The adhesive layer is characterized in that it contains 0.5 to 25 parts by weight of a photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin.

상기 UV 경화형 수지는 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌, 비스페놀 A 및 비스페놀 A 유도체가 포함괸 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.The UV curable resin includes epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norborene, polystyrene, ethylene-styrene, acrylate containing bisphenol A and bisphenol A derivatives, acrylate containing fluorene derivatives, and isobornyl acrylic. Late, polyphenylalkylsiloxane, urethane acrylate oligomer, dipentaerythritol pentaacrylate, and trihydroxyethyl isocyanurate triacrylate comprising any one or more selected from the group consisting of.

상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 한다. The photoinitiator is characterized in that it is selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone and alpha amino ketone series.

상기 접착층은 0.1 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다. The adhesive layer is characterized in that 0.1 to 100㎛.

상기 접착층은 굴절률 값이 1.3 내지 2.1인 것을 특징으로 한다. The adhesive layer is characterized in that the refractive index value is 1.3 to 2.1.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지, 열가소성 수지 및 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 한다. The overcoat layer is characterized in that it comprises a UV curable resin, a thermoplastic resin, and a photoinitiator.

상기 UV 경화형 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 규소 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다. The UV curable resin comprises at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate polyurethane, a polyester polyurethane, a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, and a silicon resin characterized in that

상기 열가소성 수지는 우레탄계 수지, 우레탄계 수지 및 폴리에테르계 수지의 공중합체, 우레탄계 수지 및 폴리에스테르계 수지의 공중합체, 폴리에스테르계 수지 및 폴리비닐부틸틀로라이드계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 한다. The thermoplastic resin is any one selected from the group consisting of a urethane-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyether-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyester-based resin, a polyester-based resin, and a polyvinylbutyltloride-based resin It is characterized in that it includes the above.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 50 내지 500중량부, 광개시제 0.5 내지 20중량부로 포함하는 것을 특징으로 한다. The overcoating layer is characterized in that it contains 50 to 500 parts by weight of the thermoplastic resin and 0.5 to 20 parts by weight of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin.

또한, 본 발명의 바람직한 제 2 구현예는 기재층의 어느 일면에 무기물층을 적층시켜 배리어층을 형성하는 단계(S1); 및 상기 형성된 배리어층의 어느 일면에 접착층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 접착층을 형성한 후, 상기 형성된 접착층의 상부에 기재층을 적층시키는 단계(S2)를 포함하는 배리어 필름의 제조방법을 제공하는 것이다. In addition, a second preferred embodiment of the present invention comprises the steps of forming a barrier layer by laminating an inorganic material layer on any one surface of the base layer (S1); And after forming an adhesive layer by wet coating the adhesive layer composition on any one surface of the formed barrier layer, laminating a substrate layer on top of the formed adhesive layer (S2). will do

상기 S1 단계에서 형성된 배리어층의 다른 일면에 오버코팅층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 오버코팅층을 형성하는 단계(S3)를 포함하는 것이다.forming an overcoat layer by wet coating the overcoat layer composition on the other surface of the barrier layer formed in step S1 (S3).

상기 S1 단계에서 형성된 배리어층의 다른 일면에 접착층을 웨트코팅(Wet Coating)한 후, 상기 코팅된 접착층의 상부에 별도의 배리어층을 적층시키는 단계(S4)를 포함하는 것이다. 상기 접착층 조성물은 UV 경화형 수지 및 광개시제를 포함하는 것이다. After wet coating the adhesive layer on the other surface of the barrier layer formed in step S1, laminating a separate barrier layer on top of the coated adhesive layer (S4). The adhesive layer composition includes a UV curable resin and a photoinitiator.

본 발명에 따르면 취급성 및 배리어(barrier) 성능이 향상되고, 큐디시트(QD Sheet)에 적용시키는 경우 큐디층(QD Lay; quantum dot layer)과 배리어 시트간의 접착력을 향상시킨 효과를 가진다. According to the present invention, handleability and barrier performance are improved, and when applied to a QD sheet, the adhesive strength between the QD Lay (quantum dot layer) and the barrier sheet is improved.

도 1은 본 발명에 따른 배리어 필름의 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 배리어 필름의 다른 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 배리어 필름의 다른 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 배리어 필름의 다른 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 배리어 필름을 큐디시트(QD Sheet)에 적용시킨 일례를 개략적으로 도시한 것이다.
1 schematically shows a preferred example of a barrier film according to the present invention.
2 schematically shows another preferred example of a barrier film according to the present invention.
3 schematically shows another preferred example of a barrier film according to the present invention.
4 schematically shows another preferred example of a barrier film according to the present invention.
5 schematically shows an example in which the barrier film according to the present invention is applied to a QD sheet.

본 발명의 일 양태에 따르면, 기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층; 및 상기 배리어층의 어느 일면에 접착층 및 기재층이 적층되고, 상기 접착층 및 기재층이 적층되는 순서가 상기 배리어층으로부터 순차적으로 접착층과 기재층이 적층된 것을 포함하는 배리어 필름을 제공할 수 있다.According to an aspect of the present invention, a barrier layer comprising a substrate layer and an inorganic material layer; And an adhesive layer and a substrate layer are laminated on any one surface of the barrier layer, and the order in which the adhesive layer and the substrate layer are laminated is sequentially from the barrier layer.

도 1은 본 발명에 따른 배리어 필름의 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다. 1 schematically shows a preferred example of a barrier film according to the present invention.

도 1을 참조하여 상기 본 발명에 따른 배리어 필름을 구체적으로 설명하면, 기재층 및 무기질층으로 이루어진 배리어층(A)의 일면에 접착층 및 기재층이 배리어층을 기준으로 하여 순차적으로 적층되는 구조를 포함한다. 예를 들어, 위에서 순차적으로 기재층, 무기질층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층이 적층되는 구조를 포함하는 것이다.When the barrier film according to the present invention is described in detail with reference to FIG. 1, an adhesive layer and a substrate layer are sequentially laminated on one side of the barrier layer (A) consisting of a substrate layer and an inorganic layer based on the barrier layer. include For example, it is to include a structure in which the substrate layer, the inorganic layer, the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from above, or the inorganic layer, the substrate layer, the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from above.

또한, 본 발명에 따른 배리어 필름은 상기 접착층 및 기재층이 적층된 배리어층의 다른 일면에 접착층 및 별도의 배리어층이 순차적으로 적층된 것을 포함한다. In addition, the barrier film according to the present invention includes an adhesive layer and a separate barrier layer sequentially laminated on the other surface of the barrier layer on which the adhesive layer and the base layer are laminated.

도 2는 본 발명에 따른 배리어 필름의 다른 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다. 도 2를 참조하여 상기 구조를 포함하는 배리어 필름을 구체적으로 설명하면, 기재층 및 무기질층으로 이루어진 배리어층(A)의 일면에는 배리어층을 기준으로 하여 순차적으로 접착층 및 기재층이 적층되고, 다른 일면에는 접착층 및 상기 배리어층과 다른 별도의 배리어층(A')을 추가로 더 적층될 수 있는 것이다. 예를 들어, 위에서 순차적으로 기재층, 무기질층, 접착층, 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 무기질층, 기재층, 접착층, 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 무기질층, 기재층, 접착층, 기재층, 무기질층, 접착층 및 기재층으로 적층되는 구조를 포함하는 것이다. 2 schematically shows another preferred example of a barrier film according to the present invention. When the barrier film including the structure is described in detail with reference to FIG. 2 , an adhesive layer and a base layer are sequentially laminated with respect to the barrier layer on one surface of the barrier layer (A) consisting of a base layer and an inorganic layer, and the other An adhesive layer and a separate barrier layer (A') different from the barrier layer may be further laminated on one surface. For example, sequentially laminated with a base layer, an inorganic layer, an adhesive layer, an inorganic layer, a base layer, an adhesive layer and a base layer from above, or an inorganic layer, a base layer, an adhesive layer, an inorganic layer, a base layer, an adhesive layer, and a base layer sequentially from above It is to be laminated as or to include a structure in which the inorganic layer, the substrate layer, the adhesive layer, the substrate layer, the inorganic layer, the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from above.

본 발명에서는 상술한 바와 같이, 기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층을 하나 이상 포함하고, 상기 배리어층의 어느 일면에 접착층 및 기재층을 적층시킴으로써, 무기물층의 내크랙(Crack)성이 개선됨으로써, 배리어(Barrier) 특성의 균일도가 상승되는 효과를 얻을 수 있는 것이다. 또한 기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층을 하나 이상 더 포함하여 Barrier 특성을 더욱 더 상승시키는 효과를 얻을 수 있다. In the present invention, as described above, by including one or more barrier layers consisting of a base layer and an inorganic material layer, and by laminating an adhesive layer and a base layer on any one surface of the barrier layer, the crack resistance of the inorganic layer is improved. , it is possible to obtain the effect of increasing the uniformity of the barrier characteristics. In addition, it is possible to obtain the effect of further increasing the barrier properties by further including one or more barrier layers composed of a base layer and an inorganic material layer.

또한, 본 발명에 따른 배리어 필름은 상기 접착층이 적층되지 않은 배리어층의 다른 일면에 오버코팅층이 적층된 것이 바람직하다. 특히, 큐디(QD)시트에 배리어 필름을 적용시키는 경우 상기 배리어 필름에 오버코팅층을 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the barrier film according to the present invention, it is preferable that an overcoat layer is laminated on the other surface of the barrier layer on which the adhesive layer is not laminated. In particular, when the barrier film is applied to the QD sheet, it is preferable to include an overcoating layer on the barrier film.

도 3은 및 도 4는 본 발명에 따른 오버코팅층을 포함하는 배리어 필름의 다른 바람직한 일례를 개략적으로 도시한 것이다. 도 3 및 도 4를 참고로 하여, 이를 구체적으로 설명하면, 기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층의 일면에 접착층 및 기재층이 순차적으로 적층되고, 상기 배리어층의 다른 일면에는 오버코팅층이 적층될 수 있다. 예를 들어, 위에서 순차적으로 오버코팅층, 기재층, 무기질층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 오버코팅층, 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층이 적층되는 구조를 포함하는 것이다. 3 and 4 schematically show another preferred example of a barrier film including an overcoat layer according to the present invention. 3 and 4, if described in detail, the adhesive layer and the base layer are sequentially laminated on one side of the barrier layer consisting of the substrate layer and the inorganic layer, and the overcoat layer is laminated on the other side of the barrier layer. can For example, the overcoat layer, the substrate layer, the inorganic layer, the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from above, or the overcoat layer, the inorganic layer, the substrate layer, the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from above.

또한, 기재층 및 무기질층으로 이루어진 배리어층(A)의 일면에는 배리어층을 기준으로 하여 순차적으로 접착층 및 기재층이 적층되고, 다른 일면에는 접착층 및 상기 배리어층과 다른 별도의 배리어층(A')을 추가로 더 적층되는 구조에 있어서, 상기 별도의 배리어층(A')의 접착층이 적층되지 않은 일면에 오버코팅층이 적층될 수 있다. 예를 들어, 위에서 순차적으로 오버코팅층, 기재층, 무기질층, 접착층, 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 오버코팅층, 무기질층, 기재층, 접착층, 무기질층, 기재층, 접착층 및 기재층으로 적층되거나, 위에서 순차적으로 오버코팅층, 무기질층, 기재층, 접착층, 기재층, 무기질층, 접착층 및 기재층으로 적층되는 구조를 포함하는 것이다.In addition, an adhesive layer and a substrate layer are sequentially laminated on one side of the barrier layer (A) made of a substrate layer and an inorganic layer based on the barrier layer, and on the other side, an adhesive layer and a separate barrier layer different from the barrier layer (A') ) in the additionally laminated structure, the overcoat layer may be laminated on one surface on which the adhesive layer of the separate barrier layer (A') is not laminated. For example, the overcoat layer, the substrate layer, the inorganic layer, the adhesive layer, the inorganic layer, the substrate layer, the adhesive layer, and the substrate layer are sequentially laminated from above, or the overcoat layer, the inorganic layer, the substrate layer, the adhesive layer, the inorganic layer, the substrate sequentially from above It is laminated as a layer, an adhesive layer and a base layer, or includes a structure in which an overcoat layer, an inorganic layer, a base layer, an adhesive layer, a base layer, an inorganic layer, an adhesive layer, and a base layer are sequentially stacked from above.

본 발명에서는 상술한 바와 같이, 오버코팅층을 적층시킴으로써, 최종 제품인 QD sheet 제조 시 QD 레진과 접착력 및 고온고습 신뢰성 특성을 높이는 효과를 얻을 수 있는 것이다. In the present invention, as described above, by laminating the overcoating layer, it is possible to obtain the effect of increasing the adhesion with the QD resin and the high-temperature, high-humidity reliability characteristics when manufacturing the final product, the QD sheet.

상기 기재층은 당해 기술분야에서 일반적으로 사용하는 기재를 사용할 수 있으며, 환상 올리핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지), 폴리메타아크릴계 수지, 폴리카보네이트계수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이츠를 포함하는 폴리에스테르계 수지, 나일론을 포함하는 폴리아마이드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 아세탈계 수지, 셀룰로오스계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. For the base layer, a base material generally used in the art may be used, and a cyclic olipine-based resin, a polystyrene-based resin, an acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS) resin), polymethacrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin including polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resin including nylon, polyurethane resin, acetal resin, cellulose resin It is preferable to include any one or more selected from the group consisting of.

상기 무기물층은 규소(Si), 알루미늉(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화진화물, 산화 탄화물, 질화탄화물, 산화질화탄화물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 무기물을 포함하는 것이 바람직하다. The inorganic material layer is silicon (Si), aluminum (Al), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), zirconium (Zr), titanium (Ti), copper (Cu), cerium (Ce), At least one metal selected from the group consisting of yttrium (Yt), lanthanum (La), barium (Ba), magnesium (Mg), fluorine (F2), antimony (Sb), strontium (Sr), and tantalum (Ta); It is preferable to include any one or more inorganic substances selected from the group consisting of oxides, nitrides, carbides, oxidized carbides, oxidized carbides, nitrided carbides, and oxynitride carbides.

상기 접착층은 UV 경화형 수지 및 광개시제를 포함할 수 있으며, 그 함량은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 25 중량부, 바람직하게는 1 내지 10 중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 광개시제가 0.5중량부 미만인 경우 UV 경화가 제대로 이루어질 수 없는 문제가 있으며, 25중량부를 초과하는 경우 고분자 체인이 짧아져서 접착력이 떨어질 수 있는 문제가 있다. The adhesive layer may include a UV curable resin and a photoinitiator, and the content thereof is preferably 0.5 to 25 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin. When the amount of the photoinitiator is less than 0.5 parts by weight, there is a problem that UV curing cannot be performed properly, and when it exceeds 25 parts by weight, the polymer chain is shortened and there is a problem that the adhesive force may decrease.

상기 UV 경화형 수지로는 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌, 비스페놀 A 및 비스페놀 A 유도체가 포함된 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. Examples of the UV curable resin include epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norborene, polystyrene, ethylene-styrene, acrylates containing bisphenol A and bisphenol A derivatives, acrylates containing fluorene derivatives, and isobornyl. It is preferable to include any one or more selected from the group consisting of acrylate, polyphenylalkylsiloxane, urethane acrylate oligomer, dipentaerythritol pentaacrylate, and trihydroxyethyl isocyanurate triacrylate.

이 때, 상기 UV 경화형 수지 중에 비스페놀 디아크릴레이트계 유도체의 함량은 수지 경화층에서 요구되는 굴절률에 따라서 적의 조절이 될 수 있으며, 접착층 조성물의 고형분 함량을 기준으로 5~99.5중량%, 바람직하게는 10~50중량%가 바람직하다. 상기 5중량% 미만에서는 굴절률 값이 지나치게 낮아질 수(1.3 미만) 있으며, 99.5중량%를 초과하는 경우 굴절률 값(2.1 초과)이 될 수 있으나, 접착층 조성물의 점도가 높아지고 이러한 접착층 조성물로 형성된 필름이 부서지기 쉬워(brittle) 유연성(Flexiblity)이 낮아질 수 있다.At this time, the content of the bisphenol diacrylate-based derivative in the UV-curable resin may be appropriately adjusted according to the refractive index required for the cured resin layer, and is 5 to 99.5% by weight based on the solid content of the adhesive layer composition, preferably 10 to 50% by weight is preferred. If it is less than 5% by weight, the refractive index value may be too low (less than 1.3), and if it exceeds 99.5% by weight, it may be a refractive index value (greater than 2.1), but the viscosity of the adhesive layer composition increases and the film formed from this adhesive layer composition is broken It is easy to brittle and the flexibility may be lowered.

상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것이 바람직하다. The photoinitiator is preferably at least one selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone series and alpha amino ketone series.

본 발명에 따른 접착층은 0.1 내지 100㎛, 바람직하게는 1 내지 50㎛인 것이 좋다. 상기 접착층의 두께가 0.1㎛ 미만인 경우 접착제의 두께가 ?邨? 접착력이 떨어질 수 있으며, 100㎛를 초과하는 경우 필름의 유연성(Flexibility)이 나빠질 수 있다. The adhesive layer according to the present invention is preferably 0.1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm. If the thickness of the adhesive layer is less than 0.1㎛, the thickness of the adhesive? Adhesion may be reduced, and when it exceeds 100 μm, the flexibility of the film may deteriorate.

또한, 상술한 접착층은 굴절률 값이 1.3 내지 2.1 바람직하게는 1.5 내지 1.8인 것이 좋다. 상기 접착층의 굴절률 값이 1.3 미만이거나 2.1을 초과하는 경우 빛의 간섭효과로 인해 배리어 필름의 투과도가 낮아지는 문제가 있다. In addition, the above-mentioned adhesive layer preferably has a refractive index value of 1.3 to 2.1, preferably 1.5 to 1.8. When the refractive index value of the adhesive layer is less than 1.3 or exceeds 2.1, there is a problem in that the transmittance of the barrier film is lowered due to the interference effect of light.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지, 열가소성 수지 및 광개시제를 포함하고, 고온/고습 조건에서도 무기질층과의 접착력을 유지하기 위한 UV 경화형 수지와 고온/고습 조건에서 큐디(QD; quantum dot)레진과의 접착력을 유지하는 열가소성 수지의 혼합조성을 포함한다. 상기 큐디레진은 본 발명이 속한 분야에서 통상적으로 사용되는 큐디레진을 의미한다.The overcoating layer includes a UV curable resin, a thermoplastic resin, and a photoinitiator, and a UV curable resin for maintaining adhesion with the inorganic layer even under high temperature/high humidity conditions and QD (quantum dot) resin under high temperature/high humidity conditions. It contains a mixed composition of the thermoplastic resin to maintain the. The QDI resin means QDI resin commonly used in the field to which the present invention belongs.

상기 오버코팅층에 포함되는 UV 경화형 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 규소 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. The UV curable resin included in the overcoating layer is selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate polyurethane, a polyester polyurethane, a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, and a silicon resin. It is preferable to include one or more.

상기 열가소성 수지는 우레탄계 수지, 우레탄계 수지 및 폴리에테르계 수지의 공중합체, 우레탄계 수지 및 폴리에스테르계 수지의 공중합체, 폴리에스테르계 수지 및 폴리비닐부틸틀로라이드계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. The thermoplastic resin is any one selected from the group consisting of a urethane-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyether-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyester-based resin, a polyester-based resin and a polyvinylbutyltloride-based resin It is preferable to include the above.

상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 50 내지 500중량부, 바람직하게는 100 내지 400중량부로 포함되는 것이 QD 레진과의 접착력 및 고온고습 신뢰성 점에서 좋다. The photoinitiator preferably includes at least one selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone series, and alpha amino ketone series. The overcoating layer is preferably included in 50 to 500 parts by weight, preferably 100 to 400 parts by weight, of the thermoplastic resin based on 100 parts by weight of the UV curable resin in terms of adhesion to QD resin and reliability of high temperature and high humidity.

상기 열가소성 수지가 50중량부 미만인 경우 QD 레진과의 접착력이 떨어져, QD 레진을 보호할 수가 없으며, 이로 인해 QD 레진의 수명이 감소될 수 있는 문제가 있으며, 500 중량부를 초과하는 경우 고온고습 접착력(60℃, 90%, 1000hr)이 떨어질 수 있는 문제가 있다. When the amount of the thermoplastic resin is less than 50 parts by weight, the adhesive strength with the QD resin is low, and the QD resin cannot be protected. 60℃, 90%, 1000hr) there is a problem that may drop.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 20중량부, 바람직하게는 1 내지 10중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 광개시제가 0.5중량부 미만인 경우 UV 경화가 되지 않는 문제가 있으며, 20중량부를 초과하는 경우 고분자 체인이 짧아져 접착력이 낮아질 수 있는 문제가 있다. 이때, 상기 오버코팅층은 실란커플링제를 더 포함할 수 있는데, 상기 실란커플링제는 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 0.5 내지 20중량부, 바람직하게는 1 내지 10중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 실란커플링제의 경우 오버코팅층과 접하여 적층되는 무기물층의 표면에 존재하는 하이드록시 그룹과 실란커플링제의 반응을 통해 오버코팅층과 무기물층 간의 접착력이 향상되는 효과를 얻을 수 있다. The overcoating layer is preferably included in an amount of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin. When the amount of the photoinitiator is less than 0.5 parts by weight, there is a problem that UV curing is not performed, and when it exceeds 20 parts by weight, the polymer chain is shortened and the adhesive force may be lowered. In this case, the overcoat layer may further include a silane coupling agent, and the silane coupling agent is included in an amount of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the UV curable resin. In the case of the silane coupling agent, an effect of improving adhesion between the overcoating layer and the inorganic layer may be obtained through the reaction of the silane coupling agent with the hydroxyl group present on the surface of the inorganic layer laminated in contact with the overcoating layer.

상기 실란커플링제로는 본 발명이 속한 분야에서 통상적으로 사용되는 실란커플링제를 임의로 선택하여 사용할 수 있으며, 예를 들어, 비닐기, 에폭시기, 스티릴기, 메타크릴레이트기, 아크릴레이트기, 아미노기, 클로로프로필기, 메캅토기, 술피도기, 이소시아나토기 등을 포함하는 화합물을 들 수 있다. As the silane coupling agent, a silane coupling agent commonly used in the field to which the present invention belongs may be arbitrarily selected and used, for example, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a methacrylate group, an acrylate group, an amino group, and compounds containing a chloropropyl group, a mercapto group, a sulfido group, an isocyanato group, and the like.

상술한 바와 같은 적층구조를 포함하는 배리어 필름은 큐디시트(QD Sheet)에 적용시킬 수 있는데, 도 5는 본 발명에 따른 배리어 필름을 큐디시트(QD Sheet)에 적용시킨 일례를 개략적으로 도시한 것이다. 도 5에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 배리어 필름의 사이에 큐디층(QD Lay; quantum dot layer)을 적층시켜 큐디시트를 제조할 수 있다. 이 때, 상기 큐디층은 본 발명의 배리어 필름의 최외각에 위치한 오버코팅층과 접촉시켜 적층시키는 것이 바람직하다. 본 발명의 배리어 필름의 최외각에 위치한 오버코팅층과의 사이에 큐디층을 적층시키는 경우 피착재가 파괴가 되는 접착력을 가지며, 또한 고온고습(60℃ 90%)에서도 접착력 유지를 할 수 있다. 상기와 같은 접착력을 가지게 되면 QD 레진을 수분이나 산소로부터 보호해줄 수 있으며, 수명을 늘릴 수 있는 장점을 가진다. The barrier film including the laminate structure as described above can be applied to a QD sheet, and FIG. 5 schematically shows an example in which the barrier film according to the present invention is applied to the QD sheet. . As shown in FIG. 5 , a QD sheet may be manufactured by stacking a QD layer (QD Lay; quantum dot layer) between the barrier films according to the present invention. At this time, the QD layer is preferably laminated in contact with the overcoat layer located at the outermost portion of the barrier film of the present invention. When the QD layer is laminated between the overcoat layer located on the outermost side of the barrier film of the present invention, the adherend has an adhesive force that destroys it, and the adhesive force can be maintained even at high temperature and high humidity (60 ℃ 90%). When the adhesive strength as described above is obtained, it is possible to protect the QD resin from moisture or oxygen, and has the advantage of extending the lifespan.

상술한 배리어 필름은 하기에서 기술되는 다른 일 양태에 따른 제조방법으로 제조될 수 있다. The above-described barrier film may be manufactured by a manufacturing method according to another aspect described below.

본 발명의 다른 일 양태에 따르면, 기재층의 어느 일면에 무기물층을 적층시켜 배리어층을 형성하는 단계 (S1); 및 상기 형성된 배리어층의 어느 일면에 접착층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 접착층을 형성한 후 상기 형성된 접착층의 상부에 기재층을 적층시키는 단계(S2)를 포함하는 배리어 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.According to another aspect of the present invention, forming a barrier layer by laminating an inorganic layer on any one surface of the base layer (S1); And after forming an adhesive layer by wet coating the adhesive layer composition on any one surface of the formed barrier layer, laminating a substrate layer on top of the formed adhesive layer (S2) It provides a method of manufacturing a barrier film comprising: will be.

먼저, 기재층의 어느 일면에 무기물층을 적층시켜 배리어층을 형성한다(S1). First, a barrier layer is formed by laminating an inorganic material layer on any one surface of the base layer (S1).

상기 기재층은 상술한 바와 동일하며, 상기 기재층의 어느 일면에 플라즈마 전처리를 한 후, 무기물을 드라이 코팅하여 무기물층을 적층시킨다.The base layer is the same as described above, and after plasma pretreatment is performed on any one surface of the base layer, an inorganic material is dry-coated to laminate the inorganic material layer.

상기 무기물은 규소(Si), 알루미늉(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화진화물, 산화 탄화물, 질화탄화물, 산화질화탄화물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다.The inorganic material is silicon (Si), aluminum (Al), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), zirconium (Zr), titanium (Ti), copper (Cu), cerium (Ce), yttrium Contains at least one metal selected from the group consisting of (Yt), lanthanum (La), barium (Ba), magnesium (Mg), fluorine (F2), antimony (Sb), strontium (Sr), and tantalum (Ta) It is preferable to include any one or more selected from the group consisting of oxides, nitrides, carbides, oxidized carbides, oxidized carbides, nitrided carbides, and oxynitrided carbides.

이 때, 상기 무기물층은 0.5 내지 110 nm, 바람직하게는 1 내지 80nm의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. In this case, the inorganic material layer is preferably formed to a thickness of 0.5 to 110 nm, preferably 1 to 80 nm.

이어서, 상기 형성된 배리어층의 어느 일면에 접착층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 접착층을 형성한 후 상기 형성된 접착층의 상부에 기재층을 적층시킨다(S2).Then, the adhesive layer composition is wet-coated on one surface of the formed barrier layer to form an adhesive layer, and then a base layer is laminated on the formed adhesive layer (S2).

상기 접착층 조성물은 UV 경화형 수지 및 광개시제를 포함할 수 있으며, 그 함량은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 25 중량부, 바람직하게는 1 내지 10 중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 광개시제가 0.5중량부 미만인 경우 UV 경화가 제대로 이루어질 수 없는 문제가 있으며, 25중량부를 초과하는 경우 고분자 체인이 짧아져서 접착력이 떨어질 수 있는 문제가 있다. The adhesive layer composition may include a UV curable resin and a photoinitiator, and the content thereof is 0.5 to 25 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin. When the amount of the photoinitiator is less than 0.5 parts by weight, there is a problem that UV curing cannot be performed properly, and when it exceeds 25 parts by weight, the polymer chain is shortened and there is a problem that the adhesive force may decrease.

상기 UV 경화형 수지로는 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌, 비스페놀 A 및 비스페놀 A 유도체가 포함괸 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. Examples of the UV curable resin include epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norborene, polystyrene, ethylene-styrene, acrylates containing bisphenol A and bisphenol A derivatives, acrylates containing fluorene derivatives, isobornyl It is preferable to include any one or more selected from the group consisting of acrylate, polyphenylalkylsiloxane, urethane acrylate oligomer, dipentaerythritol pentaacrylate, and trihydroxyethyl isocyanurate triacrylate.

상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것이 바람직하다. The photoinitiator is preferably at least one selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone series and alpha amino ketone series.

상기 적층시키는 공정은 본 발명이 속한 분야에서 통상적으로 사용되는 적층방법으로 선택하여 실시할 수 있다. The lamination process may be performed by selecting a lamination method commonly used in the field to which the present invention pertains.

한편, 본 발명에서는 상기 S1 단계에서 형성된 배리어층의 다른 일면에 오버코팅층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 오버코팅층을 형성하는 단계(S3)를 포함하여 실시할 수 있다. 상기 오버코팅층을 포함하는 배리어 필름은 큐디(QD) 시트에 적용시키는 경우에 바람직하다.Meanwhile, in the present invention, the overcoating composition may be wet coated on the other surface of the barrier layer formed in step S1 to form an overcoating layer (S3). The barrier film including the overcoat layer is preferable when applied to a QD (QD) sheet.

상기 오버코팅층 조성물은 UV 경화형 수지, 열가소성 수지 및 광개시제를 포함한다. The overcoating layer composition includes a UV curable resin, a thermoplastic resin, and a photoinitiator.

상기 오버코팅층에 포함되는 UV 경화형 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 규소 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. The UV curable resin included in the overcoating layer is selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate polyurethane, a polyester polyurethane, a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, and a silicon resin. It is preferable to include one or more.

상기 열가소성 수지는 우레탄계 수지, 우레탄계 수지 및 폴리에테르계 수지의 공중합체, 우레탄계 수지 및 폴리에스테르계 수지의 공중합체, 폴리에스테르계 수지 및 폴리비닐부틸틀로라이드계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것이 바람직하다.The thermoplastic resin is any one selected from the group consisting of a urethane-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyether-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyester-based resin, a polyester-based resin, and a polyvinylbutyltloride-based resin more preferably.

상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것이 바람직하다 The photoinitiator is preferably at least one selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone series, and alpha amino ketone series.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 50 내지 500중량부, 바람직하게는 100 내지 400중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 열가소성 수지가 50중량부 미만인 경우 QD 레진과의 접착력이 떨어져, QD 레진을 보호할 수가 없으며, 이로 인해 QD 레진의 수명이 감소 될 수 있는 문제가 있으며, 500중량부를 초과하는 경우 고온고습 접착력(60℃, 90%, 1000hr)이 떨어질 수 있는 문제가 있다. The overcoating layer is preferably included in an amount of 50 to 500 parts by weight of the thermoplastic resin, preferably 100 to 400 parts by weight, based on 100 parts by weight of the UV curable resin. When the amount of the thermoplastic resin is less than 50 parts by weight, the adhesive strength with the QD resin is low, and the QD resin cannot be protected. 60℃, 90%, 1000hr) there is a problem that may drop.

상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 20중량부, 바람직하게는 1 내지 10중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 광개시제가 0.5중량부 미만인 경우 UV 경화가 되지 않는 문제가 있으며, 20중량부를 초과하는 경우 고분자 체인이 짧아져 접착력이 낮아질 수 있는 문제가 있다.The overcoating layer is preferably included in an amount of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin. When the amount of the photoinitiator is less than 0.5 parts by weight, there is a problem that UV curing is not performed, and when it exceeds 20 parts by weight, the polymer chain is shortened and the adhesive force may be lowered.

이때, 상기 오버코팅층은 실란커플링제를 더 포함할 수 있는데, 상기 실란커플링제는 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 0.5 내지 20중량부, 바람직하게는 1 내지 10중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 실란커플링제의 경우 오버코팅층과 접하여 적층되는 무기물층의 표면에 존재하는 하이드록시 그룹과 실란커플링제의 반응을 통해 오버코팅층과 무기물층 간의 접착력이 향상되는 효과를 얻을 수 있다. In this case, the overcoat layer may further include a silane coupling agent, and the silane coupling agent is included in an amount of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the UV curable resin. In the case of the silane coupling agent, an effect of improving adhesion between the overcoating layer and the inorganic layer may be obtained through the reaction of the silane coupling agent with the hydroxyl group present on the surface of the inorganic layer laminated in contact with the overcoating layer.

상기 실란커플링제는 상술한 바와 동일하다. The silane coupling agent is the same as described above.

상기 S3 단계를 포함하여 제조된 배리어 필름은 QD 레진과 접착력을 가지며, 수분과 산소를 외부로부터 보호해주는 역할, 그리고 Barrier Film의 취급성이 용이해져 Barrier 특성의 균일도가 좋아져서 QD 시트 제작 후 QD 가 죽어서 생기는 Black Spot 문제 해결을 할 수 있어 QD 레진의 보호층으로의 효과를 얻을 수 있다. The barrier film manufactured including step S3 has adhesive strength with QD resin, serves to protect moisture and oxygen from the outside, and the ease of handling of the barrier film improves the uniformity of barrier properties, so that QD It can solve the black spot problem caused by death, so it can be effective as a protective layer of QD resin.

또한, 본 발명에서는 상기 S1 단계에서 형성된 배리어층의 다른 일면에 접착층을 웨트코팅(Wet Coating)한 후, 상기 코팅된 접착층의 상부에 별도의 배리어층을 적층시키는 단계(S4)를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, after wet coating an adhesive layer on the other side of the barrier layer formed in step S1, laminating a separate barrier layer on top of the coated adhesive layer (S4) It is preferable to include do.

상기 별도의 배리어층은 상술한 S1 단계에서 동일한 방법으로 제조된 배리어층임을 의미한다.It means that the separate barrier layer is a barrier layer manufactured by the same method in step S1 described above.

상기 S4 단계를 포함하여 제조된 배리어 필름은 무기층의 한층 더 도입됨으로 Barrier 성능이 더 좋아질 수 있으며, QD 레진과의 접착력을 가지고 수분과 산소의를 외부로부터 보호해주는 역할, 그리고 Barrier Film의 취급성이 용이해져 Barrier 특성의 균일도가 좋아져서 QD 시트 제작 후 QD 가 죽어서 생기는 Black Spot 문제 해결을 할 수 있어 QD 레진의 보호층으로의 효과를 얻을 수 있다. The barrier film produced including the step S4 may have better barrier performance by further introduction of the inorganic layer, have an adhesive force with QD resin and protect moisture and oxygen from the outside, and handleability of the barrier film This facilitates the improvement of the uniformity of the barrier properties, so it is possible to solve the black spot problem caused by the QD dying after the QD sheet is manufactured, thereby obtaining the effect of the QD resin as a protective layer.

실시예Example

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명 하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. These examples are only for illustrating the present invention in more detail, and the present invention is not limited thereto.

실시예 1Example 1

배리어층의 제조Preparation of barrier layer

두께 25㎛인 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, KOLON사 U43R grade)의 일면에 롤투롤 증착기를 이용해 플라즈마 전처리를 한 후 AlOx 10nm / SiOx 60nm 총 70nm 두께로 드라이 코팅(Dry Coating) 한 다음 무기물 층을 형성하여 배리어층을 제조 하였다. After plasma pretreatment using a roll-to-roll evaporator on one side of polyethylene terephthalate (KOLON's U43R grade) with a thickness of 25㎛, dry coating with a total thickness of 70nm of AlOx 10nm / SiOx 60nm and then an inorganic layer is formed Thus, a barrier layer was prepared.

접착층 조성물 제조Adhesive layer composition preparation

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 3중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. After diluting 100 parts by weight of a urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%.

배리어 필름의 제조 Barrier film production

상기 제조된 배리어층의 무기물층 상면에 상기 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 접착층의 상면에 기재층을 롤라미네이션(Roll Lamination)한 후, 자외선 조사장치(Fusion 社)에 type-D bulb를 장착하여 500mJ/㎠의 노광량으로 조사하여 배리어 필름을 제조 하였다. Wet coating the adhesive layer composition to a thickness of 5 μm on the upper surface of the inorganic material layer of the prepared barrier layer, drying in an oven at 80° C. for 3 minutes to form an adhesive layer, and then a base layer on the upper surface of the formed adhesive layer After roll lamination, a type-D bulb was mounted on an ultraviolet irradiator (Fusion) and irradiated with an exposure dose of 500 mJ/cm 2 to prepare a barrier film.

광학시트의 제조Manufacture of optical sheet

상기 제조된 2장의 배리어필름 사이에 비카드뮴계 양자점이 분산된 우레탄 아크릴 수지 고분자 조액을 100㎛ 두께로 도포하고 1000mJ/㎠ 노광 조건에서 UV 경화시켜 광학시트를 제작하였다. A crude urethane acrylic resin polymer solution in which non-cadmium-based quantum dots are dispersed between the two barrier films prepared above was applied to a thickness of 100 μm and UV cured under exposure conditions of 1000 mJ/cm 2 to prepare an optical sheet.

실시예 2Example 2

배리어층의 제조Preparation of barrier layer

두께 25㎛인 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, KOLON사 U43R grade)의 일면에 롤투롤 증착기를 이용해 플라즈마 전처리를 한 후 AlOx 10nm / SiOx 60nm 총 70nm 두께로 드라이 코팅(Dry Coating) 한 다음 무기물 층을 형성하여 배리어층을 제조 하였다. After plasma pretreatment using a roll-to-roll evaporator on one side of polyethylene terephthalate (KOLON's U43R grade) with a thickness of 25㎛, dry coating with a total thickness of 70nm of AlOx 10nm / SiOx 60nm and then an inorganic layer is formed Thus, a barrier layer was prepared.

접착층 조성물 제조Adhesive layer composition preparation

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 3중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다.After diluting 100 parts by weight of a urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%.

오버코팅층 조성물 제조Preparation of overcoating composition

열가소성 수지로서 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)과 UV 경화형 수지로서 우레탄 아크릴레이트(Urethane acrylate, 8BR/Taisei Fine Chemical)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 100중량부로 첨가하여 이들을 용매 MEK(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후 첨가제로서 실란 커플링제(Silan Coupling agent, OFS6020/DOW)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 10 중량부, 내가수분해 방지제(ALTFONA5151/Green Chem)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 1중량부, 광 개시제(Irgacure184/ CIBA)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 7.5중량부로 첨가하고 교반하여 제조하였다. Polyurethane (Ellas/KOLON) as a thermoplastic resin and urethane acrylate (8BR/Taisei Fine Chemical) as a UV curable resin are added in 100 parts by weight of the thermoplastic resin based on 100 parts by weight of the UV curable resin, and these are added as a solvent MEK After mixing with (Methyl Ethyl Ketone), 10 parts by weight of a silane coupling agent (OFS6020/DOW) as an additive based on 100 parts by weight of a UV curable resin, and a hydrolysis resistant agent (ALTFONA5151/Green Chem) with a UV curable resin Based on 100 parts by weight, 1 part by weight of the photoinitiator (Irgacure184/CIBA) was added in an amount of 7.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the UV curable resin, and stirred to prepare.

배리어 필름의 제조 Barrier film production

상기 제조된 배리어층의 기재층 상면에 상기 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 접착층의 상면에 기재층을 롤라미네이션(Roll Lamination)한 후, 자외선 조사장치(Fusion 社)에 type-D bulb를 장착하여 500mJ/㎠의 노광량으로 조사하였다. 그 후, 상기 배리어층의 무기물층 상면에 오버코팅 조성물을 M/G Coating(Micro Gravure Coating)하여 오버코팅층을 형성하였다. Wet coating the adhesive layer composition to a thickness of 5 μm on the upper surface of the substrate layer of the prepared barrier layer, drying in an oven at 80° C. for 3 minutes to form an adhesive layer, and then a substrate layer on the upper surface of the formed adhesive layer After roll lamination, a type-D bulb was mounted on an ultraviolet irradiator (Fusion) and irradiated with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 . Thereafter, an overcoating layer was formed by M/G coating (Micro Gravure Coating) of the overcoating composition on the upper surface of the inorganic material layer of the barrier layer.

광학시트의 제조Manufacture of optical sheet

상기 제조된 2장의 배리어필름 사이에 비카드뮴계 양자점이 분산된 우레탄 아크릴 수지 고분자 조액을 100㎛ 두께로 도포하고 1000mJ/㎠ 노광 조건에서 UV 경화시켜 광학시트를 제작하였다. A crude urethane acrylic resin polymer solution in which non-cadmium-based quantum dots are dispersed between the two barrier films prepared above was applied to a thickness of 100 μm and UV cured under exposure conditions of 1000 mJ/cm 2 to prepare an optical sheet.

실시예 3Example 3

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 1, except for the following examples.

제1 및 제2의 접착층 조성물 제조Preparation of first and second adhesive layer compositions

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 3중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. 이 때, 제1 및 제2의 접착층 조성물은 상기 동일한 방법으로 제조하였다. After diluting 100 parts by weight of a urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%. At this time, the first and second adhesive layer compositions were prepared in the same manner as described above.

배리어 필름의 제조 Barrier film production

상기 제조된 배리어층의 기재층 상면에 상기 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 제1의 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 제1의 접착층의 상면에 기재층을 롤라미네이션(Roll Lamination)한 후, 자외선 조사장치(Fusion 社)에 type-D bulb를 장착하여 500mJ/㎠의 노광량으로 조사하였다. 그 후, 상기 배리어층의 무기물층 상면에 별도의 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 제2의 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 제2의 접착층의 상면에 상기와 동일한 방법으로 제조된 배리어층을 적층시키되, 배리어층의 무기층이 상기 제2의 접착층과 접촉되도록 적층시켰다. Wet coating the adhesive layer composition to a thickness of 5 μm on the upper surface of the base layer of the prepared barrier layer, drying in an oven at 80° C. for 3 minutes to form a first adhesive layer, and then forming the first After roll lamination of the base layer on the upper surface of the adhesive layer, a type-D bulb was mounted on an ultraviolet irradiator (Fusion) and irradiated with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 . Thereafter, a separate adhesive layer composition is wet coated on the upper surface of the inorganic material layer of the barrier layer to a thickness of 5 μm, dried in an oven at 80° C. for 3 minutes to form a second adhesive layer, and then the formed The barrier layer prepared in the same manner as described above was laminated on the upper surface of the adhesive layer of Step 2, and the inorganic layer of the barrier layer was laminated so as to be in contact with the second adhesive layer.

실시예 4Example 4

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 2, except for the following examples.

제1 및 제2의 접착층 조성물 제조Preparation of first and second adhesive layer compositions

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade)를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 아크릴레이트 수지 고형분의 3파트 추가해 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. 제1 및 제2의 접착층 조성물은 상기 동일한 방법으로 제조하였다. After diluting urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with methyl ethyl ketone solvent, add 3 parts of photoinitiator (Igacure 184) to the solid content of the acrylate resin and dissolve it sufficiently to make an adhesive layer composition with a solid content of 20 wt% was prepared. The first and second adhesive layer compositions were prepared in the same manner as described above.

배리어 필름의 제조 Barrier film production

상기 제조된 배리어층의 기재층 상면에 상기 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 제1의 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 접착층의 상면에 기재층을 롤라미네이션(Roll Lamination)한 후, 자외선 조사장치(Fusion 社)에 type-D bulb를 장착하여 500mJ/㎠의 노광량으로 조사하였다. 그 후, 상기 배리어층의 무기물층 상면에 별도의 접착층 조성물을 5㎛의 두께로 웨트코팅(Wet Coating)하고, 80℃ 오븐에서 3분동안 건조하여 제2의 접착층을 형성한 다음, 상기 형성된 제2의 접착층의 상면에 상기와 동일한 방법으로 제조된 배리어층을 적층시키되, 배리어층의 기재층이 상기 제2의 접착층과 접촉되도록 적층시켰다. 그 후, 상기 제2의 접착층에 적층된 배리어층의 무기물층 상면에 오버코팅 조성물을 M/G Coatin하여 오버코팅층을 형성하였다. Wet coating the adhesive layer composition to a thickness of 5 μm on the upper surface of the base layer of the barrier layer prepared above, drying in an oven at 80° C. for 3 minutes to form a first adhesive layer, and then the upper surface of the formed adhesive layer After roll lamination of the substrate layer, a type-D bulb was mounted on an ultraviolet irradiator (Fusion) and irradiated with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 . Thereafter, a separate adhesive layer composition is wet coated on the upper surface of the inorganic material layer of the barrier layer to a thickness of 5 μm, dried in an oven at 80° C. for 3 minutes to form a second adhesive layer, and then the formed The barrier layer prepared in the same manner as above was laminated on the upper surface of the adhesive layer of No. 2, and the substrate layer of the barrier layer was laminated so as to be in contact with the second adhesive layer. Thereafter, the overcoating composition was M/G coated on the upper surface of the inorganic material layer of the barrier layer laminated on the second adhesive layer to form an overcoating layer.

실시예 5Example 5

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 4와 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 4, except for the following examples.

제1 및 제2의 접착층 조성물 제조Preparation of first and second adhesive layer compositions

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 10중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. 제1 및 제2의 접착층 조성물은 상기 동일한 방법으로 제조하였다.After diluting 100 parts by weight of a urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%. The first and second adhesive layer compositions were prepared in the same manner as described above.

실시예 6Example 6

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 4와 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 4, except for the following examples.

제1 및 제2의 접착층 조성물 제조Preparation of first and second adhesive layer compositions

우레탄 아크릴레이트 수지(Tesk사, A-2697 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 20중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. 제1 및 제2의 접착층 조성물은 상기 동일한 방법으로 제조하였다.After diluting 100 parts by weight of a urethane acrylate resin (Tesk, A-2697 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%. The first and second adhesive layer compositions were prepared in the same manner as described above.

실시예 7Example 7

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 4와 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 4, except for the following examples.

제1 및 제2의 접착층 조성물 제조Preparation of first and second adhesive layer compositions

에폭시 아크릴레이트 수지(Test 사, A-2699 grade) 100중량부를 메틸 에틸 케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 상기 우레탄 아크릴레이트 수지 100중량부를 기준으로 하여 3중량부로 첨가한 후, 충분히 용해시켜 고형분 20wt% 의 접착층 조성물을 제조하였다. 제1 및 제2의 접착층 조성물은 상기 동일한 방법으로 제조하였다.After diluting 100 parts by weight of an epoxy acrylate resin (Test, A-2699 grade) with a methyl ethyl ketone solvent, a photoinitiator (Igacure 184) was added in an amount of 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate resin After that, it was sufficiently dissolved to prepare an adhesive layer composition having a solid content of 20 wt%. The first and second adhesive layer compositions were prepared in the same manner as described above.

실시예 8Example 8

하기 실시 내용을 제외하고는 상기 실시예 4와 동일한 방법으로 배리어 필름 및 광학시트를 제조하였다. A barrier film and an optical sheet were prepared in the same manner as in Example 4, except for the following examples.

오버코팅층 조성물 제조Preparation of overcoating composition

열가소성 수지로서 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)과 UV 경화형 수지로서 우레탄 아크릴레이트(Urethane acrylate, 8BR/Taisei Fine Chemical)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 300중량부로 첨가하여 이들을 용매 MEK(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후 첨가제로서 실란 커플링제(Silan Coupling agent, OFS6020/DOW)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 10 중량부, 내가수분해 방지제(ALTFONA5151/Green Chem)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 1중량부, 광 개시제(Irgacure184/ CIBA)를 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 7.5중량부로 첨가하고 교반하여 제조하였다.Polyurethane (Ellas/KOLON) as a thermoplastic resin and urethane acrylate (8BR/Taisei Fine Chemical) as a UV curable resin are added in 300 parts by weight of a thermoplastic resin based on 100 parts by weight of the UV curable resin, and these are added as a solvent MEK After mixing with (Methyl Ethyl Ketone), 10 parts by weight of a silane coupling agent (OFS6020/DOW) as an additive based on 100 parts by weight of a UV curable resin, and a hydrolysis resistant agent (ALTFONA5151/Green Chem) with a UV curable resin Based on 100 parts by weight, 1 part by weight of the photoinitiator (Irgacure184/CIBA) was added in an amount of 7.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the UV curable resin, and stirred to prepare.

비교예 1Comparative Example 1

상기 실시예 1에서 배리어층의 상부에 접착층 및 기재층을 적층하지 않은 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다. The same procedure was performed except that in Example 1, an adhesive layer and a base layer were not laminated on top of the barrier layer.

비교예 2Comparative Example 2

상기 실시예 2에서 배리어층의 상부에 접착층 및 기재층을 적층하지 않은 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다. The same procedure was performed except that in Example 2, an adhesive layer and a base layer were not laminated on top of the barrier layer.

하기와 같은 방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 표 1 및 표 2에 나타내었다.The physical properties were measured in the following manner, and the results are shown in Tables 1 and 2.

(1) 접착층의 두께: 코팅된 접착제의 두께를 측정하기 위해 두께 측정기 (Mitutoyo사, IP65) 를 이용하여 측정하였다. (1) Thickness of adhesive layer: To measure the thickness of the coated adhesive, it was measured using a thickness meter (Mitutoyo, IP65).

(2) 접착층의 굴절률: 접착층의 굴절률을 측정하기 위해 기재 위에 접착층을 일정 두께로 코팅 및 Dry, UV 경화 하여 코팅층이 형성 된 후 엘립소미터(엘립소 테크놀로지, Ellip-SE)장비를 이용하여 측정하였다.(2) Refractive index of the adhesive layer: To measure the refractive index of the adhesive layer, the adhesive layer is coated with a certain thickness on the substrate, dried and UV cured to form a coating layer, and then measured using an ellipsometer (Ellipso Technology, Ellip-SE) equipment. did.

(3) 배리어필름의 배리어성 측정: WVTR 값을 측정하기 위해 MOCON Permatran-W700 장비를 이용하여 온도 37.8℃, 습도 100% 조건에서 배리어성을 측정하였다. (3) Barrier property measurement of barrier film: In order to measure the WVTR value, the barrier property was measured at a temperature of 37.8° C. and a humidity of 100% using a MOCON Permatran-W700 equipment.

(4) 배리어필름의 배리어성 균일도 측정: Roll 샘플의 MD 방향으로 초단, 중단, 말단의 샘플을 MOCON Permatran-W700 장비를 이용하여 온도 37.8℃, 습도 100% 조건에서 배리어성을 측정하여 균일도(%, 식 = ((MAX-MIN)/2*Average)*100)를 확인해 보았다. (4) Barrier uniformity measurement of barrier film: Measure the barrier properties of the first, middle, and end samples in the MD direction of the roll sample at 37.8℃ and 100% humidity using the MOCON Permatran-W700 equipment to measure the uniformity (%) , the formula = ((MAX-MIN)/2*Average)*100) was checked.

(5) 배리어필름의 광학적 특성 측정: Haze- meter(HM-150) 장비를 이용하여 투과도 및 헤이즈 값을 특정 하였다. (5) Measurement of optical properties of barrier film: Transmittance and haze values were specified using a haze-meter (HM-150).

(6) 내 굴곡성 확인: Barrier Film 양쪽에 500g 하중을 걸어준 후, 직경 4mm 봉에 달아 1분간 굽힌 후 Barrier 특성 확인 하였다. (6) Flexural resistance check: After applying a load of 500 g to both sides of the barrier film, attach it to a rod with a diameter of 4 mm, bend it for 1 minute, and check the barrier properties.

배리어 필름의 구조Structure of barrier film 접착층 굴절률 adhesive layer refractive index 실시예 1Example 1 기재 write 접착층adhesive layer 무기층inorganic layer 기재write -- -- -- -- 1.561.56 실시예 2Example 2 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC -- -- 1.561.56 실시예 3Example 3 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 무기층inorganic layer 기재write -- 1.561.56 실시예 4Example 4 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC 1.561.56 실시예 5Example 5 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC 1.561.56 실시예 6Example 6 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC 1.561.56 실시예 7Example 7 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC 1.561.56 실시예 8Example 8 기재 write 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer 접착층adhesive layer 기재write 무기층inorganic layer OCOC 1.561.56 비교예 1Comparative Example 1 기재write 무기층inorganic layer -- -- -- -- -- -- -- 비교예 2Comparative Example 2 기재write 무기층inorganic layer OCOC -- -- -- --

QD 레진과의 접착력, Peel Test (gf/25mm) Adhesion with QD resin, Peel Test (gf/25mm) 기재 와 기재 or 무기층과 기재의 접착력 Peel Test (gf/25mm)Adhesion Peel Test between substrate and substrate or inorganic layer and substrate (gf/25mm) Barrier 특성 (WVTR, g/㎡*day)Barrier properties (WVTR, g/㎡*day) Barrier 특성 균일도(%)Barrier characteristic uniformity (%) 광학적 특성
(Tt, %)
optical properties
(Tt, %)
내 굴곡성 후 Barrier 특성 (WVTR, g/㎡*day) Barrier properties after bending resistance (WVTR, g/m2*day)
실시예 1Example 1 2222 피착파괴destruction 0.10.1 55 8888 0.10.1 실시예 2Example 2 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.10.1 44 8888 0.10.1 실시예 3Example 3 2020 피착파괴destruction 0.050.05 66 9090 0.050.05 실시예 4Example 4 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.050.05 55 9191 0.050.05 실시예 5Example 5 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.040.04 55 9191 0.040.04 실시예 6Example 6 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.050.05 44 9090 0.050.05 실시예 7Example 7 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.050.05 66 9090 0.050.05 실시예 8Example 8 피착파괴destruction 피착파괴destruction 0.060.06 44 9191 0.060.06 비교예 1Comparative Example 1 2222 '-'- 5 ~0.15 to 0.1 2020 8888 '-'- 비교예 2Comparative Example 2 피착파괴destruction '-'- 0.9 ~ 0.10.9 to 0.1 1010 8888 '-'-

* 균일도(%)의 경우 낮은 값을 가질수록 균일도가 좋은 것임. * In the case of uniformity (%), the lower the value, the better the uniformity.

표 1 및 2의 결과를 통해 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 8의 경우, 기재와 기재사이의 접착력은 피착파괴 수준이며, 균일도 10% 이하, 광학적 특성은 88% 이상의 특성을 가지고, 내굴곡성 후에도 Barrier 특성이 유지됨을 볼수 있음. 실시예 3 내지 8의 경우, 실시예 1 내지 2 와 다른 점은 무기층이 1층 더 있음으로 해서 Barrier 성능이 좋아지며, 또한 접착제의 두께를 얇게 코팅하여 더 높은 투과도 특성을 나타냄을 알 수 있었다. As can be seen from the results of Tables 1 and 2, in the case of Examples 1 to 8, the adhesion between the substrate and the substrate is at the level of adhesion failure, the uniformity is 10% or less, and the optical characteristic has a characteristic of 88% or more, It can be seen that the barrier properties are maintained even after flexibility. In the case of Examples 3 to 8, the difference from Examples 1 to 2 is that the barrier performance is improved due to the presence of one more inorganic layer, and it can be seen that the thickness of the adhesive is thinly coated to exhibit higher transmittance characteristics. .

그러나 비교예 1의 경우 무기층을 지지해주는 접착층, 기재가 없어 Barrier 특성이 범위를 가지며, 또한 균일도도 20%로 높은 것을 볼 수 있으며, 비교예 2의 경우 무기층 위에 오버코팅층으로 인해 QD레진과의 접착력은 가지지만, 비교예 1과 같은 특성을 가지고 있었다. However, in the case of Comparative Example 1, there is no adhesive layer or substrate supporting the inorganic layer, so it has a range of barrier properties, and it can be seen that the uniformity is also high as 20%. Although it has the adhesive force of , it had the same characteristics as Comparative Example 1.

A, A': 배리어층 A, A': barrier layer

Claims (19)

기재층 및 무기물층으로 이루어진 배리어층; 및 상기 배리어층의 어느 일면에 접착층 및 기재층이 적층되고, 상기 접착층 및 기재층이 적층되는 순서가 상기 배리어층으로부터 순차적으로 접착층과 기재층이 적층된 것을 포함하고,
상기 접착층 및 기재층이 적층된 배리어층의 다른 일면에 접착층, 별도의 배리어층 및 오버코팅층이 순차적으로 적층되며,
상기 접착층은 UV 경화형 수지; 및 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 25중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
a barrier layer comprising a substrate layer and an inorganic material layer; and an adhesive layer and a substrate layer are laminated on any one surface of the barrier layer, and the order in which the adhesive layer and the substrate layer are laminated includes that the adhesive layer and the substrate layer are sequentially laminated from the barrier layer,
An adhesive layer, a separate barrier layer and an overcoat layer are sequentially laminated on the other side of the barrier layer on which the adhesive layer and the base layer are laminated,
The adhesive layer is a UV curable resin; and 0.5 to 25 parts by weight of a photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 기재층은 환상 올리핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지), 폴리메타아크릴계 수지, 폴리카보네이트계수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이츠를 포함하는 폴리에스테르계 수지, 나일론을 포함하는 폴리아마이드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 아세탈계 수지, 셀룰로오스계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.According to claim 1, wherein the base layer is a cyclic olipine-based resin, polystyrene-based resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polymethacrylic resin, Any one selected from the group consisting of a polycarbonate-based resin, a polyester-based resin including polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, a polyamide-based resin including nylon, a polyurethane-based resin, an acetal-based resin, and a cellulose-based resin A barrier film comprising the above. 제1항에 있어서, 상기 무기물층은 규소(Si), 알루미늉(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화진화물, 산화 탄화물, 질화탄화물, 산화질화탄화물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.According to claim 1, wherein the inorganic layer is silicon (Si), aluminum (Al), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), zirconium (Zr), titanium (Ti), copper (Cu) , cerium (Ce), yttrium (Yt), lanthanum (La), barium (Ba), magnesium (Mg), fluorine (F2), antimony (Sb), strontium (Sr) and tantalum (Ta) selected from the group consisting of A barrier film comprising at least one inorganic material selected from the group consisting of oxides, nitrides, carbides, oxynitrides, oxidized carbides, nitrided carbides, and oxynitrided carbides containing one or more metals. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 UV 경화형 수지는 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌, 비스페놀 A 및 비스페놀 A 유도체가 포함괸 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The method of claim 1, wherein the UV curable resin includes epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norborene, polystyrene, ethylene-styrene, bisphenol A and bisphenol A derivatives, including acrylates and fluorene derivatives. Acrylate, isobornyl acrylate, polyphenylalkylsiloxane, urethane acrylate oligomer, dipentaerythritol pentaacrylate, comprising any one or more selected from the group consisting of trihydroxyethyl isocyanurate triacrylate barrier film. 제1항에 있어서, 상기 광개시제는 벤조페논계열, 티옥산톤 계열, 하이드록시 케톤 및 알파 아미노 케톤 계열로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The barrier film according to claim 1, wherein the photoinitiator is selected from the group consisting of benzophenone series, thioxanthone series, hydroxy ketone series, and alpha amino ketone series. 제1항에 있어서, 상기 접착층은 0.1 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The barrier film according to claim 1, wherein the adhesive layer has a thickness of 0.1 to 100 µm. 제1항에 있어서, 상기 접착층은 굴절률 값이 1.3 내지 2.1인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The barrier film according to claim 1, wherein the adhesive layer has a refractive index value of 1.3 to 2.1. 제1항에 있어서, 상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지, 열가소성 수지 및 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The barrier film according to claim 1, wherein the overcoat layer comprises a UV curable resin, a thermoplastic resin, and a photoinitiator. 제12항에 있어서, 상기 UV 경화형 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 규소 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.13. The method of claim 12, wherein the UV curable resin is selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate polyurethane, a polyester polyurethane, a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, and a silicon resin. A barrier film comprising any one or more. 제12항에 있어서, 상기 열가소성 수지는 우레탄계 수지, 우레탄계 수지 및 폴리에테르계 수지의 공중합체, 우레탄계 수지 및 폴리에스테르계 수지의 공중합체, 폴리에스테르계 수지 및 폴리비닐부틸틀로라이드계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.13. The method of claim 12, wherein the thermoplastic resin is a urethane-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyether-based resin, a copolymer of a urethane-based resin and a polyester-based resin, a polyester-based resin, and a polyvinylbutyltloride-based resin. A barrier film comprising any one or more selected from the group. 제12항에 있어서, 상기 오버코팅층은 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 열가소성 수지 50 내지 500중량부, 광개시제 0.5 내지 20중량부로 포함하는 것을 특징으로 하는 배리어 필름.The barrier film according to claim 12, wherein the overcoating layer comprises 50 to 500 parts by weight of the thermoplastic resin and 0.5 to 20 parts by weight of the photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin. 기재층의 어느 일면에 무기물층을 적층시켜 배리어층을 형성하는 단계 (S1);
상기 형성된 배리어층의 어느 일면에 접착층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 접착층을 형성한 후 상기 형성된 접착층의 상부에 기재층을 적층시키는 단계 (S2);
상기 S1 단계에서 형성된 배리어층의 다른 일면에 접착층을 웨트코팅(Wet Coating)한 후, 상기 코팅된 접착층의 상부에 별도의 배리어층을 적층시키는 단계(S4); 및
상기 S4 단계에서 형성된 별도의 배리어층의 상부에 오버코팅층 조성물을 웨트코팅(Wet Coating)하여 오버코팅층을 형성하는 단계(S3)를 포함하며,
상기 접착층 조성물은 UV 경화형 수지; 및 UV 경화형 수지 100중량부를 기준으로 하여 광개시제 0.5 내지 25중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 배리어 필름의 제조방법.
forming a barrier layer by laminating an inorganic material layer on any one surface of the base layer (S1);
Wet coating an adhesive layer composition on one surface of the formed barrier layer to form an adhesive layer, and then laminating a base layer on the formed adhesive layer (S2);
After wet coating the adhesive layer on the other side of the barrier layer formed in step S1, laminating a separate barrier layer on top of the coated adhesive layer (S4); and
Including a step (S3) of forming an overcoat layer by wet coating an overcoating layer composition on top of the separate barrier layer formed in step S4;
The adhesive layer composition is a UV curable resin; and 0.5 to 25 parts by weight of a photoinitiator based on 100 parts by weight of the UV curable resin.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020160082606A 2016-06-30 2016-06-30 The barrier film and manufacturing method thereof KR102327593B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160082606A KR102327593B1 (en) 2016-06-30 2016-06-30 The barrier film and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160082606A KR102327593B1 (en) 2016-06-30 2016-06-30 The barrier film and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180003143A KR20180003143A (en) 2018-01-09
KR102327593B1 true KR102327593B1 (en) 2021-11-16

Family

ID=61000775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160082606A KR102327593B1 (en) 2016-06-30 2016-06-30 The barrier film and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102327593B1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102238878B1 (en) 2018-04-25 2021-04-12 주식회사 엘지화학 Barrier film
KR102346652B1 (en) * 2020-06-18 2022-01-03 도레이첨단소재 주식회사 Solar barrier film and electrochemical device including the same
WO2022145786A1 (en) * 2020-12-28 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 Moisture and oxygen barrier laminate with improved durability and flexibility
JP7025585B1 (en) * 2021-03-18 2022-02-24 大日本印刷株式会社 Barrier film for wavelength conversion sheet, wavelength conversion sheet using this, backlight and liquid crystal display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006162848A (en) * 2004-12-06 2006-06-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Color filter for display device, color filter member, and method of manufacturing color filter for display device
JP3931389B2 (en) 1997-08-19 2007-06-13 凸版印刷株式会社 Gas barrier laminated film
JP2012213937A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Mitsubishi Plastics Inc Moisture-proof laminate sheet
KR101335268B1 (en) * 2013-08-20 2013-11-29 (주)아이컴포넌트 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof
JP2015208972A (en) 2014-04-30 2015-11-24 積水化学工業株式会社 Laminated barrier film

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008059925A1 (en) * 2006-11-16 2008-05-22 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas barrier film laminate
US20150367602A1 (en) * 2013-02-15 2015-12-24 Lintec Corporation Gas barrier film laminate, production method therefor, and electronic device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3931389B2 (en) 1997-08-19 2007-06-13 凸版印刷株式会社 Gas barrier laminated film
JP2006162848A (en) * 2004-12-06 2006-06-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Color filter for display device, color filter member, and method of manufacturing color filter for display device
JP2012213937A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Mitsubishi Plastics Inc Moisture-proof laminate sheet
KR101335268B1 (en) * 2013-08-20 2013-11-29 (주)아이컴포넌트 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof
JP2015208972A (en) 2014-04-30 2015-11-24 積水化学工業株式会社 Laminated barrier film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180003143A (en) 2018-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6136444A (en) Transparent conductive sheet
US10288782B2 (en) Infrared reflective film
KR102327593B1 (en) The barrier film and manufacturing method thereof
JP6853779B2 (en) Radiation curable composition containing hydrophilic nanoparticles
EP3040200A1 (en) Plastic film laminate
JP2022177044A (en) Hard coating film and flexible display window including touch sensor using the same and image display device using the same
US20150156866A1 (en) Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
JP5752438B2 (en) Gas barrier film
KR101854156B1 (en) Hard coating film and polarizing plate and image display device comprising the same
JP5585359B2 (en) Optical laminate and surface light source device
KR101989870B1 (en) Plastic film for display
KR20180035093A (en) Composition for antireflection film, antireflection film prepared from the same, polarizing plate comprising the same and optical display apparatus comprising the same
KR101470468B1 (en) Plastic film
WO2018181181A1 (en) Transparent conductive gas barrier laminate and device provided with same
KR102346652B1 (en) Solar barrier film and electrochemical device including the same
JP6603595B2 (en) Transparent conductive film and touch panel, and method for producing transparent conductive film
CN110637504A (en) Organic electroluminescent laminate
KR102502398B1 (en) Composition for forming hard coating and hard coating film using the same
JP5778724B2 (en) Laminated polyester film
KR102159866B1 (en) Barrier film for display and manufacturing method thereof
JP7154738B2 (en) transparent laminate
WO2019116900A1 (en) Ionizing radiation-curable resin composition, protective coating of gas barrier layer using same, and laminated gas barrier film using said resin composition and protective coating
US20180275327A1 (en) Light-transmitting laminate and method for producing light-transmitting laminate
EP4184223A1 (en) Optical laminate and article
KR20120088955A (en) Composite film for electrostatic capacity type touch screen panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant