KR20120088955A - Composite film for electrostatic capacity type touch screen panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A composite film for electrostatic capacity type touch screen panel is provided to integrate adhesive layers which does not include acid, thereby obtaining electrical stability by preventing oxidation of a silver layer. CONSTITUTION: A composite film for electrostatic capacity type touch screen panel comprises a base film, a coating layer and an adhesive layer(4). In the coating layer, the refractive indexes which are successively coated on the base film are different. The top layer of the coating layer is composed of low refractive index layers having the refractive index of 1.31-1.40. The low refractive index layer has an average specular reflectance of 0.1-1.5% at 5 degrees angle of incidence among the 480-680 nano meters wavelength area. The adhesive layer is formed in the opposite surface of the base film in which a coating layer is formed. The adhesive layer is spread by the adhesive composition which includes a urethane based copolymer resin, a hardening agent and a silane coupling agent.

Description

정전용량방식 터치패널용 복합필름{COMPOSITE FILM FOR ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL}Composite film for capacitive touch panel {COMPOSITE FILM FOR ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL}

본 발명은 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로서, 화질을 향상시킬 수 있고, 또한 산을 포함하지 않는 점착층을 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층의 산화를 방지함으로써 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 할 수 있는 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것이다.The present invention relates to a composite film for a capacitive touch panel, and more particularly, by minimizing reflection by light emitted from a BLU of an LCD and improving transmittance, the image quality can be improved, and also no acid is included. A composite film for capacitive touch panels that can simplify the process and reduce the cost while ensuring electrical stability by preventing oxidation of the ITO layer of the ITO film and the silver (Ag) layer of the lead wire by integrating a non-adhesive layer. will be.

일반적으로, 터치스크린패널(Touch Screen Panel)은 디스플레이 장치의 표면에 장착되어 사용자의 손가락 또는 터치펜 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하여 출력하는 장치로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), EL(Electro-luminescence)소자 등에 응용되고 있다.In general, a touch screen panel is a device mounted on a surface of a display device and converting a physical contact of a user's finger or touch pen into an electrical signal and outputting the electrical signal. A liquid crystal display and a plasma It is applied to a Plasma Display Panel, an EL (Electro-luminescence) device, and the like.

이와 같은 터치패널은 동작 원리에 따라 크게 정전용량 방식, 저항막 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분되며, 이중 정전용량 방식과 저항막 방식이 현재 널리 이용되고 있다. 최근에는, 저항막 방식에 비교하여 내구성 및 투과율 측면에서 특성이 우수한 정전용량 방식이 각광받고 있다.The touch panel is classified into a capacitive type, a resistive film type, an ultrasonic type, an infrared type, and the like according to an operating principle, and a double capacitive type and a resistive film type are currently widely used. In recent years, the electrostatic capacitive method which is excellent in a characteristic with respect to durability and a transmittance | permeability compared with a resistive film system is attracting attention.

이러한 정전용량 방식 터치패널의 구조를 살펴보면 도 1과 같다. 도 1은 종래 기술에서 진보된 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이 터치패널용 글라스 위의 엣지(Edge)부위에 인쇄층(2)이 있고 그 위에 증착된 ITO층(1)이 있는데, 이러한 ITO층(1)을 증착한 후 에칭을 통해 패턴을 형성하고 양끝부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널이 제작된다. 도 1에서 식별번호 "9"는 본 발명의 일 실시예에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름으로서 후술한다.Looking at the structure of the capacitive touch panel as shown in FIG. 1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention advanced in the related art is applied. As shown in FIG. 1, there is a printed layer 2 on the edge of the glass for the touch panel and an ITO layer 1 deposited thereon. After depositing the ITO layer 1, etching is performed. Through the formation of a pattern, the Ag layer 3, which is a leader line, is raised on both ends thereof, thereby producing a capacitive touch panel. In Figure 1, the identification number "9" is described later as a composite film for a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention.

또한 화질향상 필름의 점착층이 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생하고 있다. 또한 일반적인 점착층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착층은 ITO필름과 합지하게 되면, 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 또한 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주가공으로 진행하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제가 많이 대두되고 있는 실정이다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer of the image quality improvement film is laminated with the ITO layer, which is an inorganic substrate, and a general problem occurs in that the pressure-sensitive adhesive has a low adhesive strength with respect to the inorganic substrate. In addition, the general adhesive layer contains an acid in the functional group, and if the adhesive layer including the acid is laminated with the ITO film, the silver (Ag) layer of the ITO layer and the leader line is oxidized over time, thereby deteriorating the electrical stability. Occurs. In addition, in the touch panel industry, quality improvement film and adhesive film are purchased separately, and the lamination process is outsourced.Because the two films are purchased separately, management problems and defect management problems occurring during outsourcing (lamination) are high. There are many problems such as price and low yield.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 표면 반사율을 최소화시킴과 동시에 투과율을 향상시켜 화질을 개선할 수 있고, ITO 및 인출선(Ag paste) 층의 산화를 방지함과 동시에, 무기물 기재인 ITO 필름과의 기재 밀착력을 향상시킬 수 있는 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to minimize the surface reflectance and at the same time improve the transmittance to improve the image quality, oxidation of ITO and Ag paste layer The present invention is to provide a composite film for a capacitive touch panel that can prevent and at the same time improve the adhesion of the substrate with the ITO film, which is an inorganic substrate.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.

상기 목적은, 투명한 기재필름과 상기 기재필름 상에 순차적으로 코팅된 굴절률이 다른 2층 이상의 코팅층으로서, 상기 코팅층의 최상층은 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층으로 이루어진 코팅층과 상기 코팅층이 형성된 상기 기재필름의 반대 면에 형성된 점착층으로서, 우레탄계 공중합체 수지와 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 의해 달성된다.The object is a transparent base film and two or more coating layers having different refractive indices sequentially coated on the base film, wherein the top layer of the coating layer is a coating layer consisting of a low refractive index layer having a refractive index of 1.31 to 1.40 and the substrate having the coating layer formed thereon. A pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite side of the film is achieved by a composite film for a capacitive touch panel comprising a pressure-sensitive adhesive layer coated with a pressure-sensitive adhesive composition comprising a urethane-based copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent.

여기서, 상기 저굴절율층은 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 0.1~1.0%의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 갖는 것을 특징으로 한다.Here, the low refractive index layer is characterized by having an average specular reflectance (average specular reflectance) of 0.1 ~ 1.0% at a 5 ° incidence angle in the wavelength range of 480 to 680 nm.

바람직하게는, 상기 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.5% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the transmittance and haze of the capacitive touch panel composite film are 93.5% or more and 1.5% or less, respectively.

바람직하게는, 상기 저굴절율층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the water contact angle of the low refractive index layer is characterized in that less than 85 °.

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지와 상기 경화제는 애시드 프리(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 한다.Preferably, the urethane-based copolymer resin and the curing agent has an acid free functional group, the adhesive layer is characterized in that the wet coating.

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 형성 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 한다.Preferably, the current change rate of the base film after the formation of the pressure-sensitive adhesive layer coated with the pressure-sensitive adhesive composition containing the urethane-based copolymer resin is characterized in that less than 20%.

바람직하게는, 상기 실란커플링제는 상기 우레탄계 공중합체 수지(고형분 함량 기준) 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the silane coupling agent is characterized in that it comprises 0.01 to 1 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer resin (based on solids content).

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착제 조성물의 점착력은 2 내지 25N/25mm인 것을 특징으로 한다.Preferably, the coating thickness of the pressure-sensitive adhesive layer coated with the pressure-sensitive adhesive composition containing the urethane-based copolymer resin is 10 to 100㎛, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition is characterized in that 2 to 25N / 25mm.

바람직하게는, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.Preferably, the base film is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film or a polyethylene (PE) film.

본 발명에 따르면, LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로서, 화질을 향상시킬 수 있고, 또한 산을 포함하지 않는 점착층을 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층의 산화를 방지함으로써 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 할 수 있는 등의 효과를 가진다.According to the present invention, the image quality can be improved by minimizing the reflection by the light emitted from the BLU of the LCD and improving the transmittance, and by integrating the adhesive layer containing no acid, the ITO layer and the leader line of the ITO film By preventing the oxidation of the silver (Ag) layer, it has the effect of securing electrical stability and simplifying the process and reducing the cost.

도 1은 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도.
도 2는 전류 변화량 확인실험을 위한 도식도.
1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is applied.
Figure 2 is a schematic diagram for the current change amount confirmation experiment.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

일반적인 투명한 기재필름과 하드코팅층을 가진 필름의 경우 표면의 반사율이 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 3 ~ 5% 의 평균 경면 반사율(avergae specular reflectance)을 가지기 때문에, 외부 광원에 의한 반사율이 높아서 표면에서 반사가 많이 이루어져 반사된 빛에 의해 디스플레이의 화질을 떨어뜨리는 문제가 발생하게 된다. 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 투명한 기재필름 상에 굴절률이 서로 다른 2층 이상의 코팅층을 구성하고, 최상층에는 방오 성분이 포함되어 있지 않는 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층을 구성함으로써, 외부에서 들어오는 빛을 다층의 굴절률 조절층을 통해 표면 반사율을 최소화시킴과 동시에 투과율을 향상시켜 화질을 개선하였다.In the case of a general transparent base film and a film having a hard coating layer, reflectance by an external light source is because the reflectance of the surface has an average specular reflectance of 3 to 5% at a 5 ° incidence angle in a wavelength region of 480 to 680 nm. Due to this high reflection surface is a lot of problems caused by the reflected light to degrade the display quality. In order to solve the above problems, the capacitive touch panel composite film according to the present invention comprises a coating layer having two or more layers having different refractive indices on a transparent base film, and a refractive index of 1.31 having no antifouling component at the top layer. By constructing a low refractive index layer of ~ 1.40, the image quality was improved by minimizing the surface reflectance through the multi-layered refractive index control layer while improving the transmittance.

또한, 화질향상필름의 점착제층은 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 경화제를 포함한 점착제 조성물에 ITO층과 수소결합을 이룰 수 있는 실란커플링제를 부가하여, ITO층과의 밀착력을 향상시킴으로써, 점착력을 개선하였다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer of the image quality improvement film is laminated with the ITO layer, which is an inorganic substrate, and a general problem occurs in that the pressure-sensitive adhesive is lowered with respect to the inorganic substrate. In order to improve the problems described above, the capacitive touch panel composite film according to the present invention adds a silane coupling agent capable of forming a hydrogen bond with the ITO layer to an adhesive composition including a curing agent, thereby improving adhesion to the ITO layer. By doing so, the adhesive force was improved.

또한, 일반적인 점착제층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착제층을 ITO필름과 합지하게 되는데, 이런 경우 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 점착제층에 포함되는 우레탄 공중합체 수지의 관능기를 하이드록시기로 도입하고, 경화제를 이소시아네이트계로 설계함으로써, 전기적 안정성을 확보하였다.In addition, the general pressure-sensitive adhesive layer contains an acid in the functional group, and the pressure-sensitive adhesive layer containing the acid is laminated with the ITO film. In this case, the silver (Ag) layer of the ITO layer and the leader line is oxidized over time, thereby decreasing electrical stability. A floating problem occurs. In order to solve the above problems, the capacitive touch panel composite film according to the present invention is introduced into the hydroxyl group of the functional group of the urethane copolymer resin included in the pressure-sensitive adhesive layer, by designing the curing agent isocyanate-based, electrical stability is improved Secured.

또한, 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주 가공하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제점이 대두되고 있는 실정이므로 본 발명에서는 상기 두 필름을 일체화함으로써, 상기와 같은 문제를 해결하였다.In addition, in the touch panel industry, the quality improvement film and the adhesive film are purchased separately, and the lamination process is outsourced.Because the two films are purchased separately, management problems, defect management problems during outsourcing (lamination), and high price In the present invention, the above problems are solved by integrating the two films.

따라서 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 화질향상, 산화방지 및 비산방지의 기능을 할 수 있는 복합 기능을 가진 필름이 되는 것이다. Therefore, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention will be a film having a composite function capable of improving the image quality, preventing oxidation and scattering.

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도인 도 1로부터 확인할 수 있는 바와 같이, 터치패널용 글라스 위의 엣지(Edge)부위에 인쇄층(2)이 있고 그 위에 증착된 ITO층(1)이 있는데, 이러한 ITO층(1)을 증착한 후 에칭을 통해 패턴을 형성하고 양끝부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널이 제작되므로 하판에 ITO층 및 Ag층이 오게 된다. 따라서 위 두층(ITO층 및 Ag층)은 공기(산소) 중에 노출되면 산화되는 특성으로 인해, 전기전도도가 나빠지는 단점이 있다. 이를 보완하기 위해 ITO및 Ag층을 보호하는 또 하나의 보호막을 형성하게 되는데, 이 보호막인 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제공하는 것이 본 발명의 목적이 된다. 이러한 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 구조는 플라스틱 기재(5)위에 ITO및 Ag층의 산화방지를 위해 산(acid)을 포함하지 않는 점착층(4)을 형성하고, 그 반대 면에 투과율과 시인성을 좋게 하는 반사방지기능을 부여하기 위해 고굴절율층(6)과 저굴절율층(7)과 같은 굴절률이 서로 다른 2층 이상의 코팅층을 포함한다.As can be seen from FIG. 1, which is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is applied, a printed layer 2 on an edge portion of a glass for a touch panel. There is an ITO layer (1) deposited on it, and after depositing such an ITO layer (1) to form a pattern by etching, and the lead layer Ag layer (3) is raised on both ends of the capacitive touch panel As it is manufactured, the ITO layer and the Ag layer come on the lower plate. Therefore, the upper two layers (ITO layer and Ag layer) has a disadvantage in that the electrical conductivity worsens due to the property of being oxidized when exposed to air (oxygen). In order to compensate for this, another protective film is formed to protect the ITO and Ag layers, and it is an object of the present invention to provide a composite film for a capacitive touch panel as the protective film. The structure of the composite film for a capacitive touch panel is to form a pressure-sensitive adhesive layer (4) containing no acid to prevent oxidation of the ITO and Ag layers on the plastic substrate (5), and the transmittance and In order to provide the antireflection function which improves visibility, two or more coating layers having different refractive indices such as the high refractive index layer 6 and the low refractive index layer 7 are included.

이하 본 발명의 구성요소에 대해 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter will be described in detail with respect to the components of the present invention.

1. 고굴절의 고경도층 제조1. High Hardness Layer Fabrication

1.1 고굴절의 고경도층1.1 High Refractive Hardness Layer

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 필수 박막층인 고굴절의 고경도층의 굴절률은 1.50 내지 1.60이며, 보다 바람직하게는 1.52 내지 1.56이다. 이러한 고굴절의 고경도층을 형성하는 방법으로서, 화학 기상 증착 (CVD) 또는 물리 기상 증착 (PVD), 특히 물리 기상 증착법의 한 종류인 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 산화물의 투명 박막을 사용할 수도 있지만, 올-웨트 코팅 (all-wet coating) 에 의해 형성된 박막이 바람직하다.The refractive index of the highly refractive high hardness layer, which is an essential thin film layer of the capacitive touch panel composite film according to the present invention, is 1.50 to 1.60, more preferably 1.52 to 1.56. As a method for forming such a high refractive index hard layer, a transparent thin film of an inorganic oxide formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), in particular vacuum deposition or sputtering, which is a kind of physical vapor deposition, may be used. Thin films formed by all-wet coating are preferred.

또한, 고굴절의 고경도층은 Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al 및 Sb에서 선택되는 적어도 하나의 금속의 산화물을 포함하는 무기 미립자와 음이온성 분산제와 3관능 이상의 중합성기를 함유하는 경화성 수지(이후, "바인더"라고 칭하는 경우도 있음)와 중합개시제 및 용매를 함유하는 코팅 조성물을 도포하고, 용매를 건조하고, 가열 및 전리 방사선의 조사 중 하나의 수단 또는 양쪽 수단에 의해 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 경화성 수지 또는 개시제를 사용하는 경우, 경화성 수지는 코팅 이후 가열 및 또는 전리 방사선의 영향에 의한 중합 반응을 통해 경화되므로, 내찰상성 및 접착성이 우수한 고굴절의 고경도층을 형성할 수 있다.In addition, the highly refractive high hardness layer is curable resin containing inorganic fine particles including an oxide of at least one metal selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al, and Sb, an anionic dispersant, and a trifunctional or higher functional polymer. (Hereinafter also referred to as "binder"), by coating a coating composition containing a polymerization initiator and a solvent, drying the solvent, and curing the coating by one or both means of heating and irradiation of ionizing radiation. It is preferably formed. In the case of using the curable resin or the initiator, the curable resin is cured through a polymerization reaction under the influence of heating and / or ionizing radiation after coating, thereby forming a high refractive index high hardness layer excellent in scratch resistance and adhesion.

1.2 무기 미립자1.2 Inorganic Particulates

무기 미립자로는 금속 (예컨대, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, Al) 의 산화물이 바람직하고, 굴절률 관점에서, 산화지르코늄의 미립자가 가장 바람직하다. 그러나, 도전성의 관점에서, Sb, In 및 Sn 중 적어도 하나의 금속의 산화물을 주성분으로 하는 무기 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 굴절률은 무기 미립자의 양을 변경함으로써 소정 범위로 조정될 수 있다. 산화지르코늄을 주성분으로서 사용하는 경우, 층내의 무기 미립자의 평균 입자직경은 1 내지 120nm가 바람직하고, 1 내지 60nm가 더욱 바람직하고, 2 내지 40nm가 더욱 더 바람직하다. 이 범위는 헤이즈를 감소시키고 분산 안정성 및 표면상의 적절한 요철에 의해 상부층으로의 접착성을 개선하기 때문에 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 산화지르코늄을 주성분으로서 포함하는 무기 미립자의 굴절률은 1.90 내지 2.80이 바람직하고, 2.10 내지 2.80이 더욱 바람직하고, 2.20 내지 2.80이 가장 바람직하다. 무기 미립자의 첨가량은 무기 미립자가 첨가되는 층에 따라 다르며, 고굴절층에서의 첨가량은 전체 고굴절층의 고형분에 대하여 40 내지 85질량%이고, 50 내지 75질량%가 바람직하고, 60 내지 70질량%가 더욱 바람직하다. 무기 미립자의 입자직경은 광산란법 또는 전자 현미경 사진에 의해 측정될 수 있다. 무기 미립자의 비표면적은 10 내지 400㎡/g이 바람직하고, 20 내지 200㎡/g이 더욱 바람직하고, 30 내지 150㎡/g이 가장 바람직하다.As the inorganic fine particles, oxides of metals (eg, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, Al) are preferable, and fine particles of zirconium oxide are most preferable in terms of refractive index. However, from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use inorganic fine particles mainly composed of an oxide of at least one metal of Sb, In and Sn. The refractive index can be adjusted to a predetermined range by changing the amount of the inorganic fine particles. When using zirconium oxide as a main component, 1-120 nm is preferable, as for the average particle diameter of the inorganic fine particle in a layer, 1-60 nm is more preferable, and its 2-40 nm are still more preferable. This range is desirable because it reduces haze and improves adhesion to the top layer by dispersion stability and proper irregularities on the surface. The refractive index of the inorganic fine particles containing zirconium oxide as a main component used in the present invention is preferably 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and most preferably 2.20 to 2.80. The addition amount of the inorganic fine particles varies depending on the layer to which the inorganic fine particles are added, and the addition amount in the high refractive layer is 40 to 85% by mass, preferably 50 to 75% by mass, and 60 to 70% by mass relative to the solids of the entire high refractive layer. More preferred. The particle diameter of the inorganic fine particles can be measured by light scattering or electron micrographs. The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably 20 to 200 m 2 / g, and most preferably 30 to 150 m 2 / g.

분산액 또는 코팅 용액에서의 분산을 안정화하거나 또는 바인더 성분과의 친화성 또는 결합성을 향상시키기 위해, 무기 미립자에 대해 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리, 또는 계면활성제, 커플링제 등에 의한 화학적 표면 처리를 실시할 수도 있다. 커플링제를 사용하는 것이 특히 바람직하다. In order to stabilize the dispersion in the dispersion or coating solution or to improve the affinity or binding property with the binder component, physical surface treatments such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, or surfactants, coupling agents and the like are applied to the inorganic fine particles. Chemical surface treatment can also be performed. Particular preference is given to using coupling agents.

상기 커플링제로서, 알콕시 금속 화합물 (예컨대, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제) 을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 아크릴로일 또는 메타크릴로일기를 갖는 실란 커플링제에 의한 처리가 효과적이다. 무기 미립자의 화학적 표면 처리제, 용매, 촉매 및 분산 안정제는 JP-A-2006-17870의 단락 [0058] 내지 [0083]에 기재되어 있다.As said coupling agent, it is preferable to use an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent and a silane coupling agent). In particular, the treatment with a silane coupling agent having an acryloyl or methacryloyl group is effective. Chemical surface treating agents, solvents, catalysts and dispersion stabilizers of inorganic fine particles are described in paragraphs [0058] to [0083] of JP-A-2006-17870.

1.3 경화성 수지1.3 Curable Resin

경화성 수지로는 중합성 화합물이 바람직하고, 중합성 화합물로서, 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머를 사용하는 것이 바람직하다. 이 화합물 중의 관능기로는 광-, 전자선- 또는 방사선-중합성 관능기가 바람직하고, 광중합성 관능기가 더욱 바람직하다.As curable resin, a polymeric compound is preferable and it is preferable to use an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer as a polymeric compound. As a functional group in this compound, a photo-, electron beam-, or radiation-polymerizable functional group is preferable, and a photopolymerizable functional group is more preferable.

광중합성 관능기의 예로는, (메타)아크릴기, 비닐기, 스티릴기 및 알릴기와 같은 불포화 중합성 관능기를 포함한다. 이 중에서도, (메타)아크릴기가 바람직하다.Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as (meth) acryl group, vinyl group, styryl group and allyl group. Among these, a (meth) acryl group is preferable.

광중합성 관능기를 갖는 광중합성 다관능 모노머의 구체예로는: 네오펜틸 글리콜 아크릴레이트, 1,6-헥산디올 (메타)아크릴레이트 및 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트와 같은 알킬렌 글리콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트 및 폴리프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트와 같은 폴리옥시알킬렌 글리콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트와 같은 다가 알콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 및 2,2-비스{4-아크릴옥시ㅇ디에톡시)페닐}프로판 및 2-2-비스{4-(아크릴옥시?폴리프로폭시)페닐}프로판과 같은 에틸렌 산화물 또는 프로필렌 산화물 부가물의 (메타)아크릴산 디에스테르류를 포함한다.Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group include (meth) of alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) acrylate. ) Acrylic acid diesters; (Meth) acrylic acid of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate Diesters; (Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; And (meth) ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4-acryloxydiethoxy) phenyl} propane and 2-2-bis {4- (acryloxypolypropoxy) phenyl} propane Acrylic acid diesters are included.

또한, 에폭시 (메타)아크릴레이트류, 우레탄 (메타)아크릴레이트류 및 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트류도 광중합성 다관능 모노머로서 바람직하게 사용된다.In addition, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

이들 중에서, 다가 알콜과 (메타)아크릴산의 에스테르류가 바람직하고, 1 분자내에 3개 이상의 (메타)아크릴기를 갖는 다관능 모노머가 더욱 바람직하다. 그 구체예로는, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메타)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 트리펜타에리트리톨 헥사트리아크릴레이트를 포함한다. 다관능 모노머들 중 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 경화성 수지의 사용량은 상술한 각 층의 굴절률을 만족하는 범위내에서 조정될 수도 있다.Among these, esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable, and a polyfunctional monomer having three or more (meth) acryl groups in one molecule is more preferable. Specific examples thereof include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexane tetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, and pentaerythritol. Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( Meta) acrylate, tripentaerythritol triacrylate, and tripentaerythritol hexatriacrylate. You may use combining two or more types of polyfunctional monomers. The usage-amount of curable resin may be adjusted in the range which satisfy | fills the refractive index of each layer mentioned above.

1.4 중합 개시제1.4 polymerization initiator

중합 개시제로서, 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로는 광라디칼 중합 개시제 또는 광양이온 중합 개시제가 바람직하고, 광라디칼 중합 개시제가 더욱 바람직하다.It is preferable to use a photoinitiator as a polymerization initiator. As a photoinitiator, an optical radical polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator is preferable, and an optical radical polymerization initiator is more preferable.

광라디칼 중합 개시제의 예로는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러 (Michler) <207> 의 벤조일 벤조에이트, α-아밀옥심 에스테르, 테트라메틸티우람 모노술피드 및 티옥산톤류를 포함한다. 시판되는 광라디칼 중합 개시제의 예로는, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조의 KAYACURE (예컨대, DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, MCA); Ciba Specialty Chemicals Corp. 제조의Irgacure (예컨대, 651, 184, 127, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263); 및 Sartomer Company Inc. 제조의 Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) 를 포함한다. 특히, 광분열형 (photocleavage-type) 광라디칼 중합 개시제가 바람직하다. 광분열형 광라디칼 중합 개시제는 Technical Information Institute Co., Ltd. (발행인: Kazuhiro Takausu) (1991) 에 의한 최신 UV 경화기술 159페이지에 기재되어 있다. 시판되는 광분열형 광라디칼 중합 개시제의 예로는 Ciba Specialty Chemicals Corp. 제조의 Irgacure(예컨대, 651, 184, 127, 907)를 포함한다. 광중합 개시제의 사용량은 경화성 수지 100질량부에 대하여 0.1 내지 15질량부가 바람직하고, 1 내지 10질량부가 더욱 바람직하다.Examples of the radical photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, benzoyl benzoate of Michler, α-amyl oxime ester, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthones. Examples of commercially available radical photopolymerization initiators include Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE of manufacture (eg, DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, MCA); Ciba Specialty Chemicals Corp. Irgacure of manufacture (eg, 651, 184, 127, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263); And Sartomer Company Inc. Esacure of manufacture (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT). In particular, photocleavage-type photoradical polymerization initiators are preferred. The fission type radical photopolymerization initiator is known as Technical Information Institute Co., Ltd. (Published by Kazuhiro Takausu) (1991), described on page 159 of the latest UV curing technology. Examples of commercially available photo split optical radical polymerization initiators include Ciba Specialty Chemicals Corp. Irgacure of manufacture (eg, 651, 184, 127, 907). 0.1-15 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of curable resin, and, as for the usage-amount of a photoinitiator, 1-10 mass parts is more preferable.

상기 광중합 개시제에 추가하여, 광증감제를 사용할 수도 있다. 광증감제의 구체예로는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸포스핀, 미힐러의 케톤 및 티옥산톤을 포함한다. 시판되는 광증감제의 예로는 Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조의 KAYACURE (예컨대, DMBI, EPA)를 포함한다.In addition to the said photoinitiator, a photosensitizer can also be used. Specific examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketones and thioxanthones. Examples of commercially available photosensitizers include Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE of manufacture (eg, DMBI, EPA).

광중합 반응은 고굴절의 고경도층을 코팅하고 건조시킨 후에 자외선 조사에 의해 수행되는 것이 바람직하다. The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after coating and drying the high refractive index layer.

또한 고굴절의 고경도층에는, 상술한 성분들 (예컨대, 무기 미립자, 경화성 수지, 중합 개시제, 광증감제) 이외에, 계면활성제, 산화방지제, 커플링제, 증점제, 착색 방지제, 착색제 (예컨대, 안료, 염료), 소포제, 레벨링제, 난연제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 접착부여제, 중합금지제, 산화방지제, 표면 개질제, 도전성 금속 미립자 등을 첨가할 수도 있다.In addition to the above-described components (e.g., inorganic fine particles, curable resins, polymerization initiators, photosensitizers), high refractive index high hardness layers may include surfactants, antioxidants, coupling agents, thickeners, colorants, colorants (e.g. pigments, Dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, tackifiers, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, conductive metal fine particles and the like.

1.5 용매1.5 solvent

용매로서는, 비점이 60 내지 170℃인 액체를 사용하는 것이 바람직하다. 그 구체예로는, 물, 알콜 (예컨대,메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 벤질 알콜), 케톤 (예컨대, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논), 에스테르 (예컨대, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메틸 포르메이트, 에틸 포르메이트, 프로필 포르메이트, 부틸 포르메이트), 지방족 탄화수소 (예컨대,헥산, 시클로헥산), 할로겐화 탄화수소 (예컨대, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소), 방향족 탄화수소 (예컨대, 벤젠, 톨루엔, 크실렌), 아미드 (예컨대, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, n-메틸피롤리돈), 에테르 (예컨대, 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란), 및 에테르 알콜 (예컨대, 1-메톡시-2-프로판올) 을 포함한다. 이 중에서도, 톨루엔, 크실렌, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논 및 부탄올이 바람직하다. 특히, 분산 매체로서는 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 시클로헥사논이 바람직하다.As a solvent, it is preferable to use the liquid whose boiling point is 60-170 degreeC. Specific examples thereof include water, alcohols (such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (such as methyl acetate , Ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (e.g. hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (e.g. methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride) Aromatic hydrocarbons (eg benzene, toluene, xylene), amides (eg dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), and Ether alcohols (eg 1-methoxy-2-propanol). Among these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are preferable. In particular, as the dispersion medium, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone or cyclohexanone is preferable.

상기 용매는 고굴절률층용 코팅 조성물이 고형분 농도 2 내지 30질량%이 되도록 사용하는 것이 바람직하고, 고형분 농도 3 내지 20질량%이 되도록 사용하는 것이 더욱 바람직하다. It is preferable to use the said solvent so that the coating composition for high refractive index layers may become 2-30 mass% of solid content concentration, and it is more preferable to use so that it may become 3-20 mass% of solid content concentration.

1.6 고굴절의 고경도층의 형성방법1.6 Formation of High Refractive Hard Layer

고굴절의 고경도층에 사용되는 산화지르코늄을 주성분으로서 포함하는 무기 미립자는, 분산물 상태로 고굴절의 고경도층의 형성에 사용되는 것이 바람직하다. 무기 미립자는 분산기를 사용하여 분산될 수 있다. 분산기의 예로는, 샌드 그라인더 밀 (예컨대, 핀을 가진비드 밀), 고속 임펠러 밀, 페블 밀, 롤러 밀, 어트라이터 및 콜로이드 밀을 포함한다. 이들 중에서도, 샌드 그라인더 밀 및 고속 임펠러 밀이 바람직하다. 예비 분산 처리를 수행할 수도 있다. 예비 분산 처리에 사용되는 분산기의 예로는, 볼 밀, 3-롤 밀, 니더 및 압출기를 포함한다.It is preferable that the inorganic fine particles containing zirconium oxide as a main component used for a high refractive index high hardness layer are used for formation of a high refractive index layer in a dispersion state. The inorganic fine particles can be dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, bead mills with pins), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, adjusters and colloid mills. Among these, a sand grinder mill and a high speed impeller mill are preferable. Preliminary dispersion processing may be performed. Examples of dispersers used in the predispersion treatment include ball mills, three-roll mills, kneaders and extruders.

무기 미립자는 분산 매체 속에 가능한 한 작은 입자크기를 가지도록 분산되는 것이 바람직하다. 질량 평균 입자직경은 10 내지 120nm이고, 20 내지 100nm가 바람직하고, 30 내지 90nm가 더욱 바람직하고, 30 내지 80nm가 더욱 더 바람직하다. 무기 미립자를 200nm 이하의 작은 입자크기로 분산시킴으로써, 투명성을 손상시키지 않고 고굴절의 고경도층을 형성할 수 있다.The inorganic fine particles are preferably dispersed to have the smallest particle size possible in the dispersion medium. The mass average particle diameter is 10-120 nm, 20-100 nm is preferable, 30-90 nm is more preferable, 30-80 nm is still more preferable. By dispersing the inorganic fine particles in a small particle size of 200 nm or less, a high refractive index layer can be formed without impairing transparency.

본 발명에 사용되는 고굴절의 고경도층은 다음과 같이 형성된다. 상술한 바와 같은 분산 매체 속에 무기 미립자를 분산시킴으로써 획득된 분산액에, 매트릭스 형성에 필요한 바인더 전구체로서의 경화성 수지 (예컨대, 상술한 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머), 광중합 개시제 등을 첨가하여, 고굴절률층 또는 중굴절률층 형성용 코팅 조성물을 제작하고, 획득된 고굴절률층 또는 중굴절률층 형성용 코팅 조성물을 투명 지지체 상에 코팅하고 경화성 수지의 가교 반응 또는 중합 반응을 통해 경화시킨다. 고굴절의 고경도층의 코팅과 동시에 또는 코팅 이후에, 층의 바인더는 분산제와 가교 또는 중합되는 것이 바람직하다.The high refractive index high hardness layer used for this invention is formed as follows. To the dispersion obtained by dispersing the inorganic fine particles in the dispersion medium as described above, a curable resin (e.g., the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer described above), a photopolymerization initiator, and the like as a binder precursor necessary for matrix formation are added To prepare a coating composition for forming a high refractive index layer or a medium refractive index layer, the obtained coating composition for forming a high refractive index layer or a medium refractive index layer is coated on a transparent support and cured through a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable resin. Simultaneously with or after the coating of the high refractive index layer, the binder of the layer is preferably crosslinked or polymerized with a dispersant.

이와 같이 제조된 고굴절률층 또는 중굴절률층의 바인더는, 예컨대, 상술한 바람직한 분산제와 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머의 가교 반응 또는 중합 반응의 결과로서 바인더에 분산제의 음이온성기가 취해지는 형태가 된다. 고굴절률층 또는 중굴절률층의 바인더에 취해진 음이온성기는 무기 미립자의 분산상태를 유지하는 기능을 가지며, 가교 또는 중합 구조가 바인더에 필름-형성 능력을 부여하고, 이로써 무기미립자를 함유하는 고굴절의 고경도층은 물리적 강도, 내약품성 및 내후성이 개선된다.The binder of the high refractive index layer or the medium refractive index layer thus prepared is, for example, the anionic group of the dispersant is taken into the binder as a result of the crosslinking reaction or polymerization reaction of the above-described preferred dispersant and the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer. Losing form. The anionic groups taken in the binder of the high refractive index layer or the medium refractive index layer have a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, and the crosslinked or polymerized structure gives the binder a film-forming ability, thereby high refractive index containing inorganic fine particles The coating layer is improved in physical strength, chemical resistance and weather resistance.

고굴절의 고경도층 형성시에, 경화성 수지의 가교 또는 중합 반응은 산소 농도 10체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 산소 농도 10체적% 이하인 분위기에서 고굴절의 고경도층을 형성함으로써, 고굴절의 고경도층은 물리적 강도, 내약품성, 내후성 및 고굴절층과 이 고굴절층에 인접한 층 간의 접착성이 개선될 수 있다.At the time of formation of a high refractive index high hardness layer, the crosslinking or polymerization reaction of the curable resin is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. By forming a high refractive index high hardness layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less, the high refractive index high hardness layer can improve physical strength, chemical resistance, weather resistance and adhesion between the high refractive layer and a layer adjacent to the high refractive layer.

경화성 수지의 가교 반응 또는 중합 반응을 통한 층 형성은 산소 농도 6체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 바람직하고, 산소 농도 4체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 더욱 바람직하고, 산소 농도 2체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 더욱 더 바람직하고, 산소 농도 1체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 가장 바람직하다.The layer formation through the crosslinking reaction or the polymerization reaction of the curable resin is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 6 vol% or less, more preferably in an atmosphere having an oxygen concentration of 4 vol% or less, and in an atmosphere having an oxygen concentration of 2 vol% or less Even more preferably, it is most preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 1 vol% or less.

고굴절의 고경도층의 두께는 0.1 내지 20 ㎛ 가 바람직하고, 2 내지 8 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 구체적으로, 예컨대, 고굴절의 고경도층의 필름 두께 및 굴절률을 만족할 수 있도록, 미립자의 종류 및 수지의 종류를 선택하고 이들의 배합비율을 결정함으로써 주요 조성이 정해진다.0.1-20 micrometers is preferable and, as for the thickness of the high refractive hardness layer, 2-8 micrometers is more preferable. Specifically, for example, the main composition is determined by selecting the type of the fine particles and the type of the resin and determining the blending ratio thereof so as to satisfy the film thickness and the refractive index of the high refractive index layer.

2. 저굴절율층 제조2. Low refractive index layer manufacturing

2.1 저굴절율층2.1 Low refractive index layer

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 저굴절율층은 1.31 내지 1.40의 굴절률을 갖는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.38 이하이다. 이 범위는 반사율을 감소시키면서 필름 강도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 저굴절율층을 형성하는 방법도, 상기와 유사하게, 화학 기상 증착 (CVD) 또는 물리 기상 증착 (PVD), 특히 물리 기상 증착법의 한 종류인 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 산화물의 투명 박막을 사용할 수도 있지만, 후술하는 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 사용하는 올-웨트 코팅에 의한 방법이 바람직하다. 저굴절율층은 무기 미립자를 함유하는 것이 바람직하며, 무기 미립자 중에서, 적어도 한 종류의 무기 미립자가 중공 입자인 것이 바람직하고, 실리카를 주성분으로서 포함하는 중공 입자 (이후, "중공 실리카 입자"라고도 함) 가 더욱 바람직하다. 이러한 굴절층의 두께는 90 내지 130nm가 바람직하고, 100 내지 120nm가 더욱 바람직하다. 또한, 저굴절율층의 헤이즈는 3% 이하가 바람직하고, 2% 이하가 더욱 바람직하고, 1% 이하가 가장 바람직하다.The low refractive index layer of the composite film for capacitive touch panel according to the present invention preferably has a refractive index of 1.31 to 1.40, more preferably 1.38 or less. This range is preferable because the film strength can be maintained while reducing the reflectance. Similarly to the method of forming the low refractive index layer, a transparent thin film of inorganic oxide formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), in particular vacuum deposition or sputtering, which is a kind of physical vapor deposition method, may be used. Although possible, the method by the all-wet coating using the coating composition for low refractive index layer formation mentioned later is preferable. The low refractive index layer preferably contains inorganic fine particles. Among the inorganic fine particles, at least one type of inorganic fine particles is preferably hollow particles, and hollow particles containing silica as a main component (hereinafter also referred to as "hollow silica particles"). More preferred. 90-130 nm is preferable and, as for the thickness of this refractive layer, 100-120 nm is more preferable. In addition, the haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.

또한, 저굴률층까지의 층들이 형성된 반사방지필름의 강도는, 500g 하중의 연필 경도 시험에서, H 이상이 바람직하고, 2H 이상이 더욱 바람직하고, 3H 이상이 가장 바람직하다.In addition, the strength of the antireflection film having the layers up to the low refractive index layer is preferably at least H, more preferably at least 2H, and most preferably at least 3H, in a pencil hardness test of 500 g load.

또한, PDP용 반사방지필름의 경우 지문방지 성능을 향상시키기 위해, 표면의 물에 대한 접촉각은 95° 내지 120°인 것이 바람직하지만, 터치패널용 반사방지필름의 경우는 터치패널 내부에 위치하며, LCD면과 양면테이프로 엣지(edge)부분이 합지되어 AR 면과의 충분한 점착력이 확보되어야 하기 때문에 표면의 물에 대한 접촉각은 85°이하인 것이 바람직하다.In addition, in the case of the anti-reflection film for PDP, in order to improve the anti-fingerprint performance, the contact angle of water on the surface is preferably 95 ° to 120 °, but in the case of the anti-reflection film for touch panels, the touch panel is located inside the touch panel. Since the edge portion of the LCD surface and the double-sided tape are laminated to ensure sufficient adhesive force with the AR surface, the contact angle of the surface with water is preferably 85 ° or less.

2.2 무기 미립자2.2 Inorganic Particulates

저굴절율층에 사용될 수 있는 무기 미립자는 중공 입자가 바람직하다. 중공 입자의 굴절률은 1.40이하가 바람직하고, 1.28 내지 1.38가 더욱 바람직하고, 1.32 내지 1.36이 가장 바람직하다. 중공 입자는 중공 실리카 입자가 바람직하고, 무기 미립자에 대해 이하 중공 실리카 입자를 참조하면서 설명한다. 여기서 사용되는 굴절률은 전체 입자의 굴절률을 나타내며, 중공 실리카 입자를 형성하는 외측 셸로서의 실리카만의 굴절률을 나타내는 것은 아니다. 이때, 입자 내부의 캐비티의 반경을 a라 가정하고 입자의 외측 셸의 반경을 b라 가정하면, 다음 식 (1) 에 의해 나타내지는 공극률 x는 10 내지 60%가 바람직하고, 20 내지 60%가 더욱 바람직하고, 30 내지 60%가 가장 바람직하다.The inorganic fine particles that can be used for the low refractive index layer are preferably hollow particles. The refractive index of the hollow particles is preferably 1.40 or less, more preferably 1.28 to 1.38, and most preferably 1.32 to 1.36. The hollow particles are preferably hollow silica particles, and the inorganic particles will be described with reference to the hollow silica particles below. The refractive index used here represents the refractive index of all the particles, and does not represent the refractive index of silica alone as the outer shell forming the hollow silica particles. At this time, assuming that the radius of the cavity inside the particle is a and the radius of the outer shell of the particle is b, the porosity x represented by the following formula (1) is preferably 10 to 60%, and 20 to 60% is More preferably, 30 to 60% is most preferred.

식 (1) : x=(4πa3/3)(4πb3/3) X 100Equation (1): x = (4πa 3/3) (4πb 3/3) X 100

중공 실리카 입자가 보다 낮은 굴절률 및 보다 높은 공극률을 가지도록 의도될 경우, 외측 셸의 두께가 얇아지고 입자로서의 강도가 저하된다. 따라서, 내찰상성의 관점에서, 상술한 범위내의 굴절률을 갖는 입자가 바람직하다.If the hollow silica particles are intended to have lower refractive index and higher porosity, the outer shell becomes thinner and the strength as particles is lowered. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, particles having a refractive index within the above range are preferable.

여기서, 중공 실리카 입자의 굴절률은 아베 굴절계에 의해 측정될 수 있다 (ATAGO K.K. 제조). 중공 실리카의 제조방법은, 예컨대 JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616에 기재되어 있다. 또한, 시판되는 중공 실리카 입자를 사용할 수도 있다. Here, the refractive index of the hollow silica particles can be measured by an Abbe refractometer (manufactured by ATAGO K.K.). Methods for producing hollow silica are described, for example, in JP-A-2001-233611 and JP-A-2002-79616. In addition, commercially available hollow silica particles can also be used.

또한, 중공 실리카 입자의 코팅량은 1 내지 100mg/㎡이 바람직하고, 5 내지 80mg/㎡이 더욱 바람직하고, 10 내지60mg/㎡이 더욱 더 바람직하다. 이 범위내에서, 굴절률을 감소시키거나 또는 내찰상성을 개량시키는 양호한 효과가 얻어지고, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다.In addition, the coating amount of the hollow silica particles is preferably 1 to 100 mg / m 2, more preferably 5 to 80 mg / m 2, and even more preferably 10 to 60 mg / m 2. Within this range, a good effect of reducing the refractive index or improving the scratch resistance can be obtained, and the occurrence of minute unevenness on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (e.g. rich black appearance) and integral reflectance can be reduced. It can be kept well.

또한, 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 저굴절율층의 두께에 대하여 30 내지 150%가 바람직하고, 35 내지 80%가 더욱 바람직하고, 40 내지 60%가 더욱 더 바람직하다. 즉, 저굴절율층의 두께가 100nm이라면, 중공 실리카 입자의 입자직경은 30 내지 150nm가 바람직하고, 35 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 40 내지 60nm가 더욱 더 바람직하다. 입자직경이 이러한 범위내에 있다면, 캐비티의 비율이 만족스럽게 유지될 수 있고, 굴절률을 충분히 감소시킬 수 있으며, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙 외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다. 실리카 미립자는 결정질일 수도 있고 비정질일 수도 있고, 단분산입자가 바람직하다. 그 형상은 구형이 가장 바람직하지만, 부정형이더라도 문제는 없다. 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 전자 현미경 사진으로부터 결정될 수 있다.Further, the average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150%, more preferably 35 to 80%, even more preferably 40 to 60% with respect to the thickness of the low refractive index layer. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150 nm, more preferably 35 to 80 nm, even more preferably 40 to 60 nm. If the particle diameter is within this range, the ratio of the cavity can be maintained satisfactorily, the refractive index can be sufficiently reduced, the occurrence of minute irregularities on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (eg, a dense black appearance) ) And integrated reflectance can be kept good. The silica fine particles may be crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferable. Although the shape is the most preferable spherical form, there is no problem even if it is indefinite. The average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from electron micrographs.

본 발명에 있어서, 중공 실리카 입자와 조합하여 캐비티가 없는 실리카 입자를 사용할 수도 있다. 캐비티가 없는 실리카의 입자크기는 5 내지 150nm가 바람직하고, 10 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 15 내지 60nm가 가장 바람직하다. In the present invention, silica particles without cavities may be used in combination with hollow silica particles. The particle size of the silica without cavity is preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 80 nm, and most preferably 15 to 60 nm.

또한, 저굴절율층의 두께의 25% 미만인 평균 입자직경을 갖는 적어도 1 종류의 실리카 미립자 ("소 입자크기 실리카 미립자"라고도 함)를, 상술한 입자직경을 갖는 실리카 미립자 ("대 입자크기 실리카 미립자"라고도 함) 와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 소 입자크기 실리카 미립자는, 대 입자크기 실리카 미립자들 사이의 간극에 존재할 수도 있으므로, 대 입자크기 실리카 미립자에 대한 유지제로서 기여할 수 있다. 소 입자크기 실리카 미립자의 평균 입자직경은 1 내지 20nm가 바람직하고, 5 내지 15nm가 더욱 바람직하고, 10내지 15nm가 더욱 더 바람직하다. 이러한 실리카 미립자의 사용은 원료 비용 및 유지제 효과의 관점에서 바람직하다. 분산액 또는 코팅 용액내의 분산을 안정화시키거나 또는 바인더 성분과의 친화성 또는 결합성을 향상시키기 위해, 중공 입자에 대해 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리, 또는 계면활성제, 커플링제 등에 의한 화학적 표면 처리를 수행할 수도 있다. 커플링제의 사용이 특히 바람직하다. 커플링제로서는, 알콕시 금속 화합물 (예컨대, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제) 을 사용하는 것이 바람직하다. 이 중에서도, 아크릴로일 또는 메타크릴로일기를 갖는 실란 커플링제에 의한 처리가 효과적이다. 중공 입자의 화학적 표면 처리제, 용매, 촉매 및 분산 안정제는 JP-A-2006-17870의 단락 [0058] 내지 [0083]에 기재되어 있다.Further, at least one kind of silica fine particles (also referred to as "small particle size silica fine particles") having an average particle diameter of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer may be silica fine particles having the above-described particle diameters ("large particle size silica fine particles"). It is preferable to use in combination with "." The small particle sized silica fine particles may be present in the gap between the large particle sized silica fine particles, and thus may serve as a retainer for the large particle sized silica fine particles. The average particle diameter of the small particle size silica fine particles is preferably 1 to 20 nm, more preferably 5 to 15 nm, even more preferably 10 to 15 nm. The use of such silica fine particles is preferable from the viewpoint of raw material cost and oil retainer effect. In order to stabilize the dispersion in the dispersion or coating solution or to improve affinity or binding to the binder component, physical surface treatments such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment for hollow particles, or by surfactants, coupling agents, etc. Chemical surface treatment may also be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As a coupling agent, it is preferable to use an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent and a silane coupling agent). Among these, the treatment with a silane coupling agent having acryloyl or methacryloyl group is effective. Chemical surface treating agents, solvents, catalysts and dispersion stabilizers of hollow particles are described in paragraphs [0058] to [0083] of JP-A-2006-17870.

또한, 저굴절율층은, 필름-형성 용질 및 1 종류 이상의 용매를 함유하는 코팅 조성물을 도포하고, 용매를 건조하고, 가열 및 전리 방사선의 조사 중 어느 한 수단 또는 양 수단에 의해 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 용질로는 열-경화성 또는 전리 방사선-경화성 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물, 유기실릴 화합물의 가수분해물, 또는 그 부분 축합물이 바람직하다. 또한 저굴절율층은 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물을 사용하는 것이 바람직하고, 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물을 보조적으로 사용하는 양태가 더욱 바람직하다. 보조적으로 사용되는 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물의 첨가량은 불소 함유 경화성 수지에 대하여 10 내지 40질량%이다.The low refractive index layer is also formed by applying a coating composition containing a film-forming solute and one or more solvents, drying the solvent, and curing the coating by either or both means of irradiation of heating and ionizing radiation. It is preferable to be. The solute is preferably a composition containing a heat-curable or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin, a hydrolyzate of an organosilyl compound, or a partial condensate thereof. Moreover, it is preferable to use the composition containing a fluorine-containing curable resin, and, as for the low refractive index layer, the aspect which uses the hydrolyzate of organosilyl compound or its partial condensate adjuvant is more preferable. The addition amount of the hydrolyzate or partial condensate of the organosilyl compound used auxiliary is 10 to 40 mass% with respect to the fluorine-containing curable resin.

2.3 저굴절율층 형성용 코팅 조성물2.3 Coating composition for low refractive index layer formation

통상적으로, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물은 액체 형태를 취하고, 적절한 용매에, 바람직하게 함유된 전술한 무기 미립자 및 불소 함유 경화성 수지를 용해시키고, 필요에 따라, 다양한 첨가제 및 라디칼 중합 개시제를 용해시킴으로써 제조된다. 여기서, 고형분의 농도는 용도에 따라서 적절하게 선택될 수도 있지만, 대략 0.01내지 60질량%가 일반적이고, 0.5 내지 50질량%가 더욱 바람직하고, 대략 1 내지 20질량%가 더욱 더 바람직하다.Typically, the coating composition for forming the low refractive index layer is in liquid form, by dissolving the above-mentioned inorganic fine particles and fluorine-containing curable resin, preferably contained in a suitable solvent, and dissolving various additives and radical polymerization initiators as necessary. Are manufactured. Here, the concentration of the solid content may be appropriately selected depending on the use, but about 0.01 to 60% by mass is common, more preferably 0.5 to 50% by mass, still more preferably about 1 to 20% by mass.

라디칼 중합 개시제는, 열 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형, 또는 광 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형 중 어느 것일 수도 있다. 열 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물에 대해, 유기 또는 무기 과산화물, 유기 아조 또는 디아조 화합물 등이 이용될 수도 있다.The radical polymerization initiator may be either of a type generating radicals under thermal action or a type generating radicals under light action. For compounds which initiate radical polymerization under thermal action, organic or inorganic peroxides, organic azo or diazo compounds and the like may be used.

더욱 상세하게는, 유기 과산화물의 예로는 과산화벤조일, 과산화할로겐벤조일, 과산화라우로일, 과산화아세틸, 과산화디부틸, 쿠멘 히드로퍼옥사이드 및 부틸 히드로퍼옥사이드를 포함하고; 무기 과산화물의 예로는 과산화수소, 과황산암모늄 및 과황산칼륨을 포함하고; 아조 화합물의 예로는 2-아조-비스-이소부티로니트릴, 2-아조-비스-프로피오니트릴 및 2-아조-비스-시클로헥산디니트릴을 포함하고; 디아조 화합물의 예로는 디아조아미노벤젠및 p-니트로벤젠디아조늄을 포함한다. 광 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물을 이용하는 경우, 전리 방사선의 조사에 의해 필름이 경화된다. 이러한 광라디칼 중합 개시제의 예로는 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀 옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물류, 과산화물류, 2,3-디알킬디온 화합물류, 디술피드 화합물류, 플루오로아민 화합물류 및 방향족 술포늄류를 포함한다. 아세토페논류의 예로는 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 1-히드록시디메틸 페닐 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-메틸-4-메틸티오-2-모르포리노프로피오페논 및 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르포리노페닐)부타논을 포함한다. 벤조인류의 예로는 벤조인 벤젠술폰산 에스테르, 벤조인 톨루엔술폰산 에스테르, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르 및 벤조인 이소프로필 에테르를 포함한다. 벤조페논류의 예로는 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4-디클로로벤조페논 및p-클로로벤조페논을 포함한다. 포스핀 옥사이드류의 예로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥사이드를 포함한다. 또한, 이러한 광라디칼 중합 개시제와 조합하여 증감 염료를 바람직하게 이용할 수도 있다.More specifically, examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, halogen perbenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide and butyl hydroperoxide; Examples of inorganic peroxides include hydrogen peroxide, ammonium persulfate and potassium persulfate; Examples of azo compounds include 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile and 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile; Examples of diazo compounds include diazoaminobenzenes and p-nitrobenzenediazonium. When using the compound which starts radical polymerization under light action, a film hardens by irradiation of ionizing radiation. Examples of such radical photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, and 2,3-dialkyldione compounds. Logistics, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones are 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-mo Leporinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone. Examples of benzoins include benzoin benzenesulfonic acid ester, benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. In addition, a sensitizing dye can also be preferably used in combination with such an optical radical polymerization initiator.

열 또는 광의 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물의 첨가량은 탄소-탄소 이중 결합의 중합을 개시하기에 충분히 큰 양이라면 족하고, 그 첨가량은 저굴절율층 형성용 조성물의 전체 고형분에 대해 0.1 내지 15질량% 인것이 바람직하고, 0.5 내지 10질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 2 내지 5질량% 인 것이 더욱 더 바람직하다.The amount of the compound that initiates radical polymerization under the action of heat or light is sufficient if the amount is large enough to initiate the polymerization of the carbon-carbon double bond, and the amount is 0.1 to 15% by mass based on the total solids of the composition for forming the low refractive index layer. It is preferable that it is, It is more preferable that it is 0.5-10 mass%, It is further more preferable that it is 2-5 mass%.

2.4 용매2.4 Solvent

저굴절율층용 코팅 조성물에 함유된 용매는, 경화성 수지가 침전을 유발하지 않고 균일하게 용해 또는 분산될 수 있는 한, 특별히 제한되지 않고, 2 종 이상 용매를 조합하여 이용할 수도 있다. 그 바람직한 예는 케톤류 (예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤), 에스테르류 (예를 들어, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트), 에테르류 (예를 들어, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산), 알콜류 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, 부탄올, 에틸렌 글리콜), 방향족 탄화수소류 (예를 들어, 톨루엔, 크실렌) 및 물을 포함한다.The solvent contained in the coating composition for low refractive index layer is not particularly limited as long as the curable resin can be dissolved or dispersed uniformly without causing precipitation, and may be used in combination of two or more solvents. Preferred examples thereof are ketones (e.g. acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), esters (e.g. ethyl acetate, butyl acetate), ethers (e.g. tetrahydrofuran, 1,4 Dioxane), alcohols (eg methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol), aromatic hydrocarbons (eg toluene, xylene) and water.

2.5 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 적절히 함유된 그 밖의 화합물2.5 Other compounds suitably contained in the coating composition for forming the low refractive index layer

지문방지 특성, 내수성, 내약품성 및 미끄럼성과 같은 특성을 부여하기 위해, 공지된 실리콘계 또는 불소계 지문방지제, 윤활제 등이 적절하게 첨가될 수도 있다. 이러한 첨가제를 첨가하는 경우, 첨가제의 첨가량은 저굴절율층의 전체 고형분에 기초하여 0 내지 20질량%가 바람직하고, 0 내지 10질량%가 더욱 바람직하고, 0 내지 5질량% 가 더욱 더 바람직하다.In order to impart properties such as anti-fingerprint properties, water resistance, chemical resistance and slipperiness, a known silicone-based or fluorine-based fingerprint agent, lubricant, or the like may be appropriately added. When adding such an additive, the amount of the additive added is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, even more preferably 0 to 5% by mass based on the total solids of the low refractive index layer.

저굴절율층은 무기 필러, 실란 커플링제, 윤활제, 계면활성제 등을 함유할 수도 있다. 특히, 무기 미립자, 실란 커플링제 및 윤활제가 함유되는 것이 바람직하다. The low refractive index layer may contain an inorganic filler, a silane coupling agent, a lubricant, a surfactant, and the like. In particular, it is preferable that inorganic fine particles, a silane coupling agent, and a lubricant are contained.

상기 실란 커플링제에 대한 예로서, 히드록실기, 메르캅토기, 카르복시기, 에폭시기, 알킬기, 알콕시실릴기, 아실옥시기 또는 아실아미노기를 함유하는 실란 커플링제가 바람직하고, 에폭시기, 중합성 아실옥시기 (예를 들어, (메타)아크릴로일) 또는 중합성 아실아미노기 (예를 들어, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 함유하는 실란 커플링제가 더욱 바람직하다. 상기 윤활제는 디메틸실리콘과 같은 실리콘 화합물 또는 폴리실록산 부분이 도입된 불소 함유 화합물인 것이 바람직하다.As an example of the said silane coupling agent, the silane coupling agent containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, or an acylamino group is preferable, and an epoxy group, a polymerizable acyloxy group More preferred is a silane coupling agent containing (eg, (meth) acryloyl) or a polymerizable acylamino group (eg, acrylamino, methacrylamino). The lubricant is preferably a fluorine-containing compound into which a silicone compound, such as dimethylsilicone, or a polysiloxane moiety is introduced.

2.6 유기실릴 화합물2.6 Organosilyl Compounds

유기실릴 화합물은 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에서 가수분해 및 축합에 의해 가수분해물 및 또는 부분 축합물이 되고, 조성물중에서 바인더로서 작용할 뿐만 아니라 필름 코팅의 유연화도 가능하게 하고 내알칼리성을 향상시킨다. 본 발명에서, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 바람직하게 이용되는 유기실릴 화합물로는 이하의 화학식 3으로 표현된 화합물을 포함한다.The organosilyl compound becomes a hydrolyzate and / or a partial condensate by hydrolysis and condensation in the coating composition for forming the low refractive index layer, and not only acts as a binder in the composition, but also enables softening of the film coating and improves alkali resistance. In the present invention, the organosilyl compound which is preferably used in the coating composition for forming the low refractive index layer includes a compound represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

R11mSi(X11)nR 11 mSi (X 11 ) n

여기서, X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타내고, R11은 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기를 나타내고, R12는 알킬기를 나타내고, m+n 은 4 이고, m 과 n 은 각각 양의 정수를 나타낸다) 더욱 상세하게는, R11는 1 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 부틸, 헥실, 옥틸), 2 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴 또는 2-부텐-1-일) 또는 6 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸) 를 나타내고, R12는 R11으로 표현된 알킬기와 동일한 의미를 가지는 기를 나타낸다. R11또는 R12로 표현된 기가 치환기를 가지는 경우, 치환기의 바람직한 예로는 할로겐 (예를 들어, 불소, 염소, 브롬), 히드록실기, 메르캅토기, 카르복실기, 에폭시기, 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, i-프로필, 프로필, tert-부틸),아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸), 방향족 복소환식기 (예를 들어, 퓨릴, 피라졸릴, 피리딜), 알콕시기 (예를 들어, 메톡시, 에톡시, i-프로폭시, 헥실옥시), 아릴옥시기 (예를 들어, 페녹시), 알킬티오기 (예를 들어, 메틸티오, 에틸티오), 아릴티오기 (예를 들어, 페닐티오), 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴), 아실옥시기 (예를 들어, 아세톡시, 아크릴로일옥시, 메타크릴로일옥시), 알콕시카르보닐기 (예를 들어, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐), 아릴옥시카르보닐기 (예를 들어, 페녹시카르보닐), 카르바모일기 (예를 들어, 카르바모일, N-메틸카르바모일, N,N-디메틸카르바모일, N-메틸-N-옥틸카르바모일), 및 아실아미노기 (예를 들어, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 포함한다. X 11 represents an —OH, a halogen atom, an —OR 12 group or an —OCOR 12 group, R 11 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, R 12 represents an alkyl group, m + n is 4, m and n each represents a positive integer. More specifically, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, hexyl, octyl) A substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, vinyl, allyl or 2-buten-1-yl) or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, Phenyl, naphthyl), and R 12 represents a group having the same meaning as the alkyl group represented by R 11 . When the group represented by R 11 or R 12 has a substituent, preferred examples of the substituent include halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (eg, Methyl, ethyl, i-propyl, propyl, tert-butyl), aryl groups (e.g. phenyl, naphthyl), aromatic heterocyclic groups (e.g. furyl, pyrazolyl, pyridyl), alkoxy groups (e.g. For example, methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy), aryloxy group (e.g., phenoxy), alkylthio group (e.g., methylthio, ethylthio), arylthio group ( For example, phenylthio), alkenyl groups (eg, vinyl, allyl), acyloxy groups (eg, acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy), alkoxycarbonyl groups (eg, Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups (eg phenoxycarbonyl), carbamoyl groups (eg carba 1, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl), and acylamino groups (eg, acetylamino, benzoylamino, acrylamino, methacrylamino ).

화학식 3의 화합물은 가수분해 및 상호 축합을 포함하는 소위 졸-겔법에 의해 매트릭스를 형성한다. 화학식 3의 화합물은 이하의 4개의 식으로 표현된다.The compound of formula 3 forms a matrix by the so-called sol-gel method which includes hydrolysis and mutual condensation. The compound of formula 3 is represented by the following four formulas.

[화학식 3a] Si(X11)4 [Formula 3a] Si (X 11 ) 4

[화학식 3b] R11Si(X11)3 [Formula 3b] R 11 Si (X 11 ) 3

[화학식 3c] R11 2Si(X11)2 [Formula 3c] R 11 2 Si (X 11 ) 2

[화학식 3d] R11 3SiX11 [Formula 3d] R 11 3 SiX 11

화학식 3a의 성분에 대해 이하에 상세하게 설명한다. 화학식 3a로 표현된 화합물의 구체예로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-i-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-s-부톡시실란 및 테트라-tert-부톡시실란을 포함한다. 특히, 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란이 바람직하다.The component of general formula (3a) is demonstrated in detail below. Specific examples of the compound represented by the formula (3a) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-s-part Methoxysilane and tetra-tert-butoxysilane. In particular, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable.

화학식 3b의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3b의 성분에서, R11은 화학식 3의 R11과 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 그 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기 및 i-프로필기와 같은 알킬기, γ-클로로프로필기, 비닐기, CF3CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2CH2-,C3F7CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2-,CF3OCH2CH2CH2-,C2F5OCH2CH2CH2-,C3F7OCH2CH2CH2-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2-,C4F9CH2OCH2CH2CH2-,3-(퍼플루오로시클로헥실옥시)프로필기, H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2-,H(CF2)4CH2CH2CH2-,3-글리시독시프로필기, 3-아크릴옥시프로필기, 3-메타크릴옥시프로필기, 3-메르캅토프로필기, 페닐기 및 3,4-에폭시시클로헥실에틸기를 포함한다. X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타낸다. R12는 식 (2) 의 R12와 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 1 내지 5 의 탄소수를 가지는 알콕시기 또는 1 내지 4 의 탄소수를 가지는 아실옥시기인 것이 바람직하고, 그 예로는 염소 원자, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, i-프로필옥시기, n-부틸옥시기, s-부틸옥시기, tert-부틸옥시기 및 아세틸옥시기를 포함한다. 화학식 3b의 성분의 구체예로는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, i-프로필트리메톡시실란, i-프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리메톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리에톡시실란, CF3CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2H5CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7OCH2CH2CH2Si(OC2H5)3-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C4F9CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,및 3-(퍼플루오로시클로헥실옥시) 프로필실란을 포함한다.The component of General formula (3b) is demonstrated below. In the component of formula 3b, R 11 represents a group having the same meaning as that of Formula 3 R 11, and examples thereof include methyl, ethyl, n- propyl, and i- propyl groups such as alkyl group, γ- chloropropyl group, a vinyl group, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2- , CF 3 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2- , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2- , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , 3- (perfluorocyclohexyloxy) propyl group, H (CF 2 ) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , H (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 CH 2- , 3 -Glycidoxypropyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-methacryloxypropyl group, 3-mercaptopropyl group, phenyl group and 3,4-epoxycyclohexylethyl group. X 11 represents a -OH, a halogen atom, an -OR 12 group, or an -OCOR 12 group. R 12 represents a group having the same meaning as R 12 in formula (2), preferably an acyloxy group having an alkoxy group or 1 to 4 carbon atoms, a has a range of 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a chlorine atom, a methoxy group , Ethoxy group, n-propyloxy group, i-propyloxy group, n-butyloxy group, s-butyloxy group, tert-butyloxy group and acetyloxy group. Specific examples of the component of formula 3b include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i -Propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryl Oxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxy Silane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 H 5 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 F 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3- , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , H (CF 2 ) It includes, and 3- (perfluoro-cyclohexyloxy) silane - 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3.

이들 중에서, 불소 원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실 화합물을 이용하는 경우, 메틸트리메톡시실란 또는 메틸트리에톡시실란을 이용하는 것이 바람직하다. 이들 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는, 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Among these, organosilyl compounds having a fluorine atom are preferable. When using the organosil compound which does not have a fluorine atom as R, it is preferable to use methyl trimethoxysilane or methyl triethoxysilane. One of these organosilyl compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

화학식 3c의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3c의 성분은 식 R11 2Si(X11)2로 표현된 유기실릴 화합물이다 {R11및 X11은 화학식 3b의 성분으로 이용된 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11들은 동일한 기가 아닐 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디에틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디-n-프로필디메톡시실란, 디-n-프로필디에톡시실란, 디-i-프로필디메톡시실란, 디-i-프로필디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, (CF3CH2CH2)2Si(OCH3)2,(CF3CH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,(C3F7OCH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,[H(CF2)6CH2OCH2CH2CH2]2Si(OCH3)2및 (C2F5OCH2CH2)2Si(OCH3)2를 포함한다. 불소원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R11로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실릴 화합물을 이용하는 경우, 디메틸디메톡시실란 또는 디메틸디에톡시실란이 바람직하다. 화학식 3c의 성분으로 표현된 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.The component of general formula (3c) is demonstrated below. The component of formula 3c is an organosilyl compound represented by the formula R 11 2 Si (X 11 ) 2 {R 11 and X 11 are synonymous with R 11 and X 11 defined in the organosylyl compound used as component of formula 3b. Has}. Here, the plurality of R 11 may not be the same group. Specific examples of the organosilyl compound include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldiethoxysilane and di -i-propyldimethoxysilane, di-i-propyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, (CF 3 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , [H (CF 2 ) 6 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 ] 2 Si (OCH 3 ) 2 and (C 2 F 5 OCH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 . Organosilyl compounds having fluorine atoms are preferred. When using the organosilyl compound which does not have a fluorine atom as R11, dimethyl dimethoxysilane or dimethyl diethoxysilane is preferable. One of the organosilyl compounds represented by the component of the formula (3c) may be used alone or in combination of two or more thereof.

화학식 3d의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3d의 성분은 식 R11 3SiX11으로 표현된 유기실릴 화합물이다{여기서, R11및 X11은 화학식 3b 의 성분으로 이용되는 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11는 동일하지 않을 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리에틸메톡시실란, 트리에틸에톡시실란, 트리-n-프로필메톡시실란, 트리-n-프로필에톡시실란, 트리-i-프로필메톡시실란, 트리-i-프로필에톡시실란, 트리페닐메톡시실란 및 트리페닐에톡시실란을 포함한다.The component of general formula (3d) is demonstrated below. The component of formula 3d is an organosilyl compound represented by the formula R 11 3 SiX 11 (where R 11 and X 11 have the same meaning as R 11 and X 11 defined in the organosylyl compound used as component of formula 3b). }. Here, the plurality of R 11 may not be the same. Specific examples of this organosilyl compound include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, tri-n-propylmethoxysilane, tri-n-propylethoxysilane and tri -i-propylmethoxysilane, tri-i-propylethoxysilane, triphenylmethoxysilane and triphenylethoxysilane.

본 발명에서, 화학식 3a 내지 화학식 3d 의 성분 각각은 단독으로 이용될 수도 있지만 혼합물로서 이용될 수도 있고, 이 경우, 혼합 비율은, 화학식 3b는 성분 화학식 3a의 100 질량부에 대해 0 내지 100 질량부이고, 바람직하게는 1내지 60 질량부이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 40 질량부이고; 화학식 3c 성분은 화학식 3a성분의 100 질량부에 대해 바람직하게 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지3 질량부이며; 화학식 3d 성분 은 화학식 3a성분 100 질량부에 대해 바람직하게는 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지 3 질량부이다. 화학식 3a 성분 내지 화학식 3d 성분 중에서, 화학식 3a성분의 비율은 전체 유기실릴 화합물의 100질량% 중 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 화학식 3a성분의 비율이 30질량% 이상인 경우, 획득되는 필름 코팅의 접착성 또는 경화성의 감소와 같은 문제가 발생하지 않아서 바람직하다. 화학식 3a 내지 화학식 3d 성분 이외에, JP-A-2006-30740호 단락 [0039] 및 [0052] 내지 [0067] 에 기재된 화합물을 바람직하게 첨가할 수도 있고, 또는 여기 기재된 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 바람직하게 제작할 수도 있다.In the present invention, each of the components of Formulas 3a to 3d may be used alone but may be used as a mixture. In this case, the mixing ratio is 0 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the component Formula 3a. It is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 40 parts by mass; The component of the formula (3c) is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, even more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the formula (3a); The component of the formula 3d is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, even more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the formula 3a component. Among the formulas (3a) to (3d), the proportion of the formula (3a) is preferably 30 mass% or more in 100 mass% of the total organosilyl compounds. When the ratio of the component of Formula 3a is 30% by mass or more, problems such as a decrease in adhesiveness or hardenability of the obtained film coating do not occur, which is preferable. In addition to the components of Formulas 3a to 3d, the compounds described in paragraphs [0039] and [0052] to [0067] of JP-A-2006-30740 may be preferably added, or the coating composition for forming a low refractive index layer described herein may be It is also possible to produce preferably.

2.7 저굴절율층의 형성2.7 Formation of Low Refractive Index Layer

저굴절율층은 중공 입자, 불소 함유 경화성 수지, 유기실릴 화합물, 및 필요에 따라 그 밖의 임의의 성분이 그 내부에 용해 또는 분산된 코팅 조성물을 도포하고, 코팅과 동시에 또는 코팅 및 건조 후에, 전리 방사선의 조사 (예를 들어, 광 조사 또는 전자 빔의 조사) 또는 가열 하에서 가교 또는 중합 반응을 통해서 그 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다.The low refractive index layer is applied to a coating composition in which hollow particles, fluorine-containing curable resins, organosilyl compounds, and optionally other components are dissolved or dispersed therein, and simultaneously with or after coating and drying, ionizing radiation. It is preferably formed by curing the coating via irradiation (for example, irradiation of light or irradiation of an electron beam) or by crosslinking or polymerization under heating.

특히, 저굴절율층이 전리 방사선-경화성 화합물의 가교 또는 중합 반응을 통해서 형성되는 경우, 그 가교 또는 중합 반응은 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 저굴절율층을 형성함으로써, 물리적 강도 및 내약품성이 우수한 최외층이 획득될 수 있다. 산소 농도는 6체적% 이하인 것이 바람직하고, 4체적% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2체적% 이하인 것이 더욱 더 바람직하고, 1체적% 이하인 것이 가장 바람직하다. 10체적% 이하로 산소 농도를 감소시키기 위한 수단으로는, 대기 (질소 농도: 약 79체적%, 산소 농도: 약 21체적%) 를 다른 기체로 치환시키는 것이 바람직하고, 질소(질소 퍼지) 로의 치환이 더욱 바람직하다.In particular, when the low refractive index layer is formed through the crosslinking or polymerization reaction of the ionizing radiation-curable compound, the crosslinking or polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less. By forming the low refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less, the outermost layer excellent in physical strength and chemical resistance can be obtained. It is preferable that oxygen concentration is 6 volume% or less, It is more preferable that it is 4 volume% or less, It is further more preferable that it is 2 volume% or less, It is most preferable that it is 1 volume% or less. As a means for reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration: about 79% by volume, oxygen concentration: about 21% by volume) with another gas, and replace with nitrogen (nitrogen purge). This is more preferable.

3. 우레탄계 점착제 제조 방법3. Manufacturing method of urethane adhesive

본 발명에 따른 상기 점착제 조성물이 도포되는 코팅 기재는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것이 바람직하다.The coating substrate to which the pressure-sensitive adhesive composition is applied according to the present invention is preferably any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a polypropylene (PP) film or a polyethylene (PE) film.

3.1 점착제3.1 Adhesive

본 발명의 점착제는 상술한 우레탄 수지의 제조 방법으로 얻어진 우레탄 수지를 함유하는 것이다. 상기 제조 방법으로 얻어진 우레탄 수지는 그 자체로 점착 성능을 가지고 있기 때문에, 그대로 점착제로서 사용할 수 있다. 그러나, 우레탄 수지 중에 잔존하는 2급 수산기 또는 3급 수산기를 가교제로서의 폴리이소시아네이트 화합물과 더 반응시킴으로써, 재박리성이 보다 우수한 점착제를 얻을 수 있다. 즉, 본 발명은 상기 우레탄 수지 및 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 형성되는 점착제이다.The adhesive of this invention contains the urethane resin obtained by the manufacturing method of the urethane resin mentioned above. Since the urethane resin obtained by the said manufacturing method has adhesive performance by itself, it can be used as an adhesive as it is. However, by further reacting the secondary hydroxyl group or tertiary hydroxyl group remaining in the urethane resin with the polyisocyanate compound as a crosslinking agent, a pressure-sensitive adhesive having better re-peelability can be obtained. That is, this invention is an adhesive formed by making the said urethane resin and polyisocyanate compound react.

3.2 경화제3.2 Curing Agent

경화제로서 사용할 수 있는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 상기 폴리이소시아네이트 화합물 및 이들의 트리메틸올프로판 부가물형 변성체, 뷰렛형 변성체 또는 이소시아누레이트형 변성체 등의 다관능 폴리이소시아네이트가 이용된다. 그 중에서도 평균 관능기수 2 초과의 변성체인 것이 바람직하다. 예를 들면 듀라네이트 P301-75E(아사히 가세이사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 HDI, 이소시아네이트기 함유량: 12.9 질량%, 고형분: 75 질량%), 콜로네이트 L(닛본 폴리우레탄사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 TDI, 이소시아네이트기 함유량: 13.5 질량%, 고형분: 75 질량%) 등을 사용할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아네이트기 함유량(용액의 경우에는 용제를 제외함) 10 내지 30 질량%의 것을 우레탄 수지 100 질량부에 대하여 20 질량부 이하의 범위에서 반응시키는 것이 바람직하다. 보다 양호한 재박리성이 발휘되기 때문에 0.01 내지 10 질량부인 것이 보다 바람직하다. 이에 대하여, 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하지 않는 경우에는 응집력이 저하되어 응집 파괴되기 쉬워지고, 20 질량부를 초과하면 응집이 너무 강하여 점착력이 저하되는 경향이 있다. 이 폴리이소시아네이트 화합물의 사용량의 조정에 의해 점착제의 강도를 조정하는 것이 가능하기 때문에, 점착성과 강도가 균형을 이룬 점착제를 용이하게 얻을 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물은 피착체에 상기 점착제를 도공하기 직전에 우레탄 수지에 첨가하여 반응시키는 것이 바람직하다. 가교제와 우레탄 수지에 잔존하는 2급 수산기를 반응시킬 때는, 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다. 우레탄화 촉매로서는, 예비 중합체 생성 반응시에 사용되는 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다.As a polyisocyanate compound which can be used as a hardening | curing agent, polyfunctional polyisocyanate, such as the said polyisocyanate compound and these trimethylol propane adduct-type modified bodies, a biuret-type modified body, or an isocyanurate type modified body, is used. Especially, it is preferable that it is a modified body with an average number of functional groups more than two. For example, duranate P301-75E (made by Asahi Kasei Co., trimethylolpropane addition product type HDI, isocyanate group content: 12.9 mass%, solid content: 75 mass%), colonate L (made by Nippon Polyurethane company, trimethylol propane addition). Water type TDI, isocyanate group content: 13.5 mass%, solid content: 75 mass%), etc. can be used. As a polyisocyanate compound, what makes 10-30 mass% of isocyanate group content (except a solvent in the case of a solution) react with 20 mass parts or less with respect to 100 mass parts of urethane resins. Since better repeelability is exhibited, it is more preferable that it is 0.01-10 mass parts. On the other hand, when a polyisocyanate compound is not used, cohesion force falls and coagulation | rupture breaks easily, and when it exceeds 20 mass parts, there exists a tendency for cohesion to be too strong and adhesive force falls. Since the intensity | strength of an adhesive can be adjusted by adjustment of the usage-amount of this polyisocyanate compound, the adhesive which balanced adhesiveness and strength can be obtained easily. It is preferable that a polyisocyanate compound is added to a urethane resin and made to react just before coating the said adhesive to a to-be-adhered body. When making the secondary hydroxyl group which remain | survives in a crosslinking agent and a urethane resin, a urethanation catalyst can be used. As a urethanation catalyst, the urethanation catalyst used at the time of a prepolymer formation reaction can be used.

본 발명에서 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시킴으로써, 우레탄 수지에 잔존하는 2급 수산기 또는 3급 수산기를 통해 가교한 우레탄 수지는 점착 성능과 강도의 균형이 우수하고, 점착 성능을 유지하면서 재박리성이 우수하다고 추정된다. 또한, 상술한 우레탄 수지를 이용한 것이기 때문에 저비용이다. 또한, 아크릴계 화합물을 포함하지 않기 때문에 피착체에의 이행성, 피부 자극성이 낮다고 생각된다. 또한, 이 가교된 우레탄 수지는 분자량이 크고, 저온시에 단단해지기 어렵기 때문에, 점착력의 온도 의존성이 낮다고 생각된다. 또한, 고무계 점착제와 같이 저분자량 화합물이 표면으로 이행하지 않는다고 생각된다.By reacting the polyisocyanate compound in the present invention, the urethane resin crosslinked through the secondary or tertiary hydroxyl group remaining in the urethane resin is excellent in the balance of adhesion performance and strength, and excellent in re-peelability while maintaining the adhesion performance. It is estimated. Moreover, since it uses the urethane resin mentioned above, it is low cost. Moreover, since it does not contain an acryl-type compound, it is thought that migration to a to-be-adhered body and skin irritation are low. Moreover, since this crosslinked urethane resin has a large molecular weight and it is hard to harden at low temperature, it is thought that the temperature dependency of adhesive force is low. Moreover, it is thought that a low molecular weight compound does not migrate to the surface like a rubber adhesive.

3.3 실란커플링제3.3 Silane Coupling Agent

실란커플링제는 ITO층 또는 기재와의 접합시 점착력을 보다 강화하기 위한 것으로서, 공지의 실란커플링제를 사용할 수 있다. 바람직하게는 에폭시기를 함유하는 실란커플링제로서, 예를 들면 3-글리시독시프로필트리메톡 시실란을 사용할 수 있다. 실란커플링제의 에폭시기는 상기 아크릴계 공중합체의 가교 가능한 관능기와 결합하고, 알콕시실란 부분은 ITO필름의 ITO층을 강하게 결합함으로써 점착안정성을 향상시켜 내열내습 특성을 보다 향상시키며, 특히 높은 온도 또는 습도 조건하에서 장시간 방치하였을 경우 점착 내구성을 향상시키는데 도움을 주는 역할을 한다.A silane coupling agent is for further strengthening the adhesive force at the time of joining with an ITO layer or a base material, A well-known silane coupling agent can be used. Preferably, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane can be used as a silane coupling agent containing an epoxy group. The epoxy group of the silane coupling agent is bonded to the crosslinkable functional group of the acrylic copolymer, and the alkoxysilane moiety strongly bonds the ITO layer of the ITO film to improve adhesive stability, thereby improving heat and moisture resistance characteristics, and especially at high temperature or humidity conditions. When left under a long time under the role of helping to improve the adhesion durability.

상기 실란커플링제는 우레탄계 공중합체(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 0.01 내지 1중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.01중량부 미만인 경우에는 ITO필름의 ITO층과의 점착력이 취약할 수 있으며, 1중량부를 초과하는 경우에는 리워크성이 좋지 못하다.The silane coupling agent is preferably included 0.01 to 1 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer (based on the solid content). If the content is less than 0.01 parts by weight, the adhesive force with the ITO layer of the ITO film may be weak, when the content exceeds 1 part by weight is not good rework.

이하, 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration and effects of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, this embodiment is intended to illustrate the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1]Example 1

먼저, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al 및 Sb에서 선택되는 적어도 하나의 금속의 산화물을 포함하는 무기 미립자 중에서 Antimony Zinc Oxide(AZO) 8중량부와 아크릴 모노머 3중량부, 광개시제 0.5중량부, 용매로서 PGME 88.5중량부를 포함하는 고굴절의 고경도층용 코팅 조성물을 #2번 메이어바를 이용해 80㎛ 두께의 폴리에스테르 기재(PET Film, 굴절율: 1.65, 도레이첨단소재(주))에 도포한 후, 100℃ 에서 2분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 광학두께가 100nm이고, 굴절율이 1.67인 고굴절의 고경도층을 형성하였다.First, 8 parts by weight of Antimony Zinc Oxide (AZO), 3 parts by weight of an acrylic monomer, and 0.5 parts by weight of a photoinitiator among inorganic fine particles containing an oxide of at least one metal selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al, and Sb. After coating a high refractive index coating composition containing 88.5 parts by weight of PGME as a solvent to a polyester substrate (PET film, refractive index: 1.65, Toray Advanced Materials Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using # 2 Mayer bar, It dried at 100 degreeC for 2 minutes, hardened | cured by ultraviolet irradiation, and formed the high refractive index high hardness layer of optical thickness of 100 nm and refractive index of 1.67.

다음으로, 무기 미립자인 중공 실리카 입자가 10 중량부, 아크릴계 모노머 수지 4중량부 와 광개시제 0.5중량부, 용매로서 PGME 85.5중량부를 포함하는 저굴절율층용 코팅 조성물을 #2번 메이어바를 이용해 상기 고굴절층에 도포한 후, 건조기에서 100℃, 2분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 80nm이고, 굴절율이 1.31인 저굴절율층을 형성하였다.Next, a low refractive index layer coating composition comprising 10 parts by weight of hollow silica particles as inorganic fine particles, 4 parts by weight of an acrylic monomer resin, 0.5 parts by weight of a photoinitiator, and 85.5 parts by weight of PGME as a solvent was added to the high refractive layer using # 2 Mayer bar. After application, the resultant was dried in a drier at 100 ° C. for 2 minutes and cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive index layer having a thickness of 80 nm and a refractive index of 1.31.

마지막으로, 하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부와 실란커플링제 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물(고형분 함량 기준)을 이형필름에 코팅한 다음, 상기 고굴절의 고경도층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 상온에서 7일 숙성하여 점착층을 제조하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Finally, the pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass transition temperature: -47 ℃, gel fraction: 85%) containing a hydroxyl group 1.0wt% isocyanate type A pressure-sensitive adhesive composition (based on solids content) comprising 1.3 parts by weight of a curing agent and 0.05 parts by weight of a silane coupling agent was coated on a release film, and then a pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25 μm was formed on the opposite side of the PET base film having the high refractive index layer. 7 days of aging at room temperature and transfer paper to prepare an adhesive layer to prepare a composite film for capacitive touch panel.

[실시예 2][Example 2]

굴절율이 1.33인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.33 was formed.

[실시예 3][Example 3]

굴절율이 1.35인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 was formed.

[실시예 4]Example 4

굴절율이 1.37인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.37 was formed.

[실시예 5][Example 5]

굴절율이 1.39인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.39 was formed.

[비교예 1]Comparative Example 1

굴절율이 1.41인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the low refractive index layer having a refractive index of 1.41 was formed.

[비교예 2]Comparative Example 2

굴절율이 1.43인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.43 was formed.

[비교예 3]Comparative Example 3

굴절율이 1.45인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.45 was formed.

[비교예 4][Comparative Example 4]

굴절율이 1.47인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.47 was formed.

[비교예 5][Comparative Example 5]

굴절율이 1.49인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.49 was formed.

상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 1을 통해 표면 반사율을 측정하고 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.Using the composite film for capacitive touch panel according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 to measure the surface reflectance through the following Experimental Example 1 and the results are shown in Table 1 below.

[실험예 1][Experimental Example 1]

380 내지 780 nm 의 파장 영역 중 입사각 (=반사각) 5°에서 표면 반사율을 어댑터 장치된 UV Spectrophometer[Shimazu UV-PC3600]를 이용하여, 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 반대 면에 검은색 무광택 테이프나 무광택 페인트를 사용하여, 검은색으로 배면처리 후 표면 반사율을 측정하였다. 이 후 480 내지 680 nm범위에서 평균 경면 반사율을 계산하여 반사방지 성능을 평가하였다.Black matte tape on the opposite side of the composite film for capacitive touch panels using a UV Spectrophometer [Shimazu UV-PC3600] equipped with an adapter for surface reflectance at an angle of incidence (= reflection angle) of 5 ° in the wavelength region of 380 to 780 nm. The surface reflectance was measured after the backside treatment was black by using a matte paint. After that, the average mirror reflectance was calculated in the range of 480 to 680 nm to evaluate the antireflection performance.

고굴절의 고경도층의
굴절률(n1)
Of high refractive hardness layer
Refractive index (n1)
저굴절율층의
굴절률(n2)
Low refractive index
Refractive index (n2)
480~680nm에서의
평균경면반사율(%)
At 480 ~ 680nm
Average mirror reflectance (%)
실시예 1Example 1 1.671.67 1.311.31 0.240.24 실시예 2Example 2 1.671.67 1.331.33 0.460.46 실시예 3Example 3 1.671.67 1.351.35 0.680.68 실시예 4Example 4 1.671.67 1.371.37 0.940.94 실시예 5Example 5 1.671.67 1.391.39 1.351.35 비교예 1Comparative Example 1 1.671.67 1.411.41 1.641.64 비교예 2Comparative Example 2 1.671.67 1.431.43 1.881.88 비교예 3Comparative Example 3 1.671.67 1.451.45 2.012.01 비교예 4Comparative Example 4 1.671.67 1.471.47 2.352.35 비교예 5Comparative Example 5 1.671.67 1.491.49 2.552.55

[실시예 6][Example 6]

실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 하이드록실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부 및 실란커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란) 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물을 이형필름에 코팅하여 상기 고굴절율층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.After the high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET base film described in Example 1 were configured in the same manner, the pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass) containing 0.5 wt% of hydroxyl groups Transition temperature: -47 DEG C, gel fraction: 85%) A pressure-sensitive adhesive composition containing 1.3 parts by weight of isocyanate curing agent and 0.05 parts by weight of silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) was added to 100 parts by weight of the release film. By coating and laminating a pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 20㎛ on the opposite surface of the PET substrate film formed by coating the high refractive index layer to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 7][Example 7]

하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except that the pressure-sensitive adhesive composition containing a hydroxyl group 1.0wt% was carried out in the same manner as in Example 6 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 8][Example 8]

하이드록실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Example 6 except that the adhesive composition containing 2.5 wt% of hydroxyl groups was used.

[실시예 9][Example 9]

하이드록실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Example 6 except that the adhesive composition containing 5.0 wt% of hydroxyl groups was used.

[실시예 10][Example 10]

하이드록실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Example 6 except that the adhesive composition containing 10.0 wt% of hydroxyl group was used.

[비교예 6][Comparative Example 6]

상기 실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 카르복실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 에폭시계 경화제 1.3중량부 및 실란커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란) 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물을 이형필름에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.After the high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET base film described in Example 1 were configured in the same manner, the pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass transition) containing 0.5wt% of carboxyl groups Temperature: -47 DEG C, gel fraction: 85%) A pressure-sensitive adhesive composition comprising 1.3 parts by weight of an epoxy curing agent and 0.05 parts by weight of a silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) was coated on a release film to 100 parts by weight. The transfer film was laminated and aged with an adhesive having a dry thickness of 20 μm on the antireflection film to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 7][Comparative Example 7]

카르복실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Comparative Example 6 except that the pressure-sensitive adhesive composition containing 1.0 wt% of a carboxyl group was used.

[비교예 8][Comparative Example 8]

카르복실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Comparative Example 6 except that the adhesive composition containing 2.5 wt% of the carboxyl group was used.

[비교예 9][Comparative Example 9]

카르복실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Comparative Example 6 except that the pressure-sensitive adhesive composition containing 5.0 wt% of the carboxyl group was used.

[비교예 10][Comparative Example 10]

카르복실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except for using the pressure-sensitive adhesive composition containing 10.0wt% carboxyl group was carried out in the same manner as in Comparative Example 6 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

상기 실시예 6 내지 10 및 비교예 6 내지 10에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 2를 통해 전류량 변화율을 측정하고 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.By using the composite film for capacitive touch panel according to Examples 6 to 10 and Comparative Examples 6 to 10 through the following Experimental Example 2 to measure the current change rate and the results are shown in Table 2 below.

[실험예 2][Experimental Example 2]

도 2에 도시된 방식으로 합지한 후 85℃*95%*500hr 신뢰성 후 전류량 측정기(MCP-T600)를 이용하여 전류량을 측정하여, 전류 변화량을 확인하였습니다.After laminating in the manner shown in Figure 2 after 85 ℃ * 95% * 500hr reliability after measuring the amount of current using the amperage meter (MCP-T600), the amount of current change was confirmed.

점착제 조성물의
관능기 종류
Of pressure-sensitive adhesive composition
Functional group kind
점착제 조성물의
관능기 함량(wt%)
Of pressure-sensitive adhesive composition
Functional group content (wt%)
전류 변화율(%)
[85℃*95%*500hr]
Current rate of change (%)
[85 ℃ * 95% * 500hr]
실시예 6Example 6 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 0.50.5 0.010.01 실시예 7Example 7 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 1.01.0 0.010.01 실시예 8Example 8 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 2.52.5 0.010.01 실시예 9Example 9 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 55 0.010.01 실시예 10Example 10 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 1010 0.010.01 비교예 6Comparative Example 6 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 0.50.5 6161 비교예 7Comparative Example 7 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 1.01.0 6969 비교예 8Comparative Example 8 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 2.52.5 8787 비교예 9Comparative Example 9 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 55 9292 비교예 10Comparative Example 10 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 1010 114114

[실시예 11]Example 11

실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부와 실란커플링제 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물(고형분 함량 기준)을 이형필름에 코팅하여 상기 고굴절율층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.The same composition of the high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET substrate film described in Example 1 was followed, and the pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass) contained 1.0 wt% of hydroxyl groups. Transition temperature: -47 DEG C, gel fraction: 85%) The high refractive index layer was coated with a pressure-sensitive adhesive composition (based on solids content) containing 1.3 parts by weight of isocyanate-based curing agent and 0.05 parts by weight of silane coupling agent. Transfer laminated and matured pressure-sensitive adhesive with a dry thickness of 20㎛ on the opposite surface of the formed PET base film to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 12][Example 12]

실란커플링제 0.25중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 11 except that 0.25 part by weight of the silane coupling agent was used.

[실시예 13][Example 13]

실란커플링제 0.50중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except that 0.50 parts by weight of the silane coupling agent was carried out in the same manner as in Example 11 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 14]Example 14

실란커플링제 0.75중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except for using a silane coupling agent 0.75 parts by weight was carried out in the same manner as in Example 11 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 15]Example 15

실란커플링제 1.00중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except that 1.00 parts by weight of the silane coupling agent was carried out in the same manner as in Example 11 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 11]Comparative Example 11

실란커플링제를 사용하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except not using a silane coupling agent was carried out in the same manner as in Example 11 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 12][Comparative Example 12]

실란커플링제 1.25중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Except that using 1.25 parts by weight of the silane coupling agent was carried out in the same manner as in Example 11 to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 13][Comparative Example 13]

실란커플링제 1.50중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was prepared in the same manner as in Example 11 except that 1.50 parts by weight of a silane coupling agent was used.

[비교예 14][Comparative Example 14]

실란커플링제 1.75중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A capacitive touch panel composite film was manufactured in the same manner as in Example 11, except that 1.75 parts by weight of the silane coupling agent was used.

[비교예 15]Comparative Example 15

실란커플링제 2.00중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was manufactured in the same manner as in Example 11 except that 2.00 parts by weight of a silane coupling agent was used.

상기 실시예 11 내지 15 및 비교예 11 내지 15에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 3을 통해 점착력 측정 및 점착제 층 잔사 확인을 하고 그 결과를 다음 표 3에 나타내었다.Using the composite film for a capacitive touch panel according to Examples 11 to 15 and Comparative Examples 11 to 15 through the following Experimental Example 3 to determine the adhesive force and confirm the residue of the adhesive layer and the results are shown in Table 3 below It was.

[실험예 3][Experimental Example 3]

정전용량방식 터치패널용 복합필름을 폭 25mm, 길이 175mm로 재단 후 상온에서 ITO 필름(니또덴코社 double layer ITO Film)에 합지한 후 상온에서 1시간 방치 후에 박리력 측정기(AR1000, ChemInstruments 社)이용하여, 박리속도를 300mm/min로 하여 점착력을 측정하였다. 또한 박리 후 ITO 필름에 점착제 층의 잔사가 남아 있는지를 육안으로 확인하였다.After cutting the composite film for capacitive touch panel to 25mm in width and 175mm in length, after laminating it to ITO film (Nitto Denko's double layer ITO Film) and leaving it at room temperature for 1 hour, using peel force measuring device (AR1000, Chem Instruments) The adhesive force was measured at a peel rate of 300 mm / min. In addition, it was visually confirmed whether the residue of the adhesive layer remained on the ITO film after peeling.

점착제 조성물Pressure-sensitive adhesive composition 실란커플링제 함량(wt%)Silane coupling agent content (wt%) 점착력
(gf/25mm)
adhesiveness
(gf / 25mm)
점착층 잔사
(재작업성)
Adhesive layer residue
(Reworkability)
실시예 11Example 11 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 0.050.05 711711 실시예 12Example 12 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 0.250.25 924924 실시예 13Example 13 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 0.500.50 11361136 실시예 14Example 14 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 0.750.75 15421542 실시예 15Example 15 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 1.001.00 18981898 비교예 11Comparative Example 11 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 0.000.00 506506 비교예 12Comparative Example 12 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 1.251.25 20142014 XX 비교예 13Comparative Example 13 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 1.501.50 23552355 XX 비교예 14Comparative Example 14 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 1.751.75 24542454 XX 비교예 15Comparative Example 15 우레탄계 공중합체Urethane Copolymer 2.002.00 24982498 XX

본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다. It is to be understood that the present invention is not limited to the above embodiments and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention.

1: ITO층 2: 인쇄층
3: 인출선(Ag) 4: 점착층(Acid Free)
5: PET 필름 6: 고굴절율층
7: 저굴절율층 8: 양면테이프
9: 화질향상필름
1: ITO layer 2: printed layer
3: leader line (Ag) 4: adhesive layer (Acid Free)
5: PET film 6: high refractive index layer
7: low refractive index layer 8: double sided tape
9: quality improvement film

Claims (9)

정전용량방식 터치패널용 복합필름에 있어서,
투명한 기재필름과
상기 기재필름 상에 순차적으로 코팅된 굴절률이 다른 2층 이상의 코팅층으로서, 상기 코팅층의 최상층은 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층으로 이루어진 코팅층과,
상기 코팅층이 형성된 상기 기재필름의 반대 면에 형성된 점착층으로서, 우레탄계 공중합체 수지와 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
In the composite film for capacitive touch panel,
Transparent base film
A two or more coating layers having different refractive indices sequentially coated on the base film, wherein the top layer of the coating layer is formed of a low refractive index layer having a refractive index of 1.31 to 1.40;
A pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite side of the base film on which the coating layer is formed, the pressure-sensitive adhesive layer coated with a pressure-sensitive adhesive composition comprising a urethane-based copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent. Composite film.
제1항에 있어서,
상기 저굴절율층은 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 0.1~1.5%의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 갖는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The low refractive index layer is characterized in that it has an average specular reflectance of 0.1 to 1.5% at a 5 ° incidence angle in the wavelength range of 480 to 680 nm, a composite film for a capacitive touch panel.
제1항에 있어서,
상기 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.5% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The transmittance and haze of the capacitive touch panel composite film are 93.5% or more and 1.5% or less, respectively.
제1항에 있어서,
상기 저굴절율층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The water contact angle of the low refractive index layer is 85 ° or less, characterized in that the composite film for capacitive touch panel.
제1항에 있어서,
상기 우레탄계 공중합체 수지와 상기 경화제는 애시드 프리(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The urethane-based copolymer resin and the curing agent has an acid free (Acid free) functional group, wherein the adhesive layer is characterized in that the wet coating, capacitive touch panel composite film.
제1항에 있어서,
상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 형성 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
After the formation of the adhesive layer coated with a pressure-sensitive adhesive composition containing the urethane-based copolymer resin, the current change rate of the base film is characterized in that less than 20%, capacitive touch panel composite film.
제1항에 있어서,
상기 실란커플링제는 상기 우레탄계 공중합체 수지 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The silane coupling agent comprises 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer resin, composite film for a capacitive touch panel.
제1항에 있어서,
상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착제 조성물의 점착력은 2 내지 25N/25mm인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method of claim 1,
The coating thickness of the pressure-sensitive adhesive layer coated with the pressure-sensitive adhesive composition containing the urethane-based copolymer resin is 10 to 100㎛, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition is characterized in that 2 to 25N / 25mm, composite for capacitive touch panel film.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The base film is any one of polyethylene terephthalate (PET) film, triacetate cellulose (TAC) film, polypropylene (PP) film or polyethylene (PE) film, composite film for capacitive touch panel.
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