KR101798655B1 - Composite film for electrostatic capacity type touch screen panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로서, 화질을 향상시킬 수 있고, 또한 산을 포함하지 않는 점착층을 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층의 산화를 방지함으로써 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 할 수 있는 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 투명한 기재필름과 상기 기재필름 상에 순차적으로 코팅된 굴절률이 다른 2층 이상의 코팅층으로서, 상기 코팅층의 최상층은 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층으로 이루어진 코팅층과 상기 코팅층이 형성된 상기 기재필름의 반대 면에 형성된 점착층으로서, 우레탄계 공중합체 수지와 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 한다.[0001] The present invention relates to a composite film for a capacitive touch panel, and more particularly, to a composite film for a capacitive touch panel that minimizes reflection due to light emitted from a BLU of an LCD and improves transmittance, (Ag) layer of the ITO film of the ITO film and the silver (Ag) layer of the lead wire by integrating the adhesive layer which is formed on the ITO film, will be. To this end, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention comprises a transparent base film and a coating layer of two or more layers having different refractive indices sequentially coated on the base film, wherein the uppermost layer of the coating layer has a low refractive index of 1.31 to 1.40 And a pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite side of the base film on which the coating layer is formed, the pressure-sensitive adhesive layer being coated with a pressure-sensitive adhesive composition comprising a urethane-based copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent.

Description

정전용량방식 터치패널용 복합필름{COMPOSITE FILM FOR ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a composite film for a capacitive touch panel,

본 발명은 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로서, 화질을 향상시킬 수 있고, 또한 산을 포함하지 않는 점착층을 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층의 산화를 방지함으로써 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 할 수 있는 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 관한 것이다.[0001] The present invention relates to a composite film for a capacitive touch panel, and more particularly, to a composite film for a capacitive touch panel that minimizes reflection due to light emitted from a BLU of an LCD and improves transmittance, (Ag) layer of the ITO film of the ITO film and the silver (Ag) layer of the lead wire by integrating the adhesive layer which is formed on the ITO film, will be.

일반적으로, 터치스크린패널(Touch Screen Panel)은 디스플레이 장치의 표면에 장착되어 사용자의 손가락 또는 터치펜 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하여 출력하는 장치로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), EL(Electro-luminescence)소자 등에 응용되고 있다.2. Description of the Related Art Generally, a touch screen panel is a device mounted on a surface of a display device to convert physical contact of a user's finger or a touch pen into an electrical signal and output. The touch screen panel includes a liquid crystal display, Display panel (Plasma Display Panel), and EL (Electro-luminescence) devices.

이와 같은 터치패널은 동작 원리에 따라 크게 정전용량 방식, 저항막 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분되며, 이중 정전용량 방식과 저항막 방식이 현재 널리 이용되고 있다. 최근에는, 저항막 방식에 비교하여 내구성 및 투과율 측면에서 특성이 우수한 정전용량 방식이 각광받고 있다.Such a touch panel is largely classified into a capacitive type, a resistive type, an ultrasonic type, and an infrared type according to the operation principle, and both the capacitive type and the resistive type are widely used today. In recent years, a capacitance type having excellent characteristics in terms of durability and transmittance has been spotlighted as compared with the resistance film type.

이러한 정전용량 방식 터치패널의 구조를 살펴보면 도 1과 같다. 도 1은 종래 기술에서 진보된 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이 터치패널용 글라스 위의 엣지(Edge)부위에 인쇄층(2)이 있고 그 위에 증착된 ITO층(1)이 있는데, 이러한 ITO층(1)을 증착한 후 에칭을 통해 패턴을 형성하고 양끝부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널이 제작된다. 도 1에서 식별번호 "9"는 본 발명의 일 실시예에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름으로서 후술한다.The structure of such a capacitive touch panel is shown in FIG. 1 is a cross-sectional view of an integrated capacitance type touch screen panel to which a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention advanced in the related art is applied. As shown in FIG. 1, there is a printed layer 2 on the edge of a glass for a touch panel, and there is an ITO layer 1 deposited thereon. After the ITO layer 1 is deposited, And the Ag layer 3, which is an outgoing line, is placed on both ends, thereby forming a capacitive touch panel. In Fig. 1, the identification number "9" is described below as a composite film for a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention.

또한 화질향상 필름의 점착층이 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생하고 있다. 또한 일반적인 점착층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착층은 ITO필름과 합지하게 되면, 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 또한 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주가공으로 진행하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제가 많이 대두되고 있는 실정이다.In addition, the adhesive layer of the image quality improving film is in contact with the ITO layer, which is an inorganic substance, and the adhesive force of the adhesive decreases with respect to the inorganic substrate. In addition, the general adhesive layer contains an acid in the functional group, and when the adhesive layer containing an acid is bonded to the ITO film, the Ag layer of the ITO layer and the outgoing wire is oxidized over time, Occurs. In addition, in the touch panel industry, the image quality improvement film and the adhesive film are purchased separately, and the laminating process is outsourced. Since the two films are purchased separately, the problem of defect management in the management problem and outsourcing Price, and low yield.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 표면 반사율을 최소화시킴과 동시에 투과율을 향상시켜 화질을 개선할 수 있고, ITO 및 인출선(Ag paste) 층의 산화를 방지함과 동시에, 무기물 기재인 ITO 필름과의 기재 밀착력을 향상시킬 수 있는 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to minimize the surface reflectance and improve the transmittance to improve the image quality and to prevent the oxidation of the ITO and the Ag paste layer The present invention also provides a composite film for a capacitive touch panel capable of improving adhesion of a substrate to an ITO film as an inorganic material.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.

상기 목적은, 투명한 기재필름과 상기 기재필름 상에 순차적으로 코팅된 굴절률이 다른 2층 이상의 코팅층으로서, 상기 코팅층의 최상층은 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층으로 이루어진 코팅층과 상기 코팅층이 형성된 상기 기재필름의 반대 면에 형성된 점착층으로서, 우레탄계 공중합체 수지와 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량방식 터치패널용 복합필름에 의해 달성된다.The above object can be achieved by a transparent substrate film and a coating layer of two or more layers having different refractive indices sequentially coated on the base film, wherein the uppermost layer of the coating layer comprises a coating layer composed of a low refractive index layer having a refractive index of 1.31 to 1.40, And a pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite surface of the film, the pressure-sensitive adhesive layer being coated with a pressure-sensitive adhesive composition comprising a urethane-based copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent.

여기서, 상기 저굴절율층은 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 0.1~1.0%의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 갖는 것을 특징으로 한다.Here, the low refractive index layer has an average specular reflectance of 0.1 to 1.0% at an incident angle of 5 ° in a wavelength region of 480 to 680 nm.

바람직하게는, 상기 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.5% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the composite film for a capacitive touch panel has a transmittance and a haze (HAZE) of 93.5% or more and 1.5% or less, respectively.

바람직하게는, 상기 저굴절율층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the water contact angle of the low refractive index layer is 85 DEG or less.

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지와 상기 경화제는 애시드 프리(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 한다.Preferably, the urethane-based copolymer resin and the curing agent have an acid-free functional group, and the pressure-sensitive adhesive layer is wet-coated.

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 형성 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 한다.Preferably, the current change rate of the base film after formation of the pressure-sensitive adhesive layer coated with the pressure-sensitive adhesive composition comprising the urethane-based copolymer resin is 20% or less.

바람직하게는, 상기 실란커플링제는 상기 우레탄계 공중합체 수지(고형분 함량 기준) 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the silane coupling agent is contained in an amount of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer resin (based on the solid content).

바람직하게는, 상기 우레탄계 공중합체 수지를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착제 조성물의 점착력은 2 내지 25N/25mm인 것을 특징으로 한다.Preferably, the coating thickness of the pressure-sensitive adhesive layer coated with the pressure-sensitive adhesive composition containing the urethane-based copolymer resin is 10 to 100 탆, and the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive composition is 2 to 25 N / 25 mm.

바람직하게는, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.Preferably, the base film is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film, and a polyethylene (PE) film.

본 발명에 따르면, LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로서, 화질을 향상시킬 수 있고, 또한 산을 포함하지 않는 점착층을 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층의 산화를 방지함으로써 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 할 수 있는 등의 효과를 가진다.According to the present invention, it is possible to improve the image quality by minimizing the reflection of light from the BLU of the LCD and improving the transmittance, and by integrating the adhesive layer not containing an acid, the ITO layer of the ITO film and the outgoing line It is possible to prevent the oxidation of the silver (Ag) layer, thereby securing the electrical stability and simplifying the process and reducing the cost.

도 1은 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도.
도 2는 전류 변화량 확인실험을 위한 도식도.
1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a schematic diagram for testing the current change amount. FIG.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that these embodiments are provided by way of illustration only for the purpose of more particularly illustrating the present invention and that the scope of the present invention is not limited by these embodiments .

일반적인 투명한 기재필름과 하드코팅층을 가진 필름의 경우 표면의 반사율이 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 3 ~ 5% 의 평균 경면 반사율(avergae specular reflectance)을 가지기 때문에, 외부 광원에 의한 반사율이 높아서 표면에서 반사가 많이 이루어져 반사된 빛에 의해 디스플레이의 화질을 떨어뜨리는 문제가 발생하게 된다. 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 투명한 기재필름 상에 굴절률이 서로 다른 2층 이상의 코팅층을 구성하고, 최상층에는 방오 성분이 포함되어 있지 않는 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층을 구성함으로써, 외부에서 들어오는 빛을 다층의 굴절률 조절층을 통해 표면 반사율을 최소화시킴과 동시에 투과율을 향상시켜 화질을 개선하였다.In the case of a film having a general transparent base film and a hard coating layer, since the reflectance of the surface has an average specular reflectance of 3 to 5% at an incident angle of 5 ° in a wavelength range of 480 to 680 nm, Is high, so that a large amount of reflection occurs on the surface, which causes a problem that the image quality of the display is deteriorated by the reflected light. In order to solve the above-mentioned problems, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention comprises two or more coating layers having different refractive indices on a transparent base film, and the uppermost layer has a refractive index of 1.31 To 1.40, thereby improving the image quality by improving the transmittance and minimizing the surface reflectance of the light coming from the outside through the refractive index control layer of multiple layers.

또한, 화질향상필름의 점착제층은 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 경화제를 포함한 점착제 조성물에 ITO층과 수소결합을 이룰 수 있는 실란커플링제를 부가하여, ITO층과의 밀착력을 향상시킴으로써, 점착력을 개선하였다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer of the image quality improving film is in contact with the ITO layer, which is an inorganic substance, and a general problem occurs in that the pressure-sensitive adhesive has a low adhesive strength to the inorganic substrate. In order to solve the above problems, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is characterized by adding a silane coupling agent capable of forming a hydrogen bond with an ITO layer to a pressure-sensitive adhesive composition containing a curing agent to improve adhesiveness to the ITO layer Thereby improving adhesion.

또한, 일반적인 점착제층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착제층을 ITO필름과 합지하게 되는데, 이런 경우 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 점착제층에 포함되는 우레탄 공중합체 수지의 관능기를 하이드록시기로 도입하고, 경화제를 이소시아네이트계로 설계함으로써, 전기적 안정성을 확보하였다.In addition, the general pressure-sensitive adhesive layer contains an acid in the functional group, and the pressure-sensitive adhesive layer containing the acid bonds with the ITO film. In this case, the Ag layer of the ITO layer and the lead wire is oxidized The problem arises. In order to solve the above problems, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is characterized in that the functional group of the urethane copolymer resin contained in the pressure-sensitive adhesive layer is introduced into a hydroxy group and the curing agent is designed to an isocyanate system, Respectively.

또한, 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주 가공하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제점이 대두되고 있는 실정이므로 본 발명에서는 상기 두 필름을 일체화함으로써, 상기와 같은 문제를 해결하였다.In addition, in the touch panel industry, the image quality improvement film and the adhesive film are separately purchased and the laminating process is outsourced. Since the two films are purchased separately, there is a problem of defective management which occurs in the management problem and outsourcing , And low yield. Therefore, the present invention solves the above problems by integrating the two films.

따라서 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름은 화질향상, 산화방지 및 비산방지의 기능을 할 수 있는 복합 기능을 가진 필름이 되는 것이다. Accordingly, the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention is a film having a composite function capable of improving image quality, preventing oxidation, and preventing scattering.

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도인 도 1로부터 확인할 수 있는 바와 같이, 터치패널용 글라스 위의 엣지(Edge)부위에 인쇄층(2)이 있고 그 위에 증착된 ITO층(1)이 있는데, 이러한 ITO층(1)을 증착한 후 에칭을 통해 패턴을 형성하고 양끝부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널이 제작되므로 하판에 ITO층 및 Ag층이 오게 된다. 따라서 위 두층(ITO층 및 Ag층)은 공기(산소) 중에 노출되면 산화되는 특성으로 인해, 전기전도도가 나빠지는 단점이 있다. 이를 보완하기 위해 ITO및 Ag층을 보호하는 또 하나의 보호막을 형성하게 되는데, 이 보호막인 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제공하는 것이 본 발명의 목적이 된다. 이러한 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 구조는 플라스틱 기재(5)위에 ITO및 Ag층의 산화방지를 위해 산(acid)을 포함하지 않는 점착층(4)을 형성하고, 그 반대 면에 투과율과 시인성을 좋게 하는 반사방지기능을 부여하기 위해 고굴절율층(6)과 저굴절율층(7)과 같은 굴절률이 서로 다른 2층 이상의 코팅층을 포함한다.1, which is a sectional view of a monolithic capacitive touch screen panel using a composite film for a capacitive touch panel according to the present invention, a printed layer 2 is formed on an edge portion on a glass for a touch panel, And the ITO layer 1 deposited thereon is deposited. After the ITO layer 1 is deposited, a pattern is formed through etching and the Ag layer 3, which is an outgoing line, The ITO layer and the Ag layer come to the bottom plate. Therefore, the two layers (ITO layer and Ag layer) are oxidized when exposed to air (oxygen), resulting in deterioration of electrical conductivity. In order to compensate for this, another protective film for protecting ITO and Ag layer is formed. It is an object of the present invention to provide a composite film for a capacitive touch panel, which is the protective film. The structure of such a composite film for capacitive touch panel is such that an adhesive layer 4 not containing an acid is formed on the plastic substrate 5 to prevent the oxidation of ITO and Ag layers, And two or more coating layers having different refractive indexes such as the high refractive index layer 6 and the low refractive index layer 7 in order to impart an antireflection function for improving the visibility.

이하 본 발명의 구성요소에 대해 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, the components of the present invention will be described in detail.

1. 고굴절의 고경도층 제조1. High hardness layer manufacturing

1.1 고굴절의 고경도층1.1 High hardness layer of high refractive index

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 필수 박막층인 고굴절의 고경도층의 굴절률은 1.50 내지 1.60이며, 보다 바람직하게는 1.52 내지 1.56이다. 이러한 고굴절의 고경도층을 형성하는 방법으로서, 화학 기상 증착 (CVD) 또는 물리 기상 증착 (PVD), 특히 물리 기상 증착법의 한 종류인 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 산화물의 투명 박막을 사용할 수도 있지만, 올-웨트 코팅 (all-wet coating) 에 의해 형성된 박막이 바람직하다.The refractive index of the high-hardness high-hardness layer, which is an essential thin film layer of the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention, is 1.50 to 1.60, and more preferably 1.52 to 1.56. As a method for forming such a high hardness layer of high refractive index, a transparent thin film of an inorganic oxide formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), in particular, by vacuum vapor deposition or sputtering, which is one kind of physical vapor deposition , A thin film formed by all-wet coating is preferable.

또한, 고굴절의 고경도층은 Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al 및 Sb에서 선택되는 적어도 하나의 금속의 산화물을 포함하는 무기 미립자와 음이온성 분산제와 3관능 이상의 중합성기를 함유하는 경화성 수지(이후, "바인더"라고 칭하는 경우도 있음)와 중합개시제 및 용매를 함유하는 코팅 조성물을 도포하고, 용매를 건조하고, 가열 및 전리 방사선의 조사 중 하나의 수단 또는 양쪽 수단에 의해 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 경화성 수지 또는 개시제를 사용하는 경우, 경화성 수지는 코팅 이후 가열 및 또는 전리 방사선의 영향에 의한 중합 반응을 통해 경화되므로, 내찰상성 및 접착성이 우수한 고굴절의 고경도층을 형성할 수 있다.The high hardness layer of the high refractive index is composed of an inorganic fine particle containing an oxide of at least one metal selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al and Sb, an anionic dispersant and a curable resin (Hereinafter also referred to as a "binder "), a coating composition containing a polymerization initiator and a solvent, drying the solvent, and curing the coating by one or both means of heating and irradiation of ionizing radiation . In the case of using a curable resin or an initiator, since the curable resin is hardened through polymerization reaction by heating and / or ionizing radiation after the coating, a high-refractive-index high-hardness layer excellent in scratch resistance and adhesiveness can be formed.

1.2 무기 미립자1.2 Inorganic fine particles

무기 미립자로는 금속 (예컨대, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, Al) 의 산화물이 바람직하고, 굴절률 관점에서, 산화지르코늄의 미립자가 가장 바람직하다. 그러나, 도전성의 관점에서, Sb, In 및 Sn 중 적어도 하나의 금속의 산화물을 주성분으로 하는 무기 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 굴절률은 무기 미립자의 양을 변경함으로써 소정 범위로 조정될 수 있다. 산화지르코늄을 주성분으로서 사용하는 경우, 층내의 무기 미립자의 평균 입자직경은 1 내지 120nm가 바람직하고, 1 내지 60nm가 더욱 바람직하고, 2 내지 40nm가 더욱 더 바람직하다. 이 범위는 헤이즈를 감소시키고 분산 안정성 및 표면상의 적절한 요철에 의해 상부층으로의 접착성을 개선하기 때문에 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 산화지르코늄을 주성분으로서 포함하는 무기 미립자의 굴절률은 1.90 내지 2.80이 바람직하고, 2.10 내지 2.80이 더욱 바람직하고, 2.20 내지 2.80이 가장 바람직하다. 무기 미립자의 첨가량은 무기 미립자가 첨가되는 층에 따라 다르며, 고굴절층에서의 첨가량은 전체 고굴절층의 고형분에 대하여 40 내지 85질량%이고, 50 내지 75질량%가 바람직하고, 60 내지 70질량%가 더욱 바람직하다. 무기 미립자의 입자직경은 광산란법 또는 전자 현미경 사진에 의해 측정될 수 있다. 무기 미립자의 비표면적은 10 내지 400㎡/g이 바람직하고, 20 내지 200㎡/g이 더욱 바람직하고, 30 내지 150㎡/g이 가장 바람직하다.As the inorganic fine particles, oxides of metals (for example, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb and Al) are preferable, and from the viewpoint of refractive index, zirconium oxide fine particles are most preferable. However, from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use inorganic fine particles containing an oxide of at least one of Sb, In and Sn as a main component. The refractive index can be adjusted to a predetermined range by changing the amount of the inorganic fine particles. When zirconium oxide is used as a main component, the average particle diameter of the inorganic fine particles in the layer is preferably from 1 to 120 nm, more preferably from 1 to 60 nm, even more preferably from 2 to 40 nm. This range is preferable because it reduces haze and improves dispersion stability and adhesion to the upper layer by appropriate irregularities on the surface. The refractive index of the inorganic fine particles containing zirconium oxide as a main component used in the present invention is preferably 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and most preferably 2.20 to 2.80. The addition amount of the inorganic fine particles varies depending on the layer to which the inorganic fine particles are added, and the addition amount in the high refractive index layer is 40 to 85 mass%, preferably 50 to 75 mass%, and 60 to 70 mass% More preferable. The particle diameter of the inorganic fine particles can be measured by a light scattering method or an electron microscope photograph. The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

분산액 또는 코팅 용액에서의 분산을 안정화하거나 또는 바인더 성분과의 친화성 또는 결합성을 향상시키기 위해, 무기 미립자에 대해 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리, 또는 계면활성제, 커플링제 등에 의한 화학적 표면 처리를 실시할 수도 있다. 커플링제를 사용하는 것이 특히 바람직하다. In order to stabilize the dispersion in the dispersion or the coating solution or to improve the affinity or the bonding property with the binder component, the inorganic fine particles are subjected to physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment or surface treatment with a surfactant, Chemical surface treatment may be performed. It is particularly preferable to use a coupling agent.

상기 커플링제로서, 알콕시 금속 화합물 (예컨대, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제) 을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 아크릴로일 또는 메타크릴로일기를 갖는 실란 커플링제에 의한 처리가 효과적이다. 무기 미립자의 화학적 표면 처리제, 용매, 촉매 및 분산 안정제는 JP-A-2006-17870의 단락 [0058] 내지 [0083]에 기재되어 있다.As the coupling agent, it is preferable to use an alkoxy metal compound (e.g., titanium coupling agent, silane coupling agent). In particular, treatment with a silane coupling agent having an acryloyl or methacryloyl group is effective. The chemical surface treatment agent, solvent, catalyst and dispersion stabilizer for the inorganic fine particles are described in paragraphs [0058] to [0083] of JP-A-2006-17870.

1.3 경화성 수지1.3 Curable resin

경화성 수지로는 중합성 화합물이 바람직하고, 중합성 화합물로서, 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머를 사용하는 것이 바람직하다. 이 화합물 중의 관능기로는 광-, 전자선- 또는 방사선-중합성 관능기가 바람직하고, 광중합성 관능기가 더욱 바람직하다.As the curable resin, a polymerizable compound is preferable, and as the polymerizable compound, an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer is preferably used. The functional group in the compound is preferably a light-, electron-beam- or radiation-polymerizable functional group, and more preferably a photopolymerizable functional group.

광중합성 관능기의 예로는, (메타)아크릴기, 비닐기, 스티릴기 및 알릴기와 같은 불포화 중합성 관능기를 포함한다. 이 중에서도, (메타)아크릴기가 바람직하다.Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as (meth) acrylic group, vinyl group, styryl group and allyl group. Among them, a (meth) acrylic group is preferable.

광중합성 관능기를 갖는 광중합성 다관능 모노머의 구체예로는: 네오펜틸 글리콜 아크릴레이트, 1,6-헥산디올 (메타)아크릴레이트 및 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트와 같은 알킬렌 글리콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트 및 폴리프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트와 같은 폴리옥시알킬렌 글리콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트와 같은 다가 알콜의 (메타)아크릴산 디에스테르류; 및 2,2-비스{4-아크릴옥시ㅇ디에톡시)페닐}프로판 및 2-2-비스{4-(아크릴옥시·폴리프로폭시)페닐}프로판과 같은 에틸렌 산화물 또는 프로필렌 산화물 부가물의 (메타)아크릴산 디에스테르류를 포함한다.Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group include (meth) acrylates of alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) ) Acrylic acid diesters; (Meth) acrylic acid esters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di Diesters; (Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; (Meth) acrylate such as ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis (4-acryloxypropyl) phenyl} propane and 2-2-bis {4- (acryloxypolypropoxy) Acrylic acid diesters.

또한, 에폭시 (메타)아크릴레이트류, 우레탄 (메타)아크릴레이트류 및 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트류도 광중합성 다관능 모노머로서 바람직하게 사용된다.Also, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates and polyester (meth) acrylates are preferably used as photopolymerizable polyfunctional monomers.

이들 중에서, 다가 알콜과 (메타)아크릴산의 에스테르류가 바람직하고, 1 분자내에 3개 이상의 (메타)아크릴기를 갖는 다관능 모노머가 더욱 바람직하다. 그 구체예로는, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메타)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 트리펜타에리트리톨 헥사트리아크릴레이트를 포함한다. 다관능 모노머들 중 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 경화성 수지의 사용량은 상술한 각 층의 굴절률을 만족하는 범위내에서 조정될 수도 있다.Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable, and polyfunctional monomers having three or more (meth) acrylic groups in one molecule are more preferable. Specific examples thereof include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol (Meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate, and tripentaerythritol hexatriacrylate. Two or more of the multifunctional monomers may be used in combination. The amount of the curable resin to be used may be adjusted within a range that satisfies the refractive index of each layer described above.

1.4 중합 개시제1.4 Polymerization initiator

중합 개시제로서, 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로는 광라디칼 중합 개시제 또는 광양이온 중합 개시제가 바람직하고, 광라디칼 중합 개시제가 더욱 바람직하다.As the polymerization initiator, it is preferable to use a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator is preferable, and a photoradical polymerization initiator is more preferable.

광라디칼 중합 개시제의 예로는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러 (Michler) <207> 의 벤조일 벤조에이트, α-아밀옥심 에스테르, 테트라메틸티우람 모노술피드 및 티옥산톤류를 포함한다. 시판되는 광라디칼 중합 개시제의 예로는, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조의 KAYACURE (예컨대, DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, MCA); Ciba Specialty Chemicals Corp. 제조의Irgacure (예컨대, 651, 184, 127, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263); 및 Sartomer Company Inc. 제조의 Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) 를 포함한다. 특히, 광분열형 (photocleavage-type) 광라디칼 중합 개시제가 바람직하다. 광분열형 광라디칼 중합 개시제는 Technical Information Institute Co., Ltd. (발행인: Kazuhiro Takausu) (1991) 에 의한 최신 UV 경화기술 159페이지에 기재되어 있다. 시판되는 광분열형 광라디칼 중합 개시제의 예로는 Ciba Specialty Chemicals Corp. 제조의 Irgacure(예컨대, 651, 184, 127, 907)를 포함한다. 광중합 개시제의 사용량은 경화성 수지 100질량부에 대하여 0.1 내지 15질량부가 바람직하고, 1 내지 10질량부가 더욱 바람직하다.Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzophenones, benzoyl benzoates of Michler,? -Amyloxime esters, tetramethylthiurammonosulfide and thioxanthones. Examples of commercially available photo radical polymerization initiators include Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE (e.g., DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, MCA); Ciba Specialty Chemicals Corp. Irgacure (e.g., 651, 184, 127, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263) And Sartomer Company Inc. Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) Particularly, photocleavage-type photo radical polymerization initiators are preferred. Photocatalytic photo radical polymerization initiators are available from Technical Information Institute Co., Ltd. (Published by Kazuhiro Takausu) (1991) on page 159 of the latest UV curing technology. Examples of commercially available photocatalytic photo radical polymerization initiators include Ciba Specialty Chemicals Corp. Irgacure (e.g., 651, 184, 127, 907). The amount of the photopolymerization initiator to be used is preferably 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the curable resin.

상기 광중합 개시제에 추가하여, 광증감제를 사용할 수도 있다. 광증감제의 구체예로는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸포스핀, 미힐러의 케톤 및 티옥산톤을 포함한다. 시판되는 광증감제의 예로는 Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조의 KAYACURE (예컨대, DMBI, EPA)를 포함한다.In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone, and thioxanthone. Examples of commercially available photosensitizers include Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE (e.g., DMBI, EPA).

광중합 반응은 고굴절의 고경도층을 코팅하고 건조시킨 후에 자외선 조사에 의해 수행되는 것이 바람직하다. The photopolymerization reaction is preferably carried out by ultraviolet irradiation after coating the high hardness layer of high refractive index and drying.

또한 고굴절의 고경도층에는, 상술한 성분들 (예컨대, 무기 미립자, 경화성 수지, 중합 개시제, 광증감제) 이외에, 계면활성제, 산화방지제, 커플링제, 증점제, 착색 방지제, 착색제 (예컨대, 안료, 염료), 소포제, 레벨링제, 난연제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 접착부여제, 중합금지제, 산화방지제, 표면 개질제, 도전성 금속 미립자 등을 첨가할 수도 있다.In addition, the high-hardness layer of high refractive index may contain a surfactant, an antioxidant, a coupling agent, a thickener, a coloring agent, a colorant (for example, a pigment, Dyes, defoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, conductive metal fine particles and the like.

1.5 용매1.5 Solvent

용매로서는, 비점이 60 내지 170℃인 액체를 사용하는 것이 바람직하다. 그 구체예로는, 물, 알콜 (예컨대,메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 벤질 알콜), 케톤 (예컨대, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논), 에스테르 (예컨대, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메틸 포르메이트, 에틸 포르메이트, 프로필 포르메이트, 부틸 포르메이트), 지방족 탄화수소 (예컨대,헥산, 시클로헥산), 할로겐화 탄화수소 (예컨대, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소), 방향족 탄화수소 (예컨대, 벤젠, 톨루엔, 크실렌), 아미드 (예컨대, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, n-메틸피롤리돈), 에테르 (예컨대, 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란), 및 에테르 알콜 (예컨대, 1-메톡시-2-프로판올) 을 포함한다. 이 중에서도, 톨루엔, 크실렌, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논 및 부탄올이 바람직하다. 특히, 분산 매체로서는 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 시클로헥사논이 바람직하다.As the solvent, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 占 폚. Specific examples thereof include water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, esters such as methyl acetate (For example, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons , Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and n-methylpyrrolidone, ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, Ether alcohols such as 1-methoxy-2-propanol. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are preferable. Particularly, as the dispersion medium, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone or cyclohexanone is preferable.

상기 용매는 고굴절률층용 코팅 조성물이 고형분 농도 2 내지 30질량%이 되도록 사용하는 것이 바람직하고, 고형분 농도 3 내지 20질량%이 되도록 사용하는 것이 더욱 바람직하다. The solvent is preferably used such that the coating composition for a high refractive index layer has a solid content concentration of 2 to 30 mass%, more preferably 3 to 20 mass% of a solid content concentration.

1.6 고굴절의 고경도층의 형성방법1.6 How to form high hardness layer of high refractive index

고굴절의 고경도층에 사용되는 산화지르코늄을 주성분으로서 포함하는 무기 미립자는, 분산물 상태로 고굴절의 고경도층의 형성에 사용되는 것이 바람직하다. 무기 미립자는 분산기를 사용하여 분산될 수 있다. 분산기의 예로는, 샌드 그라인더 밀 (예컨대, 핀을 가진비드 밀), 고속 임펠러 밀, 페블 밀, 롤러 밀, 어트라이터 및 콜로이드 밀을 포함한다. 이들 중에서도, 샌드 그라인더 밀 및 고속 임펠러 밀이 바람직하다. 예비 분산 처리를 수행할 수도 있다. 예비 분산 처리에 사용되는 분산기의 예로는, 볼 밀, 3-롤 밀, 니더 및 압출기를 포함한다.The inorganic fine particles containing zirconium oxide as a main component used in the high hardness layer of the high refractive index are preferably used in the formation of a high hardness layer of high refractive index in a dispersion state. The inorganic fine particles may be dispersed using a dispersing machine. Examples of the dispersing machine include a sand grinder mill (for example, a bead mill with a pin), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor and a colloid mill. Among these, a sand grinder mill and a high-speed impeller mill are preferable. A preliminary dispersion process may be performed. Examples of the dispersing machine used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader and an extruder.

무기 미립자는 분산 매체 속에 가능한 한 작은 입자크기를 가지도록 분산되는 것이 바람직하다. 질량 평균 입자직경은 10 내지 120nm이고, 20 내지 100nm가 바람직하고, 30 내지 90nm가 더욱 바람직하고, 30 내지 80nm가 더욱 더 바람직하다. 무기 미립자를 200nm 이하의 작은 입자크기로 분산시킴으로써, 투명성을 손상시키지 않고 고굴절의 고경도층을 형성할 수 있다.It is preferable that the inorganic fine particles are dispersed so as to have a particle size as small as possible in the dispersion medium. The mass average particle diameter is preferably 10 to 120 nm, more preferably 20 to 100 nm, even more preferably 30 to 90 nm, still more preferably 30 to 80 nm. By dispersing the inorganic fine particles in a small particle size of 200 nm or less, a high-refractive-index high-hardness layer can be formed without impairing transparency.

본 발명에 사용되는 고굴절의 고경도층은 다음과 같이 형성된다. 상술한 바와 같은 분산 매체 속에 무기 미립자를 분산시킴으로써 획득된 분산액에, 매트릭스 형성에 필요한 바인더 전구체로서의 경화성 수지 (예컨대, 상술한 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머), 광중합 개시제 등을 첨가하여, 고굴절률층 또는 중굴절률층 형성용 코팅 조성물을 제작하고, 획득된 고굴절률층 또는 중굴절률층 형성용 코팅 조성물을 투명 지지체 상에 코팅하고 경화성 수지의 가교 반응 또는 중합 반응을 통해 경화시킨다. 고굴절의 고경도층의 코팅과 동시에 또는 코팅 이후에, 층의 바인더는 분산제와 가교 또는 중합되는 것이 바람직하다.The high-hardness high-hardness layer used in the present invention is formed as follows. A curing resin (for example, the above ionizing radiation-curable multifunctional monomer or polyfunctional oligomer) as a binder precursor necessary for forming a matrix, a photopolymerization initiator and the like are added to the dispersion obtained by dispersing the inorganic fine particles in the dispersion medium as described above , A high refractive index layer or a medium refractive index layer is prepared, and the obtained coating composition for forming a high refractive index layer or the medium refractive index layer is coated on a transparent support and cured by crosslinking reaction or polymerization reaction of the curable resin. It is preferable that the binder of the layer is crosslinked or polymerized with the dispersing agent at the same time as or after the coating of the high-hardness layer of high refractive index.

이와 같이 제조된 고굴절률층 또는 중굴절률층의 바인더는, 예컨대, 상술한 바람직한 분산제와 전리 방사선-경화성 다관능 모노머 또는 다관능 올리고머의 가교 반응 또는 중합 반응의 결과로서 바인더에 분산제의 음이온성기가 취해지는 형태가 된다. 고굴절률층 또는 중굴절률층의 바인더에 취해진 음이온성기는 무기 미립자의 분산상태를 유지하는 기능을 가지며, 가교 또는 중합 구조가 바인더에 필름-형성 능력을 부여하고, 이로써 무기미립자를 함유하는 고굴절의 고경도층은 물리적 강도, 내약품성 및 내후성이 개선된다.The binder of the high refractive index layer or the medium refractive index layer thus produced can be obtained by, for example, taking an anionic group of the dispersing agent in the binder as a result of the crosslinking reaction or polymerization reaction between the above-mentioned preferable dispersant and the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer It becomes a losing form. The anionic group taken in the binder of the high refractive index layer or the medium refractive index layer has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles and the crosslinking or polymerization structure gives the binder a film-forming ability. As a result, the high refractive index The coating layer is improved in physical strength, chemical resistance and weather resistance.

고굴절의 고경도층 형성시에, 경화성 수지의 가교 또는 중합 반응은 산소 농도 10체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 산소 농도 10체적% 이하인 분위기에서 고굴절의 고경도층을 형성함으로써, 고굴절의 고경도층은 물리적 강도, 내약품성, 내후성 및 고굴절층과 이 고굴절층에 인접한 층 간의 접착성이 개선될 수 있다.At the time of forming a high-hardness layer at high refractive index, the crosslinking or polymerization reaction of the curable resin is preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less. By forming a high-refractivity high-hardness layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less, the high-refractivity high-hardness layer can improve physical strength, chemical resistance, weather resistance, and adhesion between the high refractive index layer and the layer adjacent to the high refractive index layer.

경화성 수지의 가교 반응 또는 중합 반응을 통한 층 형성은 산소 농도 6체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 바람직하고, 산소 농도 4체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 더욱 바람직하고, 산소 농도 2체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 더욱 더 바람직하고, 산소 농도 1체적% 이하인 분위기에서 수행되는 것이 가장 바람직하다.The layer formation through the crosslinking reaction or polymerization reaction of the curable resin is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 6 vol% or less, more preferably in an atmosphere having an oxygen concentration of 4 vol% or less, and more preferably in an atmosphere having an oxygen concentration of 2 vol% Most preferably, it is carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 1% by volume or less.

고굴절의 고경도층의 두께는 0.1 내지 20 ㎛ 가 바람직하고, 2 내지 8 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 구체적으로, 예컨대, 고굴절의 고경도층의 필름 두께 및 굴절률을 만족할 수 있도록, 미립자의 종류 및 수지의 종류를 선택하고 이들의 배합비율을 결정함으로써 주요 조성이 정해진다.The thickness of the high-hardness layer of high refractive index is preferably 0.1 to 20 탆, more preferably 2 to 8 탆. Specifically, for example, the main composition is determined by selecting the kind of the fine particles and the kind of the resin so that the film thickness and the refractive index of the high-hardness high-hardness layer can be satisfied, and the blending ratio thereof is determined.

2. 저굴절율층 제조2. Production of low refractive index layer

2.1 저굴절율층2.1 Low Refractive Index Layer

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 저굴절율층은 1.31 내지 1.40의 굴절률을 갖는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.38 이하이다. 이 범위는 반사율을 감소시키면서 필름 강도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 저굴절율층을 형성하는 방법도, 상기와 유사하게, 화학 기상 증착 (CVD) 또는 물리 기상 증착 (PVD), 특히 물리 기상 증착법의 한 종류인 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 산화물의 투명 박막을 사용할 수도 있지만, 후술하는 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 사용하는 올-웨트 코팅에 의한 방법이 바람직하다. 저굴절율층은 무기 미립자를 함유하는 것이 바람직하며, 무기 미립자 중에서, 적어도 한 종류의 무기 미립자가 중공 입자인 것이 바람직하고, 실리카를 주성분으로서 포함하는 중공 입자 (이후, "중공 실리카 입자"라고도 함) 가 더욱 바람직하다. 이러한 굴절층의 두께는 90 내지 130nm가 바람직하고, 100 내지 120nm가 더욱 바람직하다. 또한, 저굴절율층의 헤이즈는 3% 이하가 바람직하고, 2% 이하가 더욱 바람직하고, 1% 이하가 가장 바람직하다.The low refractive index layer of the composite film for a capacitive touch panel according to the present invention preferably has a refractive index of 1.31 to 1.40, more preferably 1.38 or less. This range is preferable because the film strength can be maintained while reducing the reflectance. Similarly to the above, a method of forming a low refractive index layer may be a method of using a transparent thin film of an inorganic oxide formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), in particular, by vacuum vapor deposition or sputtering, Wet coating method using a coating composition for forming a low refractive index layer described later is preferable. The low refractive index layer preferably contains inorganic fine particles. Among the inorganic fine particles, at least one kind of inorganic fine particles are preferably hollow particles, and hollow particles containing silica as a main component (hereinafter also referred to as "hollow silica particles" Is more preferable. The thickness of the refraction layer is preferably 90 to 130 nm, more preferably 100 to 120 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.

또한, 저굴률층까지의 층들이 형성된 반사방지필름의 강도는, 500g 하중의 연필 경도 시험에서, H 이상이 바람직하고, 2H 이상이 더욱 바람직하고, 3H 이상이 가장 바람직하다.In addition, in the pencil hardness test at a load of 500 g, the strength of the antireflection film having the layers up to the low-resistance layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher.

또한, PDP용 반사방지필름의 경우 지문방지 성능을 향상시키기 위해, 표면의 물에 대한 접촉각은 95° 내지 120°인 것이 바람직하지만, 터치패널용 반사방지필름의 경우는 터치패널 내부에 위치하며, LCD면과 양면테이프로 엣지(edge)부분이 합지되어 AR 면과의 충분한 점착력이 확보되어야 하기 때문에 표면의 물에 대한 접촉각은 85°이하인 것이 바람직하다.In addition, in the case of the antireflection film for PDP, it is preferable that the contact angle of the surface of the antireflection film with respect to water is 95 to 120 degrees in order to improve the fingerprint prevention performance. In the case of the antireflection film for a touch panel, It is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 85 DEG or less because the edges of the LCD surface and the double-sided tape are laminated so that a sufficient adhesive force with the AR surface is secured.

2.2 무기 미립자2.2 Inorganic Fine Particles

저굴절율층에 사용될 수 있는 무기 미립자는 중공 입자가 바람직하다. 중공 입자의 굴절률은 1.40이하가 바람직하고, 1.28 내지 1.38가 더욱 바람직하고, 1.32 내지 1.36이 가장 바람직하다. 중공 입자는 중공 실리카 입자가 바람직하고, 무기 미립자에 대해 이하 중공 실리카 입자를 참조하면서 설명한다. 여기서 사용되는 굴절률은 전체 입자의 굴절률을 나타내며, 중공 실리카 입자를 형성하는 외측 셸로서의 실리카만의 굴절률을 나타내는 것은 아니다. 이때, 입자 내부의 캐비티의 반경을 a라 가정하고 입자의 외측 셸의 반경을 b라 가정하면, 다음 식 (1) 에 의해 나타내지는 공극률 x는 10 내지 60%가 바람직하고, 20 내지 60%가 더욱 바람직하고, 30 내지 60%가 가장 바람직하다.The inorganic fine particles that can be used in the low refractive index layer are preferably hollow particles. The refractive index of the hollow particles is preferably 1.40 or less, more preferably 1.28 to 1.38, and most preferably 1.32 to 1.36. The hollow particles are preferably hollow silica particles, and the inorganic fine particles are described below with reference to hollow silica particles. The refractive index used here represents the refractive index of the whole particles and does not represent the refractive index of silica alone as the outer shell forming the hollow silica particles. Assuming that the radius of the cavity inside the particle is a and the radius of the outer shell of the particle is b, the porosity x represented by the following formula (1) is preferably 10 to 60%, and preferably 20 to 60% , And most preferably 30 to 60%.

식 (1) : x=(4πa3/3)(4πb3/3) X 100Equation (1): x = (4πa 3/3) (4πb 3/3) X 100

중공 실리카 입자가 보다 낮은 굴절률 및 보다 높은 공극률을 가지도록 의도될 경우, 외측 셸의 두께가 얇아지고 입자로서의 강도가 저하된다. 따라서, 내찰상성의 관점에서, 상술한 범위내의 굴절률을 갖는 입자가 바람직하다.If the hollow silica particles are intended to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell is thinned and the strength as a particle is lowered. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, particles having a refractive index within the above-mentioned range are preferable.

여기서, 중공 실리카 입자의 굴절률은 아베 굴절계에 의해 측정될 수 있다 (ATAGO K.K. 제조). 중공 실리카의 제조방법은, 예컨대 JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616에 기재되어 있다. 또한, 시판되는 중공 실리카 입자를 사용할 수도 있다. Here, the refractive index of the hollow silica particles can be measured by an Abbe refractometer (manufactured by ATAGO K.K.). Methods for producing hollow silica are described, for example, in JP-A-2001-233611 and JP-A-2002-79616. Commercially available hollow silica particles may also be used.

또한, 중공 실리카 입자의 코팅량은 1 내지 100mg/㎡이 바람직하고, 5 내지 80mg/㎡이 더욱 바람직하고, 10 내지60mg/㎡이 더욱 더 바람직하다. 이 범위내에서, 굴절률을 감소시키거나 또는 내찰상성을 개량시키는 양호한 효과가 얻어지고, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다.The coating amount of the hollow silica particles is preferably from 1 to 100 mg / m 2, more preferably from 5 to 80 mg / m 2, still more preferably from 10 to 60 mg / m 2. Within this range, a favorable effect of reducing the refractive index or improving the scratch resistance can be obtained, the occurrence of fine irregularities on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (for example, a black appearance) It can be kept good.

또한, 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 저굴절율층의 두께에 대하여 30 내지 150%가 바람직하고, 35 내지 80%가 더욱 바람직하고, 40 내지 60%가 더욱 더 바람직하다. 즉, 저굴절율층의 두께가 100nm이라면, 중공 실리카 입자의 입자직경은 30 내지 150nm가 바람직하고, 35 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 40 내지 60nm가 더욱 더 바람직하다. 입자직경이 이러한 범위내에 있다면, 캐비티의 비율이 만족스럽게 유지될 수 있고, 굴절률을 충분히 감소시킬 수 있으며, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙 외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다. 실리카 미립자는 결정질일 수도 있고 비정질일 수도 있고, 단분산입자가 바람직하다. 그 형상은 구형이 가장 바람직하지만, 부정형이더라도 문제는 없다. 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 전자 현미경 사진으로부터 결정될 수 있다.The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150%, more preferably 35 to 80%, and even more preferably 40 to 60% with respect to the thickness of the low refractive index layer. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150 nm, more preferably 35 to 80 nm, still more preferably 40 to 60 nm. If the particle diameter is within this range, the ratio of the cavity can be satisfactorily maintained, the refractive index can be sufficiently reduced, the occurrence of fine irregularities on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (for example, ) And the integral reflectance can be kept good. The fine silica particles may be crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably spherical, but it may be irregular. The average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from electron micrographs.

본 발명에 있어서, 중공 실리카 입자와 조합하여 캐비티가 없는 실리카 입자를 사용할 수도 있다. 캐비티가 없는 실리카의 입자크기는 5 내지 150nm가 바람직하고, 10 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 15 내지 60nm가 가장 바람직하다. In the present invention, silica particles having no cavities can be used in combination with the hollow silica particles. The particle size of the silica without cavities is preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 80 nm, and most preferably 15 to 60 nm.

또한, 저굴절율층의 두께의 25% 미만인 평균 입자직경을 갖는 적어도 1 종류의 실리카 미립자 ("소 입자크기 실리카 미립자"라고도 함)를, 상술한 입자직경을 갖는 실리카 미립자 ("대 입자크기 실리카 미립자"라고도 함) 와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 소 입자크기 실리카 미립자는, 대 입자크기 실리카 미립자들 사이의 간극에 존재할 수도 있으므로, 대 입자크기 실리카 미립자에 대한 유지제로서 기여할 수 있다. 소 입자크기 실리카 미립자의 평균 입자직경은 1 내지 20nm가 바람직하고, 5 내지 15nm가 더욱 바람직하고, 10내지 15nm가 더욱 더 바람직하다. 이러한 실리카 미립자의 사용은 원료 비용 및 유지제 효과의 관점에서 바람직하다. 분산액 또는 코팅 용액내의 분산을 안정화시키거나 또는 바인더 성분과의 친화성 또는 결합성을 향상시키기 위해, 중공 입자에 대해 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리, 또는 계면활성제, 커플링제 등에 의한 화학적 표면 처리를 수행할 수도 있다. 커플링제의 사용이 특히 바람직하다. 커플링제로서는, 알콕시 금속 화합물 (예컨대, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제) 을 사용하는 것이 바람직하다. 이 중에서도, 아크릴로일 또는 메타크릴로일기를 갖는 실란 커플링제에 의한 처리가 효과적이다. 중공 입자의 화학적 표면 처리제, 용매, 촉매 및 분산 안정제는 JP-A-2006-17870의 단락 [0058] 내지 [0083]에 기재되어 있다.Further, at least one kind of silica fine particles (also referred to as "small particle size silica fine particles") having an average particle diameter of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer is prepared by mixing silica fine particles having the above- "). &Lt; / RTI &gt; The small particle size silica fine particles may be present in a gap between large particle size silica fine particles, and thus can contribute as a retaining agent for large particle size silica fine particles. The average particle diameter of the small particle size silica fine particles is preferably from 1 to 20 nm, more preferably from 5 to 15 nm, even more preferably from 10 to 15 nm. The use of such fine silica particles is preferable from the viewpoints of the cost of raw materials and the effect of the preservative agent. In order to stabilize the dispersion in the dispersion or coating solution or to improve the affinity or binding property with the binder component, the hollow particles may be subjected to physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, or surface treatment with a surfactant, Chemical surface treatment may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, it is preferable to use an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent or a silane coupling agent). Among them, the treatment with a silane coupling agent having an acryloyl or methacryloyl group is effective. The chemical surface treatment agent, solvent, catalyst and dispersion stabilizer for hollow particles are described in paragraphs [0058] to [0083] of JP-A-2006-17870.

또한, 저굴절율층은, 필름-형성 용질 및 1 종류 이상의 용매를 함유하는 코팅 조성물을 도포하고, 용매를 건조하고, 가열 및 전리 방사선의 조사 중 어느 한 수단 또는 양 수단에 의해 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 용질로는 열-경화성 또는 전리 방사선-경화성 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물, 유기실릴 화합물의 가수분해물, 또는 그 부분 축합물이 바람직하다. 또한 저굴절율층은 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물을 사용하는 것이 바람직하고, 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물을 보조적으로 사용하는 양태가 더욱 바람직하다. 보조적으로 사용되는 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물의 첨가량은 불소 함유 경화성 수지에 대하여 10 내지 40질량%이다.The low refractive index layer may also be formed by applying a coating composition containing a film-forming solute and one or more solvents, drying the solvent, and curing the coating by either or both means of heating and irradiation of ionizing radiation . As the solute, a composition containing a heat-curable or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin, a hydrolyzate of an organosilyl compound, or a partial condensate thereof is preferable. Further, it is preferable to use a composition containing a fluorine-containing curable resin as the low refractive index layer, and more preferably an embodiment in which a hydrolyzate of an organosilyl compound or a partial condensate thereof is supplementarily used. The amount of the hydrolyzate of the organosilyl compound or the partial condensate thereof to be used as an auxiliary is 10 to 40 mass% with respect to the fluorine-containing curable resin.

2.3 저굴절율층 형성용 코팅 조성물2.3 Coating composition for forming a low refractive index layer

통상적으로, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물은 액체 형태를 취하고, 적절한 용매에, 바람직하게 함유된 전술한 무기 미립자 및 불소 함유 경화성 수지를 용해시키고, 필요에 따라, 다양한 첨가제 및 라디칼 중합 개시제를 용해시킴으로써 제조된다. 여기서, 고형분의 농도는 용도에 따라서 적절하게 선택될 수도 있지만, 대략 0.01내지 60질량%가 일반적이고, 0.5 내지 50질량%가 더욱 바람직하고, 대략 1 내지 20질량%가 더욱 더 바람직하다.Usually, the coating composition for forming a low refractive index layer takes a liquid form, dissolving the above-mentioned inorganic fine particles and the fluorine-containing curable resin preferably contained in an appropriate solvent, dissolving various additives and a radical polymerization initiator . Here, the concentration of the solid content may be appropriately selected depending on the application, but is generally from 0.01 to 60% by mass, more preferably from 0.5 to 50% by mass, still more preferably from 1 to 20% by mass.

라디칼 중합 개시제는, 열 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형, 또는 광 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형 중 어느 것일 수도 있다. 열 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물에 대해, 유기 또는 무기 과산화물, 유기 아조 또는 디아조 화합물 등이 이용될 수도 있다.The radical polymerization initiator may be either a type generating a radical under heat or a type generating a radical under an optical action. For compounds that initiate radical polymerization under the action of heat, organic or inorganic peroxides, organic azo or diazo compounds and the like may be used.

더욱 상세하게는, 유기 과산화물의 예로는 과산화벤조일, 과산화할로겐벤조일, 과산화라우로일, 과산화아세틸, 과산화디부틸, 쿠멘 히드로퍼옥사이드 및 부틸 히드로퍼옥사이드를 포함하고; 무기 과산화물의 예로는 과산화수소, 과황산암모늄 및 과황산칼륨을 포함하고; 아조 화합물의 예로는 2-아조-비스-이소부티로니트릴, 2-아조-비스-프로피오니트릴 및 2-아조-비스-시클로헥산디니트릴을 포함하고; 디아조 화합물의 예로는 디아조아미노벤젠및 p-니트로벤젠디아조늄을 포함한다. 광 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물을 이용하는 경우, 전리 방사선의 조사에 의해 필름이 경화된다. 이러한 광라디칼 중합 개시제의 예로는 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀 옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물류, 과산화물류, 2,3-디알킬디온 화합물류, 디술피드 화합물류, 플루오로아민 화합물류 및 방향족 술포늄류를 포함한다. 아세토페논류의 예로는 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 1-히드록시디메틸 페닐 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-메틸-4-메틸티오-2-모르포리노프로피오페논 및 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르포리노페닐)부타논을 포함한다. 벤조인류의 예로는 벤조인 벤젠술폰산 에스테르, 벤조인 톨루엔술폰산 에스테르, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르 및 벤조인 이소프로필 에테르를 포함한다. 벤조페논류의 예로는 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4-디클로로벤조페논 및p-클로로벤조페논을 포함한다. 포스핀 옥사이드류의 예로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥사이드를 포함한다. 또한, 이러한 광라디칼 중합 개시제와 조합하여 증감 염료를 바람직하게 이용할 수도 있다.More specifically, examples of organic peroxides include benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide and butyl hydroperoxide; Examples of inorganic peroxides include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, and potassium persulfate; Examples of azo compounds include 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile and 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile; Examples of diazo compounds include diazoaminobenzene and p-nitrobenzene diazonium. When a compound that initiates radical polymerization under the action of light is used, the film is cured by irradiation with ionizing radiation. Examples of such photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphinoxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds Logistics, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of the acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl- 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone. Examples of the benzoin include benzoin benzene sulfonic acid ester, benzoin toluene sulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. In addition, a sensitizing dye may be preferably used in combination with such a photoradical polymerization initiator.

열 또는 광의 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물의 첨가량은 탄소-탄소 이중 결합의 중합을 개시하기에 충분히 큰 양이라면 족하고, 그 첨가량은 저굴절율층 형성용 조성물의 전체 고형분에 대해 0.1 내지 15질량% 인것이 바람직하고, 0.5 내지 10질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 2 내지 5질량% 인 것이 더욱 더 바람직하다.The amount of the compound which initiates radical polymerization under the action of heat or light may be sufficient to initiate polymerization of the carbon-carbon double bond. The amount of the compound added is preferably 0.1 to 15% by mass relative to the total solid content of the composition for forming a low refractive index layer, , More preferably from 0.5 to 10 mass%, still more preferably from 2 to 5 mass%.

2.4 용매2.4 Solvent

저굴절율층용 코팅 조성물에 함유된 용매는, 경화성 수지가 침전을 유발하지 않고 균일하게 용해 또는 분산될 수 있는 한, 특별히 제한되지 않고, 2 종 이상 용매를 조합하여 이용할 수도 있다. 그 바람직한 예는 케톤류 (예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤), 에스테르류 (예를 들어, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트), 에테르류 (예를 들어, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산), 알콜류 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, 부탄올, 에틸렌 글리콜), 방향족 탄화수소류 (예를 들어, 톨루엔, 크실렌) 및 물을 포함한다.The solvent contained in the coating composition for a low refractive index layer is not particularly limited as long as the curable resin can be uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation, and two or more solvents may be used in combination. Preferred examples thereof include ketones (e.g., acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), esters (e.g., ethyl acetate, butyl acetate), ethers (e.g., tetrahydrofuran, 1,4 Dioxane), alcohols (e.g., methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol), aromatic hydrocarbons (e.g., toluene, xylene), and water.

2.5 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 적절히 함유된 그 밖의 화합물2.5 Other compounds appropriately contained in the coating composition for forming a low refractive index layer

지문방지 특성, 내수성, 내약품성 및 미끄럼성과 같은 특성을 부여하기 위해, 공지된 실리콘계 또는 불소계 지문방지제, 윤활제 등이 적절하게 첨가될 수도 있다. 이러한 첨가제를 첨가하는 경우, 첨가제의 첨가량은 저굴절율층의 전체 고형분에 기초하여 0 내지 20질량%가 바람직하고, 0 내지 10질량%가 더욱 바람직하고, 0 내지 5질량% 가 더욱 더 바람직하다.Known silicone-based or fluorine-based anti-fingerprinting agents, lubricants, and the like may be appropriately added to impart properties such as a fingerprint-preventing property, a water resistance, a chemical resistance and a sliding property. When such an additive is added, the amount of the additive to be added is preferably from 0 to 20 mass%, more preferably from 0 to 10 mass%, still more preferably from 0 to 5 mass%, based on the total solid content of the low refractive index layer.

저굴절율층은 무기 필러, 실란 커플링제, 윤활제, 계면활성제 등을 함유할 수도 있다. 특히, 무기 미립자, 실란 커플링제 및 윤활제가 함유되는 것이 바람직하다. The low refractive index layer may contain an inorganic filler, a silane coupling agent, a lubricant, a surfactant, and the like. In particular, inorganic fine particles, a silane coupling agent and a lubricant are preferably contained.

상기 실란 커플링제에 대한 예로서, 히드록실기, 메르캅토기, 카르복시기, 에폭시기, 알킬기, 알콕시실릴기, 아실옥시기 또는 아실아미노기를 함유하는 실란 커플링제가 바람직하고, 에폭시기, 중합성 아실옥시기 (예를 들어, (메타)아크릴로일) 또는 중합성 아실아미노기 (예를 들어, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 함유하는 실란 커플링제가 더욱 바람직하다. 상기 윤활제는 디메틸실리콘과 같은 실리콘 화합물 또는 폴리실록산 부분이 도입된 불소 함유 화합물인 것이 바람직하다.As examples of the silane coupling agent, a silane coupling agent containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group or an acylamino group is preferable, and an epoxy group, a polymerizable acyloxy group (E.g., (meth) acryloyl) or a polymerizable acylamino group (e.g., acrylamino, methacryloamino). The lubricant is preferably a silicone compound such as dimethylsilicone or a fluorine-containing compound into which a polysiloxane moiety is introduced.

2.6 유기실릴 화합물2.6 Organosilyl compounds

유기실릴 화합물은 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에서 가수분해 및 축합에 의해 가수분해물 및 또는 부분 축합물이 되고, 조성물중에서 바인더로서 작용할 뿐만 아니라 필름 코팅의 유연화도 가능하게 하고 내알칼리성을 향상시킨다. 본 발명에서, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 바람직하게 이용되는 유기실릴 화합물로는 이하의 화학식 3으로 표현된 화합물을 포함한다.The organosilyl compound becomes a hydrolyzate and / or a partial condensate by hydrolysis and condensation in a coating composition for formation of a low refractive index layer, and not only functions as a binder in the composition, but also allows flexibility of film coating and improves alkali resistance. In the present invention, the organosilyl compound preferably used in the coating composition for forming a low refractive index layer includes a compound represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

R11mSi(X11)nR 11 mSi (X 11 ) n

여기서, X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타내고, R11은 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기를 나타내고, R12는 알킬기를 나타내고, m+n 은 4 이고, m 과 n 은 각각 양의 정수를 나타낸다) 더욱 상세하게는, R11는 1 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 부틸, 헥실, 옥틸), 2 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴 또는 2-부텐-1-일) 또는 6 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸) 를 나타내고, R12는 R11으로 표현된 알킬기와 동일한 의미를 가지는 기를 나타낸다. R11또는 R12로 표현된 기가 치환기를 가지는 경우, 치환기의 바람직한 예로는 할로겐 (예를 들어, 불소, 염소, 브롬), 히드록실기, 메르캅토기, 카르복실기, 에폭시기, 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, i-프로필, 프로필, tert-부틸),아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸), 방향족 복소환식기 (예를 들어, 퓨릴, 피라졸릴, 피리딜), 알콕시기 (예를 들어, 메톡시, 에톡시, i-프로폭시, 헥실옥시), 아릴옥시기 (예를 들어, 페녹시), 알킬티오기 (예를 들어, 메틸티오, 에틸티오), 아릴티오기 (예를 들어, 페닐티오), 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴), 아실옥시기 (예를 들어, 아세톡시, 아크릴로일옥시, 메타크릴로일옥시), 알콕시카르보닐기 (예를 들어, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐), 아릴옥시카르보닐기 (예를 들어, 페녹시카르보닐), 카르바모일기 (예를 들어, 카르바모일, N-메틸카르바모일, N,N-디메틸카르바모일, N-메틸-N-옥틸카르바모일), 및 아실아미노기 (예를 들어, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 포함한다. Wherein R 11 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, R 12 represents an alkyl group, m + n is 4, and m and n each independently represents an integer of 0 or 1, and X 11 represents -OH, halogen atom, -OR 12 group or -OCOR 12 group, R 11 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, hexyl, octyl) , A substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (e.g., vinyl, allyl or 2-butene-1-yl) or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms Phenyl, naphthyl), and R 12 represents a group having the same meaning as the alkyl group represented by R 11 . When the group represented by R 11 or R 12 has a substituent, preferred examples of the substituent include halogen (for example, fluorine, chlorine, bromine), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, (E.g., methyl, ethyl, i-propyl, propyl, tert-butyl), an aryl group (for example, phenyl or naphthyl), an aromatic heterocyclic group (for example, furyl, pyrazolyl, pyridyl) For example methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy), aryloxy groups (for example phenoxy), alkylthio groups (for example methylthio, ethylthio) (For example, phenylthio), an alkenyl group (e.g., vinyl, allyl), an acyloxy group (for example, acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy), an alkoxycarbonyl group Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (for example, (For example, acetylamino, benzoylamino, acrylamino, methacryloyloxy, and the like), such as methyl, ethyl, n-propyl, ).

화학식 3의 화합물은 가수분해 및 상호 축합을 포함하는 소위 졸-겔법에 의해 매트릭스를 형성한다. 화학식 3의 화합물은 이하의 4개의 식으로 표현된다.The compound of formula (3) forms a matrix by the so-called sol-gel method including hydrolysis and co-condensation. The compound of formula (3) is represented by the following four equations.

[화학식 3a] Si(X11)4 [Formula 3a] Si (X 11) 4

[화학식 3b] R11Si(X11)3 ???????? R 11 Si (X 11 ) 3 ?????

[화학식 3c] R11 2Si(X11)2 ???????? R 11 2 Si (X 11 ) 2 ?????

[화학식 3d] R11 3SiX11 Formula 3d] R 11 3 SiX 11

화학식 3a의 성분에 대해 이하에 상세하게 설명한다. 화학식 3a로 표현된 화합물의 구체예로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-i-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-s-부톡시실란 및 테트라-tert-부톡시실란을 포함한다. 특히, 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란이 바람직하다.The components of formula (3a) are described in detail below. Specific examples of the compound represented by the formula (3a) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra- Ethoxy silane and tetra-tert-butoxy silane. In particular, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferred.

화학식 3b의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3b의 성분에서, R11은 화학식 3의 R11과 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 그 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기 및 i-프로필기와 같은 알킬기, γ-클로로프로필기, 비닐기, CF3CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2CH2-,C3F7CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2-,CF3OCH2CH2CH2-,C2F5OCH2CH2CH2-,C3F7OCH2CH2CH2-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2-,C4F9CH2OCH2CH2CH2-,3-(퍼플루오로시클로헥실옥시)프로필기, H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2-,H(CF2)4CH2CH2CH2-,3-글리시독시프로필기, 3-아크릴옥시프로필기, 3-메타크릴옥시프로필기, 3-메르캅토프로필기, 페닐기 및 3,4-에폭시시클로헥실에틸기를 포함한다. X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타낸다. R12는 식 (2) 의 R12와 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 1 내지 5 의 탄소수를 가지는 알콕시기 또는 1 내지 4 의 탄소수를 가지는 아실옥시기인 것이 바람직하고, 그 예로는 염소 원자, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, i-프로필옥시기, n-부틸옥시기, s-부틸옥시기, tert-부틸옥시기 및 아세틸옥시기를 포함한다. 화학식 3b의 성분의 구체예로는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, i-프로필트리메톡시실란, i-프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리메톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리에톡시실란, CF3CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2H5CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7OCH2CH2CH2Si(OC2H5)3-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C4F9CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,및 3-(퍼플루오로시클로헥실옥시) 프로필실란을 포함한다.The components of formula (3b) are described below. In the component of formula 3b, R 11 represents a group having the same meaning as that of Formula 3 R 11, and examples thereof include methyl, ethyl, n- propyl, and i- propyl groups such as alkyl group, γ- chloropropyl group, a vinyl group, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 -, C 2 F 5 CH 2 CH 2 CH 2 -, C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2 -, C 2 F 5 CH 2 CH 2 -, CF 3 OCH 2 CH 2 CH 2 -, C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2 -, C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 -, (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2 -, C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, 3- (perfluoro-cyclohexyloxy) propyl group, H (CF 2) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, H (CF 2) 4 CH 2 CH 2 CH 2 -, 3 -Glycidoxypropyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-methacryloxypropyl group, 3-mercaptopropyl group, phenyl group and 3,4-epoxycyclohexylethyl group. X 11 represents -OH, a halogen atom, -OR 12 group or -OCOR 12 group. R 12 represents a group having the same meaning as R 12 in formula (2), preferably an acyloxy group having an alkoxy group or 1 to 4 carbon atoms, a has a range of 1 to 5 carbon atoms. Examples thereof include a chlorine atom, a methoxy group , Ethoxy group, n-propyloxy group, i-propyloxy group, n-butyloxy group, s-butyloxy group, tert-butyloxy group and acetyloxy group. Specific examples of the component of Formula 3b include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i -Propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltri Methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3- methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, Silane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 2 H 5 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 2 F 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3 -, (CF 3) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 -, H (CF 2) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 -, and 3- (perfluorocyclohexyloxy) propylsilane.

이들 중에서, 불소 원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실 화합물을 이용하는 경우, 메틸트리메톡시실란 또는 메틸트리에톡시실란을 이용하는 것이 바람직하다. 이들 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는, 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Of these, an organosilyl compound having a fluorine atom is preferable. When R is an organic silane compound having no fluorine atom, methyltrimethoxysilane or methyltriethoxysilane is preferably used. One of these organosilyl compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

화학식 3c의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3c의 성분은 식 R11 2Si(X11)2로 표현된 유기실릴 화합물이다 {R11및 X11은 화학식 3b의 성분으로 이용된 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11들은 동일한 기가 아닐 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디에틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디-n-프로필디메톡시실란, 디-n-프로필디에톡시실란, 디-i-프로필디메톡시실란, 디-i-프로필디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, (CF3CH2CH2)2Si(OCH3)2,(CF3CH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,(C3F7OCH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,[H(CF2)6CH2OCH2CH2CH2]2Si(OCH3)2및 (C2F5OCH2CH2)2Si(OCH3)2를 포함한다. 불소원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R11로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실릴 화합물을 이용하는 경우, 디메틸디메톡시실란 또는 디메틸디에톡시실란이 바람직하다. 화학식 3c의 성분으로 표현된 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.The components of formula (3c) are described below. The component of Formula 3c is an organosilyl compound represented by the formula R 11 2 Si (X 11 ) 2 {wherein R 11 and X 11 are the same as R 11 and X 11 defined in the organosilyl compound used as the component of Formula 3b . Here, a plurality of R &lt; 11 &gt; s may not be the same group. Specific examples of the organosilyl compound include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldiethoxysilane, di (CF 3 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CF 3 CH 2 ) 2 , and the like. CH 2 CH 2) 2 Si ( OCH 3) 2, (C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2) 2 Si (OCH 3) 2, [H (CF 2) 6 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2] 2 include Si (OCH 3) 2 and (C 2 F 5 OCH 2 CH 2) 2 Si (OCH 3) 2. An organic silyl compound having a fluorine atom is preferable. When R11 is an organosilyl compound having no fluorine atom, dimethyldimethoxysilane or dimethyldiethoxysilane is preferable. One of the organosilyl compounds represented by the formula (3c) may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

화학식 3d의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 3d의 성분은 식 R11 3SiX11으로 표현된 유기실릴 화합물이다{여기서, R11및 X11은 화학식 3b 의 성분으로 이용되는 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11는 동일하지 않을 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리에틸메톡시실란, 트리에틸에톡시실란, 트리-n-프로필메톡시실란, 트리-n-프로필에톡시실란, 트리-i-프로필메톡시실란, 트리-i-프로필에톡시실란, 트리페닐메톡시실란 및 트리페닐에톡시실란을 포함한다.The components of the formula (3d) are explained below. The component of the formula (3d) is an organosilyl compound represented by the formula R 11 3 SiX 11 , wherein R 11 and X 11 have the same meanings as R 11 and X 11 defined in the organosilyl compound used as the component of the formula (3b) }. Here, a plurality of R &lt; 11 &gt; s may not be the same. Specific examples of the organosilyl compound include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, tri-n-propylmethoxysilane, tri-n-propylethoxysilane, tri i-propylmethoxysilane, tri-i-propylethoxysilane, triphenylmethoxysilane, and triphenylethoxysilane.

본 발명에서, 화학식 3a 내지 화학식 3d 의 성분 각각은 단독으로 이용될 수도 있지만 혼합물로서 이용될 수도 있고, 이 경우, 혼합 비율은, 화학식 3b는 성분 화학식 3a의 100 질량부에 대해 0 내지 100 질량부이고, 바람직하게는 1내지 60 질량부이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 40 질량부이고; 화학식 3c 성분은 화학식 3a성분의 100 질량부에 대해 바람직하게 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지3 질량부이며; 화학식 3d 성분 은 화학식 3a성분 100 질량부에 대해 바람직하게는 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지 3 질량부이다. 화학식 3a 성분 내지 화학식 3d 성분 중에서, 화학식 3a성분의 비율은 전체 유기실릴 화합물의 100질량% 중 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 화학식 3a성분의 비율이 30질량% 이상인 경우, 획득되는 필름 코팅의 접착성 또는 경화성의 감소와 같은 문제가 발생하지 않아서 바람직하다. 화학식 3a 내지 화학식 3d 성분 이외에, JP-A-2006-30740호 단락 [0039] 및 [0052] 내지 [0067] 에 기재된 화합물을 바람직하게 첨가할 수도 있고, 또는 여기 기재된 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 바람직하게 제작할 수도 있다.In the present invention, each of the components represented by the general formulas (3a) to (3d) may be used singly or as a mixture. In this case, the mixing ratio is preferably 0 to 100 parts by mass relative to 100 parts by mass of the component Preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 40 parts by mass; The component (3c) is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (3a). The amount of the component (III) is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 3 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (III). Of the components (3a) to (3d), the proportion of the component (3a) is preferably 30 mass% or more in 100 mass% of the total organosilyl compound. When the proportion of the component (3a) is more than 30% by mass, problems such as decrease in adhesiveness or curability of the film coating to be obtained do not occur, which is preferable. The compound described in paragraphs [0039] and [0052] to [0067] of JP-A-2006-30740 may be preferably added, or the coating composition for forming a low refractive index layer described herein It may be produced preferably.

2.7 저굴절율층의 형성2.7 Formation of low refractive index layer

저굴절율층은 중공 입자, 불소 함유 경화성 수지, 유기실릴 화합물, 및 필요에 따라 그 밖의 임의의 성분이 그 내부에 용해 또는 분산된 코팅 조성물을 도포하고, 코팅과 동시에 또는 코팅 및 건조 후에, 전리 방사선의 조사 (예를 들어, 광 조사 또는 전자 빔의 조사) 또는 가열 하에서 가교 또는 중합 반응을 통해서 그 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다.The low refractive index layer is formed by applying a coating composition in which hollow particles, a fluorine-containing curable resin, an organosilyl compound, and optionally other optional components are dissolved or dispersed therein, and simultaneously with coating or after coating and drying, (For example, light irradiation or electron beam irradiation), or by curing the coating through crosslinking or polymerization reaction under heating.

특히, 저굴절율층이 전리 방사선-경화성 화합물의 가교 또는 중합 반응을 통해서 형성되는 경우, 그 가교 또는 중합 반응은 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 저굴절율층을 형성함으로써, 물리적 강도 및 내약품성이 우수한 최외층이 획득될 수 있다. 산소 농도는 6체적% 이하인 것이 바람직하고, 4체적% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2체적% 이하인 것이 더욱 더 바람직하고, 1체적% 이하인 것이 가장 바람직하다. 10체적% 이하로 산소 농도를 감소시키기 위한 수단으로는, 대기 (질소 농도: 약 79체적%, 산소 농도: 약 21체적%) 를 다른 기체로 치환시키는 것이 바람직하고, 질소(질소 퍼지) 로의 치환이 더욱 바람직하다.In particular, when the low refractive index layer is formed through crosslinking or polymerization of an ionizing radiation-curable compound, the crosslinking or polymerization reaction is preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less. By forming a low refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less, an outermost layer excellent in physical strength and chemical resistance can be obtained. The oxygen concentration is preferably 6 vol% or less, more preferably 4 vol% or less, still more preferably 2 vol% or less, most preferably 1 vol% or less. As a means for reducing the oxygen concentration to 10 vol% or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration: about 79 vol%, oxygen concentration: about 21 vol%) with another gas and substitution with nitrogen (nitrogen purge) Is more preferable.

3. 우레탄계 점착제 제조 방법3. Manufacturing method of urethane-based pressure sensitive adhesive

본 발명에 따른 상기 점착제 조성물이 도포되는 코팅 기재는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것이 바람직하다.The coated substrate to which the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is applied is preferably any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a polypropylene (PP) film, and a polyethylene (PE) film.

3.1 점착제3.1 Adhesive

본 발명의 점착제는 상술한 우레탄 수지의 제조 방법으로 얻어진 우레탄 수지를 함유하는 것이다. 상기 제조 방법으로 얻어진 우레탄 수지는 그 자체로 점착 성능을 가지고 있기 때문에, 그대로 점착제로서 사용할 수 있다. 그러나, 우레탄 수지 중에 잔존하는 2급 수산기 또는 3급 수산기를 가교제로서의 폴리이소시아네이트 화합물과 더 반응시킴으로써, 재박리성이 보다 우수한 점착제를 얻을 수 있다. 즉, 본 발명은 상기 우레탄 수지 및 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 형성되는 점착제이다.The pressure-sensitive adhesive of the present invention contains the urethane resin obtained by the above-described process for producing a urethane resin. Since the urethane resin obtained by the above-mentioned production method has a self-adhesive property, it can be used as a pressure-sensitive adhesive directly. However, by further reacting the secondary hydroxyl group or the tertiary hydroxyl group remaining in the urethane resin with the polyisocyanate compound as the crosslinking agent, a pressure-sensitive adhesive excellent in re-releasability can be obtained. That is, the present invention is a pressure-sensitive adhesive formed by reacting the urethane resin and the polyisocyanate compound.

3.2 경화제3.2 Hardener

경화제로서 사용할 수 있는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 상기 폴리이소시아네이트 화합물 및 이들의 트리메틸올프로판 부가물형 변성체, 뷰렛형 변성체 또는 이소시아누레이트형 변성체 등의 다관능 폴리이소시아네이트가 이용된다. 그 중에서도 평균 관능기수 2 초과의 변성체인 것이 바람직하다. 예를 들면 듀라네이트 P301-75E(아사히 가세이사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 HDI, 이소시아네이트기 함유량: 12.9 질량%, 고형분: 75 질량%), 콜로네이트 L(닛본 폴리우레탄사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 TDI, 이소시아네이트기 함유량: 13.5 질량%, 고형분: 75 질량%) 등을 사용할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아네이트기 함유량(용액의 경우에는 용제를 제외함) 10 내지 30 질량%의 것을 우레탄 수지 100 질량부에 대하여 20 질량부 이하의 범위에서 반응시키는 것이 바람직하다. 보다 양호한 재박리성이 발휘되기 때문에 0.01 내지 10 질량부인 것이 보다 바람직하다. 이에 대하여, 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하지 않는 경우에는 응집력이 저하되어 응집 파괴되기 쉬워지고, 20 질량부를 초과하면 응집이 너무 강하여 점착력이 저하되는 경향이 있다. 이 폴리이소시아네이트 화합물의 사용량의 조정에 의해 점착제의 강도를 조정하는 것이 가능하기 때문에, 점착성과 강도가 균형을 이룬 점착제를 용이하게 얻을 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물은 피착체에 상기 점착제를 도공하기 직전에 우레탄 수지에 첨가하여 반응시키는 것이 바람직하다. 가교제와 우레탄 수지에 잔존하는 2급 수산기를 반응시킬 때는, 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다. 우레탄화 촉매로서는, 예비 중합체 생성 반응시에 사용되는 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다.As the polyisocyanate compounds usable as the curing agent, polyfunctional polyisocyanates such as the above polyisocyanate compounds and their trimethylolpropane adduct type modified products, buret type modified products or isocyanurate type modified products are used. Among them, it is preferable to be a modification having an average number of functional groups of 2 or more. For example, Dyuranate P301-75E (trimethylol propane adduct type HDI, content of isocyanate group: 12.9% by mass, solid content: 75% by mass, manufactured by Asahi Kasei Corporation), Colonate L (manufactured by Nippon Polyurethane Industry, trimethylol propane Water type TDI, isocyanate group content: 13.5% by mass, solids content: 75% by mass). As the polyisocyanate compound, 10 to 30% by mass of an isocyanate group content (excluding a solvent in the case of a solution) is preferably reacted within a range of 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the urethane resin. And more preferably from 0.01 to 10 parts by mass because of better releasability. On the other hand, when the polyisocyanate compound is not used, the cohesive force is lowered and the cohesion is easily broken. When the amount is more than 20 parts by mass, the cohesion is too strong and the cohesion tends to decrease. Since the strength of the pressure-sensitive adhesive can be adjusted by adjusting the amount of the polyisocyanate compound used, a pressure-sensitive adhesive having a good balance between the pressure-sensitive adhesive property and the strength can be easily obtained. It is preferable that the polyisocyanate compound is added to the urethane resin and reacted with the adherend immediately before coating the pressure-sensitive adhesive. When a crosslinking agent and a secondary hydroxyl group remaining in the urethane resin are reacted, an urethane formation catalyst can be used. As the urethanation catalyst, an urethane formation catalyst used in the prepolymer formation reaction may be used.

본 발명에서 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시킴으로써, 우레탄 수지에 잔존하는 2급 수산기 또는 3급 수산기를 통해 가교한 우레탄 수지는 점착 성능과 강도의 균형이 우수하고, 점착 성능을 유지하면서 재박리성이 우수하다고 추정된다. 또한, 상술한 우레탄 수지를 이용한 것이기 때문에 저비용이다. 또한, 아크릴계 화합물을 포함하지 않기 때문에 피착체에의 이행성, 피부 자극성이 낮다고 생각된다. 또한, 이 가교된 우레탄 수지는 분자량이 크고, 저온시에 단단해지기 어렵기 때문에, 점착력의 온도 의존성이 낮다고 생각된다. 또한, 고무계 점착제와 같이 저분자량 화합물이 표면으로 이행하지 않는다고 생각된다.By reacting the polyisocyanate compound in the present invention, the urethane resin crosslinked through the secondary hydroxyl group or the tertiary hydroxyl group remaining in the urethane resin is excellent in the balance between the adhesive property and the strength, and is excellent in re-peeling property while maintaining the adhesive property . In addition, since it is based on the urethane resin described above, it is inexpensive. In addition, since it does not contain an acrylic compound, it is considered that migration to an adherend and skin irritation are low. Further, since the crosslinked urethane resin has a large molecular weight and is hardly hardened at a low temperature, it is considered that the temperature dependency of the adhesive force is low. Further, it is considered that the low molecular weight compound does not migrate to the surface like the rubber adhesive.

3.3 실란커플링제3.3 Silane coupling agent

실란커플링제는 ITO층 또는 기재와의 접합시 점착력을 보다 강화하기 위한 것으로서, 공지의 실란커플링제를 사용할 수 있다. 바람직하게는 에폭시기를 함유하는 실란커플링제로서, 예를 들면 3-글리시독시프로필트리메톡 시실란을 사용할 수 있다. 실란커플링제의 에폭시기는 상기 아크릴계 공중합체의 가교 가능한 관능기와 결합하고, 알콕시실란 부분은 ITO필름의 ITO층을 강하게 결합함으로써 점착안정성을 향상시켜 내열내습 특성을 보다 향상시키며, 특히 높은 온도 또는 습도 조건하에서 장시간 방치하였을 경우 점착 내구성을 향상시키는데 도움을 주는 역할을 한다.The silane coupling agent is used for further enhancing the adhesive force upon bonding with the ITO layer or the substrate, and a known silane coupling agent can be used. As the silane coupling agent preferably containing an epoxy group, for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane can be used. The epoxy group of the silane coupling agent binds to the crosslinkable functional group of the acrylic copolymer and the alkoxysilane part strongly bonds the ITO layer of the ITO film to improve the adhesive stability to further improve the heat resistance and humidity resistance, It is helpful to improve adhesion durability.

상기 실란커플링제는 우레탄계 공중합체(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 0.01 내지 1중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.01중량부 미만인 경우에는 ITO필름의 ITO층과의 점착력이 취약할 수 있으며, 1중량부를 초과하는 경우에는 리워크성이 좋지 못하다.The silane coupling agent is preferably contained in an amount of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer (based on the solid content). When the content is less than 0.01 part by weight, the adhesion of the ITO film to the ITO layer may be weak. When the content is more than 1 part by weight, the workability of the ITO film is poor.

이하, 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the structure and effect of the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, this embodiment is intended to explain the present invention more specifically, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments.

[실시예 1][Example 1]

먼저, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al 및 Sb에서 선택되는 적어도 하나의 금속의 산화물을 포함하는 무기 미립자 중에서 Antimony Zinc Oxide(AZO) 8중량부와 아크릴 모노머 3중량부, 광개시제 0.5중량부, 용매로서 PGME 88.5중량부를 포함하는 고굴절의 고경도층용 코팅 조성물을 #2번 메이어바를 이용해 80㎛ 두께의 폴리에스테르 기재(PET Film, 굴절율: 1.65, 도레이첨단소재(주))에 도포한 후, 100℃ 에서 2분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 광학두께가 100nm이고, 굴절율이 1.67인 고굴절의 고경도층을 형성하였다.First, 8 parts by weight of Antimony Zinc Oxide (AZO), 3 parts by weight of an acrylic monomer, 0.5 parts by weight of a photoinitiator (hereinafter, referred to as &quot; And 88.5 parts by weight of PGME as a solvent were coated on a 80 μm thick polyester substrate (PET film, refractive index: 1.65, manufactured by Toray Industries, Ltd.) using a # 2 Meyer bar as a # 2 high refractive index coating composition for high- Dried at 100 ° C for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation to form a high-refractive-index high-hardness layer having an optical thickness of 100 nm and a refractive index of 1.67.

다음으로, 무기 미립자인 중공 실리카 입자가 10 중량부, 아크릴계 모노머 수지 4중량부 와 광개시제 0.5중량부, 용매로서 PGME 85.5중량부를 포함하는 저굴절율층용 코팅 조성물을 #2번 메이어바를 이용해 상기 고굴절층에 도포한 후, 건조기에서 100℃, 2분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 80nm이고, 굴절율이 1.31인 저굴절율층을 형성하였다.Next, 10 parts by weight of hollow silica particles as inorganic fine particles, 4 parts by weight of an acrylic monomer resin, 0.5 parts by weight of a photoinitiator, and 85.5 parts by weight of PGME as a solvent were added to the high refractive index layer using # 2 Meyer bar Dried, and cured by irradiation with ultraviolet rays to form a low refractive index layer having a thickness of 80 nm and a refractive index of 1.31.

마지막으로, 하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부와 실란커플링제 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물(고형분 함량 기준)을 이형필름에 코팅한 다음, 상기 고굴절의 고경도층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 상온에서 7일 숙성하여 점착층을 제조하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.Finally, 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass transition temperature: -47 DEG C, gel fraction: 85%) containing 1.0 wt% A pressure-sensitive adhesive composition (based on solid content) comprising 1.3 parts by weight of a curing agent and 0.05 parts by weight of a silane coupling agent was coated on the release film and then a pressure sensitive adhesive of 25 μm in dry thickness was applied on the opposite side of the PET base film on which the high- And then aged at room temperature for 7 days to prepare a pressure sensitive adhesive layer to produce a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 2][Example 2]

굴절율이 1.33인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.33 was formed.

[실시예 3][Example 3]

굴절율이 1.35인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 was formed.

[실시예 4][Example 4]

굴절율이 1.37인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.37 was formed.

[실시예 5][Example 5]

굴절율이 1.39인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.39 was formed.

[비교예 1][Comparative Example 1]

굴절율이 1.41인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.41 was formed.

[비교예 2][Comparative Example 2]

굴절율이 1.43인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.43 was formed.

[비교예 3][Comparative Example 3]

굴절율이 1.45인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.45 was formed.

[비교예 4][Comparative Example 4]

굴절율이 1.47인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.47 was formed.

[비교예 5][Comparative Example 5]

굴절율이 1.49인 저굴절율층을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다. A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer having a refractive index of 1.49 was formed.

상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 1을 통해 표면 반사율을 측정하고 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.Using the composite film for capacitive touch panel according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, surface reflectance was measured by the following Experimental Example 1, and the results are shown in Table 1 below.

[실험예 1][Experimental Example 1]

380 내지 780 nm 의 파장 영역 중 입사각 (=반사각) 5°에서 표면 반사율을 어댑터 장치된 UV Spectrophometer[Shimazu UV-PC3600]를 이용하여, 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 반대 면에 검은색 무광택 테이프나 무광택 페인트를 사용하여, 검은색으로 배면처리 후 표면 반사율을 측정하였다. 이 후 480 내지 680 nm범위에서 평균 경면 반사율을 계산하여 반사방지 성능을 평가하였다.The surface reflectance was measured with a UV spectrophometer (Shimazu UV-PC3600) equipped with an adapter at an incident angle (= reflection angle) of 5 ° in a wavelength range of 380 to 780 nm. A black matte tape The surface reflectance was measured after backside treatment with black or black matte paint. Thereafter, the average mirror reflectance was calculated in the range of 480 to 680 nm to evaluate the antireflection performance.

고굴절의 고경도층의
굴절률(n1)
High-hardness layer
The refractive index (n1)
저굴절율층의
굴절률(n2)
The refractive index of the low refractive index layer
Refractive index (n2)
480~680nm에서의
평균경면반사율(%)
At 480 to 680 nm
Average mirror reflectance (%)
실시예 1Example 1 1.671.67 1.311.31 0.240.24 실시예 2Example 2 1.671.67 1.331.33 0.460.46 실시예 3Example 3 1.671.67 1.351.35 0.680.68 실시예 4Example 4 1.671.67 1.371.37 0.940.94 실시예 5Example 5 1.671.67 1.391.39 1.351.35 비교예 1Comparative Example 1 1.671.67 1.411.41 1.641.64 비교예 2Comparative Example 2 1.671.67 1.431.43 1.881.88 비교예 3Comparative Example 3 1.671.67 1.451.45 2.012.01 비교예 4Comparative Example 4 1.671.67 1.471.47 2.352.35 비교예 5Comparative Example 5 1.671.67 1.491.49 2.552.55

[실시예 6][Example 6]

실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 하이드록실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부 및 실란커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란) 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물을 이형필름에 코팅하여 상기 고굴절율층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.The high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET base film described in Example 1 were constructed in the same manner. The pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, 1.3 parts by weight of an isocyanate-based curing agent and 0.05 part by weight of a silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) were added to 100 parts by weight of a releasing film Coated on the opposite side of the PET base film on which the high refractive index layer was formed was transferred and matched with a pressure sensitive adhesive having a dry thickness of 20 占 퐉 to prepare a composite film for capacitive touch panel.

[실시예 7][Example 7]

하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was prepared in the same manner as in Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 1.0 wt% of a hydroxyl group was used.

[실시예 8][Example 8]

하이드록실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was prepared in the same manner as in Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 2.5 wt% of a hydroxyl group was used.

[실시예 9][Example 9]

하이드록실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was prepared in the same manner as in Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 5.0 wt% of a hydroxyl group was used.

[실시예 10][Example 10]

하이드록실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was prepared in the same manner as in Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 10.0 wt% of a hydroxyl group was used.

[비교예 6][Comparative Example 6]

상기 실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 카르복실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 에폭시계 경화제 1.3중량부 및 실란커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란) 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물을 이형필름에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.The high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET base film described in Example 1 were constructed in the same manner. The pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, glass transition 1.3 parts by weight of an epoxy-based curing agent and 0.05 part by weight of a silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) were added to 100 parts by weight of a releasing film (temperature: -47 DEG C, gel fraction: 85% A pressure sensitive adhesive having a dry thickness of 20 占 퐉 was transferred to an antireflection film, followed by aging and aging to produce a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 7][Comparative Example 7]

카르복실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for capacitive touch panel was produced in the same manner as in Comparative Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 1.0 wt% of a carboxyl group was used.

[비교예 8][Comparative Example 8]

카르복실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Comparative Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 2.5 wt% of a carboxyl group was used.

[비교예 9][Comparative Example 9]

카르복실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for capacitive touch panel was produced in the same manner as in Comparative Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 5.0 wt% of carboxyl groups was used.

[비교예 10][Comparative Example 10]

카르복실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 비교예 6과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Comparative Example 6 except that a pressure sensitive adhesive composition containing 10.0 wt% of a carboxyl group was used.

상기 실시예 6 내지 10 및 비교예 6 내지 10에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 2를 통해 전류량 변화율을 측정하고 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.Using the composite film for capacitive touch panel according to Examples 6 to 10 and Comparative Examples 6 to 10, the rate of change of current was measured through the following Experimental Example 2, and the results are shown in Table 2 below.

[실험예 2][Experimental Example 2]

도 2에 도시된 방식으로 합지한 후 85℃*95%*500hr 신뢰성 후 전류량 측정기(MCP-T600)를 이용하여 전류량을 측정하여, 전류 변화량을 확인하였습니다.After laminating in the manner shown in FIG. 2, the amount of current was measured by measuring the amount of current using a current measuring device (MCP-T600) after 85 ° C * 95% * 500 hr reliability.

점착제 조성물의
관능기 종류
The pressure-
Type of functional group
점착제 조성물의
관능기 함량(wt%)
The pressure-
Functional content (wt%)
전류 변화율(%)
[85℃*95%*500hr]
Current change rate (%)
[85 ° C * 95% * 500 hr]
실시예 6Example 6 하이드록실기(-OH)The hydroxyl group (-OH) 0.50.5 0.010.01 실시예 7Example 7 하이드록실기(-OH)The hydroxyl group (-OH) 1.01.0 0.010.01 실시예 8Example 8 하이드록실기(-OH)The hydroxyl group (-OH) 2.52.5 0.010.01 실시예 9Example 9 하이드록실기(-OH)The hydroxyl group (-OH) 55 0.010.01 실시예 10Example 10 하이드록실기(-OH)The hydroxyl group (-OH) 1010 0.010.01 비교예 6Comparative Example 6 카르복실기(-COOH)The carboxyl group (-COOH) 0.50.5 6161 비교예 7Comparative Example 7 카르복실기(-COOH)The carboxyl group (-COOH) 1.01.0 6969 비교예 8Comparative Example 8 카르복실기(-COOH)The carboxyl group (-COOH) 2.52.5 8787 비교예 9Comparative Example 9 카르복실기(-COOH)The carboxyl group (-COOH) 55 9292 비교예 10Comparative Example 10 카르복실기(-COOH)The carboxyl group (-COOH) 1010 114114

[실시예 11][Example 11]

실시예 1에 기재된 고굴절율층, 저굴절율층 및 PET 기재필름을 동일하게 구성한 다음, 하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물(우레탄 공중합체, 중량평균분자량: 1,230,000, 분자량 분포: 4.3, 유리전이온도: -47℃, 겔분율: 85%) 100중량부에 이소시아네이트계 경화제 1.3중량부와 실란커플링제 0.05중량부를 포함하는 점착제 조성물(고형분 함량 기준)을 이형필름에 코팅하여 상기 고굴절율층이 형성된 PET 기재필름의 반대면에 건조 두께 20㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.The high refractive index layer, the low refractive index layer and the PET base film described in Example 1 were constructed in the same manner. The pressure-sensitive adhesive composition (urethane copolymer, weight average molecular weight: 1,230,000, molecular weight distribution: 4.3, (Based on solid content) of 1.3 parts by weight of an isocyanate-based curing agent and 0.05 part by weight of a silane coupling agent was coated on 100 parts by weight of a releasing film, and the high refractive index layer A pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 20 占 퐉 was transferred to the opposite surface of the formed PET substrate film and aged to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[실시예 12][Example 12]

실란커플링제 0.25중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 0.25 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[실시예 13][Example 13]

실란커플링제 0.50중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 0.50 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[실시예 14][Example 14]

실란커플링제 0.75중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 0.75 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[실시예 15][Example 15]

실란커플링제 1.00중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 1.00 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[비교예 11][Comparative Example 11]

실란커플링제를 사용하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.A composite film for a capacitive touch panel was produced in the same manner as in Example 11 except that no silane coupling agent was used.

[비교예 12][Comparative Example 12]

실란커플링제 1.25중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 1.25 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent, to prepare a composite film for a capacitive touch panel.

[비교예 13][Comparative Example 13]

실란커플링제 1.50중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 1.50 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[비교예 14][Comparative Example 14]

실란커플링제 1.75중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 1.75 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

[비교예 15][Comparative Example 15]

실란커플링제 2.00중량부를 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일하게 실시하여 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 제조하였다.And 2.00 parts by weight of a silane coupling agent were used in place of the silane coupling agent.

상기 실시예 11 내지 15 및 비교예 11 내지 15에 따른 정전용량방식 터치패널용 복합필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 3을 통해 점착력 측정 및 점착제 층 잔사 확인을 하고 그 결과를 다음 표 3에 나타내었다.Using the composite film for capacitive touch panel according to Examples 11 to 15 and Comparative Examples 11 to 15, the adhesive force was measured and the residue of the adhesive layer was confirmed by the following Experimental Example 3, and the results are shown in the following Table 3 .

[실험예 3][Experimental Example 3]

정전용량방식 터치패널용 복합필름을 폭 25mm, 길이 175mm로 재단 후 상온에서 ITO 필름(니또덴코社 double layer ITO Film)에 합지한 후 상온에서 1시간 방치 후에 박리력 측정기(AR1000, ChemInstruments 社)이용하여, 박리속도를 300mm/min로 하여 점착력을 측정하였다. 또한 박리 후 ITO 필름에 점착제 층의 잔사가 남아 있는지를 육안으로 확인하였다.The composite film for capacitive touch panels was cut to a width of 25 mm and a length of 175 mm and then lapped with ITO film (double layer ITO film, manufactured by NITTO DENKO CO., LTD.) At room temperature and then left at room temperature for 1 hour to use a peel strength measuring device (AR1000, ChemInstruments) , And the adhesive strength was measured at a peeling speed of 300 mm / min. After the peeling, it was visually confirmed whether the residue of the pressure-sensitive adhesive layer remained on the ITO film.

점착제 조성물Pressure-sensitive adhesive composition 실란커플링제 함량(wt%)Silane coupling agent content (wt%) 점착력
(gf/25mm)
adhesiveness
(gf / 25 mm)
점착층 잔사
(재작업성)
Adhesive layer residue
(Reworkability)
실시예 11Example 11 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 0.050.05 711711 실시예 12Example 12 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 0.250.25 924924 실시예 13Example 13 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 0.500.50 11361136 실시예 14Example 14 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 0.750.75 15421542 실시예 15Example 15 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 1.001.00 18981898 비교예 11Comparative Example 11 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 0.000.00 506506 비교예 12Comparative Example 12 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 1.251.25 20142014 XX 비교예 13Comparative Example 13 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 1.501.50 23552355 XX 비교예 14Comparative Example 14 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 1.751.75 24542454 XX 비교예 15Comparative Example 15 우레탄계 공중합체Urethane-based copolymer 2.002.00 24982498 XX

본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다. It is to be understood that the present invention is not limited to the above embodiments and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention.

1: ITO층 2: 인쇄층
3: 인출선(Ag) 4: 점착층(Acid Free)
5: PET 필름 6: 고굴절율층
7: 저굴절율층 8: 양면테이프
9: 화질향상필름
1: ITO layer 2: printing layer
3: lead wire (Ag) 4: adhesive layer (Acid Free)
5: PET film 6: high refractive index layer
7: low refractive index layer 8: double-sided tape
9: Image Enhancement Film

Claims (9)

정전용량방식 터치패널용 복합필름에 있어서,
투명한 기재필름과
상기 기재필름 상에 순차적으로 코팅된 굴절률이 다른 2층 이상의 코팅층으로서, 상기 코팅층의 최상층은 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절률층으로 이루어진 코팅층과,
상기 코팅층이 형성된 상기 기재필름의 반대 면에 형성된 점착층으로서, 우레탄계 공중합체 수지와 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 도포된 점착층을 포함하고,
상기 우레탄계 공중합체 수지와 상기 경화제는 애시드 프리(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
In a composite film for a capacitive touch panel,
Transparent substrate film
Wherein the uppermost layer of the coating layer comprises a coating layer composed of a low refractive index layer having a refractive index of 1.31 to 1.40,
An adhesive layer formed on the opposite surface of the base film on which the coating layer is formed, the adhesive layer being coated with a pressure-sensitive adhesive composition comprising a urethane-based copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent,
Wherein the urethane-based copolymer resin and the curing agent have an acid-free functional group, and the pressure-sensitive adhesive layer is wet-coated.
제1항에 있어서,
상기 저굴절률층은 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 0.1~1.5%의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 갖는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the low refractive index layer has an average specular reflectance of 0.1 to 1.5% at an incident angle of 5 ° in a wavelength region of 480 to 680 nm.
제1항에 있어서,
상기 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.5% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the composite film for a capacitive touch panel has a transmittance and a haze (HAZE) of 93.5% or more and 1.5% or less, respectively.
제1항에 있어서,
상기 저굴절률층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the water contact angle of the low refractive index layer is 85 DEG or less.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 점착층의 형성 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the current change rate of the base film after formation of the pressure-sensitive adhesive layer is within 20%.
제1항에 있어서,
상기 실란커플링제는 상기 우레탄계 공중합체 수지 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the silane coupling agent comprises 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the urethane-based copolymer resin.
제1항에 있어서,
상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착제 조성물의 점착력은 2 내지 25N/25mm인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to claim 1,
Wherein the coating thickness of the adhesive layer is 10 to 100 占 퐉 and the adhesive force of the adhesive composition is 2 to 25 N / 25 mm.
제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 복합필름.
The method according to any one of claims 1 to 4 and 6 to 8,
Wherein the base film is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film, and a polyethylene (PE) film.
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