KR102309147B1 - Plating method for injection molded product - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 사출품의 도금방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수지 재질로 형성되는 사출품을 도금하기 위한 사출품의 도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plating method of an injection product, and more particularly, to a plating method of an injection product for plating an injection product formed of a resin material.
플라스틱은 무게가 가볍기 때문에 다양한 분야에서 사용되고 있다. 특히 자동차의 경량화를 위해서 기존의 철과 같은 금속 소재에서 플라스틱 소재로의 전용이 계속하여 이루어지고 있다.Because plastic is light in weight, it is used in various fields. In particular, in order to reduce the weight of automobiles, the conversion from metal materials such as iron to plastic materials is continuously being made.
특정한 형태로 제품 용도에 맞게 사출된 플라스틱은 그 자체로는 제품에 적용할 수 없다. 그 이유로는 첫째, 소재의 외관이 화려하지 않아 상품성이 떨어지며 둘째, 플라스틱의 경도가 낮아 충돌에 의한 스크래치가 쉽게 발생하고 외부 환경에 의해 쉽게 변색 및 파손의 우려가 높다.Plastics that are injected in a specific form for product use cannot be applied to products by themselves. The reasons for this are: First, the appearance of the material is not flashy, so the marketability is lowered. Second, the plastic hardness is low, so scratches due to collision easily occur, and there is a high risk of discoloration and damage by the external environment.
플라스틱 소재에 상품으로써의 기능성을 부여하기 위해 플라스틱 도금을 실시한다. 상식적으로 플라스틱 소재에는 금속이 접착되지 않기 때문에 일련의 공정에 의해 화학약품 처리를 하여 플라스틱 표면에 금속이 접착될 수 있도록 표면처리를 하며 이후에 도금을 하여 기능성을 부여한다.Plastic plating is performed to give the plastic material functionality as a commodity. Since metal does not adhere to plastic materials in common sense, it is treated with chemicals through a series of processes to surface-treat so that the metal can be adhered to the plastic surface, and then plated to give functionality.
플라스틱은 소재의 화학 성분에 따라 ABS, ASA, PC, PVC, 난연 소재 플라스틱 등 그 명칭이 다양하나 주로 ABS 플라스틱 소재를 도금하여 사용하는 것이 일반적이다.Plastics have various names, such as ABS, ASA, PC, PVC, and flame-retardant plastics, depending on the chemical composition of the material, but it is common to mainly use ABS plastics by plating them.
한편 종래의 기술인 등록특허 제10-0293532호(이하 종래기술)는 플라스틱고분자표면의금속도금방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수득한 플라스틱 고분자는 사용하는 식각용액내 산화크롬의 농도가 진할수록, 또한 식각용액의 온도가 높을수록 식각효과가 우수하여, 플라스틱 고분자와 도금층 사이의 접착력이 1000 N/㎠ 이상까지인 매우 우수한 플라스틱 고분자를 얻을 수 있으며, 또한 이러한 플라스틱 고분자를 이용하여 가스누출 차폐효과가 우수한 자동차용 연료탱크 등을 제조할 수 있도록 한 것이다.On the other hand, the prior art Registration Patent No. 10-0293532 (hereinafter referred to as the prior art) relates to a metal plating method on the surface of a plastic polymer. As the temperature of the etching solution is higher, the etching effect is excellent, and a very excellent plastic polymer having an adhesion between the plastic polymer and the plating layer of up to 1000 N/
그러나 이러한 종래기술은 크랙 발생을 효과적으로 억제하지 못하고, 내마모성이 우수하지 못하며, 광택, 무광택, 색상(블랙, 금색), 블랙광택 등 다양하고 화려한 외관을 가지는 도금된 사출품을 제조할 수 없다는 문제점이 있었다.However, this prior art does not effectively suppress the occurrence of cracks, does not have excellent abrasion resistance, and has problems in that it is not possible to manufacture plated injection products having various and splendid appearances such as gloss, matte, color (black, gold), and black gloss. there was.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 크랙 발생을 효과적으로 억제하고, 내마모성이 우수하며, 광택, 무광택, 색상(블랙, 금색), 블랙광택 등 다양하고 화려한 외관을 가지는 완제품을 제조할 수 있도록 하는 사출품의 도금방법의 제공을 목적으로 한다.The present invention has been devised to solve the above problems, and it is possible to produce finished products that effectively suppress the occurrence of cracks, have excellent abrasion resistance, and have various and colorful appearances such as gloss, matte, color (black, gold), and black gloss. The purpose of this invention is to provide a plating method for injection-molded products.
또한 본 발명은 다수의 사출품을 효율적으로 도금할 수 있는 사출품의 도금방법의 제공을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a plating method for an injection-molded product capable of efficiently plating a plurality of injection-molded products.
상기 과제의 해결을 목적으로 하는 본 발명은 다음의 구성 및 특징을 갖는다.The present invention for the purpose of solving the above problems has the following configuration and features.
사출품을 지그에 장착하는 락킹공정 및 상기 사출품의 이물질을 제거하는 탈지공정 중 적어도 하나를 포함하는 전처리단계(S10); 크롬산을 포함하는 에칭용액에 상기 사출품을 침지하여 상기 사출품에 요철을 형성하는 에칭단계(S20); 상기 사출품을 염산을 포함하는 중화제에 침지하여 중화하는 중화단계(S30); 상기 사출품 표면에 팔라듐과 주석을 흡착시키는 제1활성단계(S40); 상기 사출품에서 상기 주석을 제거하고 상기 팔라듐을 활성화시키는 제2활성단계(S50); 니켈을 포함하는 전처리제에 상기 사출품을 침지하여 사출품 표면에 화학니켈층을 형성하는 화학니켈 도금단계(S60); 상기 사출품의 화학니켈층에 황산동을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 니켈을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 샤틴니켈을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 3가크롬을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 6가크롬을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 흑진주를 도금하는 공정 및 상기 사출품의 화학니켈층에 금을 도금하는 공정 중 하나 이상을 포함하는 전기도금단계(S70); 및 이온교환수를 이용하여 상기 사출품을 세척하는 세척공정, 황산을 포함하는 박리용액에 상기 사출품을 침지하는 화학박리공정, 상기 사출품을 건조시키는 건조공정, 상기 사출품을 검사하는 검사공정 및 상기 사출품을 포장하는 포장공정 중 적어도 하나를 포함하는 후처리단계(S80);를 포함한다.A pre-treatment step (S10) comprising at least one of a locking process for mounting the injection-molded product on a jig and a degreasing process for removing foreign substances from the injection-molded product; An etching step (S20) of immersing the injection-molded product in an etching solution containing chromic acid to form irregularities on the injection-molded product; Neutralizing step (S30) of immersing the injection product in a neutralizing agent containing hydrochloric acid to neutralize; a first activation step of adsorbing palladium and tin to the surface of the injection product (S40); a second activation step (S50) of removing the tin from the injection product and activating the palladium; Chemical nickel plating step (S60) of immersing the injection product in a pretreatment agent containing nickel to form a chemical nickel layer on the surface of the injection product; A step of plating copper sulfate on the chemical nickel layer of the injection product, a step of plating nickel on the chemical nickel layer of the injection product, a step of plating satin nickel on the chemical nickel layer of the injection product, a chemical nickel layer of the injection product A process of plating trivalent chromium, a process of plating hexavalent chromium on the chemical nickel layer of the injection product, a process of plating black pearls on the chemical nickel layer of the injection product, and plating gold on the chemical nickel layer of the injection product An electroplating step (S70) comprising at least one of the processes; and a washing process of washing the injected product using ion-exchanged water, a chemical peeling process of immersing the injected product in a stripping solution containing sulfuric acid, a drying process of drying the injected product, and an inspection process of inspecting the injected product and a post-processing step (S80) including at least one of a packaging process for packaging the injection product.
또한 상기 지그는, 다수의 상부수직바; 상기 다수의 상부수직바 각각의 하단에 연결되는 다수의 수평바; 상기 수평바의 하단에서 하측으로 연장되는 하부수직바; 상기 하부수직바에서 상기 사출물이 장착되도록 돌출 구비되는 장착부; 이웃하는 상부수직바를 연결하는 연결바; 및 상기 상부수직바의 상단에 구비된 걸이부;를 포함할 수 있다.In addition, the jig, a plurality of upper vertical bars; a plurality of horizontal bars connected to the lower ends of each of the plurality of upper vertical bars; a lower vertical bar extending downward from the lower end of the horizontal bar; a mounting part protruding from the lower vertical bar to mount the injection-molded product; a connecting bar connecting adjacent upper vertical bars; and a hook portion provided on the upper end of the upper vertical bar.
또한 상기 중화단계(S30)는, 상기 중화제를 수용통에 수용시키는 단계(S31) 및 상기 사출품이 장착된 지그를 상기 수용통에 수용된 중화제에 침지하는 단계(S32)를 포함하되, 상기 수용통은, 상부에서 상측으로 돌출된 돌출부; 상기 돌출부의 상단에서 하측으로 함몰 형성된 끼움홈; 및 상기 끼움홈에 삽입되어 설치되고 지그가 걸어져 장착되는 바디 및 상기 바디의 길이 방향을 따라 형성되는 다수의 체결공을 포함하는 거치부;를 포함할 수 있다.In addition, the neutralization step (S30) includes the step of accommodating the neutralizing agent in a container (S31) and immersing the jig on which the injection product is mounted in the neutralizing agent accommodated in the container (S32), but the container Silver, a protrusion protruding upward from the top; a fitting groove recessed downwardly from the upper end of the protrusion; and a mounting portion including a body inserted into the fitting groove and installed and on which a jig is hung, and a plurality of fastening holes formed along the longitudinal direction of the body.
상기 구성 및 특징을 갖는 본 발명은 랙 발생을 효과적으로 억제하고, 내마모성이 우수하며, 광택, 무광택, 색상(블랙, 금색), 블랙광택 등 다양하고 화려한 외관을 가지는 완제품을 제조할 수 있도록 한다는 효과를 갖는다.The present invention having the above configuration and characteristics effectively suppresses the occurrence of racks, has excellent abrasion resistance, and enables the production of finished products having various and splendid appearances such as gloss, matte, color (black, gold), and black gloss. have
또한 본 발명은 다수의 사출품을 효율적으로 도금할 수 있도록 한다는 효과를 갖는다.In addition, the present invention has the effect of allowing a plurality of injection-molded products to be efficiently plated.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 사출품의 도금방법을 설명하기 위한 개략적인 흐름도이다.
도 2는 지그를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 수용통을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 추가 실시예를 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic flowchart for explaining a plating method of an injection product according to an embodiment of the present invention.
2 is a view for explaining the jig.
3 is a view for explaining the container.
4 is a view for explaining a further embodiment of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is intended to be described in detail in the text of the embodiment (態樣, aspect) (or embodiments) can be applied to various changes and can have various forms. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is only used to describe a specific embodiment (aspect, aspect, aspect) (or embodiment), and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as comprises or consists of are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification exist, but one or more other features It is to be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not
본 명세서에서 기재한 ~제1~, ~제2~ 등은 서로 다른 구성 요소들임을 구분하기 위해서 지칭할 것일 뿐, 제조된 순서에 구애받지 않는 것이며, 발명의 상세한 설명과 청구범위에서 그 명칭이 일치하지 않을 수 있다.~1~, ~2~, etc. described in the present specification will be referred to only to distinguish that they are different components, and are not limited to the order of manufacture, and their names in the detailed description and claims of the invention are may not match.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결" 되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.Throughout this specification, when a part is "connected" with another part, this includes not only the case of being "directly connected", but also the case of being "indirectly connected" with another element interposed therebetween. do.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 사출품의 도금방법을 설명하기 위한 개략적인 흐름도이고, 도 2는 지그를 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic flowchart for explaining a method for plating an injection product according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view for explaining a jig.
이하에서는 설명의 편의상 본 발명의 일 실시예에 따른 사출품의 도금방법을 '본 방법'이라 칭하기로 한다.Hereinafter, for convenience of description, the plating method of an injection-molded article according to an embodiment of the present invention will be referred to as 'the present method'.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 방법은 전처리단계(S10), 에칭단계(S20), 중화단계(S30), 제1활성단계(S40), 제2활성단계(S50), 화학니켈 도금단계(S60), 전기도금단계(S70) 및 후처리단계(S80)를 포함한다.1 and 2, the method includes a pretreatment step (S10), an etching step (S20), a neutralization step (S30), a first activation step (S40), a second activation step (S50), a chemical nickel plating step (S60), an electroplating step (S70) and a post-processing step (S80).
전처리단계(S10)는 사출품(3)을 지그(1)에 장착하는 락킹공정 및 사출품(3)의 이물질을 제거하는 탈지공정 중 적어도 하나를 포함한다. 상기 사출품(3)은 수지 재질로서, 예시적으로 ABS 소재가 사출 성형된 것일 수 있다.The pretreatment step (S10) includes at least one of a locking process for mounting the
예시적으로 상기 락킹공정을 수행하는 지그(1)는 다수의 상부수직바(11), 다수의 상부수직바(11) 각각의 하단에 연결되는 다수의 수평바(12), 상기 수평바(12)의 하단에서 하측으로 연장되는 하부수직바(13), 하부수직바(13)에서 상기 사출물이 장착되도록 돌출 구비되는 장착부(14), 이웃하는 상부수직바(11)를 연결하는 연결바(15) 및 상기 상부수직바(11)의 상단에 구비된 걸이부(16)를 포함할 수 있다.Illustratively, the
상기 장착부(14)는 예시적으로 하부수직바(13)에서 사출품(3)의 구멍에 걸어지도록 돌출 구비되는 돌부에 상응하는 구성(예시적으로 하부수직바(13)에서 수평 방향 도는 상향 경사지게 돌출)을 포함할 수 있다. 상기한 장착부(14)는 후술하는 사출품(3) 표면에 화학니켈이 부착된 후 전류가 흐를 수 있도록 통전되는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.The
평면상에서 봤을 때 수평바(12)와 연결부(15)의 길이 방향은 상호 직교될 수 있다. 즉, 상부수직바(11)는 상기 수평바(12)의 길이 방향에 직교되는 방향을 따라 간격을 두고 다수 배치될 수 있다.When viewed in a plan view, the longitudinal direction of the
걸이부(16)는 상기 상부수직바(11)의 상단에서 상측으로 연장된 연장부(161), 상기 연장부(161)의 상단에서 하측으로 만곡 되는 만곡부(162) 및 상기 연장부(161)와 만곡부(162)에 의해 형성되는 걸이홈을 포함할 수 있다.The
걸이홈은 후술하는 거치부(23)가 삽입되는 홈으로 지그(1)가 후술하는 거치부(23)에 걸어지도록 하는 역할을 수행하는 것이다.The hook groove is a groove into which the
여기에서 상측(상단 등)은 연직 방향 상에서 상측(상단 등)을 의미하고 하측(하단 등)은 연직 방향 상에서 하측(하단 등)을 의미할 수 있는데, 이하의 설명에서 동일하게 적용하기로 한다.Here, the upper side (top, etc.) may mean the upper side (top, etc.) in the vertical direction and the lower side (lower side, etc.) may mean the lower side (lower side, etc.) in the vertical direction, and the same will be applied in the following description.
이와 같이, 락킹공정을 수행하는 지그(1)는 후술하는 거치부(23)에 걸어지는 것으로, 상부수직바(11), 수평바(12), 하부수직바(13), 연결부(15)를 포함하여 다수의 사출품(3)을 효율적으로 도금 할 수 있도록 한다는 이점이 있다.In this way, the
탈지공정은 사출품(3) 표면에 부착된 분진 등을 제거하는 공정이다. 즉, 상기 대상물을 계면활성제를 포함한 알칼리성 또는 산성 용액 속에 침전하여 알칼리욕 또는 산성욕 처리를 함에 따라 사출성형 공정에서 대상물 표면에 부착된 먼지를 비롯하여 지문이나 유지 성분 등 기타 오염물을 제거하여 표면을 청결하게 한다.The degreasing process is a process of removing dust and the like adhering to the surface of the
이때, 예시적으로 대상물 표면의 탈지를 위하여 정면 탈지제(degreasing agent)(예시적으로 '신동케미칼(주)' 회사 제품인 'CP 정면제'가 사용될 수 있다.)(물 1L 당 cp정면제 약 200mL(CP 정면제 200mL/L)와 함께 황산(H2SO4)과 물을 혼합하여 희석한 황산 수용액(물 1L 당 황산 약 400mL)이 사용되며, 온도 55~65℃에서 50ㅁ2℃에서 4~6분 동안 유지시키며 표면에 묻은 이물질을 제거할 수 있다.At this time, for example, for degreasing the surface of the object, a front degreasing agent (for example, 'CP face agent' manufactured by 'Shindong Chemical Co., Ltd.' may be used.) (About 200 mL of cp degreasing agent per 1 L of water An aqueous solution of sulfuric acid (approximately 400 mL of sulfuric acid per 1 L of water) diluted by mixing sulfuric acid (H2SO4) and water together with (CP face agent 200mL/L) is used, and at a temperature of 55~65℃, at 50ㅁ2℃ for 4~6 minutes. It can be maintained for a while to remove foreign substances attached to the surface.
상기 전처리단계(S10)는 사출품(3)의 중량이나 외관 등의 이상 유무를 확인하는 공정을 더 포함할 수 있다.The pretreatment step (S10) may further include a step of checking whether there is an abnormality in the weight or appearance of the
에칭단계(S20)는 크롬산을 포함하는 에칭용액에 상기 사출품(3)을 침지하여 상기 사출품(3)에 요철을 형성하는 단계이다.The etching step ( S20 ) is a step of immersing the injection-molded
에칭단계(S20)는 사출품(3)의 고무 성분을 강산으로 녹여 표면에 미세한 요철을 형성하는 단계이다. 상술하였듯이 사출품(3)은 ABS 수지로 형성된 것일 수 있다고 하였는데, ABS 소재로 형성된 사출품(3) 표면에 부타디엔 성분을 부분적으로 산화 용해(용출)함으로써, 다수의 미세 요철을 형성하는 단계이다.The etching step (S20) is a step of dissolving the rubber component of the
상기 에칭용액은 물 2L에 크롬산 480 ~ 520g 및 황산 180 ~ 220g이 용해된 것일 수 있고, 상기 지그(1)(RacK)에 장착된 사출품(3)을 상기 에칭용액이 수용된 받이통(후술하는 수용통(2)에 상응하는 구성을 포함할 수 있음)에 침지하여 섭씨 70ㅁ2℃에서 4 ~ 6분 동안 유지할 수 있다.The etching solution may be one in which 480 to 520 g of chromic acid and 180 to 220 g of sulfuric acid are dissolved in 2L of water, and the
한편, 본 방법은 각 단계 및 각 공정이후에는 사출품(3)의 표면을 물로 세척하는 수세단계를 더 포함할 수 있음은 물론이다. 이는 해당 분야에서 통상적인 것으로 보다 구체적인 설명은 생략하기로 한다.On the other hand, of course, the method may further include a washing step of washing the surface of the
도 3은 수용통을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining the container.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 중화단계(S30)는 상기 사출품(3)을 염산을 포함하는 중화제에 침지하여 중화하는 단계이다.1 to 3 , the neutralization step S30 is a step of neutralizing the
예시적으로 중화제는 물 1L에 염산 9~11mL가 혼합된 것일 수 있으며, 상기 중화제는 수용통(2)에 수용될 수 있다. 수용통(2)은 후술하는 설명에서 보다 자세히 설명하기로 한다.Illustratively, the neutralizing agent may be a mixture of 9 to 11 mL of hydrochloric acid in 1 L of water, and the neutralizing agent may be accommodated in the container (2). The container (2) will be described in more detail in the description to be described later.
상기 중화단계(S30)에서 사출품(3)은 섭씨 30ㅁ2℃에서 상기 중화제에 침지되어 소정 시간(약 2분~4분) 유지될 수 있으며, 사출품(3)은 상기한 바와 같이 중화제에 침지되어 표면에 잔류하는 크롬산 즉 6가크롬이 3가크롬으로 환원되어 후술하는 제1활성단계(S40)에서 크롬산이 팔라듐 입자를 분해하는 것을 억제하도록 한다.In the neutralization step (S30), the
예시적으로 상기 중화제는 중화유산소다 4~6g/L(물 1L)을 투입하여 요철부위에 잔존하는 각종 이물질까지도 제거할 수 있도록 할 수 있다.Illustratively, the neutralizing agent may be added to neutralized oxygenated sodium 4 to 6 g/L (1 L of water) to remove various foreign substances remaining in the concave-convex portion.
이하에서 각 성분들은 g/L 또는 mL/L 단위일 수 있는데, 이는 물 1L 당 해당 성분들의 무게(g) 또는 부피(mL)를 의미할 수 있다. 이하의 설명에서 동일하게 적용하기로 한다. Hereinafter, each component may be in g/L or mL/L units, which may mean the weight (g) or volume (mL) of the corresponding components per 1 L of water. The same will be applied in the following description.
중화단계(S30)는 중화제에 사출품(3)이 침지된 상태에서 초음파를 가하는 공정(이하 초음파단계(S33))을 포함할 수 있다. 예시적으로 상기 수용통(2)에는 초음파기기 2대(수용통 용량 800L 기준)가 설치될 수 있다. 예시적으로 초음파의 주파수는 28~40㎑이고, 출력은 2200~2600W일 수 있다.The neutralization step (S30) may include a process of applying ultrasonic waves in a state in which the
종래에 중화제만을 사용하여 중화를 하는 경우 지그(1)에 잔존하는 크롬산을 효과적으로 중화할 수 없었는데, 본 방법의 중화단계(S30)는 초음파단계(S33) 포함하여 지그(1)(rack)에 잔존하는 크롬산 또한 보다 쉽게 제거할 수 있다는 이점이 있다.In the case of neutralization using only a neutralizing agent in the prior art, the chromic acid remaining in the
또한 단사출이 아닌 이중사출인 경우 사출경계면에 크롬산이 흘러나오는 경우가 많은데, 초음파를 가하는 경우 사출경계면에 있는 크롬산을 효과적으로 제거할 수 있다는 이점이 있다.Also, in the case of double injection rather than single injection, chromic acid often flows out on the injection interface.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 중화단계(S30)에서 중화제는 상기 수용통(2)에 수용된다고 상술한바 있다. 중화단계(S30)는 중화제를 수용통(2)에 수용시키는 단계(S31) 및 상기 사출품(3)이 장착된 지그(1)를 상기 수용통(2)에 수용된 중화제에 침지하는 단계(S32)를 포함할 수 있다. 상기한 초음파단계(S33)는 상기 (S32) 단계 이후에 수행될 수 있다.1 to 3 , it has been described above that the neutralizing agent is accommodated in the
이때 상기 수용통(2)은 베이스, 상기 베이스 테두리에서 상측으로 돌출되어 상기 중화제가 수용되는 수용공간을 형성하는 측벽(21)을 포함할 수 있다.In this case, the
또한 수용통(2)은 측벽(21) 상단에서 상측으로 돌출된 돌출부(22), 돌출부(22)의 상단에서 하측으로 함몰 형성된 끼움홈(미도시) 및 상기 끼움홈에 삽입되어 설치되고 상기 지그(1)가 걸어져 장착되는 바디(231)를 포함하는 거치부(23)를 포함할 수 있다.In addition, the receiving
예시적으로 베이스(미도시)는 평면상에서 봤을 때 사각형일 수 있고, 따라서 측벽(21)은 마주보는 제1벽 및 제2벽과 제1벽과 제2벽을 상호 연결하는 제3벽 및 제4벽을 포함할 수 있다.Illustratively, the base (not shown) may have a rectangular shape in plan view, so that the
이때 상기 돌출부(22) 및 끼움홈(미도시)은 제1벽 및 제2벽에 다수 구비되거나 제3벽 및 제4벽에 다수 구비되어, 제3벽의 길이 방향과 평행한 거치부(23)가 제1벽 및 제2벽에 구비되는 끼움홈(미도시)에 설치될 수 있다. At this time, the
도 3에서 상기 끼움홈(미도시)은 상기 바디(231)가 삽입되어 도시되지 않았다.In FIG. 3, the fitting groove (not shown) is not shown since the
이와 같이, 본 방법에서 중화단계(S30)를 수행하는 수용통(2)은 끼움홈(미도시) 및 상기 끼움홈에 삽입되어 끼워지는 바디(231)를 포함하는 거치부(23)를 포함함으로써, 거치부(23)와 측벽(21)을 탈착 가능하게 결합할 수 있으며, 따라서 거치부(23)를 용이하게 유지보수 할 수 있고, 측벽(21)과 거치부(23)를 별도로 세척을 수행할 수 있다는 이점이 있다.As described above, the
특히 거치부(23)는 지그(1)가 반복적으로 걸어지는 것으로, 마모가 상당할 수 있는데, 거치부(23)만을 교체할 수도 있다는 이점 또한 있다.In particular, the mounting
도 3을 참조하면, 거치부(23)는 상기 바디(231)의 길이 방향을 따라 형성되는 다수의 체결공(232)을 포함할 수 있다. 바디(231)가 체결공(232)을 포함함으로써, 다수의 거치부(23)를 연결하여 그들의 길이를 길게 할 수 있으므로 제1벽과 제2벽 또는 제3벽과 제4벽의 이격 거리가 커져도 거치부(23)의 설치가 용이하다는 이점이 있다.Referring to FIG. 3 , the mounting
도 1을 참조하면, 제1활성단계(S40)는 사출품(3) 표면에 팔라듐과 주석을 흡착시키는 단계이다. 예시적으로 제1활성단계(S40)는 상기 수용통(2)과 상응하는 구성을 포함하는 받이통에 수용된 제1활성용액에 상기 사출품(3)을 침지하여 표면에 팔라듐과 주석을 흡착시키는 단계일 수 있다.Referring to FIG. 1 , the first activation step S40 is a step of adsorbing palladium and tin on the surface of the
예시적으로 상기 제1활성용액은 팔라듐을 포함하는 용액(예시적으로 '㈜희성메탈' 회사 제품인 'NP-8'일 수 있음) 35~49mL/L(물 1L), 염산 100~140mL/L(물 1L 당)을 포함할 수 있다.Illustratively, the first active solution is a solution containing palladium (for example, it may be 'NP-8', a product of 'Heesung Metal') 35~49mL/L (water 1L),
제1활성단계(S40)에서 사출품(3)은 제1활성용액에 침지되어 섭씨 33ㅁ2℃에서 3~6분 동안 유지될 수 있다. 제1활성단계(S40)에서 상기 팔라듐-주석 클러스터는 요철의 에칭홀에 흡착 침투될 수 있다.In the first activation step (S40), the
제2활성단계(S50)는 사출품(3)에서 상기 주석을 제거하고 팔라듐을 활성화시키는 단계이다.The second activation step S50 is a step of removing the tin from the
제2활성단계(S50)는 예시적으로 황산이 포함된 제2활성용액(마찬가지로 받이통에 수용될 수 있음)에 침지되어 53ㅁ2℃에서 2~4분 동안 유지될 수 있다.The second activation step (S50) may be immersed in a second active solution containing sulfuric acid as an example (which may also be accommodated in a container) and maintained at 53 ㅁ2° C. for 2 to 4 minutes.
예시적으로 황산은 90~110mL/L(물 1L 당)이 상기 제2활성용액에 포함될 수 있다. 제2활성단계(S50)는 상술한 바와 같이, 팔라듐-주석 클러스터에서 주석을 제거하고 팔라듐을 활성화 할 수 있다.Illustratively, 90 to 110 mL/L of sulfuric acid (per 1 L of water) may be included in the second active solution. In the second activation step (S50), as described above, tin may be removed from the palladium-tin cluster and palladium may be activated.
화학니켈 도금단계(S60)는 니켈을 포함하는 전처리제에 상기 사출품(3)을 침지하여 사출품 표면에 화학니켈층을 형성하는 단계이다.The chemical nickel plating step (S60) is a step of immersing the
예시적으로 상기 전처리제는 유산니켈 2.0~4.0g/L과 구연산소다 6.0~12.0g/L 및 차린산소다 1.5~3.5g/L을 포함할 수 있고, 섭씨 35ㅁ2℃에서 5~8분 동안 유지시키며 최종적으로 전기 도금을 위해 촉매층(팔라듐)에 금속니켈을 석출하여 사출품(3)의 에칭홀을 에무며 사출품(3)의 표면 화학니켈층을 형성한다. 따라서 사출품(3)에 전도성을 부여할 수 있다. 예시적으로 상기 전처리제의 PH는 7.8일 수 있다.Illustratively, the pretreatment agent may include 2.0 to 4.0 g/L of nickel lactate, 6.0 to 12.0 g/L of sodium citrate, and 1.5 to 3.5 g/L of sodium phosphate, 5 to 8 minutes at 35 ° C. 2 ° C. and finally, metal nickel is deposited on the catalyst layer (palladium) for electroplating, and the etching hole of the
전기도금단계(S70)는 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 황산동을 도금하는 공정(S71), 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 니켈을 도금하는 공정(S72), 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 샤틴니켈을 도금하는 공정(S73), 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 3가크롬을 도금하는 공정(S74), 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 6가크롬을 도금하는 공정(S75), 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 흑진주를 도금하는 공정(S76) 및 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 금을 도금하는 공정(S77) 중 하나 이상을 포함한다.The electroplating step (S70) includes a process of plating copper sulfate on the chemical nickel layer of the injection product 3 (S71), a process of plating nickel on the chemical nickel layer of the injection product 3 (S72), and the
상기 전기도금단계(S70)에 포함되는 (S71) 내지 (S77) 단계는 사출품(3)을 각각의 전기도금용액에 침지하고 전압을 인가하여 전기도금을 수행하는 단계일 수 있다.Steps (S71) to (S77) included in the electroplating step (S70) may be steps of immersing the injection-molded
상기 (S71) 단계는 예시적으로 황산동 도금 용액(예시적으로 황산동 수용액(CuSO4) 190 ~ 210g/L(물 1L)에 황산(H2SO4) 55 ~ 65ml/L(물 1L)을 포함할 수 있다)에 상기 사출품(3)을 침지하여 섭씨 23~27℃를 유지시키며, 5ㅁ1[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 20ㅁ10분 동안 전기 도금을 실시할 수 있다.The step (S71) may include, for example, a copper sulfate plating solution (eg, sulfuric acid (H2SO4) 55 to 65 ml/L (water 1L) in 190 to 210 g/L (1 L of water) of copper sulfate aqueous solution (CuSO4)) The
이를 통해 사출품(3)에 광택을 부여하고 표면의 연성을 증가시켜 외부 충격에 대한 인성(쿠션성)을 부여할 수 있다.Through this, it is possible to impart a gloss to the
상기 (S72) 단계는 예시적으로 니켈 도금 용액(예시적으로 황산니켈 300~320g/L과 염화니켈 50~60g/L 및 붕산 45~55g/L 포함)에 사출품(3)을 침지하여 섭씨 50~60℃를 유지시키며, 4.5ㅁ1[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 15ㅁ10분 동안 전기 도금을 수행하는 단계일 수 있다.In the step (S72), the
이를 통해 사출품(3)의 내식성을 부여하고 광택을 발생시키도록 할 수 있다.Through this, it is possible to impart corrosion resistance of the
상기 (S73) 단계는 예시적으로 샤틴니켈 도금 용액(예시적으로 유산니켈 430~480g/L과 염화니켈 28~32g/L 및 붕산 28~32g/L 포함)에 사출품(3)을 침지하여 섭씨 55ㅁ5℃를 유지시키며, 4.5ㅁ0.2[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 8~10분 동안 전기 도금을 수행하는 단계일 수 있다.In the step (S73), the
이를 통해 사출품(3)의 내식성을 향상시키는 동시에 사출품(3)이 광택을 발생시키지 않도록 할 수 있다(무광택).Through this, it is possible to improve the corrosion resistance of the
또한 기존 시판되는 종래의 무광택제(예시적으로 니켈을 포함하는 ㈜써켐 회사 제품인 LLM 브라이트)와 비교하여 도금 시간을 5분에서 10분으로 늘릴 수 있어 신뢰성이 향상되고 도금층의 두께를 보다 크게 할 수 있다는 이점이 있다.In addition, the plating time can be increased from 5 minutes to 10 minutes compared to the conventional commercially available matte materials (eg, LLM Bright, a product of Cerchem Co., Ltd. containing nickel), thereby improving reliability and increasing the thickness of the plating layer. There is an advantage that there is
상기 (S74) 단계는 예시적으로 3가크롬 도금 용액(예시적으로 3가 크롬(Cr3) 20~24g/L과 붕산(H3BO3) 270~330g/L 및 백색제 7~13ml/L 포함)에 사출품(3)을 침지하여 섭씨 32ㅁ3℃를 유지시키며, 8ㅁ2[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 3~5분 동안 전기 도금을 수행하는 단계일 수 있다.The step (S74) is exemplarily performed in a trivalent chromium plating solution (eg, trivalent chromium (Cr3) 20 to 24 g/L, boric acid (H3BO3) 270 to 330 g/L and whitening agent 7 to 13 ml/L) It may be a step of immersing the
상기한 백색제는 백색을 내게 하는 것으로, 예시적으로 물 및 아세트산 암모늄 등을 포함할 수 있다. 예시적으로 백색제는 아토텍(주) 회사 제품인 '스태빌라이져'일 수 있다.The above-described whitening agent gives white color, and may include, for example, water and ammonium acetate. For example, the white agent may be a 'stabilizer' manufactured by Atotech Co., Ltd.
이를 통해 광택을 부여하고 내마모성을 부여하며 외관을 향상시킬 수 있다. (S74) 단계에서 사용되는 3가크롬 도금 용액은 후술하는 (S75) 단계에서 사용되는 6가크롬 도금 용액보다 인체에 무해하여 작업자를 효과적으로 보호할 수 있으며, 따라서 전자, 가전 등의 제품에 사용될 수 있다.This can give gloss, give abrasion resistance and improve appearance. The trivalent chromium plating solution used in step (S74) is harmless to the human body than the hexavalent chromium plating solution used in step (S75), which will be described later, and thus can effectively protect workers, and thus can be used for products such as electronics and home appliances. have.
(S75) 단계는 예시적으로 6가크롬 도금 용액(예시적으로 3가 무수크롬산(CrO3) 230~270g/L과 황산 0.4~0.8g/L 및 3가 크롬(Cr3) 1~2g/L 포함)에 사출품(3)을 침지하여 씨 27~37℃를 유지시키며, 3.5ㅁ1[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 5ㅁ2분 동안 전기 도금을 수행할 수 있다.Step (S75) includes, for example, a hexavalent chromium plating solution (eg, 230-270 g/L of trivalent chromic anhydride (CrO3), 0.4-0.8 g/L of sulfuric acid, and 1-2 g/L of trivalent chromium (Cr3) ) to maintain the seed 27~37℃ by immersing the
이를 통해 외관을 화려하게 있으며 사출품(3)의 내마모성을 향상시킬 수 있다.Through this, the appearance is gorgeous and the abrasion resistance of the
상기 (S76) 단계는 예시적으로 흑진주 도금 용액(예시적으로 흑진주, 니켈, 아연, 주석 중 둘 이상을 포함하는 용액, 예시적으로 대진표면처리 회사의 BLACK#1(흑진주, 니켈, 아연 중 하나 이상 포함) 80~120㎖/L 및 BLACK#2(흑진주, 주석 중 하나 이상 포함) 160~240㎖/L를 포함할 수 있다)을 침지하여 섭씨 25~35℃를 유지시키며, 5ㅁ1[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 1분 30초ㅁ30초 동안 전기 도금을 수행할 수 있다.The step (S76) is an exemplary black pearl plating solution (exemplarily a solution containing two or more of black pearl, nickel, zinc, and tin, for example, BLACK#1 (one of black pearl, nickel, and zinc) of Daejin Surface Treatment Company Including above) 80~120ml/L and BLACK#2 (including at least one of black pearl and tin) 160~240ml/L) is immersed to maintain 25~35℃, 5ㅁ1[ V], electroplating can be performed for 1 minute 30 seconds ㅁ 30 seconds in a state where the voltage is applied.
이를 통해 사출품(3) 표면에 블랙 광택을 입힐 수 있다.Through this, a black luster can be applied to the surface of the
상기 (S77) 단계는 예시적으로 금 도금 용액(예시적으로 청화금1~3g/L)을 포함)에 사출품(3)을 침지하여 섭씨 40~55℃를 유지시키며, 2ㅁ0.5[V]의 전압을 인가시킨 상태에서 1분ㅁ10초 동안 전기 도금을 수행하는 공정일 수 있다.In the step (S77), the
이를 통해 사출품(3) 표면에 금 광택을 부여할 수 있다.Through this, it is possible to impart a gold luster to the surface of the
도 1을 참조하면, 후처리단계(S80)는 이온교환수를 이용하여 상기 사출품(3)을 세척하는 세척공정, 황산을 포함하는 박리용액에 상기 사출품(3)을 침지하는 화학박리공정, 상기 사출품(3)을 건조시키는 건조공정, 상기 사출품(3)을 검사하는 검사공정 및 상기 사출품(3)을 포장하는 포장공정 중 적어도 하나를 포함한다.Referring to Figure 1, the post-treatment step (S80) is a washing process of washing the
상기 세척공정은 이온교환수(순수물)를 이용하여 상기 사출품(3)을 세척함으로써, 사출품(3) 표면이 얼룩이지지 않도록 하는 공정일 수 있다.The washing process may be a process of washing the injected
상기 화학박리공정에서 박리용액은 예시적으로 황산 20㎖/L과 과산화수소 20㎖/L를 포함할 수 있고, 화학박리공정은 상기 화학박리용액에 상기 사출품(3)을 침지하여 섭씨 25ㅁ2℃를 20분ㅁ10초 동안 유지시키는 공정일 수 있다.In the chemical peeling process, the stripping solution may include, for example, sulfuric acid 20ml/L and hydrogen peroxide 20ml/L, and the chemical peeling process is performed by immersing the
본 방법은 사출품(3) 전체 표면을 도금하기 위한 것이나, 사출품(3)은 일부 표면만을 도금하는 공정일 수 있는데, 사출품(3)의 일부 표면만을 도금하는 공정일 경우 본 방법은 상기 화학니켈 도금단계(S60)에 이후에 마스킹 하는 단계(이하 마스킹 단계)를 포함할 수 있다. 상기 마스킹 단계는 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 것으로 보다 구체적인 설명은 생략하기로 한다.This method is for plating the entire surface of the
이때 상술하였듯이 본 방법은 상기 사출품(3)의 화학니켈층에 6가크롬을 도금하는 공정(S75)을 포함할 수 있다고 하였는데, 상기 마스킹 단계를 거쳐도 상기 사출품(3)은 표면에 6가크롬이 도금될 수 있어 이를 박리하기 위한 공정이 요구된다.At this time, as described above, it was said that the present method may include a step (S75) of plating hexavalent chromium on the chemical nickel layer of the
상기 박리용액은 부분 도금 공정에서 의도치 않은 6가크롬을 박리하기 위한 용액으로 예시적으로 물 100 중량부 대미 황산 3 내지 4 중량부 과산화수소 2.5 내지 3.5 중량부를 포함할 수 있다.The stripping solution is a solution for stripping unintentional hexavalent chromium in the partial plating process, and may include 100 parts by weight of water and 3 to 4 parts by weight of sulfuric acid and 2.5 to 3.5 parts by weight of hydrogen peroxide.
박리용액에서 황산이 3 중량부 미만일 경우 6가크롬층의 박리가 용이하지 않고 6가크롬 박리를 위한 침지 시간이 지나치게 요구되는 문제점이 있고, 4 중량부를 초과하는 경우 도금층(크롬 도금 층)의 크랙이 발생하는 문제점 등이 발생할 수 있다.When the amount of sulfuric acid in the stripping solution is less than 3 parts by weight, the peeling of the hexavalent chromium layer is not easy and there is a problem that an immersion time for peeling the hexavalent chromium is excessively required, and when it exceeds 4 parts by weight, cracks in the plating layer (chromium plating layer) This problem may occur.
또한 과산화수소가 2.5 중량부 미만일 경우 마찬가지로 6가크롬층의 박리가 용이하지 않고 6가크롬 박리를 위한 침지 시간이 지나치게 요구되는 문제점이 있고, 3.5 중량부를 초과하는 경우 도금층(크롬 도금 층)의 크랙이 발생하는 문제점 등이 발생할 수 있다. 황산 20㎖/L와 과산화수소 20㎖/L이 포함되는 것이 바람직할 수 있다.In addition, when the amount of hydrogen peroxide is less than 2.5 parts by weight, the peeling of the hexavalent chromium layer is similarly not easy and there is a problem that an immersion time for peeling the hexavalent chromium is excessively required, and when it exceeds 3.5 parts by weight, cracks in the plating layer (chromium plating layer) Problems may arise. It may be desirable to include 20 ml/L sulfuric acid and 20 ml/L hydrogen peroxide.
상기 건조공정은 상기 사출품(3)의 물기를 제거하는 공정으로 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 건조장치에 의해 수행될 수 있고, 건조공정은 사출품(3)을 40ㅁ3℃에서 4시간ㅁ10분 동안 유지시키는 공정일 수 있다.The drying process is a process of removing moisture from the
포장공정은 상기 사출품(3)을 박스 등에 수용시켜 포장하는 공정으로, 사출품(3)은 상기 박스 등에 수용되어 보관 및 운반될 수 있다.The packaging process is a process of packaging the injection-molded
한편 수용통(2)은 상부에 구비되는 방수막(G)을 포함할 수 있다. 상술하였듯이 수용통(2)은 베이스(미도시) 및 측벽(21)을 포함할 수 있다고 하였는데, 상기 방수막(G)은 상기 측벽(21) 상부에 구비될 수 있다.On the other hand, the container (2) may include a waterproof membrane (G) provided on the top. As described above, the
방수막(G)은 수용통(2)(측벽(21))의 상부에 구비되는 누수감지수단(G2) 및 누수감지수단(G2)의 상부에 구비되는 방수수단(G1)을 포함한다.The waterproofing membrane G includes a water leak detecting means G2 provided on the upper portion of the container 2 (side wall 21) and a waterproofing means G1 provided on the water leak detecting means G2.
방수막(G2)은 수용통(2)(측벽(21))과 누수감지수단(G2)을 상호 부착시키는 접착층(미도시)을 더 포함할 수 잇는데, 접착층(미도시)은 아크릴 접착제를 포함할 수 있다.The waterproofing film G2 may further include an adhesive layer (not shown) for attaching the container 2 (side wall 21) and the leak detection means G2 to each other, and the adhesive layer (not shown) includes an acrylic adhesive. can do.
방수수단(G1)은 프로필렌 에틸렌(propylene ethylene) 공중합체(또는 에틸렌 프로필렌 공중합체) 100 중량부를 포함하는데 프로필렌 에틸렌 공중합체는 탄성을 부여하기 위해 채용되었다.The waterproofing means (G1) includes 100 parts by weight of a propylene ethylene copolymer (or ethylene-propylene copolymer), and the propylene-ethylene copolymer is employed to impart elasticity.
또한 방수수단(G1)은 디이소시아네이트(diisocyanate)와 폴리올(polyol) 혼합물 60 중량부를 포함하는데, 방수성을 부여하기 위해 사용되었고, 디이소시아네이트와 폴리올 혼합물이 60 중량부 미만일 경우 윤활성 및 표면 코팅성이 저하되고, 60 중량부를 초과하면 방수층 전체의 경량성이 저하된다.In addition, the waterproofing means (G1) includes 60 parts by weight of a mixture of diisocyanate and polyol, which was used to impart waterproofness, and when the mixture of diisocyanate and polyol is less than 60 parts by weight, lubricity and surface coating properties are lowered and when it exceeds 60 parts by weight, the lightness of the entire waterproofing layer is reduced.
알루미네이트(aluminate)는 방수수단(G1)의 각 성분들의 결합성 및 응집성을 향상시키도록 첨가된 것으로서, 결합 보제가 4 중량부 미만이면 혼합속도가 저하되고 4 중량부를 초과하면 기계적 특성 및 경량성이 저하될 수 있다.Aluminate is added to improve the bonding properties and cohesiveness of each component of the waterproofing means (G1), and when the bonding aid is less than 4 parts by weight, the mixing speed is lowered, and when it exceeds 4 parts by weight, mechanical properties and lightness this may be lowered.
방수수단(G1)은 누수감지수단(G2)과의 접착력 향상을 위해 아크릴 접착제를 더 포함할 수 있음은 물론이다,Of course, the waterproofing means (G1) may further include an acrylic adhesive to improve adhesion with the leak detection means (G2).
도 4를 참조하여 누수감지수단(G2)을 보다 구체적으로 설명하면, 누수감지수단(G2)은 방수수단(G1)의 상부에 구비되고 상면에 다수의 지지홈(G211)이 형성된 하부 도전층(G21), 상기 하부 도전층(G21) 상부에 구비되는 절연층(G22), 상기 절연층(G22) 상부에 구비되는 상부 도전층(G23), 상기 지지홈(G211)에 지지된 상태로 상기 절연층(G22)에 배치되는 흡수팽창부(G24), 상기 하부 도전층(G21)에 연결된 하부 도전체(G25), 상기 흡수팽창부(G24) 상부에 구비된 상부 도전체(G26), 상기 하부 도전체(G25)와 상기 상부 도전체(G26)를 전기적으로 연결하는 도선(G27)을 포함할 수 있다.4, the leak detection means (G2) will be described in more detail, the leak detection means (G2) is provided on the upper portion of the waterproof means (G1) and a plurality of support grooves (G211) are formed on the lower conductive layer ( G21), the insulating layer G22 provided on the lower conductive layer G21, the upper conductive layer G23 provided on the insulating layer G22, and the insulating layer supported by the support groove G211 The absorption expansion part G24 disposed in the layer G22, the lower conductor G25 connected to the lower conductive layer G21, the upper conductor G26 provided on the absorption expansion part G24, and the lower part A conductive line G27 electrically connecting the conductor G25 and the upper conductor G26 may be included.
여기에서 하부 도전층(G21), 상부 도전층(G23), 하부 도전체(G25), 상부 도전체(G26), 도선(G27) 각각은 구리나 알루미늄과 같은 전도성 필름 또는 금속 재질 등으로 형성될 수 있다. 절연층(G22)은 예시적으로 알갱이 형상이 다수의 고분자수지를 포함할 수 있다. 즉, 다수의 고분자수지 알갱이는 하부 도전층(G21)과 상부 도전층(G23) 사이에 배치되어 흡수팽창부(G24)가 팽창되지 않은 상태에서 하부 도전층(G21)과 상부 도전층(G23)을 이격시킨다.Here, each of the lower conductive layer G21, the upper conductive layer G23, the lower conductor G25, the upper conductor G26, and the conductive wire G27 may be formed of a conductive film such as copper or aluminum or a metal material. can The insulating layer G22 may include, for example, a plurality of polymer resins having a granular shape. That is, a plurality of polymer resin grains are disposed between the lower conductive layer (G21) and the upper conductive layer (G23) so that the lower conductive layer (G21) and the upper conductive layer (G23) are in a state in which the absorption expansion part (G24) is not expanded. to separate
흡수팽창부(G24)는 폴리아크릴레이트(G241)(polyacrylate), 폴리아크릴레이트(G241)를 감싸되 면직물로 형성되는 내피(G242) 및 마 직조 직물로 형성되고 상기 내피(G242)를 감싸는 외피(G243)를 포함할 수 있다.The absorbent expansion part (G24) is formed of an endothelium (G242) formed of cotton fabric and hemp woven fabric wrapped around polyacrylate (G241), polyacrylate (G241), and an outer shell (G242) surrounding the endothelium (G242). G243).
흡수팽창부(G24)는 물과 접촉할 경우 상기 물을 흡수하여 팽창하기 위해 고안된 것으로, 물은 내피(G242)와 외피(G243)를 투과하여 폴리아크릴레이트(G241)에 흡수될 수 있다. 상기 폴리아크릴레이트(G241)는 외피(G243)와 내피(G242)를 투과한 물을 흡수하여 팽창함으로써, 결과적으로 흡수팽창부(G24)의 부피를 증가시킨다. 이와 같이, 누수감지수단(G2)이 흡수팽창부(G24)를 포함하여 물을 흡수 할 수 있기 때문에 방수성을 향상시킬 수 있다.The absorption expansion part G24 is designed to absorb and expand the water when it comes into contact with water, and the water may be absorbed into the polyacrylate G241 by penetrating the endothelium G242 and the outer shell G243. The polyacrylate (G241) absorbs the water that has passed through the outer shell (G243) and the endothelium (G242) and expands, thereby increasing the volume of the absorption expansion part (G24). In this way, since the water leak detecting means (G2) can absorb water by including the absorption expansion part (G24), it is possible to improve the waterproofness.
상기한 상부 도전체(G26)는 강력 접착제 등 해당 분야에서 사용되는 통상적인 방법에 의해 그 하부가 외피(G243) 및 내피(G242) 중 적어도 하나와 고정될 수 있다.The lower part of the upper conductor G26 may be fixed to at least one of the outer shell G243 and the inner shell G242 by a conventional method used in the relevant field, such as a strong adhesive.
한편 상부 도전층(G23)은 깔때기 형상의 다수의 호퍼(G231)를 포함할 수 있다. 물은 호퍼(G231)의 유입구(G231a)로 유입되어 배출구(G231b)를 통해 배출될 수 있다. 이때 다수의 호퍼(G231) 각각의 배출구(G231b)는 흡수팽창부(G24)가 배치되는 다수의 지지홈(G211) 각각의 중심 부분과 상응하는 위치에 배치될 수 있다.Meanwhile, the upper conductive layer G23 may include a plurality of funnel-shaped hoppers G231 . Water may be introduced into the inlet G231a of the hopper G231 and discharged through the outlet G231b. In this case, the plurality of outlets G231b of each of the plurality of hoppers G231 may be disposed at positions corresponding to the central portions of each of the plurality of support grooves G211 in which the absorption and expansion parts G24 are disposed.
상부 도전체(G26)는 하측에서 상측으로 갈수록 폭이 감소하되, 상부 도전체(G26)의 상단 폭은 배출구(G231b)의 폭 보다 작고, 상부 도전체(G26)의 하단 폭은 흡수팽창부(G24)의 폭보다 작을 수 있다.The width of the upper conductor G26 decreases from the lower side to the upper side, but the width of the upper end of the upper conductor G26 is smaller than the width of the outlet G231b, and the width of the lower end of the upper conductor G26 is the absorption expansion part ( It may be smaller than the width of G24).
도 4의 [A]를 참조하면, 흡수팽창부(G24)는 물을 흡수하지 않은 상태로 팽창되지 않아, 하부 도전층(G21)과 상부 도전층(G23)은 절연층(G22)에 의해 이격된 상태이다. 따라서 하부 도전층(G21)에서 상부 도전층(G23) 또는 상부 도전층(G23)에서 하부 도전층(G21)으로 전류가 흐르지 않은 상태이기 때문에, 누수가 발생되지 않은 상태임을 확인할 수 있다.Referring to [A] of FIG. 4 , the absorption expansion part G24 does not expand without absorbing water, so that the lower conductive layer G21 and the upper conductive layer G23 are spaced apart by the insulating layer G22. is in a state of being Accordingly, since no current flows from the lower conductive layer G21 to the upper conductive layer G23 or from the upper conductive layer G23 to the lower conductive layer G21, it can be confirmed that the leakage does not occur.
만약 도 4의 [A]에서 이웃하는 호퍼(G231)의 경계선(DL)을 기준으로 좌측 영역(이하 (제1영역(A1))(도 4의 좌측 영역)에 물이 고이는 경우, 호퍼(G231)를 통해 상기 제1영역(A1)의 물을 모을 수 있다.If water accumulates in the left area (hereinafter (the first area A1)) (the left area of FIG. 4 ) based on the boundary line DL of the neighboring hopper G231 in [A] of FIG. 4, the hopper G231 ), the water in the first area A1 may be collected.
제1영역(A1)에 배치된 호퍼(G231)의 물이 배출구(G231b)를 통해 배출되어 고분자수지 알갱이 사이 공간을 통해 하측으로 이동하고, 배출구(G231b)보다 폭(도 4를 기준으로 좌우 방향 길이)이 작은 상부 도전체(G26)의 상단에서 분쇄되어 하측으로 이동함으로써 흡수팽창부(G24)에 흡수된다.The water in the hopper G231 disposed in the first area A1 is discharged through the outlet G231b and moves downward through the space between the polymer resin grains, and is wider than the outlet G231b (left and right direction based on FIG. 4 ) Length) is pulverized at the upper end of the small upper conductor G26 and is absorbed by the absorption expansion unit G24 by moving downward.
상술한 바와 같이, 상부 도전체(G26)가 상단 폭은 배출구(G231b)의 폭보다 크므로 배출구(G231b)에서 배출된 물방울은 상부 도전체(G26)의 상단에 고이지 않을 수 있으며, 상부 도전체(G26)가 하측으로 갈수록 폭이 커지므로, 물이 하측으로 이동할 수 있다. 이때 상술한 바와 같이 상부 도전체(G26)의 하단 폭이 흡수팽창부(G24)의 폭보다 작기 때문에 상부 도전체(G26)를 통해 하측으로 이동한 물은 흡수팽창부(G24)로 이동하여 흡수될 수 있다.As described above, since the width of the upper end of the upper conductor G26 is larger than the width of the outlet G231b, the water droplets discharged from the outlet G231b may not accumulate at the upper end of the upper conductor G26, and the upper conductor Since the width of (G26) increases toward the lower side, water can move downward. At this time, as described above, since the width of the lower end of the upper conductor G26 is smaller than the width of the absorption expansion unit G24, the water moving downward through the upper conductor G26 moves to the absorption expansion unit G24 and is absorbed. can be
상부 도전체(G26)를 통해 하측으로 흐른 물은 흡수팽창부(G24)의 외피(G243)와 내피(G242)룰 통과하여 폴리아크릴레이트(G241)에 흡수될 때, 폴리아크릴레이트(G241)는 수분 내에 팽창하게 되고, 흡수팽창부(G24)의 상부에 고정된 상부 도전체(G26)는 고분자수지 알갱이들을 이동시키며 상측으로 이동하여 상부 도전층(G23)과 접촉한다. 이를 통해 상부 도전층(G23)과 하부 도전층(G21)은 전류가 흐르게 되어 전류계 등을 통해 이를 확인함으로써 누수가 발생된 상태임을 파악할 수 있다.When the water flowing downward through the upper conductor G26 passes through the outer shell G243 and the inner shell G242 of the absorption expansion part G24 and is absorbed into the polyacrylate G241, the polyacrylate (G241) is The upper conductor G26, which expands within a few minutes and is fixed to the upper portion of the absorption expansion unit G24, moves the polymer resin particles upward and comes into contact with the upper conductive layer G23. Through this, current flows through the upper conductive layer G23 and the lower conductive layer G21, and it can be determined that a leak has occurred by checking the current through an ammeter or the like.
상술한 바와 같이 호퍼(G231)의 배출구(G231b)는 지지홈(G211)의 중심 부분에 상응하는 위치에 배치될 수 있다고 하였는데, 지지홈(G211)에 흡수팽창부(G24)가 배치되기 때문에 흡수팽창부(G24)를 최소한으로 사용하여 누수를 파악할 수 있다. 즉, 흡수팽창부(G24)를 하부 도전층(G21)의 상면에 배치할 필요 없이 지지홈(G211)에만 배치할 수 있어 자재 절감을 도모할 수 있는 것이다.As described above, it was said that the outlet (G231b) of the hopper (G231) may be disposed at a position corresponding to the central portion of the support groove (G211). Leakage can be identified by using the expansion part G24 to a minimum. That is, since the absorption expansion part G24 can be disposed only in the support groove G211 without the need to be disposed on the upper surface of the lower conductive layer G21, material savings can be achieved.
또한 상부 도전층(G23)을 이웃하는 호퍼(G231)가 형성하는 경계선(DL)을 통해 분할하여 구역화 함으로써, 다수의 구역 중 어느 한 구역(예를 들어 도 4의 [B]와 같이 제1영역(A1))에 누수가 발생함을 파악할 수 있기 때문에, 누수가 발생된 구역만 보수를 할 수 있다. In addition, by dividing the upper conductive layer G23 through the boundary line DL formed by the neighboring hopper G231 to zone it, any one of the plurality of zones (for example, the first region as shown in [B] in FIG. 4 ) (A1)) can be identified, so only the leaked area can be repaired.
도 4의 [B]를 참조하여 보다 구체적으로 설명하면, 제1영역(A1)과 제2영역(A2)(경계선(DL)을 기준으로 우측 영역) 각각에 배치된 호퍼(G231) 중 제1영역(A1)에 배치된 호퍼(G231)에만 물이 고여 제1영역(A1)에 배치된 흡수팽창부(G24)만이 팽창할 경우, 제1영역(A1)의 상부 도전층(G23)과 하부 도전층(G21)만 통전되어 제1영역(A1)에만 누수가 발생된 것을 확인할 수 있어 제1영역(A1)만 보수를 수행하면 되기 때문에 보수 공정이 보다 간략화 할 수 있는 것이다(이웃하는 호퍼(G231) 사이에는 절연제가 구비되는 것이 바람직하다).In more detail with reference to [B] of FIG. 4 , the first of the hoppers G231 disposed in each of the first area A1 and the second area A2 (the area on the right with respect to the boundary line DL) When only the absorption and expansion part G24 disposed in the first area A1 expands due to the accumulation of water only in the hopper G231 disposed in the area A1, the upper conductive layer G23 and the lower portion of the first area A1 are It can be confirmed that only the conductive layer G21 is energized and leakage occurs only in the first area A1, so that only the first area A1 needs to be repaired, so that the repair process can be simplified ( Insulation is preferably provided between G231)).
이상에서 첨부된 도면을 참조하여 설명한 본 발명은 통상의 기술자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above with reference to the accompanying drawings is capable of various modifications and changes by those skilled in the art, and such modifications and changes should be construed as being included in the scope of the present invention.
지그: 1 상부수직바: 11
수평바: 12 하부수직바: 13
장착부: 14 연결부: 15
걸이부: 16 연장부: 161
만곡부: 162 수용통: 2
측벽: 21 돌출부: 22
거치부: 23 바디: 231
체결공: 232 사출품: 3Jig: 1 Upper vertical bar: 11
Horizontal bar: 12 Lower vertical bar: 13
Fittings: 14 Connections: 15
Hanger: 16 Extension: 161
Curvature: 162 Receptacle: 2
Sidewall: 21 Overhang: 22
Mounting part: 23 Body: 231
Fasteners: 232 Injection parts: 3
Claims (4)
크롬산을 포함하는 에칭용액에 상기 사출품을 침지하여 상기 사출품에 요철을 형성하는 에칭단계(S20);
상기 사출품을 염산을 포함하는 중화제에 침지하여 중화하는 중화단계(S30);
상기 사출품 표면에 팔라듐과 주석을 흡착시키는 제1활성단계(S40);
상기 사출품에서 상기 주석을 제거하고 상기 팔라듐을 활성화시키는 제2활성단계(S50);
니켈을 포함하는 전처리제에 상기 사출품을 침지하여 사출품 표면에 화학니켈층을 형성하는 화학니켈 도금단계(S60);
상기 사출품의 화학니켈층에 황산동을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 니켈을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 샤틴니켈을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 3가크롬을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 6가크롬을 도금하는 공정, 상기 사출품의 화학니켈층에 흑진주를 도금하는 공정 및 상기 사출품의 화학니켈층에 금을 도금하는 공정 중 하나 이상을 포함하는 전기도금단계(S70); 및
이온교환수를 이용하여 상기 사출품을 세척하는 세척공정, 황산을 포함하는 박리용액에 상기 사출품을 침지하는 화학박리공정, 상기 사출품을 건조시키는 건조공정, 상기 사출품을 검사하는 검사공정 및 상기 사출품을 포장하는 포장공정 중 적어도 하나를 포함하는 후처리단계(S80);
를 포함하고,
상기 지그는,
다수의 상부수직바;
상기 다수의 상부수직바 각각의 하단에 연결되는 다수의 수평바;
상기 수평바의 하단에서 하측으로 연장되는 하부수직바;
상기 하부수직바에서 상기 사출품이 장착되도록 돌출 구비되는 장착부;
이웃하는 상부수직바를 연결하는 연결바; 및
상기 상부수직바의 상단에 구비된 걸이부;
를 포함하고,
상기 중화단계(S30)는,
상기 중화제를 수용통에 수용시키는 단계(S31) 및 상기 사출품이 장착된 지그를 상기 수용통에 수용된 중화제에 침지하는 단계(S32)를 포함하되,
상기 수용통은,
상부에서 상측으로 돌출된 돌출부;
상기 돌출부의 상단에서 하측으로 함몰 형성된 끼움홈; 및
상기 끼움홈에 삽입되어 설치되고 지그가 걸어져 장착되는 바디 및 상기 바디의 길이 방향을 따라 형성되는 다수의 체결공을 포함하는 거치부;
를 포함하고,
상기 수용통은 상부에 구비되는 방수막(G)을 포함하되,
상기 방수막(G)은 수용통의 상부에 구비되는 누수감지수단(G2) 및 누수감지수단(G2)의 상부에 구비되는 방수수단(G1)을 포함하되,
상기 방수수단(G1)은 프로필렌 에틸렌(propylene ethylene) 공중합체, 디이소시아네이트(diisocyanate)와 폴리올(polyol) 혼합물, 알루미네이트(aluminate)를 포함하고,
상기 누수감지수단은 상면에 다수의 지지홈이 형성된 하부 도전층, 상기 하부 도전층 상부에 구비되는 절연층, 상기 절연층 상부에 구비되는 상부 도전층, 상기 지지홈에 지지된 상태로 상기 절연층에 배치되는 흡수팽창부, 상기 하부 도전층에 연결된 하부 도전체, 상기 흡수팽창부 상부에 구비된 상부 도전체, 상기 하부 도전체와 상기 상부 도전체를 전기적으로 연결하는 도선을 포함하고,
상기 흡수팽창부는 폴리아크릴레이트, 상기 폴리아크릴레이트를 감싸되 면직물로 형성되는 내피 및 상기 내피를 감싸고 마 직조 직물로 형성되는 외피로 구성되고,
상기 상부 도전층은 깔때기 형상의 다수의 호퍼를 포함하고, 다수의 호퍼 각각의 배출구는 상기 다수의 지지홈 각각의 중심 부분과 상응하는 위치에 배치되고,
상기 상부 도전체는 하측에서 상측으로 갈수록 폭이 감소하고, 상기 상부 도전체의 상단 폭은 상기 배출구의 폭보다 작고, 상기 상부 도전체의 하단 폭은 상기 흡수팽창부의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 사출품의 도금방법.A pretreatment step (S10) comprising at least one of a locking process for mounting the injection-molded product on a jig and a degreasing process for removing foreign substances from the injection-molded product;
An etching step (S20) of immersing the injection-molded product in an etching solution containing chromic acid to form irregularities on the injection-molded product;
Neutralizing step (S30) of immersing the injection product in a neutralizing agent containing hydrochloric acid to neutralize;
a first activation step of adsorbing palladium and tin to the surface of the injection product (S40);
a second activation step (S50) of removing the tin from the injection product and activating the palladium;
A chemical nickel plating step of immersing the injection product in a pretreatment agent containing nickel to form a chemical nickel layer on the surface of the injection product (S60);
A step of plating copper sulfate on the chemical nickel layer of the injection product, a step of plating nickel on the chemical nickel layer of the injection product, a step of plating satin nickel on the chemical nickel layer of the injection product, a chemical nickel layer of the injection product A process of plating trivalent chromium, a process of plating hexavalent chromium on the chemical nickel layer of the injection product, a process of plating black pearl on the chemical nickel layer of the injection product, and plating gold on the chemical nickel layer of the injection product An electroplating step (S70) comprising at least one of the processes; and
A washing process of washing the injected product using ion-exchanged water, a chemical peeling process of immersing the injected product in a stripping solution containing sulfuric acid, a drying process of drying the injected product, an inspection process of inspecting the injected product, and A post-processing step (S80) including at least one of a packaging process for packaging the injection product;
including,
The jig is
a plurality of upper vertical bars;
a plurality of horizontal bars connected to the lower ends of each of the plurality of upper vertical bars;
a lower vertical bar extending downward from the lower end of the horizontal bar;
a mounting part protruding from the lower vertical bar to mount the injection product;
a connecting bar connecting adjacent upper vertical bars; and
a hook portion provided on the upper end of the upper vertical bar;
including,
The neutralization step (S30),
A step of accommodating the neutralizing agent in the container (S31) and immersing the jig on which the injection product is mounted in the neutralizing agent accommodated in the container (S32),
The container is
a protrusion protruding upward from the top;
a fitting groove recessed downwardly from the upper end of the protrusion; and
a mounting portion including a body inserted into the fitting groove and installed and mounted with a jig, and a plurality of fastening holes formed along the longitudinal direction of the body;
including,
The container includes a waterproof membrane (G) provided on the upper portion,
The waterproof membrane (G) includes a water leak detecting means (G2) provided on the upper portion of the container and a waterproofing means (G1) provided on the upper portion of the water leak detecting means (G2),
The waterproofing means (G1) includes a propylene ethylene copolymer, a diisocyanate and polyol mixture, and aluminate,
The leak detection means includes a lower conductive layer having a plurality of support grooves formed on its upper surface, an insulating layer provided on the lower conductive layer, an upper conductive layer provided on the insulating layer, and the insulating layer supported by the support grooves. an absorption expansion unit disposed in the absorbing expansion unit, a lower conductor connected to the lower conductive layer, an upper conductor provided on the absorption expansion unit, and a conductive wire electrically connecting the lower conductor and the upper conductor;
The absorbent expansion unit is composed of a polyacrylate, an endothelium formed of a cotton fabric wrapped around the polyacrylate, and an outer skin surrounding the endothelium and formed of a hemp woven fabric,
The upper conductive layer includes a plurality of funnel-shaped hoppers, and the outlet of each of the plurality of hoppers is disposed at a position corresponding to the center portion of each of the plurality of support grooves,
Wherein the width of the upper conductor decreases from the lower side to the upper side, the width of the upper end of the upper conductor is smaller than the width of the outlet, and the width of the lower end of the upper conductor is smaller than the width of the absorption expander. The plating method of the exhibition.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210074763A KR102309147B1 (en) | 2021-06-09 | 2021-06-09 | Plating method for injection molded product |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08232095A (en) * | 1995-02-27 | 1996-09-10 | Yamakawa Ind Co Ltd | Disassembly type hanger for electrodeposition coating |
KR20090049806A (en) * | 2007-11-14 | 2009-05-19 | 봉 문 김 | A plastic tile |
KR100953432B1 (en) * | 2009-12-29 | 2010-04-20 | 신정기 | Metal coating method for plastic material and modeling plastic material thereof |
-
2021
- 2021-06-09 KR KR1020210074763A patent/KR102309147B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
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