KR102296198B1 - 액체 플라즈마 발생장치 - Google Patents

액체 플라즈마 발생장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102296198B1
KR102296198B1 KR1020190157735A KR20190157735A KR102296198B1 KR 102296198 B1 KR102296198 B1 KR 102296198B1 KR 1020190157735 A KR1020190157735 A KR 1020190157735A KR 20190157735 A KR20190157735 A KR 20190157735A KR 102296198 B1 KR102296198 B1 KR 102296198B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
dielectric tube
liquid
dielectric
electrode
plasma generator
Prior art date
Application number
KR1020190157735A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210067778A (ko
Inventor
태흥식
박춘상
신준구
Original Assignee
경북대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 경북대학교 산학협력단 filed Critical 경북대학교 산학협력단
Priority to KR1020190157735A priority Critical patent/KR102296198B1/ko
Publication of KR20210067778A publication Critical patent/KR20210067778A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102296198B1 publication Critical patent/KR102296198B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2431—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes using cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00—Applications of plasma devices
    • H05H2245/20—Treatment of liquids

Abstract

액체 플라즈마 발생장치가 개시된다. 액체 플라즈마 발생장치는 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제1 유전체 관, 제1 유전체 관과 기 설정된 거리 이격되어 배치되며 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제2 유전체 관, 제1 유전체 관 일측의 외면을 감싸는 음극 전극, 제2 유전체 관 내부에 위치하고, 제2 유전체 관의 일단에서 돌출되어 형성되며 제1 유전체 관으로 유전체 장벽 방전을 발생시키는 양극 전극 및 양극 전극에 전원을 공급하는 전원공급장치를 포함한다.

Description

액체 플라즈마 발생장치{SOLUTION PLASMA DEVICE}
본 개시는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액체 내에서 플라즈마 방전을 발생시키는 액체 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.
액체 내의 오염 물질을 처리하거나 단량체 물질의 중합을 위해 액체 플라즈마 장치가 이용된다. 액체 내에서 플라즈마 방전을 발생시키기 위해서는 방전 개시 전압 이상의 에너지가 인가되어야 한다. 방전 개시 전압 이상의 에너지가 인가되면 방전이 발생되는데, 발생되는 방전의 전압 및 전류가 매우 높은 강한 방전이 발생된다.
기존의 액체 플라즈마 장치는 전류가 매우 높기 때문에 방전 제어가 매우 어렵고, 방전 발생 회로에 높은 부하가 걸리며, 전극이 손상되어 중합된 합성물이 오염되는 문제가 존재한다.
따라서, 액체 내에서 플라즈마 방전을 제어할 수 있고, 전극의 손상을 방지할 수 있는 액체 플라즈마 발생장치에 대한 필요성이 존재한다.
본 개시는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로 액체 내에서 안정적으로 플라즈마 방전을 발생시키는 액체 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다.
이상과 같은 목적을 달성하기 위한 본 개시의 일 실시 예에 따르면, 액체 플라즈마 발생장치는 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제1 유전체 관, 상기 제1 유전체 관과 기 설정된 거리 이격되어 배치되며 상기 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제2 유전체 관, 상기 제1 유전체 관 일측의 외면을 감싸는 음극 전극, 상기 제2 유전체 관 내부에 위치하고, 상기 제2 유전체 관의 일단에서 돌출되어 형성되며 상기 제1 유전체 관으로 유전체 장벽 방전을 발생시키는 양극 전극 및 상기 양극 전극에 전원을 공급하는 전원공급장치를 포함한다.
그리고, 상기 음극 전극은 플로팅(floating)될 수 있다.
한편, 액체 플라즈마 발생장치는 상기 제1 유전체 관 및 상기 제2 유전체 관 사이에 배치되는 기포 블록을 더 포함하고, 상기 음극 전극은 그라운드에 연결될 수 있다.
그리고, 상기 제1 유전체 관은 상기 기포 블록을 관통하도록 형성되고, 상기 기포 블록은 일면이 상기 음극 전극과 이격되어 배치되고, 타면이 상기 제2 유전체 관과 이격되어 배치되며, 일부분이 상기 액체의 수면보다 높게 위치되도록 형성될 수 있다.
한편, 상기 제2 유전체 관과 인접한 제1 유전체 관의 끝단과 상기 음극 전극 사이의 간격은 0.5mm 내지 3cm일 수 있다.
그리고, 상기 기 설정된 거리는 1mm 내지 4mm일 수 있다.
또한, 상기 양극 전극의 끝단과 상기 음극 전극의 끝단의 거리는 1mm 내지 6cm일 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 개시의 다양한 실시예에 따르면, 액체 플라즈마 발생장치는 액체 내에서 안정적으로 플라즈마 방전을 발생시킬 수 있고, 방전을 용이하게 제어할 수 있으며, 전극의 손상을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해 될 수 있을 것이다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따른 액체 플라즈마 발생장치를 설명하는 도면이다.
도 2는 본 개시의 다른 실시 예에 따른 액체 플라즈마 발생장치를 설명하는 도면이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 다양한 실시 예를 보다 상세하게 설명한다. 본 명세서에 기재된 실시 예는 다양하게 변형될 수 있다. 특정한 실시 예가 도면에서 묘사되고 상세한 설명에서 자세하게 설명될 수 있다. 그러나, 첨부된 도면에 개시된 특정한 실시 예는 다양한 실시 예를 쉽게 이해하도록 하기 위한 것일 뿐이다. 따라서, 첨부된 도면에 개시된 특정 실시 예에 의해 기술적 사상이 제한되는 것은 아니며, 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 균등물 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성요소들은 상술한 용어에 의해 한정되지는 않는다. 상술한 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 명세서에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.
한편, 본 명세서에서 사용되는 구성요소에 대한 "모듈" 또는 "부"는 적어도 하나의 기능 또는 동작을 수행한다. 그리고, "모듈" 또는 "부"는 하드웨어, 소프트웨어 또는 하드웨어와 소프트웨어의 조합에 의해 기능 또는 동작을 수행할 수 있다. 또한, 특정 하드웨어에서 수행되어야 하거나 적어도 하나의 제어부에서 수행되는 "모듈" 또는 "부"를 제외한 복수의 "모듈들" 또는 복수의 "부들"은 적어도 하나의 모듈로 통합될 수도 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 명세서에서는 본 발명의 설명에 필요한 필수적인 구성요소만을 설명하며, 본 발명의 본질과 관계가 없는 구성요소는 언급하지 아니한다. 그리고 언급되는 구성요소만을 포함하는 배타적인 의미로 해석되어서는 아니되며 다른 구성요소도 포함할 수 있는 비배타적인 의미로 해석되어야 한다.
그 밖에도, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그에 대한 상세한 설명은 축약하거나 생략한다. 한편, 각 실시 예는 독립적으로 구현되거나 동작될 수도 있지만, 각 실시 예는 조합되어 구현되거나 동작될 수도 있다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따른 액체 플라즈마 발생장치를 설명하는 도면이다.
도 1을 참조하면, 액체 플라즈마 발생장치(100)는 제1 유전체 관(110), 제2 유전체 관(120), 음극 전극(130), 양극 전극(140) 및 전원공급장치(150)를 포함한다.
제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 일부는 액체 밖에 위치하고, 일부는 액체 내에 위치한다. 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)은 액체 밖에 위치한 주입구로부터 불활성 가스를 주입받고, 배출구로 주입된 불활성 가스를 방출할 수 있다. 예를 들어, 불활성 가스는 He, Ne, Ar, Kr, Xe 또는 Rn일 수 있다. 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 배출구는 액체 내에 위치하므로 주입된 불활성 가스는 액체 내로 방출될 수 있다. 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 액체 내에 위치한 일단은 기 설정된 거리 이격되어 배치된다. 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)은 유리, 플라스틱, 세라믹 등으로 구현될 수 있지만, 유전체 물질이면 어떤 물질로도 구현될 수 있다. 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)을 통해 불활성 가스가 액체로 주입되기 때문에 제1 및 제2 유전체 관(110, 120) 사이에는 방출된 불활성 가스로 인한 기체 채널이 형성될 수 있다.
일 실시 예로서, 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 내경은 약 0.5mm 내지 4mm일 수 있다. 그러나, 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 내경은 양극 전극(140)의 직경보다 크기만 하면 가능하다. 또한, 제1 및 제2 유전체 관(110, 120)의 일단 간의 간격은 약 4mm 이내일 수 있다.
제1 유전체 관(110) 일측의 외면에는 음극 전극(130)이 위치하고, 제2 유전체 관(120) 내부에는 양극 전극(140)이 위치한다. 음극 전극(130) 및 양극 전극(140)은 Cu, W 등으로 구현될 수 있지만, 전기가 잘 통하는 물질이면 어떤 물질로도 구현될 수 있다.
음극 전극(130)은 제1 유전체 관(110)의 배출구에 인접한 제1 유전체 관(110)의 외면을 감싸도록 형성될 수 있다. 음극 전극(130)은 일정한 면적을 가질 수 있고, 플로팅(floating) 상태로 형성될 수 있다.
제2 유전체 관(120) 내부에는 제2 유전체 관(120)의 장축과 평행하게 양극 전극(140)이 배치될 수 있다. 즉, 양극 전극(140)은 제2 유전체 관(120) 내부에 위치하며 제2 유전체 관(120)의 일단에서 일정 거리 돌출되도록 형성될 수 있다. 액체 외부에 위치하는 양극 전극(140)의 일단은 전원공급장치(150)와 연결될 수 있다.
일 실시 예로서, 음극 전극(130) 및 양극 전극(140)은 양 전극 간의 간격을 조정할 수 있도록 유전체 관의 장축 방향으로 전진 또는 후퇴시킬 수 있도록 구현될 수 있다. 음극 전극(130)의 끝단 및 양극 전극(140)의 끝단 사이의 간격은 약 0mm 내지 6cm일 수 있다. 또한, 제1 유전체 관(110)의 끝단과 음극 전극(130)의 끝단 사이의 간격도 약 0mm 내지 3cm일 수 있다.
전원공급장치(150)는 양극 전극(140)에 전원을 공급한다. 일 실시 예로서, 전원공급장치(150)는 펄스를 생성하는 함수 발생기(function generator) 및 고압 증폭기(high voltage amplifier)를 포함할 수 있다. 함수 발생기는 구형파를 생성하고, 생성된 구형파는 고압 증폭기에 의해 고전압으로 증폭되어 양극 전극(140)으로 인가될 수 있다.
양극 전극(140)에 전원이 공급되면 양극 전극(140)과 제1 유전체 관(110) 사이에 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge, DBD)이 발생된다. 일반적으로 유전체 장벽 방전은 공기 중 상압에서 하나의 전극과 유전체로 덮힌 다른 전극에 의해 발생된다. 즉, 일반적인 유전체 장벽 방전은 하나의 전극 표면과 다른 전극을 덮고 있는 유전체 표면에서 발생될 수 있다.
본 개시의 액체 플라즈마 발생장치(100)에서 발생되는 유전체 장벽 방전도 음극 전극(130)과 양극 전극(140)에 의해 발생된다. 본 개시의 액체 플라즈마 발생장치(100)에서 음극 전극(130)은 가스를 액체 내로 주입하는 제1 유전체 관(110)의 표면을 감싸는 형태로 구현된다. 따라서, 본 개시에서 유전체 장벽 방전은 양극 전극(140)과 제1 유전체 관(110)의 내부 표면에서 발생될 수 있다.
전원공급장치(150)로부터 전원이 공급되면, 음극 전극(130) 및 양극 전극(140)에 의해 제1 유전체 관(110)과 양극 전극(140) 사이에서 유전체 장벽 방전이 발생된다. 상술한 바와 같이, 제1 유전체 관(110)과 제2 유전체 관(120) 사이에 기체 채널이 형성되기 때문에 유전체 장벽 방전은 기체 채널 내부에서 발생될 수 있다. 즉, 액체 플라즈마 발생장치의 방전이 발생되는 부분은 액체 내부에 위치하지만, 실제 유전체 장벽 방전은 기체 채널의 내부에서 발생될 수 있다.
도 2는 본 개시의 다른 실시 예에 따른 액체 플라즈마 발생장치를 설명하는 도면이다.
도 2를 참조하면, 액체 플라즈마 발생장치(100a)는 제1 유전체 관(110), 제2 유전체 관(120), 음극 전극(130), 양극 전극(140), 전원공급장치(150) 및 기포 블록(bubble block)(160)을 포함할 수 있다.
도 2의 액체 플라즈마 발생장치(100a)도 기본 구조는 도 1의 액체 플라즈마 발생장치(100a)와 유사하다. 따라서, 도 2에서는 도 1의 액체 플라즈마 발생장치(100a)와 차이가 있는 구성을 중심으로 설명한다.
음극 전극(130)은 제1 유전체 관(110)의 배출구에 인접한 제1 유전체 관(110)의 외면을 감싸도록 형성될 수 있다. 음극 전극(130)은 일정한 면적을 가질 수 있고, 그라운드에 연결될 수 있다.
제2 유전체 관(120) 내부에는 제2 유전체 관(120)의 장축과 평행하게 양극 전극(140)이 배치될 수 있다. 액체 외부에 위치하는 양극 전극(140)의 일단은 전원공급장치(150)와 연결될 수 있다.
제1 유전체 관(110) 및 제2 유전체 관(120) 사이에는 기포 블록(160)이 배치될 수 있다. 음극 전극(130)은 그라운드로 연결되기 때문에 양극 전극(140) 사이에서 강한 방전이 발생될 수 있다. 따라서, 기포 블록(160)은 양극 전극(140)에서 음극 전극(130)으로 직접 방전이 발생되지 않도록 막아주는 역할을 수행할 수 있다. 기포 블록(160)도 유전체 물질로 구현될 수 있다. 기포 블록(160)은 양극 전극(140)으로부터 음극 전극(130)을 막아줄 수 있는 폭으로 형성되고, 일부가 액체 외부에 위치할 수 있는 높이로 구현될 수 있다. 즉, 기포 블록(160)의 일부는 액체의 수면보다 높게 위치하도록 구현될 수 있다.
한편, 제1 유전체 관(110)은 기포 블록(160)을 관통하도록 형성될 수 있다. 그리고, 기포 블록(160)은 제2 유전체 관(120)과 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 제1 유전체 관(110)의 일단 및 제2 유전체 관(120)을 향한 기포 블록(160)의 일면은 제2 유전체 관(120)의 일단면을 기준으로 동일한 간격이 되도록 이격되어 배치될 수 있다. 또한, 음극 전극(130)의 일단과 기포 블록(160)의 타면은 일정 거리 이격되어 배치될 수 있다.
일 실시 예로서, 음극 전극(130)의 끝단 및 양극 전극(140)의 끝단 사이의 간격은 약 1mm 내지 6cm일 수 있고 , 제1 유전체 관(110)의 끝단과 음극 전극(130)의 끝단 사이의 간격은 약 0.5mm 내지 3cm일 수 있다. 그리고, 음극 전극(130)의 일단과 기포 블록(160)의 타면은 약 0.5mm 내지 3cm 정도 이격될 수 있다.
전원공급장치(150)는 양극 전극(140)에 전원을 공급한다. 양극 전극(140)에 전원이 공급되면 양극 전극(140)과 제1 유전체 관(110) 사이에 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge, DBD)이 발생된다. 도 2에서 설명하지 않은 액체 플라즈마 발생장치의 구성은 도 1에서 설명과 동일하다.
도 1에 도시된 액체 플라즈마 발생장치의 음극 전극은 플로팅 상태이므로 강한 스트리머(streamer)를 막을 수 있다. 그리고, 도 2에 도시된 액체 플라즈마 발생장치의 음극 전극은 그라운드와 연결되기 때문에 강한 전계가 형성될 수 있다. 강하게 형성된 전계는 플라즈마를 더 많은 액체와 반응할 수 있도록 작용할 수 있다. 따라서, 도 2에 도시된 액체 플라즈마 발생장치는 양측 전극 사이에 직접 방전이 발생되지 않도록 기포 블록을 포함함으로써 유전체 장벽 방전을 유지시킬 수 있다.
본 개시에 따른 액체 플라즈마 발생장치는 액체의 오염 물질 제거 또는 단량체의 합성에 적용될 수 있다. 액체의 오염 물질 제거는 약한 에너지 방전으로도 가능하다. 또한, 일반적인 방전으로 단량체 합성을 하는 경우, 높은 에너지로 인해 단량체 물질이 손상될 수 있다. 따라서, 본 개시의 액체 플라즈마 발생장치는 유전체 장벽 방전을 발생시킴으로써 상대적으로 약한 에너지 방전이 요구되는 단량체의 합성에 적용될 수 있다.
기존의 액체 플라즈마 발생장치는 방전 개시 전압 이상을 인가하면 방전이 발생되는데, 전류가 매우 크기 때문에 방전 강도를 제어하기 어렵다. 그러나, 본 개시의 액체 플라즈마 발생장치는 유전체 장벽 방전을 발생시키기 때문에 상대적으로 전류가 작고, 방전 강도를 제어할 수 있다. 또한, 전극의 손상을 방지할 수 있으므로 합성물이 전극에 의해 오염이 되는 문제를 방지할 수 있다.
한편, 도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 본 개시의 액체 플라즈마 발생장치의 일부는 액체 내에 위치하고, 일부는 액체 밖에 위치해야 하므로 수조와 제1 및 제2 유전체 관이 연결되는 부분에 밀봉 부재가 포함될 수 있다. 밀봉 부재는 본 개시의 액체 플라즈마 발생 장치의 핵심적인 요소는 아니므로 구체적인 설명은 생략한다. 또는, 도면에 도시된 바와 달리, 제1 및 제2 유전체 관에 굴곡을 형성하여 액체의 수면 위에서 액체 내부로 담그는 형태로 제작될 수도 있다. 이 경우, 양극 전극도 제2 유전체 관의 형태와 유사하게 변형될 수 있다.
100, 100a: 액체 플라즈마 발생장치
110: 제1 유전체 관 120: 제2 유전체 관
130: 음극 전극 140: 양극 전극
150: 전원공급장치 160: 기포 블록

Claims (7)

  1. 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제1 유전체 관;
    상기 제1 유전체 관과 기 설정된 거리 이격되어 배치되며 상기 액체 내로 불활성 가스를 방출하는 제2 유전체 관;
    상기 제1 유전체 관 일측의 외면을 감싸는 음극 전극;
    상기 제2 유전체 관 내부에 위치하고, 상기 제2 유전체 관의 일단에서 돌출되어 형성되며 상기 제1 유전체 관으로 유전체 장벽 방전을 발생시키는 양극 전극;
    상기 양극 전극에 전원을 공급하는 전원공급장치; 및
    상기 제1 유전체 관 및 상기 제2 유전체 관 사이에 배치되는 기포 블록;을 포함하고,
    상기 음극 전극은 그라운드에 연결되며 상기 제1 유전체 관은 상기 기포 블록을 관통하도록 형성되고,
    상기 기포 블록은,
    일면이 상기 음극 전극과 이격되어 배치되고, 타면이 상기 제2 유전체 관과 이격되어 배치되는, 액체 플라즈마 발생장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기포 블록은,
    일부분이 상기 액체의 수면보다 높게 위치되도록 형성되는, 액체 플라즈마 발생장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 유전체 관과 인접한 제1 유전체 관의 끝단과 상기 음극 전극의 끝단 사이의 간격은 0.5mm 내지 3cm인, 액체 플라즈마 발생장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 기 설정된 거리는 1mm 내지 4mm인, 액체 플라즈마 발생장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 양극 전극의 끝단과 상기 음극 전극의 끝단의 거리는 1mm 내지 6cm인, 액체 플라즈마 발생장치.
KR1020190157735A 2019-11-29 2019-11-29 액체 플라즈마 발생장치 KR102296198B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190157735A KR102296198B1 (ko) 2019-11-29 2019-11-29 액체 플라즈마 발생장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190157735A KR102296198B1 (ko) 2019-11-29 2019-11-29 액체 플라즈마 발생장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210067778A KR20210067778A (ko) 2021-06-08
KR102296198B1 true KR102296198B1 (ko) 2021-09-01

Family

ID=76399469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190157735A KR102296198B1 (ko) 2019-11-29 2019-11-29 액체 플라즈마 발생장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102296198B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105858814A (zh) 2016-03-28 2016-08-17 大连民族大学 一种阵列式高密度水中介质阻挡放电废水处理装置
CN104718163B (zh) 2013-05-14 2017-06-06 松下知识产权经营株式会社 液体处理装置、带清洗或净化功能的系统、液体处理方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101087061B1 (ko) * 2008-12-23 2011-11-30 한국기초과학지원연구원 액체상에서의 플라즈마 방전장치
KR101893657B1 (ko) * 2016-11-10 2018-10-05 한국식품연구원 비가열 살균을 위한 수처리용 플라즈마 활성종 발생장치 및 사용방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104718163B (zh) 2013-05-14 2017-06-06 松下知识产权经营株式会社 液体处理装置、带清洗或净化功能的系统、液体处理方法
CN105858814A (zh) 2016-03-28 2016-08-17 大连民族大学 一种阵列式高密度水中介质阻挡放电废水处理装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
서적 "Filamentary plasma discharge inside water : initiation and propagation of a plasma in a dense medium ", Paul Ceccato 저*

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210067778A (ko) 2021-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5745519B2 (ja) 高周波（ｒｆ）接地帰還構成
US20120247674A1 (en) Plasma generator apparatus
US20110301412A1 (en) Medical plasma generator and endoscope using the same
US20080156631A1 (en) Methods of Producing Plasma in a Container
KR101620009B1 (ko) 다중 특성을 가지는 플라즈마 반응기
JP2005190904A (ja) 極端紫外光源
KR101474973B1 (ko) 분사형 플라즈마 발생기
CN105491774A (zh) 一种基于导电涂层的阵列式微等离子体发生装置
US20190131109A1 (en) Plasma generator
KR102296198B1 (ko) 액체 플라즈마 발생장치
CN105514803A (zh) 一种阵列微空心阴极放电触发的气体开关
KR101280445B1 (ko) 물 정화를 위한 수중 방전 장치
KR20150122297A (ko) 저온 상압 플라즈마 제트 장치
KR20130112656A (ko) 다중 구역식 플라즈마 플러드 건을 이용한 이온 중화 시스템 및 방법
CN112543543A (zh) 等离子体放电装置
KR102340857B1 (ko) 수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
KR101020769B1 (ko) 플라즈마 발생장치
CN109831866A (zh) 一种双环电极共面放电等离子体发生装置
KR20210069949A (ko) 액체 플라즈마 발생장치
KR101748739B1 (ko) 표면방전과 가스 유도관을 이용한 유전격벽방전 대기압 플라즈마 장치
JP4930983B2 (ja) 大気圧プラズマ発生装置
KR101550272B1 (ko) 플라즈마 생성 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 에칭 장치
KR101010130B1 (ko) 전자빔 큐어링 장비
JP4029796B2 (ja) エキシマ光照射装置
KR101181709B1 (ko) 축전 결합 플라즈마 발생 장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant