JP5745519B2 - 高周波(rf)接地帰還構成 - Google Patents
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Description
本発明は、以下の適用例としても実現可能である。
[適用例1]
基板の処理中にプラズマ処理チャンバの処理チャンバの中にRF電流のための低インピーダンスRF帰還経路を提供するための高周波(RF)接地帰還構成であって、
基板処理中に前記基板をエッチングするためのプラズマを持続させるように構成された閉じ込めチャンバ体積を取り囲むように構成された閉じ込めリングのセットと、
下部電極サポート構造と、
前記低インピーダンスRF帰還経路がRF源への前記RF電流の帰還を促すように前記閉じ込めリングのセットと前記下部電極サポート構造との間にRF接触を提供するRF接触対応コンポーネントと、
を備えるRF接地帰還構成。
[適用例2]
適用例1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RF接触対応コンポーネントは、伝導性材料で作成される、RF接地帰還構成。
[適用例3]
適用例2に記載のRF接地帰還構成であって、
前記下部電極サポート構造は、固定の構造である、RF接地帰還構成。
[適用例4]
適用例3に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RF接触対応コンポーネントは、RFガスケットである、RF接地帰還構成。
[適用例5]
適用例2に記載のRF接地帰還構成であって、
前記下部電極サポート構造は、可動の構造であり、前記RF接触対応コンポーネントは、RFガスケットである、RF接地帰還構成。
[適用例6]
適用例5に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RFガスケットは、柔軟性であることによって、前記下部電極サポート構造が垂直に移動するときに前記下部電極サポート構造が前記閉じ込めリングのセットとの前記RF接触を維持することを可能にする、RF接地帰還構成。
[適用例7]
適用例5に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RF接触対応コンポーネントは、前記閉じ込めリングのセットに取り付けられたバネ部材を含むバネ加圧式の接触滑り構成であり、前記バネ部材は、前記下部電極サポート構造の側壁に対して付勢され、前記下部電極サポート構造が垂直に移動するときにバネ接点を介して前記下部電極サポート構造との接触を維持するように構成される、RF接地帰還構成。
[適用例8]
適用例7に記載のRF接地帰還構成であって、
前記バネ部材は、板バネである、RF接地帰還構成。
[適用例9]
適用例5に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RF接触対応コンポーネントは、RFロッドである、RF接地帰還構成。
[適用例10]
適用例9に記載のRF接地帰還構成であって、
前記下部電極サポート構造は、伝導性液体で満たされた凹所を含む、RF接地帰還構成。
[適用例11]
適用例10に記載のRF接地帰還構成であって、
前記伝導性液体は、水銀である、RF接地帰還構成。
[適用例12]
適用例11に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RFロッドは、前記伝導性液体の中に配されることによって、前記閉じ込めリングのセットと前記下部電極サポート構造との間の前記RF接触を提供する、RF接地帰還構成。
[適用例13]
適用例12に記載のRF接地帰還構成であって、
ガスケットは、前記伝導性液体のための覆いを提供することによって、前記RFロッドが前記伝導性液体の中に配されているときに前記伝導性液体が前記閉じ込めチャンバ体積の中に漏出することを阻止するように構成される、RF接地帰還構成。
[適用例14]
適用例13に記載のRF接地帰還構成であって、
前記ガスケットは、Oリングである、RF接地帰還構成。
[適用例15]
適用例5に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RF接触対応コンポーネントは、前記閉じ込めリングのセットの延長部である、RF接地帰還構成。
[適用例16]
適用例15に記載のRF接地帰還構成であって、
前記延長部は、前記下部電極サポート構造の側面エリアに平行である、RF接地帰還構成。
[適用例17]
適用例16に記載のRF接地帰還構成であって、
前記延長部は、前記延長部と前記下部電極サポート構造との間に大キャパシタンスエリアが形成されるように前記下部電極サポート構造に隣接して位置決めされることによって、前記RF電流が前記RF源に戻るための前記低インピーダンスRF帰還経路を提供する、RF接地帰還構成。
[適用例18]
適用例1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記低インピーダンスRF帰還経路は、前記RF電流が前記閉じ込めチャンバ体積の外側にRF場を生成することを可能にすることなく前記RF源への前記RF電流の帰還を促すことによって、前記処理中に非閉じ込めプラズマの成長が点火されることを阻止する、RF接地帰還構成。
[適用例19]
適用例1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記処理チャンバは、容量結合プラズマ処理チャンバである、RF接地帰還構成。
[適用例20]
適用例1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記閉じ込めリングのセットは、伝導性材料で作成される、RF接地帰還構成。
Claims (8)
- 基板の処理中にプラズマ処理チャンバの処理チャンバの中にRF電流のための低インピーダンスRF帰還経路を提供するための高周波(RF)接地帰還構成であって、
基板処理中に前記基板をエッチングするためのプラズマを持続させるように構成された閉じ込めチャンバ体積を取り囲むように構成された閉じ込めリングのセットと、
下部電極サポート構造と、
前記低インピーダンスRF帰還経路がRF源への前記RF電流の帰還を促すように前記閉じ込めリングのセットと前記下部電極サポート構造との間にRF接触を提供するRF接触対応コンポーネントと、
を備え、
前記RF接触対応コンポーネントは、伝導性材料で作成され、
前記下部電極サポート構造は、可動の構造であり、
前記RF接触対応コンポーネントは、RFロッドであり、
前記下部電極サポート構造は、伝導性液体で満たされた凹所を含む、RF接地帰還構成。 - 請求項1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記伝導性液体は、水銀である、RF接地帰還構成。 - 請求項2に記載のRF接地帰還構成であって、
前記RFロッドは、前記伝導性液体の中に配されることによって、前記閉じ込めリングのセットと前記下部電極サポート構造との間の前記RF接触を提供する、RF接地帰還構成。 - 請求項3に記載のRF接地帰還構成であって、
ガスケットは、前記伝導性液体のための覆いを提供することによって、前記RFロッドが前記伝導性液体の中に配されているときに前記伝導性液体が前記閉じ込めチャンバ体積の中に漏出することを阻止するように構成される、RF接地帰還構成。 - 請求項4に記載のRF接地帰還構成であって、
前記ガスケットは、Oリングである、RF接地帰還構成。 - 請求項1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記低インピーダンスRF帰還経路は、前記RF電流が前記閉じ込めチャンバ体積の外側にRF場を生成することを可能にすることなく前記RF源への前記RF電流の帰還を促すことによって、前記処理中に非閉じ込めプラズマの成長が点火されることを阻止する、RF接地帰還構成。 - 請求項1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記処理チャンバは、容量結合プラズマ処理チャンバである、RF接地帰還構成。 - 請求項1に記載のRF接地帰還構成であって、
前記閉じ込めリングのセットは、伝導性材料で作成される、RF接地帰還構成。
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US9337004B2 (en) * | 2009-04-06 | 2016-05-10 | Lam Research Corporation | Grounded confinement ring having large surface area |
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KR101854922B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2018-05-04 | 램 리써치 코포레이션 | 무선 주파수 (rf) 접지 복귀 장치들 |
JP3160877U (ja) | 2009-10-13 | 2010-07-15 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | シャワーヘッド電極アセンブリの端部クランプ留めおよび機械固定される内側電極 |
US20120073752A1 (en) * | 2010-09-24 | 2012-03-29 | Memc Electronic Materials, Inc. | Adapter Ring For Silicon Electrode |
US9117867B2 (en) * | 2011-07-01 | 2015-08-25 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck assembly |
US9396908B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-07-19 | Lam Research Corporation | Systems and methods for controlling a plasma edge region |
US10586686B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-03-10 | Law Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
KR102011535B1 (ko) * | 2011-11-24 | 2019-08-16 | 램 리써치 코포레이션 | 가요성 있는 대칭적 rf 복귀 스트랩을 갖는 플라즈마 프로세싱 챔버 |
US8847495B2 (en) | 2011-11-29 | 2014-09-30 | Lam Research Corporation | Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor |
US20130160948A1 (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-27 | Lam Research Corporation | Plasma Processing Devices With Corrosion Resistant Components |
US20140060739A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Rajinder Dhindsa | Rf ground return in plasma processing systems and methods therefor |
US9337000B2 (en) * | 2013-10-01 | 2016-05-10 | Lam Research Corporation | Control of impedance of RF return path |
US9401264B2 (en) * | 2013-10-01 | 2016-07-26 | Lam Research Corporation | Control of impedance of RF delivery path |
JP6660936B2 (ja) * | 2014-04-09 | 2020-03-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 改良されたフロー均一性/ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ |
US10658222B2 (en) | 2015-01-16 | 2020-05-19 | Lam Research Corporation | Moveable edge coupling ring for edge process control during semiconductor wafer processing |
US10134615B2 (en) * | 2015-02-13 | 2018-11-20 | Applied Materials, Inc. | Substrate support with improved RF return |
US10431440B2 (en) * | 2015-12-20 | 2019-10-01 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for processing a substrate |
CN106920724B (zh) * | 2015-12-24 | 2019-05-03 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 改善刻蚀对称性的等离子处理装置及调节方法 |
CN107369604B (zh) * | 2016-05-12 | 2019-10-11 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 反应腔室及半导体加工设备 |
CN108206143B (zh) * | 2016-12-16 | 2020-09-25 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种等离子处理器、刻蚀均匀性调节系统及方法 |
US11011357B2 (en) | 2017-02-21 | 2021-05-18 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for multi-cathode substrate processing |
CN108538745B (zh) * | 2017-03-01 | 2022-01-07 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 反应腔室 |
KR102007390B1 (ko) | 2017-09-27 | 2019-10-08 | 이충열 | 짐벌 |
US11127572B2 (en) | 2018-08-07 | 2021-09-21 | Silfex, Inc. | L-shaped plasma confinement ring for plasma chambers |
KR102509641B1 (ko) * | 2018-08-28 | 2023-03-16 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 챔버의 rf 센싱 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 챔버 |
KR102624708B1 (ko) * | 2018-10-22 | 2024-01-15 | 주식회사 선익시스템 | 플라즈마 처리 장치 |
CN111326389B (zh) * | 2018-12-17 | 2023-06-16 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种电容耦合等离子体刻蚀设备 |
CN111326387B (zh) * | 2018-12-17 | 2023-04-21 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种电容耦合等离子体刻蚀设备 |
CN111383893B (zh) * | 2018-12-29 | 2023-03-24 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种等离子体处理器及等离子体控制方法 |
JP7245107B2 (ja) * | 2019-04-23 | 2023-03-23 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
JP7264710B2 (ja) * | 2019-04-23 | 2023-04-25 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
KR102102132B1 (ko) * | 2019-07-03 | 2020-04-20 | 주식회사 테크놀로지메이컬스 | 반도체 식각장치의 결합형 실리콘 링 |
JP7296829B2 (ja) * | 2019-09-05 | 2023-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、処理方法、上部電極構造 |
CN112786420B (zh) * | 2019-11-07 | 2023-03-07 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种等离子体处理装置及其处理基片的方法 |
CN110911262B (zh) * | 2019-11-12 | 2022-07-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 电感耦合等离子体系统 |
CN112838040B (zh) * | 2019-11-25 | 2023-10-20 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种晶圆夹持装置和等离子体处理设备 |
US11361982B2 (en) * | 2019-12-10 | 2022-06-14 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for in-situ cleaning of electrostatic chucks |
USD979524S1 (en) | 2020-03-19 | 2023-02-28 | Applied Materials, Inc. | Confinement liner for a substrate processing chamber |
USD943539S1 (en) | 2020-03-19 | 2022-02-15 | Applied Materials, Inc. | Confinement plate for a substrate processing chamber |
US11380524B2 (en) | 2020-03-19 | 2022-07-05 | Applied Materials, Inc. | Low resistance confinement liner for use in plasma chamber |
TW202234461A (zh) * | 2020-05-01 | 2022-09-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 蝕刻裝置及蝕刻方法 |
CN111446146A (zh) * | 2020-05-23 | 2020-07-24 | 上海邦芯半导体设备有限公司 | 等离子约束装置及等离子体设备 |
CN118366839A (zh) * | 2021-02-12 | 2024-07-19 | 朗姆研究公司 | 在不影响c形护罩的机械强度或使用寿命的情况下为等离子体均匀性进行c形护罩修改 |
KR102549935B1 (ko) * | 2021-04-28 | 2023-06-30 | 주식회사 월덱스 | 플라즈마 에칭장치용 다체형 한정 링 |
CN114023620B (zh) * | 2021-10-29 | 2023-07-14 | 德鸿半导体设备(浙江)有限公司 | 一种用于处理基片的处理站 |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6026667A (ja) | 1983-07-22 | 1985-02-09 | Canon Inc | 堆積膜形成装置 |
US5209803A (en) | 1988-08-30 | 1993-05-11 | Matrix Integrated Systems, Inc. | Parallel plate reactor and method of use |
JP3323530B2 (ja) | 1991-04-04 | 2002-09-09 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造方法 |
JPH05206069A (ja) | 1992-01-29 | 1993-08-13 | Fujitsu Ltd | プラズマエッチング法及びプラズマエッチング装置 |
TW296534B (ja) | 1993-12-17 | 1997-01-21 | Tokyo Electron Co Ltd | |
TW357404B (en) | 1993-12-24 | 1999-05-01 | Tokyo Electron Ltd | Apparatus and method for processing of plasma |
US5523261A (en) | 1995-02-28 | 1996-06-04 | Micron Technology, Inc. | Method of cleaning high density inductively coupled plasma chamber using capacitive coupling |
JP3122617B2 (ja) * | 1996-07-19 | 2001-01-09 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
EP0821395A3 (en) * | 1996-07-19 | 1998-03-25 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
US5916454A (en) | 1996-08-30 | 1999-06-29 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for reducing byproduct particle generation in a plasma processing chamber |
JP2000030896A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-28 | Anelva Corp | プラズマ閉込め装置 |
JP3476687B2 (ja) * | 1998-09-21 | 2003-12-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
US6170429B1 (en) * | 1998-09-30 | 2001-01-09 | Lam Research Corporation | Chamber liner for semiconductor process chambers |
JP2001000789A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 衣類乾燥機 |
US6350317B1 (en) | 1999-12-30 | 2002-02-26 | Lam Research Corporation | Linear drive system for use in a plasma processing system |
JP3718093B2 (ja) * | 2000-01-20 | 2005-11-16 | ローム株式会社 | 半導体製造装置 |
US6872281B1 (en) * | 2000-09-28 | 2005-03-29 | Lam Research Corporation | Chamber configuration for confining a plasma |
JP2002270598A (ja) | 2001-03-13 | 2002-09-20 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
US6602381B1 (en) | 2001-04-30 | 2003-08-05 | Lam Research Corporation | Plasma confinement by use of preferred RF return path |
US6974523B2 (en) * | 2001-05-16 | 2005-12-13 | Lam Research Corporation | Hollow anode plasma reactor and method |
US6527911B1 (en) * | 2001-06-29 | 2003-03-04 | Lam Research Corporation | Configurable plasma volume etch chamber |
US6744212B2 (en) * | 2002-02-14 | 2004-06-01 | Lam Research Corporation | Plasma processing apparatus and method for confining an RF plasma under very high gas flow and RF power density conditions |
US20040069227A1 (en) * | 2002-10-09 | 2004-04-15 | Applied Materials, Inc. | Processing chamber configured for uniform gas flow |
US7713379B2 (en) * | 2005-06-20 | 2010-05-11 | Lam Research Corporation | Plasma confinement rings including RF absorbing material for reducing polymer deposition |
US7850779B2 (en) * | 2005-11-04 | 2010-12-14 | Applied Materisals, Inc. | Apparatus and process for plasma-enhanced atomic layer deposition |
US8104428B2 (en) * | 2006-03-23 | 2012-01-31 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
US7740736B2 (en) * | 2006-06-08 | 2010-06-22 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber |
US8043430B2 (en) * | 2006-12-20 | 2011-10-25 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for controlling gas flow conductance in a capacitively-coupled plasma processing chamber |
US7732728B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-06-08 | Lam Research Corporation | Apparatuses for adjusting electrode gap in capacitively-coupled RF plasma reactor |
US8080479B2 (en) * | 2007-01-30 | 2011-12-20 | Applied Materials, Inc. | Plasma process uniformity across a wafer by controlling a variable frequency coupled to a harmonic resonator |
JP5317424B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2013-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
US7988815B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-08-02 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor with reduced electrical skew using electrical bypass elements |
SG188141A1 (en) * | 2008-02-08 | 2013-03-28 | Lam Res Corp | A protective coating for a plasma processing chamber part and a method of use |
US8540844B2 (en) * | 2008-12-19 | 2013-09-24 | Lam Research Corporation | Plasma confinement structures in plasma processing systems |
US9337004B2 (en) * | 2009-04-06 | 2016-05-10 | Lam Research Corporation | Grounded confinement ring having large surface area |
KR101854922B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2018-05-04 | 램 리써치 코포레이션 | 무선 주파수 (rf) 접지 복귀 장치들 |
US8826855B2 (en) * | 2010-06-30 | 2014-09-09 | Lam Research Corporation | C-shaped confinement ring for a plasma processing chamber |
KR102011535B1 (ko) * | 2011-11-24 | 2019-08-16 | 램 리써치 코포레이션 | 가요성 있는 대칭적 rf 복귀 스트랩을 갖는 플라즈마 프로세싱 챔버 |
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