KR102291399B1 - Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same - Google Patents

Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same Download PDF

Info

Publication number
KR102291399B1
KR102291399B1 KR1020140088611A KR20140088611A KR102291399B1 KR 102291399 B1 KR102291399 B1 KR 102291399B1 KR 1020140088611 A KR1020140088611 A KR 1020140088611A KR 20140088611 A KR20140088611 A KR 20140088611A KR 102291399 B1 KR102291399 B1 KR 102291399B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
tank
sheet
liquid
supply unit
liquid supply
Prior art date
Application number
KR1020140088611A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160008717A (en
Inventor
신재윤
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020140088611A priority Critical patent/KR102291399B1/en
Publication of KR20160008717A publication Critical patent/KR20160008717A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102291399B1 publication Critical patent/KR102291399B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67023—Apparatus for fluid treatment for general liquid treatment, e.g. etching followed by cleaning
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 액 공급 유닛을 제공한다. 액 공급 유닛은 액을 저장하는 탱크,
상기 탱크의 내부로 상기 액을 공급받는 유입 라인, 상기 탱크의 외부로 상기 액을 공급하는 공급 라인 및 상기 탱크 내부에 위치하고 상하방향으로 관통되는 홀이 형성되는 시트를 포함한다.The present invention provides a liquid supply unit. The liquid supply unit includes a tank for storing liquid,
and an inflow line through which the liquid is supplied to the inside of the tank, a supply line through which the liquid is supplied to the outside of the tank, and a sheet positioned inside the tank and having a hole penetrating in a vertical direction.

Description

액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치{Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same}A liquid supply unit and a substrate processing apparatus having the same

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 구체적으로 액을 공급하는 액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a liquid supply unit for supplying a liquid, and a substrate processing apparatus having the same.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 표시 패널(display panel)을 가진다. 기술의 급속한 발전에 따라 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있다.In recent years, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and a faster information processing speed. Such an information processing apparatus has a display panel for displaying activated information. With the rapid development of technology, the use of flat panel display panels such as liquid crystal displays (LCDs) is rapidly increasing.

이와 같은 평판 표시 패널을 제조하기 위해서는 포토 레지스트, 노광, 현상, 그리고 세정 등 다양한 공정들이 요구된다. 기판을 각 패턴이 형성된 셀로 나누어 절단한 후에는 절단면의 날카로움 및 거스러미를 제거하기 위하여 연마를 행하며, 연마시에 발생하는 기판의 입자나 연마입자 등의 오염물질을 제거하기 위한 세정작업을 행한다.In order to manufacture such a flat panel display panel, various processes such as photoresist, exposure, development, and cleaning are required. After dividing the substrate into cells on which each pattern is formed and cutting, polishing is performed to remove sharpness and burrs of the cut surface, and cleaning is performed to remove contaminants such as particles or abrasive particles from the substrate generated during polishing.

세정공정은 각종 화학약품(약액) 등을 처리한 후 기판의 표면에 흡착된 오염물질을 제거하는 것이다. 그러나 약액이 탱크로 공급되면서 버블이 발생한다.. 따라서 탱크 내부에 발생되는 버블은 레벨센서의 접촉면에 부착되어 레벨센서의 오작동이 발생한다. 또한, 탱크 일측에 구성되는 유입펌프 및 공급펌프로 버블이 유입되어, 펌프의 수명이 짧아지고 오작동이 발생된다. The cleaning process removes contaminants adsorbed on the surface of the substrate after treatment with various chemicals (chemical solutions). However, as the chemical is supplied to the tank, bubbles are generated. Therefore, the bubbles generated inside the tank are attached to the contact surface of the level sensor, causing malfunction of the level sensor. In addition, bubbles are introduced into the inflow pump and the supply pump configured on one side of the tank, shortening the life of the pump and causing malfunction.

본 발명의 기술적 과제는 탱크 내부의 버블 발생을 방지하는 액 공급 유닛 및 기판 처리 장치를 제공한다.A technical object of the present invention is to provide a liquid supply unit and a substrate processing apparatus for preventing the occurrence of bubbles inside a tank.

본 발명은 액 공급 유닛을 제공한다. 액 공급 유닛은 액을 저장하는 탱크,The present invention provides a liquid supply unit. The liquid supply unit includes a tank for storing liquid,

상기 탱크의 내부로 상기 액을 공급받는 유입 라인, 상기 탱크의 외부로 상기 액을 공급하는 공급 라인 및 상기 탱크 내부에 위치하고 상하방향으로 관통되어있는 홀이 형성되는 시트를 포함한다.and an inflow line through which the liquid is supplied to the inside of the tank, a supply line through which the liquid is supplied to the outside of the tank, and a sheet positioned inside the tank and having a hole penetrating in the vertical direction.

일 예에 의하여, 상기 시트는 상기 액보다 비중이 작은 재질이다.In one example, the sheet is made of a material having a specific gravity smaller than that of the liquid.

일 예에 의하여, 상기 시트는 수지계열 재질을 포함한다. 상기 수지 계열은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 또는 불포화에스터을 포함한다.In one example, the sheet includes a resin-based material. The resin series includes polyethylene, polypropylene or unsaturated esters.

다른 예에 의하여, 상기 액은 순수이고, 상기 시트의 비중이 1보다 작다.In another example, the liquid is pure water, and the specific gravity of the sheet is less than 1.

일 예에 의하여, 상기 유입 라인은 상기 탱크의 상면에 결합되고, 상기 공급라인은 상기 탱크의 하면에 결합된다.In one example, the inlet line is coupled to the upper surface of the tank, and the supply line is coupled to the lower surface of the tank.

일 예에 의하여, 상기 액이 공급됨에 따라 상기 시트의 상하 이동을 안내하는 가이드 봉을 더 포함한다.According to an example, it further includes a guide rod for guiding the vertical movement of the sheet as the liquid is supplied.

일 예에 의하여, 상기 가이드 봉은 그 길이방향이 제 3 방향으로 제공되어 상기 탱크의 상면 및 하면에 고정된다.In one example, the guide rod is provided in the third direction in its longitudinal direction and fixed to the upper and lower surfaces of the tank.

일 예에 의하여, 상기 가이드 봉은 상기 시트의 양 끝단에 복수 개가 형성된다.In one example, a plurality of guide rods are formed at both ends of the sheet.

일 예에 의하여, 상기 시트에는 상기 가이드 봉이 삽입되는 가이드 홀이 형성된다.In one example, a guide hole into which the guide rod is inserted is formed in the sheet.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 처리 하는 처리실 및 상기 처리실에 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은, 액을 저장하는 탱크, 상기 탱크의 내부로 상기 액을 공급받는 유입 라인, 상기 탱크의 외부로 상기 액을 공급하는 공급 라인 및 상기 탱크 내부에 위치하고 상하방향으로 관통된 홀이 형성되는 시트를 포함한다.The present invention provides a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus includes a processing chamber for processing a substrate and a liquid supply unit supplying a liquid to the processing chamber, wherein the liquid supply unit includes a tank for storing a liquid, an inlet line through which the liquid is supplied into the tank, and the It includes a supply line for supplying the liquid to the outside of the tank and a sheet positioned inside the tank and having a hole penetrating in the vertical direction.

일 예에 의하여, 상기 시트는 상기 액보다 비중이 작은 재질이다.In one example, the sheet is made of a material having a specific gravity smaller than that of the liquid.

일 예에 의하여, 상기 시트가 상기 액이 공급됨에 따라 상하로 이동할 수 있게 가이드 하는 가이드 봉을 더 포함한다.By one example, the sheet further includes a guide rod for guiding to move up and down as the liquid is supplied.

일 예에 의하여, 상기 시트에는 상기 가이드 봉이 삽입되는 가이드 홀이 형성된다.In one example, a guide hole into which the guide rod is inserted is formed in the sheet.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 탱크 내부에 시트를 추가하여 버블 발생을 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to prevent the occurrence of bubbles by adding a sheet to the inside of the tank.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 시트가 상하로 움직일 때 가이드 봉이 시트의 위치가 불안정해 지는 것을 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, when the sheet moves up and down, the guide rod can prevent the position of the sheet from being unstable.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 반송 유닛의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 액 공급 유닛을 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3의 일 실시 예를 보여주는 사시도이다.1 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing an example of the conveying unit of FIG. 1 .
3 is a perspective view illustrating the liquid supply unit of FIG. 2 .
4 is a perspective view illustrating an embodiment of FIG. 3 .

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
Advantages and features of the present invention, and a method for achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only this embodiment serves to complete the disclosure of the present invention, and to obtain common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치(1)를 보여주는 단면도이고, 도 2는 도 1의 반송 유닛(200)의 일 예를 보여주는 평면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view illustrating an example of the transfer unit 200 of FIG. 1 .

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 처리실(100) 및 액 공급 유닛(600)을 포함한다. 처리실(100)은 공정 챔버(101) 및 반송 유닛(200)을 포함한다. 공정 챔버(101)는 기판(S)을 처리하기 위한 공간을 제공한다. 일 예로, 공정 챔버(101)는 에칭 챔버 및 세정 챔버 및 건조 챔버를 포함할 수 있다. 에칭 챔버, 세정 챔버 및 건조 챔버는 제 1 방향(12)을 따라 순차적으로 배열된다. 제 1 방향(12)은 기판(S)의 이동방향으로 정의한다. 에칭 챔버는 기판(S)에 케미컬을 공급하여 식각 공정을 진행한다. 에칭 챔버는 식각 가스를 배출하는 분사부재를 포함한다. 세정 챔버는 에칭 공정이 완료된 기판(S) 상에 순수를 공급하여 케미컬을 제거한다. 세정 챔버는 순수를 분사하는 분사부재를 포함한다. 건조 챔버는 기판(S)에 건조 가스를 분사하여 기판(S) 표면에 잔류하는 케미컬 또는 순수를 건조시킨다. 건조 챔버는 건조 가스를 배출하는 분사부재를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the substrate processing apparatus 1 includes a processing chamber 100 and a liquid supply unit 600 . The processing chamber 100 includes a process chamber 101 and a transfer unit 200 . The process chamber 101 provides a space for processing the substrate S. For example, the process chamber 101 may include an etching chamber, a cleaning chamber, and a drying chamber. The etching chamber, the cleaning chamber and the drying chamber are sequentially arranged along the first direction 12 . The first direction 12 is defined as a movement direction of the substrate S. The etching chamber supplies chemicals to the substrate S to perform an etching process. The etching chamber includes an ejection member for discharging an etching gas. The cleaning chamber removes chemicals by supplying pure water onto the substrate S on which the etching process is completed. The cleaning chamber includes a spray member for spraying pure water. The drying chamber dries the chemical or pure water remaining on the surface of the substrate (S) by spraying a drying gas to the substrate (S). The drying chamber includes an injection member for discharging drying gas.

공정 챔버(101)에는 기판 유입구(110) 및 기판 유출구(120)가 제공된다. 공정 챔버(101)의 하면에는 기판(S)을 처리한 액을 배수하는 배수 라인(400)이 제공된다. The process chamber 101 is provided with a substrate inlet 110 and a substrate outlet 120 . A drain line 400 for draining the liquid processing the substrate S is provided on the lower surface of the process chamber 101 .

도 2를 참조하면, 반송 유닛(200)은 기판(S)을 챔버들 사이 또는 챔버 내에서 제 1 방향(12)으로 반송한다. 반송 유닛(200)은 복수의 샤프트들(220), 롤러들(240), 그리고 구동부(260)를 가진다. 복수의 샤프트들(220)은 제1방향(12)을 따라 배열된다. 각각의 샤프트(220)는 그 길이 방향이 제2방향(16)으로 제공된다. 제 2 방향(16)은 챔버 상부에서 본 경우 제 1 방향(12)과 수직한다. 샤프트들(220)은 서로 나란하게 배치된다. 샤프트들(220)은 각각의 챔버 내에서 기판 유입구(110)와 인접한 위치에서부터 기판 유출구(120)와 인접한 위치까지 제공된다. 각각의 샤프트(220)에는 그 길이방향을 따라 복수의 롤러들(240)이 고정 결합된다. 샤프트들(220)은 그 중심축을 기준으로 구동부(260)에 의해 회전된다. 구동부(260)는 풀리들(262), 벨트들(264), 그리고 모터(266)를 가진다. 풀리들(262)은 각각의 샤프트(220)의 양단에 각각 결합된다. 서로 인접하게 배치된 풀리들(262)은 벨트(264)에 의해 서로 연결된다. 풀리들(262) 중 어느 하나에는 이를 회전시키는 모터(266)가 결합된다. 상술한, 풀리(262), 벨트(264), 그리고 모터(266)의 조립체에 의해 샤프트들(220)과 롤러들(240)이 회전되고, 기판(S)은 그 하면이 롤러에 접촉된 상태로 샤프트들(220)을 따라 직선 이동된다. 각각의 샤프트(220)는 수평으로 배치되어 기판(S)은 수평 상태로 이송될 수 있다. Referring to FIG. 2 , the transfer unit 200 transfers a substrate S between chambers or within the chambers in a first direction 12 . The conveying unit 200 has a plurality of shafts 220 , rollers 240 , and a driving unit 260 . The plurality of shafts 220 are arranged along the first direction 12 . Each shaft 220 is provided with its longitudinal direction in the second direction 16 . The second direction 16 is perpendicular to the first direction 12 when viewed from the top of the chamber. The shafts 220 are arranged in parallel with each other. Shafts 220 are provided in each chamber from a position adjacent to the substrate inlet 110 to a position adjacent to the substrate outlet 120 . A plurality of rollers 240 are fixedly coupled to each shaft 220 along its longitudinal direction. The shafts 220 are rotated by the driving unit 260 based on the central axis thereof. The drive unit 260 has pulleys 262 , belts 264 , and a motor 266 . The pulleys 262 are respectively coupled to both ends of each shaft 220 . The pulleys 262 disposed adjacent to each other are connected to each other by a belt 264 . A motor 266 for rotating it is coupled to any one of the pulleys 262 . The shafts 220 and the rollers 240 are rotated by the assembly of the pulley 262 , the belt 264 , and the motor 266 as described above, and the substrate S has a lower surface in contact with the roller. The furnace is linearly moved along the shafts 220 . Each shaft 220 is horizontally disposed so that the substrate S may be transported in a horizontal state.

액 공급 유닛(600)은 액을 처리실(100)로 공급한다. 예를 들어, 액은 케미컬 또는 순수(DI water)일 수 있다. 액 공급 유닛(600)은 공급 라인(640)을 통해 처리실(100)로 액을 공급한다. 액 공급 유닛(600)은 유입 라인(660)을 통해 액을 공급받는다.
The liquid supply unit 600 supplies the liquid to the processing chamber 100 . For example, the liquid may be chemical or pure (DI water). The liquid supply unit 600 supplies the liquid to the processing chamber 100 through the supply line 640 . The liquid supply unit 600 receives liquid through the inlet line 660 .

도 3은 도 1의 액 공급 유닛(600)을 보여주는 사시도이다.3 is a perspective view illustrating the liquid supply unit 600 of FIG. 1 .

도 3를 참조하면, 액 공급 유닛(600)은 탱크(610), 시트(620) 및 레벨 센서(680)를 포함한다. Referring to FIG. 3 , the liquid supply unit 600 includes a tank 610 , a seat 620 , and a level sensor 680 .

탱크(610)는 액을 저장한다. 탱크(610)에는 유입 라인(660), 공급 라인(640) 및 열선(670)이 제공된다. 유입 라인(660)은 탱크(610)의 내부로 액을 공급한다. 유입 라인(660)은 탱크(610)의 상면에 결합된다. 유입 라인(660)은 탱크의 내부를 향해 연장될 수 있다. 유입 라인(660)을 통하여 액이 탱크(610) 내부로 낙하하게 된다. 공급 라인(640)은 탱크(610)에서 처리실(100)로 액을 공급한다. 공급 라인(640)은 처리실(100)의 분사 부재(300)로 액을 공급한다. 공급 라인(640)은 탱크(610)의 하면에 결합된다. 공급 라인(640)에는 펌프(미도시)가 제공된다. Tank 610 stores a liquid. Tank 610 is provided with an inlet line 660 , a supply line 640 and a heating wire 670 . The inlet line 660 supplies the liquid into the tank 610 . The inlet line 660 is coupled to the upper surface of the tank 610 . Inlet line 660 may extend toward the interior of the tank. The liquid falls into the tank 610 through the inlet line 660 . The supply line 640 supplies the liquid from the tank 610 to the processing chamber 100 . The supply line 640 supplies the liquid to the injection member 300 of the processing chamber 100 . The supply line 640 is coupled to the lower surface of the tank 610 . A pump (not shown) is provided on the supply line 640 .

탱크(610)내 하부에는 가열부재(670)가 제공된다. 예를 들어, 가열부재(670)는 열선 또는 램프를 포함한다. 가열부재(670)는 그 길이방향이 제 1 방향(12)으로 연장된다. 가열부재(670)는 복수개가 제공될 수 있다. 가열부재(670)는 공급하는 액의 온도를 조절한다. 가열부재(670)는 상부에서 바라볼 때 탱크(610) 전체 면적을 가열할 수 있게 제공된다.A heating member 670 is provided at a lower portion in the tank 610 . For example, the heating member 670 includes a heating wire or a lamp. The heating member 670 extends in the first direction 12 in its longitudinal direction. A plurality of heating members 670 may be provided. The heating member 670 controls the temperature of the supplied liquid. The heating member 670 is provided to heat the entire area of the tank 610 when viewed from the top.

탱크(610)의 측면에는 창(650)이 제공된다. 창(650)을 통해 탱크(610) 내부의 액의 양을 체크할 수 있다.A window 650 is provided on the side of the tank 610 . The amount of liquid inside the tank 610 may be checked through the window 650 .

시트(620)는 탱크(610) 내부에서 버블 발생을 방지한다. 유입 라인(660)에 의해 공급되는 액이 낙하하여 버블이 발생한다. 시트(620)는 탱크(610) 내부의 열선(670) 상부에 제공된다. 시트(620)에는 상하방향으로 관통되어있는 홀(628)이 반복되게 형성된다. 예를 들어, 홀(628)은 원형이고, 홀(628)은 일정한 크기 및 일정한 간격으로 형성된다. 시트(620)는 공급되는 액보다 비중이 작은 재질로 제공된다. 따라서, 시트(620)는 액 상에 부유한다. 예를 들어, 공급되는 액이 순수인 경우 시트 재질의 비중은 1보다 작다. 시트(620)는 수지계열 재질을 포함한다. 예를 들어, 수지 계열은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 또는 불포화에스터을 포함할 수 있다. 시트(620)의 두께는 8mm 내지 12mm일 수 있다. 다만, 시트(620)의 두께는 제한되지 않고, 다른 두께로 제공될 수 있다. 공급된 액은 탱크(610)의 하부로부터 순차적으로 차오른다. 공급되는 액의 양에 따라 시트(620)는 탱크(610) 내에서 상하로 이동한다. 시트(620)의 위치로 탱크(610) 내부의 액의 수치를 감지할 수 있다. 유입라인으로부터 공급되는 액이 시트(620)의 홀(628)을 통과한다. 탱크(610)에 액이 차오르면서 버블이 발생할 수 있다. 이 때, 시트(620)가 액 상에 부유하고 있어 버블이 발생하지 않도록 막는다. 버블 발생의 방지를 통해 펌프(미도시)의 수명을 연장시키고 펌프(미도시)의 에러를 방지할 수 있다. The sheet 620 prevents the generation of bubbles inside the tank 610 . The liquid supplied by the inlet line 660 falls and bubbles are generated. The sheet 620 is provided on top of the heating wire 670 inside the tank 610 . Holes 628 penetrating in the vertical direction are repeatedly formed in the sheet 620 . For example, the holes 628 are circular, and the holes 628 are formed at a constant size and at regular intervals. The sheet 620 is provided with a material having a specific gravity smaller than that of the supplied liquid. Accordingly, the sheet 620 floats in the liquid phase. For example, when the supplied liquid is pure water, the specific gravity of the sheet material is less than 1. The sheet 620 includes a resin-based material. For example, the resin series may include polyethylene, polypropylene, or unsaturated esters. The thickness of the sheet 620 may be 8 mm to 12 mm. However, the thickness of the sheet 620 is not limited and may be provided with a different thickness. The supplied liquid fills up sequentially from the bottom of the tank 610 . The sheet 620 moves up and down in the tank 610 according to the amount of the supplied liquid. The level of the liquid inside the tank 610 may be detected by the position of the seat 620 . The liquid supplied from the inlet line passes through the hole 628 of the sheet 620 . As the liquid fills in the tank 610 , bubbles may occur. At this time, the sheet 620 is suspended in the liquid to prevent bubbles from occurring. It is possible to extend the life of the pump (not shown) and prevent an error of the pump (not shown) by preventing the occurrence of bubbles.

탱크(610) 내부에 가이드 봉(630)이 제공된다. 예를 들어, 가이드 봉(630)은 탱크(610)의 양 끝단에 한 개씩 제공될 수 있다. 가이드 봉(630)은 탱크(610)의 하면에 고정되며 제 3 방향(14)으로 연장되어 탱크(610) 상면에 고정된다. 제 3 방향(14)은 상부에서 볼 때 제 1 방향(12) 및 제 2 방향(16)에 수직한 방향이다. 가이드 봉(630)에 시트(620)가 결합된다. 시트(620)는 가이드 봉(630)을 따라 움직일 수 있다. 시트(620)에는 가이드 봉(630)이 통과하는 가이드 홀(625)이 제공된다. 가이드 봉(630)의 직경은 가이드 홀(625)의 직경보다 작다. 탱크(610) 내부에 액이 차면 시트(620)는 상하로 움직일 수 있다. 시트(620)는 공급된 액 상에 부유함으로 그 위치가 불안정할 수 있다. 가이드 봉(630)이 시트(620)의 양 끝단에 위치함으로써 시트(620)가 틀어지는 것을 방지하고 시트(620)의 위치를 안정화시킬 수 있다. 선택적으로, 가이드 봉(630)은 시트(620)의 양 끝단에 복수개가 위치할 수 있다. A guide rod 630 is provided inside the tank 610 . For example, one guide rod 630 may be provided at both ends of the tank 610 . The guide rod 630 is fixed to the lower surface of the tank 610 and extends in the third direction 14 to be fixed to the upper surface of the tank 610 . The third direction 14 is a direction perpendicular to the first direction 12 and the second direction 16 when viewed from above. The sheet 620 is coupled to the guide rod 630 . The sheet 620 may move along the guide rod 630 . The sheet 620 is provided with a guide hole 625 through which the guide rod 630 passes. The diameter of the guide rod 630 is smaller than the diameter of the guide hole 625 . When the tank 610 is filled with liquid, the sheet 620 may move up and down. The position of the sheet 620 may be unstable because it floats on the supplied liquid. Since the guide rods 630 are positioned at both ends of the sheet 620 , it is possible to prevent the sheet 620 from being twisted and to stabilize the position of the sheet 620 . Optionally, a plurality of guide rods 630 may be located at both ends of the sheet 620 .

레벨 센서(680)는 탱크(610) 내의 액의 양을 측정한다. 레벨 센서(680)는 탱크(610)의 외측면에 제공된다. 레벨 센서(680)는 제 3 방향(14)으로 제공된다. 예를 들어, 레벨 센서(680)는 복수 개가 제공될 수 있다. 레벨 센서(680)는 탱크(610) 내부의 액의 수치를 외부에서 감지한다. 시트(620)를 통해 버블을 방지하여 레벨 센서(680)의 에러를 줄일 수 있다.
The level sensor 680 measures the amount of liquid in the tank 610 . A level sensor 680 is provided on the outer surface of the tank 610 . The level sensor 680 is provided in a third direction 14 . For example, a plurality of level sensors 680 may be provided. The level sensor 680 senses the level of the liquid inside the tank 610 from the outside. It is possible to reduce the error of the level sensor 680 by preventing bubbles through the sheet 620 .

Claims (14)

액 공급 유닛에 있어서,
액을 저장하는 탱크;
상기 탱크의 내부로 상기 액을 공급받는 유입 라인;
상기 탱크의 외부로 상기 액을 공급하는 공급 라인;
상기 탱크 내부에 위치하고 상하방향으로 관통된 홀이 형성되며, 상기 상하방향으로 이동가능하게 제공되는 시트;
상기 탱크 내에 제공되고, 상기 시트의 아래에 배치되는 가열부재; 및
상기 탱크의 외측면에 배치되는 레벨 센서를 포함하고,
상기 탱크는 측면에 형성되고, 상기 탱크 내부를 볼 수 있는 창을 포함하고,
상기 시트는 상기 탱크의 내측면에 접촉되는 크기로 제공되고,
상기 레벨 센서는 상기 탱크의 외측면에 접촉되며 상기 상하방향으로 이격되는 제1접촉면과 제2접촉면을 포함하고,
상기 시트는 상기 시트가 상기 상하방향으로 이동됨에 따라 상기 제1접촉면 또는 상기 제2접촉면과 중첩되는 액 공급 유닛.In the liquid supply unit,
tank for storing liquid;
an inlet line through which the liquid is supplied into the tank;
a supply line for supplying the liquid to the outside of the tank;
a sheet positioned inside the tank and having a hole penetrating in the vertical direction, the sheet being provided to be movable in the vertical direction;
a heating member provided in the tank and disposed under the sheet; and
It includes a level sensor disposed on the outer surface of the tank,
The tank is formed on the side and includes a window through which the inside of the tank can be seen,
The sheet is provided with a size in contact with the inner surface of the tank,
The level sensor is in contact with the outer surface of the tank and includes a first contact surface and a second contact surface spaced apart in the vertical direction,
The sheet is a liquid supply unit overlapping the first contact surface or the second contact surface as the sheet moves in the vertical direction. 제 1 항에 있어서,
상기 시트는 상기 액보다 비중이 작은 재질인 액 공급 유닛.The method of claim 1,
The sheet is a liquid supply unit made of a material having a lower specific gravity than the liquid. 제 2 항에 있어서,
상기 시트는 수지계열 재질을 포함하는 액 공급 유닛.3. The method of claim 2,
The sheet is a liquid supply unit comprising a resin-based material. 제 3 항에 있어서,
상기 수지계열은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 또는 불포화에스터을 포함하는 액 공급 유닛.4. The method of claim 3,
The resin series is a liquid supply unit containing polyethylene, polypropylene or unsaturated ester. 제 1 항에 있어서,
상기 액은 순수이고, 상기 시트의 비중이 1보다 작은 액 공급 유닛.The method of claim 1,
The liquid is pure water, and the specific gravity of the sheet is less than 1. 제 1 항에 있어서,
상기 유입 라인은 상기 탱크의 상면에 결합되고, 상기 공급 라인은 상기 탱크의 하면에 결합되는 액 공급 유닛.The method of claim 1,
The inlet line is coupled to an upper surface of the tank, and the supply line is coupled to a lower surface of the tank. 제 1 항에 있어서,
상기 액이 공급됨에 따라 상기 시트의 상하 이동을 안내하는 가이드 봉을 더 포함하는 액 공급 유닛.The method of claim 1,
The liquid supply unit further comprising a guide rod for guiding the vertical movement of the sheet as the liquid is supplied. 제 7 항에 있어서,
상기 가이드 봉은 그 길이방향이 제 3 방향으로 제공되어 상기 탱크의 상면 및 하면에 고정되는 액 공급 유닛.8. The method of claim 7,
The guide rod is provided in the third direction in the longitudinal direction of the liquid supply unit fixed to the upper and lower surfaces of the tank. 제 7 항에 있어서,
상기 가이드 봉은 상기 시트의 양 끝단에 복수 개가 형성되는 액 공급 유닛.8. The method of claim 7,
A liquid supply unit in which a plurality of guide rods are formed at both ends of the sheet. 제 7 항에 있어서,
상기 시트에는 상기 가이드 봉이 삽입되는 가이드 홀이 형성되는 액 공급 유닛.8. The method of claim 7,
A liquid supply unit in which a guide hole into which the guide rod is inserted is formed in the sheet. 기판 처리 장치에 있어서,
기판을 처리하는 처리실; 및
상기 처리실에 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되,
상기 액 공급 유닛은,
액을 저장하는 탱크;
상기 탱크의 내부로 상기 액을 공급받는 유입 라인;
상기 탱크의 외부로 상기 액을 공급하는 공급 라인;
상기 탱크 내부에 위치하고 상하방향으로 관통된 홀이 형성되며, 상기 상하방향으로 이동가능하게 제공되는 시트;
상기 탱크 내에 제공되고, 상기 시트의 아래에 배치되는 가열부재; 및
상기 탱크의 외측면에 배치되는 레벨 센서를 포함하고,
상기 탱크는 측면에 형성되고, 상기 탱크 내부를 볼 수 있는 창을 포함하고,
상기 시트는 상기 탱크의 내측면에 접촉되는 크기로 제공되고,
상기 레벨 센서는 상기 탱크의 외측면에 접촉되며 상기 상하방향으로 이격되는 제1접촉면과 제2접촉면을 포함하고,
상기 시트는 상기 시트가 상기 상하방향으로 이동됨에 따라 상기 제1접촉면 또는 상기 제2접촉면과 중첩되는 기판 처리 장치.A substrate processing apparatus comprising:
a processing chamber for processing substrates; and
A liquid supply unit for supplying a liquid to the processing chamber,
The liquid supply unit,
tank for storing liquid;
an inlet line through which the liquid is supplied into the tank;
a supply line for supplying the liquid to the outside of the tank;
a sheet positioned inside the tank and having a hole penetrating in the vertical direction, the sheet being provided to be movable in the vertical direction;
a heating member provided in the tank and disposed under the sheet; and
It includes a level sensor disposed on the outer surface of the tank,
The tank is formed on the side and includes a window through which the inside of the tank can be seen,
The sheet is provided with a size in contact with the inner surface of the tank,
The level sensor is in contact with the outer surface of the tank and includes a first contact surface and a second contact surface spaced apart in the vertical direction,
The sheet may overlap the first contact surface or the second contact surface as the sheet moves in the vertical direction. 제 11 항에 있어서,
상기 시트는 상기 액보다 비중이 작은 재질인 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The sheet is a substrate processing apparatus of a material having a specific gravity smaller than that of the liquid. 제 11 항에 있어서,
상기 시트가 상기 액이 공급됨에 따라 상하로 이동할 수 있게 가이드 하는 가이드 봉을 더 포함하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The substrate processing apparatus further comprising a guide rod for guiding the sheet to move up and down as the liquid is supplied. 제 13 항에 있어서,
상기 시트에는 상기 가이드 봉이 삽입되는 가이드 홀이 형성되는 기판 처리 장치.

14. The method of claim 13,
A substrate processing apparatus in which a guide hole into which the guide rod is inserted is formed in the sheet.
KR1020140088611A 2014-07-14 2014-07-14 Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same KR102291399B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140088611A KR102291399B1 (en) 2014-07-14 2014-07-14 Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140088611A KR102291399B1 (en) 2014-07-14 2014-07-14 Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160008717A KR20160008717A (en) 2016-01-25
KR102291399B1 true KR102291399B1 (en) 2021-08-23

Family

ID=55306698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140088611A KR102291399B1 (en) 2014-07-14 2014-07-14 Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102291399B1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001121063A (en) * 1999-10-26 2001-05-08 Tokyo Electron Ltd Filter apparatus and liquid treatment apparatus
JP2005206911A (en) * 2004-01-26 2005-08-04 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude Semiconductor treatment system, and bubble trap
KR100787682B1 (en) * 2006-10-20 2007-12-21 현대자동차주식회사 The preventing foaming water tank of the fuel cell vehicle
US20100053286A1 (en) 2008-09-02 2010-03-04 Seiko Epson Corporation Liquid supply device and liquid ejecting apparatus
US20100229726A1 (en) 2006-01-25 2010-09-16 Hironobu Nishimura Liquid Material Supplying Apparatus and Liquid Material Supplying Method
US20100282342A1 (en) 2009-05-08 2010-11-11 Canon Kabushiki Kaisha Liquid supplying member, negative pressure unit, and liquid discharging apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120060431A (en) * 2010-12-02 2012-06-12 두산산업차량 주식회사 Air bubble reduction structure in an oil tank

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001121063A (en) * 1999-10-26 2001-05-08 Tokyo Electron Ltd Filter apparatus and liquid treatment apparatus
JP2005206911A (en) * 2004-01-26 2005-08-04 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude Semiconductor treatment system, and bubble trap
US20100229726A1 (en) 2006-01-25 2010-09-16 Hironobu Nishimura Liquid Material Supplying Apparatus and Liquid Material Supplying Method
KR100787682B1 (en) * 2006-10-20 2007-12-21 현대자동차주식회사 The preventing foaming water tank of the fuel cell vehicle
US20100053286A1 (en) 2008-09-02 2010-03-04 Seiko Epson Corporation Liquid supply device and liquid ejecting apparatus
US20100282342A1 (en) 2009-05-08 2010-11-11 Canon Kabushiki Kaisha Liquid supplying member, negative pressure unit, and liquid discharging apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160008717A (en) 2016-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101322983B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN101114576B (en) Apparatus for treating substrates
TWI612570B (en) Substrate cleaning apparatus
KR20100055786A (en) Module for cleaning a substrate and apparatus for processing a substrate having the same
KR101218449B1 (en) Substrate processing apparatus
KR102291399B1 (en) Liquid supply unit and apparatus for processing substrate having the same
JP5908078B2 (en) Chemical treatment equipment
KR20100107692A (en) Apparatus for cleaning small size flat panel
KR101681636B1 (en) Apparatus and method for edge exposure, Apparatus for treating a substrate
JP2016064357A (en) Substrate cleaning device and substrate cleaning method
CN107618878A (en) A kind of glass substrate conveying device
KR101141155B1 (en) Substrate treating apparatus
KR102256694B1 (en) Apparatus for processing substrate
KR102250362B1 (en) Predischarging unit, Apparatus and Method for treating substrate with the unit
KR101409723B1 (en) Slim etching apparatus
KR102379013B1 (en) Liquid treatment module, apparatus and method for treating a substrate with the same
KR102147687B1 (en) Substrate treating apparatus and transporting method
KR101330820B1 (en) Apparatus for transferring of glass panel
KR101155618B1 (en) Tank for storing process liquid
KR102156742B1 (en) Transporting unit, substrate treating apparatus and substrate treating method
KR102344526B1 (en) chemical storge member and Apparatus for substrate with the member
KR101598140B1 (en) Substrate treating apparatus and method
KR102047896B1 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
JP2013202547A (en) Substrate processing apparatus
KR101538431B1 (en) apparatus for chemically reinforcing glass

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right