KR102291138B1 - Manufacturing method paste having heat radiation and insulation - Google Patents
Manufacturing method paste having heat radiation and insulation Download PDFInfo
- Publication number
- KR102291138B1 KR102291138B1 KR1020200004465A KR20200004465A KR102291138B1 KR 102291138 B1 KR102291138 B1 KR 102291138B1 KR 1020200004465 A KR1020200004465 A KR 1020200004465A KR 20200004465 A KR20200004465 A KR 20200004465A KR 102291138 B1 KR102291138 B1 KR 102291138B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- boron nitride
- nitride particles
- paste
- heat dissipation
- producing
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/38—Boron-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/20—Compounding polymers with additives, e.g. colouring
- C08J3/205—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase
- C08J3/21—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase
- C08J3/212—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase and solid additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/38—Boron-containing compounds
- C08K2003/382—Boron-containing compounds and nitrogen
- C08K2003/385—Binary compounds of nitrogen with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/001—Conductive additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
- C08L2203/206—Applications use in electrical or conductive gadgets use in coating or encapsulating of electronic parts
Abstract
본 발명은 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법은, 질화붕소 입자의 표면을 처리하는 단계; 상기 표면 처리된 질화붕소 입자의 산도를 조절하는 단계; 및 산도가 조절된 상기 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 분산하여 혼합하는 단계를 포함하고, 상기 질화붕소 입자의 표면을 처리 단계는, 상기 고분자 매트릭스에 상기 질화붕소 입자의 분산성을 높이기 위해 상기 고분자 매트릭스와의 표면 친화력를 높이는 단계일 수 있다. 본 발명에 의하면, 마이크로 사이즈의 질화붕소를 이용하여 질화붕소의 입자에 표면처리 및 산도조절을 수행함으로써, 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트를 높은 효율로 충진시킬 수 있고, 또한, 고분자 매트릭스에 안정적으로 분산시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a method for producing a paste having heat dissipation and insulation properties, and the method for producing a paste having heat radiation and insulation properties according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: treating the surface of boron nitride particles; adjusting the acidity of the surface-treated boron nitride particles; and dispersing and mixing the boron nitride particles whose acidity is controlled in a polymer matrix, wherein the treating the surface of the boron nitride particles includes the polymer matrix in order to increase the dispersibility of the boron nitride particles in the polymer matrix. It may be a step of increasing surface affinity with According to the present invention, by performing surface treatment and acidity control on the boron nitride particles using micro-sized boron nitride, it is possible to fill the paste having heat dissipation and insulating properties with high efficiency, and also stably in the polymer matrix. It has the effect of dispersing.
Description
본 발명은 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 높은 비표면적을 갖는 질화붕소의 충진률을 높일 수 있는 방열 페이스트 및 방열 및 절연 특성을 갖는 페스트 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a paste having heat dissipation and insulation properties, and more particularly, to a heat radiation paste capable of increasing the filling rate of boron nitride having a high specific surface area and a method for producing a paste having heat radiation and insulation properties.
다양한 전자기기들은 시스템 내부에서 발생하는 과도한 열을 외부로 확산시키지 못하는 경우, 각종 전자부품들의 수명이 단축되거나 오작동을 유발할 수 있으며, 경우에 따라 타거나 폭발하는 등의 문제가 발생할 수 있다. 특히, 반도체가 적용된 회로 구조에서는 발생될 열을 빠르게 방출하고 외부환경으로부터 반도체 회로를 보호하기 위해 EMC(epoxy molding compound)를 이용한다.When various electronic devices fail to diffuse excessive heat generated inside the system to the outside, the lifespan of various electronic components may be shortened or may cause malfunction, and in some cases, problems such as burning or explosion may occur. In particular, in a circuit structure to which a semiconductor is applied, an EMC (epoxy molding compound) is used to rapidly dissipate heat to be generated and to protect the semiconductor circuit from the external environment.
이러한 높은 방열 효율이 요구되는 EMC는 종래에 실리카나 알루미나가 이용되다가 최근 질화붕소(BN)를 이용하는 연구가 증가는 추세에 있다. 그런데, 질화붕소는 높은 비표면적으로 인해 소정의 공간 내에 높은 밀도로 충진시키는 것이 쉽지 않다.For EMC, which requires such high heat dissipation efficiency, silica or alumina is conventionally used, but research using boron nitride (BN) is on the rise. However, it is not easy to fill boron nitride at a high density in a predetermined space due to its high specific surface area.
또한, EMC로 질화붕소를 이용하기 위해 고분자 매트릭스와 질화붕소를 혼합할 필요가 있는데, 이를 위해 질화붕소의 방열 성능이 정상적으로 구현되기 위해서는 고분자 매트릭스에 질화붕소가 고르게 분산될 필요가 있다. 하지만, 질화붕소는 높은 비표면적으로 인해 고분자 매트릭스에 분산시키는 것이 어려운 문제가 있다.In addition, in order to use boron nitride as EMC, it is necessary to mix a polymer matrix and boron nitride. For this purpose, in order to normally realize the heat dissipation performance of boron nitride, boron nitride needs to be evenly dispersed in the polymer matrix. However, it is difficult to disperse boron nitride in a polymer matrix due to its high specific surface area.
그에 따라 종래에 공정제어제(PCA, process control agent)를 이용하여 질화붕소 분말을 나노 사이즈로 제조하는 기술에 대한 연구가 있다. 하지만, 나노 사이즈로 질화붕소를 제조하더라도 고분자 매트릭스에 분산시키는 것이 쉽지 않은 문제가 있다.Accordingly, there is a research on a technique for producing a boron nitride powder in a nano size using a process control agent (PCA, process control agent) in the prior art. However, there is a problem in that it is not easy to disperse the boron nitride in a polymer matrix even if it is manufactured in a nano size.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, EMC에 질화붕소를 이용하면서 질화붕소를 높은 효율로 충진할 수 있으며, 고분자 매트릭스에 안정적으로 분산시킬 수 있는 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법을 제공하는 것이다.An object to be solved by the present invention is to provide a method for producing a paste having heat dissipation and insulation properties that can be filled with boron nitride with high efficiency while using boron nitride for EMC and can be stably dispersed in a polymer matrix.
본 발명의 일 실시예에 따른 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법은, 질화붕소 입자의 표면을 처리하는 단계; 상기 표면 처리된 질화붕소 입자의 산도를 조절하는 단계; 및 산도가 조절된 상기 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 분산하여 혼합하는 단계를 포함하고, 상기 질화붕소 입자의 표면을 처리 단계는, 상기 고분자 매트릭스에 상기 질화붕소 입자의 분산성을 높이기 위해 상기 고분자 매트릭스와의 표면 친화력를 높이는 단계일 수 있다.A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties according to an embodiment of the present invention, the method comprising the steps of: treating the surface of the boron nitride particles; adjusting the acidity of the surface-treated boron nitride particles; and dispersing and mixing the boron nitride particles whose acidity is controlled in a polymer matrix, wherein the treating the surface of the boron nitride particles includes the polymer matrix in order to increase the dispersibility of the boron nitride particles in the polymer matrix. It may be a step of increasing surface affinity with
본 발명에 의하면, 마이크로 사이즈의 질화붕소를 이용하여 질화붕소의 입자에 표면처리 및 산도조절을 수행함으로써, 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트를 높은 효율로 충진시킬 수 있고, 또한, 고분자 매트릭스에 안정적으로 분산시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by performing surface treatment and acidity control on the boron nitride particles using micro-sized boron nitride, it is possible to fill the paste having heat dissipation and insulating properties with high efficiency, and also stably in the polymer matrix. It has the effect of dispersing.
더욱이, 표면처리제를 선택적으로 사용함에 따라 친수성 매트릭스 및 소수성 고분자 매트릭스 각각에 사용할 수 있는 방열 페스트를 제조할 수 있다.Furthermore, by selectively using the surface treatment agent, it is possible to prepare a heat dissipation paste that can be used for each of the hydrophilic matrix and the hydrophobic polymer matrix.
그리고 산도 조절을 통해 저점도의 페이스트 조성물에서 질화붕소 입자가 뭉치거나 침전되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect of preventing aggregation or precipitation of boron nitride particles in the low-viscosity paste composition by adjusting the acidity.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 페이스트 제조 방법을 도시한 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 페이스트 제조 방법의 표면처리 공정을 도시한 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 페이스트 제조 방법의 포화 지방산 코팅 공정을 도시한 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 페이스트 제조 방법의 불포화 지방산 코팅 공정을 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a heat dissipation paste according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart illustrating a surface treatment process of a method for manufacturing a heat dissipation paste according to an embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a saturated fatty acid coating process of a method for manufacturing a heat dissipation paste according to an embodiment of the present invention.
4 is a flowchart illustrating an unsaturated fatty acid coating process of a method for manufacturing a heat dissipation paste according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 작용에 대해 상세하게 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 측면(aspects) 중 하나이며, 다음의 설명은 본 발명에 대한 상세한 기술의 일부를 이룰 수 있다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the configuration and operation according to the embodiment of the present invention will be described in detail. The following description is one of several aspects of the present invention that is claimable, and the following description may form part of the detailed description of the present invention.
다만, 본 발명을 설명함에 있어 공지된 구성 또는 기능에 관한 구체적인 설명은 본 발명이 명료해지도록 생략할 수 있다.However, in describing the present invention, detailed descriptions of known configurations or functions may be omitted for clarity of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예들을 포함할 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is capable of making various changes and may include various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including an ordinal number such as 1st, 2nd, etc. may be used to describe various components, but the components are not limited by these terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결되어' 있다거나 '접속되어' 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.When it is said that a component is 'connected' or 'connected' to another component, it is understood that it may be directly connected or connected to the other component, but other components may exist in between. it should be
본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.
본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 더 구체적으로 설명한다.A preferred embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법에 대해 설명한다.Referring to FIG. 1 , a method for manufacturing a paste having heat dissipation and insulating properties according to an embodiment of the present invention will be described.
질화붕소 입자의 표면을 처리한다(S101).The surface of the boron nitride particles is treated (S101).
질화붕소 입자의 표면 처리는, 고분자 매트릭스에 질화붕소 입자를 분산성을 높이기 위해 수행된다. 질화붕소 입자는 높은 비표면적을 가지고 있어, 고분자 매트릭스에 분산이 쉽지 않다. 따라서 질화붕소 입자의 표면처리를 통해 고분자 매트릭스에 분산력을 높일 수 있다.The surface treatment of the boron nitride particles is performed in order to increase the dispersibility of the boron nitride particles in the polymer matrix. Since boron nitride particles have a high specific surface area, they are not easily dispersed in a polymer matrix. Therefore, it is possible to increase the dispersion power in the polymer matrix through the surface treatment of the boron nitride particles.
본 실시예에서, 질화붕소 입자의 표면 처리를 함에 따라 친수성 고분자 매트릭스 또는 소수성 고분자 매트릭스에 이용할 수 있으며, 표면 처리를 위한 표면처리제의 종류에 따라 표면 처리가 이루어질 수 있다.In this embodiment, according to the surface treatment of the boron nitride particles, it can be used in a hydrophilic polymer matrix or a hydrophobic polymer matrix, and the surface treatment can be made according to the type of the surface treatment agent for the surface treatment.
상기와 같이, 질화붕소 조성물을 제조할 때, 질화붕소 입자의 표면을 처리하는 것에 대해 도 2에 도시된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.As described above, when preparing the boron nitride composition, the treatment of the surface of the boron nitride particles will be described in more detail with reference to the drawings shown in FIG. 2 .
질화붕소 입자의 표면을 처리하기 위해 표면처리제인 커플링제를 이용하는, 먼저, 질화붕소 입자의 반응 사이트(site)를 위해 하소(calcination)를 수행한다(S201).Using a coupling agent as a surface treatment agent to treat the surface of the boron nitride particles, first, calcination is performed for a reaction site of the boron nitride particles (S201).
질화붕소 입자에 대한 하소는, 열분해 또는 상전이가 일어나거나 또는 휘발 성분을 제거하기 위해 수행하는 열처리이다. 따라서 질화붕소 입자의 반응이 일어나는 위치인 반응 사이트를 형성하기 위해 질화붕소 입자를 하소하여 미세분말을 형성한다. 본 실시예에서, 질화붕소 입자의 하소는 약 600℃ ~ 800℃의 온도에서 약 12시간 내지 24시간 동안 수행한다.The calcination of the boron nitride particles is a heat treatment performed to cause thermal decomposition or phase transition or to remove volatile components. Therefore, the boron nitride particles are calcined to form a fine powder in order to form a reaction site where the reaction of the boron nitride particles occurs. In this embodiment, the calcination of the boron nitride particles is performed at a temperature of about 600° C. to 800° C. for about 12 hours to 24 hours.
이렇게 질화붕소 입자에 대한 하소가 수행되면, 표면처리제인 커플링제와 질화붕소 입자를 용매에 혼합하고 제1 교반한다(S203).When the boron nitride particles are calcined in this way, a coupling agent, which is a surface treatment agent, and the boron nitride particles are mixed in a solvent and first stirred (S203).
표면처리제인 커플링제는 GPTMS인 (3-글리시딜옥시프로필기)트리메톡시실란((3-Glycidyloxypropyl)trimethoxysilane) (CAS No. 2530-83-8)를 이용할 수 있으며, 또는, (3-글리시딜옥시프로필기)트리에톡시실란((3-Glycidyloxypropyl)triethoxysilane), 디에톡시(3-글리시딜옥시프로필기)메틸실란(Diethoxy(3-glycidyloxypropyl)methylsilane) 및 3-글리시독시프로필디메톡메틸실란(3-Glycidoxypropyldimethoxymethylsilane)을 이용할 수 있다. 본 실시예에서, 커플링제는 1wt% ~ 5wt%를 이용할 수 있다.As a coupling agent as a surface treatment agent, GPTMS (3-Glycidyloxypropyl) trimethoxysilane) (CAS No. 2530-83-8) may be used, or, (3- Glycidyloxypropyl group) triethoxysilane ((3-Glycidyloxypropyl) triethoxysilane), diethoxy (3-glycidyloxypropyl group) methylsilane (Diethoxy (3-glycidyloxypropyl) methylsilane) and 3-glycidoxypropyl Dimethoxymethylsilane (3-Glycidoxypropyldimethoxymethylsilane) may be used. In this embodiment, the coupling agent may be used in an amount of 1 wt% to 5 wt%.
이러한 커플링제와 질화붕소 입자를 용매인 DI 워터(Deionized Water)와 에탄올의 혼합액에 혼합하고, 완전히 혼합될 때까지 교반한다. 이때, 용매인 DI 워터와 에탄올의 혼합비는 커플링제의 함량에 따라 달라질 수 있다.The coupling agent and the boron nitride particles are mixed with a solvent mixture of DI water (deionized water) and ethanol, and stirred until completely mixed. In this case, the mixing ratio of DI water as a solvent and ethanol may vary depending on the content of the coupling agent.
상기와 같이, 교반을 통해 혼합이 완료되면, 혼합액에 촉매를 첨가하고, 초음파 처리를 수행한다(S205).As described above, when mixing is completed through stirring, a catalyst is added to the mixed solution, and ultrasonic treatment is performed (S205).
교반된 혼합액에 첨가하는 촉매는 디부틸주석 디라우레이트(DBLT, dibutyltindilaurate)일 수 있으며, 본 실시예에서, 1wt%가 포함될 수 있다. 이렇게 촉매가 첨가된 이후에 초음파 처리(sonification)가 이루어질 수 있다.The catalyst added to the stirred mixture may be dibutyltindilaurate (DBLT), and in this embodiment, 1wt% may be included. After the catalyst is added in this way, sonification may be performed.
이렇게 초음파 처리가 이루어진 상태에서, 제2 교반이 이루어진다(S207).In this state of ultrasonic treatment, the second stirring is performed (S207).
본 단계에서, 제2 교반은 일례로, 마그네틱 교반일 수 있다. 마그네틱 교반은 마그네틱 교반기를 이용하여 대략 24시간 동안 이루어질 수 있다. 마그네틱 교반기는, 내부에 자석이 배치되고, 마그네틱 바(magnetic bar)가 자석을 따라 회전하며 교반한다.In this step, the second stirring may be, for example, magnetic stirring. Magnetic stirring can be performed for approximately 24 hours using a magnetic stirrer. A magnetic stirrer, a magnet is disposed therein, and a magnetic bar rotates along the magnet and stirs.
마그네틱 교반이 완료되면, 완료된 교반액에 대한 건조가 수행된다(S209).When the magnetic stirring is completed, drying of the completed stirring solution is performed (S209).
교반액의 건조는 테플론(teflon) 재질의 트레이(tray)에 교반액을 채운 상태에서 이루어지며, 약 40도의 온도를 갖는 오븐에서 약 2일 동안 이루어질 수 있다. 테플론은 불소와 탄소의 화학적 결합으로 안정된 화합물이며, 비활성, 내열성, 비점착성, 절연 안정성 및 낮은 마찰계수를 갖는 화합물이다.Drying of the stirring liquid is made in a state in which the stirring liquid is filled in a tray made of Teflon material, and may be performed in an oven having a temperature of about 40 degrees for about 2 days. Teflon is a compound stable by chemical bonding of fluorine and carbon, and is a compound with inertness, heat resistance, non-tackiness, insulation stability and low coefficient of friction.
건조가 완료된 질화붕소 입자는 필요에 따라 속슬렛 추출을 수행한다(S211).The dried boron nitride particles are subjected to Soxhlet extraction if necessary (S211).
속슬렛 추출(soxhlet extraction)은 미반응된 표면처리제(커플링제, 유기산계열)를 제거하여 표면처리 입자의 순도를 높이기 위해 진행하며, 속슬렛 추출을 통해 질화붕소 입자의 순도를 높일 수 있다. 본 단계는 필요에 따라 수행될 수 있어 생략될 수 있다.Soxhlet extraction is performed to increase the purity of surface-treated particles by removing unreacted surface treatment agents (coupling agents, organic acid series), and the purity of boron nitride particles can be increased through Soxhlet extraction. This step may be performed as necessary and may be omitted.
다시 도 1을 참조하면, 상기와 같이, 질화붕소 입자의 표면이 처리된 다음, 질화붕소 입자의 산도를 조절한다(S103).Referring back to FIG. 1 , as described above, after the surface of the boron nitride particles is treated, the acidity of the boron nitride particles is adjusted (S103).
질화붕소 입자의 표면을 처리하면, 질화붕소 입자의 표면 형상이 달라진다. 이렇게 표면이 처리된 질화붕소 입자만을 사용하는 경우에는 큰 문제가 발생하지 않지만, 표면 처리된 질화붕소 입자와 표면 처리되지 않은 질화붕소 입자를 혼합하여 사용하는 경우, 문제가 발생할 수 있다. 즉, 표면 처리된 질화붕소 입자는 표면 형상이 달라지기 때문에 표면 처리된 질화붕소 입자와 표면 처리되지 않은 질화붕소 입자를 혼합하는 경우, 질화붕소 입자들 간의 분리가 일어날 수 있다.When the surface of the boron nitride particles is treated, the surface shape of the boron nitride particles is changed. If only the surface-treated boron nitride particles are used, no major problem occurs, but when a mixture of surface-treated boron nitride particles and untreated boron nitride particles is used, a problem may occur. That is, since the surface shape of the surface-treated boron nitride particles is different, when the surface-treated boron nitride particles and the non-surface-treated boron nitride particles are mixed, separation between the boron nitride particles may occur.
따라서 표면 처리된 질화붕소 입자와 표면 처리되지 않은 질화붕소 입자를 혼합하여 사용하는 경우, 서로 분리되지 않도록 표면 처리된 질화붕소 입자에 대해 산도를 조절하여 질화붕소 입자들의 분산 안정성을 향상시킬 수 있다.Therefore, when the surface-treated boron nitride particles and the non-surface-treated boron nitride particles are mixed and used, the dispersion stability of the boron nitride particles can be improved by adjusting the acidity of the surface-treated boron nitride particles so that they do not separate from each other.
또한, 질화붕소 입자에 대해 선도 조절을 하는 경우, 점도가 낮은 고분자 매트릭스에 질화붕소 입자를 혼합하더라도 질화붕소 입자가 뭉치거나 침전되는 것을 방지할 수 있다.In addition, in the case of adjusting the freshness of the boron nitride particles, it is possible to prevent the boron nitride particles from aggregating or precipitating even when the boron nitride particles are mixed in a polymer matrix having a low viscosity.
질화붕소 입자의 산도 처리는, 도 3에 도시된 바와 같이, 포화지방산의 코팅을 통해 산도 처리가 이루어질 수 있으며, 또는 도 4에 도시된 바와 같이, 불포화지방산의 코팅을 통해 산도 처리가 이루어질 수 있다.The acidity treatment of the boron nitride particles, as shown in Figure 3, the acidity treatment can be made through the coating of the saturated fatty acid, or, as shown in Figure 4, the acidity treatment can be made through the coating of the unsaturated fatty acid. .
먼저, 도 3을 참조하여, 포화지방산을 질화붕소 입자에 코팅하여 산도 처리하는 것에 대해 설명한다.First, with reference to FIG. 3, a description will be given of acidity treatment by coating saturated fatty acid on boron nitride particles.
질화붕소 입자에 포화지방산을 코팅하여 산도 처리를 하기 위해 에탄올 및 포화지방산을 혼합한다(S301).In order to coat the boron nitride particles with saturated fatty acid to perform acidity treatment, ethanol and saturated fatty acid are mixed (S301).
본 단계에서, 에탄올에 포화지방산인 분말 상태의 스테아린산(stearic acid)을 투입하여 혼합한다. 이때, 스테아린산은 산도 처리하고자 하는 질화붕소 입자의 중량 대비 약 3%를 투입한다. 예컨대, 질화붕소 입자 300g에 대해 포화지방산을 코팅하는 경우, 에탄올 1kg에 스테아린산 9g을 투입한다.In this step, stearic acid in powder form, which is a saturated fatty acid, is added to ethanol and mixed. At this time, stearic acid is added in an amount of about 3% based on the weight of the boron nitride particles to be treated with acidity. For example, when the saturated fatty acid is coated on 300 g of boron nitride particles, 9 g of stearic acid is added to 1 kg of ethanol.
에탄올 및 스테아린산을 혼합한 상태에서, 혼합액에 대한 교반을 수행한다(S303).In a state in which ethanol and stearic acid are mixed, the mixture is stirred (S303).
혼합액에 대한 교반은 초음파 처리(sonification)가 적용된 상태에서 교반될 수 있으며, 예컨대, 600rpm으로 약 10분 동안 수행될 수 있다. 그에 따라 에탄올에 분말 상태의 스테아린산이 완전히 용해될 수 있다.Agitation of the mixed solution may be agitated in a state in which sonification is applied, for example, may be performed at 600 rpm for about 10 minutes. Accordingly, the powdered stearic acid can be completely dissolved in ethanol.
분말 스테아린산이 완전히 용해된 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하고, 교반한다(S305).The boron nitride particles are added to the mixed solution in which the powdered stearic acid is completely dissolved, and the mixture is stirred (S305).
분말 스테아린산이 완전히 용해된 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하고, 교반을 수행하는데, 본 실시예에서, 교반은 약 600rpm으로 약 3시간 동안 임펠라가 이용되어 교반될 수 있다. 이때, 투입되는 질화붕소 입자는 약 300g일 수 있다(에탄올 1kg 및 스테아린산 9g).The boron nitride particles are added to the mixed solution in which the powdered stearic acid is completely dissolved, and stirring is performed. In this embodiment, the stirring may be performed using an impeller at about 600 rpm for about 3 hours. At this time, the amount of boron nitride particles to be added may be about 300 g (1 kg of ethanol and 9 g of stearic acid).
본 단계에서, 교반이 이루어짐에 따라 스테아린산이 혼합된 에탄올이 질화붕소 입자의 표면에 코팅될 수 있다.In this step, as stirring is performed, ethanol mixed with stearic acid may be coated on the surface of the boron nitride particles.
상기와 같이, 질화붕소 입자가 투입되어 교반되면, 에탄올을 이용하여 수세를 수행한다(S307).As described above, when boron nitride particles are added and stirred, washing with ethanol is performed (S307).
에탄올을 이용한 수세(washing)는 별도의 에탄올을 이용하여 질화붕소 입자가 투입되어 교반된 교반액을 씻어내는 과정으로, 에탄올을 이용하여 자연 침강 방식으로 3회에 걸쳐 수행한다.Washing with ethanol is a process in which boron nitride particles are added and stirred using ethanol to wash off a stirred solution, and is performed three times in a natural precipitation method using ethanol.
이렇게 수세가 이루어진 상태에서, 에탄올과 질화붕소 입자를 분리한다(S309).In this state of washing with water, ethanol and boron nitride particles are separated (S309).
에탄올과 질화붕소 입자의 분리는 원심분리를 통해 분리할 수 있으며, 본 실시예에서, 4500rpm으로 약 5분간 수행할 수 있다.Separation of ethanol and boron nitride particles may be performed through centrifugation, and in this embodiment, may be performed at 4500 rpm for about 5 minutes.
에탄올에서 분리된 질화붕소 입자를 건조한다(S311).The boron nitride particles separated from ethanol are dried (S311).
질화붕소 입자의 건조는, 약 80℃의 온도로 가열된 진공 오븐에서 약 12시간 동안 이루어질 수 있다.The boron nitride particles may be dried in a vacuum oven heated to a temperature of about 80° C. for about 12 hours.
이렇게 포화지방산으로 코팅이 이루어진 질화붕소 입자를 이용하여 질화붕소 조성물을 제조할 수 있다.Thus, a boron nitride composition can be prepared using the boron nitride particles coated with the saturated fatty acid.
그리고 도 4를 참조하여 불포화지방산을 질화붕소 입자에 코팅하여 산도 처리하는 것에 대해 설명한다.And with reference to FIG. 4, the acidity treatment by coating the unsaturated fatty acid on the boron nitride particles will be described.
질화붕소 입자에 불포화지방산을 코팅하여 산도 처리를 하기 위해 에탄올 및 불포화지방산을 혼합한다(S401).The boron nitride particles are coated with unsaturated fatty acid to mix ethanol and unsaturated fatty acid for acidity treatment (S401).
본 단계에서, 에탄올에 불포화지방산을 혼합하는데, 불포화지방산은 리놀레산(linoleic acid) 또는 올레산(oleic acid)이 이용될 수 있다. 이때, 불포화지방산은 산도 처리하고자 하는 질화붕소 입자의 중량 대비 약 3%를 투입한다. 예컨대, 질화붕소 입자 300g에 대해 불포화지방산을 코팅하는 경우, 에탄올 1kg에 불포화지방산 9g을 투입한다.In this step, the unsaturated fatty acid is mixed with ethanol, and the unsaturated fatty acid may be linoleic acid or oleic acid. At this time, about 3% of the unsaturated fatty acid is added based on the weight of the boron nitride particles to be treated with acidity. For example, when the unsaturated fatty acid is coated on 300 g of boron nitride particles, 9 g of the unsaturated fatty acid is added to 1 kg of ethanol.
에탄올 및 불포화지방산을 혼합한 상태에서, 혼합액에 대한 교반을 수행한다(S403).In a state in which ethanol and unsaturated fatty acid are mixed, the mixture is stirred (S403).
혼합에 대한 교반은 예컨대, 600rpm으로 약 10분 동안 수행될 수 있다. 이때, 본 단계에서, 교반은 초음파 처리가 에탄올과 불포화지방산이 혼합된 혼합액이 용액 상태이므로 수행하지 않은 상태에서 이루어질 수 있다.Agitation for mixing may be performed, for example, at 600 rpm for about 10 minutes. At this time, in this step, agitation may be performed in a state in which ultrasonication is not performed because the mixed solution in which ethanol and unsaturated fatty acid are mixed is in a solution state.
불포화지방산과 에탄올이 혼합된 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하고, 교반한다(S405).Boron nitride particles are added to the mixed solution in which the unsaturated fatty acid and ethanol are mixed, and the mixture is stirred (S405).
불포화지방산이 완전히 용해된 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하고, 교반을 수행하는데, 본 실시예에서, 교반은 약 600rpm으로 약 3시간 동안 임펠라가 이용되어 교반될 수 있다. 이때, 투입되는 질화붕소 입자는 약 300g일 수 있다(에탄올 1kg 및 불포화지방산 9g).Boron nitride particles are added to the mixed solution in which the unsaturated fatty acid is completely dissolved, and stirring is performed. In this embodiment, the stirring may be performed using an impeller at about 600 rpm for about 3 hours. At this time, the amount of boron nitride particles to be added may be about 300 g (1 kg of ethanol and 9 g of unsaturated fatty acid).
본 단계에서, 교반이 이루어짐에 따라 불포화지방산이 혼합된 에탄올이 질화붕소 입자의 표면에 코팅될 수 있다.In this step, ethanol mixed with unsaturated fatty acids may be coated on the surface of the boron nitride particles as stirring is performed.
상기와 같이, 질화붕소 입자가 투입되어 교반되면, 에탄올을 이용하여 수세를 수행한다(S407).As described above, when boron nitride particles are added and stirred, washing with ethanol is performed (S407).
에탄올을 이용한 수세(washing)는 별도의 에탄올을 이용하여 질화붕소 입자가 투입되어 교반된 교반액을 씻어내는 과정으로, 에탄올을 이용하여 자연 침강 방식으로 3회에 걸쳐 수행한다.Washing with ethanol is a process in which boron nitride particles are added and stirred using ethanol to wash off a stirred solution, and is performed three times in a natural precipitation method using ethanol.
이렇게 수세가 이루어진 상태에서, 에탄올과 질화붕소 입자를 분리한다(S409).In this state of washing with water, ethanol and boron nitride particles are separated (S409).
에탄올과 질화붕소 입자의 분리는 원심분리를 통해 분리할 수 있으며, 본 실시예에서, 4500rpm으로 약 5분간 수행할 수 있다.Separation of ethanol and boron nitride particles may be performed through centrifugation, and in this embodiment, may be performed at 4500 rpm for about 5 minutes.
에탄올에서 분리된 질화붕소 입자를 건조한다(S411).The boron nitride particles separated from ethanol are dried (S411).
질화붕소 입자의 건조는, 약 80℃의 온도로 가열된 진공 오븐에서 약 12시간 동안 이루어질 수 있다.The boron nitride particles may be dried in a vacuum oven heated to a temperature of about 80° C. for about 12 hours.
이렇게 불포화지방산으로 코팅이 이루어진 질화붕소 입자를 이용하여 질화붕소 조성물을 제조할 수 있다.Thus, a boron nitride composition can be prepared using the boron nitride particles coated with the unsaturated fatty acid.
이렇게 질화붕소 입자의 산도 조절이 완료되면, 다시 도 1에 도시된 바와 같이, 방열 페이스트인 질화붕소 조성물을 제조한다(S105).When the acidity control of the boron nitride particles is completed in this way, as shown in FIG. 1 again, a boron nitride composition as a heat dissipation paste is prepared (S105).
질화붕소 조성물은 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 혼합하여 제조하며, 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 고르게 분산시켜 제조할 수 있다. 이때, 본 실시예에서, 마이크로 사이즈를 가지는 질화붕소 입자만으로 제조할 수 있고, 또는 나노 사이즈를 가지는 질화붕소 입자만으로 제조할 수 있다. 동일한 사이즈의 질화붕소 입자를 사용하더라도 표면처리를 통해 분산력이 높아 고분자 매트릭스에 고르게 분산될 수 있다.The boron nitride composition may be prepared by mixing boron nitride particles in a polymer matrix, and may be prepared by evenly dispersing the boron nitride particles in the polymer matrix. At this time, in this embodiment, it may be prepared only with boron nitride particles having a micro size, or may be prepared only with boron nitride particles having a nano size. Even if boron nitride particles of the same size are used, they can be uniformly dispersed in the polymer matrix due to their high dispersibility through surface treatment.
본 실시예에서, 고분자 매트릭스는, 폴리에스터, 아크릴, 고무, 에폭시 및 실리콘수지 중 어느 하나를 포함할 수 있다.In this embodiment, the polymer matrix may include any one of polyester, acrylic, rubber, epoxy, and silicone resin.
그리고 본 단계에서, 표면처리 및 산도 조절이 완료된 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 혼합할 때, 점도 조절을 위해 용제가 혼합될 수 있다. 이때, 본 실시예에서, 이용되는 용제는 GME(propylene glycol methyl ether), PGMEA(propylene glycol methyl ether acetate), ECA(ethyl carbitol acetate), BCA(butyl carbitol acetate), ECea(ethyl cellosolve acetate) 및 BCeA(butyl cellosolve acetate) 중 어느 하나일 수 있다.And in this step, when mixing the boron nitride particles with the surface treatment and acidity control completed to the polymer matrix, a solvent may be mixed to control the viscosity. At this time, in this embodiment, the solvent used is propylene glycol methyl ether (GME), propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA), ethyl carbitol acetate (ECA), butyl carbitol acetate (BCA), ethyl cellosolve acetate (ECea), and BCeA. (butyl cellosolve acetate) may be any one.
이렇게 질화붕소 입자를 이용하여 방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트를 제조하면, 질화붕소의 입자의 방열 특성으로 인해, 방열 특성이 높은 방열 페이스트를 제조할 수 있다.When a paste having heat dissipation and insulation properties is prepared using the boron nitride particles in this way, a heat dissipation paste having high heat dissipation properties can be manufactured due to the heat dissipation properties of the boron nitride particles.
상기와 같이, 제조된 방열 페이스트는, 고분자 매트릭스에 질화분자 입자들이 고르게 분포된 상태로 제조된다. 이때, 질화분자 입자들은, 표면처리 및 산도 처리가 완료된 제1 질화분자 입자와 표면처리 및 산도 처리가 이루어지지 않은 제2 질화분자 입자들일 수 있다. 또는, 경우에 따라 제1 질화분자 입자들만 고분자 매트릭스에 분포될 수도 있다.As described above, the prepared heat dissipation paste is prepared in a state in which nitride molecular particles are evenly distributed in a polymer matrix. In this case, the molecular nitride particles may be first molecular nitride particles on which surface treatment and acidity treatment have been completed, and second molecular nitride molecules on which surface treatment and acidity treatment have not been performed. Alternatively, in some cases, only the first nitride molecule particles may be distributed in the polymer matrix.
제1 질화분자 입자들이 표면처리가 이루어짐에 따라 질화분자 입자와 고분자 매트릭스의 친화력이 높아져 제1 질화분자 입자들이 고분자 매트릭스 내에서 분산성이 향상될 수 있다. 또한, 제1 질화분자 입자들에 산도 처리가 이루어짐에 따라 표면처리가 되지 않은 제2 질화분자 입자들과 분리되지 않을 수 있다. 따라서 제1 질화분자 입자들과 제2 질화분자 입자들을 함께 고분자 매트릭스에 혼합하더라도 고르게 분사될 수 있어 질화분자 입자들의 방열 특성이 효과적으로 구현될 수 있다.As the first molecular nitride particles are surface-treated, the affinity between the nitride molecular particles and the polymer matrix increases, so that the dispersibility of the first nitride molecular particles in the polymer matrix may be improved. In addition, since the first molecular nitride particles are subjected to acidity treatment, they may not be separated from the second molecular nitride particles that have not been subjected to surface treatment. Therefore, even if the first molecular nitride particles and the second molecular nitride particles are mixed together in the polymer matrix, they can be evenly sprayed, so that the heat dissipation characteristics of the nitride molecular particles can be effectively realized.
위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이므로, 본 발명이 상기 실시예에만 국한되는 것으로 이해돼서는 안 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어야 할 것이다.As described above, the detailed description of the present invention has been made by the embodiments with reference to the accompanying drawings, but since the above-described embodiments have only been described with preferred examples of the present invention, the present invention is limited only to the above embodiments. It should not be understood, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalents.
Claims (18)
표면 처리된 상기 질화붕소 입자의 산도를 포화지방산(stearic acid) 또는 불포화지방산(oleic acid)을 상기 질화붕소 입자에 코팅하여 조절하는 단계; 및
산도가 조절된 상기 질화붕소 입자를 고분자 매트릭스에 분산하여 혼합하는 단계를 포함하고,
상기 질화붕소 입자의 표면을 처리 단계는, 상기 고분자 매트릭스에 상기 질화붕소 입자의 분산성을 높이기 위해 상기 고분자 매트릭스와의 표면 친화력를 높이는 단계이며,
상기 커플링제는, 상기 질화붕소 입자 대비 1wt% 내지 5wt%가 이용되는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.bonding the boron nitride particles to each other by treating the surface of the boron nitride particles with a coupling agent;
adjusting the acidity of the surface-treated boron nitride particles by coating the boron nitride particles with saturated fatty acid or unsaturated fatty acid; and
Dispersing and mixing the boron nitride particles whose acidity is controlled in a polymer matrix,
The step of treating the surface of the boron nitride particles is a step of increasing the surface affinity with the polymer matrix in order to increase the dispersibility of the boron nitride particles in the polymer matrix,
The coupling agent is used in an amount of 1 wt% to 5 wt% compared to the boron nitride particles,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 질화붕소 표면 처리 단계는,
상기 질화붕소 입자의 반응 사이트(site)를 위해 하소(calcination)하는 단계;
표면처리제와 상기 질화붕소 입자를 용매와 혼합하여 혼합액을 생성하고 제1 교반하는 단계;
상기 혼합액에 촉매를 첨가하고 제2 교반을 수행하는 단계; 및
상기 제2 교반이 완료된 이후에 건조하는 단계를 포함하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The boron nitride surface treatment step,
calcining for a reaction site of the boron nitride particles;
mixing the surface treatment agent and the boron nitride particles with a solvent to form a mixed solution and first stirring;
adding a catalyst to the mixed solution and performing a second stirring; and
Comprising the step of drying after the second stirring is completed,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 제2 교반을 수행하는 단계는, 상기 혼합액에 촉매를 첨가한 상태에서 초음파 처리를 한 이후에 마그네틱 교반을 수행하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.3. The method of claim 2,
In the step of performing the second stirring, magnetic stirring is performed after ultrasonication is performed in a state in which the catalyst is added to the mixed solution,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 표면처리제는, (3-글리시딜옥시프로필기)트리메톡시실란((3-Glycidyloxypropyl)trimethoxysilane), (3-글리시딜옥시프로필기)트리에톡시실란((3-Glycidyloxypropyl)triethoxysilane), 디에톡시(3-글리시딜옥시프로필기)메틸실란(Diethoxy(3-glycidyloxypropyl)methylsilane) 및 3-글리시독시프로필디메톡메틸실란(3-Glycidoxypropyldimethoxymethylsilane) 중 어느 하나 이상인,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.3. The method of claim 2,
The surface treatment agent, (3-glycidyloxypropyl group) trimethoxysilane ((3-Glycidyloxypropyl) trimethoxysilane), (3-glycidyloxypropyl group) triethoxysilane ((3-Glycidyloxypropyl) triethoxysilane) , diethoxy (3-glycidyloxypropyl group) methylsilane (Diethoxy (3-glycidyloxypropyl) methylsilane) and 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane (3-Glycidoxypropyldimethoxymethylsilane) at least one,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 용매는 DI 워터(Deionized Water) 및 에탄올의 혼합액이며,
상기 DI 워터(Deionized Water) 및 에탄올의 혼합비는 상기 표면처리제의 함량에 따라 결정되는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.3. The method of claim 2,
The solvent is a mixture of DI water (Deionized Water) and ethanol,
The mixing ratio of the DI water (Deionized Water) and ethanol is determined according to the content of the surface treatment agent,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 포화지방산 코팅하는 단계는,
에탄올 및 포화지방산을 혼합하여 혼합액을 생성하는 단계;
상기 혼합액을 교반하는 단계;
상기 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하여 교반하는 단계;
교반된 상기 혼합액을 에탄올을 이용하여 수세하는 단계;
에탄올에서 질화붕소 입자를 분리하는 단계; 및
분리된 질화붕소 입자를 건조하는 단계를 포함하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The step of coating the saturated fatty acid,
mixing ethanol and saturated fatty acid to produce a mixed solution;
stirring the mixture;
adding boron nitride particles to the mixed solution and stirring;
washing the stirred mixture with water using ethanol;
separating the boron nitride particles from ethanol; and
comprising the step of drying the separated boron nitride particles,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 포화지방산은 투입하는 상기 질화붕소 입자의 중량에 대비하여 2% 내지 4%의 중량을 에탄올에 혼합하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.8. The method of claim 7,
The saturated fatty acid is mixed with ethanol in an amount of 2% to 4% by weight relative to the weight of the boron nitride particles to be added,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 혼합액을 교반하는 단계는, 초음파 처리가 함께 이루어지는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.8. The method of claim 7,
The step of stirring the mixed solution is made together with ultrasonic treatment,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 포화지방산은 스테아린산(stearic acid)인,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.8. The method of claim 7,
The saturated fatty acid is stearic acid,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 불포화지방산 코팅하는 단계는,
에탄올 및 불포화지방산을 혼합하여 혼합액을 생성하는 단계;
상기 혼합액을 교반하는 단계;
상기 혼합액에 질화붕소 입자를 투입하여 교반하는 단계;
교반된 상기 혼합액을 에탄올을 이용하여 수세하는 단계;
에탄올에서 질화붕소 입자를 분리하는 단계; 및
분리된 질화붕소 입자를 건조하는 단계를 포함하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The step of coating the unsaturated fatty acid,
mixing ethanol and unsaturated fatty acids to produce a mixed solution;
stirring the mixture;
adding boron nitride particles to the mixed solution and stirring;
washing the stirred mixture with water using ethanol;
separating the boron nitride particles from ethanol; and
comprising the step of drying the separated boron nitride particles,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 불포화지방산은 투입하는 상기 질화붕소 입자의 중량에 대비하여 2% 내지 4%의 중량을 에탄올에 혼합하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.13. The method of claim 12,
The unsaturated fatty acid is mixed with ethanol in a weight of 2% to 4% with respect to the weight of the boron nitride particles to be added,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 불포화지방산은, 리놀레산(linoleic acid) 및 올레산(oleic acid) 중 어느 하나인,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The unsaturated fatty acid is any one of linoleic acid and oleic acid,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 고분자 매트릭스는, 폴리에스터, 아크릴, 고무, 에폭시 및 실리콘수지 중 어느 하나인,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The polymer matrix is any one of polyester, acrylic, rubber, epoxy and silicone resin,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 질화붕소 입자를 상기 고분자 매트릭스에 혼합하는 단계는, 점도 조절을 위해 용제를 첨가하는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
The step of mixing the boron nitride particles into the polymer matrix, adding a solvent to control the viscosity,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 용제는, PGME(propylene glycol methyl ether), PGMEA(propylene glycol methyl ether acetate), ECA(ethyl carbitol acetate), BCA(butyl carbitol acetate), ECea(ethyl cellosolve acetate) 및 BCeA(butyl cellosolve acetate) 중 어느 하나인,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.17. The method of claim 16,
The solvent is any one of propylene glycol methyl ether (PGME), propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA), ethyl carbitol acetate (ECA), butyl carbitol acetate (BCA), ethyl cellosolve acetate (ECea), and butyl cellosolve acetate (BCeA). one,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
상기 질화붕소 입자를 상기 고분자 매트릭스에 혼합하는 단계는, 표면 처리된 질화붕소 입자와 표면 처리되지 않은 질화붕소 입자가 혼합되어 상기 고분자 매트릭스에 분산되어 혼합되는,
방열 및 절연 특성을 갖는 페이스트 제조 방법.The method of claim 1,
In the step of mixing the boron nitride particles into the polymer matrix, the surface-treated boron nitride particles and the non-surface-treated boron nitride particles are mixed and dispersed and mixed in the polymer matrix,
A method for producing a paste having heat dissipation and insulating properties.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200004465A KR102291138B1 (en) | 2020-01-13 | 2020-01-13 | Manufacturing method paste having heat radiation and insulation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200004465A KR102291138B1 (en) | 2020-01-13 | 2020-01-13 | Manufacturing method paste having heat radiation and insulation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20210091405A KR20210091405A (en) | 2021-07-22 |
| KR102291138B1 true KR102291138B1 (en) | 2021-08-23 |
Family
ID=77158097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200004465A KR102291138B1 (en) | 2020-01-13 | 2020-01-13 | Manufacturing method paste having heat radiation and insulation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102291138B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023090241A1 (en) * | 2021-11-17 | 2023-05-25 | デンカ株式会社 | Inorganic filler and heat dissipation member |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010013580A (en) | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Toyota Industries Corp | High-thermal conductivity composite and method for producing the same |
| JP2013256621A (en) | 2012-06-14 | 2013-12-26 | Toyota Motor Corp | Boron nitride-coated polymeric resin and method for production thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102015913B (en) * | 2008-04-25 | 2013-09-25 | 3M创新有限公司 | Process for the surface modification of particles |
| KR101590233B1 (en) | 2013-12-18 | 2016-02-02 | (주)삼양세라텍 | Heat radiating sheet containg boron nitride and namufacturing method thereof |
| US20160096967A1 (en) * | 2014-10-03 | 2016-04-07 | C3Nano Inc. | Property enhancing fillers for transparent coatings and transparent conductive films |
| KR101782231B1 (en) * | 2015-12-31 | 2017-09-26 | 동의대학교 산학협력단 | Coating composition for radiant heat having improved heat radiation property and surface hardness, preparation method thereof, and heat radiating coating comprising the same |
-
2020
- 2020-01-13 KR KR1020200004465A patent/KR102291138B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010013580A (en) | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Toyota Industries Corp | High-thermal conductivity composite and method for producing the same |
| JP2013256621A (en) | 2012-06-14 | 2013-12-26 | Toyota Motor Corp | Boron nitride-coated polymeric resin and method for production thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20210091405A (en) | 2021-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Huang et al. | Role of interface in highly filled epoxy/BaTiO 3 nanocomposites. Part I-correlation between nanoparticle surface chemistry and nanocomposite dielectric property | |
| JP5163821B1 (en) | Coated magnesium oxide particles, method for producing the same, heat-dissipating filler and resin composition | |
| CN107736085B (en) | High-frequency electromagnetic interferes (EMI) composite material | |
| KR102291138B1 (en) | Manufacturing method paste having heat radiation and insulation | |
| CN108475552B (en) | Composites for high frequency electromagnetic interference (EMI) applications | |
| CN110938238A (en) | Filler for electronic material and method for producing same, method for producing resin composition, substrate for high frequency, and paste for electronic material | |
| JP6892639B2 (en) | Silane-treated forsterite fine particles and a method for producing the same, and an organic solvent dispersion of the silane-treated forsterite fine particles and a method for producing the same. | |
| JP5374343B2 (en) | Core-shell particle and method for producing core-shell particle | |
| Saidina et al. | Dielectric and thermal properties of CCTO/epoxy composites for embedded capacitor applications: mixing and fabrication methods | |
| CN113201104B (en) | Low-dielectric-constant cage polysilsesquioxane/epoxy resin nanocomposite and preparation method thereof | |
| JPWO2015137263A1 (en) | Aluminum nitride powder with excellent water resistance | |
| KR20220054333A (en) | Thermally conductive fillers and methods for their preparation | |
| CN105885386B (en) | A kind of low-k POSS/ compound polyurethane material film and preparation method thereof | |
| WO2017026428A1 (en) | Insulated coated carbon fiber, method for manufacturing insulated coated carbon fiber, carbon-fiber-containing composition, and heat-conducting sheet | |
| JP7257384B2 (en) | Powder composed of organic-inorganic composite particles | |
| Nisha et al. | Effect of 4-Aminobutyltriethoxysilane Modified Al 2 O 3 Nanoparticles on the Dielectric Properties of Epoxy Nanocomposites for High Voltage Applications | |
| KR102126126B1 (en) | Method for nano coating an inorganic filler and thermal dissipation composite material and sheet using the inorganic filler prepared therefrom | |
| Park et al. | Electrical and mechanical properties of SiR/Nano-silica/Micro-SiC Composites | |
| JP2006036922A (en) | Property regulating agent for resin and property regulated resin composition produced by using the same | |
| CN111410770A (en) | Nano gamma-alumina loaded carbon nanotube, preparation method and high-thermal-conductivity electrical-insulation elastomer thermal interface material | |
| KR20180028206A (en) | Surface modified thermal conductive material and method for manufacturing composite of high thermal conductivity using the same | |
| JP2010280924A (en) | Characteristic adjusting agent for resin and resin composition having been characteristic adjusted using the same | |
| TW202328380A (en) | Paste resin composition, high thermal conductivity material, and semiconductor device | |
| TW202227462A (en) | Slurry composition and preparation method thereof | |
| KR20220103097A (en) | Method for manufacturing silicon substrate or silicon-composite substrate, silicon substrate or silicon-composite substrate produced by the method, and uses thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right |