KR102251672B1 - 강성이 보강된 보트 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 양측면에 강성 보강 조립체를 마련하여 강성을 보강시킨 보트 장치에 관한 것이다.
본 발명은 양 측면에 형성되고 기판이 적층되게 하는 복수의 플레이트를 지지하는 서포트; 강성이 보강되고 절연성을 가지도록 상기 서포트에 마련되는 강성 보강 조립체를 포함하는 보트 장치가 제공될 수 있다.
본 발명은 양 측면에 형성되고 기판이 적층되게 하는 복수의 플레이트를 지지하는 서포트; 강성이 보강되고 절연성을 가지도록 상기 서포트에 마련되는 강성 보강 조립체를 포함하는 보트 장치가 제공될 수 있다.
Description
본 발명은 양측면에 강성 보강 조립체를 마련하여 강성을 보강시킨 보트 장치에 관한 것이다.
솔라셀 제조 장치는 다수의 기판을 챔버 내에 투입하고 PECVD 등의 플라즈마 공정을 거쳐 기판에 P-N 접합을 형성하는 것이다.
보트 장치는 챔버 내에서 솔라셀 기판을 지지할 수 있다.
챔버 내에 ICP 방식 또는 CCP 방식의 플라즈마를 형성하거나 기판을 보트 장치에 정전기적으로 척킹(chucking)하는 등의 목적을 위하여 보트 장치에 전기를 인가하고 기판을 지지할 수 있다.
이때, 보트 장치에 전기적 쇼트가 발생하면 플라즈마 형성에 불량이 발생하거나 기판 박막 형성에 불량이 발생할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 솔라셀 제조 장치의 보트 장치에 있어서, 챔버 내부의 플라즈마 형성시 보트 장치의 전기적 쇼트로 인하여 기판 박막 불량이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 양측면에 마련되는 강성 보강 조립체에 의해 강성이 보강된 보트 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 해결 수단은 양 측면에 형성되고 기판이 적층되게 하는 복수의 플레이트를 지지하는 서포트; 강성이 보강되고 절연성을 가지도록 상기 서포트에 마련되는 강성 보강 조립체를 포함하는 보트 장치가 제공될 수 있다.
이와 같이, 본 발명은 챔버 내부에 배치 타입 보트 장치가 위치하고, 보트 장치의 플레이트 사이에 각각의 기판이 안착될 수 있으며, 챔버의 내부에 가스가 투입되고, 플레이트간 플라즈마가 유지된 상태에서 플레이트에 안착된 기판에 원하는 막질을 증착하는데, 이때 전도성 막을 증착시 보트 전체가 증착될 수 있어 플레이트간에 절연을 유지시켜주는 부재로서 절연 스페이서가 마련되지만, 절연 스페이서의 외부에 전도성 막이 증착되기 때문에 통전이 이루어져서 정상적인 플라즈마 방전이 불가능해질 수 있다.
한편, 플레이트 사이에 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 플라즈마가 기판에 집중되지 않고 플레이트의 연결 부위에 해당하는 절연 스페이서에 집중되면 기판에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다.
또한, 플라즈마 형성을 위하여 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 인가되는 전류가 플레이트의 절연 스페이서에서 차단되지 않고 절연 스페이서가 쇼트되어 제1 플레이트 및 제2 플레이트에 전기 통로가 형성되면 플라즈마 품질이 문제될 수 있고 아크 발생(arcing) 원인이 될 수 있다.
본 발명은 보트 장치 내에서 플레이트 연결 부위에 위치한 절연 스페이서에 박막이 증착되는 현상을 억제할 수 있다. 절연 스페이서에 증착되는 원하지 않는 박막으로 인하여 인접한 두 플레이트가 전기적으로 쇼트(short)되는 현상을 억제할 수 있다. 박막으로 인해 절연 스페이서의 쇼트가 발생하지 않도록 할 수 있고, 절연부의 쇼트로 인하여 서로 다른 극성을 가지는 한쪽 플레이트로부터 다른쪽 플레이트로 전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다. 절연 스페이서의 쇼트로 인하여 절연 스페이서에서 플라즈마 불량이 발생하거나 아크가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다. 기판에 증착되는 박막의 균일도 향상 및 품질 개선이 가능하고, 아킹이 억제되어 장비 신뢰성이 향상될 수 있다.
본 발명은 보트 장치의 양측면에 강성 보강 조립체를 마련하여 보트 장치가 보다 견고한 상태를 유지할 수 있다.
본 발명은 강성 보강 조립체는 절연성을 가지는 결착 부재, 결착 부재의 외주면에서 삽입되고, 서로 다른 극성을 가지는 플레이트를 연결하는 제1 지지 부재, 제1 지지 부재의 외주면에 삽입되고 절연성을 가지는 제2 지지 부재로 이루어질 수 있고, 제1 지지 부재를 통해 견고한 지지 상태를 유지할 수 있으며, 제2 지지 부재를 통해 서로 다른 극성의 플레이트간의 통전이 이루어지지 않도록 함으로써, 챔버내에서 기판의 증착 공정시 정상적인 플라즈마 방전이 형성될 수 있고, 그에 따라 최적의 증착 공정이 수행될 수 있다.
본 발명의 강성 보강 조립체는 원통형으로 형성되어서 챔버내에서 기판의 처이 공정시, 공정 처리 가스의 흐름에 방해를 주지 않고 원활한 흐름 상태를 구현할 수 있고, 그에 따라 공정의 균일도, 아킹 현상, 이상 방전 등을 방지하여 양호한 기판 처리가 가능할 수 있다.
또한, 본 발명은 적절한 갯수의 강성 보강 조립체를 마련할 수 있고, 이러한 설치 구조에 의해 공정 처리 가스의 유동시 간섭이 최소화될 수 있어 양호한 처리 공정이 가능하며, 이와 동시에 보트 장치의 구조적 강성은 유지할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 보트 장치의 일면을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 보트 장치에 마련되는 전극 플레이트부의 배치 구조를 나타낸 일부 확대 사시도이다.
도 4는 도 2의 A부 확대 사시도이다.
도 5는 본 발명의 분리된 전극 플레이트의 배치 구조를 나타낸 개략도이다.
도 6은 도 3과 다른 측면에서의 도시한 본 발명 보트 장치의 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명의 보트 장치의 정면도이다.
도 8은 본 발명의 강성 보강 조립체의 결합 단면도이다.
도 9는 본 발명의 강성 보강 조립체의 사이로 공정 처리 가스가 통과하는 모습을 나타낸 개략적인 평면도이다.
도 2는 보트 장치의 일면을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 보트 장치에 마련되는 전극 플레이트부의 배치 구조를 나타낸 일부 확대 사시도이다.
도 4는 도 2의 A부 확대 사시도이다.
도 5는 본 발명의 분리된 전극 플레이트의 배치 구조를 나타낸 개략도이다.
도 6은 도 3과 다른 측면에서의 도시한 본 발명 보트 장치의 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명의 보트 장치의 정면도이다.
도 8은 본 발명의 강성 보강 조립체의 결합 단면도이다.
도 9는 본 발명의 강성 보강 조립체의 사이로 공정 처리 가스가 통과하는 모습을 나타낸 개략적인 평면도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 첨부된 예시 도면에 의거 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 보트 장치가 설치되는 솔라셀 제조 장치를 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 반응 가스나 불활성 가스를 챔버(210) 내에 투입하는 노즐부(214)가 마련된다. 일정한 반응 온도나 압력을 유지하는 챔버(210) 내에 각 공정별로 다양한 종류의 반응 가스나 불활성 가스가 노즐부(214)를 통하여 투입될 수 있다. 반응 가스나 불활성 가스의 종류에 따라 챔버(210) 내부에서 기판(100)에 도핑층, 패시베이션층, 캡핑층, 반사 방지층 등이 증착될 수 있다.
복수의 기판(100)을 한꺼번에 가공하는 것이 생산성 향상에 유리하므로, 다수의 기판(100)이 보트 장치(220)에 의하여 한꺼번에 투입될 수 있다. 챔버(210)에는 기판(100)이 적재된 보트(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 투입되고, 챔버(210)의 내부 또는 외부에는 챔버(210)에 열을 공급하는 히터(205)가 설치될 수 있다.
챔버(210) 내에서 플라즈마 공정 뿐만 아니라 열처리 공정도 수행될 수 있다. 예를 들면 PDA(Post-deposition annealing) 공정 수행을 위하여 일정한 온도로 유지되는 챔버(210)의 내부에 노즐부(214)는 산화제, 반응 가스 등을 분사할 수 있다. 챔버(210) 내부의 산화제 분위기에서 챔버(210) 내부의 온도를 200 ~ 500℃로 유지하며 열처리 공정을 수행할 수 있다.
도 2는 본 발명의 보트 장치(220)를 도시한 사시도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 전극 플레이트(221)는 서로 간격을 두고 마련되는 여러 개의 플레이트로서, 예를 들어 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)를 포함할 수 있다.
각 플레이트 사이의 빈 틈에 기판(100)이 착탈될 수 있다. 기판(100)은 플레이트와 플레이트 사이에 여러 개가 장착될 수 있으며, 하나의 플레이트의 길이 방향을 따라 여러 개가 장착될 수 있다.
전극 플레이트(221)는 복수의 기판(100)이 적재된 상태로 챔버(210)의 내부 또는 외부로 이동될 수 있다. 보트 장치(220)가 챔버 입구(211)를 통하여 외부로 인출된 상태에서 가공 완료된 기판(100)이 언로딩되거나 새로운 기판(100)이 챔버안으로 로딩될 수 있다.
보트 장치(220)는 복수의 기판(100)을 적재한 상태로 챔버(210) 내에 투입될 수 있다. 챔버(210) 내에 플라즈마가 형성되면 보트 장치(220)에 적재된 복수의 기판(100)이 한꺼번에 가공된다.
제1 플레이트(221a) 및 제2 플레이트(221b)가 적층되는 전극 플레이트(221)의 가로 방향을 제1 방향이라 정의하고, 제1 플레이트(221a) 또는 제2 플레이트(221b)가 연장되는 전극 플레이트(221)의 길이 방향을 제2 방향이라 정의한다. 기판(100)은 각각의 플레이트의 길이 방향인 제2 방향을 따라 복수 개가 적재되며, 플레이트의 갯수에 대응되는 제2 방향을 따라 복수 개가 적재된다. 복수의 기판(100)은 한번에 챔버(210)에 투입되어 한번에 가공될 수 있다.
각각의 플레이트는 각 플레이트를 부분적으로 천공한 플레이트 포켓을 구비하며, 플레이트 포켓을 통하여 노출된 기판(100)은 플라즈마 또는 반응 가스와 대면되고 가공이 이루어진다.
솔라셀 제조 장치를 구현하기 위해서 챔버(210)는 열처리를 수행하는 퍼니스(furnace)가 될 수 있다. 챔버(210)가 도 1과 같이 수평으로 길게 연장되는 포리젠털 퍼니스(horizontal furnace)의 경우 플라즈마 형성 전원을 기판(100)에 인가하기 위하여 전도성 물체인 그라파이트 재질의 핀을 이용하여 플라즈마 전원 공급 및 기판(100) 지지하는 홀더로 사용할 수 있다.
한편, 기판(100)에 인가하는 플라즈마의 전원이 비대칭적으로 공급되는 경우, 플라즈마 파워의 특정 지역으로의 쏠림이 발생될 수 있고, 이로 인해 박막의 두께가 국부적으로 증가하는 불량이 발생할 수 있으며, 양산시 균일한 박막 두께 제어가 어려운 문제가 발생할 수 있다.
본 발명은 플라즈마 밀도가 챔버(210) 내에서 균일하게 형성되게 하여 박막 균일도를 개선하고, 추가되는 부품없이 보트 장치(220) 내에서 플레이트의 간격을 균일하게 유지하는 구조를 채용하여 품질 향상과 원가 절감을 도모할 수 있다.
복수의 기판(100)을 한꺼번에 챔버(210)에 출입시키는 배치(batch) 방식으로 기판(100)을 이송하거나, 기판(100)에 대하여 플라즈마를 유도할 수 있는 전극의 역할을 하는 보트 장치(220)에 있어서, 기판(100)의 외곽에 접촉되는 핀 구조물은 플레이트보다 돌출될 수 있다.
일 실시 예로서, 플레이트 자체가 전극이 되거나 핀 보다 낮은 전극이 보트 장치(220)에 설치되는 경우, 기판(100)을 지지하는 핀 구조물은 플레이트나 전극보다 돌출될 수 있다. 따라서, 보트 장치(220)에서, 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀이 플레이트나 전극보다 돌출되면, 전극간 거리보다 핀 사이의 거리가 상대적으로 더 가까와질 수 있다.
이러한 구조는 플라즈마 발생시 거리가 가까운 부분으로 플라즈마가 집중되는 현상을 고려하면, 기판(100)에 박막 증착시 두께 균일도 저하와 증착막의 품질을 떨어뜨릴 수 있다. 또한, 플라즈마 형성을 위한 전류가 기판(100)의 지지 구조물에 해당하는 핀에 집중되기 때문에 아크 발생(arcing) 원인이 된다.
따라서, 본 발명은 보트 장치(220) 내에서 기판(100)의 지지 구조물인 핀을 지그재그로 배치하여 지지 구조물끼리의 거리를 전극간 거리보다 멀리함으로써, 플라즈마 집중 현상 및 아킹(arcing) 발생을 억제할 수 있다.
보트 장치(220)는 전극 역할을 하는 플레이트를 구비하고, 플레이트에 기판(100)을 고정하는 지지 구조물인 핀이 지그재그 구조로 배치될 수 있다. 핀은 기판(100)을 플레이트의 전극면에 고정하거나, 플레이트에 인가된 전원을 기판(100)에 전달하는 기능을 할 수 있다.
도 3은 본 발명의 보트 장치에 마련되는 전극 플레이트부의 배치 구조를 나타낸 일부 확대 사시도, 도 4는 도 3의 A부 확대 사시도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 절연성을 가지는 체결 부재(300)의 외주면에는 길이 방향을 따라 간격을 두고 전극 플레이트(221)가 복수로 마련될 수 있다.
절연성을 가지는 체결 부재(300)는 예를 들어 세라믹재로 구성될 수 있다.
전극 플레이트(221)의 설치 구조에 대하여 보다 구체적으로 설명하면, 체결 부재(300)의 외주면에 동일 극성을 가지고 간격을 두고 복수로 결합되는 플레이트인 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)를 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)의 사이에 해당하는 체결 부재(300)의 외주면에는 절연 스페이서(310)가 각각 결합되어 절연이 이루어짐과 동시에 플레이트간의 간격이 유지되게 할 수 있다.
제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)의 하부측 사이에는 이격되어 갭(G)이 형성되면서 다른 극성을 가지는 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(231)가 갖추어질 수 있다.
다시 말해서, 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b) 및 제3 플레이트(221c)는 모두 (+) 극성을 가지는 경우, 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(231)는 (-) 극성을 가질 수 있다.
본 발명은 전극 플레이트(221)을 구성하는 플레이트의 배치시, 서로 극성이 다른 플레이트를 교대로 설치하고, 이때, 극성중 어느 하나의 극성(예를 들어 (+) 극성)을 가지는 플레이트는 체결 부재(300)에 결합시키며, 다른 하나의 극성(예를 들어 (-) 극성)을 가지는 플레이트는 체결 부재(300)와 직접 결합하지 않고 갭(G)을 두고 분리형으로 지지되게 할 수 있다.
따라서, 챔버의 내부에서 기판이 증착되는 과정인 전도성 막(F) 증착시, 동일 전극이 연결되고, 서로 다른 극성간에는 갭(G)이 형성되어서 정상적인 플라즈마 방전이 이루어질 수 있다.
본 발명은 전극 플레이트간의 통전이 이루어져서 기판(100)의 박막 증착시, 플라즈마 방전이 제대로 이루어지 않는 현상을 방지하기 위해 별도의 절연 구조물을 마련하지 않고 각기 다른 극성을 가지는 플레이트를 분리되게 배치함으로써, 기판(100)의 증착 공정시 통전되는 현상을 방지할 수 있다.
챔버(210)내에서 기판(100)의 증착 공정시, 전도성 증착막이 보트 장치내에 증착되더라도 각기 (+)와 (-) 극성을 가지는 플레이트가 서로 갭(G)을 두고 분리되어서 연결되어 있으므로, 전기적 연결이 이루어지지 않아 플레이트간의 절연 파괴없이 정상적인 플라즈마 방전이 이루어질 수 있다.
도 3 및 도 6을 참조하면, 본 발명은 보트 장치(220)의 양측에는 전극 플레이트(221)를 지지하는 서포트가 마련될 수 있다.
서포트는 제1 서포트(240), 제1 서포트(240)와 간격을 두고 하부에 배치되는 제2 서포트(250)를 포함하여 구성될 수 있다.
제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)는 분할되어 조립되는 구조를 가질 수 있다.
제1 서포트(240)는 분할되어 복수로 구비되는데, 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)가 분할된 제1 서포트(240)의 사이에 끼워지면서 볼트와 같은 하나 이상의 결합 부재(500)에 의해 고정될 수 있다.
제2 서포트(250)는 제1 서포트(240)와 마찬가지로 분할되어 복수로 구비되는데, 체결 부재(300)와 갭(G)을 두고 분리된 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(231)가 볼트와 같은 결합 부재(510)에 의해 결합되어 고정될 수 있다.
제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c), 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(231)에는 각각 기판(100)이 지지되어 안착될 수 있도록 하는 복수의 지지핀(223)이 돌출되게 형성될 수 있다.
또한, 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)에는 간격을 두고 복수의 강성을 보강하기 위한 강성 보강 조립체(400)를 구비할 수 있다.
도 8을 참조하면, 강성 보강 조립체(400)는 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)에 결합되는 결착 부재(410), 결착 부재(410)의 외주면에 결합되고 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)의 간격(D)에 지지되는 제1 지지 부재(420), 제1 지지 부재(420)의 외주면에 삽입되는 제2 지지 부재(430)로 이루어질 수 있다.
도 3 또는 도 6을 참조하면, 강성 보강 조립체(400)는 원통형으로 형성될 수 있다. 보트 장치(220)가 챔버(210)안에 삽입되어서 기판(100)의 증착 공정 수행시, 화살표 방향과 같이 공정 처리 가스는 보트 장치(220)의 길이 방향을 따라 유동될 수 있다.
즉, 강성 보강 조립체(400)를 구성하는 제1 지지 부재(420)와 제2 지지 부재(430)를 원통형으로 형성할 수 있다.
따라서, 공정 처리 가스가 강성 보강 조립체(400)를 통과하는 과정에서 유체(공정 처리 가스)의 흐름에 지장을 주지 않을 수 있다. 만일, 강성 보강 조립체(400)가 각진 형태로 이루어지는 경우에는 유체의 흐름시 간섭이 많아져서 유동 상태가 좋지 않게 될 수 있고, 그에 따라 공정 처리 가스에 의한 처리 공정에 악영향을 줄 수 있기 때문에, 본 발명에서는 원통형으로 구성함으로써 공정 처리 가스의 유동 상태를 양호하게 구현할 수 있다.
결착 부재(410)는 제1 서포트(240)를 관통하고, 제2 서포트(250)에 삽입되면서 나사 결합되어 고정될 수 있다.
결착 부재(410)와 제1 지지 부재(420) 및 제2 지지 부재(430)는 절연재로 이루어질 수 있고, 예를 들어 세라믹재로 구성될 수 있다.
제1 지지 부재(420)는 부싱과 같은 형태일 수 있고, 서로 다른 전극을 가지는 서포트를 연결하며, 간격을 유지시켜주는 스페이서 역할을 담당할 수 있다.
다시 말해서, 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)는 서로 다른 극성을 가질 수 있다. 제1 서포트(240)에는 제1 플레이트(221a), 제2 플레이트(221b), 제3 플레이트(221c)가 결합되어 지지되므로 (+) 극성을 가질 수 있고, 제2 서포트(250)는 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(240)가 결합되어 지지되므로, (-) 극성을 가질 수 있다.
따라서, 제1 지지 부재(420)는 서로 다른 극성을 가지는 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)를 연결해줄 수 있다.
제1 지지 부재(420)는 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)의 간격(D) 사이에 복수로 지지되어 있으므로, 보다 강성이 증가되어 견고한 보트 장치(220)를 구현할 수 있다.
또한, 서로 다른 전극, 예를 들어 제2 플레이트(221b)와 제3 플레이트(221c)는 (+) 극성을 가지고 제1 서포트(240)에 결합되며, 제4 플레이트(230)와 제5 플레이트(231)는 (-) 극성을 가지고 제 2서포트(250)에 결합되어 있으므로, 제1 지지 부재(420)는 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)의 간격(D) 사이에서 연결시켜줄 수 있다.
제2 지지 부재(430)는 제1 지지 부재(420)를 감싸고, 절연이 이루어지게 할 수 있다.
제2 지지 부재(430)는 제1 지지 부재(420)의 길이보다 짧게 마련될 수 있고, 그에 따라 갭(G1)을 두고 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)의 사이에 구비될 수 있다.
또한, 제2 지지 부재(430)는 제1 지지 부재(420)의 외주면에 고정되게 설치될 수 있다.
만일 제2 지지 부재(430)가 제1 지지 부재(420)의 외주면에 고정되지 않는 경우에는, 보트 장치(210)의 운반 또는 공정 처리중에 제1 지지 부재(420)의 길이 방향을 따라 이동할 수 있고, 그에 따라 제1 지지 부재(420)와 제2 지지 부재(430)간의 갭(G1)이 없어져서 접촉할 수 있다. 그러면 증착 공정시 통전될 가능성이 있기 때문에, 제2 지지 부재(430)를 제1 지지 부재(420)의 외주면에 갭(G1)을 두고 고정함으로써, 증착 공정에 의해 형성되는 증착막에 의한 통전 현상을 방지할 수 있다.
도 8을 참조하면, 제2 지지 부재(430)의 하단부는 그 안으로 삽입되는 제1 지지 부재(420)의 하단부에 형성된 걸림턱이 걸리도록 결합된 구조로서, 제2 지지 부재(430)는 제1 지지 부재(420)의 길이 방향을 따라 상승되지 않고 조립된 상태를 유지할 수 있다.
따라서, 제1 지지 부재(420)에 의해 서로 다른 극성의 플레이트가 연결되더라도 절연성을 가지는 제2 지지 부재(430)에 의해 감싸져서 절연 기능을 하고, 더욱이 갭(G1)을 두고 결합되어 있으므로, 서로 다른 극성의 플레이트가 통전되지 않게 될 수 있고, 그러면 챔버(210)내에서 정상적인 기판(100)의 박막 증착 공정 수행시 정상적인 플라즈마 방전이 이루어질 수 있다.
또한, 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명은 강성 보강 조립체(400)의 설치 갯수를 도 3에 도시된 강성 보강 조립체(400)에 비해 적게 설치할 수 있다.
예를 들어, 도 3에 도시된 강성 보강 조립체(400)의 설치 갯수가 10개로 되어 있는 경우에는, 보트 장치(220)의 구조적 강성을 증대시킬 수 있다.
그러나, 강성 보강 조립체(400)의 설치 갯수가 많아지면, 챔버(210)안으로 투입되는 공정 처리 가스의 흐름에 방해 요소가 될 수 있어 기판 처리 공정에 좋지 않은 영향을 줄 수 있다.
따라서, 본 발명은 보트 장치(220)의 구조적 강성과 공정 처리 가스의 흐름 측면에서 보다 향상된 효과를 발휘할 수 있도록 도 6에 도시된 바와 같이, 적절한 갯수의 강성 보강 조립체(400)를 설치할 수 있다.
도 6 및 도 9를 참조하면, 제1 서포트(240)와 제2 서포트(250)의 양측 가장 자리에 각각 설치하고, 소정의 간격을 두고 그 안쪽에 2개 설치하여 총 4개의 강성 보강 조립체(400)를 설치할 수 있다.
따라서, 4개의 강성 보강 조립체(400)간의 간격이 넓어질 수 있기 때문에, 화살표와 같이 공정 처리 가스의 유동시, 간섭이 최소화될 수 있고, 이와 더불어 보트 장치(220)의 구조적 강성은 그대로 유지할 수 있다.
100... 기판(wafer) 205... 히터(heater)
210... 챔버(chamber) 211... 챔버 입구
214... 노즐부 220... 보트 장치(boat device)
221... 전극 플레이트 221a...제1 플레이트(plate)
221b... 제2 플레이트 221c...제3 플레이트
223... 지지핀
230... 제4 플레이트 231... 제5 플레이트
240... 제1 서포트 250... 제2 서포트
300... 체결 부재 310... 절연 스페이서(spacer)
400... 강성 보강 조립체 410... 결착 부재
420... 제1 지지 부재 430... 제2 지지 부재
500,510... 결합 부재
F... 전도성 막 G,G1... 갭(gap)
210... 챔버(chamber) 211... 챔버 입구
214... 노즐부 220... 보트 장치(boat device)
221... 전극 플레이트 221a...제1 플레이트(plate)
221b... 제2 플레이트 221c...제3 플레이트
223... 지지핀
230... 제4 플레이트 231... 제5 플레이트
240... 제1 서포트 250... 제2 서포트
300... 체결 부재 310... 절연 스페이서(spacer)
400... 강성 보강 조립체 410... 결착 부재
420... 제1 지지 부재 430... 제2 지지 부재
500,510... 결합 부재
F... 전도성 막 G,G1... 갭(gap)
Claims (9)
- 양 측면에 형성되고 기판이 적층되게 하는 복수의 플레이트를 지지하는 서포트;
강성이 보강되고 절연성을 가지도록 상기 서포트에 마련되는 강성 보강 조립체; 를 포함하고,
상기 서포트는 제1 서포트, 상기 제1 서포트와 간격을 두고 마련되는 제2 서포트를 포함하며,
상기 제1 서포트와 제2 서포트는 서로 다른 극성을 가지는 플레이트를 지지하며,
상기 강성 보강 조립체는,
상기 제1 서포트와 제2 서포트의 사이에 스페이서 역할과 강성이 보강되도록 지지되는 제1 지지 부재가 적어도 하나 이상 마련되고,
상기 제1 지지 부재의 외주면에는 절연성을 가지는 제2 지지 부재가 감싸지게 구비되어서 상기 기판의 증착 공정시 형성되는 증착막에 의해 상기 플레이트간의 통전이 이루어지지 않게 하는 보트 장치.
- 삭제
- 제1 항에 있어서,
상기 강성 보강 조립체는,
상기 제1 서포트와 상기 제2 서포트에 결합되는 결착 부재를 포함하며,
상기 결착 부재의 외주면에는,
상기 제1 서포트와 상기 제2 서포트의 간격에 지지되는 상기 제1 지지 부재, 상기 제1 지지 부재의 외주면에 삽입되는 상기 제2 지지 부재가 결합되는 보트 장치.
- 제3 항에 있어서,
상기 결착 부재, 상기 제1 지지 부재 및 상기 제2 지지 부재는 절연성을 가지는 재질로 이루어지는 보트 장치.
- 삭제
- 제1 항에 있어서,
상기 복수의 플레이트는 서로 다른 극성을 가지는 플레이트를 포함하고,
상기 플레이트는 체결 부재에 결합되고 동일 극성을 가지고 서로 간격을 두고 마련되는 제1 플레이트와 제2 플레이트를 포함하며,
상기 제1 플레이트와 제2 플레이트 사이에는 다른 극성을 가지고 체결 부재와 갭을 두고 마련되는 제4 플레이트를 포함하고,
상기 서포트는 상기 제1 플레이트와 제2 플레이트를 지지하는 제1 서포트, 상기 제4 플레이트를 지지하는 제2 서포트를 포함하는 보트 장치.
- 제1 항에 있어서,
상기 제1 서포트와 상기 제2 서포트는 서로 극성을 달리하며,
상기 제1 지지 부재는 제1 서포트와 상기 제2 서포트의 간격에 대면되어 지지되며,
상기 제2 지지 부재는 상기 제1 지지 부재보다 길이가 짧게 마련되도록 갭을 두고 상기 제1 지지 부재의 외주면에 구비되는 보트 장치.
- 제7 항에 있어서,
상기 제2 지지 부재는 제1 지지 부재의 외주면에 고정된 상태로 삽입되는 보트 장치.
- 제1 항에 있어서,
상기 서포트에 마련되는 상기 강성 보강 조립체는 챔버내에서의 기판 처리 공정시, 공정 처리 가스의 흐름에 방해되지 않도록 원통형으로 형성되는 보트 장치.
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|---|---|---|---|
| KR1020200139561A KR102251672B1 (ko) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | 강성이 보강된 보트 장치 |
| CN202110894775.8A CN114203602A (zh) | 2020-09-17 | 2021-08-04 | 晶舟装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200139561A KR102251672B1 (ko) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | 강성이 보강된 보트 장치 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| KR102251672B1 true KR102251672B1 (ko) | 2021-05-13 |
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| KR1020200139561A KR102251672B1 (ko) | 2020-09-17 | 2020-10-26 | 강성이 보강된 보트 장치 |
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| KR (1) | KR102251672B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102586968B1 (ko) * | 2023-01-02 | 2023-10-10 | (주)한화 | 보트 장치 |
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| KR20130121377A (ko) * | 2012-04-27 | 2013-11-06 | (주)리드엔지니어링 | 태양전지 제조용 사각 기판 탑재 보트 |
| KR20180084926A (ko) * | 2015-11-18 | 2018-07-25 | 센트로테에름 인터내셔널 아게 | 웨이퍼들을 위한 웨이퍼 보트 및 플라즈마 처리 디바이스 |
-
2020
- 2020-10-26 KR KR1020200139561A patent/KR102251672B1/ko active IP Right Grant
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