KR102242860B1 - Fine Metal Mask manufacturing system and method - Google Patents

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Abstract

The present invention discloses a system and a method for manufacturing a fine metal mask (FMM), capable of uniformly forming a pattern hole on a mask sheet when manufacturing the fine metal mask for producing a high-resolution OLED display panel. The disclosed system for manufacturing the fine metal mask includes: a roll sheet wound in a roll shape, and having a photoresist formed on both sides thereof; a roll sheet supply unit for supplying the roll sheet to a first process line in which an etching process is performed; a first etching unit provided on one side of the first process line to perform an etching process on a first surface that is one surface of the roll sheet; and a second etching unit for performing an etching process on a second surface that is an opposite surface of the roll sheet, wherein pattern holes of the photoresist are arranged along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line located at a center of the photoresist.

Description

미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법{Fine Metal Mask manufacturing system and method}Fine Metal Mask manufacturing system and method TECHNICAL FIELD

본 발명은 미세 금속 마스크 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고해상도 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 디스플레이 패널 제작을 위한 미세 금속 마스크(FMM:Fine Metal Mask)의 제조 시에, 마스크 시트 상에 패턴 홀(pattern hole)이 균일하게 형성될 수 있도록 하는 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a fine metal mask, and more particularly, in manufacturing a fine metal mask (FMM) for manufacturing a high-resolution OLED (Organic Light Emitting Diodes) display panel, on a mask sheet The present invention relates to a system and method for manufacturing a fine metal mask that enables a pattern hole to be uniformly formed.

OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.As a technology for forming pixels in the OLED manufacturing process, the FMM (Fine Metal Mask) method is mainly used in which an organic material is deposited at a desired location by attaching a thin metal mask to a substrate.

마스크 제조 시스템을 통해 마스크가 제조되려면 마스크의 원재료인 마스크 시트가 여러 공정을 단계적으로 거치도록 해야 마스크를 제조할 수 있다.In order to manufacture a mask through the mask manufacturing system, the mask sheet, which is the raw material of the mask, must go through several processes in stages to manufacture the mask.

마스크 제조를 위한 여러 공정들 중에는 마스크 시트 상에 패턴 홀을 형성시키기 위한 에칭 공정이 포함될 수 있으며, 이와 같은 에칭 공정을 진행할 때는 마스크 시트의 양쪽면에서 동시에 에칭 공정을 진행하여 패턴홀을 형성시키는 양쪽면 동시 에칭 공정을 적용해 볼 수 있다.Among the various processes for manufacturing a mask, an etching process for forming a pattern hole on the mask sheet may be included. When performing such an etching process, both sides of the mask sheet are simultaneously etched to form a pattern hole. Simultaneous surface etching process can be applied.

하지만, 양쪽면 동시 에칭 공정을 진행하여 패턴 홀을 형성시키는 경우에는 그 구조적 혹은 방법적인 한계로 인해 에칭 불량률이 높아질 소지가 매우 높다. 예를 들면, 1 Sheet의 금속 판에서 에칭 공정에 따른 패턴 홀이 균일하게 생성되지 않고 편차가 발생하는 문제점이 발생할 수 있다.However, when a pattern hole is formed by performing simultaneous etching process on both sides, there is a very high possibility that the etching defect rate will increase due to structural or method limitations. For example, there may be a problem in that a pattern hole is not uniformly generated in a metal plate of one sheet according to an etching process, and a deviation occurs.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD quality is 500-600 PPI (pixel per inch), and the pixel size reaches about 30-50㎛, and 4K UHD, 8K UHD high-definition is higher than this, ~860 PPI, ~1600 PPI, etc. Will have a resolution of. In this way, in consideration of the pixel size of the ultra-high-definition OLED, the alignment error between cells should be reduced to about several µm, and the error beyond this leads to product failure, so the yield may be very low.

따라서, 미세 금속 마스크에 대한 생산성은 높이면서도 에칭 불량률을 감소시킬 수 있도록 한 마스크 제조 시스템에 대한 필요성이 대두된다.Accordingly, there is a need for a mask manufacturing system capable of reducing an etching defect rate while increasing productivity for a fine metal mask.

관련 선행 특허 문헌으로는 대한민국 공개특허공보 제 10-2018-0127257호(공개일자 2018년11월28일)가 있으며, 상기 문헌에는 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법이 기재되어 있다.As a related prior patent document, there is Korean Laid-Open Patent Publication No. 10-2018-0127257 (published on November 28, 2018), and the document discloses a multi-structure ultra-fine metal mask having a frame sheet and a method for manufacturing the same. It is described.

본 발명의 목적은 고해상도 OLED 디스플레이 패널 제작을 위한 미세 금속 마스크(FMM)의 제조 시에, 마스크 시트 상에 패턴 홀이 균일하게 형성될 수 있도록 하는 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a system and method for manufacturing a fine metal mask that enables pattern holes to be uniformly formed on a mask sheet when manufacturing a fine metal mask (FMM) for manufacturing a high-resolution OLED display panel.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템은, 롤(roll) 형상으로 권취되고, 양면에 포토 레지스트가 형성되어 있는 롤 시트(roll sheet); 상기 롤 시트를 에칭(etching) 공정이 진행되는 제1 공정 라인으로 공급하는 롤시트 공급 유닛; 상기 제1 공정 라인의 일측에 마련되며, 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제1 에칭 유닛; 및 상기 롤 시트의 다른쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제2 에칭 유닛을 포함하고, 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성될 수 있다.A fine metal mask manufacturing system according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes: a roll sheet wound in a roll shape and having photoresist formed on both sides; A roll sheet supply unit supplying the roll sheet to a first processing line in which an etching process is performed; A first etching unit provided on one side of the first process line and performing an etching process on a first surface, which is one surface of the roll sheet; And a second etching unit performing an etching process on a second surface, which is the other surface of the roll sheet, wherein the pattern holes of the photoresist are at a predetermined angle with respect to a virtual center line located at the center of the photoresist. It may be arranged and formed along an inclined virtual line.

상기 미세 금속판의 양면에는 상기 포토 레지스트와의 계면 접착력이 상기 미세 금속판보다 더 센 상기 강화 접착 물질이 도포될 수 있다.The reinforcing adhesive material may be applied to both surfaces of the fine metal plate, which has an interfacial adhesive force with the photoresist higher than that of the fine metal plate.

상기 미세 금속판에서 상기 관통 구멍들의 패턴은, 상기 포토 레지스트에 대응되게 접착되어 있는 상기 미세 금속판의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 형성되지 않고, 상기 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 형성될 수 있다.In the fine metal plate, the pattern of the through holes is not formed along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line positioned at the center of the fine metal plate attached to correspond to the photoresist. It may be uniformly formed at regular intervals along parallel virtual lines.

상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)의 변화가 커지고, Y 포지션의 변화 없이 형성될 수 있다.The pattern holes of the photoresist are formed without a change in the Y position as the X coordinate and the Y coordinate for each pattern hole increase, based on the center coordinate at the center of the photoresist. Can be.

상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표, Y 좌표가 커질수록 X 포지션(x 변화값)은 다음 수학식에 따라 변화가 커지고, Y 포지션은 변화 없이 형성될 수 있다.The pattern holes of the photoresist are based on the center coordinate at the center of the photoresist, and as the X and Y coordinates of each pattern hole increase, the X position (x change value) increases according to the following equation. , Y position can be formed without change.

Figure 112020076304376-pat00001
Figure 112020076304376-pat00001

여기서, α는 목표 경사도(기울어지는 각도)를 나타내고, x는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, x'는 움직여야 할 패턴의 X 포지션을 나타내며, y는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, y'는 움직여야 할 패턴의 Y 포지션을 나타낸다.Here, α represents the target slope (inclination angle), x represents the active area of the pattern, x'represents the X position of the pattern to be moved, and y represents the active area of the pattern, y'represents the Y position of the pattern to be moved.

상기 강화 접착 물질은, 2nm 내지 500nm의 크기를 갖는 입자로 이루어진 필러; 및 상기 필러를 고정시키는 바인더를 포함할 수 있다.The reinforced adhesive material, a filler made of particles having a size of 2nm to 500nm; And a binder fixing the filler.

상기 강화 접착 물질과 상기 포토 레지스트 사이의 접착력은 1.5 kgf/in 내지 약 2.5 kgf/in일 수 있다.The adhesive strength between the reinforced adhesive material and the photoresist may be 1.5 kgf/in to about 2.5 kgf/in.

상기 강화 접착 물질과 상기 미세금속 판 사이의 접착력은 2.0 kgf/in 내지 약 3.0 kgf/in 일 수 있다.The adhesive force between the reinforced adhesive material and the micrometal plate may be 2.0 kgf/in to about 3.0 kgf/in.

한편, 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 미세금속 마스크 제조 방법은, 미세 금속판에 관통 구멍들의 패턴을 형성하는 미세 금속 마스크 제조 방법으로서, (a) 상기 미세 금속판이 제공되는 단계; (b) 상기 미세 금속판의 양면에 강화 접착 물질이 도포(Coating)되는 단계; (c) 상기 미세 금속판의 양면 상에 포토 레지스터가 상기 강화 접착 물질에 의해 접착되는 단계; (d) 상기 미세 금속판의 양면에 위치한 상기 포토 레지스트에 패턴 홀들이 형성되는 단계; 및 (e) 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들에 식각(etching) 용액이 인입되어 상기 미세 금속판을 식각함에 의하여, 상기 미세 금속판에 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되는 단계를 포함하고, 상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성될 수 있다.On the other hand, a method for manufacturing a fine metal mask according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a method for manufacturing a fine metal mask for forming a pattern of through holes in a fine metal plate, comprising the steps of: (a) providing the fine metal plate. ; (b) applying a reinforcing adhesive material to both surfaces of the fine metal plate; (c) bonding a photoresist on both sides of the fine metal plate by the reinforced adhesive material; (d) forming pattern holes in the photoresist located on both sides of the fine metal plate; And (e) forming a pattern of the through holes in the fine metal plate by introducing an etching solution into the pattern holes of the photoresist and etching the fine metal plate, wherein in step (d) The pattern holes of the photoresist may be formed by being arranged along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line positioned at the center of the photoresist.

상기 (b) 단계는, 상기 미세 금속판의 양면에 상기 포토 레지스트와의 계면 접착력이 상기 미세 금속판보다 더 센 상기 강화 접착 물질이 도포될 수 있다.In the step (b), the reinforcing adhesive material having an interfacial adhesive strength with the photoresist higher than that of the fine metal plate may be applied on both surfaces of the fine metal plate.

상기 (e) 단계에서 상기 관통 구멍들의 패턴은, 상기 포토 레지스트에 대응되게 접착되어 있는 상기 미세 금속판의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 형성되지 않고, 상기 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 형성될 수 있다.In the step (e), the pattern of the through holes is not formed along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line positioned at the center of the fine metal plate attached to the photoresist. It may be uniformly formed at regular intervals along an imaginary line parallel to the center line.

상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)의 변화가 커지고, Y 포지션의 변화는 없이 형성될 수 있다.In the step (d), the pattern holes of the photoresist increase in X position as the X coordinate and Y coordinate for each pattern hole increase, based on the center coordinate at the center of the photoresist, It can be formed without changing the Y position.

상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표, Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)은 다음 수학식에 따라 변화가 커지고, Y 포지션은 변화 없이 형성될 수 있따.In the step (d), the pattern holes of the photoresist are based on the center coordinates at the center of the photoresist, and as the X and Y coordinates of each pattern hole increase, the X position is expressed in the following equation. The change increases accordingly, and the Y position can be formed without change.

Figure 112020076304376-pat00002
Figure 112020076304376-pat00002

여기서, α는 목표 경사도(기울어지는 각도)를 나타내고, x는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, x'는 움직여야 할 패턴의 X 포지션을 나타내며, y는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, y'는 움직여야 할 패턴의 Y 포지션을 나타낸다.Here, α represents the target slope (inclination angle), x represents the active area of the pattern, x'represents the X position of the pattern to be moved, and y represents the active area of the pattern, y'represents the Y position of the pattern to be moved.

상기 강화 접착 물질은, 2nm 내지 500nm의 크기를 갖는 입자로 이루어진 필러; 및 상기 필러를 고정시키는 바인더를 포함할 수 있다.The reinforced adhesive material, a filler made of particles having a size of 2nm to 500nm; And a binder fixing the filler.

본 발명은 미세 금속 마스크에 대한 관통 구멍의 크기가 상당히 불균일해지는 것을 방지하여 제조 시에 균일하게 형성되도록 할 수 있다.The present invention can prevent the size of the through hole for the fine metal mask from being significantly non-uniform, so that it can be formed uniformly during manufacture.

본 발명에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은, 미세 금속 마스크(10)의 대량 생산을 이끌어낼 수 있으며, 특히 양쪽 면에 대한 에칭 공정을 분리해서 개별적으로 진행함으로써 에칭 불량률을 현저하게 감소시킬 수 있다.The fine metal mask manufacturing system 100 according to the present invention can lead to mass production of the fine metal mask 10, and in particular, by separating the etching process on both sides and proceeding individually, the etching defect rate can be significantly reduced. I can.

본 발명에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은 미세 금속 마스크의 한쪽 면을 에칭하는 제1 공정 라인(a)과 미세 금속 마스크의 다른 쪽을 에칭하는 제2 공정 라인(b) 상의 여러 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크(10)를 자동으로 제조할 수 있다.The fine metal mask manufacturing system 100 according to the present invention performs several processes on a first process line (a) for etching one side of a fine metal mask and a second process line (b) for etching the other side of the fine metal mask. The fine metal mask 10 can be automatically manufactured through sequentially.

또한, 강화 접착 물질의 작용으로 인하여, 금속의 식각(etching) 단계에서 미세 금속판과 포토 레지스트의 계면으로 침투하는 식각 용액의 양이 줄어들게 됨에 따라 불균일한 추가적 식각의 정도가 줄어들 수 있다. 즉, 관통 구멍의 크기가 보다 균일해짐에 따라 증착 정밀도가 향상될 수 있다.In addition, due to the action of the reinforcing adhesive material, as the amount of the etching solution penetrating into the interface between the fine metal plate and the photoresist in the metal etching step is reduced, the degree of non-uniform additional etching may be reduced. That is, as the size of the through hole becomes more uniform, the deposition accuracy may be improved.

도 1a는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템에 의해 제조된 미세 금속 마스크의 평면도를 나타낸 도면이다.
도 1b는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템을 적용하기 이전에 제조된 미세 금속 마스크의 평면도를 나타낸 도면이다.
도 1c는 본 발명의 실시 예에 따른 포토 레지스트의 패턴 홀들의 배열을 보정한 예를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 개략적인 구성도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 구성도이다.
도 4는 도 3에 도시된 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛 영역의 확대도이다.
도 5는 도 3에 도시된 제1 에칭 유닛의 확대도이다.
도 6은 도 3에 도시된 기능성 비중수세 유닛 영역의 확대도이다.
도 7은 도 3에 도시된 에칭 저항용 테이프 박리 유닛 영역의 확대도이다.
도 8은 도 3에 도시된 에칭 저항제 도포 유닛 영역의 확대도이다.
도 9는 도 3에 도시된 롤 시트 절단 유닛 영역의 확대도이다.
도 10은 도 3에 도시된 제2 에칭 유닛의 확대도이다.
도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 방법을 설명하기 위한 동작 흐름도를 나타낸 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크와 포토 레지스트를 접착시키는 강화 접착 물질의 구성을 나타낸 구성도이다.
1A is a view showing a plan view of a fine metal mask manufactured by a fine metal mask manufacturing system according to an exemplary embodiment of the present invention.
1B is a view showing a plan view of a fine metal mask manufactured before applying the fine metal mask manufacturing system according to an exemplary embodiment of the present invention.
1C is a diagram illustrating an example of correcting an arrangement of pattern holes of a photoresist according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a schematic configuration diagram of a system for manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of a system for manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is an enlarged view of an area of the tape laminating unit for etching resistance shown in FIG. 3.
5 is an enlarged view of the first etching unit shown in FIG. 3.
6 is an enlarged view of the functional specific gravity washing unit area shown in FIG. 3.
7 is an enlarged view of an area of the tape peeling unit for etching resistance shown in FIG. 3.
FIG. 8 is an enlarged view of an area of the etching resistor coating unit shown in FIG. 3.
9 is an enlarged view of an area of the roll sheet cutting unit shown in FIG. 3.
10 is an enlarged view of the second etching unit shown in FIG. 3.
11 is a diagram illustrating an operation flowchart illustrating a method of manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention.
12 is a block diagram showing the configuration of a reinforced adhesive material for bonding a fine metal mask and a photoresist according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, only this embodiment is intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to the possessor, and the invention is only defined by the scope of the claims. Accordingly, in some embodiments, well-known process steps, well-known device structures, and well-known techniques have not been described in detail in order to avoid obscuring interpretation of the present invention. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thicknesses are enlarged in order to clearly express various layers and regions. Like reference numerals are attached to similar parts throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the case where the other part is "directly above", but also the case where there is another part in the middle. Conversely, when one part is "directly above" another part, it means that there is no other part in the middle. Further, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "under" another part, this includes not only the case where the other part is "directly below", but also the case where there is another part in the middle. Conversely, when one part is "right below" another part, it means that there is no other part in the middle.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.Spatially relative terms "below", "beneath", "lower", "above", "upper", etc. It may be used to easily describe the correlation between the device or components and other devices or components. Spatially relative terms should be understood as terms including different directions of the device during use or operation in addition to the directions shown in the drawings. For example, if an element shown in the figure is turned over, an element described as “below” or “beneath” of another element may be placed “above” another element. Accordingly, the exemplary term “below” may include both directions below and above. The device may be oriented in other directions, and thus spatially relative terms may be interpreted according to the orientation.

본 명세서에서 어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 전기적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 그에 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part is said to be connected to another part, this includes not only a case in which it is directly connected, but also a case in which it is electrically connected with another element interposed therebetween. In addition, when a part includes a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise specified.

본 명세서에서 제 1, 제 2, 제 3 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소들로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제 1 구성 요소가 제 2 또는 제 3 구성 요소 등으로 명명될 수 있으며, 유사하게 제 2 또는 제 3 구성 요소도 교호적으로 명명될 수 있다.In the present specification, terms such as first, second, and third may be used to describe various elements, but these elements are not limited by the terms. The terms are used for the purpose of distinguishing one component from other components. For example, without departing from the scope of the present invention, a first component may be referred to as a second or third component, and similarly, a second or third component may be alternately named.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used with meanings that can be commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not interpreted ideally or excessively unless explicitly defined specifically.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 금속 지지체 기반 전고상 복합전극 및 그 제조 방법과 이를 갖는 전고상 이차전지에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an all-solid-state composite electrode based on a metal support, a method of manufacturing the same, and an all-solid secondary battery having the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템에 의해 제조된 미세 금속 마스크의 평면도를 나타낸 도면이고, 도 1b는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템을 적용하기 이전에 제조된 미세 금속 마스크의 평면도를 나타낸 도면이며, 도 1c는 본 발명의 실시 예에 따른 포토 레지스트의 패턴 홀들의 배열을 보정한 예를 나타낸 도면이며, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 개략적인 구성도이며, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 구성도이며, 도 4는 도 3에 도시된 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛 영역의 확대도이다. 도 5는 도 3에 도시된 제1 에칭 유닛의 확대도이고, 도 6은 도 3에 도시된 기능성 비중수세 유닛 영역의 확대도이며, 도 7은 도 3에 도시된 에칭 저항용 테이프 박리 유닛 영역의 확대도이고, 도 8은 도 3에 도시된 에칭 저항제 도포 유닛 영역의 확대도이며, 도 9는 도 3에 도시된 롤 시트 절단 유닛 영역의 확대도이고, 도 10은 도 3에 도시된 제2 에칭 유닛의 확대도이다.1A is a view showing a plan view of a fine metal mask manufactured by a fine metal mask manufacturing system according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 1B is manufactured before applying the fine metal mask manufacturing system according to an exemplary embodiment of the present invention. 1C is a view showing an example of correcting the arrangement of pattern holes of a photoresist according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a fine metal mask according to an embodiment of the present invention. A schematic configuration diagram of a manufacturing system, FIG. 3 is a configuration diagram of a system for manufacturing a fine metal mask according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an enlarged view of an area of the tape laminating unit for etching resistance shown in FIG. 3. 5 is an enlarged view of the first etching unit shown in FIG. 3, FIG. 6 is an enlarged view of the functional specific gravity washing unit area shown in FIG. 3, and FIG. 7 is an etching resistance tape peeling unit area shown in FIG. Is an enlarged view, FIG. 8 is an enlarged view of the area of the etching resistance agent coating unit shown in FIG. 3, FIG. 9 is an enlarged view of the area of the roll sheet cutting unit shown in FIG. 3, and FIG. It is an enlarged view of the 2nd etching unit.

이들 도면들을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은, 미세 금속 마스크(10)의 대량 생산을 이끌어낼 수 있으며, 특히 양쪽 면에 대한 에칭 공정을 분리해서 개별적으로 진행함으로써 에칭 불량률을 현저하게 감소시킬 수 있다.Referring to these drawings, the fine metal mask manufacturing system 100 according to the embodiment of the present invention can lead to mass production of the fine metal mask 10, and in particular, by separating the etching process on both sides, By proceeding, the etching defect rate can be significantly reduced.

이와 같은 효과를 제공할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은 도 3처럼 제1 공정 라인(a)과 제2 공정 라인(b) 상의 여러 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크(10)를 자동으로 제조할 수 있다.The system 100 for manufacturing a fine metal mask according to an embodiment of the present invention capable of providing such an effect is formed by sequentially passing through several processes on the first process line (a) and the second process line (b) as shown in FIG. 3. The metal mask 10 can be automatically manufactured.

참고로, 도 3에는 제1 공정 라인(a)과 제2 공정 라인(b)이 분리되어 있으나 이들 라인은 단일화된 인라인(inline)을 이룰 수도 있다. 따라서 도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 실시예 중의 하나로 예시한 것일 뿐이며, 이에 한정되지 않으며, 또한 도면의 형상에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.For reference, although the first process line (a) and the second process line (b) are separated in FIG. 3, these lines may form a unified inline. Accordingly, FIGS. 2 and 3 are merely illustrative as one of the embodiments according to the present invention, and are not limited thereto, and the scope of the present invention is not limited to the shape of the drawings.

다만, 이하에서는 편의상 제1 에칭 유닛(150)을 통해 롤 시트(30)에 대한 1차 에칭 공정을 진행하는 라인을 제1 공정 라인(a)이라 하고, 제2 에칭 유닛(270)을 통해 단위 시트(20)에 대한 2차 에칭 공정을 진행하는 라인을 제2 공정 라인(b)이라 하여 분리 설명하도록 한다.However, hereinafter, for convenience, a line for performing the primary etching process on the roll sheet 30 through the first etching unit 150 is referred to as a first process line (a), and a unit through the second etching unit 270 The line for performing the secondary etching process on the sheet 20 will be referred to as a second process line (b), and will be described separately.

물론, 제1 공정 라인(a)과 제2 공정 라인(b)에는 제1 에칭 유닛(150) 및 제2 에칭 유닛(270) 외에 에칭 공정을 위한 많은 유닛 또는 장치들이 마련될 수 있다.Of course, in the first process line (a) and the second process line (b), in addition to the first etching unit 150 and the second etching unit 270, many units or devices for an etching process may be provided.

본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 구체적인 설명에 앞서 미세 금속 마스크(10)의 구조에 대해 도 1a를 참조하여 간략하게 설명한다.Prior to a detailed description of a system for manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention, a structure of the fine metal mask 10 will be briefly described with reference to FIG. 1A.

도 1a를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)에 의해 제조된 미세 금속 마스크(10)는, 후술할 단위 시트(20)에서 일정한 영역이 절단되어 형성되는 마스크 시트(11)와, 마스크 시트(11) 상에 형성되는 다수의 마스크 패턴부(12)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1A, a fine metal mask 10 manufactured by a fine metal mask manufacturing system 100 according to an embodiment of the present invention is a mask sheet formed by cutting a certain area in a unit sheet 20 to be described later. 11 and a plurality of mask pattern portions 12 formed on the mask sheet 11.

마스크 시트(11)의 일측은 마스크(10)가 공정 설비로 투입될 때, 설비 내에서 클램핑되는 부분으로 활용될 수 있다.One side of the mask sheet 11 may be used as a part clamped in the facility when the mask 10 is introduced into a process facility.

마스크 패턴부(12)는 후술할 에칭(etching) 공정에 의해 마스크 시트(11)에 형성되는 부분이다. 도면에는 다수의 마스크 패턴부(12)가 형성되는 미세 금속 마스크(10)를 제시하였으나 마스크 시트(11)에 단일의 마스크 패턴부(12)가 형성될 수도 있다.The mask pattern portion 12 is a portion formed on the mask sheet 11 by an etching process to be described later. Although the drawing shows a fine metal mask 10 in which a plurality of mask pattern portions 12 are formed, a single mask pattern portion 12 may be formed on the mask sheet 11.

뿐만 아니라 도면과 달리 마스크 시트(11) 상에 여러 줄의 마스크 패턴부(12)가 형성될 수도 있을 것인데, 이러한 사항 모두가 본 발명의 권리범위에 속한다 하여야 할 것이다.In addition, unlike the drawings, several rows of mask pattern portions 12 may be formed on the mask sheet 11, but it should be said that all of these matters fall within the scope of the present invention.

마스크 패턴부(12)에는 휴대폰 등의 디스플레이로 사용되는 기판, 특히 OLED 기판의 증착 공정 시 증착 물질을 통과시키기 위한 다수의 패턴홀(13, pattern hole)이 형성된다. 이때, 다수의 패턴홀(13)은 미세 금속 마스크(10)의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 형성되지 않고, 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 형성되는 것이다.The mask pattern part 12 is formed with a plurality of pattern holes 13 for passing the deposition material through the deposition process of a substrate used for a display such as a mobile phone, particularly an OLED substrate. At this time, the plurality of pattern holes 13 are not formed along an imaginary line inclined at a certain angle with respect to the imaginary center line located at the center of the fine metal mask 10, but at regular intervals along a imaginary line parallel to the center line. It is formed uniformly.

본 발명의 실시 예에서 마스크 패턴부(12) 상에 형성되는 패턴홀(13)들은 모두 동일한 사각형 형상을 가질 수 있다. 물론, 패턴홀(13)은 다각형, 원형, 타원형 등으로 변경될 수도 있으므로 도면의 형상에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.In an embodiment of the present invention, the pattern holes 13 formed on the mask pattern part 12 may all have the same square shape. Of course, since the pattern hole 13 may be changed to a polygon, a circle, an oval, etc., the scope of the present invention is not limited to the shape of the drawing.

이와 같은 미세 금속 마스크(10)를 제조, 특히 연속적인 방법으로 대량 제조하기 위해 도 3과 같은 구조의 미세 금속 마스크 제조 시스템이 제공된다.In order to manufacture such a fine metal mask 10, in particular, in order to mass-produce in a continuous method, a system for manufacturing a fine metal mask having a structure as shown in FIG. 3 is provided.

그런데, 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)을 적용하기 이전에는 도 1b와 같이 미세 금속 마스크에 형성된 패턴 홀들이 균일하게 형성되지 않고 편차가 발생한다. 즉, 기존의 미세 금속 마스크 제조 시스템에 의해 제조된 미세 금속 마스크는 금속 특성에 따라 압연 등의 영향으로 패턴 홀의 배열 방향이 기울어지는 경사가 발생되어, 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성됨으로써 편차가 발생하는 것이다.However, before applying the fine metal mask manufacturing system 100 according to an exemplary embodiment of the present invention, pattern holes formed in the fine metal mask are not uniformly formed as shown in FIG. 1B, and variations occur. In other words, the fine metal mask manufactured by the existing fine metal mask manufacturing system has an inclination in which the arrangement direction of the pattern holes is inclined due to the effect of rolling, etc., depending on the metal properties, and a certain angle based on the virtual center line located in the center. It is arranged and formed along an inclined imaginary line, causing deviation.

따라서, 본 발명의 실시 예에서는 이러한 미세 금속 마스크에서 패턴 홀의 배열이 도 1a에 도시된 평면도와 같이 일정한 간격으로 균일하게 형성되도록 포토 레지스트(PR, Photo Resist)의 패턴 홀들이 도 1b에 도시된 미세 금속 마스크의 패턴 홀들과 반대되는 배열을 갖도록 보정하는 것이다. 즉, 포토 레지스트의 패턴 홀들에 대해 도 1c에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선(L)을 따라 배열되게 형성시키는 것이다. 이러한 보정을 본 발명에서는 경사 보정(Incline Correction)이라 칭한다. 도 1c는 본 발명의 실시 예에 따른 포토 레지스트의 패턴 홀들의 배열을 보정한 예를 나타낸 도면이다. 따라서, 이렇게 패턴 홀들의 배열이 보정된 포토 레지스트(PR)가 미세 금속 마스크의 롤 시트(30)에 도포된 상태에서 포토 레지스트(PR)의 패턴 홀에 에칭액이 인입되면, 도 1a에 도시된 바와 같은 균일한 다수의 패턴 홀들이 형성된 미세 금속 마스크를 얻을 수 있다. Accordingly, in an exemplary embodiment of the present invention, pattern holes of a photoresist (PR) are finely formed in such a manner that the arrangement of pattern holes in such a fine metal mask is uniformly formed at regular intervals as shown in the plan view shown in FIG. 1A. It corrects to have an arrangement opposite to that of the pattern holes of the metal mask. That is, the pattern holes of the photoresist are formed to be arranged along an imaginary line L inclined at a certain angle with respect to the virtual center line C located at the center of the photoresist, as shown in FIG. 1C. . This correction is referred to as incline correction in the present invention. 1C is a diagram illustrating an example of correcting an arrangement of pattern holes of a photoresist according to an exemplary embodiment of the present invention. Therefore, when the etchant is introduced into the pattern hole of the photoresist PR in a state in which the photoresist PR whose arrangement of the pattern holes is corrected is applied to the roll sheet 30 of the fine metal mask, as shown in FIG. It is possible to obtain a fine metal mask in which a plurality of the same uniform pattern holes are formed.

한편, 도 1b와 반대되는 배열을 갖는 패턴 홀들이 미세 금속 마스크에 형성되는 경우에는 동일한 방법으로 포토 레지스트의 패턴 홀들에 대해 미세 금속 마스크의 패턴 홀들과 반대되는 배열을 갖도록 포토 레지스트를 노광 및 현상하는 것이다. 즉, 미세 금속 마스크의 패턴 홀들이 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선(기울기가 마이너스)을 따라 형성되는 경우에는 포토 레지스트에 대해 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선(기울기가 플러스)을 따라 형성되도록 노광 및 현상하는 것이다. 예를 들면, 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)은 다음 수학식 1에 따라 변화가 커지고, Y 포지션은 변화 없이 형성되도록 노광 및 현상하는 것이다.Meanwhile, when pattern holes having an arrangement opposite to that of FIG. 1B are formed in the fine metal mask, the photoresist is exposed and developed so that the pattern holes of the photoresist have an arrangement opposite to that of the pattern holes of the fine metal mask in the same way. will be. That is, if the pattern holes of the fine metal mask are formed along a virtual line (slope is negative) inclined at a certain angle with respect to the virtual center line, the pattern holes are at a certain angle with respect to the virtual center line located at the center of the photoresist. It is exposed and developed so that it is formed along an inclined virtual line (the slope is positive). For example, based on the center coordinate at the center of the photoresist, as the X coordinate and Y coordinate for each pattern hole increase, the X position changes according to the following equation (1), and the Y position does not change. It is exposed and developed to form.

Figure 112020076304376-pat00003
Figure 112020076304376-pat00003

수학식 1에서, α는 목표 경사도(기울어지는 각도)를 나타내고, x는 최외각 패턴의 영역(active area)을 나타내며, x'는 움직여야 할 패턴의 X 포지션을 나타내며, y는 최외각 패턴의 영역(active area)을 나타내며, y'는 움직여야 할 패턴의 Y 포지션을 나타낸다. 즉, x는 마이너스 x 좌표값(-x)과 플러스 x 좌표값(+x)을 나타낸다. 예를 들면, 최외각 패턴 홀의 좌표 값이 각각 (-100, 50), (100, 50)인 경우, x 패턴의 영역 값은 200이 되는 것이다. 마찬가지로, y는 패턴의 영역으로서, 예를 들면, 최외각 패턴 홀의 좌표 값이 각각 (50, -50), (100, 50)인 경우, y 패턴의 영역 값은 100이 되는 것이다.In Equation 1, α represents the target slope (inclination angle), x represents the active area of the outermost pattern, x'represents the X position of the pattern to be moved, and y represents the region of the outermost pattern. (active area), y'represents the Y position of the pattern to be moved. That is, x represents a minus x coordinate value (-x) and a plus x coordinate value (+x). For example, when the coordinate values of the outermost pattern holes are (-100, 50) and (100, 50), respectively, the area value of the x pattern is 200. Similarly, y is a pattern area, for example, when the coordinate values of the outermost pattern holes are (50, -50) and (100, 50), respectively, the area value of the y pattern is 100.

전술한 실시 예에서는 포토 레지스트(PR)의 패턴 홀에 대해, 포토 마스크(Photo Mask)를 통한 노광 및 현상에 의하여 형성되는 것으로 실시하였으나, 이에 한정되지 않고 레이저 이미징(Laser Direct Imaging) 방식으로 패턴 홀들이 형성되도록 실시할 수 있다. 이하의 실시 예에서는 포토 마스크의 노광 및 현상에 의하여 포토 레지스트(PR)에 패턴 홀들이 형성되는 예를 설명하기로 한다.In the above-described embodiment, the pattern hole of the photoresist PR is formed by exposure and development through a photo mask, but the pattern hole is not limited thereto. Can be carried out so that they are formed. In the following embodiment, an example in which pattern holes are formed in the photoresist PR by exposure and development of the photomask will be described.

전술한 바와 같이, 패턴 홀들의 크기가 보정된 포토 레지스트(PR)를 롤 시트(30)에 도포한 상태에서 다음과 같은 공정으로 도 1a에 도시된 바와 같이 패턴 홀들의 배열이 일정 간격으로 균일한 미세 금속 마스크를 제조할 수 있다.As described above, in a state in which the photoresist (PR) whose size of the pattern holes is corrected is applied to the roll sheet 30, the arrangement of the pattern holes is uniform at regular intervals as shown in FIG. 1A by the following process. A fine metal mask can be manufactured.

앞서도 언급한 것처럼 미세 금속 마스크 제조 시스템을 이루는 제1 공정 라인(a)과 제2 공정 라인(b)에는 제1 에칭 유닛(150) 및 제2 에칭 유닛(270) 외에 에칭 공정을 위한 많은 유닛 또는 장치들이 마련되며, 이들의 유기적인 메커니즘을 통해 양질의 미세 금속 마스크(10)가 대량 생산될 수 있다.As mentioned above, in the first process line (a) and the second process line (b) constituting the fine metal mask manufacturing system, in addition to the first etching unit 150 and the second etching unit 270, many units for an etching process or Devices are provided, and fine metal masks 10 of good quality can be mass-produced through their organic mechanisms.

다만, 도 3의 미세 금속 마스크 제조 시스템의 구조가 다소 복잡하기 때문에, 이해를 돕기 위해 도 3의 미세 금속 마스크 제조 시스템을 이루는 구성들 중에서 몇몇의 핵심 구성만을 발췌하여 개략도로 작성한 도 2를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 개략적인 구조 및 작용에 대해 간략하게 설명한다.However, since the structure of the fine metal mask manufacturing system of FIG. 3 is somewhat complicated, in order to aid understanding, referring to FIG. 2, which is a schematic diagram by extracting only some of the core configurations of the configuration of the fine metal mask manufacturing system of FIG. A schematic structure and operation of a system for manufacturing a fine metal mask according to an embodiment of the present invention will be briefly described.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은, 미세 금속 마스크(10)의 대량 생산을 위해 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 롤 시트(30, roll sheet)를 사용한다.2, a fine metal mask manufacturing system 100 according to an embodiment of the present invention includes a roll sheet 30 formed by being wound in a roll shape for mass production of the fine metal mask 10. sheet).

롤 시트(30)는 도 2의 (a)처럼 금속, 예컨대 인바(invar) 재질의 박판형 금속이 롤(roll) 형상으로 권취된 것을 의미한다. 참고로, 인바(invar)는 철 63.5%에 니켈 36.5%가 첨가된 것으로서 열팽창 계수가 작은 합금이다.The roll sheet 30 means that a metal, for example, a thin plate-shaped metal made of an invar material is wound in a roll shape, as shown in FIG. 2(a). For reference, invar is an alloy in which 63.5% of iron and 36.5% of nickel are added and has a small coefficient of thermal expansion.

인바(invar) 재질로 된 롤 시트(30)의 양면에는 포토 레지스트(PR)가 형성된다. 포토 레지스트(PR)는 빛을 조사하면 화학 변화를 일으키는 고분자 수지를 일컫는다. 빛이 닿은 부분만 고분자 수지가 불용화(不溶化)하여 포토 레지스트가 남는 것을 네가형 포토 레지스트, 빛이 닿은 부분만 고분자가 가용화(可溶化)하여 포토 레지스트가 사라지는 것을 포지형 포토 레지스트라 부른다. 포토 레지스트(PR)는 롤 시트(30)의 양면에 미리 도포된 상태일 수 있다.Photoresist PR is formed on both surfaces of the roll sheet 30 made of an invar material. Photoresist (PR) refers to a polymer resin that causes chemical changes when irradiated with light. The negative type photoresist is that the polymer resin is insolubilized only in the part exposed to the light and the photoresist remains, and the case where the photoresist disappears due to the solubilization of the polymer only in the part exposed to the light is called a positive photoresist. The photoresist PR may be previously applied to both surfaces of the roll sheet 30.

또한, 포토 레지스트(PR)는 도 1c에 도시된 바와 같이, 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)의 변화가 커지고, Y 포지션의 변화 없이 형성될 수 있다. 예를 들면, 포토 레지스트(PR)의 패턴 홀들에서, 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표(0,0)를 기준으로, 즉 중앙에 위치하는 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진(기울기가 플러스(+)) 가상선(L)을 따라 배열되게 형성될 수 있다. In addition, as shown in FIG. 1C, the photoresist PR increases the X position and the Y position as the X coordinate and Y coordinate for each pattern hole increase, based on the center coordinate at the center, as shown in FIG. 1C. It can be formed without any change. For example, in the pattern holes of the photoresist PR, inclined at a certain angle based on the center coordinate (0,0) at the center of the photoresist, that is, based on the virtual center line C located at the center. (The slope may be formed to be arranged along a positive (+)) virtual line (L).

또한, 포토 레지스트(PR)는 중앙에 있는 중심 좌표(0,0)를 기준으로, 즉 중앙에 위치하는 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진(기울기가 마이너스(-)) 가상선(L)을 따라 배열되게 형성될 수 있다.In addition, the photoresist PR is inclined at a certain angle based on the center coordinate (0,0) at the center, that is, the virtual center line C located at the center (the tilt is negative (-)). It may be formed to be arranged along the line (L).

롤시트 공급 유닛(110)은 롤 시트(30)를 에칭(etching) 공정이 진행되는 제1 공정 라인으로 공급한다.The roll sheet supply unit 110 supplies the roll sheet 30 to a first process line where an etching process is performed.

제1 에칭 유닛(150)은 제1 공정 라인의 일측에 마련되며, 롤 시트의 한 쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행한다.The first etching unit 150 is provided on one side of the first process line, and performs an etching process on the first side, which is one side of the roll sheet.

제2 에칭 유닛(270)은 롤 시트(30)의 다른 쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행한다.The second etching unit 270 performs an etching process on the second surface, which is the other surface of the roll sheet 30.

전술한 바와 같은 롤 시트(30)를 이용해서 미세 금속 마스크(10)를 제조하기 위해 도 2의 (b)처럼 롤 시트(30)의 한쪽 면에 에칭 저항용 테이프(33, tape)가 부착, 즉 라미네이팅(laminating)될 수 있다.In order to manufacture the fine metal mask 10 using the roll sheet 30 as described above, an etching resistance tape 33 is attached to one side of the roll sheet 30 as shown in FIG. 2 (b), That is, it can be laminated.

에칭 저항용 테이프(33)는 에칭 저항용 테이프(33)가 라미네이팅된 면에서 에칭이 진행되지 않도록 에칭에 저항하는 역할을 한다. 본 발명의 실시 예에서 에칭 저항용 테이프(33)는 UV(Ultraviolet Ray) 테이프(13)로 할 수 있다.The etching resistance tape 33 serves to resist etching so that etching does not proceed on the side on which the etching resistance tape 33 is laminated. In an embodiment of the present invention, the etching resistance tape 33 may be a UV (Ultraviolet Ray) tape 13.

에칭 저항용 테이프(33)가 라미네이팅 된 롤 시트(30)는 도 2의 (c)처럼 제1 에칭 유닛(150)으로 인입된다. 그리고 제1 에칭 유닛(150)을 통해 롤 시트(30)의 한쪽 면인 제1 면이 에칭(etching)된다. 다시 말해, 롤 시트(30)의 대략 1/2 단면이 에칭되어 홈 형태로 깎인다.The roll sheet 30 on which the etching resistance tape 33 is laminated is introduced into the first etching unit 150 as shown in FIG. 2C. In addition, a first surface, which is one surface of the roll sheet 30, is etched through the first etching unit 150. In other words, roughly half the cross section of the roll sheet 30 is etched and cut into a groove shape.

동일 기술 분야에 알려진 것처럼 에칭(혹은 에칭 공정)은 본 발명의 실시 예에 따른 롤 시트(30)와 같은 금속이나 반도체를 침식시키는 것을 의미하는데, 포토 레지스트(PR)로 덮여 있지 않은 롤 시트(30)의 부분(포토 레지스트의 패턴 홀)을 화학 약품, 즉 에칭액(부식액)으로 제거한다. 본 발명의 실시 예의 경우, 롤 시트(30)의 제2 면에는 에칭 저항용 테이프(13)가 미리 라미네이팅되어 있기 때문에 제1 에칭 유닛(150)을 통한 에칭 공정 시 롤 시트(30)의 제2 면 영역은 에칭되지 않고 롤 시트(30)의 한쪽 면인 제1 면만 에칭된다.As known in the art, etching (or etching process) refers to eroding a metal or semiconductor such as the roll sheet 30 according to an embodiment of the present invention. ) Part (pattern hole of photoresist) is removed with a chemical agent, that is, an etching solution (corrosive solution). In the case of the embodiment of the present invention, since the etching resistance tape 13 is pre-laminated on the second side of the roll sheet 30, the second side of the roll sheet 30 is applied during the etching process through the first etching unit 150. The surface area is not etched, and only the first side, which is one side, of the roll sheet 30 is etched.

제1 면이 에칭된 롤 시트(30)는 제1 에칭 유닛(150)에서 인출된 후, 도 2의 (d)처럼 반전된다. 즉 도면 상에서 에칭된 제1 면이 상부로 놓이도록 뒤집힌다.After the roll sheet 30 on which the first surface is etched is taken out from the first etching unit 150, it is inverted as shown in (d) of FIG. 2. That is, it is turned over so that the etched first surface on the drawing is placed on top.

그런 다음, 도 2의 (e)처럼 에칭된 제1 면 영역에 에칭 저항제(14)가 도포된다. 롤 시트(30)의 제1 면은 이미 에칭이 되어 예컨대, 1/2 단면이 홈 형태로 파인 상태이므로 이곳에 전술한 에칭 저항용 테이프(33)를 라미네이팅하기가 곤란하다. 때문에, 도 2의 (e)처럼 에칭 저항용 테이프(33) 대신 같은 기능을 담당하는 에칭 저항제(14)가 도포된다.Then, the etching resistor 14 is applied to the etched first surface area as shown in FIG. 2E. Since the first surface of the roll sheet 30 has already been etched and, for example, a half cross section is in a groove shape, it is difficult to laminate the above-described etching resistance tape 33 thereon. Therefore, instead of the etching resistance tape 33 as shown in FIG. 2E, the etching resistance agent 14 serving the same function is applied.

에칭 저항제(14)가 롤 시트(30)의 에칭된 제1 면 영역에 도포된 이후에는 롤 시트(30)가 절단되어 단위 사이즈의 단위 시트(20)로 형성되며, 이후에 제2 에칭 유닛(270)을 통해 아직 에칭되지 않은 제2 면 영역에 대한 에칭 공정이 진행된다.After the etching resistance 14 is applied to the etched first surface area of the roll sheet 30, the roll sheet 30 is cut to form a unit sheet 20 of a unit size, and thereafter, a second etching unit An etching process is performed on the second surface region that has not yet been etched through 270.

이때, 단위 사이즈로 절단된 단위 시트(20)는 매우 얇은 박판형이라서 이송이 원활하지 않을 수 있기 때문에 단위 시트(20)에는 캐리어(50, carrier)가 라미네이팅되어 캐리어(50)를 통해 단위 시트(20)가 이송된다. 캐리어(50)는 글라스(glass) 재질로 제작되며, 단위 시트(20)와 라미네이팅되어 단위 시트(20)를 제2 에칭 유닛(270) 및 그 후방 공정으로 이송시키는 역할을 한다.At this time, since the unit sheet 20 cut into a unit size is a very thin plate shape and thus transfer may not be smooth, a carrier 50 is laminated on the unit sheet 20 to form the unit sheet 20 through the carrier 50. ) Is transferred. The carrier 50 is made of a glass material, and is laminated with the unit sheet 20 to transfer the unit sheet 20 to the second etching unit 270 and a rear process thereof.

이처럼 캐리어(50)에 라미네이팅 된 단위 시트(20)는 도 2의 (f)처럼 제2 에칭 유닛(270)으로 인입된다. 그리고 제2 에칭 유닛(270)을 통해 단위 시트(20)의 나머지 면인 제2 면이 에칭된다. 다시 말해, 단위 시트(20)의 남은 1/2 단면이 에칭됨으로써 패턴홀(13, 도 1 참조)이 형성되도록 한다. 이후에서는 미세 금속 마스크(10)의 패턴 홀(13)에 대해서, 포토 레지스트(PR)의 패턴 홀과 구분하기 위해 '관통 구멍(들)의 패턴'으로 칭할 수 있다.In this way, the unit sheet 20 laminated to the carrier 50 is introduced into the second etching unit 270 as shown in (f) of FIG. 2. Then, the second surface, which is the remaining surface of the unit sheet 20, is etched through the second etching unit 270. In other words, the pattern hole 13 (refer to FIG. 1) is formed by etching the remaining half-section of the unit sheet 20. Hereinafter, the pattern hole 13 of the fine metal mask 10 may be referred to as a “pattern of through hole(s)” to distinguish it from the pattern hole of the photoresist PR.

제2 에칭 유닛(270)을 통한 소위, 2차 에칭을 통해 패턴홀(13)이 형성된 이후에는 단위 시트(20)에 묻어 잔존되는 에칭 저항제(14) 및 포토 레지스트(PR)가 제거되고, 이어 단위 시트(20)가 일정 부분 절단되면서 캐리어(50)와 분리됨으로써 최종적으로 미세 금속 마스크(10)로 제조될 수 있다.After the pattern hole 13 is formed through so-called secondary etching through the second etching unit 270, the etching resistance 14 and the photoresist PR remaining buried in the unit sheet 20 are removed, Subsequently, the unit sheet 20 may be separated from the carrier 50 while being partially cut, thereby finally manufacturing the fine metal mask 10.

이상에서 설명한 미세 금속 마스크 제조 시스템의 간략한 구조와 그에 따른 작용은 도 3의 실질적인 미세 금속 마스크 제조 시스템을 이루는 구성들 중에서 핵심적인 일부만을 발췌한 것으로서, 실질적으로 미세 금속 마스크 제조 시스템이 구현되기 위해서는 롤 시트(30)를 이송시키는 수단, 에칭 저항용 테이프(33)를 제거하는 수단, 에칭 전후의 롤 시트(30) 혹은 단위 시트(20)를 세척하는 수단, 롤 시트(30)를 단위 시트(20)로 절단하는 수단, 에칭 저항제(14) 및 포토 레지스트(PR)를 제거하는 수단 등 여러 구성들이 시스템 제1 공정 라인 상에 배치되어 주변 구성들과 유기적으로 동작해야 한다. 따라서 이하에서는 도 3 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템의 실질적인 세부 구조 및 그에 다른 작용, 방법 등을 설명하기로 한다.The simple structure of the fine metal mask manufacturing system described above and its actions are extracted from only a core part of the configurations that make up the actual fine metal mask manufacturing system of FIG. 3, and in order to implement the fine metal mask manufacturing system, the roll A means for transferring the sheet 30, a means for removing the tape 33 for etching resistance, a means for washing the roll sheet 30 or unit sheet 20 before and after etching, and a unit sheet 20 for the roll sheet 30 ), a means for removing the etching resistor 14 and the photoresist PR, etc. are arranged on the first process line of the system to operate organically with the surrounding components. Accordingly, a detailed structure of a fine metal mask manufacturing system according to an exemplary embodiment of the present invention and other actions and methods thereof will be described below with reference to FIGS. 3 to 6.

도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 마스크 제조 시스템은 크게, 제1 에칭 유닛(150)을 통해 롤 시트(30)에 대한 1차 에칭 공정을 진행하는 제1 공정 라인(a)과, 제2 에칭 유닛(270)을 통해 단위 시트(20)에 대한 2차 에칭 공정을 진행하는 제2 공정 라인(b)을 포함한다. 앞서도 언급한 것처럼 제1 공정 라인(a)과 제2 공정 라인(b)은 분리되지 않은 단일화된 인라인(in-line)일 수도 있다.Referring to FIG. 3, the mask manufacturing system according to the present embodiment is largely provided with a first process line (a) for performing a primary etching process on the roll sheet 30 through the first etching unit 150, and 2 It includes a second process line (b) for performing a secondary etching process for the unit sheet 20 through the etching unit 270. As mentioned above, the first process line (a) and the second process line (b) may be unseparated in-line (in-line).

이하, 설명의 편의를 위해 제1 공정 라인(a)의 앞에서부터 순차적으로 설명한다. 제1 공정 라인(a)에는 공정이 진행되는 방향을 따라 롤 시트 공급 유닛(110), 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120), 프리 에칭 유닛(140), 프리 세척 및 물기 제거기(145), 제1 에칭 유닛(150), 기능성 비중수세 유닛(160), 에칭 저항용 테이프 박리 유닛(180), 그리고 롤 시트 회수 유닛(112)이 배치된다.Hereinafter, for convenience of description, description will be made sequentially from the front of the first process line (a). The first process line (a) includes a roll sheet supply unit 110, an etching resistance tape laminating unit 120, a pre-etching unit 140, a pre-cleaning and dewatering device 145, and 1 An etching unit 150, a functional specific gravity washing unit 160, an etching resistance tape peeling unit 180, and a roll sheet recovery unit 112 are disposed.

롤 시트 공급 유닛(110)은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 미세 금속 마스크(10)의 제조를 위하여 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 롤 시트(30, 도 2 참조)를 1차 에칭(etching) 공정이 진행되는 제1 공정 라인(a)으로 공급한다.As shown in FIGS. 3 and 4, the roll sheet supply unit 110 includes a roll sheet 30 (see FIG. 2) formed by being wound in a roll shape for manufacturing the fine metal mask 10. It is supplied to the first process line (a) where the secondary etching process is performed.

롤 시트 공급 유닛(110)을 통해 롤 시트(30)가 풀려 제1 공정 라인(a)으로 공급되기 위해 제1 롤 시트 구동 롤러(101, 도 7 참조)와, 다수의 롤 시트 가이드 롤러(103)가 마련된다.A first roll sheet driving roller 101 (refer to FIG. 7) and a plurality of roll sheet guide rollers 103 in order to be supplied to the first process line a by unwinding the roll sheet 30 through the roll sheet supply unit 110. ) Is provided.

제1 롤 시트 구동 롤러(101)는 도 7처럼 롤 시트 공급 유닛(110)과 롤 시트 회수 유닛(112) 사이의 제1 공정 라인(a) 상에 배치되며, 롤 시트(30)를 롤 시트 회수 유닛(112) 쪽으로 구동시키는 역할을 한다. 제1 롤 시트 구동 롤러(101)는 도시되지 않은 모터의 구동력으로 롤 시트(30)를 당겨 후 공정인 롤 시트 회수 유닛(112) 쪽으로 이동시킨다.The first roll sheet driving roller 101 is disposed on the first process line (a) between the roll sheet supply unit 110 and the roll sheet collecting unit 112 as shown in FIG. It serves to drive toward the recovery unit 112. The first roll sheet driving roller 101 pulls the roll sheet 30 with a driving force of a motor (not shown) and moves it toward the roll sheet collecting unit 112 which is a post-process.

롤 시트 가이드 롤러(103)는 제1 공정 라인(a) 상에 다수 개 배치되며, 롤 시트(30)의 이송을 가이드한다. 롤 시트 가이드 롤러(103)는 도 3에서 제1 공정 라인(a) 및 제2 공정 라인(b) 모두의 곳곳에 배치되어 롤 시트(30)에 텐션을 부여하면서 롤 시트(30)의 이송을 가이드하는 역할을 한다.A plurality of roll sheet guide rollers 103 are disposed on the first process line (a), and guide the transport of the roll sheet 30. The roll sheet guide rollers 103 are arranged in various places in both the first process line (a) and the second process line (b) in FIG. 3 to impart tension to the roll sheet 30 while transferring the roll sheet 30. It serves as a guide.

도 4를 참조하면, 롤 시트 공급 유닛(110)의 주변에는 롤 시트 가이드 롤러(103) 외에도 롤 시트(30)를 평평하게 펼쳐 공급하는 롤 시트 펼침 가이드(107)가 마련된다. 롤 시트 펼침 가이드(107)는 도 8처럼 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)의 주변에도 동일한 형태로 적용될 수 있다.Referring to FIG. 4, in addition to the roll sheet guide roller 103, a roll sheet spreading guide 107 for spreading and feeding the roll sheet 30 flatly is provided around the roll sheet supply unit 110. The roll sheet spreading guide 107 may be applied in the same form to the periphery of the roll sheet supply unit 210 after etching as shown in FIG. 8.

롤 시트 공급 유닛(110)의 공정 후방에 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)이 마련된다. 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 롤 시트 공급 유닛(110)과 제1 에칭 유닛(150) 사이에 배치되며, 롤 시트(30)의 제1 면에 대한 에칭 공정이 진행되기 전에 롤 시트 공급 유닛(110)에서 풀려 제1 에칭 유닛(150)으로 공급되는 롤 시트(30)의 다른 쪽 면인 제2 면에 에칭에 저항하는 에칭 저항용 테이프(33, tape, 도 2 참조)를 라미네이팅(laminating)하는 역할을 한다. 에칭 저항용 테이프(33)는 제1 에칭 유닛(150)을 통해 롤 시트(30)의 한쪽 면인 제1 면만 에칭되도록 한다.A tape laminating unit 120 for etching resistance is provided behind the process of the roll sheet supply unit 110. The tape laminating unit 120 for etching resistance is disposed between the roll sheet supply unit 110 and the first etching unit 150, as shown in FIGS. 3 and 4, and the first side of the roll sheet 30 An etching resistance tape 33 that resists etching on the second side, which is the other side of the roll sheet 30, which is released from the roll sheet supply unit 110 and supplied to the first etching unit 150 before the etching process is performed. , tape, see FIG. 2). The etching resistance tape 33 allows only the first surface of the roll sheet 30 to be etched through the first etching unit 150.

본 실시예에서 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)은 롤 시트(30)가 제1 공정 라인(a)의 일측에 배치되며, 롤(roll) 형상의 에칭 저항용 테이프(33)를 이송 중인 롤 시트(30)의 제2 면에 연속적으로 공급해서 라미네이팅하는 이송 중 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)으로 적용된다. 이처럼 롤 시트(30)가 이송되는 과정에서 그 일면에 에칭 저항용 테이프(33)가 라미네이팅되게 함으로써 연속 공정을 이끌어낼 수 있으며, 이로 인해 생산성이 향상될 수 있다.In this embodiment, the tape laminating unit 120 for etching resistance is a roll in which the roll sheet 30 is disposed on one side of the first process line a, and is transferring the tape 33 for etching resistance in a roll shape. It is applied to the tape laminating unit 120 for etching resistance during transfer to continuously supply and laminate the second surface of the sheet 30. As described above, by laminating the tape 33 for etching resistance on one surface of the roll sheet 30 during the transfer process, a continuous process can be induced, and productivity can be improved.

에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)은 테이프 공급 롤러(121), 라미네이팅 구동 롤러(122), 라미네이팅 종동 롤러(123), 테이프 전달 롤러(124), 그리고 보호필름 회수 롤러(125)를 포함한다.The tape laminating unit 120 for etching resistance includes a tape supply roller 121, a laminating drive roller 122, a laminating driven roller 123, a tape transfer roller 124, and a protective film recovery roller 125.

테이프 공급 롤러(121)는 에칭 저항용 테이프(13)를 공급한다. 본 발명의 실시 예의 경우, 연속 공정의 구현을 위하여 롤(roll) 형상의 에칭 저항용 테이프(33)를 사용한다.The tape supply roller 121 supplies a tape 13 for etching resistance. In the case of the embodiment of the present invention, a roll-shaped etching resistance tape 33 is used to implement a continuous process.

라미네이팅 구동 롤러(122)는 롤 시트(30)의 제2 면에 회전 가능하게 배치되며, 테이프 공급 롤러(121)에서 공급되는 에칭 저항용 테이프(33)를 전달 받아 롤 시트(30)의 제2 면에 라미네이팅하는 역할을 한다.The laminating driving roller 122 is rotatably disposed on the second side of the roll sheet 30, and receives the etching resistance tape 33 supplied from the tape supply roller 121 to receive the second side of the roll sheet 30. It serves to laminate the cotton.

라미네이팅 종동 롤러(123)는 롤 시트(30)를 사이에 두고 라미네이팅 구동 롤러(122)의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 롤러이다. 라미네이팅 구동 롤러(122)가 모터 등에 의해 동작되는데 반해, 라미네이팅 종동 롤러(123)는 자유 회전형 롤러일 수 있다.The laminating driven roller 123 is a roller that is rotatably disposed on the opposite side of the laminating driving roller 122 with the roll sheet 30 interposed therebetween. While the laminating driving roller 122 is operated by a motor or the like, the laminating driven roller 123 may be a free rotation type roller.

테이프 전달 롤러(124)는 테이프 공급 롤러(121)와 라미네이팅 구동 롤러(122) 사이에 배치되어 에칭 저항용 테이프(13)가 경유되며, 테이프 공급 롤러(121)에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프(13)를 라미네이팅 구동 롤러(122)로 전달하는 역할을 한다. 테이프 전달 롤러(124)로 인해 보호필름 회수 롤러(125)의 적용이 용이해질 수 있다.The tape transfer roller 124 is disposed between the tape supply roller 121 and the laminating drive roller 122 to pass through the etching resistance tape 13, and the etching resistance tape supplied from the tape supply roller 121 ( 13) serves to transfer to the laminating driving roller 122. Due to the tape transfer roller 124, the application of the protective film recovery roller 125 may be facilitated.

보호필름 회수 롤러(125)는 테이프 전달 롤러(124)에 이웃하게 배치되어 테이프 전달 롤러(124)와 상호작용하며, 테이프 전달 롤러(124)로 경유되는 에칭 저항용 테이프(13) 상의 보호필름(미도시)을 회수하는 역할을 한다. 보호필름 회수 롤러(125)를 통해 회수되는 보호필름은 폐기된다.The protective film recovery roller 125 is disposed adjacent to the tape transfer roller 124 to interact with the tape transfer roller 124, and the protective film on the tape 13 for etching resistance passed through the tape transfer roller 124 ( Not shown). The protective film recovered through the protective film recovery roller 125 is discarded.

에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)의 공정 후방에 제1 롤 시트 버퍼 유닛(130), 프리 에칭 유닛(140) 및 프리 세척 및 물기 제거기(145)가 순차적으로 배치된다.A first roll sheet buffer unit 130, a pre-etching unit 140, and a pre-cleaning and dewatering device 145 are sequentially disposed behind the process of the etching resistance tape laminating unit 120.

제1 롤 시트 버퍼 유닛(130)은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)과 프리 에칭 유닛(130) 사이에 배치되며, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)과 프리 에칭 유닛(130) 간의 공정 속도를 조절하는 역할을 한다.The first roll sheet buffer unit 130 is disposed between the etching resistance tape laminating unit 120 and the pre-etching unit 130, as shown in FIGS. 3 and 4, and the etching resistance tape laminating unit 120 ) And the pre-etching unit 130 serves to adjust the process speed.

프리 에칭 유닛(140)은 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 공정 라인(a) 상에서 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛(120)과 제1 에칭 유닛(150) 사이에 배치되며, 롤 시트(30)가 제1 에칭 유닛(150)으로 인입되어 에칭 공정을 진행하기 전에 롤 시트(30)에 대한 프리 에칭(pre etching)을 진행하는 역할을 한다.As shown in FIG. 3, the pre-etching unit 140 is disposed between the tape laminating unit 120 for etching resistance and the first etching unit 150 on the first process line (a), and the roll sheet 30 Is introduced into the first etching unit 150 and serves to perform pre-etching on the roll sheet 30 before proceeding with the etching process.

이러한 프리 에칭 유닛(140)은 에칭액이 충전되는 프리 에칭조(141)와, 프리 에칭조(141)에 마련되며, 롤 시트(30)가 프리 에칭조(141) 내의 에칭액에 디핑(deeping)되어 배출될 수 있도록 롤 시트(30)의 이송을 가이드하는 다수의 프리 에칭 가이드 롤러(142)를 포함할 수 있다.Such a pre-etching unit 140 is provided in a pre-etching bath 141 and a pre-etching bath 141 filled with an etchant, and the roll sheet 30 is dipped in the etchant in the pre-etching bath 141. It may include a plurality of pre-etching guide rollers 142 for guiding the transport of the roll sheet 30 so that it can be discharged.

롤 시트(30)가 프리 에칭 유닛(140)을 한 번 거친 후, 제1 에칭 유닛(150)을 통해 1차로 에칭되게 함으로써 에칭의 효율을 높일 수 있다. 하지만, 경우에 따라 프리 에칭 유닛(140)은 공정상 생략될 수도 있는데, 이처럼 프리 에칭 유닛(140)이 생략된 시스템 역시, 본 발명의 권리범위에 속한다 하여야 할 것이다.After the roll sheet 30 passes through the pre-etching unit 140 once, the etching efficiency may be improved by being firstly etched through the first etching unit 150. However, in some cases, the pre-etching unit 140 may be omitted in the process, and the system in which the pre-etching unit 140 is omitted is also within the scope of the present invention.

프리 세척 및 물기 제거기(145)는 도 3에 도시된 바와 같이, 프리 에칭 유닛(130)과 제1 에칭 유닛(150) 사이에 배치되며, 프리 에칭 공정이 진행된 롤 시트(30)를 세척하고 물기를 제거하는 역할을 한다. 롤 시트(30)는 프리 에칭 유닛(140)을 통해 가볍고 간단하게 프리 에칭된 상태이므로 프리 세척 및 물기 제거기(145) 역시 가볍고 간단하게 세척한다.The pre-cleaning and dewatering device 145 is disposed between the pre-etching unit 130 and the first etching unit 150, as shown in FIG. 3, and cleans and dries the roll sheet 30 on which the pre-etching process has been performed. It serves to remove. Since the roll sheet 30 is lightly and simply pre-etched through the pre-etching unit 140, the pre-cleaning and dewatering device 145 is also lightly and simply cleaned.

본 발명의 실시 예에서 프리 세척 및 물기 제거기(145)는 롤 시트(30)를 향해 워터(water)를 분사하면서 롤 시트(30)를 세척하는 프리 세척기(146)와, 세척이 완료된 롤 시트(30)의 표면에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 에어 나이프(147)를 포함할 수 있다. 프리 세척 및 물기 제거기(145)는 이하에서 설명할 기능성 비중수세 유닛(160)의 일부 구조와 유사하므로 프리 세척 및 물기 제거기(145)에 대한 자세한 설명은 후술할 기능성 비중수세 유닛(160)을 참조하기로 하고 여기서는 설명을 생략한다.In an embodiment of the present invention, the pre-washing and dewatering device 145 includes a pre-washer 146 for washing the roll sheet 30 while spraying water toward the roll sheet 30, and a roll sheet ( It may include an air knife 147 for removing water remaining on the surface of 30) with wind. Since the pre-cleaning and water removal device 145 is similar to a part of the structure of the functional specific gravity cleaning unit 160 to be described below, for a detailed description of the pre-cleaning and water removal device 145, refer to the functional specific gravity cleaning unit 160 to be described later. It will be described below, and the description is omitted here.

프리 세척 및 물기 제거기(145)의 공정 후방에 제1 에칭 유닛(150)이 마련된다. 제1 에칭 유닛(150)은 도 2, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 롤 시트(30)의 한쪽 면인 제1 면에 대한 대략 1/2 에칭 공정을 진행하는 역할을 한다.The first etching unit 150 is provided after the process of the pre-cleaning and dewatering device 145. As shown in FIGS. 2, 3 and 5, the first etching unit 150 serves to perform an approximately 1/2 etching process on the first surface, which is one side of the roll sheet 30.

이러한 제1 에칭 유닛(150)은 롤 시트 에칭 캐비닛(151)을 구비한다. 롤 시트 에칭 캐비닛(151)은 캐비닛 구조로서 그 내부에는 롤 시트(30)에 대한 에칭 공정을 진행하는 다수의 에칭 룸(151a)이 형성된다. 에칭 룸(151a)들은 서로 연통된다.This first etching unit 150 includes a roll sheet etching cabinet 151. The roll sheet etching cabinet 151 has a cabinet structure, and a plurality of etching rooms 151a for performing an etching process for the roll sheet 30 are formed therein. The etching rooms 151a communicate with each other.

롤 시트 에칭 캐비닛(151)에 롤 시트 인입 롤러부(152)와, 롤 시트 인출 롤러부(153)가 마련된다. 롤 시트 인입 롤러부(152)는 롤 시트 에칭 캐비닛(151)의 입구 영역에 배치되며, 롤 시트(30)를 롤 시트 에칭 캐비닛(151)의 내부로 인입시키는 역할을 한다. 그리고 롤 시트 인출 롤러부(153)는 롤 시트 에칭 캐비닛(151)의 출구 영역에 배치되며, 롤 시트(30)를 롤 시트 에칭 캐비닛(151)의 외부로 인출(배출)시키는 역할을 한다.The roll sheet etching cabinet 151 is provided with a roll sheet take-in roller part 152 and a roll sheet take-out roller part 153. The roll sheet lead-in roller portion 152 is disposed in the entrance region of the roll sheet etching cabinet 151 and serves to lead the roll sheet 30 into the inside of the roll sheet etching cabinet 151. Further, the roll sheet take-out roller unit 153 is disposed in the exit area of the roll sheet etching cabinet 151 and serves to take out (discharge) the roll sheet 30 to the outside of the roll sheet etching cabinet 151.

롤 시트 에칭 캐비닛(151) 내에는 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈(154)이 마련된다. 제1 에칭액 스프레이 모듈(154)들은 롤 시트 에칭 캐비닛(151) 내에서 이송 중인 롤 시트(30)를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하여 롤 시트(30)의 한쪽 면인 제1 면에 대한 대략 1/2 에칭 공정이 진행되게끔 한다. 후술할 제2 에칭액 스프레이 모듈(273)도 마찬가지지만 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈(154)이 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하기 때문에 에칭액 분사의 균일도를 확보할 수 있다.A plurality of first etchant spray modules 154 are provided in the roll sheet etching cabinet 151. The first etchant spray modules 154 spray the etchant toward the roll sheet 30 being transferred in the roll sheet etching cabinet 151 in a spray manner to approximately 1/ 2 Let the etching process proceed. The same applies to the second etchant spray module 273 to be described later, but since the plurality of first etchant spray modules 154 spray the etchant in a spray manner, uniformity of etchant spraying can be ensured.

제1 에칭 유닛(150)의 공정 후방에 기능성 비중수세 유닛(160)이 마련된다. 기능성 비중수세 유닛(160)은 도 3, 그리고 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 에칭 유닛(150)의 출구에 직결되며, 세척약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 롤 시트(30) 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하는 역할을 한다.A functional specific gravity washing unit 160 is provided behind the process of the first etching unit 150. The functional specific gravity washing unit 160 is directly connected to the outlet of the first etching unit 150, as shown in FIGS. 3 and 6, and the etching process is performed using washing water or water mixed with a washing chemical. It serves to remove the etching liquid or foreign matter remaining on the completed roll sheet 30.

이러한 기능성 비중수세 유닛(160)은 유닛 캐비닛(161)과, 유닛 캐비닛(161) 상에 비중수세 모듈(162), 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169), 그리고 물기 제거 모듈(178)이 일체로 탑재되는 구조를 갖는다. 이처럼 기능과 역할이 상이한 비중수세 모듈(162), 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169), 그리고 물기 제거 모듈(178)이 유닛 캐비닛(161) 상에 위치별로 탑재되어 하나의 기능성 비중수세 유닛(160)을 구현할 경우, 시스템에 설치하기가 용이할 뿐만 아니라 위치 이동이 자유로워지는 이점이 있다. 따라서 기능성 비중수세 유닛(160)은 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 에칭 유닛(150)의 공정 후방뿐만 아니라 제2 에칭 유닛(270)의 공정 후방에도 용이하게 적용될 수 있다.The functional specific gravity washing unit 160 includes a unit cabinet 161, a specific gravity washing module 162 on the unit cabinet 161, first to third washing modules 167 to 169, and a moisture removing module 178. It has a structure to be mounted integrally. In this way, the specific gravity washing module 162, the first to third washing modules 167 to 169, and the moisture removal module 178 having different functions and roles are mounted on the unit cabinet 161 for each location to be one functional specific gravity washing. When implementing the unit 160, there is an advantage in that it is easy to install in the system as well as freely move the position. Therefore, the functional specific gravity washing unit 160 can be easily applied not only to the rear of the first etching unit 150 but also to the rear of the second etching unit 270 as shown in FIG. 3.

유닛 캐비닛(161)은 기능성 비중수세 유닛(160)의 외관을 이룬다. 유닛 캐비닛(161)에 비중수세 모듈(162), 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169), 그리고 물기 제거 모듈(178)이 위치별로 탑재되어야 하기 때문에 유닛 캐비닛(161)은 강성이 우수한 금속 프레임으로 제작된다.The unit cabinet 161 forms the appearance of the functional specific gravity washing unit 160. The unit cabinet 161 is made of metal with excellent rigidity because the specific gravity washing module 162, the first to third washing modules 167 to 169, and the moisture removing module 178 must be mounted in each position. It is made with a frame.

유닛 캐비닛(161)의 하단부에는 높이 조절 및 지면 지지를 위한 푸트(161a)가 배치될 수 있다. 유닛 캐비닛(161)의 후면에는 비중수세 모듈(162), 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169) 쪽으로 세척약품이 혼합된 세척수 혹은 워터를 정량과 정압으로 공급하기 위한 수단들이 갖춰진다.A foot 161a for height adjustment and ground support may be disposed at the lower end of the unit cabinet 161. The rear of the unit cabinet 161 is provided with means for supplying the washing water or water mixed with the washing chemical toward the specific gravity washing module 162 and the first to third washing modules 167 to 169 at a fixed quantity and a positive pressure.

유닛 캐비닛(161)의 하부에는 제1 드레인부(179a)와, 제2 드레인부(179b)가 마련된다. 제1 드레인부(179a)는 유닛 캐비닛(161)의 하부 일측에 배치되며, 비중수세 모듈(162)에서 낙하되는 세척약품이 혼합된 세척수를 받아 드레인(drain)시킨다. 그리고 제2 드레인부(179b)는 유닛 캐비닛(161)의 하부 타측에 배치되며, 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)에서 낙하되는 워터를 받아 드레인(drain)시킨다.A first drain part 179a and a second drain part 179b are provided under the unit cabinet 161. The first drain part 179a is disposed at a lower side of the unit cabinet 161 and receives and drains the washing water mixed with the washing agent falling from the specific gravity washing module 162. In addition, the second drain part 179b is disposed on the other side of the lower part of the unit cabinet 161 and receives and drains water falling from the first to third flushing modules 167 to 169.

비중수세 모듈(162)은 유닛 캐비닛(161)의 상부 일측에 마련되며, 세척약품이 혼합된 세척수를 이용해서 에칭 공정이 완료된 롤 시트(30) 상에 잔존되는 에칭액을 제거하는 역할을 한다. 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169), 그리고 물기 제거 모듈(178)도 마찬가지지만 비중수세 모듈(162)은 캐비닛 혹은 서랍 구조를 갖는다. 따라서 내부의 구성들을 설치하거나 유지보수하는데 수월하다.The specific gravity washing module 162 is provided on one side of the upper portion of the unit cabinet 161 and serves to remove the etching liquid remaining on the roll sheet 30 on which the etching process has been completed using the washing water mixed with the washing chemical. The first to third flushing modules 167 to 169 and the water removing module 178 are the same, but the specific gravity flushing module 162 has a cabinet or drawer structure. Therefore, it is easy to install or maintain the internal components.

이러한 비중수세 모듈(162)은 비중수세 모듈 하우징(163), 롤 시트 이송부(164), 상부 배관부(165), 하부 배관부(166), 그리고 배관 구동부(170)를 포함할 수 있다.The specific gravity washing module 162 may include a specific gravity washing module housing 163, a roll sheet transfer unit 164, an upper pipe part 165, a lower pipe part 166, and a pipe driving part 170.

비중수세 모듈 하우징(163)은 박스형 캐비닛 형상을 갖는 외관 프레임이다. 비중수세 모듈 하우징(163)의 일측에는 롤 시트(30)가 유입되는 유입부(163a)가 형성된다. 유입부(163a)로 유입되는 롤 시트(30)는 비중수세 모듈(162), 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169), 그리고 물기 제거 모듈(178)을 차례로 거친 후, 물기 제거 모듈 하우징(178a)의 배출부(178c)로 배출되며, 이후에는 제1 롤 시트 건조 유닛(105)로 향한다.The specific gravity flushing module housing 163 is an exterior frame having a box-type cabinet shape. An inlet part 163a through which the roll sheet 30 is introduced is formed at one side of the specific gravity washing module housing 163. The roll sheet 30 flowing into the inlet 163a passes through the specific gravity washing module 162, the first to third washing modules 167 to 169, and the moisture removing module 178 in order, and then the moisture removing module housing. It is discharged to the discharge part 178c of (178a), and it is directed to the 1st roll sheet drying unit 105 after that.

롤 시트 이송부(164)는 비중수세 모듈 하우징(163) 내에 배치되며, 유입부(163a)를 통과한 롤 시트(30)를 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169) 측으로 이송시키는 역할을 한다. 다수의 롤러와 기어(베벨 기어 포함)의 조합으로 형성되는 롤 시트 이송부(164)는 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)에 모두 동일한 형태로 마련될 수 있다.The roll sheet transfer unit 164 is disposed in the specific gravity washing module housing 163 and serves to transfer the roll sheet 30 that has passed through the inlet unit 163a to the first to third washing modules 167 to 169. . The roll sheet conveying part 164 formed by a combination of a plurality of rollers and gears (including bevel gears) may be provided in the first to third washing modules 167 to 169 in the same shape.

상부 배관부(165)는 롤 시트 이송부(164)의 상부에 배치되는 배관이다. 상부 배관부(165)에는 롤 시트 이송부(164)의 작용으로 이송 중인 롤 시트(30)를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 하향 분사하는 다수의 상부 분사노즐(165a)이 마련된다.The upper pipe part 165 is a pipe disposed above the roll sheet transfer part 164. The upper pipe part 165 is provided with a plurality of upper spray nozzles 165a for spraying the washing water mixed with the cleaning agent downward toward the roll sheet 30 being transferred by the action of the roll sheet transfer part 164.

하부 배관부(166)는 상부 배관부(165)의 하부에 배치되는 배관이다. 하부 배관부(166)에는 롤 시트 이송부(164)의 작용으로 이송 중인 롤 시트(30)를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 상향 분사하는 다수의 하부 분사노즐(166a)이 마련된다.The lower pipe part 166 is a pipe disposed under the upper pipe part 165. The lower pipe part 166 is provided with a plurality of lower spray nozzles 166a for spraying the washing water mixed with the cleaning agent upward toward the roll sheet 30 being transferred by the action of the roll sheet transfer part 164.

한편, 배관 구동부(170)는 상부 배관부(165) 및 하부 배관부(166)와 연결되며, 롤 시트(30) 상으로 분사되는 세척약품이 혼합된 세척수의 분사 균일도 확보를 위하여 상부 배관부(165) 및 하부 배관부(166)를 적어도 일 방향으로 구동시키는 역할을 한다. 예컨대, 배관 구동부(170)가 상부 배관부(165) 및 하부 배관부(166)를 교번적으로 전후진 구동시킬 수 있다. 이처럼 배관 구동부(170)가 상부 배관부(165) 및 하부 배관부(166)를 교번적으로 전후진 구동시키면서 세척약품이 혼합된 세척수가 롤 시트(30)로 분사될 경우, 얼룩이 생기는 것을 방지할 수 있고, 세척의 균일도를 향상시킬 수 있다.Meanwhile, the pipe driving unit 170 is connected to the upper pipe part 165 and the lower pipe part 166, and the upper pipe part ( It serves to drive the 165 and the lower pipe portion 166 in at least one direction. For example, the pipe driving part 170 may alternately drive the upper pipe part 165 and the lower pipe part 166 forward and backward. In this way, when the pipe driving unit 170 alternately drives the upper pipe part 165 and the lower pipe part 166 forward and backward, and the washing water mixed with the cleaning agent is sprayed to the roll sheet 30, the occurrence of stains is prevented. And improve the uniformity of washing.

배관 구동부(170)는 유닛 캐비닛(161)의 일측에 결합되는 구동 하우징(171)에 부품이 결합되는 형태로 마련된다. 이러한 배관 구동부(170)는 상부 배관부(165)와 연결되고 상부 배관부(165)를 슬라이딩 구동시키는 상부 슬라이더(172)와, 구동 하우징(171)의 상부에 배치되고 상부 슬라이더(172)와 연결되며, 상부 배관부(165)가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 상부 슬라이딩 플레이트(173)와, 하부 배관부(166)와 연결되고 하부 배관부(166)를 슬라이딩 구동시키는 하부 슬라이더(174)와, 구동 하우징(171)의 상부에 배치되고 하부 슬라이더(174)와 연결되며, 하부 배관부(166)가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 하부 슬라이딩 플레이트(175)를 포함한다.The pipe driving unit 170 is provided in a form in which components are coupled to a driving housing 171 coupled to one side of the unit cabinet 161. The pipe drive unit 170 is connected to the upper pipe part 165 and is disposed on the upper slider 172 for sliding the upper pipe part 165 and is disposed on the driving housing 171 and connected to the upper slider 172 And, an upper sliding plate 173 sliding in a direction in which the upper pipe part 165 is driven, a lower slider 174 connected to the lower pipe part 166 and slidingly driving the lower pipe part 166, It is disposed above the driving housing 171, is connected to the lower slider 174, and includes a lower sliding plate 175 sliding in the direction in which the lower pipe portion 166 is driven.

이와 같은 구조에서 상부 슬라이더(172)와 하부 슬라이더(174)를 교번적으로 구동시키기 위해 슬라이더 구동부(176)가 배관 구동부(170)에 마련된다. 슬라이더 구동부(176)는 구동 하우징(171)에 마련되고 상부 슬라이딩 플레이트(173) 및 하부 슬라이딩 플레이트(175)와 연결되며, 상부 슬라이더(172)와 하부 슬라이더(174)를 교번적으로 구동시키는 역할을 한다. 이처럼 슬라이더 구동부(176)가 상부 슬라이더(172)와 하부 슬라이더(174)를 교번적으로 구동시킴에 따라 상부 배관부(165) 및 하부 배관부(166)가 교번적으로 전후진 구동될 수 있게 되고, 이러한 작용을 통해 세척약품이 혼합된 세척수가 롤 시트(30)로 분사되기 때문에 세척의 균일도를 향상시킬 수 있게 되는 것이다.In this structure, the slider driving unit 176 is provided in the pipe driving unit 170 to alternately drive the upper slider 172 and the lower slider 174. The slider driving unit 176 is provided in the driving housing 171 and is connected to the upper sliding plate 173 and the lower sliding plate 175, and serves to alternately drive the upper slider 172 and the lower slider 174. do. As the slider driving part 176 alternately drives the upper slider 172 and the lower slider 174, the upper pipe part 165 and the lower pipe part 166 can be alternately driven forward and backward. , Through this action, since the washing water mixed with the washing agent is sprayed to the roll sheet 30, it is possible to improve the uniformity of washing.

슬라이더 구동부(176)는 감속기(176a)가 연결되며, 동력을 발생시키는 서보모터(176b)와, 구동 하우징(171) 내에서 상부 슬라이딩 플레이트(173) 및 하부 슬라이딩 플레이트(175) 사이에 배치되며, 서보모터(176b)에 연결되어 서보모터(176b)의 동작에 의해 회전되는 로테이팅 샤프트(176c)와, 로테이팅 샤프트(176c)의 상단부에 연결되어 로테이팅 샤프트(176c)와 동회전되는 상부 캠 플레이트(176d)와, 상부 슬라이딩 플레이트(173)의 상부 장공(173a)을 경유해서 상부 캠 플레이트(176d)에 결합되는 상부 결합부재(176e)와, 로테이팅 샤프트(176c)의 하단부에 연결되어 로테이팅 샤프트(176c)와 동회전되는 하부 캠 플레이트(176f)와, 하부 슬라이딩 플레이트(175)의 하부 장공(175a)을 경유해서 하부 캠 플레이트(176f)에 결합되는 하부 결합부재(176g)를 포함할 수 있다. 이러한 구성에 의해, 서보모터(176b)가 동작되어 로테이팅 샤프트(176c)가 회전되면 상부 캠 플레이트(176d) 및 하부 캠 플레이트(176f)가 각각 회전되는 작용을 이끌어낼 수 있고, 이로 인해 상부 슬라이더(172)와 하부 슬라이더(174)가 교번적으로 전후진 구동될 수 있다.The slider driving unit 176 is connected to the reducer 176a and is disposed between the servomotor 176b generating power and the upper sliding plate 173 and the lower sliding plate 175 in the driving housing 171, The rotating shaft 176c connected to the servomotor 176b and rotated by the operation of the servomotor 176b, and the upper cam connected to the upper end of the rotating shaft 176c and rotated cooperatively with the rotating shaft 176c. The plate 176d and the upper coupling member 176e coupled to the upper cam plate 176d via the upper long hole 173a of the upper sliding plate 173, and the lower end of the rotating shaft 176c are rotated. It includes a lower cam plate (176f) co-rotating with the ting shaft (176c), and a lower coupling member (176g) coupled to the lower cam plate (176f) via the lower long hole (175a) of the lower sliding plate (175). I can. With this configuration, when the servomotor 176b is operated and the rotating shaft 176c is rotated, the upper cam plate 176d and the lower cam plate 176f can each be rotated, thereby leading to an action of rotating the upper slider. The 172 and the lower slider 174 may be alternately driven forward and backward.

제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)은 유닛 캐비닛(161) 상에서 비중수세 모듈(162)에 이웃하게 배치되며, 비중수세 모듈(162)을 지난 롤 시트(30)에 대하여 워터를 이용해서 롤 시트(30) 상에 잔존되는 이물을 제거하는 역할을 한다.The first to third flushing modules 167 to 169 are disposed adjacent to the specific gravity flushing module 162 on the unit cabinet 161, and use water for the roll sheet 30 that has passed the specific gravity flushing module 162. It serves to remove foreign matter remaining on the roll sheet 30.

본 발명의 실시 예의 경우, 3개의 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)을 포함할 수 있다. 물론, 이의 수치에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다. 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)은 측 방향으로 인접되게 배치되며, 후(後) 공정으로 갈수록 워터의 분사강도가 점진적으로 약해지게 배치된다.In the case of an embodiment of the present invention, three first to third flushing modules 167 to 169 may be included. Of course, the scope of the present invention is not limited to the numerical values thereof. The first to third flushing modules 167 to 169 are disposed adjacent to each other in the lateral direction, and the spraying strength of water gradually weakens as the process proceeds.

제1 내지 제3 수세 모듈(167~169) 모두는 수세 모듈 하우징(167a~169a)과, 수세 모듈 하우징(167a~169a) 내에서 이송 중인 롤 시트(30)의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 롤 시트(30)를 향해 상기 워터를 분사하는 다수의 워터 분사기(167b~169b)를 포함할 수 있다. 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)에 마련되는 워터 분사기(167b~169b)들의 개수가 다를 뿐 제1 내지 제3 수세 모듈(167~169)에 마련되는 워터 분사기(167b~169b)의 역할은 동일하다. 비중수세 모듈(162)과 마찬가지로 워터 분사기(167b~169b)가 워터를 분사하는 형태로 세척하기 때문에 얼룩이 생기지 않으며, 균일도를 확보하는 데 유리하다.All of the first to third flushing modules 167 to 169 are disposed at the top and bottom of the roll sheet 30 being transferred within the flush module housings 167a to 169a and the flush module housings 167a to 169a. It may include a plurality of water injectors (167b ~ 169b) for spraying the water toward the roll sheet 30 at the position. The number of water sprayers 167b to 169b provided in the first to third flushing modules 167 to 169 is different, but the number of water sprayers 167b to 169b provided at the first to third flushing modules 167 to 169 is different. The role is the same. Like the specific gravity washing module 162, since the water sprayers 167b to 169b wash in a form that sprays water, stains do not occur, and it is advantageous to ensure uniformity.

물기 제거 모듈(178)은 유닛 캐비닛(161) 상에서 제3 수세 모듈(169)에 이웃하게 배치되며, 제3 수세 모듈(169)을 지난 롤 시트(30)에 대하여 롤 시트(30) 상에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 역할을 한다.The moisture removal module 178 is disposed adjacent to the third flush module 169 on the unit cabinet 161, and remains on the roll sheet 30 with respect to the roll sheet 30 that has passed the third flush module 169. It plays a role in removing moisture as possible with the wind.

이러한 물기 제거 모듈(178)은 물기 제거 모듈 하우징(178a)과, 물기 제거 모듈 하우징(178a) 내에서 이송 중인 롤 시트(30)의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 롤 시트(30)를 향해 일자형 에어(air)를 분사하는 다수의 에어 나이프(178b, air knife)를 포함한다. 에어 나이프(178b)의 일자형 출구에서 강한 바람(에어)이 분사되어 롤 시트(30)로 향하기 때문에 롤 시트(30) 상의 잔존 물기가 제거될 수 있다.The moisture removal module 178 is disposed on the top and bottom of the moisture removal module housing 178a and the roll sheet 30 being transferred in the moisture removal module housing 178a, and the roll sheet 30 is removed at the corresponding position. It includes a plurality of air knives 178b (air knives) for injecting straight air toward. Since strong wind (air) is sprayed from the straight outlet of the air knife 178b and is directed to the roll sheet 30, residual water on the roll sheet 30 may be removed.

기능성 비중수세 유닛(160)의 공정 후방에 제1 롤 시트 건조 유닛(105), 에칭 저항용 테이프 박리 유닛(180), 그리고 롤 시트 회수 유닛(112)이 순서대로 배치된다.A first roll sheet drying unit 105, an etching resistance tape peeling unit 180, and a roll sheet recovery unit 112 are sequentially disposed behind the process of the functional specific gravity washing unit 160.

제1 롤 시트 건조 유닛(105)은 도 3에 도시된 바와 같이, 기능성 비중수세 유닛(160)의 공정 후방에 배치되며, 기능성 비중수세 유닛(160)을 거쳐 세척이 완료된 롤 시트(30)를 건조하는 역할을 한다. 제1 롤 시트 건조 유닛(105)은 열풍 건조일 수 있으며, 제1 롤 시트 건조 유닛(105)을 지난 롤 시트(30)는 물기가 전혀 없는 상태를 취한다.The first roll sheet drying unit 105 is disposed at the rear of the process of the functional specific gravity washing unit 160, as shown in FIG. 3, and passes through the functional specific gravity washing unit 160 to the roll sheet 30 that has been washed. It serves to dry. The first roll sheet drying unit 105 may be hot air drying, and the roll sheet 30 that has passed the first roll sheet drying unit 105 takes on a state where there is no moisture.

에칭 저항용 테이프 박리 유닛(180)은 도 3 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1 에칭 유닛(150)의 공정 후방에 배치되며, 1차 에칭 공정을 위해 라미네이팅되었던 에칭 저항용 테이프(33)를 박리하는 역할을 한다. 이러한 에칭 저항용 테이프 박리 유닛(180)은 박리용 광 조사기(181)와, 에칭 저항용 테이프 회수기(183)를 포함할 수 있다.The etching resistance tape peeling unit 180 is disposed behind the process of the first etching unit 150, as shown in FIGS. 3 and 7, and the etching resistance tape 33 that has been laminated for the first etching process. It serves to peel. The etching resistance tape peeling unit 180 may include a peeling light irradiation unit 181 and an etching resistance tape recovery unit 183.

박리용 광 조사기(181)는 에칭 저항용 테이프(33)가 롤 시트(30)로부터 박리되도록 에칭 저항용 테이프(33)를 향해 광(光)을 조사하는 역할을 한다. 이때의 광은 자외선일 수 있다.The peeling light irradiator 181 serves to irradiate light toward the etching resistance tape 33 so that the etching resistance tape 33 is peeled off from the roll sheet 30. The light at this time may be ultraviolet rays.

에칭 저항용 테이프 회수기(183)는 박리용 광 조사기(181)의 공정 후방에 배치되며, 박리용 광 조사기(181)의 작용으로 롤 시트(30)에서 박리되는 에칭 저항용 테이프(33)를 회수하는 역할을 한다. 에칭 저항용 테이프 회수기(183)를 통해 회수되는 에칭 저항용 테이프(33)는 폐기된다.The etching resistance tape recovery device 183 is disposed behind the process of the peeling light irradiator 181, and recovers the etching resistance tape 33 peeled off from the roll sheet 30 by the action of the peeling light irradiation device 181. Plays a role. The etching resistance tape 33 recovered through the etching resistance tape recovery device 183 is discarded.

에칭 저항용 테이프 회수기(183)는 에칭 저항용 테이프(33)에 접촉 회전되면서 롤 시트(30)로부터 에칭 저항용 테이프(33)를 박리하는 테이프 박리용 구동 롤러(184)와, 롤 시트(30)를 사이에 두고 테이프 박리용 구동 롤러(184)의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 테이프 박리용 종동 롤러(185)와, 박리되는 에칭 저항용 테이프(33)를 감아 회수하는 테이프 회수 롤러(186)와, 테이프 박리용 구동 롤러(184)와 테이프 회수 롤러(186) 사이에 배치되며, 회수되는 테이프를 가이드하는 테이프 가이드 롤러(187)를 포함할 수 있다.The etching resistance tape recovery device 183 includes a tape peeling drive roller 184 for peeling the etching resistance tape 33 from the roll sheet 30 while rotating in contact with the etching resistance tape 33, and a roll sheet 30. ) Interposed between the tape peeling driven roller 185 rotatably disposed on the opposite side of the tape peeling drive roller 184, and a tape recovery roller 186 for winding and recovering the peeling etching resistance tape 33 And, it is disposed between the tape peeling drive roller 184 and the tape recovery roller 186, may include a tape guide roller 187 for guiding the recovered tape.

이처럼 에칭 저항용 테이프 회수기(183)가 롤 타입으로 구동되면서 에칭 저항용 테이프(33)를 박리해서 회수하기 때문에 공정이 중단될 필요가 없으며, 이로 인해 생산성 향상에 기여할 수 있다.As described above, since the etching resistance tape recovery device 183 is driven in a roll type and peels and recovers the etching resistance tape 33, there is no need to stop the process, thereby contributing to productivity improvement.

롤 시트 회수 유닛(112)은 도 3 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1 공정 라인(a) 상에서 롤 시트 공급 유닛(110)의 반대편에 배치되며, 롤 시트(30)의 제1 면이 에칭되고 에칭 저항용 테이프(33)가 박리된 롤 시트(30)를 회수하는 역할을 한다. 물론, 앞서도 기술한 것처럼 롤 시트 회수 유닛(112)이 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)과 연결되어 하나의 기능성 장치로 사용될 수도 있다.The roll sheet recovery unit 112 is disposed opposite the roll sheet supply unit 110 on the first process line (a), as shown in FIGS. 3 and 7, and the first side of the roll sheet 30 is It serves to recover the roll sheet 30 from which the etching resisting tape 33 has been peeled off. Of course, as previously described, the roll sheet recovery unit 112 may be connected to the roll sheet supply unit 210 after etching to be used as a functional device.

한편, 제2 공정 라인(b)에는 공정이 진행되는 방향을 따라 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210), 에칭 저항제 도포 유닛(220), 제2 롤 시트 건조 유닛(231), 에칭 저항제 경화 유닛(235), 롤 시트 절단 유닛(250), 캐리어 라미네이팅 유닛(260), 그리고 제2 에칭 유닛(270)이 배치된다. On the other hand, in the second process line (b), after etching along the direction in which the process proceeds, the roll sheet supply unit 210, the etching resistance coating unit 220, the second roll sheet drying unit 231, and the etching resistance are cured. A unit 235, a roll sheet cutting unit 250, a carrier laminating unit 260, and a second etching unit 270 are disposed.

에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)은 도 3 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 공정 라인(a)을 통해 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 롤 시트(30)를 제2 공정 라인(b)으로 공급하는 역할을 한다.After etching, the roll sheet supply unit 210 transfers the roll sheet 30 on which the etching process for the first surface is completed through the first process line (a) as shown in FIGS. 3 and 8 to a second process line ( b) serves to supply.

에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)이 롤 시트(30)를 제2 공정 라인(b)으로 공급할 때, 제1 공정 라인(a)에서 에칭이 된 면이 상부를 향하도록 한다. 그리고 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 롤 시트(30)는 제2 롤 시트 구동 롤러(102, 도 9 참조)의 작용으로 제2 공정 라인(b)으로 공급된다. 다시 말해, 제2 롤 시트 구동 롤러(102)는 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)의 롤 시트(30)를 롤 시트 절단 유닛(250) 쪽으로 구동시킨다. 제2 롤 시트 구동 롤러(102)는 전술한 제1 롤 시트 구동 롤러(101)와 동일한 역할, 즉 모터의 구동력으로 롤 시트(30)를 당겨 이동시키는 역할을 한다.When the roll sheet supply unit 210 supplies the roll sheet 30 to the second process line b after etching, the etched side of the first process line a faces upward. In addition, the roll sheet 30 on which the etching process for the first surface has been completed is supplied to the second process line b by the action of the second roll sheet driving roller 102 (refer to FIG. 9). In other words, the second roll sheet driving roller 102 drives the roll sheet 30 of the roll sheet supply unit 210 toward the roll sheet cutting unit 250 after etching. The second roll sheet driving roller 102 has the same role as the first roll sheet driving roller 101 described above, that is, a role of pulling and moving the roll sheet 30 by the driving force of the motor.

에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)의 공정 후방에 제2 롤 시트 버퍼 유닛(218)이 마련된다. 제2 롤 시트 버퍼 유닛(218)은 도 3 및 도 8에 도시된 바와 같이, 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)과 에칭 저항제 도포 유닛(220) 사이에 배치되며, 에칭 후 롤 시트 공급 유닛(210)과 에칭 저항제 도포 유닛(220) 간의 공정 속도를 조절하는 역할을 한다.After etching, a second roll sheet buffer unit 218 is provided behind the process of the roll sheet supply unit 210. The second roll sheet buffer unit 218 is disposed between the roll sheet supply unit 210 and the etching resistor coating unit 220 after etching, as shown in FIGS. 3 and 8, and the roll sheet supply unit after etching It serves to control the process speed between 210 and the etching resistance coating unit 220.

제2 롤 시트 버퍼 유닛(218)의 공정 후방에 에칭 저항제 도포 유닛(220)이 마련된다. 에칭 저항제 도포 유닛(220)은 도 2, 도 3 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 공정 라인(a) 상에서 1/2 에칭 공정이 완료된 롤 시트(30)의 제1 면에 에칭에 저항하는 에칭 저항제(14)를 도포하는 역할을 한다. 롤 시트(30)의 제1 면은 이미 에칭이 되어 예컨대, 1/2 단면이 홈 형태로 파인 상태이므로 이곳에 전술한 에칭 저항용 테이프(33)를 라미네이팅하기가 곤란하다. 때문에, 도 2의 (e)처럼 에칭 저항용 테이프(33) 대신 같은 기능을 담당하는 에칭 저항제(14)가 도포된다.An etching resistance agent application unit 220 is provided behind the process of the second roll sheet buffer unit 218. As shown in Figs. 2, 3, and 8, the etching resistance coating unit 220 is applied to the first surface of the roll sheet 30 on which the 1/2 etching process has been completed on the first process line (a). It serves to apply the resistive etching resistance 14. Since the first surface of the roll sheet 30 has already been etched and, for example, a half cross section is in a groove shape, it is difficult to laminate the above-described etching resistance tape 33 thereon. Therefore, instead of the etching resistance tape 33 as shown in FIG. 2E, the etching resistance agent 14 serving the same function is applied.

에칭 저항제 도포 유닛(220)의 공정 후방에 제2 롤 시트 건조 유닛(231)과, 에칭 저항제 경화 유닛(235)이 차례로 배치된다.A second roll sheet drying unit 231 and an etching resistance curing unit 235 are sequentially disposed behind the process of the etching resistance coating unit 220.

제2 롤 시트 건조 유닛(231)은 도 3 및 도 8에 도시된 바와 같이, 에칭 저항제 도포 유닛(220)과 에칭 저항제 경화 유닛(235) 사이에 배치되며, 에칭 저항제(14)가 도포된 롤 시트(30)를 건조하는 역할을 한다. 제2 롤 시트 건조 유닛(231) 역시, 전술한 제1 롤 시트 건조 유닛(105)과 마찬가지로 열풍 건조일 수 있다.The second roll sheet drying unit 231 is disposed between the etching resistance coating unit 220 and the etching resistance curing unit 235, as shown in FIGS. 3 and 8, and the etching resistance 14 It serves to dry the applied roll sheet 30. The second roll sheet drying unit 231 may also be hot air drying, similar to the first roll sheet drying unit 105 described above.

에칭 저항제 경화 유닛(235)은 에칭 저항제 도포 유닛(220)의 공정 후방에 배치되며, 에칭 저항제(14)를 경화시키는 역할을 한다. 에칭 저항제 도포 유닛(220)을 통해 롤 시트(30)의 제1 면에 도포된 에칭 저항제(14)는 젤(gel) 타입일 수 있는데, 경화되지 않으면 2차 에칭 시 흘러내릴 수 있기 때문에 에칭 저항제 경화 유닛(235)을 통해 제1 면에 도포된 에칭 저항제(14)가 경화될 수 있게끔 한다.The etching resistance curing unit 235 is disposed behind the process of the etching resistance applying unit 220 and serves to cure the etching resistance 14. The etching resistance 14 applied to the first surface of the roll sheet 30 through the etching resistance application unit 220 may be a gel type, but if not cured, it may flow down during the secondary etching. The etching resistor 14 applied to the first surface through the etching resistor curing unit 235 may be cured.

제2 공정 라인(b) 상에서 에칭 저항제 경화 유닛(235)의 공정 후방에 롤 시트 절단 유닛(250)이 마련된다. 롤 시트 절단 유닛(250)은 도 3 및 도 9에 도시된 바와 같이, 에칭 저항제 도포 유닛(220)의 공정 후방에 배치되며, 롤 시트(30)를 단위 사이즈의 단위 시트(20)로 절단하는 역할을 한다. 단위 사이즈는 휴대폰 사이즈 혹은 모니터 사이즈 등 다양할 수 있다.The roll sheet cutting unit 250 is provided behind the process of the etching resistance curing unit 235 on the second process line b. The roll sheet cutting unit 250 is disposed behind the process of the etching resistance application unit 220, as shown in FIGS. 3 and 9, and cuts the roll sheet 30 into a unit sheet 20 of a unit size. Plays a role. The unit size can vary, such as the size of a mobile phone or a monitor.

도 9의 도면에는 롤 시트 절단 유닛(250)이 극히 개략적으로 도시되었는데, 롤 시트 절단 유닛(250)은 상하로 구동되면서 이송 중인 롤 시트(30)를 절단하는 커터(251, cutter)와, 절단 대상의 롤 시트(30)를 지지하는 절단 다이(252)를 포함할 수 있다.In the drawing of FIG. 9, a roll sheet cutting unit 250 is shown very schematically, and the roll sheet cutting unit 250 is driven up and down while a cutter 251 (cutter) for cutting the roll sheet 30 being transferred, and cutting It may include a cutting die 252 that supports the roll sheet 30 of the subject.

정확한 사이즈로 절단되는 한편 절단의 효율이 높아질 수 있도록 절단 다이(252)의 전방에는 롤 시트(30)를 펼쳐주는 펼침 롤러(253)가 회전 가능하게 배치될 수 있다.The spreading roller 253 spreading the roll sheet 30 may be rotatably disposed in front of the cutting die 252 so as to be cut to an accurate size while increasing the cutting efficiency.

롤 시트(30)의 절단 작업 시 롤 시트(30)의 이송이 잠깐 정지될 수 있는데, 이때 앞 공정에서 진행 중인 롤 시트(30)의 진행 흐름을 보상하기 위해 전동식 버퍼 롤(254)이 펼침 롤러(253)의 전방에 배치될 수 있다.During the cutting operation of the roll sheet 30, the transfer of the roll sheet 30 may be temporarily stopped. At this time, the electric buffer roll 254 is a spreading roller to compensate for the flow of the roll sheet 30 in progress in the previous process. It can be placed in front of 253.

캐리어 라미네이팅 유닛(260)은 도 3 및 도 9에 도시된 바와 같이, 롤 시트 절단 유닛(250)의 공정 후방에 배치되며, 단위 시트(20)의 이송을 위하여 단위 시트(20)에 캐리어(50, carrier)를 라미네이팅(laminating)하는 역할을 한다.The carrier laminating unit 260 is disposed behind the process of the roll sheet cutting unit 250, as shown in FIGS. 3 and 9, and the carrier 50 is attached to the unit sheet 20 for transport of the unit sheet 20. , the carrier) serves to laminating.

롤 시트(30)는 롤-투-롤(roll to roll) 방식이라서 이송에 무리가 없지만 얇은 박막 형태의 단위 시트(20)는 단독으로 이송되기에 곤란하다. 따라서 단위 시트(20)를 지지하는 한편 단위 시트(20)를 이송시키기 위해 단위 시트(20)에 캐리어(50)가 라미네이팅된다. 캐리어(50)는 글라스(glass) 재질일 수 있으며, 단위 시트(20)의 상부에 라미네이팅된다. 캐리어 라미네이팅 유닛(260)과 시트 에칭 유닛(270) 사이에는 중간 이동 롤러(262)가 배치된다.Since the roll sheet 30 is a roll-to-roll method, it is not unreasonable to transfer, but it is difficult to transfer the unit sheet 20 in the form of a thin thin film alone. Accordingly, the carrier 50 is laminated to the unit sheet 20 to support the unit sheet 20 while transporting the unit sheet 20. The carrier 50 may be made of glass, and is laminated on the top of the unit sheet 20. An intermediate moving roller 262 is disposed between the carrier laminating unit 260 and the sheet etching unit 270.

시트 에칭 유닛(270)은 도 2, 도 3 및 도 10에 도시된 바와 같이, 캐리어 라미네이팅 유닛(260)의 공정 후방에 배치되며, 단위 시트(20)의 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 역할을 한다. 롤 시트(30)의 상태에서 제1 에칭 유닛(150)을 통해 1차로 에칭 공정이 진행되고 단위 시트(20)의 상태에서 시트 에칭 유닛(270)을 통해 2차로 에칭 공정이 진행됨에 따라 단위 시트(20)에 비로소 전술한 패턴홀(33, pattern hole, 도 1 참조)이 형성될 수 있다.The sheet etching unit 270 is disposed behind the process of the carrier laminating unit 260, as shown in FIGS. 2, 3, and 10, and performs an etching process on the second surface of the unit sheet 20. Plays a role. In the state of the roll sheet 30, the first etching process is performed through the first etching unit 150, and the second etching process is performed through the sheet etching unit 270 in the state of the unit sheet 20. Only in the (20) the above-described pattern hole (33, pattern hole, see FIG. 1) can be formed.

한편, 본 발명의 실시 예에 적용되는 시트 에칭 유닛(260)은 캐리어(50)가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되는 속도 가변형 제2 에칭 유닛(270)이다.On the other hand, the sheet etching unit 260 applied to the embodiment of the present invention is a speed-variable second etching unit 270 in which the speed is accelerated at the inlet and outlet through which the carrier 50 is introduced and discharged.

이처럼 캐리어(50)가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되도록 할 경우, 입출구에서의 불량을 줄일 수 있다. 실제, 단위 시트(20)가 유입되고 배출되는 입출구 영역에서 불량률이 높다는 점을 고려해볼 때, 제2 에칭 유닛(270)의 적용으로 불량률을 감소시킬 수 있는 이점이 있다. 이러한 제2 에칭 유닛(270)은 시트형 유닛 바디부(271), 캐리어 이동모듈(272), 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈(273), 그리고 캐리어 가속모듈(274)을 포함한다.In this way, when the speed is accelerated at the entrance and exit through which the carrier 50 is introduced and discharged, defects at the entrance and exit can be reduced. In fact, considering that the defective rate is high in the inlet and outlet regions through which the unit sheet 20 is introduced and discharged, there is an advantage of reducing the defective rate by applying the second etching unit 270. The second etching unit 270 includes a sheet-shaped unit body portion 271, a carrier moving module 272, a plurality of second etchant spray modules 273, and a carrier acceleration module 274.

시트형 유닛 바디부(271)는 제2 에칭 유닛(270)의 외관을 이룬다. 시트형 유닛 바디부(271)는 캐비닛 형상을 갖는다.The sheet-like unit body portion 271 forms the exterior of the second etching unit 270. The sheet-like unit body portion 271 has a cabinet shape.

캐리어 이동모듈(272)은 시트형 유닛 바디부(271) 내에 마련되며, 캐리어(50)를 이동시키는 역할을 한다. 캐리어 이동모듈(272)은 에칭액에 강한 롤러로 적용될 수 있다.The carrier moving module 272 is provided in the sheet-shaped unit body portion 271 and serves to move the carrier 50. The carrier moving module 272 may be applied as a roller that is resistant to the etching solution.

다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈(273)은 시트형 유닛 바디부(271) 내에 마련되며, 시트형 유닛 바디부(271) 내에서 캐리어 이동모듈(272)을 통해 이동 중인 단위 시트(20)를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하는 역할을 한다. 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하기 때문에 에칭액 분사의 균일도를 확보할 수 있다.A plurality of second etchant spray modules 273 are provided in the sheet-like unit body part 271, and the etchant is supplied from the sheet-like unit body part 271 to the moving unit sheet 20 through the carrier moving module 272. It plays a role of spraying by spraying. Since the etchant is sprayed by a spray method, uniformity of the etchant spraying can be ensured.

캐리어 가속모듈(274)은 캐리어(50)가 유입되는 유입부(271a)와 캐리어(50)가 배출되는 배출부(271b) 중 적어도 어느 일측에 배치되고 해당 위치에서 캐리어(50)를 상대적으로 빠르게 가속시키는 역할을 한다. 본 발명의 실시 예에서 캐리어 가속모듈(274)은 캐리어(50)가 유입되는 유입부(271a)와 캐리어(50)가 배출되는 배출부(271b) 모두에 적용된다. 하지만, 유입부(271a)와 배출부(271b) 중 어느 한 곳에만 캐리어 가속모듈(274)이 적용될 수도 있다. 캐리어 가속모듈(274)은 유입측 캐리어 가속모듈(275)과, 배출측 캐리어 가속모듈(276)을 포함한다.The carrier acceleration module 274 is disposed on at least one side of the inlet portion 271a through which the carrier 50 is introduced and the outlet portion 271b through which the carrier 50 is discharged, and relatively quickly moves the carrier 50 at the corresponding position. It plays a role of accelerating. In an embodiment of the present invention, the carrier acceleration module 274 is applied to both the inlet portion 271a through which the carrier 50 is introduced and the outlet portion 271b through which the carrier 50 is discharged. However, the carrier acceleration module 274 may be applied only to one of the inlet portion 271a and the outlet portion 271b. The carrier acceleration module 274 includes an inlet-side carrier acceleration module 275 and an outlet-side carrier acceleration module 276.

유입측 캐리어 가속모듈(275)은 시트형 유닛 바디부(271)의 유입부(271a) 측에 마련되며, 캐리어 라미네이팅 유닛(260) 측에서 시트형 유닛 바디부(271) 내로 유입되는 캐리어(50)의 속도를 캐리어 이동모듈(272)의 속도보다 상대적으로 더 빠르게 가속시키는 역할을 한다.The inlet-side carrier acceleration module 275 is provided on the inlet portion 271a side of the sheet-shaped unit body portion 271, and of the carrier 50 flowing into the sheet-shaped unit body portion 271 from the carrier laminating unit 260 side. It serves to accelerate the speed relatively faster than the speed of the carrier moving module 272.

그리고 배출측 캐리어 가속모듈(276)은 시트형 유닛 바디부(271)의 배출부(271b) 측에 마련되며, 에칭 공정이 완료되어 시트형 유닛 바디부(271)의 내부에서 외부로 배출되는 캐리어(50)의 속도를 캐리어 이동모듈(272)의 속도보다 상대적으로 더 빠르게 가속시키는 역할을 한다.Further, the discharge-side carrier acceleration module 276 is provided on the discharge part 271b side of the sheet-shaped unit body part 271, and after the etching process is completed, the carrier 50 is discharged from the inside of the sheet-shaped unit body part 271 to the outside. ) Serves to accelerate the speed of the carrier moving module 272 relatively faster than the speed of the carrier moving module 272.

유입측 캐리어 가속모듈(275)과 배출측 캐리어 가속모듈(276)은 모두 롤러로 적용될 수 있다. 이러한 유입측 캐리어 가속모듈(275)과 배출측 캐리어 가속모듈(276)의 동작을 위해 위치 감지부(278)와, 컨트롤러(280)가 더 구비된다.Both the inlet-side carrier acceleration module 275 and the outlet-side carrier acceleration module 276 may be applied as rollers. For the operation of the inlet-side carrier acceleration module 275 and the outlet-side carrier acceleration module 276, a position detection unit 278 and a controller 280 are further provided.

위치 감지부(278)는 단위 시트(20)가 라미네이팅 된 캐리어(50)가 유입부(271a) 또는 배출부(271b) 측에 도달되었는지의 여부를 감지한다. 이러한 위치 감지부(278)는 예컨대 근접 센서일 수 있으며, 시트형 유닛 바디부(271)의 내외측 곳곳에 배치될 수 있다.The position detection unit 278 detects whether the carrier 50 on which the unit sheet 20 is laminated has reached the inlet portion 271a or the outlet portion 271b. The position detection unit 278 may be, for example, a proximity sensor, and may be disposed inside and outside the sheet-shaped unit body 271.

컨트롤러(280)는 위치 감지부(278)의 감지신호에 기초하여 캐리어 가속모듈(274)의 동작, 다시 말해 유입측 캐리어 가속모듈(275)과 배출측 캐리어 가속모듈(276)의 동작을 컨트롤한다. 즉 단위 시트(20)가 라미네이팅된 캐리어(50)가 유입부(271a) 또는 배출부(271b) 측에 도달되면 유입측 캐리어 가속모듈(275)과 배출측 캐리어 가속모듈(276)이 동작되도록 컨트롤함으로써 시트형 유닛 바디부(271) 내로 유입되는 캐리어(50)와, 시트형 유닛 바디부(271)로부터 배출되는 캐리어(50)의 속도를 상대적으로 빠르게 가속시켜 이곳에서 불량이 발생되지 않게끔 한다.The controller 280 controls the operation of the carrier acceleration module 274, that is, the inlet-side carrier acceleration module 275 and the discharge-side carrier acceleration module 276 based on the detection signal of the position detection unit 278. . That is, when the carrier 50 on which the unit sheet 20 is laminated reaches the inlet portion 271a or the outlet portion 271b, the inlet-side carrier acceleration module 275 and the outlet-side carrier acceleration module 276 are controlled to operate. By doing so, the speeds of the carrier 50 flowing into the sheet-shaped unit body portion 271 and the carrier 50 discharged from the sheet-shaped unit body portion 271 are relatively rapidly accelerated so that defects do not occur there.

이러한 역할을 수행하는 컨트롤러(280)는 중앙처리장치(281, CPU), 메모리(282, MEMORY), 그리고 서포트 회로(283, SUPPORT CIRCUIT)를 포함할 수 있다.The controller 280 performing this role may include a central processing unit 281 (CPU), a memory 282 (MEMORY), and a support circuit 283 (SUPPORT CIRCUIT).

중앙처리장치(281)는 본 발명의 실시 예에서 위치 감지부(278)의 감지신호에 기초하여 캐리어 가속모듈(274)의 동작을 컨트롤하기 위해서 산업적으로 적용될 수 있는 다양한 컴퓨터 프로세서들 중 하나일 수 있다.The central processing unit 281 may be one of various computer processors that can be industrially applied to control the operation of the carrier acceleration module 274 based on the detection signal of the position detection unit 278 in the embodiment of the present invention. have.

메모리(282, MEMORY)는 중앙처리장치(281)와 연결된다. 메모리(282)는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서 로컬 또는 원격지에 설치될 수 있으며, 예를 들면 랜덤 액세스 메모리(RAM), ROM, 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 임의의 디지털 저장 형태와 같이 쉽게 이용가능한 적어도 하나 이상의 메모리일 수 있다.The memory 282 (MEMORY) is connected to the central processing unit 281. The memory 282 can be installed locally or remotely as a computer-readable recording medium, and can be easily used, such as random access memory (RAM), ROM, floppy disk, hard disk, or any digital storage type. It may be at least one or more memories.

서포트 회로(283, SUPPORT CIRCUIT)는 중앙처리장치(281)와 결합되어 프로세서의 전형적인 동작을 지원한다. 이러한 서포트 회로(283)는 캐시, 파워 서플라이, 클록 회로, 입/출력 회로, 서브시스템 등을 포함할 수 있다.The support circuit 283 (SUPPORT CIRCUIT) is coupled with the central processing unit 281 to support typical operation of the processor. The support circuit 283 may include a cache, a power supply, a clock circuit, an input/output circuit, a subsystem, and the like.

본 발명의 실시 예에서 컨트롤러(280)는 위치 감지부(278)의 감지신호에 기초하여 캐리어 가속모듈(274)의 동작을 컨트롤하는데, 이러한 일련의 컨트롤 프로세스 등은 메모리(282)에 저장될 수 있다. 전형적으로는 소프트웨어 루틴이 메모리(282)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한 다른 중앙처리장치(미도시)에 의해서 저장되거나 실행될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the controller 280 controls the operation of the carrier acceleration module 274 based on the detection signal of the position detection unit 278, and such a series of control processes may be stored in the memory 282. have. Typically software routines may be stored in memory 282. Software routines can also be stored or executed by other central processing units (not shown).

본 발명에 따른 프로세스는 소프트웨어 루틴에 의해 실행되는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 프로세스들 중 적어도 일부는 하드웨어에 의해 수행되는 것도 가능하다. 이처럼, 본 발명의 프로세스들은 컴퓨터 시스템 상에서 수행되는 소프트웨어로 구현되거나 또는 집적 회로와 같은 하드웨어로 구현되거나 또는 소프트웨어와 하드웨어의 조합에 의해서 구현될 수 있다.Although the process according to the present invention has been described as being executed by a software routine, it is also possible that at least some of the processes of the present invention are performed by hardware. As such, the processes of the present invention may be implemented by software executed on a computer system, or by hardware such as an integrated circuit, or by a combination of software and hardware.

제2 에칭 유닛(270)의 공정 후방에도 전술한 제1 공정 라인(a)에 마련되었던 기능성 비중수세 유닛(160)이 동일하게 적용된다. 제2 에칭 유닛(270)의 공정 후방에 적용되는 기능성 비중수세 유닛(160) 역시, 제2 에칭 유닛(270)의 출구에 직결되며, 세척약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 단위 시트(20) 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하는 역할을 한다. 제2 에칭 유닛(270)의 공정 후방에 배치되는 기능성 비중수세 유닛(160)에 대한 설명은 전술한 설명으로 대체하고 중복 설명은 피한다.The functional specific gravity washing unit 160 provided in the above-described first process line (a) is applied to the rear of the second etching unit 270 in the same manner. The functional specific gravity washing unit 160 applied to the rear of the process of the second etching unit 270 is also directly connected to the outlet of the second etching unit 270, and is etched using washing water or water mixed with a washing chemical. It serves to remove the etching liquid or foreign matter remaining on the unit sheet 20 on which the process has been completed. The description of the functional specific gravity washing unit 160 disposed behind the process of the second etching unit 270 is replaced with the above description, and redundant description is avoided.

도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 방법을 설명하기 위한 동작 흐름도를 나타낸 도면이다.11 is a diagram illustrating an operation flowchart illustrating a method of manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크 제조 시스템(100)은, 먼저 미세 금속 판이 제공된다(S1110).Referring to FIG. 11, in the system 100 for manufacturing a fine metal mask according to an exemplary embodiment of the present invention, first, a fine metal plate is provided (S1110).

여기서, 미세 금속판은 세정을 위하여 탈지, 산세, 수세, 및 건조 공정이 순서대로 수행된다. 탈지 공정은 미세 금속판의 표면에 묻어 있는 기름기 및 유기물을 제거한다. 산세 공정은 미세 금속판의 표면을 미세하게 다듬는다. 수세 공정은 미세 금속판을 세척한다. 건조 공정은 미세 금속판을 건조시킨다. 건조 공정이 완료되면, 선형 이온 소스(linear ion source)의 플라즈마에 의하여 미세 금속판에 표면 처리가 수행된다. 본 발명의 실시 예의 경우, 선형 이온 소스로서 아르곤(Ar) 소스가 채용될 수 있다. 이와 같은 선형 이온 소스의 작용으로 인하여 미세 금속판의 표면 순도가 높아질 수 있다. 이와 같은 선형 이온 소스의 공정이 추가됨에 의하여, 다음 공정에서 강화 접착 물질과 미세 금속판의 접착력이 보다 커질 수 있다. Here, the fine metal plate is subjected to degreasing, pickling, water washing, and drying processes in order for cleaning. The degreasing process removes oils and organic matter from the surface of the fine metal plate. The pickling process finely refines the surface of the fine metal plate. The water washing process cleans the fine metal plate. The drying process dries the fine metal plate. When the drying process is completed, surface treatment is performed on the fine metal plate by plasma of a linear ion source. In the case of an embodiment of the present invention, an argon (Ar) source may be employed as the linear ion source. Due to the action of the linear ion source, the surface purity of the fine metal plate may be increased. By the addition of the linear ion source process, the adhesion between the reinforced adhesive material and the fine metal plate may be increased in the next process.

이어, 미세 금속판의 양면에 강화 접착 물질이 도포(Coating)된다(S1120).Subsequently, a reinforcing adhesive material is coated on both sides of the fine metal plate (S1120).

이때, 미세 금속판의 양면에 포토 레지스트(PR)와의 계면 접착력이 미세 금속판보다 더 센 강화 접착 물질이 도포될 수 있다. 여기에서, 전기 도금 또는 스퍼터링(sputtering) 공정에 의하여 강화 접착 물질이 미세 금속판의 양면에 도포될 수 있다.In this case, a reinforcing adhesive material having a stronger interfacial adhesion to the photoresist PR than the fine metal plate may be applied on both surfaces of the fine metal plate. Here, the reinforced adhesive material may be applied to both surfaces of the fine metal plate by electroplating or sputtering.

실험에 의하면, 도포된 강화 접착 물질의 두께의 범위로서 1 나노-미터(nm) 내지 1 마이크로-미터(m)가 적절하다. 이는 미세 금속 마스크(10)의 제조 공정이 마칠 때까지 미세 금속판과 포토 레지스트가 접착된 상태를 유지함으로써 제조 공정의 효율을 높일 수 있다. 그리고, 강화 접착 물질(1200)은, 도 12에 도시된 바와 같이, 2nm 내지 500nm의 크기를 갖는 입자로 이루어진 필러(1201); 및 필러를 고정시키는 바인더(1202)를 포함할 수 있다. 도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 미세 금속 마스크와 포토 레지스트를 접착시키는 강화 접착 물질의 구성을 나타낸 구성도이다. 필러(1201)는 BaSO4, TiO2, SiO2 및 카본 블랙으로 이루어진 군 중에서 선택된 하나이다. 필러(1201)는 2nm ~ 500nm의 크기를 가지며, 원형 또는 막대형 또는 불규칙한 형상을 가질 수 있다. 바인더(1202)는 아크릴 수지 및 에폭시 수지로 이루어진 군 중에서 선택된 하나이다. According to experiments, 1 nano-meter (nm) to 1 micro-meter (m) is suitable as a range of the thickness of the applied reinforcing adhesive material. This can increase the efficiency of the manufacturing process by maintaining the state in which the fine metal plate and the photoresist are adhered until the manufacturing process of the fine metal mask 10 is completed. And, the reinforced adhesive material 1200, as shown in Figure 12, the filler 1201 made of particles having a size of 2nm to 500nm; And a binder 1202 fixing the filler. 12 is a block diagram showing the configuration of a reinforced adhesive material for bonding a fine metal mask and a photoresist according to an embodiment of the present invention. The filler 1201 is one selected from the group consisting of BaSO4, TiO2, SiO2, and carbon black. The filler 1201 has a size of 2 nm to 500 nm, and may have a circular shape, a rod shape, or an irregular shape. The binder 1202 is one selected from the group consisting of an acrylic resin and an epoxy resin.

이어, 미세 금속판의 양면 상에 접착-강화 물질에 의해 포토 레지스터(PR)가 접착된다(S1130).Subsequently, the photoresist PR is adhered on both sides of the fine metal plate by an adhesion-reinforcing material (S1130).

여기서, 강화 접착 물질(1200)과 포토 레지스트(PR) 사이의 접착력은 1.5 kgf/in 내지 약 2.5 kgf/in일 수 있다. 그리고, 강화 접착 물질(1200)과 미세 금속 판 사이의 접착력은 2.0 kgf/in 내지 약 3.0 kgf/in일 수 있다. 강화 접착 물질(1200)은, 포토 레지스트와의 계면 접착력이 미세 금속판보다 센 접착 강화 금속, 또는 접착 강화 금속이 산화된 상태의 물질이다.Here, the adhesive force between the reinforced adhesive material 1200 and the photoresist PR may be 1.5 kgf/in to about 2.5 kgf/in. In addition, the adhesive force between the reinforced adhesive material 1200 and the fine metal plate may be 2.0 kgf/in to about 3.0 kgf/in. The reinforced adhesive material 1200 is an adhesion-reinforcing metal having a higher interfacial adhesion to a photoresist than a fine metal plate, or a material in a state in which the adhesion-reinforcing metal is oxidized.

이어, 미세 금속판의 양면에 위치한 포토 레지스트에 패턴 홀들이 형성된다(S1140).Subsequently, pattern holes are formed in the photoresist located on both sides of the fine metal plate (S1140).

이때, 포토 레지스트(PR)는, 포토 마스크의 노광 및 현상에 의하여 패턴 홀들이 형성되거나, 또는 레이저 이미징(Laser Direct Imaging) 방식으로 패턴 홀들이 형성될 수 있다.In this case, in the photoresist PR, pattern holes may be formed by exposure and development of a photo mask, or pattern holes may be formed by a laser direct imaging method.

또한, 포토 레지스트(PR)의 패턴 홀들은 도 1b에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트(PR)의 중앙에 있는 중심 좌표(0,0)를 기준으로, 즉 중앙에 위치하는 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진(기울기가 플러스) 가상선(L)을 따라 배열되게 형성될 수 있다.In addition, the pattern holes of the photoresist PR are based on the center coordinates (0, 0) at the center of the photoresist PR, that is, a virtual center line C positioned at the center, as shown in FIG. 1B. It may be formed to be arranged along an imaginary line L inclined at a certain angle based on (inclination is positive).

또한, 포토 레지스트의 패턴 홀들은 도 1c에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 즉 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진(기울기가 마이너스) 가상선(L)을 따라 배열되게 형성될 수 있다.In addition, the pattern holes of the photoresist are virtual lines inclined at a certain angle (the slope is negative) based on the center coordinate at the center of the photoresist, that is, based on the virtual center line (C), as shown in FIG. It can be formed to be arranged along (L).

이어, 포토 레지스트의 패턴 홀들에 식각(etching) 용액이 인입되어 미세 금속판을 식각함에 의하여, 미세 금속판에 관통 구멍들의 패턴이 형성된다(S1150).Subsequently, an etching solution is introduced into the pattern holes of the photoresist to etch the fine metal plate, thereby forming a pattern of through holes in the fine metal plate (S1150).

여기서, 관통 구멍들의 패턴은, 포토 레지스트에 대응되게 접착되어 있는 미세 금속판의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 즉 가상의 중심선(C)을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선(L)을 따라 배열되게 형성되지 않고, 도 1a에 도시된 바와 같이 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 배열되어 형성될 수 있다.Here, the pattern of the through holes is based on the center coordinate at the center of the fine metal plate adhered to the photoresist, that is, along the virtual line L inclined at a certain angle with respect to the virtual center line C. It is not formed to be arranged, but may be uniformly arranged at regular intervals along an imaginary line parallel to the center line as shown in FIG. 1A.

본 발명의 실시 예에서 미세 금속판은 니켈(Ni)-철(Fe)의 합금일 수 있다. 또한, 강화 접착 물질(1200)은 구리, 철, 니켈, 팔라듐, 금, 백금, 산화 구리(copper oxide), 산화 철(iron oxide), 산화 니켈(nickel oxide), 및 산화 팔라듐(palladium oxide) 중에서 어느 하나이거나, 둘 이상의 합금 물질일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the fine metal plate may be an alloy of nickel (Ni)-iron (Fe). In addition, the reinforced adhesive material 1200 is selected from among copper, iron, nickel, palladium, gold, platinum, copper oxide, iron oxide, nickel oxide, and palladium oxide. Any one or two or more alloy materials may be used.

미세 금속판의 식각(etching) 용액이 염화 구리(copper chloride)의 용액인 경우, 강화 접착 물질(1200)은 구리 또는 산화 구리(copper oxide)일 수 있다. 또한, 식각(etching) 용액이 염화철(iron chloride)의 용액인 경우, 강화 접착 물질(1200)은 철, 니켈, 팔라듐, 금, 백금, 산화 철(iron oxide), 산화 니켈(nickel oxide), 및 산화 팔라듐(palladium oxide) 중에서 어느 하나이거나, 둘 이상의 합금 물질일 수 있다.When the etching solution of the fine metal plate is a solution of copper chloride, the reinforced adhesive material 1200 may be copper or copper oxide. In addition, when the etching solution is a solution of iron chloride, the reinforced adhesive material 1200 is iron, nickel, palladium, gold, platinum, iron oxide, nickel oxide, and Any one of palladium oxide, or two or more alloy materials may be used.

전술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 고해상도 OLED 디스플레이 패널 제작을 위한 미세 금속 마스크(FMM)의 제조 시에, 마스크 시트 상에 패턴 홀이 균일하게 형성될 수 있도록 하는 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법을 실현할 수 있다.
본 발명은, 미세 금속판에 관통 구멍들의 패턴을 형성하는 미세 금속 마스크 제조 방법으로서,
(a) 상기 미세 금속판이 제공되는 단계;
(b) 상기 미세 금속판의 양면에 강화 접착 물질이 도포(Coating)되는 단계;
(c) 상기 미세 금속판의 양면 상에 포토 레지스트가 상기 강화 접착 물질에 의해 접착되는 단계;
(d) 상기 미세 금속판의 양면에 위치한 상기 포토 레지스트에 패턴 홀들이 형성되는 단계; 및
(e) 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들에 식각(etching) 용액이 인입되어 상기 미세 금속판을 식각함에 의하여, 상기 미세 금속판에 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되는 단계;
를 포함하고,
상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성되고,
상기 미세 금속판은 에칭 공정에 의해 마스크 시트에 관통 구멍들의 패턴이 형성된 마스크 패턴부를 포함하고, 상기 마스크 시트는 제1 공정 라인과 제2 공정 라인 상의 다수의 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크로 제조되며, 상기 제1 공정 라인은 제1 에칭 유닛을 통해 롤 시트에 대한 1차 에칭(etching) 공정을 진행하고, 상기 제2 공정 라인은 제2 에칭 유닛을 통해 단위 시트에 대한 2차 에칭 공정을 진행하며,
상기 롤 시트는 롤시트 공급 유닛에 의해 에칭 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급되고, 상기 제1 공정 라인의 일측에 마련된 상기 제1 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 한 쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 제2 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하며, 상기 롤 시트의 한쪽 면에 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅(laminating)되며, 상기 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅 된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 상기 제1 에칭 유닛을 통해 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면이 에칭되며, 상기 제1 면이 에칭된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛에서 인출된 후 반전되어 상기 에칭된 제1 면이 상부로 놓이도록 뒤집힌 다음, 상기 에칭된 제1 면 영역에 에칭 저항제가 도포되며, 상기 에칭 저항제가 상기 롤 시트의 에칭된 제1 면 영역에 도포된 이후에 상기 롤 시트가 절단되어 단위 사이즈의 단위 시트로 형성되며, 이후에 상기 제2 에칭 유닛을 통해, 에칭되지 않은 제2 면 영역에 대한 에칭 공정이 진행되며, 상기 단위 시트에는 캐리어가 라미네이팅되고, 상기 캐리어에 라미네이팅 된 상기 단위 시트는 상기 제2 에칭 유닛으로 인입되고 상기 제2 에칭 유닛을 통해 상기 단위 시트의 나머지 면인 제2 면이 에칭되어, 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되고, 상기 제1 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛, 프리 에칭 유닛, 프리 세척 및 물기 제거기, 제1 에칭 유닛, 기능성 비중수세 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 그리고 롤 시트 회수 유닛이 배치되고,
상기 롤 시트 공급 유닛은 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 상기 롤 시트를 1차 에칭(etching) 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급하고, 상기 롤 시트 공급 유닛을 통해 상기 롤 시트가 풀려 상기 제1 공정 라인으로 공급되기 위해 제1 롤 시트 구동 롤러와, 다수의 롤 시트 가이드 롤러가 마련되고, 상기 제1 롤 시트 구동 롤러는 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 롤 시트 회수 유닛 사이의 상기 제1 공정 라인 상에 배치되며, 모터의 구동력으로 상기 롤 시트를 당겨서 상기 롤 시트 회수 유닛 쪽으로 이동시키고, 상기 제1 공정 라인 및 상기 제2 공정 라인 모두의 곳곳에 상기 롤 시트 가이드 롤러가 배치되어 상기 롤 시트에 텐션을 부여하면서 상기 롤 시트의 이송을 가이드하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면에 대한 에칭 공정이 진행되기 전에 상기 롤 시트 공급 유닛에서 풀려 상기 제1 에칭 유닛으로 공급되는 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 에칭 저항용 테이프를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 테이프 공급 롤러, 라미네이팅 구동 롤러, 라미네이팅 종동 롤러, 테이프 전달 롤러, 그리고 보호필름 회수 롤러를 포함하고, 상기 테이프 공급 롤러는 상기 에칭 저항용 테이프를 공급하고, 상기 라미네이팅 구동 롤러는 상기 롤 시트의 제2 면에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 전달 받아 상기 롤 시트의 제2 면에 라미네이팅하며, 상기 라미네이팅 종동 롤러는 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 라미네이팅 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 전달 롤러는 상기 테이프 공급 롤러와 상기 라미네이팅 구동 롤러 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프가 경유되며 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 상기 라미네이팅 구동 롤러로 전달하며, 상기 보호필름 회수 롤러는 상기 테이프 전달 롤러에 이웃하게 배치되어 상기 테이프 전달 롤러와 상호 작용하며, 상기 테이프 전달 롤러로 경유되는 상기 에칭 저항용 테이프 상의 보호필름을 회수하며, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 버퍼 유닛, 프리 에칭 유닛 및 프리 세척 물기 제거기가 순차적으로 배치되고, 제1 롤 시트 버퍼 유닛은 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 프리 에칭 유닛 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 프리 에칭 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 프리 에칭 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트가 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 에칭 공정을 진행하기 전에 상기 롤 시트에 대한 프리 에칭(pre etching)을 진행하고, 상기 프리 에칭 유닛은 에칭액이 충전되는 프리 에칭조와, 프리 에칭조에 마련되어 상기 롤 시트가 상기 프리 에칭조 내의 에칭액에 디핑(deeping)되어 배출될 수 있도록 상기 롤 시트의 이송을 가이드하는 다수의 프리 에칭 가이드 롤러를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 프리 에칭 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 프리 에칭 공정이 진행된 상기 롤 시트를 세척하고 물기를 제거하며, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 롤 시트를 향해 워터(water)를 분사하면서 상기 롤 시트를 세척하는 프리 세척기와, 세척이 완료된 상기 롤 시트의 표면에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 에어 나이프를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기의 공정 후방에 상기 제1 에칭 유닛이 마련되며,
상기 제1 에칭 유닛은 롤 시트 에칭 캐비닛을 구비하고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛은 캐비닛 구조로서 내부에 상기 롤 시트에 대한 에칭 공정을 진행하는 다수의 에칭 룸이 형성되며, 상기 에칭 룸들은 서로 연통되고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛에 롤 시트 인입 롤러부와 롤 시트 인출 롤러부가 마련되며, 상기 롤 시트 인입 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 입구 영역에 배치되며, 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 내부로 인입시키며, 상기 롤 시트 인출 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 출구 영역에 배치되며 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 외부로 인출(배출)시키고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에는 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈이 마련되며, 상기 제1 에칭액 스프레이 모듈들은 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에서 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하여 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 1/2 에칭 공정이 진행되게 하고,
상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 기능성 비중수세 유닛이 마련되고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 출구에 직결되며, 세척 약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 유닛 캐비닛과, 상기 유닛 캐비닛 상에 비중수세 모듈, 제1 내지 제3 수세 모듈, 그리고 물기 제거 모듈이 일체로 탑재되고, 상기 유닛 캐비닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 외관을 이루며, 상기 유닛 캐비닛의 하단부에 높이 조절 및 지면 지지를 위한 푸트가 배치되며, 상기 유닛 캐비닛의 후면에 상기 비중수세 모듈 및 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 쪽으로 세척약품이 혼합된 세척수 혹은 워터를 정량과 정압으로 공급하기 위한 수단들이 갖춰지고, 상기 유닛 캐비닛의 하부에 제1 드레인부와 제2 드레인부가 마련되고, 상기 제1 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 일측에 배치되며 상기 비중수세 모듈에서 낙하되는 세척약품이 혼합된 세척수를 받아 드레인(drain)시키며, 상기 제2 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 타측에 배치되며 상기 제1 내지 제3 수세 모듈에서 낙하되는 워터를 받아 드레인시키고, 상기 비중수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛의 상부 일측에 마련되며 세척약품이 혼합된 세척수를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액을 제거하고,
상기 비중수세 모듈은 비중수세 모듈 하우징, 롤 시트 이송부, 상부 배관부, 하부 배관부, 그리고 배관 구동부를 포함하고, 상기 비중수세 모듈 하우징은 박스형 캐비닛 형상을 갖는 외관 프레임이고, 상기 비중수세 모듈 하우징의 일측에 상기 롤 시트가 유입되는 유입부가 형성되며, 상기 유입부로 유입되는 상기 롤 시트는 상기 비중수세 모듈, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈, 및 상기 물기 제거 모듈을 차례로 거친 후, 상기 물기 제거 모듈 하우징의 배출부로 배출되어 이후에 제1 롤 시트 건조 유닛으로 향하고,
상기 롤 시트 이송부는 상기 비중수세 모듈 하우징 내에 배치되며, 상기 유입부를 통과한 상기 롤 시트를 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 측으로 이송시키고, 다수의 롤러와 기어의 조합으로 형성되고, 상기 상부 배관부는 상기 롤 시트 이송부의 상부에 배치되며, 상기 상부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 하향 분사하는 다수의 상부 분사노즐이 마련되고, 상기 하부 배관부는 상기 상부 배관부의 하부에 배치되며, 상기 하부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 상향 분사하는 다수의 하부 분사노즐이 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부와 연결되며, 상기 롤 시트 상으로 분사되는 세척약품이 혼합된 세척수의 분사 균일도 확보를 위하여 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부를 적어도 일 방향으로 구동시키고, 상기 배관 구동부는 상기 유닛 캐비닛의 일측에 결합되는 구동 하우징에 부품이 결합되는 형태로 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부와 연결되고 상기 상부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 상부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 상부 슬라이더와 연결되며 상기 상부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 상부 슬라이딩 플레이트와, 상기 하부 배관부와 연결되고 상기 하부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 하부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 하부 슬라이와 연결되며 상기 하부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 하부 슬라이딩 플레이트를 포함하고, 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키기 위해 슬라이더 구동부가 상기 배관 구동부에 마련되고, 상기 슬라이더 구동부는 상기 구동 하우징에 마련되고 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트와 연결되어 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키고, 상기 슬라이더 구동부는 감속기가 연결되며 동력을 발생시키는 서보모터와, 상기 구동 하우징 내에서 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트 사이에 배치되며 상기 서보모터에 연결되어 상기 서보모터의 동작에 의해 회전되는 로테이팅 샤프트와, 상기 로테이팅 샤프트의 상단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 상부 캠 플레이트와, 상기 상부 슬라이딩 플레이트의 상부 장공을 경유해서 상기 상부 캠 플레이트에 결합되는 상부 결합부재와, 상기 로테이팅 샤프트의 하단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 하부 캠 플레이트와, 상기 하부 슬라이딩 플레이트의 하부 장공을 경유해서 상기 하부 캠 플레이트에 결합되는 하부 결합부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 상기 비중수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 비중수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 워터를 이용해서 상기 롤 시트 상에 잔존되는 이물을 제거하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 수세 모듈 하우징과, 상기 수세 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 워터를 분사하는 다수의 워터 분사기를 포함하고, 상기 물기 제거 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 제3 수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 제3 수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 상기 롤 시트 상에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하며, 상기 물기 제거 모듈은 물기 제거 모듈 하우징과, 상기 물기 제거 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 일자형 에어(air)를 분사하는 다수의 에어 나이프를 포함하고, 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 박리용 광 조사기, 에칭 저항용 테이프 회수기 및 롤 시트 회수 유닛이 순서대로 배치되고,
상기 제1 롤 시트 건조 유닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 기능성 비중수세 유닛을 거쳐 세척이 완료된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항용 테이프 박리 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 배치되며 1차 에칭 공정을 위해 라미네이팅되었던 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하고, 상기 박리용 광 조사기는 상기 에칭 저항용 테이프가 상기 롤 시트로부터 박리되도록 상기 에칭 저항용 테이프를 향해 광(光)을 조사하고, 상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 박리용 광 조사기의 공정 후방에 배치되어 상기 박리용 광 조사기의 작용으로 상기 롤 시트에서 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 회수하며,
상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 에칭 저항용 테이프에 접촉 회전되면서 상기 롤 시트로부터 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하는 테이프 박리용 구동 롤러와, 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 테이프 박리용 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 테이프 박리용 종동 롤러와, 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 감아 회수하는 테이프 회수 롤러와, 상기 테이프 박리용 구동 롤러와 상기 테이프 회수 롤러 사이에 배치되며 회수되는 테이프를 가이드하는 테이프 가이드 롤러를 포함하고,
상기 롤 시트 회수 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 롤 시트 공급 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면이 에칭되고 상기 에칭 저항용 테이프가 박리된 상기 롤 시트를 회수하고, 상기 제2 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 에칭 후 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항제 도포 유닛, 제2 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항제 경화 유닛, 롤 시트 절단 유닛, 캐리어 라미네이팅 유닛, 그리고 제2 에칭 유닛이 배치되고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛은 상기 제1 공정 라인을 통해 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급하고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛이 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급할 때, 상기 제1 공정 라인에서 에칭이 된 면이 상부를 향하도록 하고 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트는 상기 제2 롤 시트 구동 롤러의 작용으로 상기 제2 공정 라인으로 공급되고, 상기 제2 롤 시트 구동 롤러는 에칭 후 상기 롤 시트 공급 유닛의 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 절단 유닛 쪽으로 구동시키고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛의 공정 후방에 제2 롤 시트 버퍼 유닛이 마련되고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛은 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛의 공정 후방에 상기 에칭 저항제 도포 유닛이 마련되고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 1/2 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트의 제1 면에 상기 에칭 저항제를 도포하고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 상기 제2 롤 시트 건조 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛이 차례로 배치되고,
상기 제2 롤 시트 건조 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 저항제가 도포된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항제 경화 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 에칭 저항제를 경화시키고, 상기 제2 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항제 경화 유닛의 공정 후방에 상기 롤 시트 절단 유닛이 마련되고, 상기 롤 시트 절단 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 롤 시트를 단위 사이즈의 단위 시트로 절단하고,
상기 롤 시트 절단 유닛은 상하로 구동되면서 이송 중인 상기 롤 시트를 절단하는 커터(cutter)와, 절단 대상인 상기 롤 시트를 지지하는 절단 다이를 포함하고, 상기 롤 시트의 절단 작업 시 상기 롤 시트의 이송이 정지될 때 진행 중인 상기 롤 시트의 진행 흐름을 보상하기 위해 전동식 버퍼 롤이 펼침 롤러의 전방에 배치되고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 절단 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 이송을 위하여 상기 단위 시트에 캐리어(carrier)를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛과 상기 시트 에칭 유닛 사이에 중간 이동 롤러가 배치되고,
상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 롤 시트의 상태에서 상기 제1 에칭 유닛을 통해 1차로 에칭 공정이 진행되고 상기 단위 시트의 상태에서 상기 시트 에칭 유닛을 통해 2차로 에칭 공정이 진행됨에 따라 상기 단위 시트에 메인 패턴이 형성되고, 상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되는 속도 가변형 제2 에칭 유닛이고, 상기 제2 에칭 유닛은 시트형 유닛 바디부, 캐리어 이동모듈, 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈, 그리고 캐리어 가속모듈을 포함하고,
상기 시트형 유닛 바디부는 상기 제2 에칭 유닛의 외관을 이루고, 상기 시트형 유닛 바디부는 캐비닛 형상을 가지며, 상기 캐리어 이동모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 캐리어를 이동시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 이동모듈은 에칭액에 강한 롤러로 적용되고, 상기 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 시트형 유닛 바디부 내에서 상기 캐리어 이동모듈을 통해 이동 중인 상기 단위 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하고, 상기 캐리어 가속모듈은 상기 캐리어가 유입되는 유입부와 상기 캐리어가 배출되는 배출부 중 적어도 일측에 배치되고 해당 위치에서 상기 캐리어를 가속시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 가속모듈은 유입측 캐리어 가속모듈과 배출측 캐리어 가속모듈을 포함하고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 유입부 측에 마련되며 상기 캐리어 라미네이팅 유닛 측에서 상기 시트형 유닛 바디부 내로 유입되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 배출측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 배출부 측에 마련되며 에칭 공정이 완료되어 상기 시트형 유닛 바디부의 내부에서 외부로 배출되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈과 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 위해 위치 감지부와 컨트롤러가 더 구비되고, 상기 위치 감지부는 상기 단위 시트가 라미네이팅 된 상기 캐리어가 유입부 또는 배출부 측에 도달되었는지의 여부를 감지하고, 상기 컨트롤러는 상기 위치 감지부의 감지 신호에 기초하여 상기 캐리어 가속모듈의 동작과 상기 유입측 캐리어 가속모듈의 동작 및 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 컨트롤하는, 미세 금속 마스크 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명은, 롤(roll) 형상으로 권취되고, 양면에 포토 레지스트가 형성되어 있는 롤 시트(roll sheet);
상기 롤 시트를 에칭(etching) 공정이 진행되는 제1 공정 라인으로 공급하는 롤시트 공급 유닛;
상기 제1 공정 라인의 일측에 마련되며, 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제1 에칭 유닛; 및
상기 롤 시트의 다른쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제2 에칭 유닛;
을 포함하고,
상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성되고,
상기 에칭 공정에 의해 마스크 시트에 관통 구멍들의 패턴이 형성된 미세 금속판이 생성되고, 상기 마스크 시트는 제1 공정 라인과 제2 공정 라인 상의 다수의 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크로 제조되며, 상기 제1 공정 라인은 제1 에칭 유닛을 통해 롤 시트에 대한 1차 에칭(etching) 공정을 진행하고, 상기 제2 공정 라인은 제2 에칭 유닛을 통해 단위 시트에 대한 2차 에칭 공정을 진행하며,
상기 롤 시트는 롤시트 공급 유닛에 의해 에칭 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급되고, 상기 제1 공정 라인의 일측에 마련된 상기 제1 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 한 쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 제2 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하며, 상기 롤 시트의 한쪽 면에 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅(laminating)되며, 상기 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅 된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 상기 제1 에칭 유닛을 통해 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면이 에칭되며, 상기 제1 면이 에칭된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛에서 인출된 후 반전되어 상기 에칭된 제1 면이 상부로 놓이도록 뒤집힌 다음, 상기 에칭된 제1 면 영역에 에칭 저항제가 도포되며, 상기 에칭 저항제가 상기 롤 시트의 에칭된 제1 면 영역에 도포된 이후에 상기 롤 시트가 절단되어 단위 사이즈의 단위 시트로 형성되며, 이후에 상기 제2 에칭 유닛을 통해, 에칭되지 않은 제2 면 영역에 대한 에칭 공정이 진행되며, 상기 단위 시트에는 캐리어가 라미네이팅되고, 상기 캐리어에 라미네이팅 된 상기 단위 시트는 상기 제2 에칭 유닛으로 인입되고 상기 제2 에칭 유닛을 통해 상기 단위 시트의 나머지 면인 제2 면이 에칭되어, 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되고, 상기 제1 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛, 프리 에칭 유닛, 프리 세척 및 물기 제거기, 제1 에칭 유닛, 기능성 비중수세 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 그리고 롤 시트 회수 유닛이 배치되고,
상기 롤 시트 공급 유닛은 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 상기 롤 시트를 1차 에칭(etching) 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급하고, 상기 롤 시트 공급 유닛을 통해 상기 롤 시트가 풀려 상기 제1 공정 라인으로 공급되기 위해 제1 롤 시트 구동 롤러와, 다수의 롤 시트 가이드 롤러가 마련되고, 상기 제1 롤 시트 구동 롤러는 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 롤 시트 회수 유닛 사이의 상기 제1 공정 라인 상에 배치되며, 모터의 구동력으로 상기 롤 시트를 당겨서 상기 롤 시트 회수 유닛 쪽으로 이동시키고, 상기 제1 공정 라인 및 상기 제2 공정 라인 모두의 곳곳에 상기 롤 시트 가이드 롤러가 배치되어 상기 롤 시트에 텐션을 부여하면서 상기 롤 시트의 이송을 가이드하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면에 대한 에칭 공정이 진행되기 전에 상기 롤 시트 공급 유닛에서 풀려 상기 제1 에칭 유닛으로 공급되는 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 에칭 저항용 테이프를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 테이프 공급 롤러, 라미네이팅 구동 롤러, 라미네이팅 종동 롤러, 테이프 전달 롤러, 그리고 보호필름 회수 롤러를 포함하고, 상기 테이프 공급 롤러는 상기 에칭 저항용 테이프를 공급하고, 상기 라미네이팅 구동 롤러는 상기 롤 시트의 제2 면에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 전달 받아 상기 롤 시트의 제2 면에 라미네이팅하며, 상기 라미네이팅 종동 롤러는 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 라미네이팅 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 전달 롤러는 상기 테이프 공급 롤러와 상기 라미네이팅 구동 롤러 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프가 경유되며 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 상기 라미네이팅 구동 롤러로 전달하며, 상기 보호필름 회수 롤러는 상기 테이프 전달 롤러에 이웃하게 배치되어 상기 테이프 전달 롤러와 상호 작용하며, 상기 테이프 전달 롤러로 경유되는 상기 에칭 저항용 테이프 상의 보호필름을 회수하며, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 버퍼 유닛, 프리 에칭 유닛 및 프리 세척 물기 제거기가 순차적으로 배치되고, 제1 롤 시트 버퍼 유닛은 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 프리 에칭 유닛 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 프리 에칭 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 프리 에칭 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트가 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 에칭 공정을 진행하기 전에 상기 롤 시트에 대한 프리 에칭(pre etching)을 진행하고, 상기 프리 에칭 유닛은 에칭액이 충전되는 프리 에칭조와, 프리 에칭조에 마련되어 상기 롤 시트가 상기 프리 에칭조 내의 에칭액에 디핑(deeping)되어 배출될 수 있도록 상기 롤 시트의 이송을 가이드하는 다수의 프리 에칭 가이드 롤러를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 프리 에칭 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 프리 에칭 공정이 진행된 상기 롤 시트를 세척하고 물기를 제거하며, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 롤 시트를 향해 워터(water)를 분사하면서 상기 롤 시트를 세척하는 프리 세척기와, 세척이 완료된 상기 롤 시트의 표면에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 에어 나이프를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기의 공정 후방에 상기 제1 에칭 유닛이 마련되며,
상기 제1 에칭 유닛은 롤 시트 에칭 캐비닛을 구비하고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛은 캐비닛 구조로서 내부에 상기 롤 시트에 대한 에칭 공정을 진행하는 다수의 에칭 룸이 형성되며, 상기 에칭 룸들은 서로 연통되고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛에 롤 시트 인입 롤러부와 롤 시트 인출 롤러부가 마련되며, 상기 롤 시트 인입 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 입구 영역에 배치되며, 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 내부로 인입시키며, 상기 롤 시트 인출 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 출구 영역에 배치되며 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 외부로 인출(배출)시키고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에는 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈이 마련되며, 상기 제1 에칭액 스프레이 모듈들은 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에서 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하여 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 1/2 에칭 공정이 진행되게 하고,
상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 기능성 비중수세 유닛이 마련되고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 출구에 직결되며, 세척 약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 유닛 캐비닛과, 상기 유닛 캐비닛 상에 비중수세 모듈, 제1 내지 제3 수세 모듈, 그리고 물기 제거 모듈이 일체로 탑재되고, 상기 유닛 캐비닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 외관을 이루며, 상기 유닛 캐비닛의 하단부에 높이 조절 및 지면 지지를 위한 푸트가 배치되며, 상기 유닛 캐비닛의 후면에 상기 비중수세 모듈 및 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 쪽으로 세척약품이 혼합된 세척수 혹은 워터를 정량과 정압으로 공급하기 위한 수단들이 갖춰지고, 상기 유닛 캐비닛의 하부에 제1 드레인부와 제2 드레인부가 마련되고, 상기 제1 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 일측에 배치되며 상기 비중수세 모듈에서 낙하되는 세척약품이 혼합된 세척수를 받아 드레인(drain)시키며, 상기 제2 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 타측에 배치되며 상기 제1 내지 제3 수세 모듈에서 낙하되는 워터를 받아 드레인시키고, 상기 비중수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛의 상부 일측에 마련되며 세척약품이 혼합된 세척수를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액을 제거하고,
상기 비중수세 모듈은 비중수세 모듈 하우징, 롤 시트 이송부, 상부 배관부, 하부 배관부, 그리고 배관 구동부를 포함하고, 상기 비중수세 모듈 하우징은 박스형 캐비닛 형상을 갖는 외관 프레임이고, 상기 비중수세 모듈 하우징의 일측에 상기 롤 시트가 유입되는 유입부가 형성되며, 상기 유입부로 유입되는 상기 롤 시트는 상기 비중수세 모듈, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈, 및 상기 물기 제거 모듈을 차례로 거친 후, 상기 물기 제거 모듈 하우징의 배출부로 배출되어 이후에 제1 롤 시트 건조 유닛으로 향하고,
상기 롤 시트 이송부는 상기 비중수세 모듈 하우징 내에 배치되며, 상기 유입부를 통과한 상기 롤 시트를 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 측으로 이송시키고, 다수의 롤러와 기어의 조합으로 형성되고, 상기 상부 배관부는 상기 롤 시트 이송부의 상부에 배치되며, 상기 상부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 하향 분사하는 다수의 상부 분사노즐이 마련되고, 상기 하부 배관부는 상기 상부 배관부의 하부에 배치되며, 상기 하부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 상향 분사하는 다수의 하부 분사노즐이 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부와 연결되며, 상기 롤 시트 상으로 분사되는 세척약품이 혼합된 세척수의 분사 균일도 확보를 위하여 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부를 적어도 일 방향으로 구동시키고, 상기 배관 구동부는 상기 유닛 캐비닛의 일측에 결합되는 구동 하우징에 부품이 결합되는 형태로 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부와 연결되고 상기 상부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 상부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 상부 슬라이더와 연결되며 상기 상부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 상부 슬라이딩 플레이트와, 상기 하부 배관부와 연결되고 상기 하부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 하부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 하부 슬라이와 연결되며 상기 하부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 하부 슬라이딩 플레이트를 포함하고, 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키기 위해 슬라이더 구동부가 상기 배관 구동부에 마련되고, 상기 슬라이더 구동부는 상기 구동 하우징에 마련되고 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트와 연결되어 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키고, 상기 슬라이더 구동부는 감속기가 연결되며 동력을 발생시키는 서보모터와, 상기 구동 하우징 내에서 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트 사이에 배치되며 상기 서보모터에 연결되어 상기 서보모터의 동작에 의해 회전되는 로테이팅 샤프트와, 상기 로테이팅 샤프트의 상단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 상부 캠 플레이트와, 상기 상부 슬라이딩 플레이트의 상부 장공을 경유해서 상기 상부 캠 플레이트에 결합되는 상부 결합부재와, 상기 로테이팅 샤프트의 하단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 하부 캠 플레이트와, 상기 하부 슬라이딩 플레이트의 하부 장공을 경유해서 상기 하부 캠 플레이트에 결합되는 하부 결합부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 상기 비중수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 비중수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 워터를 이용해서 상기 롤 시트 상에 잔존되는 이물을 제거하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 수세 모듈 하우징과, 상기 수세 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 워터를 분사하는 다수의 워터 분사기를 포함하고, 상기 물기 제거 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 제3 수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 제3 수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 상기 롤 시트 상에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하며, 상기 물기 제거 모듈은 물기 제거 모듈 하우징과, 상기 물기 제거 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 일자형 에어(air)를 분사하는 다수의 에어 나이프를 포함하고, 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 박리용 광 조사기, 에칭 저항용 테이프 회수기 및 롤 시트 회수 유닛이 순서대로 배치되고,
상기 제1 롤 시트 건조 유닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 기능성 비중수세 유닛을 거쳐 세척이 완료된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항용 테이프 박리 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 배치되며 1차 에칭 공정을 위해 라미네이팅되었던 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하고, 상기 박리용 광 조사기는 상기 에칭 저항용 테이프가 상기 롤 시트로부터 박리되도록 상기 에칭 저항용 테이프를 향해 광(光)을 조사하고, 상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 박리용 광 조사기의 공정 후방에 배치되어 상기 박리용 광 조사기의 작용으로 상기 롤 시트에서 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 회수하며,
상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 에칭 저항용 테이프에 접촉 회전되면서 상기 롤 시트로부터 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하는 테이프 박리용 구동 롤러와, 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 테이프 박리용 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 테이프 박리용 종동 롤러와, 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 감아 회수하는 테이프 회수 롤러와, 상기 테이프 박리용 구동 롤러와 상기 테이프 회수 롤러 사이에 배치되며 회수되는 테이프를 가이드하는 테이프 가이드 롤러를 포함하고,
상기 롤 시트 회수 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 롤 시트 공급 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면이 에칭되고 상기 에칭 저항용 테이프가 박리된 상기 롤 시트를 회수하고, 상기 제2 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 에칭 후 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항제 도포 유닛, 제2 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항제 경화 유닛, 롤 시트 절단 유닛, 캐리어 라미네이팅 유닛, 그리고 제2 에칭 유닛이 배치되고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛은 상기 제1 공정 라인을 통해 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급하고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛이 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급할 때, 상기 제1 공정 라인에서 에칭이 된 면이 상부를 향하도록 하고 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트는 상기 제2 롤 시트 구동 롤러의 작용으로 상기 제2 공정 라인으로 공급되고, 상기 제2 롤 시트 구동 롤러는 에칭 후 상기 롤 시트 공급 유닛의 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 절단 유닛 쪽으로 구동시키고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛의 공정 후방에 제2 롤 시트 버퍼 유닛이 마련되고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛은 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛의 공정 후방에 상기 에칭 저항제 도포 유닛이 마련되고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 1/2 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트의 제1 면에 상기 에칭 저항제를 도포하고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 상기 제2 롤 시트 건조 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛이 차례로 배치되고,
상기 제2 롤 시트 건조 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 저항제가 도포된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항제 경화 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 에칭 저항제를 경화시키고, 상기 제2 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항제 경화 유닛의 공정 후방에 상기 롤 시트 절단 유닛이 마련되고, 상기 롤 시트 절단 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 롤 시트를 단위 사이즈의 단위 시트로 절단하고,
상기 롤 시트 절단 유닛은 상하로 구동되면서 이송 중인 상기 롤 시트를 절단하는 커터(cutter)와, 절단 대상인 상기 롤 시트를 지지하는 절단 다이를 포함하고, 상기 롤 시트의 절단 작업 시 상기 롤 시트의 이송이 정지될 때 진행 중인 상기 롤 시트의 진행 흐름을 보상하기 위해 전동식 버퍼 롤이 펼침 롤러의 전방에 배치되고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 절단 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 이송을 위하여 상기 단위 시트에 캐리어(carrier)를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛과 상기 시트 에칭 유닛 사이에 중간 이동 롤러가 배치되고,
상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 롤 시트의 상태에서 상기 제1 에칭 유닛을 통해 1차로 에칭 공정이 진행되고 상기 단위 시트의 상태에서 상기 시트 에칭 유닛을 통해 2차로 에칭 공정이 진행됨에 따라 상기 단위 시트에 메인 패턴이 형성되고, 상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되는 속도 가변형 제2 에칭 유닛이고, 상기 제2 에칭 유닛은 시트형 유닛 바디부, 캐리어 이동모듈, 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈, 그리고 캐리어 가속모듈을 포함하고,
상기 시트형 유닛 바디부는 상기 제2 에칭 유닛의 외관을 이루고, 상기 시트형 유닛 바디부는 캐비닛 형상을 가지며, 상기 캐리어 이동모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 캐리어를 이동시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 이동모듈은 에칭액에 강한 롤러로 적용되고, 상기 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 시트형 유닛 바디부 내에서 상기 캐리어 이동모듈을 통해 이동 중인 상기 단위 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하고, 상기 캐리어 가속모듈은 상기 캐리어가 유입되는 유입부와 상기 캐리어가 배출되는 배출부 중 적어도 일측에 배치되고 해당 위치에서 상기 캐리어를 가속시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 가속모듈은 유입측 캐리어 가속모듈과 배출측 캐리어 가속모듈을 포함하고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 유입부 측에 마련되며 상기 캐리어 라미네이팅 유닛 측에서 상기 시트형 유닛 바디부 내로 유입되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 배출측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 배출부 측에 마련되며 에칭 공정이 완료되어 상기 시트형 유닛 바디부의 내부에서 외부로 배출되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈과 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 위해 위치 감지부와 컨트롤러가 더 구비되고, 상기 위치 감지부는 상기 단위 시트가 라미네이팅 된 상기 캐리어가 유입부 또는 배출부 측에 도달되었는지의 여부를 감지하고, 상기 컨트롤러는 상기 위치 감지부의 감지 신호에 기초하여 상기 캐리어 가속모듈의 동작과 상기 유입측 캐리어 가속모듈의 동작 및 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 컨트롤하는, 미세 금속 마스크 제조 시스템을 제공할 수 있다.
As described above, according to the present invention, when manufacturing a fine metal mask (FMM) for manufacturing a high-resolution OLED display panel, it is possible to realize a system and method for manufacturing a fine metal mask that enables pattern holes to be uniformly formed on the mask sheet. I can.
The present invention is a method for manufacturing a fine metal mask for forming a pattern of through holes in a fine metal plate,
(a) providing the fine metal plate;
(b) applying a reinforcing adhesive material to both surfaces of the fine metal plate;
(c) bonding a photoresist on both sides of the fine metal plate by the reinforcing adhesive material;
(d) forming pattern holes in the photoresist located on both sides of the fine metal plate; And
(e) forming a pattern of the through holes in the fine metal plate by introducing an etching solution into the pattern holes of the photoresist and etching the fine metal plate;
Including,
In the step (d), the pattern holes of the photoresist are formed by being arranged along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line located at the center of the photoresist,
The fine metal plate includes a mask pattern portion in which a pattern of through holes is formed in a mask sheet by an etching process, and the mask sheet is manufactured as a fine metal mask through a plurality of processes sequentially on a first process line and a second process line. , The first process line performs a primary etching process on the roll sheet through a first etching unit, and the second process line performs a secondary etching process on the unit sheet through a second etching unit. And
The roll sheet is supplied to the first process line where an etching process is performed by a roll sheet supply unit, and the first etching unit provided on one side of the first process line is disposed on a first surface, which is one side of the roll sheet. An etching process is performed, and the second etching unit performs an etching process on the second side, which is the other side of the roll sheet, and an etching resistance tape is laminated on one side of the roll sheet, and the The roll sheet on which the etching resistance tape is laminated is introduced into the first etching unit, and the first side, which is one side of the roll sheet, is etched through the first etching unit, and the roll sheet on which the first side is etched is After being pulled out from the first etching unit and inverted, the etched first surface is turned over so that the etched first surface is placed on the top, and then an etching resistance agent is applied to the etched first surface area, and the etching resistance agent is applied to the etched agent of the roll sheet. After being applied to the first surface area, the roll sheet is cut to form a unit sheet of a unit size, and thereafter, an etching process is performed on the unetched second surface area through the second etching unit, and the unit A carrier is laminated to the sheet, and the unit sheet laminated to the carrier is introduced into the second etching unit, and the second surface, which is the remaining surface of the unit sheet, is etched through the second etching unit, so that the pattern of the through holes is Is formed, and in the first process line, a roll sheet supply unit, a tape laminating unit for etching resistance, a pre-etching unit, a pre-cleaning and dewatering device, a first etching unit, a functional specific gravity washing unit, and an etching resistance along the direction in which the process proceeds. A tape peeling unit and a roll sheet recovery unit are arranged
The roll sheet supply unit supplies the roll sheet formed by being wound in a roll shape to the first processing line where a primary etching process is performed, and the roll sheet is supplied through the roll sheet supply unit. A first roll sheet driving roller and a plurality of roll sheet guide rollers are provided in order to be released and supplied to the first process line, and the first roll sheet driving roller is provided between the roll sheet supply unit and the roll sheet collecting unit. It is disposed on the first process line, and the roll sheet is moved toward the roll sheet recovery unit by pulling the roll sheet by a driving force of a motor, and the roll sheet guide rollers are disposed at various places in both the first process line and the second process line. While imparting tension to the roll sheet to guide the transport of the roll sheet, the etching resistance tape laminating unit is disposed between the roll sheet supply unit and the first etching unit, and Before the etching process proceeds, an etching resistance tape is laminated on a second surface that is the other side of the roll sheet that is released from the roll sheet supply unit and supplied to the first etching unit, and the etching resistance tape laminating unit A silver tape supply roller, a laminating drive roller, a laminating driven roller, a tape transfer roller, and a protective film recovery roller are included, and the tape supply roller supplies the etching resistance tape, and the laminating drive roller is the first roller of the roll sheet. It is rotatably disposed on two sides, and receives the etching resistance tape supplied from the tape supply roller and laminates it to the second side of the roll sheet, and the laminating driven roller drives the laminating with the roll sheet interposed therebetween. It is rotatably disposed on the opposite side of the roller, and the tape transfer roller is disposed between the tape supply roller and the laminating driving roller to pass the etching resistance tape and the etching resistance tape supplied from the tape supply roller. It is transferred to a laminating driving roller, and the protective film recovery roller is disposed adjacent to the tape transfer roller to interact with the tape transfer roller, and recovers the protective film on the etching resistance tape passed through the tape transfer roller, A first roll sheet buffer unit, a pre-etching unit, and a pre-cleaning water remover are sequentially disposed behind the process of the etching resistance tape laminating unit, and the first roll sheet buffer unit is between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit. Is disposed to control the process speed between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit, the pre-etching unit is disposed between the etching resistance tape laminating unit and the first etching unit on the first process line , The roll sheet is introduced into the first etching unit to perform pre-etching on the roll sheet before proceeding with the etching process, and the pre-etching unit includes a pre-etching bath filled with an etchant and a pre-etching bath. And a plurality of pre-etching guide rollers for guiding the transfer of the roll sheet so that the roll sheet is deepened in the etchant in the pre-etching tank and discharged, and the pre-cleaning water remover includes the pre-etching unit and It is disposed between the first etching units, and cleans and removes water from the roll sheet on which a pre-etching process has been performed, and the pre-clean water remover cleans the roll sheet while spraying water toward the roll sheet. A pre-washer, and an air knife for removing water remaining on the surface of the roll sheet that has been cleaned by wind, and the first etching unit is provided at a rear of the process of the pre-clean water remover,
The first etching unit includes a roll sheet etching cabinet, and the roll sheet etching cabinet has a cabinet structure, and a plurality of etching rooms for performing an etching process on the roll sheet are formed therein, and the etching rooms are in communication with each other. , A roll sheet lead-in roller portion and a roll sheet take-out roller portion are provided in the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet lead-in roller portion is disposed in an entrance region of the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet is placed inside the roll sheet etching cabinet. And the roll sheet withdrawal roller part is disposed in the exit area of the roll sheet etching cabinet and draws (discharges) the roll sheet to the outside of the roll sheet etching cabinet, and a plurality of first rolls in the roll sheet etching cabinet An etchant spray module is provided, and the first etchant spray modules spray the etchant toward the roll sheet being transferred in the roll sheet etching cabinet in a spray manner to etch half the first surface, which is one side of the roll sheet. Let the process go,
A functional specific gravity washing unit is provided behind the process of the first etching unit, the functional specific gravity washing unit is directly connected to the outlet of the first etching unit, and an etching process using washing water or water mixed with a washing chemical To remove the etching liquid or foreign matter remaining on the completed roll sheet, the functional specific gravity washing unit is a unit cabinet, a specific gravity washing module, first to third washing modules, and a moisture removal module are integrated on the unit cabinet. Mounted, the unit cabinet forms the appearance of the functional specific gravity washing unit, a foot for height adjustment and ground support is disposed at the lower end of the unit cabinet, and the specific gravity washing module and the first to Means for supplying the washing water or water mixed with the washing chemical to the third flushing module at a quantitative and positive pressure are provided, a first drain portion and a second drain portion are provided at a lower portion of the unit cabinet, and the first drain portion is It is disposed at one lower side of the unit cabinet and receives and drains the washing water mixed with the washing agent falling from the specific gravity washing module, and the second drain portion is disposed on the other lower side of the unit cabinet, and the first to third flushing units are flushed. Receives and drains water falling from the module, and the specific gravity washing module is provided on one side of the upper portion of the unit cabinet and removes the etchant remaining on the roll sheet on which the etching process has been completed using washing water mixed with a washing chemical,
The specific gravity flushing module includes a specific gravity flushing module housing, a roll sheet transfer portion, an upper piping portion, a lower piping portion, and a pipe driving portion, and the specific gravity flushing module housing is an exterior frame having a box-shaped cabinet shape, and the specific gravity flushing module housing An inlet portion into which the roll sheet is introduced is formed on one side, and the roll sheet introduced into the inlet portion sequentially passes through the specific gravity washing module, the first to third washing modules, and the moisture removing module, and then the moisture removing module. Discharged to the discharge portion of the housing and then directed to the first roll sheet drying unit,
The roll sheet transfer unit is disposed in the specific gravity flushing module housing, transfers the roll sheet passing through the inlet to the first to third flushing modules, and is formed by a combination of a plurality of rollers and gears, and the upper pipe portion It is disposed on the upper portion of the roll sheet conveying part, and the upper piping part is provided with a plurality of upper spray nozzles for spraying downwardly the washing water mixed with a cleaning agent toward the roll sheet being conveyed by the action of the roll sheet conveying part, and the lower part The piping portion is disposed under the upper piping portion, and the lower piping portion is provided with a plurality of lower spray nozzles for spraying washing water mixed with a cleaning agent upward toward the roll sheet being transferred by the action of the roll sheet transfer portion, and the The pipe driving part is connected to the upper pipe part and the lower pipe part, and drives the upper pipe part and the lower pipe part in at least one direction to ensure spray uniformity of the washing water mixed with the cleaning agent sprayed onto the roll sheet. , The pipe driving part is provided in a form in which a component is coupled to a driving housing coupled to one side of the unit cabinet, the pipe driving part is connected to the upper pipe part and an upper slider for slidingly driving the upper pipe part, and the driving housing An upper sliding plate disposed on the upper side of and connected to the upper slider and sliding in a direction in which the upper pipe part is driven, a lower slider connected to the lower pipe part and slidably driving the lower pipe part, and an upper part of the driving housing And a lower sliding plate disposed on the lower slide and slid in a direction in which the lower pipe part is driven, and a slider driving part is provided in the pipe driving part to alternately drive the upper slider and the lower slider. , The slider driving unit is provided in the driving housing and is connected to the upper sliding plate and the lower sliding plate to alternately drive the upper slider and the lower slider, and the slider unit The eastern part is a servomotor connected to a reducer to generate power, and a rotating shaft disposed between the upper sliding plate and the lower sliding plate in the drive housing and connected to the servomotor to rotate by the operation of the servomotor. And an upper cam plate connected to an upper end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft; an upper coupling member coupled to the upper cam plate via an upper long hole of the upper sliding plate; and the rotating shaft A lower cam plate connected to a lower end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft, and a lower coupling member coupled to the lower cam plate via a lower long hole of the lower sliding plate, and the first to third flushing modules Is disposed adjacent to the specific gravity washing module on the unit cabinet, and removes foreign matter remaining on the roll sheet by using water with respect to the roll sheet that has passed the specific gravity washing module, and the first to third washing modules A flush module housing, and a plurality of water sprayers disposed above and below the roll sheet being transferred within the flush module housing, and spraying water toward the roll sheet at a corresponding position, and the water removal module It is disposed adjacent to the third flushing module on the unit cabinet, and removes water remaining on the roll sheet by wind with respect to the roll sheet that has passed the third flushing module, and the draining module includes a moisture removing module housing and , A plurality of air knives disposed above and below the roll sheet being transferred in the moisture removal module housing and spraying straight air toward the roll sheet at a corresponding position, and the functional specific gravity washing unit A first roll sheet drying unit, an etching resistance tape peeling unit, a peeling light irradiation unit, an etching resistance tape recovery unit, and a roll sheet recovery unit are sequentially arranged at the rear of the process of,
The first roll sheet drying unit is disposed at the rear of the process of the functional specific gravity washing unit and drying the washed roll sheet through the functional specific gravity washing unit, and the etching resistance tape peeling unit is the first etching unit. The etching resistance tape disposed behind the process and laminated for the first etching process is peeled off, and the peeling light irradiator is directed toward the etching resistance tape so that the etching resistance tape is peeled off from the roll sheet. ), and the etching resistance tape recoverer is disposed behind the process of the peeling light irradiator to recover the etching resistance tape peeled off from the roll sheet by the action of the peeling light irradiator,
The etching-resisting tape recovery device is rotated in contact with the etching-resisting tape, while a tape peeling drive roller for peeling the etching resistance tape from the roll sheet, and an opposite side of the tape peeling drive roller with the roll sheet interposed therebetween. A driven roller for tape peeling which is rotatably disposed on the tape, a tape recovery roller for winding and recovering the peeling tape for etching resistance, and a tape recovery roller disposed between the driving roller for tape peeling and the tape recovery roller and guiding the recovered tape. Including a tape guide roller,
The roll sheet recovery unit is disposed on the first process line on the opposite side of the roll sheet supply unit, and recovers the roll sheet from which the first surface of the roll sheet is etched and the etching resistance tape is peeled off. 2 In the process line, after etching along the direction in which the process proceeds, the roll sheet supply unit, the etching resistance coating unit, the second roll sheet drying unit, the etching resistance curing unit, the roll sheet cutting unit, the carrier laminating unit, and the second etching. The unit is disposed, and the roll sheet supply unit after the etching supplies the roll sheet, which has completed the etching process on the first surface, to the second processing line through the first processing line, and the roll sheet supply unit after the etching When supplying the roll sheet to the second process line, the etched side of the first process line faces the upper side, and the roll sheet on which the etching process for the first side is completed is of the second roll sheet driving roller. It is supplied to the second process line as a function, and the second roll sheet driving roller drives the roll sheet of the roll sheet supply unit toward the roll sheet cutting unit after etching, and the process rear of the roll sheet supply unit after the etching A second roll sheet buffer unit is provided in, and the second roll sheet buffer unit is disposed between the roll sheet supply unit and the etching resistance coating unit after the etching, and after the etching, the roll sheet supply unit and the etching resistance agent are applied. The process speed between the units is adjusted, the etching resistance coating unit is provided behind the process of the second roll sheet buffer unit, and the etching resistance coating unit is the 1/2 etching process completed on the first process line. The etching resistance agent is applied to the first surface of the roll sheet, and the second roll sheet drying unit and the etching resistance curing unit are sequentially disposed behind the process of the etching resistance application unit,
The second roll sheet drying unit is disposed between the etching resistance coating unit and the etching resistance curing unit and drying the roll sheet coated with the etching resistance agent, and the etching resistance curing unit is applied with the etching resistance agent. The roll sheet cutting unit is disposed behind the process of the unit and cures the etching resistance agent, and the roll sheet cutting unit is provided behind the process of the etching resistance curing unit on the second process line, and the roll sheet cutting unit is the etching resistance agent. It is disposed behind the process of the application unit and cuts the roll sheet into unit sheets of unit size,
The roll sheet cutting unit includes a cutter that cuts the roll sheet being transferred while being driven up and down, and a cutting die that supports the roll sheet to be cut, and the roll sheet is transferred when cutting the roll sheet. When this is stopped, an electric buffer roll is disposed in front of the spreading roller to compensate for the progress flow of the roll sheet in progress, and the carrier laminating unit is disposed at the rear of the process of the roll sheet cutting unit, and transfers the unit sheet. For laminating a carrier on the unit sheet, an intermediate moving roller is disposed between the carrier laminating unit and the sheet etching unit,
The sheet etching unit is disposed behind the process of the carrier laminating unit and performs an etching process on the second surface of the unit sheet, and the etching process is primarily performed through the first etching unit in the state of the roll sheet. In the state of the unit sheet, a main pattern is formed on the unit sheet as a second etching process proceeds through the sheet etching unit, and the sheet etching unit is a speed variable type in which the speed is accelerated at the entrance and exit through which the carrier is introduced and discharged. It is a second etching unit, and the second etching unit includes a sheet-shaped unit body part, a carrier moving module, a plurality of second etchant spray modules, and a carrier acceleration module,
The sheet-like unit body part forms the exterior of the second etching unit, the sheet-like unit body part has a cabinet shape, and the carrier moving module is provided in the sheet-like unit body part and serves to move the carrier, and the carrier moves. The module is applied with a roller that is strong against the etchant, and the plurality of second etchant spray modules are provided in the sheet-like unit body and spray the etchant toward the unit sheet moving through the carrier moving module within the sheet-like unit body. Injecting in a manner, the carrier acceleration module is disposed on at least one side of an inlet portion into which the carrier is introduced and an outlet portion from which the carrier is discharged, and serves to accelerate the carrier at a corresponding position, and the carrier acceleration module is an inlet side It includes a carrier acceleration module and a discharge-side carrier acceleration module, the inlet-side carrier acceleration module is provided on the inlet side of the sheet-shaped unit body portion, the carrier laminating unit side to control the speed of the carrier introduced into the sheet-shaped unit body portion. The speed of the carrier is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and the discharge-side carrier acceleration module is provided on the discharge part side of the sheet-shaped unit body part, and the etching process is completed, and is discharged from the inside of the sheet-shaped unit body part to the outside. Is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and a position sensing unit and a controller are further provided for the operation of the inlet-side carrier acceleration module and the discharge-side carrier acceleration module, and the position sensing unit is laminated with the unit sheet. It detects whether the carrier has reached the inlet or outlet side, and the controller performs the operation of the carrier acceleration module and the operation of the inlet carrier acceleration module and the discharge side carrier based on a detection signal of the position detection unit. It is possible to provide a method of manufacturing a fine metal mask that controls the operation of an acceleration module.
The present invention is a roll sheet (roll sheet) wound in the shape of a roll, and a photoresist formed on both sides;
A roll sheet supply unit supplying the roll sheet to a first processing line in which an etching process is performed;
A first etching unit provided on one side of the first process line and performing an etching process on a first surface, which is one surface of the roll sheet; And
A second etching unit for performing an etching process on the second surface, which is the other surface of the roll sheet;
Including,
The pattern holes of the photoresist are formed by being arranged along an imaginary line inclined at a certain angle with respect to a imaginary center line located at the center of the photoresist,
A fine metal plate in which a pattern of through holes is formed in a mask sheet is generated by the etching process, and the mask sheet is manufactured as a fine metal mask through a plurality of processes sequentially on a first process line and a second process line. The first process line performs a first etching process on the roll sheet through a first etching unit, and the second process line performs a second etching process on the unit sheet through a second etching unit,
The roll sheet is supplied to the first process line where an etching process is performed by a roll sheet supply unit, and the first etching unit provided on one side of the first process line is disposed on a first surface, which is one side of the roll sheet. An etching process is performed, and the second etching unit performs an etching process on the second side, which is the other side of the roll sheet, and an etching resistance tape is laminated on one side of the roll sheet, and the The roll sheet on which the etching resistance tape is laminated is introduced into the first etching unit, and the first side, which is one side of the roll sheet, is etched through the first etching unit, and the roll sheet on which the first side is etched is After being pulled out from the first etching unit and inverted, the etched first surface is turned over so that the etched first surface is placed on the top, and then an etching resistance agent is applied to the etched first surface area, and the etching resistance agent is applied to the etched agent of the roll sheet. After being applied to the first surface area, the roll sheet is cut to form a unit sheet of a unit size, and thereafter, an etching process is performed on the unetched second surface area through the second etching unit, and the unit A carrier is laminated to the sheet, and the unit sheet laminated to the carrier is introduced into the second etching unit, and the second surface, which is the remaining surface of the unit sheet, is etched through the second etching unit, so that the pattern of the through holes is Is formed, and in the first process line, a roll sheet supply unit, a tape laminating unit for etching resistance, a pre-etching unit, a pre-cleaning and dewatering device, a first etching unit, a functional specific gravity washing unit, and an etching resistance along the direction in which the process proceeds. A tape peeling unit and a roll sheet recovery unit are arranged
The roll sheet supply unit supplies the roll sheet formed by being wound in a roll shape to the first processing line where a primary etching process is performed, and the roll sheet is supplied through the roll sheet supply unit. A first roll sheet driving roller and a plurality of roll sheet guide rollers are provided in order to be released and supplied to the first process line, and the first roll sheet driving roller is provided between the roll sheet supply unit and the roll sheet collecting unit. It is disposed on the first process line, and the roll sheet is moved toward the roll sheet recovery unit by pulling the roll sheet by a driving force of a motor, and the roll sheet guide rollers are disposed at various places in both the first process line and the second process line. While imparting tension to the roll sheet to guide the transport of the roll sheet, the etching resistance tape laminating unit is disposed between the roll sheet supply unit and the first etching unit, and Before the etching process proceeds, an etching resistance tape is laminated on a second surface that is the other side of the roll sheet that is released from the roll sheet supply unit and supplied to the first etching unit, and the etching resistance tape laminating unit A silver tape supply roller, a laminating drive roller, a laminating driven roller, a tape transfer roller, and a protective film recovery roller are included, and the tape supply roller supplies the etching resistance tape, and the laminating drive roller is the first roller of the roll sheet. It is rotatably disposed on two sides, and receives the etching resistance tape supplied from the tape supply roller and laminates it to the second side of the roll sheet, and the laminating driven roller drives the laminating with the roll sheet interposed therebetween. It is rotatably disposed on the opposite side of the roller, and the tape transfer roller is disposed between the tape supply roller and the laminating driving roller to pass the etching resistance tape and the etching resistance tape supplied from the tape supply roller. It is transferred to a laminating driving roller, and the protective film recovery roller is disposed adjacent to the tape transfer roller to interact with the tape transfer roller, and recovers the protective film on the etching resistance tape passed through the tape transfer roller, A first roll sheet buffer unit, a pre-etching unit, and a pre-cleaning water remover are sequentially disposed behind the process of the etching resistance tape laminating unit, and the first roll sheet buffer unit is between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit. Is disposed to control the process speed between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit, the pre-etching unit is disposed between the etching resistance tape laminating unit and the first etching unit on the first process line , The roll sheet is introduced into the first etching unit to perform pre-etching on the roll sheet before proceeding with the etching process, and the pre-etching unit includes a pre-etching bath filled with an etchant and a pre-etching bath. And a plurality of pre-etching guide rollers for guiding the transfer of the roll sheet so that the roll sheet is deepened in the etchant in the pre-etching tank and discharged, and the pre-cleaning water remover includes the pre-etching unit and It is disposed between the first etching units, and cleans and removes water from the roll sheet on which a pre-etching process has been performed, and the pre-clean water remover cleans the roll sheet while spraying water toward the roll sheet. A pre-washer, and an air knife for removing water remaining on the surface of the roll sheet that has been cleaned by wind, and the first etching unit is provided at a rear of the process of the pre-clean water remover,
The first etching unit includes a roll sheet etching cabinet, and the roll sheet etching cabinet has a cabinet structure, and a plurality of etching rooms for performing an etching process on the roll sheet are formed therein, and the etching rooms are in communication with each other. , A roll sheet lead-in roller portion and a roll sheet take-out roller portion are provided in the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet lead-in roller portion is disposed in an entrance region of the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet is placed inside the roll sheet etching cabinet. And the roll sheet withdrawal roller part is disposed in the exit area of the roll sheet etching cabinet and draws (discharges) the roll sheet to the outside of the roll sheet etching cabinet, and a plurality of first rolls in the roll sheet etching cabinet An etchant spray module is provided, and the first etchant spray modules spray the etchant toward the roll sheet being transferred in the roll sheet etching cabinet in a spray manner to etch half the first surface, which is one side of the roll sheet. Let the process go,
A functional specific gravity washing unit is provided behind the process of the first etching unit, the functional specific gravity washing unit is directly connected to the outlet of the first etching unit, and an etching process using washing water or water mixed with a washing chemical To remove the etching liquid or foreign matter remaining on the completed roll sheet, the functional specific gravity washing unit is a unit cabinet, a specific gravity washing module, first to third washing modules, and a moisture removal module are integrated on the unit cabinet. Mounted, the unit cabinet forms the appearance of the functional specific gravity washing unit, a foot for height adjustment and ground support is disposed at the lower end of the unit cabinet, and the specific gravity washing module and the first to Means for supplying the washing water or water mixed with the washing chemical to the third flushing module at a quantitative and positive pressure are provided, a first drain portion and a second drain portion are provided at a lower portion of the unit cabinet, and the first drain portion is It is disposed at one lower side of the unit cabinet and receives and drains the washing water mixed with the washing agent falling from the specific gravity washing module, and the second drain portion is disposed on the other lower side of the unit cabinet, and the first to third flushing units are flushed. Receives and drains water falling from the module, and the specific gravity washing module is provided on one side of the upper portion of the unit cabinet and removes the etchant remaining on the roll sheet on which the etching process has been completed using washing water mixed with a washing chemical,
The specific gravity flushing module includes a specific gravity flushing module housing, a roll sheet transfer portion, an upper piping portion, a lower piping portion, and a pipe driving portion, and the specific gravity flushing module housing is an exterior frame having a box-shaped cabinet shape, and the specific gravity flushing module housing An inlet portion into which the roll sheet is introduced is formed on one side, and the roll sheet introduced into the inlet portion sequentially passes through the specific gravity washing module, the first to third washing modules, and the moisture removing module, and then the moisture removing module. Discharged to the discharge portion of the housing and then directed to the first roll sheet drying unit,
The roll sheet transfer unit is disposed in the specific gravity flushing module housing, transfers the roll sheet passing through the inlet to the first to third flushing modules, and is formed by a combination of a plurality of rollers and gears, and the upper pipe portion It is disposed on the upper portion of the roll sheet conveying part, and the upper piping part is provided with a plurality of upper spray nozzles for spraying downwardly the washing water mixed with a cleaning agent toward the roll sheet being conveyed by the action of the roll sheet conveying part, and the lower part The piping portion is disposed under the upper piping portion, and the lower piping portion is provided with a plurality of lower spray nozzles for spraying washing water mixed with a cleaning agent upward toward the roll sheet being transferred by the action of the roll sheet transfer portion, and the The pipe driving part is connected to the upper pipe part and the lower pipe part, and drives the upper pipe part and the lower pipe part in at least one direction to ensure spray uniformity of the washing water mixed with the cleaning agent sprayed onto the roll sheet. , The pipe driving part is provided in a form in which a component is coupled to a driving housing coupled to one side of the unit cabinet, the pipe driving part is connected to the upper pipe part and an upper slider for slidingly driving the upper pipe part, and the driving housing An upper sliding plate disposed on the upper side of and connected to the upper slider and sliding in a direction in which the upper pipe part is driven, a lower slider connected to the lower pipe part and slidably driving the lower pipe part, and an upper part of the driving housing And a lower sliding plate disposed on the lower slide and slid in a direction in which the lower pipe part is driven, and a slider driving part is provided in the pipe driving part to alternately drive the upper slider and the lower slider. , The slider driving unit is provided in the driving housing and is connected to the upper sliding plate and the lower sliding plate to alternately drive the upper slider and the lower slider, and the slider unit The eastern part is a servomotor connected to a reducer to generate power, and a rotating shaft disposed between the upper sliding plate and the lower sliding plate in the drive housing and connected to the servomotor to rotate by the operation of the servomotor. And an upper cam plate connected to an upper end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft; an upper coupling member coupled to the upper cam plate via an upper long hole of the upper sliding plate; and the rotating shaft A lower cam plate connected to a lower end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft, and a lower coupling member coupled to the lower cam plate via a lower long hole of the lower sliding plate, and the first to third flushing modules Is disposed adjacent to the specific gravity washing module on the unit cabinet, and removes foreign matter remaining on the roll sheet by using water with respect to the roll sheet that has passed the specific gravity washing module, and the first to third washing modules A flush module housing, and a plurality of water sprayers disposed above and below the roll sheet being transferred within the flush module housing, and spraying water toward the roll sheet at a corresponding position, and the water removal module It is disposed adjacent to the third flushing module on the unit cabinet, and removes water remaining on the roll sheet by wind with respect to the roll sheet that has passed the third flushing module, and the draining module includes a moisture removing module housing and , A plurality of air knives disposed above and below the roll sheet being transferred in the moisture removal module housing and spraying straight air toward the roll sheet at a corresponding position, and the functional specific gravity washing unit A first roll sheet drying unit, an etching resistance tape peeling unit, a peeling light irradiation unit, an etching resistance tape recovery unit, and a roll sheet recovery unit are sequentially arranged at the rear of the process of,
The first roll sheet drying unit is disposed at the rear of the process of the functional specific gravity washing unit and drying the washed roll sheet through the functional specific gravity washing unit, and the etching resistance tape peeling unit is the first etching unit. The etching resistance tape disposed behind the process and laminated for the first etching process is peeled off, and the peeling light irradiator is directed toward the etching resistance tape so that the etching resistance tape is peeled off from the roll sheet. ), and the etching resistance tape recoverer is disposed behind the process of the peeling light irradiator to recover the etching resistance tape peeled off from the roll sheet by the action of the peeling light irradiator,
The etching-resisting tape recovery device is rotated in contact with the etching-resisting tape, while a tape peeling drive roller for peeling the etching resistance tape from the roll sheet, and an opposite side of the tape peeling drive roller with the roll sheet interposed therebetween. A driven roller for tape peeling which is rotatably disposed on the tape, a tape recovery roller for winding and recovering the peeling tape for etching resistance, and a tape recovery roller disposed between the driving roller for tape peeling and the tape recovery roller and guiding the recovered tape. Including a tape guide roller,
The roll sheet recovery unit is disposed on the first process line on the opposite side of the roll sheet supply unit, and recovers the roll sheet from which the first surface of the roll sheet is etched and the etching resistance tape is peeled off. 2 In the process line, after etching along the direction in which the process proceeds, the roll sheet supply unit, the etching resistance coating unit, the second roll sheet drying unit, the etching resistance curing unit, the roll sheet cutting unit, the carrier laminating unit, and the second etching. The unit is disposed, and the roll sheet supply unit after the etching supplies the roll sheet, which has completed the etching process on the first surface, to the second processing line through the first processing line, and the roll sheet supply unit after the etching When supplying the roll sheet to the second process line, the etched side of the first process line faces the upper side, and the roll sheet on which the etching process for the first side is completed is of the second roll sheet driving roller. It is supplied to the second process line as a function, and the second roll sheet driving roller drives the roll sheet of the roll sheet supply unit toward the roll sheet cutting unit after etching, and the process rear of the roll sheet supply unit after the etching A second roll sheet buffer unit is provided in, and the second roll sheet buffer unit is disposed between the roll sheet supply unit and the etching resistance coating unit after the etching, and after the etching, the roll sheet supply unit and the etching resistance agent are applied. The process speed between the units is adjusted, the etching resistance coating unit is provided behind the process of the second roll sheet buffer unit, and the etching resistance coating unit is the 1/2 etching process completed on the first process line. The etching resistance agent is applied to the first surface of the roll sheet, and the second roll sheet drying unit and the etching resistance curing unit are sequentially disposed behind the process of the etching resistance application unit,
The second roll sheet drying unit is disposed between the etching resistance coating unit and the etching resistance curing unit and drying the roll sheet coated with the etching resistance agent, and the etching resistance curing unit is applied with the etching resistance agent. The roll sheet cutting unit is disposed behind the process of the unit and cures the etching resistance agent, and the roll sheet cutting unit is provided behind the process of the etching resistance curing unit on the second process line, and the roll sheet cutting unit is the etching resistance agent. It is disposed behind the process of the application unit and cuts the roll sheet into unit sheets of unit size,
The roll sheet cutting unit includes a cutter that cuts the roll sheet being transferred while being driven up and down, and a cutting die that supports the roll sheet to be cut, and the roll sheet is transferred when cutting the roll sheet. When this is stopped, an electric buffer roll is disposed in front of the spreading roller to compensate for the progress flow of the roll sheet in progress, and the carrier laminating unit is disposed at the rear of the process of the roll sheet cutting unit, and transfers the unit sheet. For laminating a carrier on the unit sheet, an intermediate moving roller is disposed between the carrier laminating unit and the sheet etching unit,
The sheet etching unit is disposed behind the process of the carrier laminating unit and performs an etching process on the second surface of the unit sheet, and the etching process is primarily performed through the first etching unit in the state of the roll sheet. In the state of the unit sheet, a main pattern is formed on the unit sheet as a second etching process proceeds through the sheet etching unit, and the sheet etching unit is a speed variable type in which the speed is accelerated at the entrance and exit through which the carrier is introduced and discharged. It is a second etching unit, and the second etching unit includes a sheet-shaped unit body part, a carrier moving module, a plurality of second etchant spray modules, and a carrier acceleration module,
The sheet-like unit body part forms the exterior of the second etching unit, the sheet-like unit body part has a cabinet shape, and the carrier moving module is provided in the sheet-like unit body part and serves to move the carrier, and moves the carrier. The module is applied with a roller that is strong against the etching solution, and the plurality of second etching solution spray modules are provided in the sheet-shaped unit body and spray the etching solution toward the unit sheet moving through the carrier moving module in the sheet-shaped unit body. Injecting in a manner, the carrier acceleration module is disposed on at least one side of an inlet portion into which the carrier is introduced and an outlet portion from which the carrier is discharged, and serves to accelerate the carrier at a corresponding position, and the carrier acceleration module is an inlet side It includes a carrier acceleration module and a discharge-side carrier acceleration module, wherein the inlet-side carrier acceleration module is provided on the inlet side of the sheet-like unit body and controls the speed of the carrier introduced into the sheet-like unit body from the carrier laminating unit side. The speed of the carrier is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and the discharge-side carrier acceleration module is provided on the discharge part side of the sheet-like unit body part, and the etching process is completed, and is discharged from the inside of the sheet-like unit body part to the outside. Is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, a position sensing unit and a controller are further provided for the operation of the inlet-side carrier acceleration module and the discharge-side carrier acceleration module, and the position sensing unit is laminated with the unit sheet. It detects whether the carrier has reached the inlet or outlet side, and the controller performs the operation of the carrier acceleration module and the operation of the inlet carrier acceleration module and the discharge side carrier based on the detection signal of the position detection unit. It is possible to provide a system for manufacturing a fine metal mask that controls the operation of the acceleration module.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.Although the above has been described with reference to the embodiments of the present invention, various changes or modifications can be made at the level of those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. Such changes and modifications may be said to belong to the present invention as long as they do not depart from the scope of the technical idea provided by the present invention. Therefore, the scope of the present invention should be determined by the claims set forth below.

10 : 마스크 11 : 마스크 시트
12 : 패턴부 13 : 패턴홀
14 : 에칭 저항제 20 : 단위 시트
30 : 롤 시트 33 : 에칭 저항용 테이프
50 : 캐리어 100 : 미세금속 마스크 제조시스템
110 : 롤 시트 공급 유닛 112 : 롤 시트 회수 유닛
120 : 에칭저항용테이프 라미네이팅 유닛 130 : 제1 롤 시트 버퍼 유닛
140 : 프리 에칭 유닛 145 : 프리 세척 및 물기 제거기
150 : 제1 에칭 유닛 160 : 기능성 비중수세 유닛
162 : 비중수세 모듈 170 : 배관 구동부
180 : 에칭 저항용 테이프 박리 유닛 210 : 에칭 후 롤 시트 공급 유닛
220 : 에칭 저항제 도포 유닛 231 : 제2 롤 시트 건조 유닛
235 : 에칭 저항제 경화 유닛 250 : 롤 시트 절단 유닛
260 : 캐리어 라미네이팅 유닛 270 : 제2 에칭 유닛
278 : 위치 감지부 280 : 컨트롤러
1200 : 강화 접착 물질 1201 : 필러
1202 : 바인더
10: mask 11: mask sheet
12: pattern part 13: pattern hole
14: etching resistance agent 20: unit sheet
30 roll sheet 33 etching resistance tape
50: carrier 100: fine metal mask manufacturing system
110: roll sheet supply unit 112: roll sheet collection unit
120: etching resistance tape laminating unit 130: first roll sheet buffer unit
140: pre-etching unit 145: pre-cleaning and draining machine
150: first etching unit 160: functional specific gravity washing unit
162: specific gravity washing module 170: pipe drive unit
180: tape peeling unit for etching resistance 210: roll sheet supply unit after etching
220: etching resistance coating unit 231: second roll sheet drying unit
235: etching resistance curing unit 250: roll sheet cutting unit
260: carrier laminating unit 270: second etching unit
278: position detection unit 280: controller
1200: reinforced adhesive material 1201: filler
1202: binder

Claims (14)

미세 금속판에 관통 구멍들의 패턴을 형성하는 미세 금속 마스크 제조 방법으로서,
(a) 상기 미세 금속판이 제공되는 단계;
(b) 상기 미세 금속판의 양면에 강화 접착 물질이 도포(Coating)되는 단계;
(c) 상기 미세 금속판의 양면 상에 포토 레지스트가 상기 강화 접착 물질에 의해 접착되는 단계;
(d) 상기 미세 금속판의 양면에 위치한 상기 포토 레지스트에 패턴 홀들이 형성되는 단계; 및
(e) 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들에 식각(etching) 용액이 인입되어 상기 미세 금속판을 식각함에 의하여, 상기 미세 금속판에 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되는 단계;
를 포함하고,
상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성되고,
상기 미세 금속판은 에칭 공정에 의해 마스크 시트에 관통 구멍들의 패턴이 형성된 마스크 패턴부를 포함하고, 상기 마스크 시트는 제1 공정 라인과 제2 공정 라인 상의 다수의 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크로 제조되며, 상기 제1 공정 라인은 제1 에칭 유닛을 통해 롤 시트에 대한 1차 에칭(etching) 공정을 진행하고, 상기 제2 공정 라인은 제2 에칭 유닛을 통해 단위 시트에 대한 2차 에칭 공정을 진행하며,
상기 롤 시트는 롤시트 공급 유닛에 의해 에칭 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급되고, 상기 제1 공정 라인의 일측에 마련된 상기 제1 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 한 쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 제2 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하며, 상기 롤 시트의 한쪽 면에 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅(laminating)되며, 상기 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅 된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 상기 제1 에칭 유닛을 통해 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면이 에칭되며, 상기 제1 면이 에칭된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛에서 인출된 후 반전되어 상기 에칭된 제1 면이 상부로 놓이도록 뒤집힌 다음, 상기 에칭된 제1 면 영역에 에칭 저항제가 도포되며, 상기 에칭 저항제가 상기 롤 시트의 에칭된 제1 면 영역에 도포된 이후에 상기 롤 시트가 절단되어 단위 사이즈의 단위 시트로 형성되며, 이후에 상기 제2 에칭 유닛을 통해, 에칭되지 않은 제2 면 영역에 대한 에칭 공정이 진행되며, 상기 단위 시트에는 캐리어가 라미네이팅되고, 상기 캐리어에 라미네이팅 된 상기 단위 시트는 상기 제2 에칭 유닛으로 인입되고 상기 제2 에칭 유닛을 통해 상기 단위 시트의 나머지 면인 제2 면이 에칭되어, 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되고, 상기 제1 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛, 프리 에칭 유닛, 프리 세척 및 물기 제거기, 제1 에칭 유닛, 기능성 비중수세 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 그리고 롤 시트 회수 유닛이 배치되고,
상기 롤 시트 공급 유닛은 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 상기 롤 시트를 1차 에칭(etching) 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급하고, 상기 롤 시트 공급 유닛을 통해 상기 롤 시트가 풀려 상기 제1 공정 라인으로 공급되기 위해 제1 롤 시트 구동 롤러와, 다수의 롤 시트 가이드 롤러가 마련되고, 상기 제1 롤 시트 구동 롤러는 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 롤 시트 회수 유닛 사이의 상기 제1 공정 라인 상에 배치되며, 모터의 구동력으로 상기 롤 시트를 당겨서 상기 롤 시트 회수 유닛 쪽으로 이동시키고, 상기 제1 공정 라인 및 상기 제2 공정 라인 모두의 곳곳에 상기 롤 시트 가이드 롤러가 배치되어 상기 롤 시트에 텐션을 부여하면서 상기 롤 시트의 이송을 가이드하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면에 대한 에칭 공정이 진행되기 전에 상기 롤 시트 공급 유닛에서 풀려 상기 제1 에칭 유닛으로 공급되는 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 에칭 저항용 테이프를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 테이프 공급 롤러, 라미네이팅 구동 롤러, 라미네이팅 종동 롤러, 테이프 전달 롤러, 그리고 보호필름 회수 롤러를 포함하고, 상기 테이프 공급 롤러는 상기 에칭 저항용 테이프를 공급하고, 상기 라미네이팅 구동 롤러는 상기 롤 시트의 제2 면에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 전달 받아 상기 롤 시트의 제2 면에 라미네이팅하며, 상기 라미네이팅 종동 롤러는 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 라미네이팅 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 전달 롤러는 상기 테이프 공급 롤러와 상기 라미네이팅 구동 롤러 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프가 경유되며 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 상기 라미네이팅 구동 롤러로 전달하며, 상기 보호필름 회수 롤러는 상기 테이프 전달 롤러에 이웃하게 배치되어 상기 테이프 전달 롤러와 상호 작용하며, 상기 테이프 전달 롤러로 경유되는 상기 에칭 저항용 테이프 상의 보호필름을 회수하며, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 버퍼 유닛, 프리 에칭 유닛 및 프리 세척 물기 제거기가 순차적으로 배치되고, 제1 롤 시트 버퍼 유닛은 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 프리 에칭 유닛 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 프리 에칭 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 프리 에칭 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트가 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 에칭 공정을 진행하기 전에 상기 롤 시트에 대한 프리 에칭(pre etching)을 진행하고, 상기 프리 에칭 유닛은 에칭액이 충전되는 프리 에칭조와, 프리 에칭조에 마련되어 상기 롤 시트가 상기 프리 에칭조 내의 에칭액에 디핑(deeping)되어 배출될 수 있도록 상기 롤 시트의 이송을 가이드하는 다수의 프리 에칭 가이드 롤러를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 프리 에칭 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 프리 에칭 공정이 진행된 상기 롤 시트를 세척하고 물기를 제거하며, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 롤 시트를 향해 워터(water)를 분사하면서 상기 롤 시트를 세척하는 프리 세척기와, 세척이 완료된 상기 롤 시트의 표면에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 에어 나이프를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기의 공정 후방에 상기 제1 에칭 유닛이 마련되며,
상기 제1 에칭 유닛은 롤 시트 에칭 캐비닛을 구비하고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛은 캐비닛 구조로서 내부에 상기 롤 시트에 대한 에칭 공정을 진행하는 다수의 에칭 룸이 형성되며, 상기 에칭 룸들은 서로 연통되고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛에 롤 시트 인입 롤러부와 롤 시트 인출 롤러부가 마련되며, 상기 롤 시트 인입 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 입구 영역에 배치되며, 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 내부로 인입시키며, 상기 롤 시트 인출 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 출구 영역에 배치되며 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 외부로 인출(배출)시키고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에는 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈이 마련되며, 상기 제1 에칭액 스프레이 모듈들은 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에서 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하여 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 1/2 에칭 공정이 진행되게 하고,
상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 기능성 비중수세 유닛이 마련되고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 출구에 직결되며, 세척 약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 유닛 캐비닛과, 상기 유닛 캐비닛 상에 비중수세 모듈, 제1 내지 제3 수세 모듈, 그리고 물기 제거 모듈이 일체로 탑재되고, 상기 유닛 캐비닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 외관을 이루며, 상기 유닛 캐비닛의 하단부에 높이 조절 및 지면 지지를 위한 푸트가 배치되며, 상기 유닛 캐비닛의 후면에 상기 비중수세 모듈 및 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 쪽으로 세척약품이 혼합된 세척수 혹은 워터를 정량과 정압으로 공급하기 위한 수단들이 갖춰지고, 상기 유닛 캐비닛의 하부에 제1 드레인부와 제2 드레인부가 마련되고, 상기 제1 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 일측에 배치되며 상기 비중수세 모듈에서 낙하되는 세척약품이 혼합된 세척수를 받아 드레인(drain)시키며, 상기 제2 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 타측에 배치되며 상기 제1 내지 제3 수세 모듈에서 낙하되는 워터를 받아 드레인시키고, 상기 비중수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛의 상부 일측에 마련되며 세척약품이 혼합된 세척수를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액을 제거하고,
상기 비중수세 모듈은 비중수세 모듈 하우징, 롤 시트 이송부, 상부 배관부, 하부 배관부, 그리고 배관 구동부를 포함하고, 상기 비중수세 모듈 하우징은 박스형 캐비닛 형상을 갖는 외관 프레임이고, 상기 비중수세 모듈 하우징의 일측에 상기 롤 시트가 유입되는 유입부가 형성되며, 상기 유입부로 유입되는 상기 롤 시트는 상기 비중수세 모듈, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈, 및 상기 물기 제거 모듈을 차례로 거친 후, 상기 물기 제거 모듈 하우징의 배출부로 배출되어 이후에 제1 롤 시트 건조 유닛으로 향하고,
상기 롤 시트 이송부는 상기 비중수세 모듈 하우징 내에 배치되며, 상기 유입부를 통과한 상기 롤 시트를 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 측으로 이송시키고, 다수의 롤러와 기어의 조합으로 형성되고, 상기 상부 배관부는 상기 롤 시트 이송부의 상부에 배치되며, 상기 상부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 하향 분사하는 다수의 상부 분사노즐이 마련되고, 상기 하부 배관부는 상기 상부 배관부의 하부에 배치되며, 상기 하부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 상향 분사하는 다수의 하부 분사노즐이 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부와 연결되며, 상기 롤 시트 상으로 분사되는 세척약품이 혼합된 세척수의 분사 균일도 확보를 위하여 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부를 적어도 일 방향으로 구동시키고, 상기 배관 구동부는 상기 유닛 캐비닛의 일측에 결합되는 구동 하우징에 부품이 결합되는 형태로 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부와 연결되고 상기 상부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 상부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 상부 슬라이더와 연결되며 상기 상부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 상부 슬라이딩 플레이트와, 상기 하부 배관부와 연결되고 상기 하부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 하부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 하부 슬라이와 연결되며 상기 하부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 하부 슬라이딩 플레이트를 포함하고, 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키기 위해 슬라이더 구동부가 상기 배관 구동부에 마련되고, 상기 슬라이더 구동부는 상기 구동 하우징에 마련되고 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트와 연결되어 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키고, 상기 슬라이더 구동부는 감속기가 연결되며 동력을 발생시키는 서보모터와, 상기 구동 하우징 내에서 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트 사이에 배치되며 상기 서보모터에 연결되어 상기 서보모터의 동작에 의해 회전되는 로테이팅 샤프트와, 상기 로테이팅 샤프트의 상단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 상부 캠 플레이트와, 상기 상부 슬라이딩 플레이트의 상부 장공을 경유해서 상기 상부 캠 플레이트에 결합되는 상부 결합부재와, 상기 로테이팅 샤프트의 하단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 하부 캠 플레이트와, 상기 하부 슬라이딩 플레이트의 하부 장공을 경유해서 상기 하부 캠 플레이트에 결합되는 하부 결합부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 상기 비중수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 비중수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 워터를 이용해서 상기 롤 시트 상에 잔존되는 이물을 제거하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 수세 모듈 하우징과, 상기 수세 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 워터를 분사하는 다수의 워터 분사기를 포함하고, 상기 물기 제거 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 제3 수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 제3 수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 상기 롤 시트 상에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하며, 상기 물기 제거 모듈은 물기 제거 모듈 하우징과, 상기 물기 제거 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 일자형 에어(air)를 분사하는 다수의 에어 나이프를 포함하고, 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 박리용 광 조사기, 에칭 저항용 테이프 회수기 및 롤 시트 회수 유닛이 순서대로 배치되고,
상기 제1 롤 시트 건조 유닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 기능성 비중수세 유닛을 거쳐 세척이 완료된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항용 테이프 박리 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 배치되며 1차 에칭 공정을 위해 라미네이팅되었던 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하고, 상기 박리용 광 조사기는 상기 에칭 저항용 테이프가 상기 롤 시트로부터 박리되도록 상기 에칭 저항용 테이프를 향해 광(光)을 조사하고, 상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 박리용 광 조사기의 공정 후방에 배치되어 상기 박리용 광 조사기의 작용으로 상기 롤 시트에서 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 회수하며,
상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 에칭 저항용 테이프에 접촉 회전되면서 상기 롤 시트로부터 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하는 테이프 박리용 구동 롤러와, 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 테이프 박리용 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 테이프 박리용 종동 롤러와, 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 감아 회수하는 테이프 회수 롤러와, 상기 테이프 박리용 구동 롤러와 상기 테이프 회수 롤러 사이에 배치되며 회수되는 테이프를 가이드하는 테이프 가이드 롤러를 포함하고,
상기 롤 시트 회수 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 롤 시트 공급 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면이 에칭되고 상기 에칭 저항용 테이프가 박리된 상기 롤 시트를 회수하고, 상기 제2 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 에칭 후 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항제 도포 유닛, 제2 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항제 경화 유닛, 롤 시트 절단 유닛, 캐리어 라미네이팅 유닛, 그리고 제2 에칭 유닛이 배치되고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛은 상기 제1 공정 라인을 통해 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급하고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛이 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급할 때, 상기 제1 공정 라인에서 에칭이 된 면이 상부를 향하도록 하고 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트는 상기 제2 롤 시트 구동 롤러의 작용으로 상기 제2 공정 라인으로 공급되고, 상기 제2 롤 시트 구동 롤러는 에칭 후 상기 롤 시트 공급 유닛의 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 절단 유닛 쪽으로 구동시키고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛의 공정 후방에 제2 롤 시트 버퍼 유닛이 마련되고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛은 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛의 공정 후방에 상기 에칭 저항제 도포 유닛이 마련되고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 1/2 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트의 제1 면에 상기 에칭 저항제를 도포하고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 상기 제2 롤 시트 건조 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛이 차례로 배치되고,
상기 제2 롤 시트 건조 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 저항제가 도포된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항제 경화 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 에칭 저항제를 경화시키고, 상기 제2 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항제 경화 유닛의 공정 후방에 상기 롤 시트 절단 유닛이 마련되고, 상기 롤 시트 절단 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 롤 시트를 단위 사이즈의 단위 시트로 절단하고,
상기 롤 시트 절단 유닛은 상하로 구동되면서 이송 중인 상기 롤 시트를 절단하는 커터(cutter)와, 절단 대상인 상기 롤 시트를 지지하는 절단 다이를 포함하고, 상기 롤 시트의 절단 작업 시 상기 롤 시트의 이송이 정지될 때 진행 중인 상기 롤 시트의 진행 흐름을 보상하기 위해 전동식 버퍼 롤이 펼침 롤러의 전방에 배치되고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 절단 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 이송을 위하여 상기 단위 시트에 캐리어(carrier)를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛과 상기 시트 에칭 유닛 사이에 중간 이동 롤러가 배치되고,
상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 롤 시트의 상태에서 상기 제1 에칭 유닛을 통해 1차로 에칭 공정이 진행되고 상기 단위 시트의 상태에서 상기 시트 에칭 유닛을 통해 2차로 에칭 공정이 진행됨에 따라 상기 단위 시트에 메인 패턴이 형성되고, 상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되는 속도 가변형 제2 에칭 유닛이고, 상기 제2 에칭 유닛은 시트형 유닛 바디부, 캐리어 이동모듈, 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈, 그리고 캐리어 가속모듈을 포함하고,
상기 시트형 유닛 바디부는 상기 제2 에칭 유닛의 외관을 이루고, 상기 시트형 유닛 바디부는 캐비닛 형상을 가지며, 상기 캐리어 이동모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 캐리어를 이동시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 이동모듈은 에칭액에 강한 롤러로 적용되고, 상기 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 시트형 유닛 바디부 내에서 상기 캐리어 이동모듈을 통해 이동 중인 상기 단위 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하고, 상기 캐리어 가속모듈은 상기 캐리어가 유입되는 유입부와 상기 캐리어가 배출되는 배출부 중 적어도 일측에 배치되고 해당 위치에서 상기 캐리어를 가속시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 가속모듈은 유입측 캐리어 가속모듈과 배출측 캐리어 가속모듈을 포함하고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 유입부 측에 마련되며 상기 캐리어 라미네이팅 유닛 측에서 상기 시트형 유닛 바디부 내로 유입되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 배출측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 배출부 측에 마련되며 에칭 공정이 완료되어 상기 시트형 유닛 바디부의 내부에서 외부로 배출되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈과 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 위해 위치 감지부와 컨트롤러가 더 구비되고, 상기 위치 감지부는 상기 단위 시트가 라미네이팅 된 상기 캐리어가 유입부 또는 배출부 측에 도달되었는지의 여부를 감지하고, 상기 컨트롤러는 상기 위치 감지부의 감지 신호에 기초하여 상기 캐리어 가속모듈의 동작과 상기 유입측 캐리어 가속모듈의 동작 및 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 컨트롤하는, 미세 금속 마스크 제조 방법.
As a method of manufacturing a fine metal mask for forming a pattern of through holes in a fine metal plate,
(a) providing the fine metal plate;
(b) applying a reinforcing adhesive material to both surfaces of the fine metal plate;
(c) bonding a photoresist on both sides of the fine metal plate by the reinforcing adhesive material;
(d) forming pattern holes in the photoresist located on both sides of the fine metal plate; And
(e) forming a pattern of the through holes in the fine metal plate by introducing an etching solution into the pattern holes of the photoresist and etching the fine metal plate;
Including,
In the step (d), the pattern holes of the photoresist are formed by being arranged along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line located at the center of the photoresist,
The fine metal plate includes a mask pattern portion in which a pattern of through holes is formed in a mask sheet by an etching process, and the mask sheet is manufactured as a fine metal mask through a plurality of processes sequentially on a first process line and a second process line. , The first process line performs a primary etching process on the roll sheet through a first etching unit, and the second process line performs a secondary etching process on the unit sheet through a second etching unit. And
The roll sheet is supplied to the first process line where an etching process is performed by a roll sheet supply unit, and the first etching unit provided on one side of the first process line is disposed on a first surface, which is one side of the roll sheet. An etching process is performed, and the second etching unit performs an etching process on the second side, which is the other side of the roll sheet, and an etching resistance tape is laminated on one side of the roll sheet, and the The roll sheet on which the etching resistance tape is laminated is introduced into the first etching unit, and the first side, which is one side of the roll sheet, is etched through the first etching unit, and the roll sheet on which the first side is etched is After being pulled out from the first etching unit and inverted, the etched first surface is turned over so that the etched first surface is placed on the top, and then an etching resistance agent is applied to the etched first surface area, and the etching resistance agent is applied to the etched agent of the roll sheet. After being applied to the first surface area, the roll sheet is cut to form a unit sheet of a unit size, and thereafter, an etching process is performed on the unetched second surface area through the second etching unit, and the unit A carrier is laminated to the sheet, and the unit sheet laminated to the carrier is introduced into the second etching unit, and the second surface, which is the remaining surface of the unit sheet, is etched through the second etching unit, so that the pattern of the through holes is Is formed, and in the first process line, a roll sheet supply unit, a tape laminating unit for etching resistance, a pre-etching unit, a pre-cleaning and dewatering device, a first etching unit, a functional specific gravity washing unit, and an etching resistance along the direction in which the process proceeds. A tape peeling unit and a roll sheet recovery unit are arranged
The roll sheet supply unit supplies the roll sheet formed by being wound in a roll shape to the first processing line where a primary etching process is performed, and the roll sheet is supplied through the roll sheet supply unit. A first roll sheet driving roller and a plurality of roll sheet guide rollers are provided in order to be released and supplied to the first process line, and the first roll sheet driving roller is provided between the roll sheet supply unit and the roll sheet collecting unit. It is disposed on the first process line, and the roll sheet is moved toward the roll sheet recovery unit by pulling the roll sheet by a driving force of a motor, and the roll sheet guide rollers are disposed at various places in both the first process line and the second process line. While imparting tension to the roll sheet to guide the transport of the roll sheet, the etching resistance tape laminating unit is disposed between the roll sheet supply unit and the first etching unit, and Before the etching process proceeds, an etching resistance tape is laminated on a second surface that is the other side of the roll sheet that is released from the roll sheet supply unit and supplied to the first etching unit, and the etching resistance tape laminating unit A silver tape supply roller, a laminating drive roller, a laminating driven roller, a tape transfer roller, and a protective film recovery roller are included, and the tape supply roller supplies the etching resistance tape, and the laminating drive roller is the first roller of the roll sheet. It is rotatably disposed on two sides, and receives the etching resistance tape supplied from the tape supply roller and laminates it to the second side of the roll sheet, and the laminating driven roller drives the laminating with the roll sheet interposed therebetween. It is rotatably disposed on the opposite side of the roller, and the tape transfer roller is disposed between the tape supply roller and the laminating driving roller to pass the etching resistance tape and the etching resistance tape supplied from the tape supply roller. It is transferred to a laminating driving roller, and the protective film recovery roller is disposed adjacent to the tape transfer roller to interact with the tape transfer roller, and recovers the protective film on the etching resistance tape passed through the tape transfer roller, A first roll sheet buffer unit, a pre-etching unit, and a pre-cleaning water remover are sequentially disposed behind the process of the etching resistance tape laminating unit, and the first roll sheet buffer unit is between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit. Is disposed to control the process speed between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit, the pre-etching unit is disposed between the etching resistance tape laminating unit and the first etching unit on the first process line , The roll sheet is introduced into the first etching unit to perform pre-etching on the roll sheet before proceeding with the etching process, and the pre-etching unit includes a pre-etching bath filled with an etchant and a pre-etching bath. And a plurality of pre-etching guide rollers for guiding the transfer of the roll sheet so that the roll sheet is deepened in the etchant in the pre-etching tank and discharged, and the pre-cleaning water remover includes the pre-etching unit and It is disposed between the first etching units, and cleans and removes water from the roll sheet on which a pre-etching process has been performed, and the pre-clean water remover cleans the roll sheet while spraying water toward the roll sheet. A pre-washer, and an air knife for removing water remaining on the surface of the roll sheet that has been cleaned by wind, and the first etching unit is provided at a rear of the process of the pre-clean water remover,
The first etching unit includes a roll sheet etching cabinet, and the roll sheet etching cabinet has a cabinet structure, and a plurality of etching rooms for performing an etching process on the roll sheet are formed therein, and the etching rooms are in communication with each other. , A roll sheet lead-in roller portion and a roll sheet take-out roller portion are provided in the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet lead-in roller portion is disposed in an entrance region of the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet is placed inside the roll sheet etching cabinet. And the roll sheet withdrawal roller part is disposed in the exit area of the roll sheet etching cabinet and draws (discharges) the roll sheet to the outside of the roll sheet etching cabinet, and a plurality of first rolls in the roll sheet etching cabinet An etchant spray module is provided, and the first etchant spray modules spray the etchant toward the roll sheet being transferred in the roll sheet etching cabinet in a spray manner to etch half the first surface, which is one side of the roll sheet. Let the process go,
A functional specific gravity washing unit is provided behind the process of the first etching unit, the functional specific gravity washing unit is directly connected to the outlet of the first etching unit, and an etching process using washing water or water mixed with a washing chemical To remove the etching liquid or foreign matter remaining on the completed roll sheet, the functional specific gravity washing unit is a unit cabinet, a specific gravity washing module, first to third washing modules, and a moisture removal module are integrated on the unit cabinet. Mounted, the unit cabinet forms the appearance of the functional specific gravity washing unit, a foot for height adjustment and ground support is disposed at the lower end of the unit cabinet, and the specific gravity washing module and the first to Means for supplying the washing water or water mixed with the washing chemical to the third flushing module at a quantitative and positive pressure are provided, a first drain portion and a second drain portion are provided at a lower portion of the unit cabinet, and the first drain portion is It is disposed at one lower side of the unit cabinet and receives and drains the washing water mixed with the washing agent falling from the specific gravity washing module, and the second drain portion is disposed on the other lower side of the unit cabinet, and the first to third flushing units are flushed. Receives and drains water falling from the module, and the specific gravity washing module is provided on one side of the upper portion of the unit cabinet and removes the etchant remaining on the roll sheet on which the etching process has been completed using washing water mixed with a washing chemical,
The specific gravity flushing module includes a specific gravity flushing module housing, a roll sheet transfer portion, an upper piping portion, a lower piping portion, and a pipe driving portion, and the specific gravity flushing module housing is an exterior frame having a box-shaped cabinet shape, and the specific gravity flushing module housing An inlet portion into which the roll sheet is introduced is formed on one side, and the roll sheet introduced into the inlet portion sequentially passes through the specific gravity washing module, the first to third washing modules, and the moisture removing module, and then the moisture removing module. Discharged to the discharge portion of the housing and then directed to the first roll sheet drying unit,
The roll sheet transfer unit is disposed in the specific gravity flushing module housing, transfers the roll sheet passing through the inlet to the first to third flushing modules, and is formed by a combination of a plurality of rollers and gears, and the upper pipe portion It is disposed on the upper portion of the roll sheet conveying part, and the upper piping part is provided with a plurality of upper spray nozzles for spraying downwardly the washing water mixed with a cleaning agent toward the roll sheet being conveyed by the action of the roll sheet conveying part, and the lower part The piping portion is disposed under the upper piping portion, and the lower piping portion is provided with a plurality of lower spray nozzles for spraying washing water mixed with a cleaning agent upward toward the roll sheet being transferred by the action of the roll sheet transfer portion, and the The pipe driving part is connected to the upper pipe part and the lower pipe part, and drives the upper pipe part and the lower pipe part in at least one direction to ensure spray uniformity of the washing water mixed with the cleaning agent sprayed onto the roll sheet. , The pipe driving part is provided in a form in which a component is coupled to a driving housing coupled to one side of the unit cabinet, the pipe driving part is connected to the upper pipe part and an upper slider for slidingly driving the upper pipe part, and the driving housing An upper sliding plate disposed on the upper side of and connected to the upper slider and sliding in a direction in which the upper pipe part is driven, a lower slider connected to the lower pipe part and slidably driving the lower pipe part, and an upper part of the driving housing And a lower sliding plate disposed on the lower slide and slid in a direction in which the lower pipe part is driven, and a slider driving part is provided in the pipe driving part to alternately drive the upper slider and the lower slider. , The slider driving unit is provided in the driving housing and is connected to the upper sliding plate and the lower sliding plate to alternately drive the upper slider and the lower slider, and the slider unit The eastern part is a servomotor connected to a reducer to generate power, and a rotating shaft disposed between the upper sliding plate and the lower sliding plate in the drive housing and connected to the servomotor to rotate by the operation of the servomotor. And an upper cam plate connected to an upper end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft; an upper coupling member coupled to the upper cam plate via an upper long hole of the upper sliding plate; and the rotating shaft A lower cam plate connected to a lower end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft, and a lower coupling member coupled to the lower cam plate via a lower long hole of the lower sliding plate, and the first to third flushing modules Is disposed adjacent to the specific gravity washing module on the unit cabinet, and removes foreign matter remaining on the roll sheet by using water with respect to the roll sheet that has passed the specific gravity washing module, and the first to third washing modules A flush module housing, and a plurality of water sprayers disposed above and below the roll sheet being transferred within the flush module housing, and spraying water toward the roll sheet at a corresponding position, and the water removal module It is disposed adjacent to the third flushing module on the unit cabinet, and removes water remaining on the roll sheet by wind with respect to the roll sheet that has passed the third flushing module, and the draining module includes a moisture removing module housing and , A plurality of air knives disposed above and below the roll sheet being transferred in the moisture removal module housing and spraying straight air toward the roll sheet at a corresponding position, and the functional specific gravity washing unit A first roll sheet drying unit, an etching resistance tape peeling unit, a peeling light irradiation unit, an etching resistance tape recovery unit, and a roll sheet recovery unit are sequentially arranged at the rear of the process of,
The first roll sheet drying unit is disposed at the rear of the process of the functional specific gravity washing unit and drying the washed roll sheet through the functional specific gravity washing unit, and the etching resistance tape peeling unit is the first etching unit. The etching resistance tape disposed behind the process and laminated for the first etching process is peeled off, and the peeling light irradiator is directed toward the etching resistance tape so that the etching resistance tape is peeled off from the roll sheet. ), and the etching resistance tape recoverer is disposed behind the process of the peeling light irradiator to recover the etching resistance tape peeled off from the roll sheet by the action of the peeling light irradiator,
The etching-resisting tape recovery device is rotated in contact with the etching-resisting tape, while a tape peeling drive roller for peeling the etching resistance tape from the roll sheet, and an opposite side of the tape peeling drive roller with the roll sheet interposed therebetween. A driven roller for tape peeling which is rotatably disposed on the tape, a tape recovery roller for winding and recovering the peeling tape for etching resistance, and a tape recovery roller disposed between the driving roller for tape peeling and the tape recovery roller and guiding the recovered tape. Including a tape guide roller,
The roll sheet recovery unit is disposed on the first process line on the opposite side of the roll sheet supply unit, and recovers the roll sheet from which the first surface of the roll sheet is etched and the etching resistance tape is peeled off. 2 In the process line, after etching along the direction in which the process proceeds, the roll sheet supply unit, the etching resistance coating unit, the second roll sheet drying unit, the etching resistance curing unit, the roll sheet cutting unit, the carrier laminating unit, and the second etching. The unit is disposed, and the roll sheet supply unit after the etching supplies the roll sheet, which has completed the etching process on the first surface, to the second processing line through the first processing line, and the roll sheet supply unit after the etching When supplying the roll sheet to the second process line, the etched side of the first process line faces the upper side, and the roll sheet on which the etching process for the first side is completed is of the second roll sheet driving roller. It is supplied to the second process line as a function, and the second roll sheet driving roller drives the roll sheet of the roll sheet supply unit toward the roll sheet cutting unit after etching, and the process rear of the roll sheet supply unit after the etching A second roll sheet buffer unit is provided in, and the second roll sheet buffer unit is disposed between the roll sheet supply unit and the etching resistance coating unit after the etching, and after the etching, the roll sheet supply unit and the etching resistance agent are applied. The process speed between the units is adjusted, the etching resistance coating unit is provided behind the process of the second roll sheet buffer unit, and the etching resistance coating unit is the 1/2 etching process completed on the first process line. The etching resistance agent is applied to the first surface of the roll sheet, and the second roll sheet drying unit and the etching resistance curing unit are sequentially disposed behind the process of the etching resistance application unit,
The second roll sheet drying unit is disposed between the etching resistance coating unit and the etching resistance curing unit and drying the roll sheet coated with the etching resistance agent, and the etching resistance curing unit is applied with the etching resistance agent. The roll sheet cutting unit is disposed behind the process of the unit and cures the etching resistance agent, and the roll sheet cutting unit is provided behind the process of the etching resistance curing unit on the second process line, and the roll sheet cutting unit is the etching resistance agent. It is disposed behind the process of the application unit and cuts the roll sheet into unit sheets of unit size,
The roll sheet cutting unit includes a cutter that cuts the roll sheet being transferred while being driven up and down, and a cutting die that supports the roll sheet to be cut, and the roll sheet is transferred when cutting the roll sheet. When this is stopped, an electric buffer roll is disposed in front of the spreading roller to compensate for the progress flow of the roll sheet in progress, and the carrier laminating unit is disposed at the rear of the process of the roll sheet cutting unit, and transfers the unit sheet. For laminating a carrier on the unit sheet, an intermediate moving roller is disposed between the carrier laminating unit and the sheet etching unit,
The sheet etching unit is disposed behind the process of the carrier laminating unit and performs an etching process on the second surface of the unit sheet, and the etching process is primarily performed through the first etching unit in the state of the roll sheet. In the state of the unit sheet, a main pattern is formed on the unit sheet as a second etching process proceeds through the sheet etching unit, and the sheet etching unit is a speed variable type in which the speed is accelerated at the entrance and exit through which the carrier is introduced and discharged. It is a second etching unit, and the second etching unit includes a sheet-shaped unit body part, a carrier moving module, a plurality of second etchant spray modules, and a carrier acceleration module,
The sheet-like unit body part forms the exterior of the second etching unit, the sheet-like unit body part has a cabinet shape, and the carrier moving module is provided in the sheet-like unit body part and serves to move the carrier, and the carrier moves. The module is applied with a roller that is strong against the etchant, and the plurality of second etchant spray modules are provided in the sheet-like unit body and spray the etchant toward the unit sheet moving through the carrier moving module within the sheet-like unit body. Injecting in a manner, the carrier acceleration module is disposed on at least one side of an inlet portion into which the carrier is introduced and an outlet portion from which the carrier is discharged, and serves to accelerate the carrier at a corresponding position, and the carrier acceleration module is an inlet side It includes a carrier acceleration module and a discharge-side carrier acceleration module, the inlet-side carrier acceleration module is provided on the inlet side of the sheet-shaped unit body portion, the carrier laminating unit side to control the speed of the carrier introduced into the sheet-shaped unit body portion. The speed of the carrier is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and the discharge-side carrier acceleration module is provided on the discharge part side of the sheet-shaped unit body part, and the etching process is completed, and is discharged from the inside of the sheet-shaped unit body part to the outside. Is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and a position sensing unit and a controller are further provided for the operation of the inlet-side carrier acceleration module and the discharge-side carrier acceleration module, and the position sensing unit is laminated with the unit sheet. It detects whether the carrier has reached the inlet or outlet side, and the controller performs the operation of the carrier acceleration module and the operation of the inlet carrier acceleration module and the discharge side carrier based on a detection signal of the position detection unit. A method of manufacturing a fine metal mask that controls the operation of the acceleration module.
제 1 항에 있어서,
상기 (b) 단계는, 상기 미세 금속판의 양면에 상기 포토 레지스트와의 계면 접착력이 상기 미세 금속판보다 더 센 상기 강화 접착 물질이 도포되는, 미세 금속 마스크 제조 방법.
The method of claim 1,
In the step (b), the reinforcing adhesive material having an interfacial adhesive strength with the photoresist higher than that of the fine metal plate is applied on both surfaces of the fine metal plate.
제 1 항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 상기 관통 구멍들의 패턴은, 상기 포토 레지스트에 대응되게 접착되어 있는 상기 미세 금속판의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 형성되지 않고, 상기 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 방법.
The method of claim 1,
In the step (e), the pattern of the through holes is not formed along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line positioned at the center of the fine metal plate attached to the photoresist. A method of manufacturing a fine metal mask that is uniformly formed at regular intervals along an imaginary line parallel to the center line.
제 1 항에 있어서,
상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)의 변화가 커지고, Y 포지션의 변화 없이 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 방법.
The method of claim 1,
In the step (d), the pattern holes of the photoresist increase in X position as the X coordinate and Y coordinate for each pattern hole increase, based on the center coordinate at the center of the photoresist, A method of manufacturing a fine metal mask that is formed without changing the Y position.
제 4 항에 있어서,
상기 (d) 단계에서 상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표, Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)은 다음 수학식에 따라 변화가 커지고, Y 포지션은 변화 없이 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 방법.
Figure 112020076304376-pat00004

여기서, α는 목표 경사도(기울어지는 각도)를 나타내고, x는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, x'는 움직여야 할 패턴의 X 포지션을 나타내며, y는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, y'는 움직여야 할 패턴의 Y 포지션을 나타낸다.
The method of claim 4,
In the step (d), the pattern holes of the photoresist are based on the center coordinate at the center of the photoresist, and as the X and Y coordinates of each pattern hole increase, the X position is expressed in The change increases accordingly, and the Y position is formed without change.
Figure 112020076304376-pat00004

Here, α represents the target slope (inclination angle), x represents the active area of the pattern, x'represents the X position of the pattern to be moved, and y represents the active area of the pattern, y'represents the Y position of the pattern to be moved.
제 1 항에 있어서,
상기 강화 접착 물질은,
2nm 내지 500nm의 크기를 갖는 입자로 이루어진 필러; 및
상기 필러를 고정시키는 바인더;
를 포함하는 미세 금속 마스크 제조 방법.
The method of claim 1,
The reinforced adhesive material,
Filler consisting of particles having a size of 2nm to 500nm; And
A binder fixing the filler;
Fine metal mask manufacturing method comprising a.
롤(roll) 형상으로 권취되고, 양면에 포토 레지스트가 형성되어 있는 롤 시트(roll sheet);
상기 롤 시트를 에칭(etching) 공정이 진행되는 제1 공정 라인으로 공급하는 롤시트 공급 유닛;
상기 제1 공정 라인의 일측에 마련되며, 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제1 에칭 유닛; 및
상기 롤 시트의 다른쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하는 제2 에칭 유닛;
을 포함하고,
상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은 상기 포토 레지스트의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 배열되어 형성되고,
상기 에칭 공정에 의해 마스크 시트에 관통 구멍들의 패턴이 형성된 미세 금속판이 생성되고, 상기 마스크 시트는 제1 공정 라인과 제2 공정 라인 상의 다수의 공정을 순차적으로 거쳐 미세 금속 마스크로 제조되며, 상기 제1 공정 라인은 제1 에칭 유닛을 통해 롤 시트에 대한 1차 에칭(etching) 공정을 진행하고, 상기 제2 공정 라인은 제2 에칭 유닛을 통해 단위 시트에 대한 2차 에칭 공정을 진행하며,
상기 롤 시트는 롤시트 공급 유닛에 의해 에칭 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급되고, 상기 제1 공정 라인의 일측에 마련된 상기 제1 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 한 쪽 면인 제1 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 제2 에칭 유닛은 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하며, 상기 롤 시트의 한쪽 면에 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅(laminating)되며, 상기 에칭 저항용 테이프가 라미네이팅 된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 상기 제1 에칭 유닛을 통해 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면이 에칭되며, 상기 제1 면이 에칭된 상기 롤 시트는 상기 제1 에칭 유닛에서 인출된 후 반전되어 상기 에칭된 제1 면이 상부로 놓이도록 뒤집힌 다음, 상기 에칭된 제1 면 영역에 에칭 저항제가 도포되며, 상기 에칭 저항제가 상기 롤 시트의 에칭된 제1 면 영역에 도포된 이후에 상기 롤 시트가 절단되어 단위 사이즈의 단위 시트로 형성되며, 이후에 상기 제2 에칭 유닛을 통해, 에칭되지 않은 제2 면 영역에 대한 에칭 공정이 진행되며, 상기 단위 시트에는 캐리어가 라미네이팅되고, 상기 캐리어에 라미네이팅 된 상기 단위 시트는 상기 제2 에칭 유닛으로 인입되고 상기 제2 에칭 유닛을 통해 상기 단위 시트의 나머지 면인 제2 면이 에칭되어, 상기 관통 구멍들의 패턴이 형성되고, 상기 제1 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛, 프리 에칭 유닛, 프리 세척 및 물기 제거기, 제1 에칭 유닛, 기능성 비중수세 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 그리고 롤 시트 회수 유닛이 배치되고,
상기 롤 시트 공급 유닛은 롤(roll) 형상으로 권취되어 형성되는 상기 롤 시트를 1차 에칭(etching) 공정이 진행되는 상기 제1 공정 라인으로 공급하고, 상기 롤 시트 공급 유닛을 통해 상기 롤 시트가 풀려 상기 제1 공정 라인으로 공급되기 위해 제1 롤 시트 구동 롤러와, 다수의 롤 시트 가이드 롤러가 마련되고, 상기 제1 롤 시트 구동 롤러는 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 롤 시트 회수 유닛 사이의 상기 제1 공정 라인 상에 배치되며, 모터의 구동력으로 상기 롤 시트를 당겨서 상기 롤 시트 회수 유닛 쪽으로 이동시키고, 상기 제1 공정 라인 및 상기 제2 공정 라인 모두의 곳곳에 상기 롤 시트 가이드 롤러가 배치되어 상기 롤 시트에 텐션을 부여하면서 상기 롤 시트의 이송을 가이드하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 공급 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면에 대한 에칭 공정이 진행되기 전에 상기 롤 시트 공급 유닛에서 풀려 상기 제1 에칭 유닛으로 공급되는 상기 롤 시트의 다른 쪽 면인 제2 면에 에칭 저항용 테이프를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛은 테이프 공급 롤러, 라미네이팅 구동 롤러, 라미네이팅 종동 롤러, 테이프 전달 롤러, 그리고 보호필름 회수 롤러를 포함하고, 상기 테이프 공급 롤러는 상기 에칭 저항용 테이프를 공급하고, 상기 라미네이팅 구동 롤러는 상기 롤 시트의 제2 면에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 전달 받아 상기 롤 시트의 제2 면에 라미네이팅하며, 상기 라미네이팅 종동 롤러는 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 라미네이팅 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되며, 상기 테이프 전달 롤러는 상기 테이프 공급 롤러와 상기 라미네이팅 구동 롤러 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프가 경유되며 상기 테이프 공급 롤러에서 공급되는 상기 에칭 저항용 테이프를 상기 라미네이팅 구동 롤러로 전달하며, 상기 보호필름 회수 롤러는 상기 테이프 전달 롤러에 이웃하게 배치되어 상기 테이프 전달 롤러와 상호 작용하며, 상기 테이프 전달 롤러로 경유되는 상기 에칭 저항용 테이프 상의 보호필름을 회수하며, 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 버퍼 유닛, 프리 에칭 유닛 및 프리 세척 물기 제거기가 순차적으로 배치되고, 제1 롤 시트 버퍼 유닛은 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 프리 에칭 유닛 사이에 배치되어 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 프리 에칭 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 프리 에칭 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항용 테이프 라미네이팅 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 상기 롤 시트가 상기 제1 에칭 유닛으로 인입되어 에칭 공정을 진행하기 전에 상기 롤 시트에 대한 프리 에칭(pre etching)을 진행하고, 상기 프리 에칭 유닛은 에칭액이 충전되는 프리 에칭조와, 프리 에칭조에 마련되어 상기 롤 시트가 상기 프리 에칭조 내의 에칭액에 디핑(deeping)되어 배출될 수 있도록 상기 롤 시트의 이송을 가이드하는 다수의 프리 에칭 가이드 롤러를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 프리 에칭 유닛과 상기 제1 에칭 유닛 사이에 배치되며, 프리 에칭 공정이 진행된 상기 롤 시트를 세척하고 물기를 제거하며, 상기 프리 세척 물기 제거기는 상기 롤 시트를 향해 워터(water)를 분사하면서 상기 롤 시트를 세척하는 프리 세척기와, 세척이 완료된 상기 롤 시트의 표면에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하는 에어 나이프를 포함하고, 상기 프리 세척 물기 제거기의 공정 후방에 상기 제1 에칭 유닛이 마련되며,
상기 제1 에칭 유닛은 롤 시트 에칭 캐비닛을 구비하고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛은 캐비닛 구조로서 내부에 상기 롤 시트에 대한 에칭 공정을 진행하는 다수의 에칭 룸이 형성되며, 상기 에칭 룸들은 서로 연통되고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛에 롤 시트 인입 롤러부와 롤 시트 인출 롤러부가 마련되며, 상기 롤 시트 인입 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 입구 영역에 배치되며, 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 내부로 인입시키며, 상기 롤 시트 인출 롤러부는 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 출구 영역에 배치되며 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 에칭 캐비닛의 외부로 인출(배출)시키고, 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에는 다수의 제1 에칭액 스프레이 모듈이 마련되며, 상기 제1 에칭액 스프레이 모듈들은 상기 롤 시트 에칭 캐비닛 내에서 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하여 상기 롤 시트의 한쪽 면인 제1 면에 대한 1/2 에칭 공정이 진행되게 하고,
상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 기능성 비중수세 유닛이 마련되고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 출구에 직결되며, 세척 약품이 혼합된 세척수 또는 워터(water)를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액 또는 이물을 제거하고, 상기 기능성 비중수세 유닛은 유닛 캐비닛과, 상기 유닛 캐비닛 상에 비중수세 모듈, 제1 내지 제3 수세 모듈, 그리고 물기 제거 모듈이 일체로 탑재되고, 상기 유닛 캐비닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 외관을 이루며, 상기 유닛 캐비닛의 하단부에 높이 조절 및 지면 지지를 위한 푸트가 배치되며, 상기 유닛 캐비닛의 후면에 상기 비중수세 모듈 및 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 쪽으로 세척약품이 혼합된 세척수 혹은 워터를 정량과 정압으로 공급하기 위한 수단들이 갖춰지고, 상기 유닛 캐비닛의 하부에 제1 드레인부와 제2 드레인부가 마련되고, 상기 제1 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 일측에 배치되며 상기 비중수세 모듈에서 낙하되는 세척약품이 혼합된 세척수를 받아 드레인(drain)시키며, 상기 제2 드레인부는 상기 유닛 캐비닛의 하부 타측에 배치되며 상기 제1 내지 제3 수세 모듈에서 낙하되는 워터를 받아 드레인시키고, 상기 비중수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛의 상부 일측에 마련되며 세척약품이 혼합된 세척수를 이용해서 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트 상에 잔존되는 에칭액을 제거하고,
상기 비중수세 모듈은 비중수세 모듈 하우징, 롤 시트 이송부, 상부 배관부, 하부 배관부, 그리고 배관 구동부를 포함하고, 상기 비중수세 모듈 하우징은 박스형 캐비닛 형상을 갖는 외관 프레임이고, 상기 비중수세 모듈 하우징의 일측에 상기 롤 시트가 유입되는 유입부가 형성되며, 상기 유입부로 유입되는 상기 롤 시트는 상기 비중수세 모듈, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈, 및 상기 물기 제거 모듈을 차례로 거친 후, 상기 물기 제거 모듈 하우징의 배출부로 배출되어 이후에 제1 롤 시트 건조 유닛으로 향하고,
상기 롤 시트 이송부는 상기 비중수세 모듈 하우징 내에 배치되며, 상기 유입부를 통과한 상기 롤 시트를 상기 제1 내지 제3 수세 모듈 측으로 이송시키고, 다수의 롤러와 기어의 조합으로 형성되고, 상기 상부 배관부는 상기 롤 시트 이송부의 상부에 배치되며, 상기 상부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 하향 분사하는 다수의 상부 분사노즐이 마련되고, 상기 하부 배관부는 상기 상부 배관부의 하부에 배치되며, 상기 하부 배관부에는 상기 롤 시트 이송부의 작용으로 이송 중인 상기 롤 시트를 향해 세척약품이 혼합된 세척수를 상향 분사하는 다수의 하부 분사노즐이 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부와 연결되며, 상기 롤 시트 상으로 분사되는 세척약품이 혼합된 세척수의 분사 균일도 확보를 위하여 상기 상부 배관부 및 상기 하부 배관부를 적어도 일 방향으로 구동시키고, 상기 배관 구동부는 상기 유닛 캐비닛의 일측에 결합되는 구동 하우징에 부품이 결합되는 형태로 마련되고, 상기 배관 구동부는 상기 상부 배관부와 연결되고 상기 상부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 상부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 상부 슬라이더와 연결되며 상기 상부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 상부 슬라이딩 플레이트와, 상기 하부 배관부와 연결되고 상기 하부 배관부를 슬라이딩 구동시키는 하부 슬라이더와, 상기 구동 하우징의 상부에 배치되고 상기 하부 슬라이와 연결되며 상기 하부 배관부가 구동되는 방향으로 슬라이딩 이동되는 하부 슬라이딩 플레이트를 포함하고, 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키기 위해 슬라이더 구동부가 상기 배관 구동부에 마련되고, 상기 슬라이더 구동부는 상기 구동 하우징에 마련되고 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트와 연결되어 상기 상부 슬라이더와 상기 하부 슬라이더를 교번적으로 구동시키고, 상기 슬라이더 구동부는 감속기가 연결되며 동력을 발생시키는 서보모터와, 상기 구동 하우징 내에서 상기 상부 슬라이딩 플레이트 및 상기 하부 슬라이딩 플레이트 사이에 배치되며 상기 서보모터에 연결되어 상기 서보모터의 동작에 의해 회전되는 로테이팅 샤프트와, 상기 로테이팅 샤프트의 상단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 상부 캠 플레이트와, 상기 상부 슬라이딩 플레이트의 상부 장공을 경유해서 상기 상부 캠 플레이트에 결합되는 상부 결합부재와, 상기 로테이팅 샤프트의 하단부에 연결되어 상기 로테이팅 샤프트와 동회전되는 하부 캠 플레이트와, 상기 하부 슬라이딩 플레이트의 하부 장공을 경유해서 상기 하부 캠 플레이트에 결합되는 하부 결합부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 상기 비중수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 비중수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 워터를 이용해서 상기 롤 시트 상에 잔존되는 이물을 제거하고, 상기 제1 내지 제3 수세 모듈은 수세 모듈 하우징과, 상기 수세 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 워터를 분사하는 다수의 워터 분사기를 포함하고, 상기 물기 제거 모듈은 상기 유닛 캐비닛 상에서 제3 수세 모듈에 이웃하게 배치되며, 상기 제3 수세 모듈을 지난 상기 롤 시트에 대하여 상기 롤 시트 상에 잔존 가능한 물기를 바람으로 제거하며, 상기 물기 제거 모듈은 물기 제거 모듈 하우징과, 상기 물기 제거 모듈 하우징 내에서 이송 중인 상기 롤 시트의 상부 및 하부에 배치되며, 해당 위치에서 상기 롤 시트를 향해 일자형 에어(air)를 분사하는 다수의 에어 나이프를 포함하고, 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 제1 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항용 테이프 박리 유닛, 박리용 광 조사기, 에칭 저항용 테이프 회수기 및 롤 시트 회수 유닛이 순서대로 배치되고,
상기 제1 롤 시트 건조 유닛은 상기 기능성 비중수세 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 기능성 비중수세 유닛을 거쳐 세척이 완료된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항용 테이프 박리 유닛은 상기 제1 에칭 유닛의 공정 후방에 배치되며 1차 에칭 공정을 위해 라미네이팅되었던 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하고, 상기 박리용 광 조사기는 상기 에칭 저항용 테이프가 상기 롤 시트로부터 박리되도록 상기 에칭 저항용 테이프를 향해 광(光)을 조사하고, 상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 박리용 광 조사기의 공정 후방에 배치되어 상기 박리용 광 조사기의 작용으로 상기 롤 시트에서 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 회수하며,
상기 에칭 저항용 테이프 회수기는 상기 에칭 저항용 테이프에 접촉 회전되면서 상기 롤 시트로부터 상기 에칭 저항용 테이프를 박리하는 테이프 박리용 구동 롤러와, 상기 롤 시트를 사이에 두고 상기 테이프 박리용 구동 롤러의 반대편에 회전 가능하게 배치되는 테이프 박리용 종동 롤러와, 박리되는 상기 에칭 저항용 테이프를 감아 회수하는 테이프 회수 롤러와, 상기 테이프 박리용 구동 롤러와 상기 테이프 회수 롤러 사이에 배치되며 회수되는 테이프를 가이드하는 테이프 가이드 롤러를 포함하고,
상기 롤 시트 회수 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 상기 롤 시트 공급 유닛의 반대편에 배치되며, 상기 롤 시트의 제1 면이 에칭되고 상기 에칭 저항용 테이프가 박리된 상기 롤 시트를 회수하고, 상기 제2 공정 라인에는 공정이 진행되는 방향을 따라 에칭 후 롤 시트 공급 유닛, 에칭 저항제 도포 유닛, 제2 롤 시트 건조 유닛, 에칭 저항제 경화 유닛, 롤 시트 절단 유닛, 캐리어 라미네이팅 유닛, 그리고 제2 에칭 유닛이 배치되고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛은 상기 제1 공정 라인을 통해 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급하고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛이 상기 롤 시트를 상기 제2 공정 라인으로 공급할 때, 상기 제1 공정 라인에서 에칭이 된 면이 상부를 향하도록 하고 제1 면에 대한 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트는 상기 제2 롤 시트 구동 롤러의 작용으로 상기 제2 공정 라인으로 공급되고, 상기 제2 롤 시트 구동 롤러는 에칭 후 상기 롤 시트 공급 유닛의 상기 롤 시트를 상기 롤 시트 절단 유닛 쪽으로 구동시키고, 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛의 공정 후방에 제2 롤 시트 버퍼 유닛이 마련되고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛은 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 후 롤 시트 공급 유닛과 상기 에칭 저항제 도포 유닛 간의 공정 속도를 조절하고, 상기 제2 롤 시트 버퍼 유닛의 공정 후방에 상기 에칭 저항제 도포 유닛이 마련되고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛은 상기 제1 공정 라인 상에서 1/2 에칭 공정이 완료된 상기 롤 시트의 제1 면에 상기 에칭 저항제를 도포하고, 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 상기 제2 롤 시트 건조 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛이 차례로 배치되고,
상기 제2 롤 시트 건조 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛과 상기 에칭 저항제 경화 유닛 사이에 배치되며 상기 에칭 저항제가 도포된 상기 롤 시트를 건조하고, 상기 에칭 저항제 경화 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 에칭 저항제를 경화시키고, 상기 제2 공정 라인 상에서 상기 에칭 저항제 경화 유닛의 공정 후방에 상기 롤 시트 절단 유닛이 마련되고, 상기 롤 시트 절단 유닛은 상기 에칭 저항제 도포 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 롤 시트를 단위 사이즈의 단위 시트로 절단하고,
상기 롤 시트 절단 유닛은 상하로 구동되면서 이송 중인 상기 롤 시트를 절단하는 커터(cutter)와, 절단 대상인 상기 롤 시트를 지지하는 절단 다이를 포함하고, 상기 롤 시트의 절단 작업 시 상기 롤 시트의 이송이 정지될 때 진행 중인 상기 롤 시트의 진행 흐름을 보상하기 위해 전동식 버퍼 롤이 펼침 롤러의 전방에 배치되고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛은 상기 롤 시트 절단 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 이송을 위하여 상기 단위 시트에 캐리어(carrier)를 라미네이팅(laminating)하고, 상기 캐리어 라미네이팅 유닛과 상기 시트 에칭 유닛 사이에 중간 이동 롤러가 배치되고,
상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어 라미네이팅 유닛의 공정 후방에 배치되며 상기 단위 시트의 제2 면에 대한 에칭 공정을 진행하고, 상기 롤 시트의 상태에서 상기 제1 에칭 유닛을 통해 1차로 에칭 공정이 진행되고 상기 단위 시트의 상태에서 상기 시트 에칭 유닛을 통해 2차로 에칭 공정이 진행됨에 따라 상기 단위 시트에 메인 패턴이 형성되고, 상기 시트 에칭 유닛은 상기 캐리어가 유입되고 배출되는 입출구에서 속도가 가속되는 속도 가변형 제2 에칭 유닛이고, 상기 제2 에칭 유닛은 시트형 유닛 바디부, 캐리어 이동모듈, 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈, 그리고 캐리어 가속모듈을 포함하고,
상기 시트형 유닛 바디부는 상기 제2 에칭 유닛의 외관을 이루고, 상기 시트형 유닛 바디부는 캐비닛 형상을 가지며, 상기 캐리어 이동모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 캐리어를 이동시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 이동모듈은 에칭액에 강한 롤러로 적용되고, 상기 다수의 제2 에칭액 스프레이 모듈은 상기 시트형 유닛 바디부 내에 마련되며 상기 시트형 유닛 바디부 내에서 상기 캐리어 이동모듈을 통해 이동 중인 상기 단위 시트를 향해 에칭액을 스프레이 방식으로 분사하고, 상기 캐리어 가속모듈은 상기 캐리어가 유입되는 유입부와 상기 캐리어가 배출되는 배출부 중 적어도 일측에 배치되고 해당 위치에서 상기 캐리어를 가속시키는 역할을 하고, 상기 캐리어 가속모듈은 유입측 캐리어 가속모듈과 배출측 캐리어 가속모듈을 포함하고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 유입부 측에 마련되며 상기 캐리어 라미네이팅 유닛 측에서 상기 시트형 유닛 바디부 내로 유입되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 배출측 캐리어 가속모듈은 상기 시트형 유닛 바디부의 배출부 측에 마련되며 에칭 공정이 완료되어 상기 시트형 유닛 바디부의 내부에서 외부로 배출되는 상기 캐리어의 속도를 상기 캐리어 이동모듈의 속도보다 더 빠르게 가속시키고, 상기 유입측 캐리어 가속모듈과 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 위해 위치 감지부와 컨트롤러가 더 구비되고, 상기 위치 감지부는 상기 단위 시트가 라미네이팅 된 상기 캐리어가 유입부 또는 배출부 측에 도달되었는지의 여부를 감지하고, 상기 컨트롤러는 상기 위치 감지부의 감지 신호에 기초하여 상기 캐리어 가속모듈의 동작과 상기 유입측 캐리어 가속모듈의 동작 및 상기 배출측 캐리어 가속모듈의 동작을 컨트롤하는, 미세 금속 마스크 제조 시스템.
A roll sheet wound in a roll shape and having photoresist formed on both sides;
A roll sheet supply unit supplying the roll sheet to a first processing line in which an etching process is performed;
A first etching unit provided on one side of the first process line and performing an etching process on a first surface, which is one surface of the roll sheet; And
A second etching unit for performing an etching process on the second surface, which is the other surface of the roll sheet;
Including,
The pattern holes of the photoresist are formed by being arranged along an imaginary line inclined at a certain angle with respect to a imaginary center line located at the center of the photoresist,
A fine metal plate in which a pattern of through holes is formed in a mask sheet is generated by the etching process, and the mask sheet is manufactured as a fine metal mask through a plurality of processes sequentially on a first process line and a second process line. The first process line performs a first etching process on the roll sheet through a first etching unit, and the second process line performs a second etching process on the unit sheet through a second etching unit,
The roll sheet is supplied to the first process line where an etching process is performed by a roll sheet supply unit, and the first etching unit provided on one side of the first process line is disposed on a first surface, which is one side of the roll sheet. An etching process is performed, and the second etching unit performs an etching process on the second side, which is the other side of the roll sheet, and an etching resistance tape is laminated on one side of the roll sheet, and the The roll sheet on which the etching resistance tape is laminated is introduced into the first etching unit, and the first side, which is one side of the roll sheet, is etched through the first etching unit, and the roll sheet on which the first side is etched is After being pulled out from the first etching unit and inverted, the etched first surface is turned over so that the etched first surface is placed on the top, and then an etching resistance agent is applied to the etched first surface area, and the etching resistance agent is applied to the etched agent of the roll sheet. After being applied to the first surface area, the roll sheet is cut to form a unit sheet of a unit size, and thereafter, an etching process is performed on the unetched second surface area through the second etching unit, and the unit A carrier is laminated to the sheet, and the unit sheet laminated to the carrier is introduced into the second etching unit, and the second surface, which is the remaining surface of the unit sheet, is etched through the second etching unit, so that the pattern of the through holes is Is formed, and in the first process line, a roll sheet supply unit, a tape laminating unit for etching resistance, a pre-etching unit, a pre-cleaning and dewatering device, a first etching unit, a functional specific gravity washing unit, and an etching resistance along the direction in which the process proceeds. A tape peeling unit and a roll sheet recovery unit are arranged
The roll sheet supply unit supplies the roll sheet formed by being wound in a roll shape to the first processing line where a primary etching process is performed, and the roll sheet is supplied through the roll sheet supply unit. A first roll sheet driving roller and a plurality of roll sheet guide rollers are provided in order to be released and supplied to the first process line, and the first roll sheet driving roller is provided between the roll sheet supply unit and the roll sheet collecting unit. It is disposed on the first process line, and the roll sheet is moved toward the roll sheet recovery unit by pulling the roll sheet by a driving force of a motor, and the roll sheet guide rollers are disposed at various places in both the first process line and the second process line. While imparting tension to the roll sheet to guide the transport of the roll sheet, the etching resistance tape laminating unit is disposed between the roll sheet supply unit and the first etching unit, and Before the etching process proceeds, an etching resistance tape is laminated on a second surface that is the other side of the roll sheet that is released from the roll sheet supply unit and supplied to the first etching unit, and the etching resistance tape laminating unit A silver tape supply roller, a laminating drive roller, a laminating driven roller, a tape transfer roller, and a protective film recovery roller are included, and the tape supply roller supplies the etching resistance tape, and the laminating drive roller is the first roller of the roll sheet. It is rotatably disposed on two sides, and receives the etching resistance tape supplied from the tape supply roller and laminates it to the second side of the roll sheet, and the laminating driven roller drives the laminating with the roll sheet interposed therebetween. It is rotatably disposed on the opposite side of the roller, and the tape transfer roller is disposed between the tape supply roller and the laminating driving roller to pass the etching resistance tape and the etching resistance tape supplied from the tape supply roller. It is transferred to a laminating driving roller, and the protective film recovery roller is disposed adjacent to the tape transfer roller to interact with the tape transfer roller, and recovers the protective film on the etching resistance tape passed through the tape transfer roller, A first roll sheet buffer unit, a pre-etching unit, and a pre-cleaning water remover are sequentially disposed behind the process of the etching resistance tape laminating unit, and the first roll sheet buffer unit is between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit. Is disposed to control the process speed between the etching resistance tape laminating unit and the pre-etching unit, the pre-etching unit is disposed between the etching resistance tape laminating unit and the first etching unit on the first process line , The roll sheet is introduced into the first etching unit to perform pre-etching on the roll sheet before proceeding with the etching process, and the pre-etching unit includes a pre-etching bath filled with an etchant and a pre-etching bath. And a plurality of pre-etching guide rollers for guiding the transfer of the roll sheet so that the roll sheet is deepened in the etchant in the pre-etching tank and discharged, and the pre-cleaning water remover includes the pre-etching unit and It is disposed between the first etching units, and cleans and removes water from the roll sheet on which a pre-etching process has been performed, and the pre-clean water remover cleans the roll sheet while spraying water toward the roll sheet. A pre-washer, and an air knife for removing water remaining on the surface of the roll sheet that has been cleaned by wind, and the first etching unit is provided at a rear of the process of the pre-clean water remover,
The first etching unit includes a roll sheet etching cabinet, and the roll sheet etching cabinet has a cabinet structure, and a plurality of etching rooms for performing an etching process on the roll sheet are formed therein, and the etching rooms are in communication with each other. , A roll sheet lead-in roller portion and a roll sheet take-out roller portion are provided in the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet lead-in roller portion is disposed in an entrance region of the roll sheet etching cabinet, and the roll sheet is placed inside the roll sheet etching cabinet. And the roll sheet withdrawal roller part is disposed in the exit area of the roll sheet etching cabinet and draws (discharges) the roll sheet to the outside of the roll sheet etching cabinet, and a plurality of first rolls in the roll sheet etching cabinet An etchant spray module is provided, and the first etchant spray modules spray the etchant toward the roll sheet being transferred in the roll sheet etching cabinet in a spray manner to etch half the first surface, which is one side of the roll sheet. Let the process go,
A functional specific gravity washing unit is provided behind the process of the first etching unit, the functional specific gravity washing unit is directly connected to the outlet of the first etching unit, and an etching process using washing water or water mixed with a washing chemical To remove the etching liquid or foreign matter remaining on the completed roll sheet, the functional specific gravity washing unit is a unit cabinet, a specific gravity washing module, first to third washing modules, and a moisture removal module are integrated on the unit cabinet. Mounted, the unit cabinet forms the appearance of the functional specific gravity washing unit, a foot for height adjustment and ground support is disposed at the lower end of the unit cabinet, and the specific gravity washing module and the first to Means for supplying the washing water or water mixed with the washing chemical to the third flushing module at a quantitative and positive pressure are provided, a first drain portion and a second drain portion are provided at a lower portion of the unit cabinet, and the first drain portion is It is disposed at one lower side of the unit cabinet and receives and drains the washing water mixed with the washing agent falling from the specific gravity washing module, and the second drain portion is disposed on the other lower side of the unit cabinet, and the first to third flushing units are flushed. Receives and drains water falling from the module, and the specific gravity washing module is provided on one side of the upper portion of the unit cabinet and removes the etchant remaining on the roll sheet on which the etching process has been completed using washing water mixed with a washing chemical,
The specific gravity flushing module includes a specific gravity flushing module housing, a roll sheet transfer portion, an upper piping portion, a lower piping portion, and a pipe driving portion, and the specific gravity flushing module housing is an exterior frame having a box-shaped cabinet shape, and the specific gravity flushing module housing An inlet portion into which the roll sheet is introduced is formed on one side, and the roll sheet introduced into the inlet portion sequentially passes through the specific gravity washing module, the first to third washing modules, and the moisture removing module, and then the moisture removing module. Discharged to the discharge portion of the housing and then directed to the first roll sheet drying unit,
The roll sheet transfer unit is disposed in the specific gravity flushing module housing, transfers the roll sheet passing through the inlet to the first to third flushing modules, and is formed by a combination of a plurality of rollers and gears, and the upper pipe portion It is disposed on the upper portion of the roll sheet conveying part, and the upper piping part is provided with a plurality of upper spray nozzles for spraying downwardly the washing water mixed with a cleaning agent toward the roll sheet being conveyed by the action of the roll sheet conveying part, and the lower part The piping portion is disposed under the upper piping portion, and the lower piping portion is provided with a plurality of lower spray nozzles for spraying washing water mixed with a cleaning agent upward toward the roll sheet being transferred by the action of the roll sheet transfer portion, and the The pipe driving part is connected to the upper pipe part and the lower pipe part, and drives the upper pipe part and the lower pipe part in at least one direction to ensure spray uniformity of the washing water mixed with the cleaning agent sprayed onto the roll sheet. , The pipe driving part is provided in a form in which a component is coupled to a driving housing coupled to one side of the unit cabinet, the pipe driving part is connected to the upper pipe part and an upper slider for slidingly driving the upper pipe part, and the driving housing An upper sliding plate disposed on the upper side of and connected to the upper slider and sliding in a direction in which the upper pipe part is driven, a lower slider connected to the lower pipe part and slidably driving the lower pipe part, and an upper part of the driving housing And a lower sliding plate disposed on the lower slide and slid in a direction in which the lower pipe part is driven, and a slider driving part is provided in the pipe driving part to alternately drive the upper slider and the lower slider. , The slider driving unit is provided in the driving housing and is connected to the upper sliding plate and the lower sliding plate to alternately drive the upper slider and the lower slider, and the slider unit The eastern part is a servomotor connected to a reducer to generate power, and a rotating shaft disposed between the upper sliding plate and the lower sliding plate in the drive housing and connected to the servomotor to rotate by the operation of the servomotor. And an upper cam plate connected to an upper end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft; an upper coupling member coupled to the upper cam plate via an upper long hole of the upper sliding plate; and the rotating shaft A lower cam plate connected to a lower end of the rotating shaft and rotated cooperatively with the rotating shaft, and a lower coupling member coupled to the lower cam plate via a lower long hole of the lower sliding plate, and the first to third flushing modules Is disposed adjacent to the specific gravity washing module on the unit cabinet, and removes foreign matter remaining on the roll sheet by using water with respect to the roll sheet that has passed the specific gravity washing module, and the first to third washing modules A flush module housing, and a plurality of water sprayers disposed above and below the roll sheet being transferred within the flush module housing, and spraying water toward the roll sheet at a corresponding position, and the water removal module It is disposed adjacent to the third flushing module on the unit cabinet, and removes water remaining on the roll sheet by wind with respect to the roll sheet that has passed the third flushing module, and the draining module includes a moisture removing module housing and , A plurality of air knives disposed above and below the roll sheet being transferred in the moisture removal module housing and spraying straight air toward the roll sheet at a corresponding position, and the functional specific gravity washing unit A first roll sheet drying unit, an etching resistance tape peeling unit, a peeling light irradiation unit, an etching resistance tape recovery unit, and a roll sheet recovery unit are sequentially arranged at the rear of the process of,
The first roll sheet drying unit is disposed at the rear of the process of the functional specific gravity washing unit and drying the washed roll sheet through the functional specific gravity washing unit, and the etching resistance tape peeling unit is the first etching unit. The etching resistance tape disposed behind the process and laminated for the first etching process is peeled off, and the peeling light irradiator is directed toward the etching resistance tape so that the etching resistance tape is peeled off from the roll sheet. ), and the etching resistance tape recoverer is disposed behind the process of the peeling light irradiator to recover the etching resistance tape peeled off from the roll sheet by the action of the peeling light irradiator,
The etching-resisting tape recovery device is rotated in contact with the etching-resisting tape, while a tape peeling drive roller for peeling the etching resistance tape from the roll sheet, and an opposite side of the tape peeling drive roller with the roll sheet interposed therebetween. A driven roller for tape peeling which is rotatably disposed on the tape, a tape recovery roller for winding and recovering the peeling tape for etching resistance, and a tape recovery roller disposed between the driving roller for tape peeling and the tape recovery roller and guiding the recovered tape. Including a tape guide roller,
The roll sheet recovery unit is disposed on the first process line on the opposite side of the roll sheet supply unit, and recovers the roll sheet from which the first surface of the roll sheet is etched and the etching resistance tape is peeled off. 2 In the process line, after etching along the direction in which the process proceeds, the roll sheet supply unit, the etching resistance coating unit, the second roll sheet drying unit, the etching resistance curing unit, the roll sheet cutting unit, the carrier laminating unit, and the second etching. The unit is disposed, and the roll sheet supply unit after the etching supplies the roll sheet, which has completed the etching process on the first surface, to the second processing line through the first processing line, and the roll sheet supply unit after the etching When supplying the roll sheet to the second process line, the etched side of the first process line faces the upper side, and the roll sheet on which the etching process for the first side is completed is of the second roll sheet driving roller. It is supplied to the second process line as a function, and the second roll sheet driving roller drives the roll sheet of the roll sheet supply unit toward the roll sheet cutting unit after etching, and the process rear of the roll sheet supply unit after the etching A second roll sheet buffer unit is provided in, and the second roll sheet buffer unit is disposed between the roll sheet supply unit and the etching resistance coating unit after the etching, and after the etching, the roll sheet supply unit and the etching resistance agent are applied. The process speed between the units is adjusted, the etching resistance coating unit is provided behind the process of the second roll sheet buffer unit, and the etching resistance coating unit is the 1/2 etching process completed on the first process line. The etching resistance agent is applied to the first surface of the roll sheet, and the second roll sheet drying unit and the etching resistance curing unit are sequentially disposed behind the process of the etching resistance application unit,
The second roll sheet drying unit is disposed between the etching resistance coating unit and the etching resistance curing unit and drying the roll sheet coated with the etching resistance agent, and the etching resistance curing unit is applied with the etching resistance agent. The roll sheet cutting unit is disposed behind the process of the unit and cures the etching resistance agent, and the roll sheet cutting unit is provided behind the process of the etching resistance curing unit on the second process line, and the roll sheet cutting unit is the etching resistance agent. It is disposed behind the process of the application unit and cuts the roll sheet into unit sheets of unit size,
The roll sheet cutting unit includes a cutter that cuts the roll sheet being transferred while being driven up and down, and a cutting die that supports the roll sheet to be cut, and the roll sheet is transferred when cutting the roll sheet. When this is stopped, an electric buffer roll is disposed in front of the spreading roller to compensate for the progress flow of the roll sheet in progress, and the carrier laminating unit is disposed at the rear of the process of the roll sheet cutting unit, and transfers the unit sheet. For laminating a carrier on the unit sheet, an intermediate moving roller is disposed between the carrier laminating unit and the sheet etching unit,
The sheet etching unit is disposed behind the process of the carrier laminating unit and performs an etching process on the second surface of the unit sheet, and the etching process is primarily performed through the first etching unit in the state of the roll sheet. In the state of the unit sheet, a main pattern is formed on the unit sheet as a second etching process proceeds through the sheet etching unit, and the sheet etching unit is a speed variable type in which the speed is accelerated at the entrance and exit through which the carrier is introduced and discharged. It is a second etching unit, and the second etching unit includes a sheet-shaped unit body part, a carrier moving module, a plurality of second etchant spray modules, and a carrier acceleration module,
The sheet-like unit body part forms the exterior of the second etching unit, the sheet-like unit body part has a cabinet shape, and the carrier moving module is provided in the sheet-like unit body part and serves to move the carrier, and moves the carrier. The module is applied with a roller that is strong against the etching solution, and the plurality of second etching solution spray modules are provided in the sheet-shaped unit body and spray the etching solution toward the unit sheet moving through the carrier moving module in the sheet-shaped unit body. Injecting in a manner, the carrier acceleration module is disposed on at least one side of an inlet portion into which the carrier is introduced and an outlet portion from which the carrier is discharged, and serves to accelerate the carrier at a corresponding position, and the carrier acceleration module is an inlet side It includes a carrier acceleration module and a discharge-side carrier acceleration module, wherein the inlet-side carrier acceleration module is provided on the inlet side of the sheet-like unit body and controls the speed of the carrier introduced into the sheet-like unit body from the carrier laminating unit side. The speed of the carrier is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, and the discharge-side carrier acceleration module is provided on the discharge part side of the sheet-like unit body part, and the etching process is completed, and is discharged from the inside of the sheet-like unit body part to the outside. Is accelerated faster than the speed of the carrier moving module, a position sensing unit and a controller are further provided for the operation of the inlet-side carrier acceleration module and the discharge-side carrier acceleration module, and the position sensing unit is laminated with the unit sheet. It detects whether the carrier has reached the inlet or outlet side, and the controller performs the operation of the carrier acceleration module and the operation of the inlet carrier acceleration module and the discharge side carrier based on the detection signal of the position detection unit. A fine metal mask manufacturing system that controls the operation of the acceleration module.
제 7 항에 있어서,
상기 미세 금속판의 양면에는 상기 포토 레지스트와의 계면 접착력이 상기 미세 금속판보다 더 센 강화 접착 물질이 도포되는, 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 7,
A system for manufacturing a fine metal mask, wherein a reinforcing adhesive material having an interfacial adhesion with the photoresist higher than that of the fine metal plate is applied to both surfaces of the fine metal plate.
제 7 항에 있어서,
상기 미세 금속판에서 상기 관통 구멍들의 패턴은, 상기 포토 레지스트에 대응되게 접착되어 있는 상기 미세 금속판의 중앙에 위치하는 가상의 중심선을 기준으로 일정 각도로 기울어진 가상선을 따라 형성되지 않고, 상기 중심선과 평행한 가상선을 따라 일정한 간격으로 균일하게 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 7,
In the fine metal plate, the pattern of the through holes is not formed along a virtual line inclined at a predetermined angle with respect to a virtual center line positioned at the center of the fine metal plate attached to correspond to the photoresist. A fine metal mask manufacturing system that is uniformly formed at regular intervals along parallel virtual lines.
제 7 항에 있어서,
상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표 및 Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)의 변화가 커지고, Y 포지션의 변화 없이 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 7,
The pattern holes of the photoresist are formed without a change in the Y position as the X coordinate and the Y coordinate for each pattern hole increase, based on the center coordinate at the center of the photoresist. Being a fine metal mask manufacturing system.
제 10 항에 있어서,
상기 포토 레지스트의 패턴 홀들은, 상기 포토 레지스트의 중앙에 있는 중심 좌표를 기준으로, 각 패턴 홀에 대한 X 좌표, Y 좌표가 커질수록 X 포지션(Position)은 다음 수학식에 따라 변화가 커지고, Y 포지션은 변화 없이 형성되는, 미세 금속 마스크 제조 시스템.
Figure 112020076304376-pat00005

여기서, α는 목표 경사도(기울어지는 각도)를 나타내고, x는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, x'는 움직여야 할 패턴의 X 포지션을 나타내며, y는 패턴의 영역(active area)을 나타내며, y'는 움직여야 할 패턴의 Y 포지션을 나타낸다.
The method of claim 10,
The pattern holes of the photoresist are based on the center coordinate at the center of the photoresist, and as the X and Y coordinates of each pattern hole increase, the X position increases according to the following equation, Y A fine metal mask manufacturing system where the position is formed without change.
Figure 112020076304376-pat00005

Here, α represents the target slope (inclination angle), x represents the active area of the pattern, x'represents the X position of the pattern to be moved, and y represents the active area of the pattern, y'represents the Y position of the pattern to be moved.
제 8 항에 있어서,
상기 강화 접착 물질은,
2nm 내지 500nm의 크기를 갖는 입자로 이루어진 필러; 및
상기 필러를 고정시키는 바인더;
를 포함하는 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 8,
The reinforced adhesive material,
Filler consisting of particles having a size of 2nm to 500nm; And
A binder fixing the filler;
Fine metal mask manufacturing system comprising a.
제 8 항에 있어서,
상기 강화 접착 물질과 상기 포토 레지스트 사이의 접착력은 1.5 kgf/in 내지 2.5 kgf/in인 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 8,
An adhesive force between the reinforced adhesive material and the photoresist is 1.5 kgf/in to 2.5 kgf/in.
제 8 항에 있어서,
상기 강화 접착 물질과 상기 미세금속 판 사이의 접착력은 2.0 kgf/in 내지 3.0 kgf/in 인 미세 금속 마스크 제조 시스템.
The method of claim 8,
A fine metal mask manufacturing system having an adhesive force between the reinforced adhesive material and the micrometal plate of 2.0 kgf/in to 3.0 kgf/in.
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