KR102220853B1 - Thermal processing apparatus - Google Patents

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KR102220853B1 KR1020190061679A KR20190061679A KR102220853B1 KR 102220853 B1 KR102220853 B1 KR 102220853B1 KR 1020190061679 A KR1020190061679 A KR 1020190061679A KR 20190061679 A KR20190061679 A KR 20190061679A KR 102220853 B1 KR102220853 B1 KR 102220853B1
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Abstract

열처리장치가 개시된다. 본 발명의 열처리장치는, 바닥면에 지지가능하게 설치되는 프레임과, 상기 프레임의 상부측에 설치되는 테이블과, 상기 테이블의 내측에 설치되며, 고온에 대한 내화, 단열, 강도, 내식의 성질을 갖는 내화벽돌과, 상기 내화벽돌의 상부측에 구비되는 세라믹 파이버와, 상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 히팅 플레이트 및 상기 히팅 플레이트의 상부를 덮도록 설치되되, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되는 도어를 포함하여 구성될 수 있다.A heat treatment apparatus is disclosed. The heat treatment apparatus of the present invention includes a frame that is supportably installed on the bottom surface, a table installed on the upper side of the frame, and is installed inside the table, and provides high-temperature fire resistance, heat insulation, strength, and corrosion resistance. A refractory brick having a refractory brick, a ceramic fiber provided on the upper side of the refractory brick, a heating plate provided on the inside of the ceramic fiber and applied to heat to a work object that needs heat treatment by being located above the refractory brick, and the heating plate Doedoe installed to cover the upper portion of the, it may be configured to include a door installed to be opened and closed in both left and right directions.

Description

열처리장치{THERMAL PROCESSING APPARATUS}Heat treatment equipment {THERMAL PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 열처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 테이블 상부측에 내화벽돌, 세라믹 파이버 및 히팅이 가능한 히팅 플레이트를 설치하되, 히팅 플레이트 상부에 좌/우 양방향으로 개폐가 가능한 도어를 설치하고, 필요에 따라 도어를 개방시켜줌으로써, 작업 대상에 대한 열처리 시간을 최소화함과 아울러 화학 기상 증착 장치의 백킹플레이트, 서셉터, 디퓨저 등의 구성 요소에 대한 수명을 대폭 연장시킬 수 있도록 한 열처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus, and more specifically, a refractory brick, ceramic fiber, and a heating plate capable of heating are installed on the upper side of the table, and a door capable of opening and closing in left/right directions is installed on the heating plate, By opening the door as necessary, the heat treatment device minimizes the heat treatment time for the work target and significantly extends the life of the components such as the backing plate, susceptor, and diffuser of the chemical vapor deposition device. will be.

일반적으로, 액정패널은 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display)의 중요한 요소로서, 전기적 신호를 통해 화상을 디스플레이하는 장치이다.In general, a liquid crystal panel is an important element of a liquid crystal display (LCD), and is a device that displays an image through an electrical signal.

이러한 액정패널을 제조하기 위한 LCD 장비는, 간단히 유리등의 투명기판 일면에 각각 전계생성전극을 포함하는 여러 가지 전기적 소자가 설치된 상부기판과 하부기판을 구비한 후, 이들 전극이 서로 마주보도록 배치하여 그 사이에 액정을 충진한 구성을 가지고 있다.LCD equipment for manufacturing such a liquid crystal panel is simply provided with an upper substrate and a lower substrate in which various electric elements including an electric field generating electrode are installed on one surface of a transparent substrate such as glass, and then arranged so that these electrodes face each other. It has a configuration in which liquid crystals are filled in between.

이때, 상/하부기판 각각에 포함되는 전계생성전극 및 여러 가지 전기적 소자들은 통상 투명기판 상면으로 박막을 증착한 후 이를 식각하여 패터닝(Patterning)하는 과정을 수차례 반복하여 구현된다.In this case, the field generating electrode and various electrical elements included in each of the upper and lower substrates are generally implemented by repeating a process of patterning a thin film by depositing a thin film on the upper surface of the transparent substrate and then etching it.

한편, 웨이퍼(Wafer)는 반도체 집적 회로(IC)의 원재료로 사용되는 실리콘의 단결정으로 된 원판 모양의 기판인 데, 이 기판에 빛을 쬐거나 불순물의 가스를 확산시키는 가공법에 의해 트랜지스터, 저항, 콘덴서 등의 부품을 만들고 회로를 구성하게 되는 바, 이러한 웨이퍼 역시 표면에 박막을 증착한 후 이를 식각하여 패터닝(Patterning)하는 과정을 수차례 반복하여 구현된다.On the other hand, the wafer is a disk-shaped substrate made of a single crystal of silicon used as a raw material for semiconductor integrated circuits (ICs). The substrate is exposed to light or diffuses gas of impurities. Components such as capacitors are made and circuits are formed. Such wafers are also implemented by repeating the process of patterning several times by depositing a thin film on the surface and then etching it.

상기와 같은 액정표시장치 또는 반도체 등 전자 장치를 제조함에 있어 박막을 형성하기 위해서는 화학 기상 증착(CVD) 방식이 사용되고 있다.In manufacturing an electronic device such as a liquid crystal display or a semiconductor, a chemical vapor deposition (CVD) method is used to form a thin film.

즉, 웨이퍼를 이용하여 메모리를 제조하거나, 절연 기판을 이용하여 액정 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 유기 발광 표시 장치 등의 평판 표시 장치를 제조할 경우 복수의 공정을 거치는 데, 그 중 필수적으로 박막을 형성시키는 화학 기상 증착 방식을 통한 박막 증착 공정이 필요하다.That is, when manufacturing a memory using a wafer or manufacturing a flat panel display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, and an organic light emitting display device using an insulating substrate, a plurality of processes are performed. A thin film deposition process through a chemical vapor deposition method is required.

이러한, 화학 기상 증착 장치(1)는 웨이퍼나 절연 기판의 박막을 형성할 때 사용되는 장치로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버 본체(2)와 챔버 뚜껑(3)으로 구성된 진공 챔버(Chamber)와, 작업 대상(6)에 열을 고르게 제공하는 서셉터(4)(Susceptor)와, 디퓨저(Diffuser) 및 백킹 플레이트(Backing Plate)로 이루어진 샤워 헤드(5) 등을 포함하여 구성되어 있으며, 그 내부가 진공 상태를 유지하도록 되어 있다.The chemical vapor deposition apparatus 1 is an apparatus used when forming a thin film of a wafer or an insulating substrate, and as shown in FIG. 1, a vacuum chamber composed of a chamber body 2 and a chamber lid 3 ), a susceptor that evenly supplies heat to the work object 6, and a shower head 5 made of a diffuser and a backing plate, Its interior is intended to maintain a vacuum state.

즉, 진공 챔버의 상부에는 처리가스를 확산공급하는 디퓨저(Diffuser)가 설치되고, 디퓨저의 상부에는 외부로부터 처리가스를 도입하는 가스유입관 및 외부 가스유입관으로부터 가스를 공급받아 디퓨저로 공급하는 백킹 플레이트(Backing plate)가 설치되어 있으며, 백킹 플레이트는 하나의 입구로 가스를 공급받아 디퓨저의 중앙부의 분기로를 통해 가스를 공급하도록 구성되어 있다.That is, a diffuser that diffuses and supplies process gas is installed at the top of the vacuum chamber, and a gas inlet pipe for introducing process gas from the outside and a backing that receives gas from the external gas inlet pipe and supplies it to the diffuser. A backing plate is installed, and the backing plate is configured to receive gas through one inlet and supply gas through a branch path at the center of the diffuser.

상기와 같은 화학 기상 증착 장치(1)에 적용되는 서셉터(Susceptor), 디퓨저(Diffuser), 백킹 플레이트(Backing plate) 등은 평판 형태로 구성되어 있는 것으로, 장기간 사용시 열이나 압력, 하중 등에 의해 배불림(Dome) 등과 같은 변형이 발생하게 되는 것인바, 정밀도를 위해 교체가 불가피하게 된다.The susceptor, diffuser, and backing plate applied to the chemical vapor deposition apparatus 1 as described above are formed in a flat plate shape, and are multiplied by heat, pressure, or load when used for a long period of time. Since deformation such as Dome occurs, replacement is inevitable for precision.

이와 같이, 장기간 사용에 따라 열이나 압력, 하중 등에 의해 배불림 등과 같은 변형이 발생된 서셉터(Susceptor), 디퓨저(Diffuser), 백킹 플레이트(Backing plate) 등은 통상 소둔 열처리나, 압연, 프레스, 인장 작업 등을 통해 그 평탄도를 복원하고, 탈취 세정 및 아노다이징(특수코팅)하여 재사용하고 있다.As described above, the susceptor, diffuser, backing plate, etc., which have undergone deformation such as doubling due to heat, pressure, load, etc., according to long-term use, are usually subjected to annealing heat treatment, rolling, pressing, etc. The flatness is restored through tensile work, etc., and is reused by deodorizing cleaning and anodizing (special coating).

그러나, 상기의 구성을 갖는 종래의 열처리장치는 작업 대상에 대한 열처리 시간이 매우 길게 소요되는 문제점이 있었다.However, the conventional heat treatment apparatus having the above configuration has a problem in that it takes a very long heat treatment time for a work object.

또한, 변형이 발생되는 경우, 화학 기상 증착 장치(1)를 재가동 시키기까지 많은 시간이 소요되는 문제점이 있는 바, 재가동까지 걸리는 시간을 최소화할 수 있는 장치의 개발이 시급히 요구되고 있는 실정이다.In addition, when deformation occurs, there is a problem that it takes a lot of time to restart the chemical vapor deposition apparatus 1, and there is an urgent need to develop a device capable of minimizing the time it takes to restart the chemical vapor deposition apparatus.

KR 등록특허공보 제10-1732055호(2017.04.25)KR Registered Patent Publication No. 10-1732055 (2017.04.25)

따라서, 이러한 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은, 테이블 상부측에 내화벽돌, 세라믹 파이버 및 히팅이 가능한 히팅 플레이트를 설치하되, 히팅 플레이트 상부에 좌/우 양방향으로 개폐가 가능한 도어를 설치하고, 필요에 따라 도어를 개방시켜줌으로써, 작업 대상에 대한 열처리 시간을 최소화함과 아울러 화학 기상 증착 장치의 백킹플레이트, 서셉터, 디퓨저 등의 구성 요소에 대한 수명을 대폭 연장시킬 수 있도록 한 열처리장치를 제공하기 위한 것이다.Therefore, the object of the present invention conceived to solve this problem is to install a refractory brick, ceramic fiber and a heating plate capable of heating on the upper side of the table, but install a door capable of opening and closing in left/right directions on the top of the heating plate. And, by opening the door as necessary, a heat treatment device that minimizes the heat treatment time for the work target and significantly extends the life of components such as the backing plate, susceptor, and diffuser of the chemical vapor deposition device. It is to provide.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 열처리장치는, 바닥면에 지지가능하게 설치되며, 정사각 또는 직사각 형태로 배치되는 프레임; 일정 면적을 이루어 상기 프레임의 상부측에 설치되며, 저면 및 4방향의 측면이 외부와 차단되도록 마련되는 테이블; 상기 테이블의 내측에 상기 테이블의 측면 외부로 노출되지 않도록 설치되어 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 고르게 전달하며, 1,500℃~2,000℃의 내화도를 갖는 황백색의 특수벽돌로 이루어진 내화, 단열, 강도, 내식의 성질을 갖는 내화벽돌; 상기 내화벽돌의 상부측에 구비되며, 실리카-알루미나계(系) 섬유로 이루어져 1000℃ 이상의 고온에서 사용이 가능하되, 단열재 노재로 길이가 250mm를 이루는 섬유 또는 알루미나섬유 또는 탄화규소섬유를 사용하거나, 세라믹스 또는 알루미나 또는 탄화규소 재료를 시멘트 또는 금속과 복합시켜 만든 CFRC(탄소섬유 강화콘크리트)나 CFRM(탄소섬유 강화금속)로 이루어지는 세라믹 파이버; 상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 측면이 상기 테이블로부터 노출되지 않도록 설치되며, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 열선으로 이루어진 히팅 플레이트; 상기 히팅 플레이트의 상부를 덮도록 이루어지며, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되되, 회전동력을 전달하는 한 쌍의 모터를 각각 회전축이 가이드레일을 향하도록 구비하며, 한 쌍의 모터에 구비된 회전축과 연결된 바퀴를 설치하여 상기 바퀴가 가이드레일에 안내되어 좌/우 이동가능하게 마련되며, 상기 열선을 기 설정된 온도로 가열하여 상기 열선을 통해 상기 내화벽돌에 열을 전달하게 하는 히팅 컨트롤러와 연동되어 작업 대상에 대한 열처리 완료 시 자동으로 개방되도록 하는 도어; 및 상기 히팅 플레이트 측에 구비되어 열처리를 수행하기 위한 작업 대상을 히팅 플레이트 측에 고정시키는 기능을 수행하되, 작업 대상의 4~8곳에 고정볼트가 관통하는 관통공을 마련하고, 상기 히팅 플레이트 측에 상기 관통공과 대응하는 위치에 볼트 결합홈을 형성하여 고정볼트를 작업 대상의 관통공을 관통시켜 히팅 플레이트 측의 볼트 결합홈에 결합하여 클램핑하는 클램핑 수단; 을 포함하되, 작업 대상에 대한 열처리 완료 시 상기 도어의 자동 개방을 위해, 상기 히팅 컨트롤러측에 감지센서를 구비하고, 상기 도어 측에 상기 히팅 컨트롤러 측의 감지센서와 무선통신되는 감지센서를 구비하여, 상기 히팅 컨트롤러측의 감지센서와 상기 도어측 감지센서의 감지신호에 따라 작업 대상에 대한 열처리 완료시 스위칭 조작을 통해 도어를 개방하도록 마련될 수 있다.
상기 히팅 플레이트는, 상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 일정 간격으로 이격 배치되는 열선으로 이루어지며, 히팅 컨트롤러에 의해 기 설정된 온도로 가열함으로써 내화벽돌에 열을 전달하여 테이블 전체에 열이 가해지도록 하고, 테이블 위에 클램핑되는 작업 대상에 열을 가해 열처리할 수 있다.
상기 프레임에는 이동이 가능하도록 바퀴가 더 구비될 수 있다.The heat treatment apparatus according to the present invention for achieving the above object includes: a frame supportedly installed on a bottom surface and disposed in a square or rectangular shape; A table formed on a predetermined area and installed on the upper side of the frame, and provided so that the bottom surface and side surfaces in the four directions are blocked from the outside; It is installed inside the table so that it is not exposed to the outside of the side of the table to evenly transfer heat to the work object that needs heat treatment, and fireproof, heat insulation, strength, and corrosion resistance made of a special yellow-white brick with a fire resistance of 1,500℃ to 2,000℃. Refractory bricks having the properties of; It is provided on the upper side of the refractory brick and is made of silica-alumina fibers and can be used at a high temperature of 1000°C or higher, but fibers having a length of 250 mm or alumina fibers or silicon carbide fibers are used as an insulating furnace material, or Ceramic fiber made of CFRC (carbon fiber reinforced concrete) or CFRM (carbon fiber reinforced metal) made by combining ceramics or alumina or silicon carbide material with cement or metal; A heating plate provided on the inside of the ceramic fiber, installed so that a side surface is not exposed from the table, and formed of a heating wire disposed on the refractory brick to apply heat to a work object requiring heat treatment; It is made to cover the upper portion of the heating plate and is installed to be open and close in both left and right directions, and a pair of motors that transmit rotational power are provided with their respective rotation shafts facing the guide rail, and are provided on the pair of motors. A wheel connected to a rotating shaft is installed so that the wheel is guided by a guide rail to move left/right, and interlocks with a heating controller that heats the heating wire to a preset temperature and transfers heat to the refractory brick through the heating wire. A door that is automatically opened when the heat treatment for the object is completed; And it is provided on the heating plate side to perform a function of fixing the work object for performing the heat treatment to the heating plate side, providing a through hole through which the fixing bolt passes in 4 to 8 places of the work object, and on the heating plate side A clamping means for forming a bolt coupling groove at a position corresponding to the through hole to pass the fixing bolt through the through hole of the object to be worked and coupled to the bolt coupling groove on the heating plate side for clamping; Including, For automatic opening of the door upon completion of the heat treatment for a work object, a detection sensor is provided on the heating controller side, and a detection sensor wirelessly communicates with a detection sensor on the heating controller side is provided on the door side, , It may be provided to open the door through a switching operation upon completion of the heat treatment for the work object according to the detection signal of the detection sensor of the heating controller side and the door detection sensor.
The heating plate is provided on the inside of the ceramic fiber, and consists of a heating wire that is spaced apart from each other at regular intervals on the top of the refractory brick. By heating it to a preset temperature by a heating controller, heat is transferred to the refractory brick to the entire table. Heat can be applied and heat treated by applying heat to a work object clamped on the table.
Wheels may be further provided on the frame to enable movement.

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상기에서 설명한 본 발명의 열처리장치에 의하면, 테이블 상부측에 내화벽돌, 세라믹 파이버 및 히팅이 가능한 히팅 플레이트를 설치함으로써, 작업 대상에 대한 균일하고 적정한 온도로 열처리를 수행할 수 있게 되며, 기존의 열처리 작업에 수일이 걸리던 열처리장치 대비 하루(24시간) 만에도 열처리를 완료할 수 있게 되어 열처리 시간을 대폭 줄일 수 있는 효과를 구현할 수 있다.According to the heat treatment apparatus of the present invention described above, by installing a refractory brick, ceramic fiber, and a heating plate capable of heating on the upper side of the table, it is possible to perform heat treatment at a uniform and appropriate temperature for the object to be worked. The heat treatment can be completed in a day (24 hours) compared to the heat treatment device that took several days to achieve the effect of significantly reducing the heat treatment time.

또한, 화학 기상 증착 장치의 열처리 시간을 대폭 단축시켜 백킹플레이트, 서셉터, 디퓨저 등의 구성 요소에 대한 수명을 연장시킬 수 있게 된다.In addition, it is possible to significantly shorten the heat treatment time of the chemical vapor deposition apparatus to extend the life of components such as a backing plate, a susceptor, and a diffuser.

아울러, 히팅 플레이트의 제어를 통해 작업대상에 대한 균일하고 적정한 온도로 열처리를 수행할 수 있는 바, 열처리 대상이 알루미늄(Aluminium) 소재로 이루어진 제품에도 적용할 수 있다.In addition, since heat treatment can be performed at a uniform and appropriate temperature for a work target through the control of the heating plate, the heat treatment target can also be applied to a product made of an aluminum material.

도 1은 일반적인 화학 기상 증착 장치를 도시한 개략적인 단면도,
도 2는 본 발명에 따른 열처리장치를 도시한 사시도,
도 3은 도 2에 따른 'A-A'선 단면도,
도 4는 도 2에 따른 'B-B'선 단면도,
도 5는 본 발명에 따른 열처리장치의 히팅 플레이트에 열선이 배치된 상태를 도시한 구성도,
도 6은 본 발명에 따른 열처리장치의 도어가 일부분 닫힌 상태를 도시한 구성도,
도 7은 도 2의 'C'방향에서 바라본 상태를 도시한 구성도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a general chemical vapor deposition apparatus,
2 is a perspective view showing a heat treatment apparatus according to the present invention,
3 is a cross-sectional view taken along line'A-A' in FIG. 2;
4 is a cross-sectional view taken along the line'B-B' in FIG. 2;
Figure 5 is a configuration diagram showing a state in which the heating wire is arranged on the heating plate of the heat treatment apparatus according to the present invention,
6 is a configuration diagram showing a state in which the door of the heat treatment apparatus according to the present invention is partially closed;
FIG. 7 is a configuration diagram illustrating a state viewed from a direction'C' of FIG. 2.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것을 달성하기 위한 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다.Advantages and features of the present invention, and a method for achieving the same will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings.

그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in a variety of different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to those who have, and the invention is only defined by the scope of the claims. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification.

따라서, 몇몇 실시 예에서, 잘 알려진 공정단계들, 잘 알려진 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.Thus, in some embodiments, well-known process steps, well-known structures, and well-known techniques have not been described in detail in order to avoid obscuring interpretation of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않은 한 복수형도 포함한다.The terms used in this specification are for describing exemplary embodiments, and are not intended to limit the present invention. In the present specification, the singular form also includes the plural form unless specifically stated in the phrase.

명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자 이외의 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 의미로 사용한다.Comprises and/or comprising, as used in the specification, refers to the presence or addition of one or more other components, steps, actions, and/or elements other than the stated elements, steps, actions and/or elements. It is used in a sense not to exclude.

그리고, "및/또는"은 언급된 아이템의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.And, “and/or” includes each and every combination of one or more of the recited items.

또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 개략도들을 참고하여 설명될 것이다.In addition, embodiments described in the present specification will be described with reference to sectional views and/or schematic diagrams, which are ideal exemplary diagrams of the present invention.

따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정형태로 제한되는 것이 아니라 제조공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the illustrated specific form, but include a change in form generated according to a manufacturing process.

또한, 본 발명에 도시된 각 도면에 있어서 각 구성요소들은 설명의 편의를 고려하여 다소 확대 또는 축소되어 도시된 것일 수 있다.In addition, in each of the drawings shown in the present invention, each component may be somewhat enlarged or reduced in consideration of convenience of description.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

또한, 본 명세서에 게재되는 '열처리장치'는 다양한 실시예로 구현될 수 있는 바, 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않음을 첨언한다.In addition, it should be noted that the'heat treatment apparatus' published in the present specification may be implemented in various embodiments, and is not limited to the embodiments described herein.

도 2는 본 발명에 따른 열처리장치를 도시한 사시도이며, 도 3은 도 2에 따른 'A-A'선 단면도이고, 도 4는 도 2에 따른 'B-B'선 단면도이며, 도 5는 본 발명에 따른 열처리장치의 히팅 플레이트에 열선이 배치된 상태를 도시한 구성도이고, 도 6은 본 발명에 따른 열처리장치의 도어가 일부분 닫힌 상태를 도시한 구성도이며, 도 7은 도 2의 'C'방향에서 바라본 상태를 도시한 구성도이다.2 is a perspective view showing a heat treatment apparatus according to the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line'A-A' of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line'B-B' of FIG. 2, and FIG. A configuration diagram showing a state in which a heating plate is disposed on a heating plate of the heat treatment apparatus according to the present invention, FIG. 6 is a configuration diagram showing a state in which the door of the heat treatment apparatus according to the present invention is partially closed, and FIG. It is a configuration diagram showing the state viewed from the'C' direction.

첨부된, 도 2 내지 도 7을 참고하여 보면, 본 발명에 따른 열처리장치(100)는, 바닥면에 설치되는 프레임(110)(Frame)과, 상기 프레임(110)측에 설치되는 테이블(120)(Table)과, 상기 테이블(120)의 내측에 설치되는 내화벽돌((130)(Fire Brick)과, 상기 내화벽돌의 상부측에 구비되는 세라믹 파이버(140)(Ceramic Fiber)와, 상기 세라믹 파이버(140) 내측에 구비되어 작업 대상에 열을 가해주는 히팅 플레이트(150)(Heating Plate)와, 상기 히팅 플레이트(150)의 상부에 개폐 가능하게 설치되는 도어(160)(Door)를 포함하여 구성될 수 있다.Attached, referring to FIGS. 2 to 7, the heat treatment apparatus 100 according to the present invention includes a frame 110 installed on the bottom surface, and a table 120 installed on the frame 110 side. ) (Table), a refractory brick (130) (Fire Brick) installed on the inside of the table 120, a ceramic fiber 140 (Ceramic Fiber) provided on the upper side of the refractory brick, and the ceramic Including a heating plate 150 (Heating Plate) provided inside the fiber 140 to apply heat to a work object, and a door 160 (Door) installed to be opened and closed on the top of the heating plate 150 Can be configured.

먼저, 프레임(110)은 수평 복원이 필요한 작업 대상 부재를 올려 놓고 지지할 수 있는 것으로, 도시하지는 않았으나, 이러한 프레임(110)은 정사각 또는 직사각 형태로 배치될 수 있다.First, the frame 110 is capable of supporting and supporting a member that needs to be horizontally restored. Although not shown, the frame 110 may be arranged in a square or rectangular shape.

이러한 프레임(110)은, 테이블(120)과, 내화벽돌(130), 세라믹 파이버(140), 히팅 플레이트(150) 및 도어(160) 등을 지지할 수 있는 금속 재질등 내구성을 갖는 다양한 재질로 마련될 수 있다.The frame 110 is made of a variety of durable materials such as a metal material capable of supporting the table 120, the refractory brick 130, the ceramic fiber 140, the heating plate 150, and the door 160. Can be provided.

또한, 프레임(110)에는 도시하지 않았으나, 이동이 가능하도록 하기 위해 바퀴 등을 구비할 수 있는 데, 이러한 바퀴는 필요에 따라서 움직임을 방지할 수 있도록 하는 고정수단을 포함하여 구성될 수 있다.In addition, although not shown in the frame 110, a wheel or the like may be provided to enable movement, and such a wheel may include a fixing means to prevent movement as necessary.

상기 테이블(120)은 일정 면적을 이루어 마련되되, 저면과, 4방향의 측면이 외부와 차단되도록 설치됨이 바람직하다.The table 120 is provided to form a certain area, and is preferably installed so that the bottom surface and the side surface in the four directions are blocked from the outside.

이와 같이, 저면과 4방향의 측면이 외부와 차단되는 구조로 마련되는 테이블(120)의 내측에는 내화벽돌(130)이 설치된다.In this way, a refractory brick 130 is installed inside the table 120 having a structure in which the bottom surface and the side surfaces in the four directions are blocked from the outside.

상기 내화벽돌(130)은 고온에 대한 내화, 단열, 강도, 내식의 4성질을 갖는 것으로, 테이블(120)의 내측에서 전체 면적에 걸쳐 고르게 배치되도록 한다.The refractory brick 130 has four properties of fire resistance against high temperatures, heat insulation, strength, and corrosion resistance, and is evenly disposed from the inside of the table 120 over the entire area.

이러한 내화벽돌(130)은, 1,500℃~2,000℃의 내화도를 갖는 황백색의 특수벽돌로 이루어지는 것으로, 테이블(120)의 내측에 일정 높이를 이루어 구비되며, 그 상면이 평평한 상태를 이루도록 구비되도록 함이 바람직하다.This refractory brick 130 is made of a special yellow-white brick having a fire resistance of 1,500°C to 2,000°C, and is provided with a certain height inside the table 120, and the top surface is provided to achieve a flat state. desirable.

상기 내화벽돌(130)은, 테이블(120)의 내측에서 히팅 플레이트(150)에 의해 전달된 고온의 열을 유지하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 고르게 전달하는 기능을 수행할 수 있다.The refractory brick 130 may maintain the high temperature heat transferred by the heating plate 150 from the inside of the table 120 to evenly transfer heat to a work object requiring heat treatment.

상기 내화벽돌(130)의 상부측에는 세라믹 파이버(140)가 구비되며, 그 세라믹 파이버(140) 내측에는 히팅 플레이트(150)가 설치되는 바, 테이블(120)에 세라믹 파이버(140)와 히팅 플레이트(150)가 설치되었을 때를 고려하여 내화벽돌(130)의 높이를 조절함으로써, 테이블(120)로부터 세라믹 파이버(140)와 히팅 플레이트(150)의 측면이 노출되지 않도록 한다.A ceramic fiber 140 is provided on the upper side of the refractory brick 130, and a heating plate 150 is installed inside the ceramic fiber 140, and a ceramic fiber 140 and a heating plate are installed on the table 120. By adjusting the height of the refractory brick 130 in consideration of when 150 is installed, the side surfaces of the ceramic fiber 140 and the heating plate 150 are not exposed from the table 120.

상기의 내화벽돌(130)은, 용해점이 높은 벽돌로서 고열에 견디는 특징이 있는 것으로, 고온의 요로의 종류나 성질, 온도의 정도 피열물의 성질등에 따라서 여러 종류가 사용될 수 있다.The refractory brick 130 is a brick having a high melting point and has a characteristic of withstanding high heat, and various types may be used depending on the type or property of the high-temperature furnace, the degree of temperature, and the property of the object to be heated.

이러한 내화벽돌(130)은 원료와 화학적 성질 및 내화온도에 따라 산성, 중성, 알칼리성 등으로 구분할 수 있으며, 성분에 따라 점토질·규석질(硅石質) 등으로 나눌 수 있다.These refractory bricks 130 can be classified into acidic, neutral, alkaline, etc. according to raw materials, chemical properties, and refractory temperature, and can be divided into clay or silicate depending on the composition.

상기 세라믹 파이버(140)는 실리카-알루미나계(系) 섬유로 이루어져 1000℃ 이상의 고온에서 사용이 가능하며, 내화벽돌(130)의 상부측에 구비되어 단열재로서의 기능을 수행한다.The ceramic fiber 140 is made of silica-alumina fiber and can be used at a high temperature of 1000° C. or higher, and is provided on the upper side of the refractory brick 130 to function as a heat insulating material.

이러한 세라믹 파이버(140)는, 내화벽돌(130)의 상부측에 위치하되, 그 형상이 테이블(120)과 대응하는 형상을 이루어 외면이 테이블(120)의 내측에 밀접되도록 설치하며, 그 내측에는 히팅 플레이트(150)가 위치하도록 한다.These ceramic fibers 140 are located on the upper side of the refractory brick 130, but have a shape corresponding to the table 120 so that the outer surface thereof is in close contact with the inner side of the table 120, and the inner side thereof The heating plate 150 is positioned.

이 세라믹 파이버(140)는, 단열재 노재로 길이가 250mm 가량의 짧은 섬유 외에도, 알루미나섬유나 탄화규소섬유 등이 사용될 수 있다.In addition to short fibers having a length of about 250 mm, alumina fibers or silicon carbide fibers may be used as the ceramic fiber 140 as a heat insulating material.

또한, 세라믹스, 또는 알루미나, 또는 탄화규소 재료 등을 시멘트나 금속과 복합시켜 만든 CFRC(탄소섬유 강화콘크리트)나 CFRM(탄소섬유 강화금속) 등을 사용할 수 있을 것이다.In addition, it is possible to use CFRC (carbon fiber reinforced concrete) or CFRM (carbon fiber reinforced metal) made by combining ceramics, alumina, or silicon carbide material with cement or metal.

상기 히팅 플레이트(150)는 상기 세라믹 파이버(140) 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 기능을 수행한다.The heating plate 150 is provided inside the ceramic fiber 140, and is positioned above the refractory brick to apply heat to a work object requiring heat treatment.

상기 히팅 플레이트(150)는 상기 내화벽돌(130)의 상부에 일정 간격으로 이격 배치되는 열선으로 이루어진다.The heating plate 150 is formed of a heating wire that is spaced apart from each other at a predetermined interval above the refractory brick 130.

이러한 열선은 히팅 컨트롤러(미도시)에 의해, 기 설정된 온도로 가열함으로써 내화벽돌(130)에 열을 전달하게 된다. 히팅 컨트롤러는 도시하지는 않았으나, 일반적으로 사용되는 온도 조절기 등이 히팅 컨트롤러로 사용될 수 있다.The heating wire is heated to a preset temperature by a heating controller (not shown) to transfer heat to the refractory brick 130. The heating controller is not shown, but a commonly used temperature controller may be used as the heating controller.

이와 같이, 히팅 컨트롤러에 의해 제어되어 내화벽돌(130)에 열을 전달하게 되며, 이 열이 테이블(120) 전체에 열이 가해지게 되고, 이로 인해, 테이블(120) 위에 클램핑되는 작업 대상에 열을 가해 열처리를 수행할 수 있게 되는 것이다.In this way, it is controlled by the heating controller to transfer heat to the refractory brick 130, and this heat is applied to the entire table 120, and thus, heat to the object to be clamped on the table 120 It is possible to perform heat treatment by applying.

상기 히팅 플레이트(150) 측에는 열처리를 수행하기 위한 작업 대상을 클램핑하기 위한 클램핑 수단이 더 구비될 수 있다.A clamping means for clamping a work object for performing heat treatment may be further provided on the heating plate 150 side.

이 클램핑 수단은, 열처리를 하기 위한 작업 대상을 히팅 플레이트 측에 고정시키는 기능을 수행하는 데, 작업 대상의 임의의 위치(약 4~8곳)에 고정볼트가 관통하는 관통공을 마련하고, 히팅 플레이트 측에는 작업 대상의 관통공과 대응하는 위치에 볼트 결합홈을 형성함으로써, 작업 대상의 관통공 위에 와셔 등을 넣고 고정볼트를 작업 대상의 관통공을 관통시켜 히팅 플레이트 측의 볼트 결합홈에 결합하여 클램핑 작업을 수행할 수 있다.This clamping means performs a function of fixing the work object for heat treatment to the side of the heating plate, and provides a through hole through which the fixing bolt passes at an arbitrary position (about 4 to 8 places) of the work object, and heating. By forming a bolt coupling groove on the plate side at a position corresponding to the through hole of the object to be worked, a washer, etc., is inserted over the through hole of the object to be worked, and the fixing bolt is inserted through the through hole of the object to be clamped to the bolt coupling groove on the heating plate side. You can do the job.

물론, 열처리를 위한 작업 대상을 히팅 플레이트(150) 측에 클램핑 하기 위한 방식은, 열처리 작업 대상을 히팅 플레이트(150) 측에 탈착가능하게 설치하는 조건하에서 다양하게 수행될 수 있다.Of course, the method for clamping the heat treatment target to the heating plate 150 side may be variously performed under conditions in which the heat treatment work target is detachably installed on the heating plate 150 side.

한편, 도어(160)는 상기 히팅 플레이트(150)의 상부를 덮도록 설치되는 것으로, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되도록 함이 바람직하다.On the other hand, the door 160 is installed to cover the upper portion of the heating plate 150, it is preferable to be installed to be open and closed in both left and right directions.

예를 들어, 도어(160)를 좌/우 양방향으로 이동시키기 위해 테이블(120)의 양측에 도어(160)의 이동을 가이드하는 가이드레일(미도시)를 마련하고, 도어(160)의 일측에 회전동력을 전달하는 한 쌍의 모터를 각각 회전축이 가이드레일을 향하도록 구비하며, 한 쌍의 모터에 구비된 회전축과 연결된 바퀴를 설치하여 그 바퀴가 가이드레일에 안내되어 이동이 가능하도록 함으로써, 바퀴가 가이드레일을 따라 움직이면서 도어(160)가 좌/우 이동되어 개폐될 수 있다. For example, guide rails (not shown) are provided on both sides of the table 120 to guide the movement of the door 160 in order to move the door 160 in both left and right directions, and one side of the door 160 A pair of motors that transmit rotational power are provided so that the rotation shaft faces the guide rail, and a wheel connected to the rotation shaft provided in the pair of motors is installed so that the wheel is guided to the guide rail to enable movement. While moving along the guide rail, the door 160 may be moved left/right to open and close.

이와 같이, 도어(160)가 좌/우 이동되어 개폐되는 방식은 상기의 방식외에도 다양하게 마련될 수 있다.In this way, the door 160 may be moved left/right to open and close in various ways other than the above method.

상기의 구성을 갖는 도어(160)는, 히팅 컨트롤러와 연동되어 작업 대상에 대한 열처리 완료 시 자동으로 개방되도록 할 수도 있다.The door 160 having the above configuration may be interlocked with the heating controller to be automatically opened when the heat treatment for the work object is completed.

일례로, 히팅 컨트롤러측에 감지센서를 구비하고, 도어(160) 측에는 히팅 컨트롤러 측의 감지센서와 무선통신되는 감지센서를 구비함으로써, 히팅 컨트롤러측의 감지센서와 도어측 감지센서의 감지신호에 따라 작업 대상에 대한 열처리 완료시 스위칭 조작을 통해 도어(160)를 개방시킬 수 있다.For example, by providing a detection sensor on the heating controller side and a detection sensor wirelessly communicating with the detection sensor on the heating controller side on the door 160 side, according to the detection signal from the detection sensor on the heating controller side and the door detection sensor. Upon completion of the heat treatment for the work object, the door 160 may be opened through a switching operation.

물론, 본 발명에 따른 열처리장치(100)의 도어(160)에 대한 개폐동작은 상기의 방식 외에도, 자동화된 다양한 개폐장치를 통해 수행될 수 있다.Of course, the opening and closing operation of the door 160 of the heat treatment apparatus 100 according to the present invention may be performed through various automated opening and closing devices in addition to the above method.

상기의 구성을 갖는 본 발명에 따른 열처리장치(100)는, 테이블(120) 상부측에 내화벽돌(130), 세라믹 파이버(140) 및 히팅이 가능한 히팅 플레이트(150)를 설치함으로써, 작업 대상에 대한 균일하고 적정한 온도로 열처리를 수행할 수 있게 되며, 기존의 열처리 작업에 수일이 걸리던 열처리장치 대비 하루(24시간) 만에도 열처리를 완료할 수 있게 되어 열처리 시간을 대폭 줄일 수 있게 된다. The heat treatment apparatus 100 according to the present invention having the above configuration, by installing a refractory brick 130, a ceramic fiber 140, and a heating plate 150 capable of heating on the upper side of the table 120, The heat treatment can be performed at a uniform and appropriate temperature for the heat treatment, and the heat treatment can be completed in just one day (24 hours) compared to the heat treatment device that took several days for the existing heat treatment operation, thereby significantly reducing the heat treatment time.

또한, 화학 기상 증착 장치의 열처리 시간을 대폭 단축시켜 백킹플레이트, 서셉터, 디퓨저 등의 구성 요소에 대한 수명을 연장시킬 수 있게 된다.In addition, it is possible to significantly shorten the heat treatment time of the chemical vapor deposition apparatus to extend the life of components such as a backing plate, a susceptor, and a diffuser.

아울러, 작업대상에 대한 균일하고 적정한 온도로 열처리를 수행할 수 있어 열처리 대상이 알루미늄(Aluminium) 소재로 이루어진 제품에도 적용이 가능하다.In addition, since the heat treatment can be performed at a uniform and appropriate temperature for the work target, the heat treatment target can be applied to a product made of an aluminum material.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리 범위는 이같은 특정 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상을 이해하는 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시예를 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 특허청구범위내에 기재된 범주내에 속하는 것으로 해석하여야 할 것이다.In the above, the preferred embodiments of the present invention have been exemplarily described, but the scope of the present invention is not limited to such specific embodiments, and within the scope apparent to those skilled in the art who understand the spirit of the present invention, components Other embodiments may be proposed by addition, change, deletion, addition, etc. of the present invention, but this should also be construed as falling within the scope of the claims of the present invention.

100 : 열처리장치,
110 : 프레임(Frame),
120 : 테이블(Table),
130 : 내화벽돌(Fire Brick),
140 : 세라믹 파이버(Ceramic Fiber),
150 : 히팅 플레이트(Heating Plate),
160 : 도어(Door).100: heat treatment device,
110: Frame,
120: Table,
130: Fire Brick,
140: Ceramic Fiber,
150: heating plate,
160: Door.

Claims (6)

삭제delete 바닥면에 지지가능하게 설치되며, 정사각 또는 직사각 형태로 배치되는 프레임;
일정 면적을 이루어 상기 프레임의 상부측에 설치되며, 저면 및 4방향의 측면이 외부와 차단되도록 마련되는 테이블;
상기 테이블의 내측에 상기 테이블의 측면 외부로 노출되지 않도록 설치되어 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 고르게 전달하며, 1,500℃~2,000℃의 내화도를 갖는 황백색의 특수벽돌로 이루어진 내화, 단열, 강도, 내식의 성질을 갖는 내화벽돌;
상기 내화벽돌의 상부측에 구비되며, 실리카-알루미나계(系) 섬유로 이루어져 1000℃ 이상의 고온에서 사용이 가능하되, 단열재 노재로 길이가 250mm를 이루는 섬유 또는 알루미나섬유 또는 탄화규소섬유를 사용하거나, 세라믹스 또는 알루미나 또는 탄화규소 재료를 시멘트 또는 금속과 복합시켜 만든 CFRC(탄소섬유 강화콘크리트)나 CFRM(탄소섬유 강화금속)로 이루어지는 세라믹 파이버;
상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 측면이 상기 테이블로부터 노출되지 않도록 설치되며, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 열선으로 이루어진 히팅 플레이트;
상기 히팅 플레이트의 상부를 덮도록 이루어지며, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되되, 회전동력을 전달하는 한 쌍의 모터를 각각 회전축이 가이드레일을 향하도록 구비하며, 한 쌍의 모터에 구비된 회전축과 연결된 바퀴를 설치하여 상기 바퀴가 가이드레일에 안내되어 좌/우 이동가능하게 마련되며, 상기 열선을 기 설정된 온도로 가열하여 상기 열선을 통해 상기 내화벽돌에 열을 전달하게 하는 히팅 컨트롤러와 연동되어 작업 대상에 대한 열처리 완료 시 자동으로 개방되도록 하는 도어; 및
상기 히팅 플레이트 측에 구비되어 열처리를 수행하기 위한 작업 대상을 히팅 플레이트 측에 고정시키는 기능을 수행하되, 작업 대상의 4~8곳에 고정볼트가 관통하는 관통공을 마련하고, 상기 히팅 플레이트 측에 상기 관통공과 대응하는 위치에 볼트 결합홈을 형성하여 고정볼트를 작업 대상의 관통공을 관통시켜 히팅 플레이트 측의 볼트 결합홈에 결합하여 클램핑하는 클램핑 수단;
을 포함하되,
작업 대상에 대한 열처리 완료 시 상기 도어의 자동 개방을 위해, 상기 히팅 컨트롤러측에 감지센서를 구비하고, 상기 도어 측에 상기 히팅 컨트롤러 측의 감지센서와 무선통신되는 감지센서를 구비하여, 상기 히팅 컨트롤러측의 감지센서와 상기 도어측 감지센서의 감지신호에 따라 작업 대상에 대한 열처리 완료시 스위칭 조작을 통해 도어를 개방하도록 마련된 열처리장치.
A frame that is installed to be supported on the floor and is arranged in a square or rectangular shape;
A table formed on a predetermined area and installed on the upper side of the frame, and provided so that the bottom surface and side surfaces in the four directions are blocked from the outside;
It is installed inside the table so that it is not exposed to the outside of the side of the table to evenly transfer heat to the work object that needs heat treatment, and fireproof, heat insulation, strength, and corrosion resistance made of a special yellow-white brick with a fire resistance of 1,500℃ to 2,000℃. Refractory bricks having the properties of;
It is provided on the upper side of the refractory brick and is made of silica-alumina fibers and can be used at a high temperature of 1000°C or higher, but fibers having a length of 250 mm or alumina fibers or silicon carbide fibers are used as an insulating furnace material, or Ceramic fiber made of CFRC (carbon fiber reinforced concrete) or CFRM (carbon fiber reinforced metal) made by combining ceramics or alumina or silicon carbide material with cement or metal;
A heating plate provided on the inside of the ceramic fiber, installed so that a side surface is not exposed from the table, and formed of a heating wire disposed on the refractory brick to apply heat to a work object requiring heat treatment;
It is made to cover the upper portion of the heating plate and is installed to be open and close in both left and right directions, and a pair of motors that transmit rotational power are provided with their respective rotation shafts facing the guide rail, and are provided on the pair of motors. A wheel connected to a rotating shaft is installed so that the wheel is guided by a guide rail to move left/right, and interlocks with a heating controller that heats the heating wire to a preset temperature and transfers heat to the refractory brick through the heating wire. A door that is automatically opened when the heat treatment for the object is completed; And
It is provided on the heating plate side and performs a function of fixing a work object for performing heat treatment to the heating plate side, but providing a through hole through which the fixing bolt passes through 4 to 8 places of the work target, and the heating plate side Clamping means for clamping the fixing bolt by forming a bolt coupling groove at a position corresponding to the through hole, and coupling the fixing bolt to the bolt coupling groove on the heating plate side by penetrating the through hole of the object;
Including,
In order to automatically open the door upon completion of heat treatment for a work object, a detection sensor is provided on the heating controller side, and a detection sensor wirelessly communicates with a detection sensor on the heating controller side is provided on the door side, and the heating controller A heat treatment apparatus provided to open a door through a switching operation upon completion of heat treatment for a work object according to a detection sensor of a side sensor and a detection signal of the door side detection sensor.
 삭제delete 삭제delete 제2항에 있어서,
상기 히팅 플레이트는,
상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 일정 간격으로 이격 배치되는 열선으로 이루어지며,
히팅 컨트롤러에 의해 기 설정된 온도로 가열함으로써 내화벽돌에 열을 전달하여 테이블 전체에 열이 가해지도록 하고, 테이블 위에 클램핑되는 작업 대상에 열을 가해 열처리하는 것을 특징으로 하는 열처리장치.
The method of claim 2,
The heating plate,
It is provided on the inside of the ceramic fiber, consisting of a heating wire that is spaced apart at regular intervals on the top of the refractory brick,
A heat treatment apparatus, characterized in that heat is transferred to the refractory brick by heating it to a preset temperature by a heating controller so that heat is applied to the entire table, and heat is applied to a work object clamped on the table to heat treatment.
 제2항에 있어서,
상기 프레임에는 이동이 가능하도록 바퀴가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.The method of claim 2,
Heat treatment apparatus, characterized in that the frame is further provided with wheels to enable movement.
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