KR102217938B1 - Apparatus for purifying exhaust gas and control method thereof - Google Patents

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KR102217938B1 KR1020180131013A KR20180131013A KR102217938B1 KR 102217938 B1 KR102217938 B1 KR 102217938B1 KR 1020180131013 A KR1020180131013 A KR 1020180131013A KR 20180131013 A KR20180131013 A KR 20180131013A KR 102217938 B1 KR102217938 B1 KR 102217938B1
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세메스 주식회사
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Abstract

본 기재의 배기 가스 정화 장치는 배기 가스가 흡입되는 유입구와, 배기 가스가 배출되는 배출구를 포함하는 하우징; 하우징의 내부에 설치되고, 유입구를 통하여 유입된 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스와 반응하는 용매를 분사하는 분사 유닛; 하우징의 내부에 설치되고, 분사 유닛에 인접하게 위치되며, 저감 대상 가스와 용매가 혼합된 혼합물을 흡수하는 포집 부재; 하우징에 설치되어 포집 부재를 통과한 혼합물을 외부로 배출하는 배출 부재; 및 하우징의 내부에 설치되고, 포집 부재를 통과한 배기 가스의 이동을 가이드하면서 배기 가스에 포함된 수분을 제거하는 하나 이상의 가이드 유닛;을 포함한다.The exhaust gas purification apparatus of the present disclosure includes: a housing including an inlet through which exhaust gas is sucked and an outlet through which exhaust gas is discharged; An injection unit installed inside the housing and injecting a solvent reacting with the target gas to be reduced included in the exhaust gas introduced through the inlet; A collecting member installed inside the housing, positioned adjacent to the injection unit, and absorbing a mixture of a reduction target gas and a solvent; A discharge member installed in the housing to discharge the mixture that has passed through the collecting member to the outside; And at least one guide unit installed in the housing and guiding movement of the exhaust gas passing through the collecting member to remove moisture contained in the exhaust gas.

Description

배기 가스 정화 장치 및 이의 제어 방법{Apparatus for purifying exhaust gas and control method thereof}TECHNICAL FIELD [0001] An apparatus for purifying exhaust gas and a control method thereof

본 발명은 배기 가스 정화 장치 및 이의 제어 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 과정에서 발생되는 배기 가스를 정화하는데 사용될 수 있는 배기 가스 정화 장치 및 이의 제어 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus and a control method thereof, and more particularly, to an exhaust gas purification apparatus and a control method thereof that can be used to purify exhaust gas generated in a semiconductor manufacturing process.

일반적으로 반도체 소자나 디스플레이 소자 혹은 태양전지를 제조하기 위해서는 진공 챔버를 포함하는 기판처리장치에서 각종 공정을 수행한다. 예컨대, 챔버 내에 기판을 로딩하고 기판상에 박막을 증착하거나, 박막을 식각하는 등의 공정을 진행하게 된다.In general, in order to manufacture a semiconductor device, a display device, or a solar cell, various processes are performed in a substrate processing apparatus including a vacuum chamber. For example, a process such as loading a substrate into the chamber and depositing a thin film on the substrate or etching the thin film is performed.

이때 기판은 챔버 내에 설치된 기판 지지대에 지지되며, 공정이 진행되는 챔버의 내부는 대기압보다 낮은 압력을 유지하게 되고, 이를 위하여 배기관을 통하여 챔버를 진공펌프와 연결하여 챔버 내의 기체를 펌핑한다.At this time, the substrate is supported by a substrate support installed in the chamber, and the inside of the chamber in which the process is performed is maintained at a pressure lower than atmospheric pressure, and for this purpose, the chamber is connected to a vacuum pump through an exhaust pipe to pump gas in the chamber.

이러한 기판처리장치는 내부에 공간이 형성되는 챔버, 챔버 상부에서 챔버 내부에 처리 가스를 분사하는 가스공급 수단, 가스 공급 수단과 대향하여 설치되는 기판지지대, 챔버의 일측 예컨대 챔버 하부벽에 형성된 배출구 및 배출구와 연결되는 배기관을 포함한다. 배기관은 진공펌프와 연결되어 챔버 내 가스를 배출하는 통로로 작용한다.Such a substrate processing apparatus includes a chamber in which a space is formed therein, a gas supply means for injecting a processing gas into the chamber from an upper part of the chamber, a substrate support installed opposite the gas supply means, an outlet formed on one side of the chamber, such as a lower wall of the chamber, and It includes an exhaust pipe connected to the outlet. The exhaust pipe is connected to the vacuum pump and acts as a passage for discharging gas in the chamber.

한편, 배기관을 통하여 이송되는 배기 가스에 포함된 일부의 가스가 외부로 바로 배출되면 환경 오염을 발생시킬 수 있으므로, 유해 가스의 농도를 저감시켜서 배출하는 것이 일반적이다. 종래에는 이와 같은 저감 대상 가스의 농도를 저감시키기 위하여 배기 가스 정화 장치를 사용하고, 배기 가스 정화 장치에는 저감 대상 가스 각각에 맞는 별도의 설비가 구비될 수 있다. 또한, 배기 가스 정화 장치의 크기를 감소시키기 어려울 수 있으므로 공장 내부에서 큰 면적을 차지하고, 기판 처리 장치가 설치된 공장 내부의 설비 배치가 변경되는 경우 배기 가스 정화 장치를 이동하기가 쉽지 않을 수 있다.On the other hand, if some of the gases included in the exhaust gas conveyed through the exhaust pipe are directly discharged to the outside, environmental pollution may be caused, so it is common to discharge by reducing the concentration of the harmful gas. Conventionally, an exhaust gas purification device is used to reduce the concentration of the target gas to be reduced, and the exhaust gas purification device may be provided with a separate facility suitable for each gas to be reduced. In addition, since it may be difficult to reduce the size of the exhaust gas purifying apparatus, it may be difficult to move the exhaust gas purifying apparatus when it occupies a large area inside the plant and the arrangement of facilities inside the plant in which the substrate processing apparatus is installed is changed.

한국공개특허 제2001-0082109호Korean Patent Publication No. 2001-0082109

본 발명의 목적은 배기 가스 저감 신뢰성은 유지되면서 소형화가 가능하고 다양한 배기 가스에 대응할 수 있는 배기 가스 정화 장치를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide an exhaust gas purification apparatus capable of miniaturization while maintaining reliability of exhaust gas reduction and capable of responding to various exhaust gases.

본 발명의 일 측면에 따른 배기 가스 정화 장치는 배기 가스가 흡입되는 유입구와, 배기 가스가 배출되는 배출구를 포함하는 하우징; 상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 유입구를 통하여 유입된 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스와 반응하는 용매를 분사하는 분사 유닛; 상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 분사 유닛에 인접하게 위치되며, 상기 저감 대상 가스와 용매가 혼합된 혼합물을 포집하는 포집 부재; 상기 하우징에 설치되어 상기 포집 부재를 통과한 상기 혼합물을 외부로 배출하는 배출 부재; 및 상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 포집 부재를 통과한 상기 배기 가스의 이동을 가이드하면서 상기 배기 가스에 포함된 수분을 제거하는 하나 이상의 가이드 유닛;을 포함한다.An exhaust gas purification apparatus according to an aspect of the present invention includes: a housing including an inlet through which exhaust gas is sucked and an outlet through which exhaust gas is discharged; An injection unit installed in the housing and injecting a solvent reacting with a reduction target gas contained in the exhaust gas introduced through the inlet; A collecting member installed inside the housing, positioned adjacent to the injection unit, and collecting a mixture of the reduction target gas and a solvent; A discharge member installed in the housing and discharging the mixture that has passed through the collecting member to the outside; And at least one guide unit installed in the housing and guiding the movement of the exhaust gas passing through the collecting member and removing moisture contained in the exhaust gas.

한편, 상기 포집 부재는, 상기 분사 유닛의 하방에 위치되고, 섬유 소재로 이루어질 수 있다.Meanwhile, the collecting member may be positioned under the spray unit and may be made of a fiber material.

한편, 상기 포집 부재는 가스 투과율이 90% 이상일 수 있다.Meanwhile, the collection member may have a gas permeability of 90% or more.

한편, 상기 분사 유닛은, 상기 하우징에 결합되고, 상기 용매가 저장되는 저장 부재; 및 상기 저장 부재에 연결되고, 상기 용매가 상기 포집 부재를 향하여 분사되도록 상기 포집 부재를 향하여 위치되는 하나 이상의 노즐 부재;를 포함할 수 있다.Meanwhile, the injection unit may include a storage member coupled to the housing and storing the solvent; And at least one nozzle member connected to the storage member and positioned toward the collecting member so that the solvent is sprayed toward the collecting member.

한편, 상기 노즐 부재는 복수개이고, 상기 복수의 노즐 부재는 각각 상이한 방향을 향하여 용매를 분사할 수 있다.Meanwhile, a plurality of nozzle members may be used, and the plurality of nozzle members may spray a solvent in different directions, respectively.

한편, 상기 저장 부재는 상기 하우징에 탈착 가능하게 결합될 수 있다.Meanwhile, the storage member may be detachably coupled to the housing.

한편, 상기 가이드 유닛은, 상기 하우징의 배출구의 하부로부터 상기 하우징의 내부를 향하도록 설치되는 제1 가이드 부재; 및 상기 하우징의 배출구의 상부로부터 상기 하우징의 내부를 향하도록 설치되고, 상기 제1 가이드 부재보다 상대적으로 길게 이루어진 제2 가이드 부재;를 포함할 수 있다.Meanwhile, the guide unit may include: a first guide member installed to face the inside of the housing from a lower portion of the outlet of the housing; And a second guide member installed to face the interior of the housing from an upper portion of the outlet of the housing, and formed relatively longer than the first guide member.

한편, 상기 제1 가이드 부재의 수직 단면의 형상은 아크 형상일 수 있다.Meanwhile, the shape of the vertical cross section of the first guide member may be an arc shape.

한편, 상기 제2 가이드 부재의 수직 단면의 형상은 U형상일 수 있다.Meanwhile, the shape of the vertical cross section of the second guide member may be a U shape.

한편, 상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 저감 대상 가스의 농도를 측정하는 농도 측정 부재; 및 상기 농도 측정 부재에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 포집 부재로 분사되는 용매의 양이 증가되도록 상기 분사 유닛을 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, a concentration measuring member installed inside the housing and measuring a concentration of the gas to be reduced; And a control unit for controlling the injection unit to increase the amount of the solvent injected to the collecting member when the concentration of the reduction target gas measured by the concentration measuring member is greater than or equal to the reference concentration.

한편, 상기 제어부는, 상기 농도 측정 부재에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 포집 부재로 분사되는 용매의 양이 유지되거나 감소되도록 상기 분사 유닛을 제어할 수 있다.Meanwhile, when the concentration of the target gas to be reduced measured by the concentration measuring member is less than a reference concentration, the control unit may control the injection unit to maintain or decrease the amount of the solvent injected to the collecting member.

본 발명의 일 측면에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법은 상기 배기 가스 정화 장치를 제어하는 배기 가스 정화 장치의 제어 방법에 있어서, 배기 가스에 용매를 분사하고 저감 대상 가스가 용해된 상기 용매를 포집하는 포집 단계; 상기 포집 단계를 통과한 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스의 농도를 측정하는 농도 측정 단계; 상기 측정된 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인지를 판단하는 판단 단계; 및 상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 증가시키는 용매 증가 단계;를 포함한다.In the control method of an exhaust gas purification device for controlling the exhaust gas purification device, a method for controlling an exhaust gas purification device according to an aspect of the present invention includes injecting a solvent into exhaust gas and collecting the solvent in which the target gas to be reduced is dissolved. Collecting step; A concentration measurement step of measuring a concentration of a target gas to be reduced included in the exhaust gas that has passed through the collection step; A determination step of determining whether the measured concentration of the reduction target gas is greater than or equal to a reference concentration; And a solvent increasing step of increasing the amount of the solvent injected into the exhaust gas when the measured concentration of the reduction target gas is greater than or equal to the reference concentration.

한편, 상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 유지시키거나 감소시키는 용매 관리 단계;를 포함할 수 있다.On the other hand, when the measured concentration of the reduction target gas is less than the reference concentration, a solvent management step of maintaining or reducing the amount of the solvent injected into the exhaust gas; may include.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치에 포함된 가이드 유닛은 1회의 구베횟수만으로도 배기 가스의 흐름이 사이클론 형태로 변환하여 배기 가스가 배출구를 통하여 배출되기 전에 배기 가스에 잔류하는 수분을 효율적으로 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치는 종래의 배기 가스 정화 장치 대비 전체적인 크기를 소형화할 수 있다.The guide unit included in the exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention converts the flow of exhaust gas into a cyclone form with only one beating number of times, thereby efficiently removing moisture remaining in the exhaust gas before the exhaust gas is discharged through the outlet. Can be removed. Accordingly, the exhaust gas purifying apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention may have an overall size smaller than that of the conventional exhaust gas purifying apparatus.

그러므로, 공장에서 배기 가스 정화 장치가 차지하는 공간이 감소되어 공장 내부의 공간을 효율적으로 활용할 수 있다. 뿐만 아니라, 기판 처리 장치의 위치가 변경된 경우, 사용자는 소형화된 배기 가스 정화 장치를 자유롭게 이동시켜서 재설치할 수 있다.Therefore, the space occupied by the exhaust gas purification device in the factory is reduced, and the space inside the factory can be efficiently utilized. In addition, when the position of the substrate processing apparatus is changed, the user can freely move and reinstall the downsized exhaust gas purification apparatus.

또한, 본 발명에 따른 배기 가스 정화 장치는 용매를 사용하여 저감 대상 가스를 용해시킨 다음 배출하고, 가이드 유닛에서 배기 가스에 잔류하는 수분을 제거하여 저감 대상 가스의 높은 저감 효율을 달성할 수 있다.In addition, the exhaust gas purifying apparatus according to the present invention can achieve high reduction efficiency of the reduction target gas by dissolving the gas to be reduced by using a solvent and then discharging the gas to be reduced, and removing moisture remaining in the exhaust gas from the guide unit.

그리고, 본 발명에 따른 배기 가스 정화 장치는 저감 대상 가스에 맞는 용매를 선택하여 사용할 수 있으므로, 특정 저감 대상 가스를 제거하기 위한 전용 장비를 구비할 필요가 없다. 따라서, 배기 가스를 정화하는 비용이 절감될 수 있다.In addition, since the exhaust gas purification apparatus according to the present invention can select and use a solvent suitable for the gas to be reduced, there is no need to provide a dedicated equipment for removing the gas to be reduced. Thus, the cost of purifying the exhaust gas can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 배기 가스가 배기 가스 정화 장치의 내부에서 이동되는 경로를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치를 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법을 도시한 순서도이다.1 is a view showing an exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a path through which exhaust gas moves inside the exhaust gas purification apparatus.
3 is a view of an exhaust gas purification apparatus according to another embodiment of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a method of controlling an exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art may easily implement the present invention. The present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description have been omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.

또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서만 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 대표적인 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In addition, in various embodiments, components having the same configuration will be described only in a representative embodiment by using the same reference numerals, and in other embodiments, only configurations different from the representative embodiment will be described.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected" with another part, this includes not only the case of being "directly connected", but also being "indirectly connected" with another member therebetween. In addition, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 하우징(110), 분사 유닛(120), 포집 부재(130), 배출 부재(140) 및 가이드 유닛(150)을 포함한다.Referring to FIG. 1, an exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a housing 110, an injection unit 120, a collecting member 130, a discharge member 140, and a guide unit 150. Includes.

하우징(110)은 배기 가스가 흡입되는 유입구(111)와, 배기 가스가 배출되는 배출구(112)를 포함할 수 있다. 하우징(110)은 배기 가스 정화 장치(100)의 몸체일 수 있다.The housing 110 may include an inlet 111 through which exhaust gas is sucked and an outlet 112 through which exhaust gas is discharged. The housing 110 may be a body of the exhaust gas purification apparatus 100.

분사 유닛(120)은 상기 하우징(110)의 내부에 설치되고, 상기 유입구(111)를 통하여 유입된 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스와 반응하는 용매를 분사할 수 있다.The injection unit 120 is installed inside the housing 110 and may inject a solvent that reacts with the target gas to be reduced included in the exhaust gas introduced through the inlet 111.

한편, 상기 분사 유닛(120)은 일례로 저장 부재(121)와 노즐 부재(122)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the injection unit 120 may include, for example, a storage member 121 and a nozzle member 122.

저장 부재(121)는 상기 하우징(110)에 결합되고, 상기 용매가 저장될 수 있다. 저장 부재(121)는 상기 하우징(110)의 외부에 위치될 수 있다.The storage member 121 is coupled to the housing 110 and the solvent may be stored. The storage member 121 may be located outside the housing 110.

이러한 상기 저장 부재(121)는 상기 하우징(110)에 탈착 가능하게 결합될 수 있다. 저감 대상 가스마다 반응하는 용매가 상이할 수 있다. 예를 들어, 저감 대상 가스가 이소프로필알콜(이하 'IPA' 이라 함)인 경우 IPA와 반응하는 물이 용매가 될 수 있다. 물이 저장 부재(121)에 저장되어 있다가 후술할 노즐 부재(122)에 의해 분사되고, 미스트 형태의 물이 IPA와 반응하여 IPA가 물에 용해될 수 있다.The storage member 121 may be detachably coupled to the housing 110. The solvent reacting may be different for each gas to be reduced. For example, when the gas to be reduced is isopropyl alcohol (hereinafter referred to as'IPA'), water reacting with IPA may be a solvent. Water is stored in the storage member 121 and then sprayed by the nozzle member 122 to be described later, and water in the form of a mist reacts with the IPA, so that the IPA may be dissolved in the water.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 특정 저감 대상 가스와 반응하는 용매가 저장된 저장 부재(121)를 필요에 따라 언제든지 교체하여 사용할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 다양한 용매를 구비하여 놓고, 저감 대상 가스에 맞게 용매를 교체하여 사용할 수 있으므로, 저감 대상 가스 각각을 제거하기 위한 별도의 설비를 모두 구비할 필요가 없다.The exhaust gas purification apparatus 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may replace and use the storage member 121 in which a solvent reacting with a specific reduction target gas is stored at any time as necessary. Since the exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention is provided with various solvents and can be used by replacing the solvent according to the gas to be reduced, all separate facilities for removing each gas to be reduced are provided. There is no need to do.

노즐 부재(122)는 상기 저장 부재(121)에 연결되고, 상기 용매가 상기 포집 부재(130)를 향하여 분사되도록 상기 포집 부재(130)를 향하여 위치될 수 있다. 노즐 부재(122)는 하나 이상일 수 있다.The nozzle member 122 is connected to the storage member 121 and may be positioned toward the collecting member 130 so that the solvent is sprayed toward the collecting member 130. One or more nozzle members 122 may be provided.

한편, 상기 노즐 부재(122)는 복수개이고, 상기 복수의 노즐 부재(122)는 각각 상이한 방향을 향하여 용매를 분사할 수 있다. 이와 같이 이루어짐으로써, 하나의 노즐 부재만 구비하는 경우와 비교하여 포집 부재(130)에 전체에 걸쳐 용매가 분사될 수 있다.Meanwhile, the nozzle member 122 may be plural, and the plurality of nozzle members 122 may spray a solvent in different directions, respectively. By doing in this way, the solvent can be sprayed over the entire collection member 130 compared to the case where only one nozzle member is provided.

그리고, 노즐 부재(122)는 포집 부재(130)에 용매를 분사하도록 하우징(110)에 설치될 수 있다. 이에 따라, 용매가 포집 부재(130) 이외에 다른 장소로 분사되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the nozzle member 122 may be installed in the housing 110 to spray the solvent onto the collecting member 130. Accordingly, it is possible to prevent the solvent from being sprayed to places other than the collecting member 130.

포집 부재(130)는 상기 하우징(110)의 내부에 설치되고, 상기 분사 유닛(120)에 인접하게 위치될 수 있다. 포집 부재(130)는 상기 저감 대상 가스와 용매가 혼합된 혼합물을 포집할 수 있다.The collecting member 130 may be installed inside the housing 110 and positioned adjacent to the injection unit 120. The collecting member 130 may collect a mixture in which the gas to be reduced and a solvent are mixed.

상기 포집 부재(130)는 상기 분사 유닛(120)의 하방에 위치되고, 섬유 소재로 이루어질 수 있다. 포집 부재(130)는 가스 투과율이 90% 이상인 것일 수 있다. 이에 따라, 배기 가스가 포집 부재(130)를 통하여 원활하게 통과할 수 있다.The collecting member 130 is located under the spray unit 120 and may be made of a fiber material. The collecting member 130 may have a gas permeability of 90% or more. Accordingly, the exhaust gas can smoothly pass through the collecting member 130.

이와 다르게, 포집 부재(130)의 가스 투과율이 90% 미만인 경우, 배기 가스가 원활하게 통과되지 못하게 되면서, 하우징(110)의 내부 압력이 증가되어 유입구(111)로 배기 가스가 유입되기 어려울 수 있다. 또한, 포집 부재(130)는 배기 가스에 의하여 손상되는 것이 방지되도록 내화학성이 우수한 소재로 이루어질 수 있다.On the other hand, when the gas permeability of the collecting member 130 is less than 90%, the exhaust gas cannot pass smoothly, and the internal pressure of the housing 110 increases, so that it may be difficult for the exhaust gas to flow into the inlet 111 . In addition, the collecting member 130 may be made of a material having excellent chemical resistance so as to be prevented from being damaged by exhaust gas.

이와 같은 포집 부재(130)는 일례로 다층으로 이루어진 나노섬유필터일 수 있다. 또한, 포집 부재(130)는 다른 일례로 모시, 마, 삼베, 부직포 중 어느 하나 또는 2가지 이상이 혼합되거나 각각의 것을 적어도 2중 이상으로 설치된 섬유재 필터일 수 있다. 이러한 섬유재 필터는 분진이나 수분의 흡수능력이 좋고 자정능력이 우수할 수 있다.The collecting member 130 may be, for example, a multi-layered nanofiber filter. In addition, as another example, the collecting member 130 may be a fibrous filter in which one or two or more of ramie, hemp, hemp, and nonwoven fabric are mixed, or at least two or more of each are installed. Such a fibrous filter may have good absorbing ability of dust or moisture and excellent self-cleaning ability.

배출 부재(140)는 상기 하우징(110)에 설치되어 상기 포집 부재(130)를 통과한 상기 혼합물을 외부로 배출할 수 있다. 혼합물이 포집 부재(130)에 포집되고 자중에 의하여 아래로 이동할 수 있다. 배출 부재(140)는 하우징(110)의 하부에 설치될 수 있다. 따라서, 혼합물이 배출 부재(140)로 유입될 수 있다. 이를 위한 배출 부재(140)는 일례로 액체를 외부로 배출하는데 사용되는 드레인 플러그(Drain plug)일 수 있으나, 이에 한정하지는 않는다.The discharge member 140 may be installed in the housing 110 to discharge the mixture that has passed through the collecting member 130 to the outside. The mixture is collected by the collecting member 130 and can be moved downward by its own weight. The discharge member 140 may be installed under the housing 110. Thus, the mixture may flow into the discharge member 140. The discharge member 140 for this may be a drain plug used to discharge liquid to the outside, for example, but is not limited thereto.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 유출 감지 센서(160)를 포함할 수 있다. 유출 감지 센서(160)는 하우징(110)의 하부에 설치될 수 있으며, 저감 대상 가스가 용해된 용매가 하우징(110)으로부터 유출되는 것을 감지할 수 있다. 이러한 유출 감지 센서(160)는 미도시된 경보기와 연결되어, 용매가 유출되는 것을 감지하면 경보기를 동작시키거나 배기 가스 정화 장치(100)의 동작을 정지시킬 수 있다.Meanwhile, the exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention may include a leak detection sensor 160. The leak detection sensor 160 may be installed under the housing 110, and may detect that a solvent in which a reduction target gas is dissolved is leaked from the housing 110. The leak detection sensor 160 may be connected to an alarm not shown, and may operate the alarm or stop the operation of the exhaust gas purification apparatus 100 when detecting that the solvent leaks.

가이드 유닛(150)은 상기 하우징(110)의 내부에 설치될 수 있다. 가이드 유닛(150)은 상기 포집 부재(130)를 통과한 상기 배기 가스의 이동을 가이드하면서 상기 배기 가스에 포함된 수분을 제거할 수 있다.The guide unit 150 may be installed inside the housing 110. The guide unit 150 may remove moisture contained in the exhaust gas while guiding the movement of the exhaust gas that has passed through the collecting member 130.

이러한 상기 가이드 유닛(150)은 일례로 제1 가이드 부재(151)와 제2 가이드 부재(152)를 포함할 수 있다.The guide unit 150 may include, for example, a first guide member 151 and a second guide member 152.

제1 가이드 부재(151)는 상기 하우징(110)의 배출구(112)의 하부로부터 상기 하우징(110)의 내부를 향하도록 설치될 수 있다. 상기 제1 가이드 부재(151)의 수직 단면의 형상은 아크(Arc) 형상일 수 있다.The first guide member 151 may be installed to face the inside of the housing 110 from a lower portion of the outlet 112 of the housing 110. The shape of the vertical cross section of the first guide member 151 may be an arc shape.

제2 가이드 부재(152)는 상기 하우징(110)의 배출구(112)의 상부로부터 상기 하우징(110)의 내부를 향하도록 설치되고, 상기 제1 가이드 부재(151)보다 상대적으로 길게 이루어질 수 있다. 상기 제2 가이드 부재(152)의 수직 단면의 형상은 U형상일 수 있다. 이때, 제2 가이드 부재(152)에서 배출구(112)와 인접한 부분은 배출구(112)의 일부분과 대응될 수 있으며, 하우징(110)의 내부에 위치한 나머지 부분은 상방으로 볼록한 형상일 수 있다.The second guide member 152 is installed to face the inside of the housing 110 from the upper portion of the outlet 112 of the housing 110 and may be formed to be relatively longer than the first guide member 151. The shape of the vertical cross section of the second guide member 152 may be U-shaped. In this case, a portion of the second guide member 152 adjacent to the outlet 112 may correspond to a portion of the outlet 112, and the remaining portion located inside the housing 110 may have an upwardly convex shape.

이러한 제2 가이드 부재(152)와 제1 가이드 부재(151)는 일례로 데미스터(Demister)로 이루어질 수 있다. 이러한 데미스터는 가스와 수분이 혼합된 것으로부터 수분을 제거할 수 있다.The second guide member 152 and the first guide member 151 may be formed of, for example, a demister. Such a demister can remove moisture from a mixture of gas and moisture.

상기 포집 부재(130)를 통과한 배기 가스가 상기 제1 가이드 부재(151)와 상기 제2 가이드 부재(152)를 지나면서 사이클론(cyclone) 형태로 회전하고, 배기 가스에 포함된 수분이 상기 제1 가이드 부재(151)와 상기 제2 가이드 부재(152)와 접촉하는 시간이 증가되며, 상기 제1 가이드 부재(151)와 상기 제2 가이드 부재(152)는 배기 가스에 포함된 수분을 효율적으로 제거할 수 있다. 즉, 상기 제1 가이드 부재(151)와 상기 제2 가이드 부재(152)은 배기 가스의 흐름이 사이클론 형태로 변환되게 하는 사이클론 가이드(cyclone guide)가 될 수 있다.The exhaust gas passing through the collecting member 130 rotates in a cyclone shape while passing through the first guide member 151 and the second guide member 152, and moisture contained in the exhaust gas is 1 The contact time between the guide member 151 and the second guide member 152 is increased, and the first guide member 151 and the second guide member 152 efficiently absorb moisture contained in the exhaust gas. Can be removed. That is, the first guide member 151 and the second guide member 152 may be cyclone guides for converting the flow of exhaust gas into a cyclone form.

배기 가스는 전술한 가이드 유닛(150)에 의하여 포집 부재(130)를 통과한 이후에 제1 가이드 부재(151)와 접촉되면서 흐름이 변경되고, 제2 가이드 부재(152)를 따라 이동되다가 제2 가이드 부재에서 배출구(112)에 인접한 부분과 재차 접촉되면서 흐름이 재차 변경되며, 배기 가스에 포함된 수분이 제2 가이드 부재(152)에서 대부분 제거될 수 있다.After passing through the collecting member 130 by the above-described guide unit 150, the exhaust gas is changed in flow as it comes into contact with the first guide member 151, and moves along the second guide member 152, and then moves along the second guide member 152. As the guide member comes into contact with the portion adjacent to the outlet 112 again, the flow is changed again, and most of the moisture contained in the exhaust gas can be removed from the second guide member 152.

즉, 상기 포집 부재(130)를 통과한 배기 가스의 흐름이 가이드 유닛(150)에 의하여 사이클론 형상으로 변경되고, 배기 가스가 제1 가이드 부재(151) 및 제2 가이드 부재(152)와 충분히 접촉될 수 있다. 이에 따라 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)에 포함된 가이드 유닛(150)은 상기와 같은 1회의 구베횟수만으로도 배기 가스가 배출구(112)를 통하여 배출되기 전에 배기 가스에 잔류하는 수분을 효율적으로 제거할 수 있다.That is, the flow of the exhaust gas passing through the collecting member 130 is changed into a cyclone shape by the guide unit 150, and the exhaust gas sufficiently contacts the first guide member 151 and the second guide member 152 Can be. Accordingly, the guide unit 150 included in the exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention remains in the exhaust gas before being discharged through the outlet 112 by only the number of beating times as described above. It can efficiently remove the moisture.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 종래의 배기 가스 정화 장치와 비교하여 저감 대상 가스의 농도를 낮출 수 있으면서 전체적인 크기를 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 공장에서 배기 가스 정화 장치(100)가 차지하는 공간이 감소되어 공장 내부의 공간을 효율적으로 활용할 수 있다. 뿐만 아니라, 기판 처리 장치의 위치가 변경된 경우, 사용자는 소형화된 배기 가스 정화 장치(100)를 자유롭게 이동시켜서 재설치할 수 있다.The exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention can reduce the overall size while being able to lower the concentration of the target gas to be reduced compared to the conventional exhaust gas purification apparatus. Accordingly, the space occupied by the exhaust gas purification apparatus 100 in the factory is reduced, so that the space inside the factory can be efficiently utilized. In addition, when the position of the substrate processing apparatus is changed, the user can freely move and reinstall the downsized exhaust gas purification apparatus 100.

이하에서는 도면을 참조하여 전술한 배기 가스 정화 장치(100)의 동작 과정을 설명하기로 한다.Hereinafter, an operation process of the exhaust gas purification apparatus 100 described above will be described with reference to the drawings.

도 2를 참조하면, 배기 가스가 하우징(110)의 유입구(111)로 유입될 수 있다. 이때, 용매가 분사 유닛(120)에서 분사되고 있는 상태이므로, 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스가 용매에 용해될 수 있다. 그리고, 저감 대상 가스는 용매에 용해된 상태로 포집 부재(130)를 통과하여 배출 부재(140)를 통하여 외부로 배출되거나, 미도시된 저장 탱크에 저장될 수도 있다.Referring to FIG. 2, exhaust gas may flow into the inlet 111 of the housing 110. At this time, since the solvent is being injected from the injection unit 120, the reduction target gas included in the exhaust gas may be dissolved in the solvent. In addition, the gas to be reduced may pass through the collecting member 130 in a state dissolved in a solvent and discharged to the outside through the discharge member 140, or may be stored in a storage tank (not shown).

그리고, 포집 부재(130)를 통과한 배기 가스는 가이드 유닛(150)으로 이동될 수 있다. 배기 가스에 잔류하는 수분이 가이드 유닛(150)에 의해 제거될 수 있고, 배기 가스는 하우징(110)의 배출구(112)를 통하여 배출될 수 있다. 이에 따라, 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스의 농도가 감소되어 외부로 배출될 수 있다.Then, the exhaust gas passing through the collecting member 130 may be moved to the guide unit 150. Moisture remaining in the exhaust gas may be removed by the guide unit 150, and the exhaust gas may be discharged through the outlet 112 of the housing 110. Accordingly, the concentration of the reduction target gas included in the exhaust gas may be reduced and discharged to the outside.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(200)는 농도 측정 부재(170)와 제어부(180)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the exhaust gas purification apparatus 200 according to another embodiment of the present invention may further include a concentration measuring member 170 and a control unit 180.

농도 측정 부재(170)는 하우징(110)의 내부에 설치되고, 상기 저감 대상 가스의 농도를 측정할 수 있다. 농도 측정 부재(170)는 특정 가스의 농도를 측정하는데 사용되는 센서일 수 있다.The concentration measuring member 170 is installed inside the housing 110 and may measure the concentration of the reduction target gas. The concentration measuring member 170 may be a sensor used to measure the concentration of a specific gas.

제어부(180)는 분사 유닛(120)에서 분사되는 용매의 양을 제어할 수 있다. 더욱 상세하게 설명하면, 제어부(180)는 상기 농도 측정 부재(170)에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 포집 부재(130)로 분사되는 용매의 양이 증가되도록 상기 분사 유닛(120)을 제어할 수 있다. 이에 따라, 용매에 용해되는 저감 대상 가스의 양이 증가될 수 있으므로, 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스의 농도가 감소될 수 있다.The controller 180 may control the amount of the solvent sprayed from the spray unit 120. In more detail, when the concentration of the reduction target gas measured by the concentration measuring member 170 is greater than or equal to a reference concentration, the control unit 180 sprays the injection so that the amount of the solvent injected to the collecting member 130 increases. Unit 120 can be controlled. Accordingly, since the amount of the reduction target gas dissolved in the solvent can be increased, the concentration of the reduction target gas included in the exhaust gas can be reduced.

한편, 제어부(180)는 상기 농도 측정 부재(170)에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 포집 부재(130)로 분사되는 용매의 양이 유지되거나 감소되도록 상기 분사 유닛(120)을 제어할 수 있다. 이에 따라, 저감 대상 가스의 농도를 감소시키는데 있어서 용매가 불필요하게 낭비되는 것을 방지할 수 있다.On the other hand, when the concentration of the reduction target gas measured by the concentration measuring member 170 is less than the reference concentration, the control unit 180 maintains or reduces the amount of the solvent injected to the collecting member 130. 120) can be controlled. Accordingly, it is possible to prevent unnecessary waste of the solvent in reducing the concentration of the gas to be reduced.

이와 같이 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(200)는 농도 측정 부재(170)와 제어부(180)를 포함함으로써, 용매의 사용은 최소화하면서 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스를 기준 농도 이하로 낮출 수 있다.As described above, the exhaust gas purification apparatus 200 according to another embodiment of the present invention includes the concentration measuring member 170 and the controller 180, so that the use of the solvent is minimized and the reduction target gas included in the exhaust gas is referenced. It can be lowered below the concentration.

전술한 바와 같이 본 발명에 따른 배기 가스 정화 장치(100, 200)에 포함된 가이드 유닛(150)은 1회의 구베횟수만으로도 배기 가스의 흐름이 사이클론 형태로 변환하여 배기 가스가 배출구(112)를 통하여 배출되기 전에 배기 가스에 잔류하는 수분을 효율적으로 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(100, 200)는 종래의 배기 가스 정화 장치와 다르게 별도의 수분 제거 설비를 포함하지 않아도 됨으로써, 전체적인 크기를 소형화할 수 있다.As described above, the guide unit 150 included in the exhaust gas purification apparatuses 100 and 200 according to the present invention converts the flow of exhaust gas into a cyclone form with only one beating number of times, so that the exhaust gas passes through the outlet 112. Moisture remaining in the exhaust gas can be efficiently removed before being discharged. Accordingly, the exhaust gas purifying apparatuses 100 and 200 according to an exemplary embodiment of the present invention do not need to include a separate moisture removal facility unlike the conventional exhaust gas purifying apparatus, thereby reducing the overall size.

또한, 본 발명에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 용매를 사용하여 저감 대상 가스를 용해시킨 다음 배출하고, 가이드 유닛(150)에서 배기 가스에 잔류하는 수분을 제거하여 저감 대상 가스의 높은 저감 효율을 달성할 수 있다.In addition, the exhaust gas purification apparatus 100 according to the present invention dissolves the gas to be reduced using a solvent and then discharges it, and removes moisture remaining in the exhaust gas from the guide unit 150 to achieve high reduction efficiency of the target gas to be reduced. Can be achieved.

그리고, 본 발명에 따른 배기 가스 정화 장치(100)는 저감 대상 가스에 맞는 용매를 선택하여 사용할 수 있으므로, 특정 저감 대상 가스를 제거하기 위한 전용 장비를 구비할 필요가 없다. 따라서, 배기 가스를 정화하는 비용이 절감될 수 있다.In addition, since the exhaust gas purifying apparatus 100 according to the present invention can select and use a solvent suitable for a reduction target gas, there is no need to provide a dedicated equipment for removing a specific reduction target gas. Thus, the cost of purifying the exhaust gas can be reduced.

이하에서는 전술한 배기 가스 정화 장치(100)를 제어하는 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법에 대하여 도면을 참고하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of controlling the exhaust gas purification apparatus 100 according to an embodiment of the present invention for controlling the exhaust gas purification apparatus 100 will be described with reference to the drawings.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법(S100)에 있어서, 포집 단계(S110), 농도 측정 단계(S120), 판단 단계(S130) 및 용매 증가 단계(S140)를 포함한다.Referring to Figure 4, in the control method (S100) of the exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention, the collection step (S110), the concentration measurement step (S120), the determination step (S130), and the solvent increasing step ( S140).

포집 단계(S110)는 배기 가스에 용매를 분사하고 저감 대상 가스가 용해된 용매를 포집할 수 있다. 그리고, 전술한 바와 같이 저감 대상 가스를 포함하는 용매는 포집 부재에 포집된 다음 외부로 배출될 수 있다.In the collecting step S110, a solvent may be injected into the exhaust gas and a solvent in which the target gas to be reduced is dissolved may be collected. And, as described above, the solvent containing the gas to be reduced may be collected by the collecting member and then discharged to the outside.

농도 측정 단계(S120)는 상기 포집 단계(S110)를 통과한 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스의 농도를 측정할 수 있다. 전술한 바와 같이 저감 대상 가스의 농도 측정은 농도 측정 부재에 의해 실시될 수 있다. 그리고 제어부는 농도 측정 부재로부터 농도 데이터를 전송받아서 기저장된 기준 농도와 비교할 수 있다.The concentration measurement step S120 may measure the concentration of the reduction target gas contained in the exhaust gas that has passed through the collection step S110. As described above, the concentration measurement of the reduction target gas may be performed by the concentration measuring member. In addition, the control unit may receive the concentration data from the concentration measuring member and compare it with the previously stored reference concentration.

판단 단계(S130)는 상기 측정된 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인지를 판단할 수 있다. 이때, 제어부는 농도 데이터가 기준 농도 이상인지를 판단할 수 있다.In the determining step S130, it may be determined whether the measured concentration of the reduction target gas is equal to or greater than a reference concentration. In this case, the control unit may determine whether the concentration data is equal to or greater than the reference concentration.

용매 증가 단계(S140)는 상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 증가시킬 수 있다.In the solvent increasing step (S140), when the measured concentration of the reduction target gas is greater than or equal to a reference concentration, the amount of the solvent injected into the exhaust gas may be increased.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법(S100)은 용매 관리 단계(S150)를 포함할 수 있다.On the other hand, the control method (S100) of the exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention may include a solvent management step (S150).

용매 관리 단계(S150)는 상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 유지시키거나 감소시킬 수 있다. 저감 대상 가스의 농도에 따라 배기 가스에 분사되는 용매의 양이 변경되는 것은 앞서 설명한 배기 가스 정화 장치에서 상세하게 설명하였으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.In the solvent management step S150, when the measured concentration of the reduction target gas is less than the reference concentration, the amount of the solvent injected into the exhaust gas may be maintained or decreased. Since the change in the amount of the solvent injected into the exhaust gas according to the concentration of the target gas to be reduced has been described in detail in the exhaust gas purification apparatus described above, a detailed description thereof will be omitted.

이와 같은 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 제어 방법은 저감 대상 가스의 농도 저감 신뢰성은 유지하면서, 저감 대상 가스의 농도를 감소시키는데 사용되는 용매가 불필요하게 낭비되는 것을 방지할 수 있다.The control method of the exhaust gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention can prevent unnecessary waste of a solvent used to reduce the concentration of the reduction target gas while maintaining reliability of the reduction target gas concentration. .

이상에서 본 발명의 여러 실시예에 대하여 설명하였으나, 지금까지 참조한 도면과 기재된 발명의 상세한 설명은 단지 본 발명의 예시적인 것으로서, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although various embodiments of the present invention have been described above, the drawings referenced so far and the detailed description of the described invention are merely illustrative of the present invention, which are used only for the purpose of describing the present invention, and are limited in meaning or claims. It is not used to limit the scope of the invention described in the range. Therefore, those of ordinary skill in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100: 배기 가스 정화 장치
110: 하우징 111: 유입구
112: 배출구 120: 분사 유닛
121: 저장 부재 122: 노즐 부재
130: 포집 부재 140: 배출 부재
150: 가이드 유닛 151: 제1 가이드 부재
152: 제2 가이드 부재 160: 유출 감지 센서
170: 농도 측정 부재 180: 제어부100: exhaust gas purification device
110: housing 111: inlet
112: outlet 120: injection unit
121: storage member 122: nozzle member
130: collecting member 140: discharge member
150: guide unit 151: first guide member
152: second guide member 160: leak detection sensor
170: concentration measuring member 180: control unit

Claims (13)

배기 가스가 흡입되는 유입구와, 배기 가스가 배출되는 배출구를 포함하는 하우징;
상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 유입구를 통하여 유입된 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스와 반응하는 용매를 분사하는 분사 유닛;
상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 분사 유닛에 인접하게 위치되며, 상기 저감 대상 가스와 용매가 혼합된 혼합물을 포집하는 포집 부재;
상기 하우징에 설치되어 상기 포집 부재를 통과한 상기 혼합물을 외부로 배출하는 배출 부재; 및
상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 포집 부재를 통과한 상기 배기 가스의 이동을 가이드하면서 상기 배기 가스에 포함된 수분을 제거하여, 상기 하우징으로부터 배출되는 상기 배기 가스의 흐름은 사이클론 형상의 흐름을 갖는 하나 이상의 가이드 유닛;을 포함하며,
상기 가이드 유닛은,
상기 하우징의 배출구의 하부로부터 상기 하우징의 내부를 향하도록 설치되는 제1 가이드 부재; 및
상기 하우징의 배출구의 상부로부터 상기 하우징의 내부를 향하도록 설치되고, 상기 제1 가이드 부재보다 상대적으로 길게 이루어진 제2 가이드 부재;를 포함하는 배기 가스 정화 장치.A housing including an inlet through which exhaust gas is sucked and an outlet through which exhaust gas is discharged;
An injection unit installed in the housing and injecting a solvent reacting with a target gas to be reduced included in the exhaust gas introduced through the inlet;
A collecting member installed inside the housing, positioned adjacent to the injection unit, and collecting a mixture of the reduction target gas and a solvent;
A discharge member installed in the housing and discharging the mixture that has passed through the collecting member to the outside; And
It is installed inside the housing and removes moisture contained in the exhaust gas while guiding the movement of the exhaust gas passing through the collecting member, so that the flow of the exhaust gas discharged from the housing has a cyclone-shaped flow. Includes; one or more guide units,
The guide unit,
A first guide member installed to face the inside of the housing from a lower portion of the outlet of the housing; And
And a second guide member installed to face the interior of the housing from an upper portion of the outlet of the housing, and configured to be relatively longer than the first guide member. 제1항에 있어서,
상기 포집 부재는,
상기 분사 유닛의 하방에 위치되고, 섬유 소재로 이루어진 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
The collecting member,
An exhaust gas purification device located below the injection unit and made of a fiber material. 제1항에 있어서,
상기 포집 부재는 가스 투과율이 90% 이상인 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
The exhaust gas purification apparatus of the collecting member having a gas permeability of 90% or more. 제1항에 있어서,
상기 분사 유닛은,
상기 하우징에 결합되고, 상기 용매가 저장되는 저장 부재; 및
상기 저장 부재에 연결되고, 상기 용매가 상기 포집 부재를 향하여 분사되도록 상기 포집 부재를 향하여 위치되는 하나 이상의 노즐 부재;를 포함하는 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
The injection unit,
A storage member coupled to the housing and storing the solvent; And
And at least one nozzle member connected to the storage member and positioned toward the collecting member so that the solvent is sprayed toward the collecting member. 제4항에 있어서,
상기 노즐 부재는 복수개이고, 상기 복수의 노즐 부재는 각각 상이한 방향을 향하여 용매를 분사하는 배기 가스 정화 장치The method of claim 4,
The plurality of nozzle members, and the plurality of nozzle members are exhaust gas purification devices for injecting solvents in different directions, respectively 제4항에 있어서,
상기 저장 부재는 상기 하우징에 탈착 가능하게 결합된 배기 가스 정화 장치.The method of claim 4,
The storage member is an exhaust gas purification device detachably coupled to the housing. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 가이드 부재의 수직 단면의 형상은 아크 형상인 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
An exhaust gas purifying apparatus in which the shape of the vertical cross section of the first guide member is an arc shape. 제1항에 있어서,
상기 제2 가이드 부재의 수직 단면의 형상은 U형상인 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
The exhaust gas purifying apparatus having a U-shaped shape of the vertical cross section of the second guide member. 제1항에 있어서,
상기 하우징의 내부에 설치되고, 상기 저감 대상 가스의 농도를 측정하는 농도 측정 부재; 및
상기 농도 측정 부재에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 포집 부재로 분사되는 용매의 양이 증가되도록 상기 분사 유닛을 제어하는 제어부;를 더 포함하는 배기 가스 정화 장치.The method of claim 1,
A concentration measuring member installed inside the housing and measuring a concentration of the reduction target gas; And
When the concentration of the reduction target gas measured by the concentration measuring member is greater than or equal to a reference concentration, a controller configured to control the injection unit to increase the amount of the solvent injected to the collecting member. 제10항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 농도 측정 부재에서 측정한 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 포집 부재로 분사되는 용매의 양이 유지되거나 감소되도록 상기 분사 유닛을 제어하는 배기 가스 정화 장치.The method of claim 10,
The control unit,
When the concentration of the reduction target gas measured by the concentration measuring member is less than the reference concentration, the exhaust gas purification apparatus controls the injection unit to maintain or reduce the amount of the solvent injected to the collecting member. 제1항 내지 제6 및 제 8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 배기 가스 정화 장치를 제어하는 배기 가스 정화 장치의 제어 방법에 있어서,
배기 가스에 용매를 분사하고 저감 대상 가스가 용해된 상기 용매를 포집하는 포집 단계;
상기 포집 단계를 통과한 배기 가스에 포함된 저감 대상 가스의 농도를 측정하는 농도 측정 단계;
상기 측정된 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인지를 판단하는 판단 단계; 및
상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 이상인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 증가시키는 용매 증가 단계;를 포함하는 배기 가스 정화 장치의 제어 방법.A method for controlling an exhaust gas purification device for controlling the exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 6 and 8 to 11, wherein
A collecting step of injecting a solvent into exhaust gas and collecting the solvent in which the target gas to be reduced is dissolved;
A concentration measuring step of measuring the concentration of the target gas to be reduced included in the exhaust gas that has passed the collecting step;
A determination step of determining whether the measured concentration of the reduction target gas is greater than or equal to a reference concentration; And
And a solvent increasing step of increasing the amount of the solvent injected into the exhaust gas when the measured concentration of the reduction target gas is greater than or equal to the reference concentration. 제12항에 있어서,
상기 측정된 상기 저감 대상 가스의 농도가 기준 농도 미만인 경우, 상기 배기 가스에 분사되는 용매의 양을 유지시키거나 감소시키는 용매 관리 단계;를 포함하는 배기 가스 정화 장치의 제어 방법.The method of claim 12,
When the measured concentration of the target gas to be reduced is less than the reference concentration, a solvent management step of maintaining or reducing the amount of the solvent injected into the exhaust gas;
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