KR102217147B1 - 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 - Google Patents
피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102217147B1 KR102217147B1 KR1020190068586A KR20190068586A KR102217147B1 KR 102217147 B1 KR102217147 B1 KR 102217147B1 KR 1020190068586 A KR1020190068586 A KR 1020190068586A KR 20190068586 A KR20190068586 A KR 20190068586A KR 102217147 B1 KR102217147 B1 KR 102217147B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- compound represented
- reaction
- group
- compound
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/02—Preparation by ring-closure or hydrogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Abstract
본 발명은 화학식 1로 표시되는 디페닐술포닐술폰아미드의 제조에 관한 것으로
<화학식 1>
하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 염화 술폰기와 벤젠을 첨가하여 하기 화학식3으로 표시되는 화합물을 얻은 다음 염화기를 불소알킬인 트리플루로르메탄으로 치환시켜 하기 화학식4로 표시되는 화합물을 얻고, 니트로기를 환원하여 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻은 후 화학식 5로 표시되는 화합물의 아미노기를아조화, 술폰화, 염소화 반응시켜 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻고, 다시 얻어진 화학식 6으로 표시되는 화합물을 N이 보호된 피페리딘 아민과 반응시켜 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻고, N이 보호된 피페리딘의 화학식 7로 표시되는 화합물을 탈보호시켜 염산염의 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 얻는 제조방법을 제공한다.
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
<화학식 6>
<화학식 7>
<화학식 1>
하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 염화 술폰기와 벤젠을 첨가하여 하기 화학식3으로 표시되는 화합물을 얻은 다음 염화기를 불소알킬인 트리플루로르메탄으로 치환시켜 하기 화학식4로 표시되는 화합물을 얻고, 니트로기를 환원하여 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻은 후 화학식 5로 표시되는 화합물의 아미노기를아조화, 술폰화, 염소화 반응시켜 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻고, 다시 얻어진 화학식 6으로 표시되는 화합물을 N이 보호된 피페리딘 아민과 반응시켜 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻고, N이 보호된 피페리딘의 화학식 7로 표시되는 화합물을 탈보호시켜 염산염의 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 얻는 제조방법을 제공한다.
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
<화학식 6>
<화학식 7>
Description
본 발명은 화학식 1로 표시되는 디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법에 관한 것이다.
<화학식 1>
발모관련 시장규모는 2조 원대로 추산되며, 발모제 제품의 종류와 시장은 증가 추세다. 요즘 한국의 성인남성 4명 가운데 1명꼴인 25%(1천만 명)가 탈모인구로 추정되고 있고, 대머리가 없다던 여성들 역시 환경적 요인으로 인해 탈모가 증가하고 있다. 또한, 최근 20~30대 비교적 젊은 층에서도 대머리 증상이 나타나는 등 탈모로 인해 고통을 받고 있는 사람들은 꾸준히 증가하고 있는 추세다.
특히 각종 성형수술이 보편화 될 만큼 외모에 대한 관심이 고조되고 있는 상황에서 취업이나 결혼을 앞둔 이들에게 탈모는 심각한 사회문제로 까지 확산되고 있다. 이러한 탈모로 인해 발모제시장 규모도 크게 확대돼 왔다.
발모관련 시장 규모는 매년 20~30%의 빠른 성장세를 보이면서 국내 탈모방지 및 발모제, 모발이식 등 관련 전체 시장규모도 약 2조 원대로 매년 증가하고 있다. 전체 탈모 시장의 대부분은 의약품이 아닌 의약외품 등 일반 외용제나 샴푸 등의 화장품, 공산품 등이 대부분을 차지하고 있다.
이처럼 탈모는 유전적 요인뿐만 아니라 환경적인 요인까지 가세하면서 탈모 및 발모시장은 앞으로 더욱 확대될 전망이다.
전문가들은 "보통 대머리라고 불리는 남성형 탈모증은 유전적 요소를 가진 사람에게서 안드로겐(남성호르몬)이 작용해 발생하게 되며 털이 자라는 데는 반드시 호르몬이 필요하고 그중 난소 고환 부신에서 만들어지는 안드로겐의 영향을 받는다"고 말한다.
의학수준이 높아지고 많은 제품이 출시되고 있지만 탈모에 관한 한 1백% 치유법은 아직도 연구가 진행 중으로 완벽한 대책은 없는 실정이다
병원에서 처방되고 있는 피나스테리드는 DHT(디하이드로테스토스테론, 탈모 인자)를 억제하고, 미녹시딜은 혈류 흐름을 개선하는 작용 기전을 보이며, S1P(스핑고신-1-포스페이트)는 Wnt/ß-catenin 신호증가로 모발의 생성을 촉진한다.
그런데 골다공증을 치료 목적으로 만들어진 약이 남성형 탈모증(androgenetic alopecia)에 효과적인 것이 밝혀졌다. 1983년 Cyclosporine A (CsA)라는 점안제가 출시되었는데 CsA는 류마티스관절염과 골다공증 치료용으로 사용 되고 있다. 이 약물은 부작용으로 두통, 구토, 고혈압 등을 일으키는 것으로 알려져 있지만, Nathan J. Hawkshaw 박사가 이끄는 맨체스터 대학 연구팀에 의해 발모 효과가 있는 것으로 밝혀졌다.
상기 연구팀이 모발 이식환자에게 얻은 모낭에 추가실험을 실시한 결과, CsA가 발모를 촉진하는 것을 발견하였다. 약물의 작용메커니즘을 규명하기 위해 유전자 발현을 분석한 결과 모낭 속에서 조직의 성장을 방해하는 SFRP1 단백질의 발현을 감소시키는 것으로 밝혀졌다.
"CsA 발모 촉진 메커니즘은 쥐 실험 때와는 다른 분자메커니즘이 작용하는 것 같다" 고 호크박사는 전했다. 상기 연구팀은 골다공증을 치료용으로 개발된 WAY-316606라는 화합물에 대해서도 분석을 실시하고 있다.
WAY-316606도 탈모의 원인인 SFRP1 단백질의 발현을 억제하는 것으로 밝혀졌으며, CsA보다 탁월한 효과가 있는 것으로 알려져 있다. 또한, WAY-316606는 CsA와 같은 부작용도 없다.그러나 현재까지 알려진 WAY-316606의 제조 방법은 여러 가지가 알려져 있지만 그 중에서 대표적으로 두 가지 방법이 있다.
그 방법들은 반응 시약과 조건이 다르지만, 제조 방법은 아래와 같이 거의 유사하다.
먼저 Journal of Medicinal Chemistry, 52(1), 105-116, 2009의 경우, 화합물 2에서 프리델크래프아릴화 반응을 통해 화합물 3을 제조하는데 반응 시간이 2일로 매우 비 효율적이며,또 한 화합물 4에서 환원 반응을 통해 화합물 5를 제조하는데도 반응 시간이 3일, 반응 온도도 70℃로 매우 비효율적이다. 그리고 화학식 5의 아미노기를 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응시켜 하기 화학식 6으로 표시되는화합물을 얻는 방법도 매우 저조한 수율 31%를 보이고 있다.
또 다른 조건의 제조 방법은 국제특허 출원 공개 번호 WO 2006/124875에 나타나 있는데, 이 제조 방법의 조건은 상기 화합물 3에서 알킬화반응을 통해 화합물4를 제조하는데 위의 Journal of Medicinal Chemistry, 52(1), 105-116, 2009의 수율 56%와 비교하여 저조한 수율 41%를 보이고 있다. 또한. 상기 화합물 4에서 환원 반응을 통해 상기 화합물 5를 제조하는데도 반응 시간이 3일, 반응온도도 70℃로 매우 비 효율적이다. 그리고 상기 화합물 5의 아미노기를 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응시켜 하기 화합물 6을 얻는 방법도 매우 저조한 수율 37%를 보이고 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 효율적인 제조방법을 확립하는 것으로, 특히 상기 화합물 4에서 환원 반응을 통해 화합물 5를 제조하는데 소요되는 반응 시간을 줄이고, 화합물 5의 아미노기를 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응시켜 상기 화합물 6을 얻는 제조방법을 확립하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여 본발명은,
a) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 염화기를 벤젠으로 치환하여 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 프리델-크래프트 반응을 통하여 얻은 다음 알킬화 반응하여 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 얻고, 환원반응으로 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻는 단계;
b) 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응을 통해 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻고, 상기 얻어진 화학식 6으로 표시되는 화합물을 N-보호된 피페리딘과 커플링 하여 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻는 단계; 및
c) 상기 단계 b)에서 얻어진 화학식 7로 표시되는 화합물을 염산과 반응하여탈보호된 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 얻는 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법을 제공한다.
<화학식 1>
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
<화학식 6>
<화학식 7>
상술한 바와 같은 본 발명에 있어서, 상기 단계 a)의 프리델-크래프트 반응시, 사용되는 이탈기 공여체는 클로로 및 브로모로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고, 사용되는 촉매로는 AlCl3, FeCl3, 및 SnCl4로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며, 반응 시약인 벤젠이 용매로 직접 사용되며, 반응 온도는 30℃ 내지 90℃인 것이 바람직하다.
상술한 바와 같은 본 발명에 있어서, 상기 단계 a)의 환원반응 시, 사용되는 촉매는 5중량% Pd-C, 10중량% Pd-C, 및 20중량% Pd-C로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며, 용매로는 메탄올, 에탄올, 및 프로판올로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고, 반응 온도는 30℃ 내지 100℃일 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명에 있어서, 상기 단계 b)의 염소화 반응은 CuCl 및 CuCl2로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 사용하고, 반응온도는 0℃ 내지 실온에서 8 내지 12시간에 걸쳐 이루어질 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명은, 상기 단계 b)의 커플링 반응 후, 얻어진 화학식 7로 표시되는 화합물을 산으로 가수분해하여 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 본 발명에 있어서, 상기 단계 a)의 프리델-크래프트 반응시, 사용되는 촉매의 양은 화학식 2로 표시되는 화합물에 대하여 1.0당량 내지 2.0당량비로 사용되고, 환원반응 시, 사용되는 촉매의 양은 화학식 4로 표시되는 화합물에 대하여 0.4% 당량 내지 0.5% 당량비로 사용되고, 상기 히드라진 수화물 또한 화학식 4로 표시되는 화합물에 대하여 2.0당량 내지 3.0당량비로 사용될 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명에 있어서, 상기 단계 b)의 염소화 반응시, 상기 염소공여체는 화학식 5로 표시되는 화합물에 대하여 1.00당량 내지 1.05당량비로 사용될 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물인 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드 염산염의 효율적인 제조방법을 확립하며, 특히 화학식 4로 표시되는 화합물에서 환원 반응을 통해 화합식 5로 표시되는 화합물을 제조하는 반응 시간을 줄이고, 화학식 5로 표시되는 화합물의 아미노기를 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응시켜 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 높은 수율로 얻는 제조방법을 제공한다.
발명을 실시하기 위한 구체 내용을 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명에 따른 제조방법은 먼저 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 염소기를 벤젠으로 치환하여 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 얻은 다음 알킬화 반응하여 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 얻고, 환원반응으로 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻는 단계(하기 반응식 1 참조)와 이어서 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응시켜 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻고 상기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 N-보호된 피페리딘과 커플링하여 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻으며, 상기 커플링 반응 후 얻어진 화학식 7로 표시되는 화합물을 산으로 가수분해하여 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(하기 반응식 2 참조)로 이루어진 방법이다.
이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이것만으로 제한되거나 한정되는 것은 아님은 당연하다.
[
실시예
1]
1-
클로로
-2-니트로-4-(
페닐술포닐
)벤젠의 제조
질소 가스 충진 하에서 무수 벤젠(5 mL, 56.1 mmol, 5.6 당량)에 무수 AlCl3 (2.00 g, 15.0 mmol, 1.5 eq.)을 가하고, 교반된 슬러리에 화합물 2 (2.56 g, 10.0 mmol, 1.0 당량)를 -20℃에서 적가한다. 그리고 생성된 용액을 5℃ 내지 10℃에서 교반한다. 반응 플라스크를 실온으로 가온하고, 마지막으로 6시간 동안 가열 환류한 후, 얼음 위에 붓고, 반응 혼합물을 EtOAc로 2회 추출한다. 합쳐진 유기 용액을 포화 소금물로 세척하고, MgSO4로 건조시키고, 여과하고, 그리고 농축시킨다. Et2O로 트리튜레이션하여 화합물 3을 황색 고체로서 수득한다. (2.38-2.53 g, 80-85%)
1H NMR (DMSO-d6)δ 8.68 (d, J = 2.08 Hz, 1H), 8.25 (dd, J = 2.08, 8.58 Hz, 1H), 8.00 -8.09 (m, 3H), 7.72 - 7.80 (m, 1H), 7.62 - 7.71 (m, 2H)
[
실시예
2]
2-니트로-4-(
페닐술포닐
)-1-(
트리플루오로메틸
)벤젠의 제조
질소 가스 충진 하에서 무수 디메틸아세트아미드(15.0 mL) 중의 화합물 3 (2.17 g, 7.29 mmol, 1.0 eq.)의 교반된 용액에 3mm의 Cu 분말(2.78 g, 43.7 mmol, 6.0 eq.)과 오븐 - 건조된 100 메쉬의 활성화된 탄소 가루(1.10 g)와 CF2Br2(2.0 mL, 21.9 mmol, 3.0 eq.)를 적가한다. 생성된 용액을 100℃에서 6시간 동안 가열한다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고 셀라이트를 통해 여과시킨다.
여액을 약 1/3의 부피로 농축시키고,EtOAc와 포화 NH4Cl 용액 사이에 분배시킨다. 물층을 추가의 EtOAc로 추출하고, 합쳐진 유기 용액을 물로 수회 세척하고,포화 소금물로 세척하고, MgSO4로 건조시키고, 여과하고, 그리고 농축시킨다.
불순한 혼합물을 0 내지 20용량% EtOAc / 헥산을 사용하여 플래시 칼럼 크로마토그래피하여 화합물 4를 회백색 고체로서 수득한다. (1.36 g, 56%)
1H NMR (DMSO-d6)δ 8.76 (d, J = 1.82 Hz, 1H), 8.47 (dd, J = 1.04, 8.32 Hz, 1H), 8.05 - 8.14 (m, 2H), 7.74 - 7.84 (m, 1H), 7.64 - 7.73 (m, 2H)
[
실시예
3]
5-(
페닐술포닐
)-2-(
트리플루오로메틸
)아닐린의 제조
2리터의 기계식 교반기, 환류 응축기 및 적가 깔때기가 장착된 3구 둥근 바닥 플라스크에 4.7g(14.19 mmol, 1.0 eq.)의 화합물 4 및 25.0mL의 95용량% 에탄올을 넣는다. 반응 용액을 50℃로 가온한 후, 0.01g의 10중량% Pd-C 촉매를 첨가하고 교반한다. 히드라진 수화물 약 1.5 mL(30.96 mmol, 2.2 eq.)를 30분 동안 적가 깔대기를 통하여 첨가한다. 이 시점에서 추가로 0.01g의 10중량% Pd-C 촉매를 더 첨가하고 반응 용매인 알코올이 부드럽게 환류될 때까지 혼합물을 가열한다. 1시간 후 화합물 4가 완전히 용해되고 상등액은 거의 무색이 된다.
촉매는 셀라이트를 통해 완만한 흡입으로 여과하여 제거한다. 플라스크를 5.0 mL의 뜨거운 알코올로 세척하고, 세척된 용매는 촉매 및 셀라이트를 세척하는데 사용한다. 모아진 여액을 감압 하에 약 5.0 mL로 농축시킨 다음 대기압에서 끓는점까지 가열한다. 25.0 mL의 뜨거운 물을 서서히 첨가할 때, 화합물 5는 회백색 고체로서 침전된다. 얼음물에서 냉각시킨 후, 화합물 5를 여과하고, 물로 세척하고, 어두운 곳에서 진공 데시케이터 안에서 건조시켜 생성물을 얻는다. (4.06g, 95%)
1H NMR (DMSO-d6)δ 7.86 - 7.96 (m, 2H), 7.70 - 7.79 (m, 1H), 7.62 - 7.70 (m, 2H), 7.54 (d, J = 8.32 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 1.56 Hz, 1H), 7.06 (dd, J = 1.04, 8.32 Hz, 1H), 6.21 (s, 2H)
[
실시예
4]
5-(
페닐술포닐
)-2-(
트리플루오로메틸
)
벤젠술포닐클로라이드의
제조
0℃, 질소 가스 충진 하에서 CH3CN(310 mL)에 화합물 5(13.2 g, 43.8 mmol, 1.0 eq.)를 용해시킨다. 용해된 용액에 빙초산(25 mL)을 첨가한 후, 진한 염산 HCl(25 mL)을 연이어 적가한다. 이로 인해 두꺼운 흰색 혼합물이 만들어지는데 교반이 쉽지 않다. 교반된 혼합물에 물(5 mL)에 NaNO2(3.63 g, 52.6 mmol, 1.2 eq.)을 녹인 용액을 10분에 걸쳐 적가한다. 생성된 용액을 20분 동안 교반하고,이 동안 백색 침전물은 사라지고 용액은 균질하게 된다.
SO2 가스를 20분에 걸쳐 반응 용액에 버블링시킨 후, 즉시 CuCl의 수용액(4.356 g,44.0 mmol, 1.0 eq., 7 mL H2O)을 한 번에 첨가하면 격렬하게 가스가 방출된다. 생성된 용액을 천천히 실온으로 가온시키고 밤새 교반한다. 이어서, 용액을 EtOAc와 물 사이에 분배시키고, 수용액 층을 EtOAc로 추출한다. 합한 유기 용액을 포화 NH4Cl 용액으로 1회 세척한 후, 물로 여러 번 세척하고, 포화 소금물로 1회 세척하고, MgSO4로 건조시키고, 여과하고, 농축시킨다. 불순한 혼합물을 0 내지 20용량% EtOAc / 헥산을 사용하여 플래쉬 칼럼 크로마토그래피하여 화합물 6을 백색 고체로 수득한다. (11.8 g, 70%)
1H NMR (CDCl3)δ 8.84 (d, J = 1.54 Hz, 1H), 8.41 (dd, J = 0.77, 8.20 Hz, 1H), 8.13 (d, J = 8.20 Hz, 1H), 8.05 - 8.14 (m, 2H), 7.96 - 8.06 (m, 2H), 7.66 - 7.76 (m, 1H), 7.54 - 7.66 (m, 2H)
[
실시예
5]
t
-부틸-4-({[5-(
페닐술포닐
)-2-(
트리플루오로메틸
)페닐]술포닐}아미노)피페리딘-1-카르복실레이트의제조
0℃, 질소 가스 충진 하에서 CH2Cl2(25 mL) 용매에 화합물 6(3.0 g, 7.8 mmol, 1.0 당량) 및 Et3N (3.3 mL, 23.6 mmol, 3.0 eq.)의 교반된 용액에 1-Boc-4- 아미노피페리딘(1.87 g, 9.36 mmol, 1.2 eq.)을 CH2Cl2(5 mL)에 용해한 용액을 2분에 걸쳐 서서히 적가한다. 생성된 용액을 실온에서 1시간 동안 교반한 후, 포화된 NH4Cl 용액으로 세척한다. 유기 용액을 MgSO4로 건조시키고, 여과하고, 농축시킨다. 불순한 혼합물을 0 내지 30용량% EtOAc / 헥산을 사용하여 플래쉬 칼럼 크로마토그래피하여 화합물 7을 백색 고체로서 수득한다. (2.56 g, 61%)
1H NMR (DMSO-d6)δ 8.58 (d, J = 1.56 Hz, 1H), 8.55 (d, J = 7.54 Hz, 1H), 8.42 (dd, J = 1.17, 8.19 Hz, 1H), 8.24 (d, J = 8.32 Hz, 1H), 8.01 - 8.07 (m, 2H), 7.74 - 7.81 (m, 1H), 7.65 - 7.73 (m, 2H), 3.71 (d, J = 13.26 Hz, 2H), 3.14 - 3.28 (m, 1H), 2.56 - 2.77 (m, 2H), 1.47 (dd, J = 3.12, 13.00 Hz, 2H), 1.40 (s, 9H), 1.16 - 1.27 (m, 2H)
[
실시예
6]
5-(
페닐술포닐
)-N-피페리딘-4-일-2-(
트리플루오로메틸
)벤젠 술폰아미드)
염산염의제조
0℃, 질소 가스 충진 하에서 1,4-디옥산 (40 mL)에 화합물 7(3.8 g, 6.93 mmol, 1.0 eq.)을 용해 후, 용해된 반응 용액에 4N HCl 농도의 1,4-디옥산 용액 (13 mL, 52 mmol, 7.5 eq.)을 적가한다. 혼합된 용액을 실온에서 밤새 교반하고, 농축시킨다. EtOAc로 트리튜레이션하여 화합물 1을 HCl 염으로서 수득한다. (3 g, 89.3%)
1H NMR (DMSO-d6)δ 8.82 (br s, 1H), 8.68 (d, J = 1.79 Hz, 1H), 8.7 (br s, 1H), 8.42 (dd, J = 1.15, 8.33 Hz, 1H), 8.25 (d, J = 8.20 Hz, 1H), 8.02 - 8.08 (m, 2H), 7.76 - 7.83 (m, 1H), 7.67 - 7.74 (m, 2H), 3.35 - 3.48 (m, 1H), 3.11 - 3.22 (m, 2H), 2.77 - 2.90 (m, 2H), 1.57 - 1.78 (m, 4H).
Claims (6)
- a) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 염화기를 벤젠으로 치환하여 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 프리델-크래프트 반응을 통하여 얻은 알킬화 반응하여 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 얻고, 환원반응으로 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻는 단계;
b) 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 아조화, 술폰화, 그리고 염소화 반응을 통해 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻고, 상기 얻어진 화학식 6으로 표시되는 화합물을 N-보호된 피페리딘과 커플링 하여 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻는 단계; 및
c) 상기 단계 b)에서 얻어진 화학식 7로 표시되는 화합물을 염산과 반응하여탈보호된 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 얻으며.
상기 단계 a)의 프리델-크래프트 반응시, 사용되는 이탈기 공여체는 클로로 및 브로모로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고, 사용되는 촉매로는 AlCl3, FeCl3, 및 SnCl4로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며, 반응 시약인 벤젠이 용매로 직접 사용되며, 반응 온도는 30℃ 내지 90℃인 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법.
<화학식 1>
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
<화학식 6>
<화학식 7>
- 삭제
- 제 1항에 있어서,
상기 단계 a)의 환원반응 시, 사용되는 촉매는 5중량% Pd-C, 10중량% Pd-C, 및 20중량% Pd-C로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며, 용매로는 메탄올, 에탄올, 및 프로판올로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고, 반응 온도는 30℃ 내지 100℃인 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 단계 b)의 염소화 반응은 CuCl 및 CuCl2로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 염소공여체로 사용하고, 반응온도는 0℃ 내지 실온에서 8 내지 12시간에 걸쳐 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 단계 a)의 프리델-크래프트 반응시, 사용되는 촉매의 양은 화학식 2로 표시되는 화합물에 대하여 1.0당량 내지 2.0당량비로 사용되고, 환원반응 시, 사용되는 촉매의 양은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물에 대하여 0.4% 당량 내지 0.5% 당량비로 사용되고, 상기 히드라진 수화물 또한 화학식 4로 표시되는 화합물에 대하여 2.0당량 내지 3.0당량비로 사용되는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법.
- 제 4항에 있어서,
상기 염소공여체는 화학식 5로 표시되는 화합물에 대하여 1.00당량 내지 1.05당량비로 사용되는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물 디페닐술포닐술폰아미드 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190068586A KR102217147B1 (ko) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190068586A KR102217147B1 (ko) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200141718A KR20200141718A (ko) | 2020-12-21 |
KR102217147B1 true KR102217147B1 (ko) | 2021-02-18 |
Family
ID=74090482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190068586A KR102217147B1 (ko) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102217147B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114920686B (zh) * | 2022-05-20 | 2023-11-24 | 山东农业大学 | 5-(苯磺酰基)-n-哌啶-4-基-2-(三氟甲基)苯磺酰胺盐酸盐的合成方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060276464A1 (en) | 2005-05-13 | 2006-12-07 | Wyeth | Diarylsulfone sulfonamides and use thereof |
-
2019
- 2019-06-11 KR KR1020190068586A patent/KR102217147B1/ko active IP Right Grant
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J. Med. Chem. 2009, 52, 105-116. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200141718A (ko) | 2020-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106061972B (zh) | 5-氟-4-亚氨基-3-(烷基/取代烷基)-1-(芳基磺酰基)-3,4-二氢嘧啶-2(1h)-酮及其制备方法 | |
CA2582029C (en) | Aryl nitrogen-containing bicyclic compounds and methods of use | |
PT2266961E (pt) | Processo para a síntese de compostos orgânicos | |
TWI337183B (en) | An improved process for the preparation of n-([1,2,4]triazolopyrimidin-2-yl)aryl sulfonamides | |
TWI425943B (zh) | 苯并咪唑vr1抑制劑 | |
EP2915804A1 (en) | Novel amine derivative or salt thereof | |
KR102217147B1 (ko) | 피페리디닐디페닐술포닐술폰아미드의 제조방법 | |
CN102356063A (zh) | 制备6-(7-((1-氨基环丙基)甲氧基)-6-甲氧基喹啉-4-基氧基)-n-甲基-1-萘甲酰胺的方法及其合成中间体 | |
JP2004315511A (ja) | Mch受容体アンタゴニスト | |
JP2570686B2 (ja) | ピラゾ−ル誘導体 | |
CN104592116A (zh) | 1,3,5-三取代吡唑类化合物及其制备方法与应用 | |
WO2020010988A1 (zh) | 制备丙二腈肟醚类化合物的方法及中间体化合物 | |
US9440932B2 (en) | Phase-transfer catalysed formation of N-(substituted phenyl) sulfonamides in water | |
TW201307323A (zh) | N-磺醯基取代的吲哚酮之製法 | |
Rolfe et al. | Microwave-assisted sequential one-pot protocol to benzothiadiazin-3-one-1, 1-dioxides via a copper-catalyzed N-arylation strategy | |
US6645968B2 (en) | Potassium channel openers | |
TW200927743A (en) | Processes and intermediates for producing aminobenzimidazole ureas | |
TW202014415A (zh) | 賽度替尼(cerdulatinib)之合成 | |
EP3141543A1 (en) | New vortioxetine intermediate and synthesis process thereof | |
CN108675950A (zh) | 一种2-烯基吲哚类化合物的合成方法 | |
WO1998040332A1 (en) | Process for the manufacture of arylsulfonyl chloride | |
CN106831457A (zh) | 一种3‑氨基‑2‑羟基苯乙酮的新制备方法 | |
TWI564292B (zh) | For the preparation of N-substituted pyrazole compounds | |
US6703525B2 (en) | Sulfonamide intermediates and methods of producing same | |
JP2002519409A (ja) | 2−ニトロ−5−(フェニルチオ)−アニリンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right |