KR102213005B1 - Gas supply method of gas supply device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 가스공급 장치의 가스공급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply method of a gas supply device.
웨이퍼 제작과 같은 반도체 제조공정상에서 다양한 종류의 공정 가스가 각 공정 및 공정대상에 특화되어 사용되는데, 이와 같은 공정 가스를 사용하는 반도체 제조장치는 지속적인 공정 가스의 공급을 위해 별도로 마련된 가스공급 시스템과 연결된다.In semiconductor manufacturing processes such as wafer fabrication, various types of process gases are used specially for each process and process target, and semiconductor manufacturing equipment using such process gases is connected to a separately prepared gas supply system for continuous supply of process gases. do.
이와 같은 반도체 제조장치에 공정 가스를 공급하기 위한 가스공급 시스템은 단순히 하나의 저장탱크로부터 내부에 저장된 공정 가스를 일방적으로 공급하는 형태를 갖추는 것이 아니라, 최근에는 지속적으로 가스공급을 이어나가거나 만약 가스 공급을 위한 제1라인 상에 문제가 발생하였을 때를 대비한 예비적 수단으로 이중의 저장탱크를 기반으로 독립된 각각의 가스 공급 라인을 갖춘 이중 가스공급 시스템이 제시되기도 한다.The gas supply system for supplying process gas to such semiconductor manufacturing equipment does not have a form of unilaterally supplying the process gas stored inside from a single storage tank, but in recent years, it continues to supply gas or if gas As a preliminary measure in case a problem occurs on the first line for supply, a dual gas supply system with independent gas supply lines based on dual storage tanks is sometimes proposed.
이러한 이중 가스공급 시스템과 관련하여 해당 시스템 내부의 구성 또는 구조적인 기술적 발전을 통해 가스 공급에 있어서의 기능적 개선을 제공하는 방식으로 개발이 이루어지기도 하지만, 다른 측면으로는 이중 가스공급 시스템의 관리 혹은 관제와 관련한 특수한 기능성을 제공하거나 작업 효율성을 개선시키기 위한 다양한 기술적 발전이 시도되고 있기도 하다.In relation to such a dual gas supply system, development is sometimes made in a way that provides functional improvement in gas supply through the internal composition or structural technological development of the system, but in other aspects, management or control of the dual gas supply system Various technological developments have been attempted to provide special functionality related to or improve work efficiency.
하지만, 종래의 가스공급 장치의 가스공급 방법은 대기 중인 가스공급라인(L0)에서 가스가 장시간 동안 흐르지 않고 수동 밸브(MV3B)의 전단까지 채워져 있는 경우, 공정 밸브(AV3B), 수동밸브(MV3B) 및 압력 조정기(REG1B)의 시트(seat)에 화학적 반응물들이 흡착되어 내부 누수가 발생할 수 있는 문제점이 있었다.However, the gas supply method of the conventional gas supply device is when the gas does not flow in the waiting gas supply line L0 for a long time and is filled up to the front end of the manual valve MV3B, the process valve AV3B and the manual valve MV3B. And chemical reactants are adsorbed to the seat of the pressure regulator (REG1B), thereby causing internal leakage.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로써, 본 발명의 목적은 대기 중인 가스공급라인에서 가스가 장시간 동안 흐르지 않는 상태일 경우, 밸브 및 압력 조정기의 시트에 화학적 반응물들이 흡착되지 않도록 구성되어 내부 누수를 원천적으로 방지할 수 있는 가스공급 장치의 가스공급 방법을 제공하는데 있다.The present invention was created to solve the above problem, and an object of the present invention is configured so that chemical reactants are not adsorbed to the valve and the seat of the pressure regulator when the gas does not flow in the waiting gas supply line for a long time. It is to provide a gas supply method of a gas supply device that can fundamentally prevent internal leakage.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법은, 반응가스가 공급되는 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8)와, 상기 진공 밸브(AV8)와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브(AV8)를 통해 공급되는 상기 진공가스(V)에 의해 상기 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스(D)의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B)와, 상기 반응가스가 충진되는 제1실린더(A) 및 제2실린더(B)와, 상기 반응가스 및 퍼지가스(D)를 배기하는 배기 밸브(AV4A, AV4B, AV5A, AV5B), 상기 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)에 설치된 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV2B, AV3B), 수동 밸브(MV3A, MV3B), 자동 밸브(AV13AB) 및 압력 조정기(REG1A, REG1B)를 포함한 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서, 상기 제1실린더(A)에 대한 퍼지를 수행한 후, 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A단계; 상기 압력 조정기(REG1B)를 조절하는 B단계; 상기 제2실린더(B)에 대한 퍼지를 수행하는 C단계; 상기 제2실린더(B)의 밸브 셔터를 장착하고, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 대기하는 D단계; 상기 제1실린더(A)의 반응가스 공급이 중단될 경우, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 시작하는 E단계; 및 상기 제2실린더(B)의 밸브를 오픈하고, 순차적으로 공정밸브(AV2B, AV3B)를 오픈하는 F단계;를 포함한다.The gas supply method of the gas supply device according to an embodiment of the present invention includes a vacuum valve AV8 for controlling the supply of vacuum gas in the first gas supply line L1 and the second gas supply line L2 to which the reaction gas is supplied. ), the first gas supply line (L1) and the second gas supply line by the vacuum gas (V) installed between the vacuum valve (AV8) and the exhaust port, and supplied through the vacuum valve (AV8) ( A vacuum generator to vacuum L2), a plurality of purge valves (AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B) for controlling the supply of purge gas (D), and a first cylinder filled with the reaction gas ( A) and the second cylinder (B), exhaust valves (AV4A, AV4B, AV5A, AV5B) for exhausting the reaction gas and purge gas (D), the first gas supply line (L1) and the second gas supply line In the gas supply method of a gas supply device including a process valve (AV2A, AV3A, AV2B, AV3B) installed in (L2), a manual valve (MV3A, MV3B), an automatic valve (AV13AB) and a pressure regulator (REG1A, REG1B), A step of supplying a reaction gas of the first cylinder (A) after purging the first cylinder (A); Step B of adjusting the pressure regulator (REG1B); Step C of purging the second cylinder (B); D step of mounting the valve shutter of the second cylinder (B) and waiting for the supply of the reaction gas from the second cylinder (B); Step E of starting the supply of the reaction gas to the second cylinder (B) when the supply of the reaction gas to the first cylinder (A) is stopped; And a step F of opening the valve of the second cylinder B and sequentially opening the process valves AV2B and AV3B.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서, 상기 A단계는, 상기 제1실린더(A)에 대한 퍼지를 수행하는 A-1단계; 상기 제1실린더(A)의 밸브 셔터를 장착한 후, 압력 조정기(REG1B)를 닫는 A-2단계; 상기 제1실린더(A)의 밸브를 오픈하고, 공정 밸브(AV2A)를 오픈하는 A-3단계; 상기 압력 조정기(REG1A)를 조절하여 공정 밸브(AV3A)를 오픈하는 A-4단계; 및 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A-5단계;를 포함할 수 있다.In the gas supply method of the gas supply device according to an embodiment of the present invention, the step A includes step A-1 of purging the first cylinder (A); Step A-2 of closing the pressure regulator (REG1B) after mounting the valve shutter of the first cylinder (A); Step A-3 of opening the valve of the first cylinder (A) and opening the process valve (AV2A); Step A-4 of adjusting the pressure regulator (REG1A) to open the process valve (AV3A); And A-5 step of supplying the reaction gas of the first cylinder (A).
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서, 상기 B단계에서는 제2실린더(B)에 대한 퍼지를 수행하기 전에 압력 조정기(REG1B)를 조절하여 제2가스공급라인(L2)에서, 압력 조정기(REG1B)의 전단에 위치한 공정 밸브(AV2B)까지만 반응가스가 채워질 수 있다.In the gas supply method of the gas supply device according to the embodiment of the present invention, in the step B, the pressure regulator REG1B is adjusted before purging the second cylinder B to provide the second gas supply line L2. In, the reaction gas may be filled only up to the process valve AV2B located at the front end of the pressure regulator REG1B.
본 발명은 대기 중인 가스공급라인에서 가스가 장시간 동안 흐르지 않는 상태일 경우, 밸브 및 압력 조정기의 시트에 화학적 반응물들이 흡착되지 않도록 구성되어 내부 누수를 원천적으로 방지할 수 있다.The present invention is configured so that chemical reactants are not adsorbed to the valve and the seat of the pressure regulator when the gas does not flow for a long time in the gas supply line in the atmosphere, so that internal leakage can be fundamentally prevented.
본 발명은 종래의 제2실린더(200)를 통해 배출되는 가스를 공정 챔버(A)에 공급하기 위해 사용되던 공정 밸브(AV2B, AV3B) 및 압력 조정기(REG1B)가 필요 없게 되어 이 장비들을 운영하기 위한 비용을 절감할 수 있으므로, 작업성을 더욱 높일 수 있게 된다.The present invention eliminates the need for process valves (AV2B, AV3B) and pressure regulators (REG1B), which were used to supply the gas discharged through the conventional second cylinder 200 to the process chamber A, so that these equipment can be operated. Since the cost for this can be reduced, it is possible to further increase the workability.
도1은 종래의 가스공급 장치의 가스공급 상태를 도시한 것이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 상태를 도시한 것이다.
도3은 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법을 도시한 것이다.1 shows a gas supply state of a conventional gas supply device.
2 shows a gas supply state of a gas supply device according to an embodiment of the present invention.
3 shows a gas supply method of a gas supply device according to an embodiment of the present invention.
이하, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서의 설명 과정에서 이용되는 숫자는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다.Hereinafter, when it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof will be omitted. In addition, numbers used in the description process of the present specification are merely identification symbols for distinguishing one component from another component.
또한, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.In addition, the terms used in this specification and claims should not be construed as limited in a dictionary meaning, and based on the principle that the inventor can properly define the concept of terms in order to describe his invention in the best way, It should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Accordingly, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only preferred embodiments of the present invention, and do not represent all the technical ideas of the present invention, and various equivalents that can replace them at the time of the present application It should be understood that water and variations may exist.
본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 더 구체적으로 설명하되, 이미 주지되어진 기술적 부분에 대해서는 설명의 간결함을 위해 생략하거나 압축하기로 한다.A preferred embodiment of the present invention will be described in more detail, but technical parts that are already well known will be omitted or compressed for conciseness of description.
본 발명은 반응가스가 공급되는 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8)와, 상기 진공 밸브(AV8)와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브(AV8)를 통해 공급되는 상기 진공가스(V)에 의해 상기 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스(D)의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B)와, 상기 반응가스가 충진되는 제1실린더(A) 및 제2실린더(B)와, 상기 반응가스 및 퍼지가스(D)를 배기하는 배기 밸브(AV4A, AV4B, AV5A, AV5B), 상기 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)에 설치된 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV2B, AV3B), 수동 밸브(MV3A, MV3B), 자동 밸브(AV13AB) 및 압력 조정기(REG1A, REG1B)를 포함한 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서,The present invention relates to a vacuum valve (AV8) for controlling the supply of vacuum gas in the first gas supply line (L1) and the second gas supply line (L2) to which the reaction gas is supplied, and between the vacuum valve (AV8) and the exhaust port. A vacuum generator that is installed and makes the first gas supply line (L1) and the second gas supply line (L2) in a vacuum state by the vacuum gas (V) supplied through the vacuum valve (AV8), and a purge gas (D) a plurality of purge valves (AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B) for controlling the supply, a first cylinder (A) and a second cylinder (B) filled with the reaction gas, and the reaction Exhaust valves (AV4A, AV4B, AV5A, AV5B) to exhaust gas and purge gas (D), process valves (AV2A, AV3A, AV2B) installed in the first gas supply line (L1) and the second gas supply line (L2) , AV3B), a manual valve (MV3A, MV3B), an automatic valve (AV13AB), and a gas supply method of a gas supply device including a pressure regulator (REG1A, REG1B),
상기 제1실린더(A)에 대한 퍼지를 수행한 후, 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A단계; 상기 압력 조정기(REG1B)를 조절하는 B단계; 상기 제2실린더(B)에 대한 퍼지를 수행하는 C단계; 상기 제2실린더(B)의 밸브 셔터를 장착하고, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 대기하는 D단계; 상기 제1실린더(A)의 반응가스 공급이 중단될 경우, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 시작하는 E단계; 및 상기 제2실린더(B)의 밸브를 오픈하고, 순차적으로 공정밸브(AV2B, AV3B)를 오픈하는 F단계;를 포함한다.A step of supplying a reaction gas of the first cylinder (A) after purging the first cylinder (A); Step B of adjusting the pressure regulator (REG1B); Step C of purging the second cylinder (B); D step of mounting the valve shutter of the second cylinder (B) and waiting for the supply of the reaction gas from the second cylinder (B); Step E of starting the supply of the reaction gas to the second cylinder (B) when the supply of the reaction gas to the first cylinder (A) is stopped; And a step F of opening the valve of the second cylinder B and sequentially opening the process valves AV2B and AV3B.
즉, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법은 상기한 A단계 내지 F단계가 순차적으로 이루어질 수 있다.That is, in the gas supply method of the gas supply device according to an embodiment of the present invention, steps A to F described above may be sequentially performed.
먼저, 반도체 웨이퍼 생산 공정으로 주로 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착), 사진(photo), 식각(etching) 등의 공정이 있다. 이러한 공정을 수행하기 위해서는 공정 챔버 내에 Cl2 및 HCl 등의 부식성이 강한 액화성 반응가스가 투입되어야만 한다. 이 반응가스는 실린더라 불리는 용기 내에 충진된 상태로 보관되며, 밸브의 작동에 의해 충진된 반응가스가 항상 일정한 압력으로 공정 챔버 내에 공급되거나 차단된다.First, as a semiconductor wafer production process, there are mainly processes such as CVD (Chemical Vapor Deposition), photo, and etching. In order to perform this process, a highly corrosive liquefied reaction gas such as Cl 2 and HCl must be introduced into the process chamber. This reaction gas is stored in a state of being filled in a container called a cylinder, and the filled reaction gas is always supplied or shut off into the process chamber at a constant pressure by the operation of the valve.
실린더에 충진된 반응가스를 계속 사용함에 따라 실린더 내에 충진된 반응가스의 양이 일정량 이하로 되면, 반도체 웨이퍼 제조공정에서 요구하는 압력의 반응가스를 공급하지 못하게 되므로 새로운 실린더를 교체하여 충분한 압력의 반응가스를 공급해주어야 한다.As the reaction gas filled in the cylinder continues to be used, if the amount of reaction gas filled in the cylinder becomes less than a certain amount, the reaction gas of the pressure required in the semiconductor wafer manufacturing process cannot be supplied. Therefore, a sufficient pressure reaction by replacing a new cylinder Gas must be supplied.
반응가스가 공급되는 가스공급 장치에는 통상 한 쌍의 실린더가 설치되며, 하나의 실린더에 충진된 가스가 소진되면(또는, 반응가스의 압력이 낮아지면) 나머지 하나의 실린더에 충진된 가스를 사용하도록 밸브의 개폐상태가 제어된 후, 반응가스가 소진된 실린더를 교체하게 된다.A pair of cylinders is usually installed in the gas supply device to which the reaction gas is supplied, and when the gas filled in one cylinder is exhausted (or the pressure of the reaction gas is lowered), the gas filled in the other cylinder is used. After the opening and closing state of the valve is controlled, the cylinder in which the reaction gas is exhausted is replaced.
실린더의 교체 작업에는 가스가 공급되는 라인에 잔류하는 반응가스가 인체나 환경에 치명적인 악영향을 미치고, 잔류하는 반응가스로 인해 실린더 교체작업 중에 폭발사고 등이 발생할 우려가 있으므로, 라인의 잔류가스를 외부로 배출하는 배출과정(purge)이 수행된다.In the cylinder replacement work, the reaction gas remaining in the gas supply line has a fatal adverse effect on the human body or the environment, and there is a possibility that an explosion accident may occur during the cylinder replacement operation due to the remaining reaction gas. The purge to discharge into the furnace is performed.
도1을 참조하여 종래의 가스공급 장치의 가스공급 공정에 대해 설명하면, 다음과 같다.A gas supply process of a conventional gas supply device will be described with reference to FIG. 1 as follows.
먼저, 한 쌍의 실린더(100, 200)로부터 연결되는 라인은 동일한 구성을 갖는다. 또한, 한 쌍의 실린더(100, 200)는 어느 하나의 실린더(100)가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더(200)는 사용되지 않는다. 따라서 이하의 설명에서는 편의상 하나의 실린더(예를 들면, 100)에 대하여 설명하기로 하며, 다른 하나의 실린더(200)도 하나의 실린더(100)와 동일하게 구성되고 동작됨을 미리 밝혀둔다.First, the lines connected from the pair of cylinders 100 and 200 have the same configuration. In addition, when the pair of cylinders 100 and 200 is in use, the other cylinder 200 is not used. Therefore, in the following description, for convenience, one cylinder (for example, 100) will be described, and it will be noted in advance that the other cylinder 200 is configured and operated in the same manner as the one cylinder 100.
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 실린더(100)가 설치되며, 실린더(100)의 하부에는 실린더(100)의 하중을 측정하기 위한 저울(미도시)이 설치된다. 실린더(100)는 밸브 셔터(미도시, valve shutter)에 의해 개폐상태가 제어된다.A cylinder 100 filled with reaction gas (Cl 2 , HCl, etc.) is installed, and a scale (not shown) for measuring the load of the cylinder 100 is installed below the cylinder 100. The cylinder 100 is opened and closed by a valve shutter (not shown).
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 공정 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REG1A)는 실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(C)로 공급하도록 설치된다.A pair of process valves (AV2A, AV3A) and a pressure regulator (REG1A) installed between the process valves (AV2A, AV3A) adjusts the reaction gas discharged from the cylinder 100 to a predetermined pressure required for the process to It is installed to supply to (C).
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)는 실린더(100)를 교체하고자 하여 종래 가스공급라인(L)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(D, N2)가 공급되도록 퍼지가스(D) 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 사이에는 퍼지가스(D) 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV2A)가 설치된다.A plurality of purge valves (AV1A, AV7, AV9, AV11A) supply purge gas (D) so that purge gas (D, N2) is supplied when purging the conventional gas supply line (L) to replace the cylinder 100 It is installed in the line, and between the purge valves AV1A, AV7, AV9, and AV11A, backflow prevention valves CV1 and CV2A are installed to prevent reverse flow of the purge gas D and the reaction gas.
공정 밸브(AV2A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스(D)를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV2A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV2A)는 개방상태가 된다.An exhaust valve (AV5A) interlocked with the process valve (AV2A) is installed to exhaust the reaction gas or the purge gas (D). When the exhaust valve (AV5A) is open, the process valve (AV2A) is closed and the exhaust When the valve AV5A is in the closed state, the process valve AV2A is in the open state.
배기 밸브(AV5A)의 후단에는 종래 가스공급라인(L)을 진공시키는 진공 발생기(미도시)가 설치되는데, 진공 발생기는 진공가스(V, N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. 또한, 진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에는 진공 밸브(AV8)가 설치되어 종래 가스공급라인(L)의 진공여부를 제어한다.A vacuum generator (not shown) for vacuuming the conventional gas supply line L is installed at the rear end of the exhaust valve AV5A, and the vacuum generator is installed between the supply line of the vacuum gas V and N2 and the exhaust device. In addition, a vacuum valve AV8 is installed between the vacuum gas V supply line and the vacuum generator to control whether or not the conventional gas supply line L is vacuumed.
종래 가스공급라인(L)에는 소정 개수의 압력 측정기(PT)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT)는 종래 가스공급라인(L)의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급라인(L)에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버(C) 사이에는 수동 밸브(MV3A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버(C)에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.In the conventional gas supply line (L), a predetermined number of pressure gauges (PT) are installed in place, and the pressure gauge (PT) measures the pressure of the conventional gas supply line (L) and displays the result. In addition, a predetermined number of line filters LF1A and LF2 are installed in the gas supply line L. A manual valve (MV3A) is installed between the process valve (AV3) and the process chamber (C) to finally control the supply of the reaction gas to the process chamber (C).
퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트리클 밸브(trickle valve)로 구성하여 실린더(100)의 교체작업에서 실린더(100)측 종래 가스공급라인(L)을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.Any one of the purge valves (AV1A, AV7, AV9, AV11A) (for example, AV9) is configured as a trickle valve to supply conventional gas to the cylinder 100 in the replacement operation of the cylinder 100 Prevents air from entering through the line (L).
진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에 설치되는 밸브(AV8)는 브리드 밸브로 구성하여 배기 밸브(AV5A)로부터 배기되는 미량의 반응가스 혹은 퍼지가스(D)에 의해 진공 발생기가 부식되는 것을 방지한다.The valve (AV8) installed between the vacuum gas (V) supply line and the vacuum generator is composed of a bleed valve to prevent corrosion of the vacuum generator by a trace amount of reaction gas or purge gas (D) exhausted from the exhaust valve (AV5A). prevent.
종래의 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)가 폐쇄된 상태를 유지하며, 진공 밸브(AV8)도 폐쇄된다. 또한, 배기 밸브(AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV2A)가 개방된 상태를 유지하여 실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력 조정기(REG1A)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV3A)를 거쳐 공정 챔버(C)에 공급된다.In the conventional gas supply device, the purge valves AV1A, AV7, AV9, and AV11A remain closed during process operation, and the vacuum valve AV8 is also closed. In addition, the exhaust valve (AV5A) is closed and the process valve (AV2A) is kept open, so that the reaction gas supplied from the cylinder 100 is the process valve (AV2A), the pressure regulator (REG1A), and the process valve (AV3A). Wow, it is supplied to the process chamber C through the manual valve MV3A.
실린더(100)를 교체하기 위해 종래 가스공급라인(L)을 퍼지하는 경우에는 공정 밸브(AV2A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV5A)는 개방되며, 진공 밸브(AV8)가 개방된다.When purging the conventional gas supply line L to replace the cylinder 100, the process valve AV2A is closed, the exhaust valve AV5A is opened, and the vacuum valve AV8 is opened.
진공 밸브(AV8)가 개방되면 진공가스(V)가 진공 밸브(AV8)를 통해 진공 발생기에 공급되고, 진공 발생기가 작동하면서 종래 가스공급라인(L)을 진공상태로 만들어 배기 밸브(AV5A)를 통해 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨다.When the vacuum valve AV8 is opened, the vacuum gas V is supplied to the vacuum generator through the vacuum valve AV8, and while the vacuum generator operates, the conventional gas supply line L is brought into a vacuum state and the exhaust valve AV5A is opened. The residual reaction gas is discharged through the exhaust system.
잔류 반응가스가 배출되어 진공상태가 유지되면 퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, A11A)을 모두 개방시켜 퍼지가스(D)를 공급하고, 퍼지가스(D)가 종래 가스공급라인(L)에 채워지면서 잔류하는 반응가스(밸브 및 압력 조정기 등과 반응하면서 액상으로 된 반응가스)가 퍼지가스(D)의 압력에 의해 배기된다. 이와 같은 과정을 수회(예를 들면, 300회 이상) 반복함으로써 종래 가스공급라인(L)을 퍼지한다.When the residual reaction gas is discharged and the vacuum state is maintained, all purge valves (AV1A, AV7, AV9, A11A) are opened to supply the purge gas (D), and the purge gas (D) is supplied to the conventional gas supply line (L). Reactive gas remaining while being filled (reaction gas that becomes liquid while reacting with a valve and a pressure regulator) is exhausted by the pressure of the purge gas (D). The conventional gas supply line L is purged by repeating this process several times (eg, 300 or more times).
도2를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 상태를 설명하면 다음과 같다.A gas supply state of the gas supply device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2 as follows.
반응가스가 충진된 제2실린더(200)가 설치되며, 제1실린더(100)는 밸브 셔터(미도시, valve shutter)에 의해 개폐상태가 제어된다.A second cylinder 200 filled with a reactive gas is installed, and the first cylinder 100 is controlled in an open/close state by a valve shutter (not shown).
제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스는 공정 밸브(AV2B)를 거쳐 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급될 수 있다. 이렇게 공급된 반응가스는 제1가스공급라인(L1)과 동일한 과정을 거쳐 공정 챔버(A)에 공급될 수 있다.The reaction gas discharged through the second cylinder 200 may be supplied to the process valve AV2A installed in the first gas supply line L1 through the process valve AV2B. The reactant gas supplied in this way may be supplied to the process chamber A through the same process as the first gas supply line L1.
또한, 제1가스공급라인(L1)와 제2가스공급라인(L2)의 개별적인 가스공급이 이루어지도록 제2가스공급라인(L2)에는 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급하기 위한 자동 밸브(AV13AB)가 설치될 수 있다.In addition, the second gas supply line L2 is provided with a process valve AV2A installed in the first gas supply line L1 so that the first gas supply line L1 and the second gas supply line L2 are individually supplied with gas. An automatic valve (AV13AB) for supplying to the) side may be installed.
이에 따라, 본 발명은 제2실린더(200)를 통해 배출되는 가스를 공정 챔버(A)에 공급하기 위해 종래의 수동 밸브(MV3B)를 이용하여 수동으로 개폐작업을 해야하는 번거로운 불편한 문제점이 해결될 수 있어 작업성을 높일 수 있게 된다.Accordingly, the present invention can solve the cumbersome and inconvenient problem of having to open and close manually using a conventional manual valve (MV3B) to supply the gas discharged through the second cylinder 200 to the process chamber (A). So you can improve workability.
즉, 본 발명은 제2가스공급라인(L2)에 자동 밸브(AV13AB)를 설치하여 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)의 작동을 자동으로 제어함으로써 가스공급 장치의 가스 자동공급이 가능하게 된다.That is, in the present invention, by installing an automatic valve AV13AB in the second gas supply line L2, the operation of the first gas supply line L1 and the second gas supply line L2 is automatically controlled, Automatic gas supply becomes possible.
도3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서, 상기 A단계는, 상기 제1실린더(A)에 대한 퍼지를 수행하는 A-1단계; 상기 제1실린더(A)의 밸브 셔터를 장착한 후, 압력 조정기(REG1B)를 닫는 A-2단계; 상기 제1실린더(A)의 밸브를 오픈하고, 공정 밸브(AV2A)를 오픈하는 A-3단계; 상기 압력 조정기(REG1A)를 조절하여 공정 밸브(AV3A)를 오픈하는 A-4단계; 및 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A-5단계;를 포함할 수 있다.Referring to Figure 3, in the gas supply method of the gas supply device according to an embodiment of the present invention, the step A includes step A-1 of purging the first cylinder (A); Step A-2 of closing the pressure regulator (REG1B) after mounting the valve shutter of the first cylinder (A); Step A-3 of opening the valve of the first cylinder (A) and opening the process valve (AV2A); Step A-4 of adjusting the pressure regulator (REG1A) to open the process valve (AV3A); And A-5 step of supplying the reaction gas of the first cylinder (A).
또한, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 방법에 있어서, 상기 B단계에서는 제2실린더(B)에 대한 퍼지를 수행하기 전에 압력 조정기(REG1B)를 조절하여 제2가스공급라인(L2)에서, 압력 조정기(REG1B)의 전단에 위치한 공정 밸브(AV2B)까지만 반응가스가 채워질 수 있다.In addition, in the gas supply method of the gas supply device according to the embodiment of the present invention, in the step B, before purging the second cylinder B, the pressure regulator REG1B is adjusted to control the second gas supply line ( In L2), the reaction gas can be filled only up to the process valve AV2B located at the front end of the pressure regulator REG1B.
따라서, 본 발명은 제2가스공급라인(L2)에서, 압력 조정기(REG1B)의 전단에 위치한 공정 밸브(AV2B)까지만 반응가스가 채워지기 때문에 공정 밸브(AV3B), 수동밸브(MV3B) 및 압력 조정기(REG1B)의 시트(seat)에 화학적 반응물들이 흡착되는 것을 방지할 수 있어 내부 누수를 원천적으로 방지할 수 있는 것이다.Accordingly, in the present invention, since the reaction gas is filled only from the second gas supply line L2 to the process valve AV2B located at the front end of the pressure regulator REG1B, the process valve AV3B, the manual valve MV3B, and the pressure regulator It is possible to prevent the adsorption of chemical reactants to the seat of (REG1B), thereby preventing internal leakage.
또한, 본 발명은 종래의 제2실린더(200)를 통해 배출되는 가스를 공정 챔버(A)에 공급하기 위해 사용되던 공정 밸브(AV2B, AV3B) 및 압력 조정기(REG1B)가 필요 없게 되어 이 장비들을 운영하기 위한 비용을 절감할 수 있으므로, 작업성을 더욱 높일 수 있게 된다.In addition, the present invention eliminates the need for process valves (AV2B, AV3B) and pressure regulators (REG1B) that were used to supply the gas discharged through the conventional second cylinder 200 to the process chamber (A). Since operating costs can be reduced, workability can be further improved.
아울러, 상기 A단계는, 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A-5단계 전에 A-3단계의 공정 밸브(AV2A)와 A-4단계의 공정 밸브(AV3A) 밸브의 온 또는 오프 상태를 감지하는 밸브 감지유닛과, 제2가스공급라인(L2)에서, 공정 밸브(AV2B)까지만 반응가스가 채워졌는지의 여부를 감지하는 제1가스 감지유닛의 감지 정보를 제1정보 출력부를 통해 확인하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 밸브 감지유닛과 제1가스 감지유닛의 감지 정보를 확인하여 A-5단계에서 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 과정이 원활하게 이루어질 수 있게 된다.In addition, in step A, before step A-5 of supplying the reaction gas of the first cylinder (A), the process valve (AV2A) of step A-3 and the process valve (AV3A) of step A-4 are turned on or The first information output unit transmits detection information of the valve detection unit detecting the off state and the first gas detection unit detecting whether the reaction gas is filled only up to the process valve AV2B in the second gas supply line L2. It may further include the step of checking through. Accordingly, the process of supplying the reaction gas of the first cylinder A in step A-5 by checking the detection information of the valve detection unit and the first gas detection unit can be performed smoothly.
또한, 상기 E단계는, 상기 제1실린더(A)의 반응가스 공급 상태를 감지하는 제1실린더 감지유닛의 감지정보를 제2정보 출력부를 통해 확인하는 E-1단계와, 상기 E-1단계를 통해 제1실린더(A)의 반응가스 공급이 중단되었다는 감지정보를 제2정보 출력부를 통해 확인할 경우, 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 시작하는 E-2단계를 포함할 수 있다.In addition, the step E includes step E-1 of checking the detection information of the first cylinder detection unit for detecting the reaction gas supply state of the first cylinder (A) through a second information output unit, and the step E-1. When the detection information that the supply of the reaction gas of the first cylinder A has been stopped is confirmed through the second information output unit, step E-2 of starting the supply of the reaction gas of the second cylinder B may be included.
이에 따라, 본 발명은 제1실린더(A)의 반응가스 공급 상태를 명확하게 확인한 뒤에, 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 시작하기 때문에 가스공급 장치의 오작동을 방지할 수 있어 작업성을 높일 수 있게 된다.Accordingly, in the present invention, since the reaction gas supply of the second cylinder B is started after clearly confirming the reaction gas supply state of the first cylinder (A), malfunction of the gas supply device can be prevented. You can increase it.
상술한 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다.As described above, the specific description of the present invention has been made by examples, but since the above-described embodiments have been only described with reference to preferred examples of the present invention, it is understood that the present invention is limited to the above embodiments. It should not be construed, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and equivalent concepts.
100, 200 : 실린더
AV8 : 진공 밸브
AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B : 퍼지 밸브
AV4A, AV4B, AV5A, AV5B : 배기 밸브
CV1, CV2A, CV2B : 역류방지 밸브
AV2A, AV3A, AV2B, AV3B : 공정 밸브
AV5A, AV5B : 배기 밸브
MV3A, MV3B : 수동 밸브
AV13AB : 자동 밸브
L, L0 : 종래 가스공급라인
L1 : 제1가스공급라인
L2 : 제2가스공급라인
REG1A, REG1B : 압력 조정기
PT : 압력 측정기
LF1A, LF1B, LF2 : 필터
D : 퍼지가스
V : 진공가스
C : 공정 챔버100, 200: cylinder
AV8: vacuum valve
AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B: Purge valve
AV4A, AV4B, AV5A, AV5B: Exhaust valve
CV1, CV2A, CV2B: non-return valve
AV2A, AV3A, AV2B, AV3B: Process valve
AV5A, AV5B: Exhaust valve
MV3A, MV3B: Manual valve
AV13AB: Automatic valve
L, L0: conventional gas supply line
L1: 1st gas supply line
L2: 2nd gas supply line
REG1A, REG1B: Pressure regulator
PT: pressure meter
LF1A, LF1B, LF2: Filter
D: purge gas
V: vacuum gas
C: process chamber
Claims (3)
상기 제1실린더(A)가 연결된 제1가스공급라인(L1)의 퍼지를 수행한 후, 상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A단계;
상기 압력 조정기(REG1B)를 조절하는 B단계;
상기 제2실린더(B)가 연결된 제2가스공급라인(L2)의 퍼지를 수행하는 C단계;
상기 제2실린더(B)의 밸브 셔터를 장착하고, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 대기하는 D단계;
상기 제1실린더(A)의 반응가스 공급이 중단될 경우, 상기 제2실린더(B)의 반응가스 공급을 시작하는 E단계; 및
상기 제2실린더(B)의 밸브를 오픈하고, 순차적으로 공정밸브(AV2B, AV3B)를 오픈하는 F단계;를 포함하며,
상기 A단계는,
상기 제1실린더(A)가 연결된 제1가스공급라인(L1)의 퍼지를 수행하는 A-1단계;
상기 제1실린더(A)의 밸브 셔터를 장착한 후, 압력 조정기(REG1B)를 닫는 A-2단계;
상기 제1실린더(A)의 밸브를 오픈하고, 공정 밸브(AV2A)를 오픈하는 A-3단계;
상기 압력 조정기(REG1A)를 조절하여 공정 밸브(AV3A)를 오픈하는 A-4단계; 및
상기 제1실린더(A)의 반응가스를 공급하는 A-5단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는
가스공급 장치의 가스공급 방법.
In the first gas supply line (L1) and the second gas supply line (L2) to which the reaction gas is supplied, a vacuum valve (AV8) for controlling the supply of vacuum gas, and the vacuum valve (AV8) is installed between the exhaust port , A vacuum generator that makes the first gas supply line (L1) and the second gas supply line (L2) into a vacuum state through the vacuum gas (V, N 2 ) supplied by the vacuum valve (AV8), and purge A plurality of purge valves (AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B) for controlling the supply of gas (D), a first cylinder (A) and a second cylinder (B) filled with the reaction gas, and the Exhaust valves (AV4A, AV4B, AV5A, AV5B) for exhausting reaction gas and purge gas (D), process valves (AV2A, AV3A, AV2A, AV3A, installed in the first gas supply line L1 and the second gas supply line L2) In the gas supply method of a gas supply device including AV2B, AV3B), manual valves (MV3A, MV3B), automatic valves (AV13AB) and pressure regulators (REG1A, REG1B),
A step of supplying the reaction gas of the first cylinder (A) after purging the first gas supply line (L1) to which the first cylinder (A) is connected;
Step B of adjusting the pressure regulator (REG1B);
Step C of purging the second gas supply line L2 to which the second cylinder B is connected;
D step of mounting the valve shutter of the second cylinder (B) and waiting for the supply of the reaction gas from the second cylinder (B);
Step E of starting the supply of the reaction gas to the second cylinder (B) when the supply of the reaction gas to the first cylinder (A) is stopped; And
F step of opening the valve of the second cylinder (B) and sequentially opening the process valves (AV2B, AV3B); includes,
The step A,
Step A-1 of purging the first gas supply line (L1) to which the first cylinder (A) is connected;
Step A-2 of closing the pressure regulator (REG1B) after mounting the valve shutter of the first cylinder (A);
Step A-3 of opening the valve of the first cylinder (A) and opening the process valve (AV2A);
Step A-4 of adjusting the pressure regulator (REG1A) to open the process valve (AV3A); And
Characterized in that it comprises a; step A-5 of supplying the reaction gas of the first cylinder (A)
Gas supply method of gas supply device.
상기 B단계에서는 제2실린더(B)가 연결된 제2가스공급라인(L2)에 대한 퍼지를 수행하기 전에 압력 조정기(REG1B)를 조절하여 제2가스공급라인(L2)에서, 압력 조정기(REG1B)의 전단에 위치한 공정 밸브(AV2B)까지만 반응가스가 채워지는 것을 특징으로 하는
가스공급 장치의 가스공급 방법.The method of claim 1,
In step B, before purging the second gas supply line L2 to which the second cylinder B is connected, the pressure regulator REG1B is adjusted so that in the second gas supply line L2, the pressure regulator REG1B. Characterized in that the reaction gas is filled only up to the process valve (AV2B) located at the front end of
Gas supply method of gas supply device.
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