KR101932055B1 - Purge system for gas supply equipment - Google Patents
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Abstract
본 발명의 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템은, 반응가스가 공급되는 가스공급 라인에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브와, 상기 진공밸브와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브를 통해 공급되는 상기 진공가스에 의해 상기 가스공급라인을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브와, 상기 반응가스가 충진되는 실린더와, 상기 실린더에 연결되고, 상기 복수의 퍼지 밸브에 연결되어 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스를 배기하는 배기밸브와, 상기 배기 밸브와 상기 진공 발생기 사이에 설치되고, 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스의 배기를 제어하는 배기제어 밸브를 포함한 가스공급 장치의 퍼지 시스템시스템서, 상기 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인는 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급되는 저압퍼지라인과; 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 고압의 퍼지가스가 공급되는 고압퍼지라인;으로 구성되어 있고, 상기 저압퍼지라인과 고압퍼지라인에는 각각 역류방지밸브 및 퍼지밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의해, 기존과 같이 저압의 퍼지 가스가 공급되는 라인에 더하여 고압의 퍼지 가스가 공급되는 라인을 추가하여 선택적으로 저압 가스를 이용한 퍼지 및 고압 가스를 이용한 퍼지가 가능하게 하여 고압의 가스를 통해 불순물을 용이하게 제거하고 부식이 덜 발생할 수 있고 퍼지라인의 후단에 퍼지가스를 가열하는 히터가 설치됨으로써 단순 고압 가스로의 퍼지만 가능한 게 아니라 고온의 퍼지 가스를 제공하여 가스배관이나 밸브에 달라붙은 불순물의 제거 및 배관 내 수분 제거가 용이해질 수 있게 되며, 부식성 가스와 수분의 반응을 억제하고, 더불어 퍼지라인의 후단에는 진공발생기가 설치됨으로써 선택적으로 상압 및 진공 퍼지가 가능하게 하여 퍼지 효과를 극대화시킬 수 있게 된다.A purge system of a gas supply apparatus capable of high-pressure, high-temperature purge according to the present invention comprises a vacuum valve for controlling supply of a vacuum gas in a gas supply line to which a reaction gas is supplied, A plurality of purge valves for controlling the supply of the purge gas; a cylinder to which the reaction gas is charged; and a control unit connected to the cylinder, An exhaust valve connected to the plurality of purge valves for exhausting the reaction gas and the purge gas and an exhaust control valve provided between the exhaust valve and the vacuum generator for controlling exhaust of the reaction gas and the purge gas In the purge system of the gas supply system, the purge line to which the purge gas is supplied has a gas supply line Results and, the other side a low pressure purge of the low pressure purge gas line which is supplied with; Pressure purge line and a high-pressure purge line are respectively connected to a gas supply line and a high-pressure purge line to which high-pressure purge gas is supplied, and a reverse-flow prevention valve and a purge valve are provided in the low-pressure purge line and the high- do.
According to the present invention, it is possible to add a line to which a high-pressure purge gas is supplied in addition to a line to which a low-pressure purge gas is supplied as in the conventional method, and to selectively purge using low-pressure gas and purge using high- A heater for heating the purge gas is provided at the rear end of the purge line so as to remove impurities easily and to cause less corrosion, thereby not only purging the high pressure gas path but also providing a high temperature purge gas, The removal of impurities and the removal of water in the piping can be facilitated and the reaction of corrosive gas and moisture can be suppressed and a vacuum generator can be installed at the rear end of the purge line to selectively purge atmospheric pressure and vacuum, .
Description
본 발명은 반도체 제조 장비에 가스를 공급하는 가스 공급 라인을 퍼지할 수 있는 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 관한 것으로, 특히 선택적으로 고온 고압의 퍼지가스를 활용하여 부식성 가스 공급장비의 라인 불순물을 제거하고 부식을 저감시킬 수 있도록 한, 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
반도체 웨이퍼 생산 공정으로 주로 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착), 사진(photo), 식각(etching) 등의 공정이 있다. 이러한 공정을 수행하기 위해서는 공정 챔버 내에 Cl2 및 HCl 등의 부식성이 강한 액화성 반응가스가 투입되어야만 한다. 이 반응가스는 실린더라 불리는 용기 내에 충진된 상태로 보관되며, 밸브의 작동에 의해 충진된 반응가스가 항상 일정한 압력으로 공정 챔버 내에 공급되거나 차단된다.Semiconductor wafer production process mainly includes CVD (Chemical Vapor Deposition), photo (photo) and etching (etching). In order to perform such a process, a corrosive liquefied reaction gas such as Cl 2 and HCl must be injected into the process chamber. This reaction gas is stored in a container called a cylinder, and the reaction gas filled by the operation of the valve is always supplied to or blocked from the process chamber at a constant pressure.
실린더에 충진된 반응가스를 계속 사용함에 따라 실린더 내에 충진된 반응가스의 량이 일정량 이하로 되면, 반도체 웨이퍼 제조공정에서 요구하는 압력의 반응가스를 공급하지 못하게 되므로 새로운 실린더를 교체하여 충분한 압력의 반응가스를 공급해주어야 한다.When the amount of the reaction gas filled in the cylinder becomes less than a predetermined amount due to the continuous use of the reaction gas filled in the cylinder, it is impossible to supply the reaction gas with the pressure required in the semiconductor wafer manufacturing process. Therefore, .
반응가스가 공급되는 가스공급 장치에는 통상 한 쌍의 실린더가 설치되며, 하나의 실린더에 충진된 가스가 소진되면(또는, 반응가스의 압력이 낮아지면) 나머지 하나의 실린더에 충진된 가스를 사용하도록 밸브의 개폐상태가 제어된 후, 반응가스가 소진된 실린더를 교체하게 된다.The gas supply device to which the reaction gas is supplied is usually provided with a pair of cylinders. When the gas filled in one cylinder is exhausted (or the pressure of the reaction gas is lowered), the gas filled in the other cylinder is used After the valve is opened and closed, the cylinder in which the reaction gas is exhausted is changed.
실린더의 교체 작업에는 가스가 공급되는 라인에 잔류하는 반응가스가 인체나 환경에 치명적인 악영향을 미치고, 잔류하는 반응가스로 인해 실린더 교체작업 중에 폭발사고 등이 발생할 우려가 있으므로, 라인의 잔류가스를 외부로 배출하는 배출과정(purge)이 반드시 수행되어야 한다.In the cylinder replacement operation, the reaction gas remaining on the gas supply line has an adverse effect on the human body and the environment, and there is a possibility that an explosion accident may occur during the cylinder replacement operation due to the residual reaction gas. The purge must be performed.
도 1을 참조하여 종래의 가스공급 장치 퍼지방식을 설명한다.The conventional gas supply device purge method will be described with reference to FIG.
먼저, 한 쌍의 실린더(100, 200)로부터 연결되는 라인은 동일한 구성을 갖는다. 또한, 한 쌍의 실린더(100,200)는 어느 하나의 실린더가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더는 사용되지 않는다. 따라서 이하의 설명에서는 편의상 하나의 실린더(예를 들면, 100)에 대하여 설명하기로 하며, 다른 하나의 실린더(200)도 하나의 실린더(100)와 동일하게 구성되고 동작됨을 미리 밝혀둔다.First, the lines connected from the pair of
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 실린더(100)가 설치되며, 실린더(100)의 하부에는 실린더(100)의 하중을 측정하기 위한 저울(WT1)이 설치된다. 실린더(100)는 밸브 셔터(valve shutter)(VSA)에 의해 개폐상태가 제어된다.A
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REGA)는 실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(도시되지 않았음)로 공급하도록 설치된다.A pair of process valves AV2A and AV3A and a pressure regulator REGA provided between the valves AV2A and AV3A adjust the reaction gas discharged from the
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9)는 실린더(100)를 교체하고자 하여 가스공급 라인(도 1의 실선 표시)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(N2)가 공급되도록 퍼지가스 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9) 사이에는 퍼지가스 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV2A)가 설치된다.A plurality of purge valves AV1A, AV7 and AV9 are installed in the purge gas supply line so as to supply the purge gas N 2 in the case of purifying the gas supply line (indicated by the solid line in FIG. 1) Respectively. Between the purge valves AV1A, AV7 and AV9, there are provided the check valves CV1 and CV2A for preventing the purge gas and the reaction gas from flowing backward.
공정 밸브(AV2A, AV3A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV4A,AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 개방상태가 된다.The exhaust valves AV4A and AV5A which are interlocked with the process valves AV2A and AV3A are installed to exhaust the reaction gas or the purge gas. When the exhaust valves AV4A and AV5A are open, the process valves AV2A and AV3A are closed When the exhaust valves AV4A and AV5A are closed, the process valves AV2A and AV3A are in the open state.
배기 밸브(AV4A, AV5A)의 후단에는 가스공급 라인을 진공시키는 진공 발생기(VG)가 설치되는데, 진공 발생기(VG)는 진공가스(N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. 또한, 진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에는 진공 밸브(AV8)가 설치되어 가스공급 라인의 진공여부를 제어한다.The exhaust valve there is a Vacuum Generator (VG) of the vacuum installation, the rear end of the gas supply lines (AV4A, AV5A), the vacuum generator (VG) is arranged between the vacuum gas (N 2) supply line and the exhaust system. Further, a vacuum valve AV8 is provided between the vacuum gas supply line and the vacuum generator VG to control the vacuum of the gas supply line.
가스공급 라인에는 소정 개수의 압력 측정기(PT1A~PT4)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT1~PT4)는 가스공급 라인의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급 라인에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버 사이에는 수동 밸브(MV1A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.A predetermined number of pressure measuring devices PT1A to PT4 are installed in the gas supply line, and the pressure measuring devices PT1 to PT4 measure the pressure of the gas supply line and display the result. A predetermined number of line filters (LF1A, LF2) are provided in the gas supply line. A manual valve MV1A is provided between the process valve AV3 and the process chamber to finally control the supply of the reactive gas to the process chamber.
퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트리클 밸브(trickle valve)로 구성하여 실린더(100)의 교체작업에서 실린더(100)측 가스공급 라인을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.One of the purge valves AV1A, AV7 and AV9 (for example, AV9) is constituted by a trickle valve and is connected to the
진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에 설치되는 밸브(AV8)는 브리드 밸브로 구성하여 배기 밸브(AV4A,AV5A)로부터 배기되는 미량의 반응가스 혹은 퍼지가스에 의해 진공 발생기(VG)가 부식되는 것을 방지한다.The valve AV8 provided between the vacuum gas supply line and the vacuum generator VG is constituted by a bleed valve and the vacuum generator VG is corroded by a small amount of reaction gas or purge gas exhausted from the exhaust valves AV4A and AV5A. .
종래의 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9)가 폐쇄된 상태를 유지하며, 진공 밸브(AV8)도 폐쇄된다. 또한, 배기 밸브(AV4A, AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV2A, AV3A)가 개방된 상태를 유지하여 실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력 조정기(REGA)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV1A)를 거쳐 공정 챔버에 공급된다.In the conventional gas supply apparatus, the purge valves AV1A, AV7 and AV9 are kept closed during the process operation, and the vacuum valve AV8 is also closed. The exhaust valves AV4A and AV5A are closed and the process valves AV2A and AV3A are kept open so that the reaction gas supplied from the
실린더(100)를 교체하기 위해 가스공급 라인을 퍼지하는 경우에는 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV4A, AV5A)는 개방되며, 진공 밸브(AV8)가 개방된다.When the gas supply line is purged to replace the
진공 밸브(AV8)가 개방되면 진공가스가 진공 밸브(AV8)를 통해 진공 발생기(VG)에 공급되고, 진공 발생기(VG)가 작동하면서 가스공급 라인을 진공상태로 만들어 배기 밸브(AV4A, AV5A)를 통해 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨다.When the vacuum valve AV8 is opened, the vacuum gas is supplied to the vacuum generator VG through the vacuum valve AV8, and the vacuum generator VG is operated to turn the gas supply line into a vacuum state so that the exhaust valves AV4A, Thereby discharging the residual reaction gas to the exhaust device.
잔류 반응가스가 배출되어 진공상태가 유지되면 퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9)을 모두 개방시켜 퍼지가스를 공급하고, 퍼지가스가 가스공급 라인에 채워지면서 잔류하는 반응가스(밸브 및 압력 조정기 등과 반응하면서 액상으로 된 반응가스)가 퍼지가스의 압력에 의해 배기된다. 이와 같은 과정을 수회(예를 들면, 300회 이상) 반복함으로써 가스공급 라인을 퍼지한다.When the residual reaction gas is discharged and the vacuum state is maintained, all the purge valves AV1A, AV7 and AV9 are opened to supply the purge gas, and the purge gas is filled in the gas supply line, The reaction gas in the liquid phase while being reacted) is exhausted by the pressure of the purge gas. The gas supply line is purged by repeating this process several times (for example, 300 times or more).
그런데, 종래의 가스공급 장치의 퍼지방식에 의하면, 배기 과정에서 반응가스와 직접 접촉되는 밸브들 즉, 퍼지밸브(AV1A) 및 배기 밸브(AV4A, AV5A)의 개폐상태를 반복함에 따라 반응가스가 밸브들에 융착되는 현상이 발생한다. 이러한 경우, 염소 계열(Cl2, HCl 등)의 부식성이 강한 반응가스로 인해 밸브들이 부식되어 밸브의 수명이 단축되는 현상이 발생하며, 반응가스에 직접 접촉되는 압력 조정기(REGA)의 경우도 동일한 이유로 수명이 단축되는 현상이 발생한다.However, according to the conventional purge method of the gas supply device, as the valves that are in direct contact with the reactive gas during the exhaust process, that is, the purge valve AV1A and the exhaust valves AV4A and AV5A are repeatedly opened and closed, There occurs a phenomenon in which they are welded to each other. In this case, the corrosion of the valves due to the corrosive reaction gas of the chlorine series (Cl 2 , HCl, etc.) shortens the service life of the valves, and in the case of the pressure regulator (REGA) The reason is that the lifetime is shortened.
또한, 종래에는 배기 과정에서 잔류하는 반응가스가 진공 발생기(VG)에 접촉되어 진공 발생기(VG)를 부식시키는 것을 방지하기 위해 진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에 트릭클 밸브(trickle valve)를 구성하였으며, 이로 인하여 밸브가 폐쇄되더라도 일정한 량의 진공가스가 항상 배기장치를 통해 배출되어야 하므로 진공가스의 손실이 발생한다.In order to prevent the reaction gas remaining in the exhaust process from contacting the vacuum generator VG and corroding the vacuum generator VG, a trickle valve VG is interposed between the vacuum gas supply line and the vacuum generator VG, Therefore, even if the valve is closed, a certain amount of vacuum gas is always discharged through the exhaust system, so that the vacuum gas is lost.
이러한 문제점을 해소하기 위하여, 도 2에 도시된 "가스공급 장치의 퍼지 시스템 및 방법"(한국 등록특허공보 제10-0863941호, 특허문헌 1)에는 진공가스 공급라인과 진공발생기(VG) 사이 및 진공가스의 공급라인에 진공밸브(AV11, AV10)을 설치함으로써 가스공급 라인의 퍼지 작업 시에 반응가스에 직접 접촉되는 밸브들을 1회 개방하고, 반응가스에 직접 접촉되지 않는 밸브의 개폐를 제어하여 퍼지 작업을 수행하여 밸브의 수명을 연장하도록 한 바 있다.In order to solve such a problem, a purge system and method of a gas supply apparatus (Korean Patent Registration No. 10-0863941, Patent Document 1) shown in FIG. 2 discloses a purge system and method of a gas supply apparatus, which is provided between a vacuum gas supply line and a vacuum generator By providing the vacuum valves AV11 and AV10 in the supply line of the vacuum gas, the valves which are in direct contact with the reactive gas during the purging operation of the gas supply line are opened once, and the opening and closing of the valve, Purge operation is performed to extend the life of the valve.
그러나, 특허문헌 1과 같이 진공밸브를 진공가스 공급 라인에 설치함에도 불구하고, 기본적으로 저압 가스가 공급되는 가스 캐비넷의 부식성으로 인한 잦은 파츠 페일(Parts fail)이 발생하고, 가스 공급의 중단 위험 및 유지 보수 비용이 증가하게 되는 문제점이 있었다.However, even though the vacuum valve is installed in the vacuum gas supply line as in
특히, 통상적으로 퍼지 가스는 저압의 질소 가스가 공급되는데 이 경우 가스 공급라인에서 불순물이 발생하고 부식이 발생하게 되는 원천적인 문제점도 있었다.In particular, the purge gas is supplied with nitrogen gas at a low pressure. In this case, impurities are generated in the gas supply line and corrosion is caused.
본 발명의 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템은 상기와 같은 종래 기술에서 발생하는 문제점을 해소하기 위한 것으로, 기존과 같이 저압의 퍼지 가스가 공급되는 라인에 더하여 고압의 퍼지 가스가 공급되는 라인을 추가하여 선택적으로 저압 가스를 이용한 퍼지 및 고압 가스를 이용한 퍼지가 가능하게 하여 고압의 가스를 통해 불순물을 용이하게 제거하고 부식이 덜 발생할 수 있게 하려는 것이다.The purge system of the gas supply device capable of high-pressure and high-temperature purge according to the present invention is intended to solve the problems of the conventional technology as described above. In the conventional purge gas purge system, Purge using a low-pressure gas and purging using a high-pressure gas, thereby easily removing impurities through a high-pressure gas and reducing the occurrence of corrosion.
또한, 퍼지라인의 후단에 퍼지가스를 가열하는 히터가 설치됨으로써 단순 고압 가스로의 퍼지만 가능한 게 아니라 고온의 퍼지 가스를 제공하여 가스배관 및 밸브에 달라붙은 불순물의 제거가 용이해질 수 있게 하려는 것이다.Further, since the heater for heating the purge gas is provided at the rear end of the purge line, not only the simple high-pressure gas path can be purged but also the high-temperature purge gas is provided to facilitate removal of impurities adhering to the gas piping and the valve.
더불어, 퍼지라인의 후단에는 진공발생기가 설치됨으로써 선택적으로 상압 및 진공 퍼지가 가능하게 하여 퍼지 효과를 극대화시킬 수 있게 하려는 것이다.In addition, since a vacuum generator is provided at the rear end of the purge line, atmospheric pressure and vacuum purging can be selectively performed, thereby maximizing the purge effect.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템은, 반응가스가 공급되는 가스공급 라인에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브와, 상기 진공밸브와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브를 통해 공급되는 상기 진공가스에 의해 상기 가스공급라인을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브와, 상기 반응가스가 충진되는 실린더와, 상기 실린더에 연결되고, 상기 복수의 퍼지 밸브에 연결되어 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스를 배기하는 배기밸브와, 상기 배기 밸브와 상기 진공 발생기 사이에 설치되고, 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스의 배기를 제어하는 배기제어 밸브를 포함한 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 있어서, 상기 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인는 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급되는 저압퍼지라인과; 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 고압의 퍼지가스가 공급되는 고압퍼지라인;으로 구성되어 있고, 상기 저압퍼지라인과 고압퍼지라인에는 각각 역류방지밸브 및 퍼지밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, a purge system of a gas supply apparatus capable of high-pressure, high-temperature purging of the present invention comprises a vacuum valve for controlling supply of a vacuum gas in a gas supply line to which a reaction gas is supplied, A plurality of purge valves provided in the vacuum chamber for controlling the supply of the purge gas, a cylinder for filling the reaction gas, An exhaust valve connected to the cylinder and connected to the plurality of purge valves for exhausting the reactive gas and the purge gas; and an exhaust valve provided between the exhaust valve and the vacuum generator, for exhausting the reactive gas and the purge gas And a purge gas supply device for purifying the purge gas, A purge line connected to the gas supply line at one side and a low pressure purge line for supplying purge gas at a low pressure to the other side; Pressure purge line and a high-pressure purge line are respectively connected to a gas supply line and a high-pressure purge line to which high-pressure purge gas is supplied, and a reverse-flow prevention valve and a purge valve are provided in the low-pressure purge line and the high- do.
이러한 구성에서, 상기 퍼지라인에는 공급되는 퍼지가스를 가열하는 히터가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In this configuration, the purge line is provided with a heater for heating the purge gas to be supplied.
보다 구체적으로, 히터가 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.More specifically, the heater is provided on a line in which the low-
또는, 히터가 저압퍼지라인(300)에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.Alternatively, a heater is provided in the low-pressure purge line (300).
또, 상기 고압퍼지라인의 후단부에는 진공발생기가 설치되어 선택적으로 진공 또는 상압 상태로 고압 퍼지가스를 이용한 퍼지가 가능한 것을 특징으로 한다.Further, a vacuum generator is provided at the rear end of the high-pressure purge line, and purging is possible by selectively using a high-pressure purge gas in a vacuum or normal pressure state.
본 발명에 의해, 기존과 같이 저압의 퍼지 가스가 공급되는 라인에 더하여 고압의 퍼지 가스가 공급되는 라인을 추가하여 선택적으로 저압 가스를 이용한 퍼지 및 고압 가스를 이용한 퍼지가 가능하게 하여 고압의 가스를 통해 불순물을 용이하게 제거하고 부식이 덜 발생할 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to add a line to which a high-pressure purge gas is supplied in addition to a line to which a low-pressure purge gas is supplied as in the conventional method, and to selectively purge using low-pressure gas and purge using high- Thereby facilitating removal of impurities and less corrosion.
또한, 퍼지라인의 후단에 퍼지가스를 가열하는 히터가 설치됨으로써 단순 고압 가스로의 퍼지만 가능한 게 아니라 고온의 퍼지 가스를 제공하여 가스배관 및 밸브에 달라붙은 불순물의 제거가 용이해질 뿐만 아니라, 가스배관 내 수분제거가 용이해져, 부식성 가스와 수분의 반응을 억제할 수 있다.Further, since the heater for heating the purge gas is provided at the rear end of the purge line, not only the simple high-pressure gas path can be purged, but also the high temperature purge gas is provided to facilitate removal of impurities attached to the gas piping and the valve, It is easy to remove moisture from the inside, and the reaction of the corrosive gas with moisture can be suppressed.
더불어, 퍼지라인의 후단에는 진공발생기가 설치됨으로써 선택적으로 상압 및 진공 퍼지가 가능하게 하여 퍼지 효과를 극대화시킬 수 있게 된다.In addition, since a vacuum generator is provided at the rear end of the purge line, atmospheric pressure and vacuum purging can be selectively performed, and the purge effect can be maximized.
도 1은 종래의 가스공급 장치의 퍼지 시스템을 나타낸 도면.
도 2는 특허문헌 1의 퍼지 시스템을 나타낸 도면.
도 3 내지 8은 본 발명의 가스공급 장치의 퍼지 시스템의 실시예를 나타낸 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 shows a conventional purge system for a gas supply device. FIG.
2 is a view showing a purge system of
Figures 3 to 8 show an embodiment of the purge system of the gas supply device of the present invention.
본 발명 퍼지 시스템은 개략적으로 반응가스가 공급되는 가스공급 라인에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브와, 상기 진공밸브와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브를 통해 공급되는 상기 진공가스에 의해 상기 가스공급라인을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브와, 상기 반응가스가 충진되는 실린더와, 상기 실린더에 연결되고, 상기 복수의 퍼지 밸브에 연결되어 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스를 배기하는 배기밸브와, 상기 배기 밸브와 상기 진공 발생기 사이에 설치되고, 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스의 배기를 제어하는 배기제어 밸브를 포함한 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 관한 것이다.
The purge system according to the present invention comprises a vacuum valve for controlling the supply of a vacuum gas in a gas supply line to which a reaction gas is supplied roughly and a purge system for purifying the purge gas by means of the vacuum gas supplied through the vacuum valve, A plurality of purge valves for controlling the supply of purge gas; a cylinder for filling the reaction gas; a plurality of purge valves connected to the plurality of purge valves, And an exhaust control valve provided between the exhaust valve and the vacuum generator for controlling the exhaust of the reactive gas and the purge gas, and a purge system of the gas supply device, .
이하에서는 구체적인 일 실시예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a specific embodiment will be described.
우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호로 표기되었음에 유의하여야 한다. 또한, 하기의 설명에서는 구체적인 회로의 구성소자 등과 같은 많은 특정사항들이 도시되어 있는데, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐 이러한 특정 사항들 없이도 본 발명이 실시될 수 있음은 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명하다 할 것이다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components in the drawings. In the following description, numerous specific details are set forth, such as specific circuit components, etc., which are provided to aid a more thorough understanding of the present invention, and that the present invention may be practiced without these specific details, To those of ordinary skill in the art. In the following description of the present invention, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
도 3 내지 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스공급 장치의 퍼지 시스템의 전체적인 구성도이다.3 to 6 are general configuration diagrams of a purge system of a gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
먼저 도 1, 2에 도시된 종래의 가스공급 장치의 구성에 비하여 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인은 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)으로 나뉘어져 있으며, 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)의 후단부는 하나로 연결된 채 가스공급 라인과 연결된다.1 and 2, the purge line to which the purge gas is supplied is divided into a low-
구체적으로, 저압퍼지라인(300)은 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급된다.Specifically, the low-
또, 고압퍼지라인(400)은 일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 도시된 가스캐비넷(410) 등에 연결되어 고압의 퍼지가스가 공급된다.The high-
가스캐비넷(410)에는 고압의 퍼지 가스 공급을 위해 고압N2공급용 가스캐비넷이 구비될 수 있다.The gas cabinet 410 may be provided with a gas cabinet for supplying high-pressure N 2 to supply a high-pressure purge gas.
각각의 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)에는 역류방지밸브(CV6) 및 퍼지밸브(AV7, AV15, AV16)가 설치되어 있다.
A check valve CV6 and purge valves AV7, AV15 and AV16 are provided in the low-
더불어, 배기 밸브들(AV4A, AV4B, AV5A, AV5B)과 진공 발생기(VG) 혹은 진공펌프 사이에 배기 제어 밸브(AV8, AV12, AV13)는 선택적으로 설치될 수도 있다.In addition, the exhaust control valves AV8, AV12, and AV13 may be selectively installed between the exhaust valves AV4A, AV4B, AV5A, and AV5B and the vacuum generator VG or the vacuum pump.
보다 구체적으로, 도 3에 도시된 본 발명은 한 쌍의 실린더(100, 200)로부터 연결되는 라인은 동일한 구성을 갖는다. More specifically, in the present invention shown in Fig. 3, the lines connected from the pair of
또한, 한 쌍의 실린더(100, 200)는 어느 하나의 실린더가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더는 사용되지 않는다.Further, when one of the
따라서 이하의 설명에서는 편의상 하나의 실린더(예를 들면, 100)에 대하여 설명하기로 하며, 다른 하나의 실린더(200)도 하나의 실린더(100)와 동일하게 구성되고 동작됨을 미리 밝혀둔다.Therefore, in the following description, one cylinder (for example, 100) will be described for the sake of convenience, and the
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 실린더(100)가 설치되며, 실린더(100)의 하부에는 실린더(100)의 하중을 측정하기 위한 저울(WT1)이 설치된다. 실린더(100)는 밸브 셔터(valve shutter)(VSA)에 의해 개폐상태가 제어된다.A
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REGA)는 실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(도시되지 않았음)로 공급하도록 설치된다.A pair of process valves AV2A and AV3A and a pressure regulator REGA provided between the valves AV2A and AV3A adjust the reaction gas discharged from the
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV11, AV7, AV15, AV16)는 실린더(100)를 교체하고자 하여 가스공급 라인(도 1의 실선 표시)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(N2)가 공급되도록 퍼지가스 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV11, AV7, AV15, AV16) 사이에는 퍼지가스 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV6)가 설치된다.A plurality of purge valve (AV1A, AV11, AV7, AV15 , AV16) the purge gas so that the purge gas (N 2) in the case of purging the (solid line shown in Fig. 1) the gas supply line and to replace a
공정 밸브(AV2A, AV3A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV4A,AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 개방상태가 된다.The exhaust valves AV4A and AV5A which are interlocked with the process valves AV2A and AV3A are installed to exhaust the reaction gas or the purge gas. When the exhaust valves AV4A and AV5A are open, the process valves AV2A and AV3A are closed When the exhaust valves AV4A and AV5A are closed, the process valves AV2A and AV3A are in the open state.
배기 밸브(AV4A, AV5A)의 후단에는 가스공급 라인을 진공시키는 진공 발생기(VG) 혹은 진공펌프가 설치되는데, 진공 발생기(VG) 혹은 진공펌프는 진공가스(N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. Between the exhaust valves the vacuum generator (VG), or the vacuum pump there is installed, a vacuum generator (VG) or vacuum pump is a vacuum gas (N 2) supply line and the exhaust system of the vacuum to the gas supply line downstream of (AV4A, AV5A) Respectively.
또한, 진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에는 진공 밸브(AV11)가 선택적으로 설치되어 가스공급 라인의 진공여부를 제어한다.Further, a vacuum valve AV11 is selectively installed between the vacuum gas supply line and the vacuum generator VG to control the vacuum of the gas supply line.
가스공급 라인에는 소정 개수의 압력 측정기(PT1A~PT4)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT1~PT4)는 가스공급라인의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급 라인에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버 사이에는 수동 밸브(MV1A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.A predetermined number of pressure measuring devices PT1A to PT4 are installed in the gas supply line, and the pressure measuring devices PT1 to PT4 measure the pressure of the gas supply line and display the result. A predetermined number of line filters (LF1A, LF2) are provided in the gas supply line. A manual valve MV1A is provided between the process valve AV3 and the process chamber to finally control the supply of the reactive gas to the process chamber.
퍼지 밸브들(AV1A, AV11, AV7, AV15, AV16) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트릭클 밸브(trickle valve)로 구성하여 실린더(100)의 교체작업에서 실린더(100)측 가스공급 라인을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.(For example, AV9) among the purge valves AV1A, AV11, AV7, AV15 and AV16 is constituted by a trickle valve, and the
진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에 설치되는 밸브(AV11)는 일반적인 에어 밸브(Air valve, 도 3에서는 "AV~"로 표기됨)로 구성하여도 무방하다. 이것은 종래의 가스공급 장치에서 진공가스 공급라인과 진공 발생기(VG) 사이에 브리드 밸브를 설치하는 것과 상이하며, 이로 인하여 브리드 밸브를 설치하지 않더라도 배기 제어 밸브(AV10)에 의해 잔류 반응가스와 진공 발생기(VG)가 직접 접촉하는 것을 방지할 수 있어, 진공 발생기(VG)의 수명이 연장된다.
The valve AV11 installed between the vacuum gas supply line and the vacuum generator VG may be constituted by a general air valve (denoted by "AV ~" in Fig. 3). This is different from a conventional gas supply apparatus in that a bleed valve is provided between a vacuum gas supply line and a vacuum generator (VG), so that even if a bleed valve is not provided, the residual reaction gas and the vacuum generator (VG) can be prevented from being in direct contact with each other, and the life of the vacuum generator (VG) is prolonged.
한편, 도 3, 4와 같이 추가 구성으로 라인상에 히터(APU)가 설치될 수 있다.On the other hand, as shown in Figs. 3 and 4, a heater (APU) may be installed on the line in a further configuration.
히터(APU)는 도 5, 6의 실시예에서는 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 설치된 예가 도시되었다. In the embodiment of FIGS. 5 and 6, the heater (APU) is installed on a line in which the low-
도 7, 8에는 저압퍼지라인(300)에 히터(APU)가 설치된 예가 도시되어 있다.7 and 8 show an example in which the low
이러한 히터(APU)는 공급되는 가스가 가열된 채 퍼지가 이루어지도록 할 수 있다.Such a heater (APU) can cause the supplied gas to be purged while being heated.
바람직하게는 도 3, 4와 같이 이루어지는 경우 선택적으로 밸브의 개폐에 따라 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400) 중 어느 하나에 고온의 퍼지 가스의 공급이 이루어질 수 있게 된다.3 and 4, the purge gas can be supplied to either the low-
또, 상기 전체 라인의 후단부에는 도 4, 6, 8에 도시된 것처럼 진공발생기(VG)가 설치되어 선택적으로 진공 또는 상압 상태로 고압 퍼지가스를 이용한 퍼지가 이루어지도록 할 수도 있다.
In addition, a vacuum generator VG may be installed at the rear end of the entire line, as shown in FIGS. 4, 6 and 8, and purge may be performed selectively using a high-pressure purge gas in a vacuum or atmospheric pressure state.
도 3은 퍼지라인에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공펌프(VT)가 설치된 실시예이다.3 shows an embodiment in which a heater (APU) is provided in the purge line and a vacuum pump (VT) is provided in the rear end of the high-pressure purge line.
도 4는 퍼지라인에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공발생기(VG)가 설치된 실시예이다.Fig. 4 shows an embodiment in which a heater (APU) is provided in the purge line and a vacuum generator (VG) is provided in the rear end of the high-pressure purge line.
도 5는 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공펌프(VT)가 설치된 실시예이다.5 shows an embodiment in which a heater (APU) is provided on a line where the low-
도 6은 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공발생기(VG)가 설치된 실시예이다.6 shows an embodiment in which a heater (APU) is installed on a line where the low-
도 7은 저압퍼지라인(300)에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공펌프(VT)가 설치된 실시예이다.7 shows an embodiment in which a heater (APU) is installed in the low-
도 8은 저압퍼지라인(300)에 히터(APU)가 설치되고, 고압퍼지라인의 후단부에 진공발생기(VG)가 설치된 실시예이다.
8 shows an embodiment in which a heater (APU) is installed in the low-
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation according to one embodiment of the present invention having the above-described configuration will now be described.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV7A, AV9)는 폐쇄된 상태를 유지한다.In the gas supply apparatus according to the embodiment of the present invention, the purge valves AV1A, AV7, AV7A and AV9 are kept closed during the process operation.
배기 제어 밸브(AV10) 및 진공 밸브(AV11)이 설치되어 있는 경우 이들 밸브 역시 폐쇄된다.When the exhaust control valve AV10 and the vacuum valve AV11 are provided, these valves are also closed.
또한, 배기 밸브(AV4A, AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV2A, AV3A)가 개방된 상태를 유지하여 실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력조정기(REGA)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV1A)를 거쳐 공정 챔버에 공급된다.The exhaust valves AV4A and AV5A are closed and the process valves AV2A and AV3A are kept open so that the reaction gas supplied from the
실린더(100)를 교체하기 위해 가스공급 라인을 퍼지하는 경우 저압퍼지라인(300)을 통한 퍼지 가스를 공급할 때에는 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV4A, AV5A)도 폐쇄된다.When the gas supply line is purged to replace the
이때, 진공 밸브(AV11)가 설치된 경우 이 밸브는 개방된다.At this time, when the vacuum valve AV11 is installed, the valve is opened.
이 경우 진공가스가 진공 발생기(VG)에 공급되고, 진공 발생기(VG)가 작동하면서 진공 밸브(AV11)와 역류방지 밸브(CV5) 및 진공 발생기(VG)로 연결되는 라인이 진공상태가 된다.In this case, the vacuum gas is supplied to the vacuum generator VG, and the vacuum generator VG operates, and the line connected to the vacuum valve AV11, the check valve CV5 and the vacuum generator VG is in a vacuum state.
이후, 배기 제어 밸브(AV10)와 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 개방되면 진공상태로 인해 가스공급 라인의 잔류 반응가스는 배기 밸브(AV4A 및 AV5A)역류방지 밸브(CV3A)배기 제어 밸브(AV10)를 통해 배기장치로 배출된다.Thereafter, when the exhaust control valve AV10 and the exhaust valves AV4A and AV5A are opened, the residual reaction gas of the gas supply line is discharged from the exhaust valves AV4A and AV5A due to the vacuum state, the backflow prevention valve CV3A, To the exhaust device.
가스공급 라인의 잔류 반응가스가 모두 배출되어 다시 진공상태가 되면, 배기 제어 밸브(AV10)가 폐쇄되고, AV1A는 개방되고, 저압퍼지라인(300)의 퍼지 밸브들(AV7, AV9)은 모두 개방된다.The exhaust control valve AV10 is closed and the AV1A is opened and the purge valves AV7 and AV9 of the low
이때, 고압퍼지라인(400)의 퍼지 밸브(AV7A)는 폐쇄되어 있다.At this time, the purge valve AV7A of the high-
따라서 퍼지가스는 저압퍼지라인(300)을 통해 가스공급 라인에 충진된다.Thus, the purge gas is filled into the gas supply line through the low-
퍼지가스가 가스공급 라인에 충분히 충진되면, 퍼지 밸브(AV7)가 폐쇄되고, 배기 제어 밸브(AV10)는 개방되어 가스공급 라인에 충진된 퍼지가스가 배기 제어 밸브(AV10)를 통해 배기장치로 배출된다.When the purge gas is sufficiently filled in the gas supply line, the purge valve AV7 is closed and the exhaust control valve AV10 is opened so that the purge gas filled in the gas supply line is exhausted to the exhaust device via the exhaust control valve AV10 do.
또한, 퍼지가스가 가스공급 라인에 충분히 충진된 후에 퍼지가스의 공급을 차단하기 위해 퍼지 밸브(AV7)를 폐쇄한다.Further, after the purge gas is sufficiently filled in the gas supply line, the purge valve AV7 is closed to shut off the supply of the purge gas.
이러한 퍼지가스 공급과정과 퍼지가스 배출과정이 수회반복 수행되어 가스공급 라인이 퍼지한다.The purge gas supply process and the purge gas discharge process are repeated several times to purge the gas supply line.
하지만, 이렇게 퍼지가스의 공급과 배출이 매우 많이 반복될 경우 결과적으로 밸브들의 수명이 단축되게 된다.However, if the purge gas is repeatedly supplied and discharged, the life of the valves will be shortened as a result.
이때, 필요에 따라 선택적으로 저압퍼지라인(300)의 퍼지 밸브(AV9, AV7)은 차단한 채 고압퍼지라인(400)이 개방되도록 하고, 가스캐비넷(410)을 통해 고압의 퍼지 가스가 고압퍼지라인(400)으로 공급되도록 할 수 있다.At this time, the high-
이 경우 퍼지 밸브(AV15)는 개방된 상태가 되어 저압의 퍼지 가스가 아닌 고압의 퍼지 가스가 공급되게 된다.In this case, the purge valve AV15 is opened, and purge gas of high pressure is supplied instead of purge gas of low pressure.
이 경우 퍼지가스의 공급과 배출 회수를 최소화할 수 있으며, 관로 내의 불순물 제거가 효과적이며, 관로의 부식을 최대한 방지할 수 있게 된다.In this case, it is possible to minimize supply and discharge of purge gas, effectively remove impurities in the conduit, and prevent corrosion of the conduit as much as possible.
더 나아가 전술한 것처럼 관로 중의 히터(APU)를 작동시키게 되면 가열된 가스의 공급을 통해 불순물 제거 효율이 더 높아지게 된다.Further, when the heater (APU) in the conduit is operated as described above, the impurity removal efficiency becomes higher through the supply of the heated gas.
또한, 관로 중의 진공 발생기(VG)를 선택적으로 작동시킴에 따라 선택적으로 상압 또는 진공상태에서의 퍼지가스의 공급 및 배출이 이루어질 수 있게 된다.In addition, by selectively operating the vacuum generator (VG) in the conduit, the purge gas can be selectively supplied and discharged in the atmospheric pressure or vacuum state.
도 3에서 진공발생기에는 진공가스가 공급되는 라인과 연결됨은 자명한 것으로 도면에서의 라인은 생략한 것으로 이해되어야 할 것이다.
In FIG. 3, it is obvious that the vacuum generator is connected to a line to which a vacuum gas is supplied. It should be understood that the line in the drawing is omitted.
이상과 같은 구성은 고온 고압의 질소 가스로 밸브나 레귤레이터의 시트에 부착된 불순물이나 파티클을 제거하여 파츠의 수명을 연장시켜 줄 수 있게 되며, 선택적으로 진공 상태에서 고온 고압의 질소 가스를 공급하여 퍼지 효과를 극대화시킬 수 있게 된다 할 것이다.The above-described structure can remove the impurities and particles attached to the seat of the valve or the regulator by the high-temperature and high-pressure nitrogen gas to prolong the life of the parts, and selectively supply nitrogen gas at high temperature and high pressure in a vacuum state, The effect will be maximized.
특히, 고온의 질소 가스를 사용한 예가 없었는데, 불활성 기체인 고온의 질소 가스를 이용한 퍼지가 이루어짐으로써 불순물 제거 효과가 보다 더 향상될 수 있게 되는 것이다.
In particular, there has been no use of a high-temperature nitrogen gas, but the impurity removal effect can be further improved by purging using a high-temperature nitrogen gas which is an inert gas.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예(들)에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예(들)에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Although the present invention has been described in detail with respect to specific embodiments thereof, it should be understood that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiment (s), but should be defined by equivalents to the appended claims, as well as the following claims.
100, 200 : 실린더
300 : 저압퍼지라인
400 : 고압퍼지라인
410 : 가스 캐비넷
AV1A, AV1B, AV7, AV11A, AV11B, AV7, AV9, AV15, AV16 : 퍼지 밸브
AV4A, AV4B, AV5A, AV5B : 배기 밸브
CV1, CV6 : 역류방지 밸브
VG : 진공 발생기
VT : 진공펌프100, 200: Cylinder
300: Low pressure purge line
400: High-pressure purge line
410: Gas cabinet
AV1A, AV1B, AV7, AV11A, AV11B, AV7, AV9, AV15 and AV16:
AV4A, AV4B, AV5A, AV5B: exhaust valve
CV1, CV6: Backflow prevention valve
VG: Vacuum generator
VT: Vacuum pump
Claims (6)
상기 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인은,
일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급되는 저압퍼지라인(300)과;
일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 고압의 퍼지가스가 공급되는 고압퍼지라인(400);으로 구성되어 있고,
상기 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)에는 각각 역류방지밸브 및 퍼지밸브가 설치되며,
상기 퍼지라인에는 공급되는 퍼지가스를 가열하는 히터(APU)가 설치되며,
상기 퍼지라인의 후단부에는 진공발생기(VG) 또는 진공펌프(VT)가 설치되어 선택적으로 진공 또는 상압 상태로 고압 퍼지가스를 이용한 퍼지가 가능한 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템.A vacuum valve for controlling the supply of the vacuum gas to the gas supply line to which the reaction gas is supplied; a vacuum valve provided between the vacuum valve and the exhaust port, for evacuating the gas supply line by the vacuum gas supplied through the vacuum valve A plurality of purge valves for controlling the supply of the purge gas; a cylinder to which the reaction gas is charged; and a cylinder connected to the cylinder, connected to the plurality of purge valves, for discharging the reaction gas and the purge gas, And an exhaust control valve provided between the exhaust valve and the vacuum generator for controlling exhaust of the reaction gas and the purge gas, the purge system comprising:
The purge line to which the purge gas is supplied,
A low-pressure purge line 300 to which one side is connected to the gas supply line and the other side to which low-pressure purge gas is supplied;
Pressure purge line 400, one side of which is connected to the gas supply line and the other side of which is supplied with purge gas of high pressure,
The low-pressure purge line 300 and the high-pressure purge line 400 are provided with a check valve and a purge valve, respectively,
The purge line is provided with a heater (APU) for heating purge gas to be supplied,
(VG) or a vacuum pump (VT) is provided at the rear end of the purge line, and purge is possible by selectively using a high-pressure purge gas in a vacuum state or an atmospheric pressure state.
Purge system of gas supply.
히터(APU)가 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 설되어 있는 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템.3. The method of claim 2,
Characterized in that the heater (APU) stands on a line where the low-pressure purge line (300) and the high-pressure purge line (400)
Purge system of gas supply.
히터(APU)가 저압퍼지라인(300)에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템.3. The method of claim 2,
Characterized in that a heater (APU) is provided in the low-pressure purge line (300)
Purge system of gas supply.
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