KR102211514B1 - 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 방법, 금형 인서트 및 사출 금형 - Google Patents

플라스틱 성형체를 제조하기 위한 방법, 금형 인서트 및 사출 금형 Download PDF

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레오나르트 쿠르츠 스티프퉁 운트 코. 카게
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Abstract

플라스틱 성형체(1)를 제조하는 방법이 개시되며, 이 방법에서는 회절면 릴리프(32)를 갖는 금형 인서트(3)가 제공되며, 상기 금형 인서트(3)는, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께 상기 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는 사출 금형(5)의 하나의 반금형에 삽입되고, 상기 금형 인서트(3)가 상기 사출 금형(5)에 삽입되어, 상기 회절면 릴리프(32)가 상기 반금형(5)에 의해 형성되는 캐비티의 표면의 일부 영역을 형성하며, 상기 플라스틱 성형체(1)는 상기 사출 금형(5)을 사용하는 사출 성형에 의해 성형된다. 또한 더 나아가, 본 발명은 이러한 방법에 대한 금형 인서트와 사출 금형, 및 이 방법에 의해 제조된 플라스틱 성형체에 관한 것이다.

Description

플라스틱 성형체를 제조하기 위한 방법, 금형 인서트 및 사출 금형{METHOD, MOULD INSERT AND INJECTION MOULD FOR PRODUCING A PLASTICS MOULDING}
본 발명은 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 방법, 금형 인서트, 홀딩 장치 및 사출 금형뿐만 아니라, 이 방법으로 제조된 플라스틱 성형체에 관한 것이다.
플라스틱제 광학 부품을 제조하기 위해 사출 금형을 사용하는 것이 알려져 있다.
예를 들면, EP 0 878 291 A1은 회절 렌즈를 제조하기 위한 사출 금형을 개시한다. 이 사출 금형은 렌즈 형상의 캐비티를 형성하는 2개의 반금형을 구비한다. 이들 반금형중 하나는 다이가 삽입될 수 있는 오목부를 갖는다. 다이는 이 반금형에 의해 형성된 캐비티의 전체 표면을 형성하고, 사출 금형 시에, 플라스틱 성형체로 성형되는 구조를, 캐비티의 대향면에 갖는다.
본 발명의 목적은, 임의의 플라스틱 성형체가 사출 성형에 의한 추가적인 광학적 효과를 가질 수 있도록 하는 방법, 금형 인서트 및 사출 금형을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은 그러한 플라스틱 성형체를 제공하는 것이다.
이 목적은, 청구항 1의 특징을 갖는 방법, 청구항 18의 특징을 갖는 금형 인서트, 청구항 24의 특징을 갖는 홀딩 장치, 청구항 27의 특징을 갖는 사출 금형, 및 청구항 31의 특징을 갖는 플라스틱 성형체에 의해 이루어진다.
플라스틱 성형체를 제조하는 방법에 있어서, 회절면 릴리프를 갖는 금형 인서트가 제공되며, 상기 금형 인서트는, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께 상기 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는 사출 금형의 하나의 반금형에 삽입된다. 상기 회절면 릴리프가 상기 반금형에 의해 형성되는 캐비티의 표면의 일부 영역을 형성하도록, 상기 금형 인서트가 상기 사출 금형에 삽입된다. 상기 플라스틱 성형체는 상기 사출 금형을 사용하는 사출 성형에 의해 성형된다.
일반적으로, 사출 금형은, 함께 캐비티를 형성하는 2개의 반금형을 갖는다. 그러나, 다중-구성 금형도 생각할 수 있다. 함께 캐비티를 형성하는 두 개 이상의 금형 부분을 갖는 경우에, 본 명세서에서는 각각의 부분들은 반금형이라고 칭한다.
상기 사출 금형의 캐비티는, 제조되는 성형체에 상보하고, 상기 플라스틱 성형체가 성형되는, 사출 금형의 캐비티를 의미한다. 예를 들면, 탕구 방안(gating system)과 같은, 사출 금형의 캐비티는, 캐비티의 구성 요소로서 인식되는 것은 아니다.
금형 인서트는 회절면 릴리프를 포함하고, 사출 금형의 하나의 반금형에 삽입가능하며, 상기 반금형은 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 상기 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 캐비티를 형성하므로, 상기 회절면 릴리프가, 상기 사출 금형의 캐비티의, 상기 반금형에 의해 형성되는, 표면의 일부 영역을 형성한다.
플라스틱 성형체를 제조하기 위한 사출 금형은, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 상기 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는, 적어도 하나의 반금형을 구비하고, 상기 반금형은, 회절면 릴리프가, 상기 반금형에 의해 형성되는, 상기 사출 금형의 캐비티의 내면의 일부 영역을 형성하도록, 상기 회절면 릴리프를 갖는 금형 인서트가 삽입가능한 수용부를 갖는다.
상기 기재된 사출 금형 및 상기 기재된 금형 인서트를 사용하는 상기 기재된 방법에 의해 제조되는, 플라스틱 성형체는, 상기 플라스틱 성형체의 표면의 일부 영역에만 걸쳐서 연장되는 회절면 릴리프를 구비한다.
상기 기재된 방식으로, 회절 광학 소자를 구비하지만 반드시 광학 부품으로 설계된 것은 아닌 플라스틱 성형체를 얻을 수 있다. 따라서, 회절면 릴리프가 덮여 있지 않은 표면의 부분 영역은 또 다른 기능을 가질 수 있는 것으로 한다. 그러므로, 회절면 릴리프는 예를 들면, 장식의 목적으로만, 위조에 대한 보호의 목적으로만, 또는 각인으로서도 사용될 수 있다. 또한, 회절면 릴리프가 덮여 있지 않은 표면의 부분 영역은 다른 광학 기능을 위해서도 사용할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 장식 회절 소자가 예를 들면, 역반사장치와 같은, 다른 비-회절 요소와 결합 될 수 있다. 마찬가지로, 사출 성형 공정시 회절면 릴리프가 덮여 있지 않은 표면의 부분 영역을 예를 들면 IMD(In Mold Decoration) 필름 또는 IML(In Mold Labeling) 라벨로 장식할 수 있고, 또는 후속 공정 단계에서 다른 방식으로 장식할 수 있고, 및/또는 기능성 코팅을 행할 수 있다. 마찬가지로, 회절면 릴리프가 덮여 있지 않은 표면의 부분 영역은, 특히, 투명하지 않은 다른 사출 성형 재료로, 다성분 사출 성형에 의해 형성될 수 있다. 마찬가지로, 회절면 릴리프가 덮여 있지 않은 표면의 부분 영역은 매우 광택성이 있고 매끄러우므로, 바람직하게는, 매우 투명하고 명확하게 투시가능하다.
회절면 릴리프가 덮여 있는 표면의 부분 영역은 표면 릴리프로 인해서 매끄럽지 않고 광택이 많지 않으므로, 예를 들면, 인접한 고광택의 매끄러운 표면에 대해서 광학적으로 대조된다. 이 대조는 어떤 실용적인 경우에 요망되고, 다른 경우에 요망되지 않을 수 있다. 요망되지 않는 경우에, 이 대조는 예를 들면, 회절면 릴리프와 인접 고광택의 매끄러운 표면 사이의 천이 영역에 의해 다소 은폐될 수 있고, 및/또는 이 천이 영역은 약간 구조화되고, 및/또는 고광택의 매끄러운 표면을 향해 감소하는, 감소 구조를 가지고 있다.
금형 인서트로서, 회절 마이크로구조 및 특히 만곡된 매크로구조의 가감 중첩에 의해 형성되는 회절면 릴리프가 형성되어 있는 금형 인서트가 바람직하게 제공된다. 매크로구조는 매크로스코픽 굴곡(macroscopic curvature)로서 형성되거나, 또는 소망에 따라서, 회절 마이크로구조가 배치되는 자유 곡면으로서 일반적으로 형성될 수 있다.
매크로구조는 바람직하게 플라스틱 성형체의 대향면에 의해 정의되는 표면 구조에 대응한다. 적어도 상기 회절면 릴리프의 평평하지 않은 영역에서, 상기 매크로구조에 의해 정의되는 상기 플라스틱 성형체의 개념상의 매크로스코픽 표면과 사출 성형체의 대향면 사이의 거리가 실질적으로 일정하며, 바람직하게, ±20% 이하, 더 바람직하게는 ±10% 이하로 변화하도록 매크로구조가 바람직하게 선택된다. 예를 들면, 2 mm 내지 3 mm 두께의 구성 요소의 경우에, 벽 두께는 0.4 mm 이하로 변화한다. 사출 성형체의 대체로 일정한 벽 두께가 얻어지므로, 모든 영역에서 충분히 양호한 안정성을 얻을 수 있다. 따라서, 약점이나 소정의 한계점이 생기지 않는다. 따라서, 사출 금형의 캐비티의 대향 벽면은, 적어도 금형 인서트의 영역에서, 실질적으로 일정하게 이격되어 있으며, 그 결과 플라스틱 성형체가 상기 기재된 방법에 의해 제조될 수 있다.
그러므로, 회절 마이크로구조가 원하는 대로 성형된 표면에 통합될 수 있다. 특히, 기존 구성 소자의 형상이 적응되거나 구체적으로 변형될 필요없이, 기존 구성 소자에 회절 구조체를 도입할 수 있다. 주지의 방법 및 사출 금형과 달리, 회절 마이크로구조를 곡면에 도입할 수 있는 특별한 장점이 있다. 따라서, 회절 마이크로구조가 구성 소자에 통합되면, 평탄하거나 또는 평평한 영역이 제공될 필요가 없다. 따라서, 회절면 릴리프를 갖는 플라스틱 성형체의 개발에 있어서 디자인상의 자유가 한정되지 않는다.
기존 사출 성형 툴의 큰 변화도 필요하지 않고, 대응하는 금형 인서트를 제공하고 삽입하는 것만이 필요하다. 이로써, 기존 컴포넌트는 나중에 회절 마이크로 구조체가 제공되면, 특히 계획 유연성이 높아지고, 전환 비용이 낮게 될 수 있다.
여기서, 마이크로 구조는, 바람직하게, 구성 소자들 및/또는 로컬 최소값 또는 최대값이 500 μm 미만, 바람직하게는, 100 μm 미만, 더 바람직하게는, 10 μm 미만의 평균 간격을 갖는 구조를 의미한다.
회절 마이크로구조는 100 lines/mm 초과, 바람직하게는, 300 lines/mm 초과, 더 바람직하게는, 800 lines/mm와 2800 lines/mm 사이의 공간 주파수를 갖는다. 이 회절 마이크로구조의 릴리프 깊이는, 바람직하게는, 50 nm와 100 μm 사이, 더 바람직하게는, 200 nm와 10 μm 사이이다.
이 회절 마이크로구조는 바람직하게는, 2D/3D 홀로그램, 키노폼(kinoform), 푸리에(Fourier) 홀로그램, 특히 광학 함수에 대응되게 계산된, 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램(CGH), 또는 1차원 또는 2차원 주기성 회절 격자, (구조 파라미터의 통계 편차를 갖는) 등방성 또는 이방성 매트 구조, 연속적인 또는 스텝의(특히, 2, 4, 또는 8스텝) 위상 기능을 갖는 비대칭 블레이즈 격자로 이루어지는 KINEGRAM® 또는 TRUSTSEAL®, 렌즈 형상의 구조, 또는 상기 기재된 구조들 중 하나 이상을 결합한 구조를 갖는다.
릴리프 파라미터, 특히, 공간 주파수와 릴리프 깊이에 대해서, 이 마이크로구조가 대략 1.5 내지 1.6의 굴절률을 갖는 바람직한 투명한 플라스틱 재료에 성형될 때, 선택적으로, 특정 광원 (LED, 레이저 포인터, 소정의 간격을 갖는 점 광원, 등)에 의해, 관찰자가 볼 수 있게 되는 광학적 가변 효과가 반사광 관찰 및/또는 투과광 관찰시 생기도록 상기 마이크로구조는 바람직하게 설계된다.
여기서, 매크로구조는, 바람직하게, 구성 소자들 및/또는 로컬 최소값 또는 최대값이 10 μm 초과, 바람직하게는, 50 μm 초과, 더 바람직하게는, 100 μm와 500 μm 사이의 범위로 서로 이격되어 있는 구조를 의미한다. 매크로구조의 릴리프 깊이는 바람직하게는 0.5 μm 초과, 더욱 바람직하게는 5 μm 초과이다.
더 바람직하게, 금형 인서트로서, 하나 이상의 굴곡으로 적어도 영역들에서 만곡되는, 자유 곡면을 나타내는 매크로구조를 갖는 금형 인서트가 제공되고, 각각의 경우에 하나 이상의 굴곡은 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100 배 및 최소 0.1 배, 바람직하게, 최대 10 배 및 최소 0.25 배, 특히 바람직하게, 최대 5 배 및 최소 0.33 배의 곡률 반경을 갖고, 각각의 경우에 하나 이상의 굴곡이, 특히, 100 mm의 측면 범위의 경우, 10,000 mm 내지 10 mm, 바람직하게 1000 mm 내지 25 mm, 특히 바람직하게 500 mm 내지 33 mm의 범위의 곡률 반경을 갖는다. 그러나, 보다 큰 곡률 반경, 즉, 더 평탄한 자유 곡면들도 가능하다. 회절면 릴리프의 로컬 매크로스코픽 굴곡은, 구성 소자의 일정한 벽 두께에 대한 필요로부터 도출된, 구성 요소의 외부 형상에 의해 실질적으로 미리 결정된다.
회절면 릴리프의 측면 범위는, 표면 릴리프의 에지 커브에 있는 두 점 사이의 가장 큰 거리, 즉, 예를 들면, 원형 표면 릴리프의 경우의 지름, 또는 직사각형 표면 릴리프의 경우의 대각선의 길이를 의미한다. 원형 또는 직사각형 형상에 추가하여, 특히, 구성 소자에 표면 릴리프를 예술적으로 뛰어나게 통합할 수 있도록, 표면 릴리프의 서로 다르게 성형된 윤곽이 또한 가능하다. 예를 들면, 표면 릴리프의 윤곽은 다각형 일 수 있거나, 연속적으로 볼록 및/또는 오목한 곡선, 특히, 수학 함수의 곡선에 의해 영역에서 구분될 수 있다.
상기 기재된 곡률 반경의 경우, 상기 회절 마이크로구조는 어려움 없이, 보정될 수 없는 원하는 회절 효과의 왜곡을 발생시키지 않고, 매크로구조와 중첩될 수 있다.
금형 인서트의 공급시, 우선, 임시 회절면 릴리프가 기판의 표면에, 특히, 평평한 금속 부분으로, 바람직하게 형성된 뒤, 기판이 금형 인서트를 형성하도록 재성형되고, 특히, 재성형 시, 이 임시 회절면 릴리프는 금형 인서트의 회절면 릴리프로 변형된다.
따라서, 곡면에 대해서 적응될 필요없이, 면 릴리프를 평평한 구성 소자에 도입하는 주지의 방법이 사용될 수 있다.
기판은 바람직하게 딥드로잉에 의해 재성형된다. 바람직하게, 딥 드로잉을 위해서, 그 경도가 상기 기판 재료의 경도보다 작은 툴이 사용된다. 이에 의해, 회절 마이크로구조가 딥 드로잉 툴에 의해 손상되지 않는 것이 보장된다.
임시 회절면 릴리프를 형성하기 위해, 우선, 임시 회절면 릴리프가 성형되는, 특히, 포토레지스트를 포함하는, 마스터 소자가 제공되고, 기판은 이 마스터 소자에 의해 성형되는 것이 유리하다.
이러한 마스터 소자가 제공되면, 곧 많은 수의 기판이 마스터 소자의 사본으로서 용이하게 생성될 수 있다. 이것은, 각각의 개별 기판에 임시 회절면 릴리프를 직접 도입하는 것에 비해 생산을 단순화한다. 특히, 포토레지스트에 마이크로 구조체를 직접 도입하는 것은 금속 기판에 마이크로 구조체를 직접 도입하는 것보다 훨씬 쉽다.
임시 회절면 릴리프는 바람직하게 레이저빔 리소그래피 또는 전자빔 리소그래피 등의 리소그래피 처리, 또는 마스크를 사용한 조명 및 UV 조명에 의해, 마스터 소자 및/또는 기판에, 대체로 방사선에 민감한 포토레지스트 층에 (이 경우에, 조사 및 후속의 현상에 의해) 도입된다. 이로 인해, 임시 회절면 릴리프를 특히 신속하고 유연하게 성형할 수 있다.
임시 회절면 릴리프는 마스터 소자 및/또는 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램(특별히 계산된) 및/또는 키노폼(특별히 계산된) 및/또는 푸리에 홀로그램(홀로그래픽으로 기록)으로서 기판에 바람직하게 도입된다.
임시 회절면 릴리프의 성형 후, 기판은 금속, 특히, 니켈의 갈바닉 증착에 의해, 마스터 소자 상에 바람직하게 제조된다. 이 임시 회절면 릴리프는 마스터 소자로부터 더 단단한 금속 기판으로 더 좋은 품질로 전송될 수 있다. 이를 위해, 마스터 소자는, 바람직하게, 전도성 광택제를 인가함으로써, 우선 도전성있게 만들어진다. 도금조에서, 이렇게 코팅된 마스터 소자에 전압을 인가함으로써 금속이 증착될 수 있다.
이렇게 증착된 기판의 층 두께는 바람직하게 0.05 mm 내지 1 mm이다. 한편, 이러한 기판은 사출 성형을 위해 금형 인서트에서 사용될 수 있을 정도로 내구성이 있지만, 다른 한편으로, 어려움 없이 딥드로잉에 의해 재성형될 수 있을 정도로 충분히 얇다.
임시 회절면 릴리프를 성형하기 위해, 보정 함수(K)가 바람직하게 확인되고, 임시 회절면 릴리프를 나타내는 함수 F2를 결정하기 위해, 얻어지는 회절 효과를 나타내는 함수 F1에 적용된다.
따라서, 예를 들면, 보정 함수(K)가, 변형시 임시 회절면 릴리프의 수정 또는 왜곡을 특징지을 수 있고, 예를 들면, 평평한 표면 프로파일의 변형시에 변형에 의해 발생되는 매크로스코픽 표면 프로파일을 정의할 수 있다.
얻어지는 회절 효과를 나타내는 함수 F1으로부터, 하나는, 이를 위해 성형되는 마이크로구조(M)가 우선 결정되고, 또한, 이 마이크로구조가 상기 보정 함수(K)에 따라서 사전 왜곡될 수 있으므로, 재성형에 의해 생기는 변형이 상쇄된다.
예를 들면, 보정 함수(K)가 대응하는 왜곡 매트릭스에 의한 평평한 면의, 변형에 의해 생기는, 수정을 나타내면, 예를 들면, F2는 다음과 같이 결정될 수 있다:
F2 = K-1 * M (F1)
또한, 이를 위해, 확인된 마이크로구조(M)가 예를 들면, 역보정함수에 의해 표시되고, 예를 들면, 변형에 의해 생긴 매끄러운 표면의 변형으로의 역성형을 나타내는 매크로구조와 증가하여 중첩될 수 있다(매크로구조).
바람직하게, 변형에 의해 생긴 광학적 효과를 나타내거나, 변형에 의해 초래된 광확적 효과를 적어도 부분적으로 상쇄시키는 데 필요한 광학적 기능을 명시하는 보정 함수(K)가 확인될 수 있다. 예를 들면, 기판이 재성형에 의해 이렇게 구형으로 변형되면, 보정 함수(K)는 예를 들면, 대응하는 구형 렌즈 또는 반전된 구면 렌즈의 광학적 기능을 설명할 수 있다.
바람직하게, 보정 함수(K)는, 재성형에 의해 상기 임시 회절면 릴리프의 나중의 변형으로 인해 상기 임시 회절면 릴리프의 상기 회절 효과의 수정을 나타내거나, 적어도 부분적으로 상쇄시킨다.
이 보정 함수(K)는 여기서 얻어지는 회절 효과를 설명하는 함수(F1)에 적용되므로, 보정 함수(K)에 의해 설명되는 광학 효과를 고려하여, F1에 따라서 얻어지는 회절효과와 임시 회절면 릴리프가 이로부터 확인되는 회절 효과가 계산된다.
예를 들면 이것은 보정 함수의 광학 기능을 산출하는 해당 렌즈/렌즈 시스템이 대상 빔 또는 참조 빔에 도입된다는 점에서, 임시 회절면 릴리프의 홀로그램 생성시에 실현될 수 있다.
따라서, 함수 F1은, 광학 효과가 완성된 플라스틱 성형체에서 발생하는 것을 설명한다. 임시 표면 구조가 함수 F1에 기초하여 기판으로 성형되어 있으면, 딥드로잉 시의 임시 표면 구조의 변형으로 인해서, 원하는 광학 효과를 완성된 플라스틱 성형체에서 얻을 수 없을 수 있지만, 예를 들면, 왜곡된 홀로그램이 표시된다. 이것은 함수 F1에 보정 함수(K)를 적용함으로써 방지된다. 따라서, 얻어진 함수 F2는 왜곡후 원하는 효과를 발생시키는 회절면 구조를 얻기 위해 임시 표면 구조가 기판에 도입되어야 하는 것을 나타낸다.
금형 인서트가 클램핑 소자에 의해 사출 금형에 고정되면 더 바람직하다. 이것은 사출 성형동안 금형 인서트가 안전하게 유지되는 것을 보장한다. 금형 인서트는 바람직하게는 모든 면에서 클램핑 소자에 의해 그립되고, 특히 넌포지티브 라킹(non-positive locking) 및/또는 포지티브 라킹(positive locking)에 의해 유지된다.
더 바람직하게, 금형 인서트가 사출 금형의 언더컷에 유지된다. 이로 인해, 넌포지티브 라킹 및/또는 포지티브 라킹에 의해 고정되며, 금형 인서트가 캐비티의 표면에 동일한 높이에서 끼워 맞춰져서 완성된 플라스틱 성형체에 스텝이 없는 장점을 가져올 수 있다.
추가적으로 또는 대안적으로, 특히 보안 유지를 보장하기 위해 금형 인서트는 또한 사출 금형에 부착될 수 있다.
금형 인서트를 고정하기 위해, 대응하는 수용부가 사출 금형에 바람직하게 설치된다. 바람직하게, 금형 인서트가 삽입될 때, 소정의 접촉 압력이 캐비티로부터 떨어져서 대향하는 금형 인서트의 측에 인가되게 하는 적어도 하나의 다이가 수용부에 설치되면 편리하다. 이에 의해, 사출 성형시, 금형 인서트가, 표면 릴리프를 변형시켜 플라스틱 성형체의 원하는 광학 특성의 손실을 초래할 수 있는 새깅(sagging)이 발생하는 것을 방지한다.
더 바람직하게, 금형 인서트가 적어도 하나의 마킹을 포함하며, 이에 의해, 금형 인서트가 사출 금형에 삽입될 때, 금형 인서트의 정확한 배향이 인식 가능하면 또한 편리하다. 금형 인서트의 배향은 또한 원하는 광학 효과의 방향을 결정한다. 광학 효과의 종류에 따라서, 정확한 배향 또는 정렬이 중요할 수 있다. 그러나, 특별한 광학 효과를 위해서, 원하는 배향이 또한 가능하다.
금형 인서트를 사출 금형에 직접 끼워맞추는 것에 대신하여, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 플라스틱 성형체를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는, 사출 금형의 하나의 반금형에 삽입가능한 금형 인서트용 홀딩 장치며, 상기 홀딩 장치에 유지된 금형 인서트의 상기 회절면 릴리프가 상기 사출 금형의 캐비티의, 반금형에 의해 형성되는, 상기 표면의 일부 영역을 형성하고, 상기 홀딩 장치는 상기 금형 인서트가 삽입되는, 특히, 원통형 베이스 몸체를 구비하는, 홀딩 장치를 제공할 수 있다. 이는 금형 인서트의 처리를 단순화하고, 특히 피팅동안 더 이상 직접 접촉할 필요가 없으므로, 손상되는 것이 방지된다.
베이스 몸체는 금형 인서트를 유지하는 적어도 하나의 언더컷 및/또는 금형 인서트를 사출 금형에 부착하기 위한 적어도 하나의 부착 플랜지를 바람직하게 갖는다. 추가적으로 또는 대안적으로, 금형 인서트를 유지하는 클램핑 소자가 또한 제공될 수 있다. 따라서, 베이스 몸체에 금형 인서트를 고정하는 것은, 상기 서술된, 금형 인서트를 사출 금형에 직접 고정하는 것에 대응한다.
홀딩 장치가 커버에 의해 밀봉될 수 있으면 더욱 유리하다. 금형 인서트가 장착될 때, 커버가 원통형 베이스 몸체의 일 단면을 밀봉하며, 다른 단면은 금형 인서트에 의해 밀봉된다. 이에 의해, 사출 금형에 용이하게 삽입될 수 있고 안정되게 유지될 수 있는 소형 장치가 얻어진다.
베이스 몸체 내부에 남아 있는 캐비티는 적절한 다이에 의해 채워질 수 있으며, 그 결과 금형 인서트가 이동에 대한 유격을 갖지 않고 사출 성형 동안 변형되지 않는다. 또한, 스탑 소자가 베이스 몸체에 설치될 수 있고, 이 소자들로 인해서 베이스 몸체가 사출 금형에 정확히 위치하여 끼워질 수 있고, 금형 인서트가 정확한 위치에 놓여지는 것을 보장하도록 금형 인서트에 대한 스탑을 형성한다.
이렇게 제조된 플라스틱 성형체가 투명 또는 불투명 플라스틱, 특히, PMMA, PET-G, ABS 또는 PC에 의해 바람직하게 형성된다.
설명된 형태의 플라스틱 성형체는 다양한 애플리케이션에 적합하다. 따라서, 플라스틱 성형체는, 예를 들면, 특히, 자동차용 조명 장치의 구성 부품일 수 있다. 예를 들면, 로고, 기호, 패턴 등의, 광학적으로 플로팅하게 나타나는 모티프가 회절면 릴리프에 의해 투영될 수 있다. 이러한 플라스틱 성형체가 백라이트 스위치 또는 다른 제어 소자에 사용될 수 있다. 여기서, 회절면 소자로 인해서, 예를 들면, 각각의 제어 소자의 기능을 나타내는, 플로팅 심볼이 표시될 수 있다.
도 1은 클램핑에 의해 사출 금형에 고정되는 금형 인서트의 실시 형태이다.
도 2는 접착 고정에 의해 사출 금형에 고정되는 금형 인서트의 실시 형태이다.
도 3은 딥 드로잉에 의한 재성형 시의 금형 인서트의 실시 형태이다.
도 4는 동작시 플라스틱 성형체의 개략 표시이다.
도 5는 금형 인서트를 구비한 다이의 개략 표시이다.
도 6은 금형 인서트의 실시 형태의 만곡 형상의 개략 표시이다.
본 발명은 실시형태와 도면을 참조하여 이하에서 예시적으로 설명한다.
회절면 릴리프(2)를 플라스틱 성형체(1)에 성형하기 위해, 금형 인서트(3)가 사출 금형(5)의 수용부(4)에 삽입된다. 이 금형 인서트(3)는, 삽입된 상태에서 상기 사출 금형의 캐비티(51)에 대향하는 표면(31) 상에, 성형되는 표면 릴리프(32)를 가진다. 사출 금형(5)의 밀봉 후, 캐비티(51)가 성형 화합물로 충진되며, 그 결과 표면 릴리프(32)가 플라스틱 성형체(1)에 성형된다.
표면 릴리프(32)는 캐비티(51)의 표면(52)의 일부 영역만을 형성한다. 즉, 플라스틱 성형체(1)의 표면(11)의 일부는 매끄럽게 남아있다.
회절면 릴리프(2)는 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램, 푸리에 홀로그램, 또는 키노폼이 가능하다. 그래서, 투과광에서, 심볼, 로고, 기호, 그림 등의 모티프의 플로팅 이미지를 생성하는 것이 가능하다. 릴리프는 바람직하게는 100 lines/mm과 3000 lines/mm사이의 공간 주파수를 가지고, 및/또는 100 nm 내지 10 μm의 릴리프 깊이를 갖는다.
도 1 및 2는 금형 인서트(3)를 사출 금형(5)에 고정하는 상이한 방식을 나타낸다. 도 1에 따른 변형 예에서, 금형 인서트(3)는 다이 슬리브(60)의 언더컷(53)에 다이(6)에 의해 넌포저티브 라킹(non-positive locking)에 의해 유지된다. 도시된 실시 예에서, 금형 인서트(3)에서, 다이 슬리브(60)의 인접면과 금형 인서트(3)상의 표면 릴리프(32) 사이에 스텝 또는 갭이 형성된다. 도 2에 따른 변형 예에서, 금형 인서트(3)가, 다이 슬리브(60)의 인접면과 같은 높이로 유리하게 끼워맞추고 포지티브 라킹됨으로써 언더컷에 의해 다이 슬리브(60)에 고정되고, 추가로 다이(6)에 부착된다. 이 언더컷에 의한 고정은, 도 1에 따른 변형 예와 달리, 플라스틱 성형체(1) 상에 스텝을 형성시키는 갭이 존재하지 않는다는 이점이 있다. 이 추가 부착으로 인해서, 금형 인서트(3)가 다이(6)에 더 단단히 고정될 수 있다. 다이(6)를 수용하는 다이 슬리브(60)가 사출 금형(5)의 수용부(4)에 삽입되어 고정되고, 바람직하게는, 나사 결합된다.
도 5는 그 위에 금형 인서트(3)가 고정된 다이(6)를 나타낸다. 다이(6)는 삽입가능하게 형성되므로, 대응되게 성형된 다이 슬리브(60)에 끼워 맞춰진다. 이를 위해, 다이(6)가 다이 슬리브(60)로 원하는 깊이까지만 들어가고, 그 반대측의 금형 인서트(3)는 다이 슬리브(60)의 인접면과 원하는 방식으로 상호 작용하도록, 다이(6)는 그 아래 측에 스톱(62)을 갖는다. 다이(6)를 다이 슬리브(60)에 또한 고정하기 위해, 다이 슬리브(60)는, 아래측에서 커버(61)로 밀봉, 특히, 나사 결합된다. 다이 슬리브(60)는 사출 금형(5)의 수용부(4)에 삽입되고, 나사 결합에 의해 고정된다. 다이 슬리브(60)는 사출 금형(5)의 수용부(4)에 원하는 깊이까지만 들어가도록 그리고 캐비티(51)에서 원하는 대로 캐비티(51)의 인접면과 상호 작용하도록 스톱(63)을 갖는다. 수용부(4)와 다이 슬리브(60) 사이, 및 다이 슬리브(60)와 다이(6) 사이의 허용 오차 또는 유격(clearance)은 바람직하게 대략 0.01 mm 내지 0.05 mm, 특히 0.02 mm 내지 0.03 mm이다.
금형 인서트(3)를 제조하기 위해, 우선, 포토레지스트 층을 갖는 평평한 마스터가 준비된다. 임시 회절면 릴리프(7)가 이 층에 각인된다. 이것은, 예를 들면, 레이저 또는 전자 빔에 의해 또는 마스크를 사용하는 조명에 의해 영향을 받을 수 있다. 이로써 약 1 μm의 상세 해상도를 얻을 수 있다. 단일 또는 다중 노출이 가능하며, 특히, 2, 4, 또는 8 스텝의 표면 프로파일을 가져올 수 있다. 포토레지스트가 현상되고, 그 결과, 임시 회절면 릴리프가 형성된다.
포토레지스트가 전도성 광택제로 코팅된다. 도금조에서, 전압이 전도성 광택제 층에 인가되고, 금속, 바람직하게는, 니켈이 마스터에 퇴적된다. 층 두께는 0.05 mm 내지 1mm이다. 이렇게 제조된 금속체도 임시 회절면 릴리프를 갖는다. 이 금속체의 카피가 다음에 갈바닉 방식으로(galvanically) 준비될 수 있다.
회절면 구조(2)를 갖는, 원하는 대로 성형된 플라스틱 성형체(1)를 제공할 수 있도록, 이 금속체는, 제조되는 플라스틱 성형체의 형상에 적합해야 한다. 도 3에 나타낸 것 같이, 이것은 딥 드로잉에 의해 얻어진다. 여기서, 원하는 형상을 얻을 때까지, 금속체가 다이(8)와 카운터홀더(9) 사이에서 변형된다. 이렇게 얻어진 금형 인서트(3)는 선택적으로 더욱 절단가능하고, 고정 소자가 설치될 수있다. 다이(8) 및 카운터홀더(9)에 대해서, 금속체보다 부드러운 재료가 사용된다. 니켈로 구성되어 있으면, 예를 들면, 강철로 형성된 딥 드로잉 툴이 사용된다. 따라서, 임시 회절면 릴리프(7)가 손상되지 않는다.
딥 드로잉의 경우, 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100 배 및 최소 0.1 배, 바람직하게, 최대 10 배 및 최소 0.25 배, 특히 바람직하게, 최대 5 배 및 최소 0.33 배의 곡률 반경을 갖는 곡면을 제조할 수 있다. 특히, 곡률 반경은 100 mm의 측면 범위의 경우, 10,000 mm 내지 10 mm, 바람직하게 1000 mm 내지 25 mm, 특히 바람직하게 500 mm 내지 33 mm의 범위에 놓여있다.
50 mm의 직경을 갖는 표면 릴리프(2)에 대해서, 예를 들면, 0.5 mm 내지 1 mm의 금형 인서트(3)의 두께의 경우에, 4.8 mm의 딥 드로잉이 얻어질 수 있고, 또는 0.5 mm의 금형 인서트(3)의 두께의 경우에, 2.4 mm의 딥 드로잉이 얻어질 수 있다. 100 mm의 표면 릴리프(2)의 직경의 경우, 0.5 mm의 금형 인서트(3)의 두께의 경우에, 예를 들면, 10 mm의 딥 드로잉이 얻어질 수 있다.
금형 인서트(3)의 개념적인 베이스면 위에 얻어진 표면의 피크의 높이(h)와 곡률 반경(r)의 관계가, 간단한 구형 재성형 기하학적 구조에 대해서 도 6에 표시되어 있다. 만곡된 영역의 측면 범위(s)의 경우에, 곡률 반경
Figure 112016040141157-pct00001
이 얻어진다.
그러므로, 100 mm의 표면 릴리프의 지름과 11 mm의 드로잉 깊이(h)의 경우, 곡률 반경은 대략 119 mm가 되고, 33 mm의 드로잉 깊이의 경우, 곡률 반경은 54 mm이 된다. 그러나, 보다 복잡한 자유 곡면의 경우에, 이 간단한 관계가 반드시 적용되는 것은 아니다.
임시 회절면 릴리프(7)가 딥 드로잉에 의해 변형되어, 그 광학 특성이 변경된다. 이것은 임시 회절면 릴리프(7)의 설계에서 고려되어야 한다. 이 때문에, 변형 뒤에 원하는 회절면 릴리프(2)를 얻을 수 있는 임시 회절면 릴리프(7)가 제조되어야 한다.
이를 얻기 위해, 원하는 회절 효과를 나타내는 함수(F1)가 먼저 확인된다. 이러한 함수는, 예를 들면, 다음과 같이 계산되고 표현될 수 있다.
컴퓨터 생성 홀로그램(Computer-Generated Hologram(CGH))을 위한 계산 방법은 점 광원 원리에 기초하며, 투영되는 요소(예를 들면, 스타)는 자기 발광 점 광원들로 나뉘어지고, 이들 점 광원의 각각에 대해서 홀로그램이 계산된다. 전체 홀로그램은 모든 개별적인 홀로그램들의 중첩에 의해 계산된다. 이렇게 얻어진 총 위상 함수는 디자인 파장 (예를 들면, 적색 LED, 파장 640 ㎚)에 대한 회절 위상 함수로 변환된다. 결과의 회절 위상 함수에 기초하는 회절면 릴리프를 제조하기 위해 사용되는 리소그래피, 예를 들면, 대략 1 μm의 결과의 "최소 피쳐 크기"를 갖는 레이저-빔 리소그래피의 방법의 해상도에 따라서, 회절면 릴리프가 포토레지스트 시스템으로 대체로 각인된다. 여기에서, "최소 피쳐 크기"는 가능한 가장 작은 구조 크기, 따라서, 가능한 최대 회절 각도 또는 가능한 최대 추가적인 초점 함수를 결정한다.
또한, 보정 함수(K)가 확인되어, 변형 동안 임시 회절면 릴리프의 변화와, 그 변형에 의해 생긴 광학적 효과를 특징짓는다.
간단한 구형 굴곡 형상의 금형 인서트(3)의 경우에, 예를 들면, 대응하는 역으로 성형된 구형 굴곡 형상의 형태의 보정 함수(K)가 얻어진다.
금형 인서트(3)의 굴곡 형상에 대해서 역으로 형성된 보정 위상 함수를 고려하도록 보정 함수(K)가 CGH에 의한 총 회절 위상 함수의 계산에 적용된다.
금형 인서트(3)의 굴곡의 대칭과 회절면 릴리프(2)에 의해 표현되는 모티프의 대칭이 일치하면, 보정이 특히 간단하다. 예를 들면, 대칭의 2개의 중심들은 하나가 다른 것 위에 놓여지도록, 금형 인서트(3)의 회전 대칭인 모티프 및 대응하는 유사 회전 대칭인 굴곡이 중첩될 수 있다. 구체적인 예는 구형 섹터 형태의 굴곡과 스타 형태의 모티프이다. 구형 섹터의 중심과 스타의 중심은 바람직하게 하나가 다른 것 위에 놓여진다. 따라서, 추가된 굴곡로 인해 생긴 스타의 왜곡은 광학적으로 크게 문제가 없고, 광학 효과에 아주 조금 영향을 주거나 손상을 준다. 다른 특정 경우에, 굴곡 및 모티브의 대칭성을 분석함으로써, 굴곡이 원하는 광학 효과를 약간만 방해하는 유사한 해결책을 발견할 수 있다.
왜곡의 보정에 있어서 중요한 변수는 특히, 회절면 릴리프(2)의 곡률 반경(R), 회절면 릴리프(2)의 측면 범위(Ld), 투과시 투영된 강도 패턴의 측면 범위(Li), 및 광원의 발산각이다. 실용적으로 관련된 경우에, Ld는 대략 Li에 대응한다고 가정할 수 있다. Ld/R <= 2의 범위 내에서, 어려움없이 보정이 가능하다.
보정 함수(K)를 함수(F1)에 적용함으로써, 임시 회절면 릴리프(7)를 표현하는 또 다른 함수(F2)를 계산할 수 있다. 이렇게 계산된 임시 회절면 릴리프(7)가 금속체에 도입되면, 원하는 회절 효과를 나타내는 회절면 릴리프(2)가 완성된 금형 인서트(3) 및 플라스틱 성형체(1)에서 얻어진다.
표면 릴리프(2, 7)의 계산에 있어서, 플라스틱 성형체(1)의 원하는 의도된 사용을 위해서 중요한 또 다른 파라미터가 또한 고려될 수 있다. 플라스틱 성형체가 예를 들면 조명 장치에 부착되며, 그 결과 광학 플로팅 심볼이 투과된 광에 생기면, 관찰 거리, 관찰각, 광원으로부터의 거리, 광원의 발산각 및 나머지 집속 광학 부품이 여기에서 또한 고려될 수 있다. 그 자신의 집속 기능이 회절면 릴리프(7)에 계산적으로 통합될 수 있다. 통합된 집속 기능과 외부의 광학 부품에 의한 부분 집속의 조합에 의해 특히 양호한 결과가 얻어진다. 광원의 발산각(반각)은 5° 내지 60°의 범위에 있어야한다.
금형 인서트(3)가 기재된 방법으로 제조되어 사출 금형에 삽입된 후, 플라스틱 성형체(1)가 사출 성형에 의해 제조될 수 있다. 회절 효과를 투과광에서 볼 수 있으면, 예를 들면, PMMA(투과율 92%), PET-G(투과율 91%), ABS(투과율 85%), 또는 PC(투과율 88 %) 등의 투명 플라스틱이 사용되어야 한다. 그러나, 반사광에서 관찰될 수 있고, 불투명 또는 반투명 플라스틱과 사용가능하거나 또는 삽입-성형 방법에서 사용가능한 표면 구조를 도입하는 것도 가능하다. 회절면 릴리프의 구조 깊이가 반사 소자 보다 투과 소자에 대해서 몇 배 더 커야 하는 것을 명심해야한다. 예를 들면, 투과 소자에 대해서 회절면 릴리프의 구조 깊이는 대략 0.5 μm 내지 3 μm이고, 반사 소자에 대해서 회절면 릴리프의 구조 깊이는 대략 0.1 μm 내지 0.5 μm이다. 또한, 회절면 릴리프의 광학 효과의 가시성과 휘도를 증가시키기 위해서, 이러한 불투명 플라스틱은 반사 향상 층을 유리하게 포함할 수 있다.
800 bar 내지 2000 bar의 압력과 220℃와 320℃ 사이의 온도가 사출 성형 시에 일반적으로 발생한다. 상기 기재된 금형 인서트(3)는 어려움없이 이러한 조건을 견딜 수 있다. 최대, 대략 10,000 내지 50,000개의 성형 작업 후에, 특히, 또한 요구되는, 사출 성형 툴의 통상의 유지 보수의 프레임작업에서, 바꾸는 것이 필요하다.
금형 인서트(3)를 사용하는 것이 성형 작업의 주기 시간에 불리한 영향을 미치지 않는다. 사출 성형 재료의 냉각 시간이 그 크기, 특히 무엇보다도 벽두께에 의해 결정되기 때문에, 이것은 플라스틱 성형체(1)의 벽두께뿐 아니라 형상과 크기에 주로 의존한다. 사출 동작의 주기 시간은 보통 5 초와 180 초 사이이며, 특히, 10 초와 180 초 사이이다.
도 4는 동작 위치에서, 광원(7), 여기서, 광학 포커싱 소자를 갖는 발광 다이오드(Light Emitting Diode (LED)), 여기서, 이중-볼록(double-convex) 집광 렌즈(8)를 갖는, 본 발명에 따른 플라스틱 성형체(1)를 나타낸다. 그러므로, 포커싱 소자에 의해 원하는 발산을 갖는 광이 회절면 릴리프(2)를 투과한다. 광원(7)과 회절면 릴리프(3)는 거리(L)만큼 떨어져 배치된다. 거리(L)은 바람직하게 대략 0.5 cm 내지 대략 10 cm이다. 회절면 릴리프(2)를 통해 투과되는 광으로 인해서, 나안, 즉, 보조 도구 없이 관찰 거리(A)에서 인식 가능한 광학 효과(73)가 생긴다. 관찰 거리(A)는 바람직하게 대략 20 cm 내지 500 cm이다. 그러나, 이 효과(73)는 이 범위 밖에서도 볼 수 있다.
구체적으로 나타나는 효과(73)를 생성하기 위해, 대략 5 μm 내지 10 μm의 가장 작은 로컬 격자 주기 및 대략 1 μm 내지 1.5 μm의 구조 깊이를 갖는 회절 릴리프 구조를 생성하는, 5개-점의 스타, 준연속, 회절 위상 함수가, 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램으로서 계산된다. 이미 설명한 것 같이, 회절면 릴리프(2)는 원하는 광의 발산 또는 원하는 광학 효과를 위해 필요한, 광의 빔 경로의 남아 있는 보정을 포함하며, 이 보정은 매크로구조의 경로에 적응된다(이 예에서, 구성 소자 굴곡은 구형 변형이다).
따라서, 도 4에 나타낸 조명 장치(7)가 얻어진다. 45 도의 발산각 (반각)을 갖는 적색 LED가 플라스틱 성형체(1)의 투명 플라스틱 재료의 조명 또는 백라이팅용 광원(71)으로서 사용된다. 대략 평행한(collimated) 광을 생성하거나 또는 LED 광의 발산각을 줄이며 그 결과 광이 매크로구조의 경로에 적응되기 위해, 추가의 집속 광학 부품(72)이 40 mm 초점 길이와 20 mm의 직경을 갖는 볼록 렌즈로서 형성된다. LED(71)와 집속 광학 부품(72) 사이의 거리는 10 mm이고, 집속 광학 부품(72)과 회절면 릴리프(2) 사이의 거리는 대략 40 mm이다.
회절면 릴리프(2)의 영역에, 플라스틱 성형체(1)의 표면은 120 mm의 곡률 반경을 갖는 구형 쉘을 형성한다. 회절면 릴리프(3)는 대략 35 mm의 직경을 갖는 원형이다. 대략 30 mm x 30 mm의 크기의 스타의 형태이고, 관찰자가 볼 때 회절면 구조(2) 뒤에 대략 5 cm 내지 10 cm로 존재하는 광학 효과(73)가 발생한다. 이상적인 관찰자 거리는 회절면 구조(2) 앞에서 대략 4 m 내지 5 m이고, 관찰자는 광축에 대해서 약간 오프셋되어, 예를 들면, 약간 높거나 낮게 위치할 수 있다.
다양한 플라스틱 성형체(1)가 상기 서술된 방식으로 제조될 수 있다. 회절면 릴리프(2)가 임의의 자유 곡면 상에 배치될 수 있으므로, 플라스틱 성형체의 설계시 설계상의 자유가 손상되지 않는다. 특히, 또 다른 수정이 필요하지 않고 회절 효과가 기존의 설계에 통합될 수 있다.
회절면 릴리프(2)가 플라스틱 성형체(1)의 표면(11)의 일부 영역만을 점유하므로, 또 다른 광학 부품 또는 다른 기능들이 플라스틱 성형체에 통합될 수 있다.
예를 들면, (구성 소자의 평면의 앞 또는 뒤에 존재하는 것으로 나타나는) 광학적으로 플로팅하는 모티프를 투영하는 조명 장치, 그 기능이 광학적으로 플로팅하는 기호로 표시되는 백라이트 스위치 또는 제어 소자 등에 응용가능하다.

Claims (38)

  1. 플라스틱 성형체(1)의 제조 방법으로서,
    회절면 릴리프(32)를 갖는 금형 인서트(3)가 제공되며, 상기 금형 인서트(3)는 사출 금형(injection mold)(5)의 하나의 반금형(mold half)에 삽입되고, 상기 하나의 반금형은 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 상기 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 캐비티를 형성하고, 상기 금형 인서트(3)가 상기 사출 금형(5)에 삽입됨으로써, 상기 회절면 릴리프(32)가 상기 반금형에 의해 형성되는 캐비티의 표면의 일부 영역을 형성하고, 상기 플라스틱 성형체(1)가 상기 사출 금형(5)에 의한 사출 성형으로 성형되며, 상기 금형 인서트(3)의 제공 동안, 먼저, 임시 회절면 릴리프가 기판의 표면에 형성되고, 다음에 상기 기판은 상기 금형 인서트(3)를 형성하기 위해 재성형되고, 상기 재성형 동안, 상기 임시 회절면 릴리프는 상기 금형 인서트(3)의 상기 회절면 릴리프(32)로 변형되는, 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)로서, 그 회절면 릴리프(32)가, 회절 마이크로구조 및 매크로구조의 가감 중첩에 의해 형성되는 금형 인서트(3)가 제공되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)로서, 그 매크로구조가, 하나 이상의 굴곡으로 적어도 영역들에서 만곡되는 자유 곡면을 나타내는 금형 인서트(3)가 제공되고, 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배인 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 10,000 mm 내지 10 mm 범위의 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배이며 10,000 mm 내지 10 mm 범위인 곡률 반경을 갖는 것을 특징으로 하는, 방법.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 딥 드로잉으로 재성형되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 딥 드로잉을 위해서, 그 경도가 상기 기판의 재료의 경도보다 작은 툴(8, 9)이 사용되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  6. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 임시 회절면 릴리프를 형성하기 위해, 상기 임시 회절면 릴리프가 성형되는 마스터 소자가 우선 제공된 뒤, 상기 기판이 상기 마스터 소자에 의해 성형되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 임시 회절면 릴리프는, 적어도 리소그래피에 의해, 또는 레이저 또는 전자 빔에 의해, 또는 마스크를 사용하는 조명에 의해, 상기 마스터 소자에, 또는 상기 기판에, 또는 상기 마스터 소자에 그리고 상기 기판에 성형되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 임시 회절면 릴리프는, 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램 및 키노폼(kinoform) 및 푸리에 홀로그램 중 적어도 하나로서, 상기 마스터 소자, 또는 상기 기판, 또는 상기 마스터 소자 및 상기 기판에 성형되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  9. 청구항 6에 있어서,
    상기 회절면 릴리프의 성형 후, 상기 기판은, 상기 마스터 소자 상으로의 금속의 갈바닉 퇴적에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제조된 기판으로부터, 또 다른 기판들이 금속의 갈바닉 퇴적에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  11. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 0.05 mm 내지 1 mm의 두께로 제조되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  12. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 임시 회절면 릴리프를 성형하기 위해서, 상기 임시 회절면 릴리프를 나타내는 함수(F2)를 결정하도록, 보정 함수(K)가 확인되어, 얻어질 회절 효과를 나타내는 함수(F1)에 적용되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 보정 함수(K)는, 상기 재성형에 의한 상기 임시 회절면 릴리프의 나중의 변형으로 인한 상기 임시 회절면 릴리프의 상기 회절 효과의 수정을 나타내거나 적어도 부분적으로 상쇄시키는 것을 특징으로 하는, 방법.
  14. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)는 클램핑 소자에 의해 상기 사출 금형(5)에 고정되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  15. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)는 상기 사출 금형의 언더컷에 유지되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  16. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)는 상기 사출 금형(5)에 부착되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  17. 청구항 1에 기재된 방법에 따라서 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 금형 인서트(3)로서,
    상기 금형 인서트(3)는, 기판의 표면 내로의 임시 회절면 릴리프의 성형 및 상기 기판의 변형에 의해 제조되는 회절면 릴리프(32)를 포함하고, 사출 금형(5)의 하나의 반금형에 삽입가능하며, 상기 하나의 반금형은 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 상기 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 캐비티를 형성하여, 상기 회절면 릴리프(32)가, 상기 사출 금형(5)의 캐비티의, 상기 반금형에 의해 형성되는 표면의 일부 영역을 형성하는, 금형 인서트(3).
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 회절면 릴리프(32)는 회절 마이크로구조 및 매크로구조의 가감 중첩에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는, 금형 인서트(3).
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 매크로구조는, 하나 이상의 굴곡으로 적어도 영역들에서 만곡되는 자유 곡면을 나타내고, 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배인 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 10,000 mm 내지 10 mm 범위의 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배이며 10,000 mm 내지 10 mm 범위인 곡률 반경을 갖는 것을 특징으로 하는, 금형 인서트(3).
  20. 청구항 18 또는 청구항 19에 있어서,
    상기 마이크로구조는, 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램 및 키노폼 및 푸리에 홀로그램 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는, 금형 인서트(3).
  21. 청구항 17 내지 청구항 19 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금형 인서트는 금속에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는, 금형 인서트(3).
  22. 청구항 17 내지 청구항 19 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 금형 인서트는 0.05 mm 내지 1 mm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 금형 인서트(3).
  23. 청구항 1에 기재된 방법에서 사용하기 위한, 청구항 17에 기재된 금형 인서트(3)용 홀딩 장치(6)로서,
    상기 금형 인서트(3)는, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는, 사출 금형(5)의 하나의 반금형에 삽입가능 함으로써, 상기 홀딩 장치(6)에 유지된 금형 인서트(3)의 회절면 릴리프(32)가 상기 사출 금형(5)의 캐비티의, 상기 반금형에 의해 형성되는 표면의 일부 영역을 형성하고, 상기 홀딩 장치(6)는, 상기 금형 인서트(3)가 삽입되는 베이스 몸체(60)를 포함하는, 홀딩 장치(6).
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 베이스 몸체(60)가, 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 적어도 하나의 언더컷 또는 상기 금형 인서트(3)를 상기 베이스 몸체(60)에 부착하는 적어도 하나의 접착 플랜지를 갖거나, 또는 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 클램핑 소자가 제공되거나, 또는 상기 베이스 몸체(60)가, 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 적어도 하나의 언더컷 또는 상기 금형 인서트(3)를 상기 베이스 몸체(60)에 부착하는 적어도 하나의 접착 플랜지를 갖고, 그리고 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 클램핑 소자가 제공되는 것을 특징으로 하는, 홀딩 장치(6).
  25. 청구항 23 또는 청구항 24에 있어서,
    상기 베이스 몸체(60)가 커버에 의해 밀봉가능한 것을 특징으로 하는, 홀딩 장치(6).
  26. 청구항 1에 기재된 방법에 따라서, 플라스틱 성형체(1)를 제조하는 사출 금형(5)으로서,
    상기 사출 금형(5)은, 적어도 하나의 또 다른 반금형과 함께, 상기 플라스틱 성형체(1)를 제조하기 위한 캐비티를 형성하는 적어도 하나의 반금형을 가지며, 상기 반금형은, 청구항 17에 기재된 회절면 릴리프(32)를 갖는 금형 인서트(3), 또는 청구항 17에 기재된 금형 인서트를 갖는 청구항 23에 기재된 홀딩 장치(6)가 삽입가능한 수용부(4)를 가짐으로써, 상기 회절면 릴리프(32)가, 상기 사출 금형(5)의 캐비티의, 상기 반금형에 의해 형성되는 내면의 일부 영역을 형성하는, 사출 금형(5).
  27. 청구항 26에 있어서,
    적어도 하나의 클램핑 소자가 상기 수용부(4) 내에 상기 금형 인서트(3)를 유지하도록 제공되는 것을 특징으로 하는, 사출 금형(5).
  28. 청구항 26에 있어서,
    상기 수용부(4)는 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 적어도 하나의 언더컷, 또는 상기 금형 인서트(3)를 상기 사출 금형(5)에 부착하는 적어도 하나의 접착 플랜지, 또는 상기 금형 인서트(3)를 유지하는 적어도 하나의 언더컷 및 상기 금형 인서트(3)를 상기 사출 금형(5)에 부착하는 적어도 하나의 접착 플랜지를 갖는 것을 특징으로 하는, 사출 금형(5).
  29. 청구항 26에 있어서,
    상기 금형 인서트(3)가 삽입될 때, 소정의 접촉 압력이 상기 캐비티로부터 떨어져서 대향하는 상기 금형 인서트(3)의 측에 인가될 수 있게 하는 적어도 하나의 다이가 제공되는 것을 특징으로 하는, 사출 금형(5).
  30. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 얻을 수 있는 플라스틱 성형체(1)로서,
    상기 플라스틱 성형체(1)의 표면(11)의 일부 영역 위에서만 연장되는 회절면 릴리프(2)를 포함하고, 상기 회절면 릴리프(2)는 회절 마이크로구조 및 매크로구조의 가감 중첩에 의해 형성되며, 적어도 상기 회절면 릴리프(2)의 평평하지 않은 영역에서, 상기 매크로구조에 의해 정의되는 상기 플라스틱 성형체(1)의 개념상의 매크로스코픽 표면(macroscopic surface)과 상기 플라스틱 성형체(1)의 대향면 사이의 거리는 실질적으로 일정한, 플라스틱 성형체(1).
  31. 청구항 30에 있어서,
    상기 매크로구조는, 하나 이상의 굴곡으로 적어도 영역들에서 만곡되는 자유 곡면을 나타내고, 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배인 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은, 10,000 mm 내지 10 mm 범위의 곡률 반경을 갖거나, 또는 각각의 경우에 상기 하나 이상의 굴곡은 상기 회절면 릴리프의 측면 범위의 최대 100배 및 최소 0.1배이며 10,000 mm 내지 10 mm 범위인 곡률 반경을 갖는 것을 특징으로 하는, 플라스틱 성형체(1).
  32. 청구항 30에 있어서,
    상기 회절면 릴리프(2)는 컴퓨터에 의해 생성된 홀로그램 및 키노폼 및 푸리에 홀로그램 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라스틱 성형체(1).
  33. 청구항 30에 있어서,
    상기 마이크로구조는 300 lines/mm와 2800 lines/mm 사이의 공간 주파수 및 50 nm와 100 μm 사이의 릴리프 깊이 중 적어도 하나를 갖는 것을 특징으로 하는, 플라스틱 성형체(1).
  34. 청구항 30에 있어서,
    상기 플라스틱 성형체(1)는 투명 또는 불투명 플라스틱으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 플라스틱 성형체(1).
  35. 청구항 30에 기재된 플라스틱 성형체(1)를 갖는, 조명 장치(7).
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2567097B2 (es) * 2015-12-28 2016-10-10 Seat, S.A. Molde de inyección y procedimiento para la fabricación de un módulo óptico para un dispositivo de iluminación de un vehículo, y módulo óptico fabricado mediante dicho molde y/o mediante dicho procedimiento
KR102565788B1 (ko) * 2016-06-23 2023-08-10 엘지이노텍 주식회사 차량용 램프 및 이를 포함하는 차량
EP3547042A1 (fr) * 2018-03-29 2019-10-02 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procédé et système de fabrication d'au moins un élément horloger destiné à être rapporté sur un composant horloger d'une pièce d'horlogerie
CN110126199B (zh) * 2019-05-17 2021-11-23 广东邦孚光学有限公司 一种带锯齿的透镜加工工艺
CN110126146A (zh) * 2019-05-30 2019-08-16 开平市盈光机电科技有限公司 一种带立体纹理的移动模模芯

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006044247A (ja) * 2004-06-29 2006-02-16 Konica Minolta Opto Inc 射出成形用金型及び射出成形方法
JP2012014138A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Woojeon & Handan Co Ltd 反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネル

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4747981A (en) 1985-10-07 1988-05-31 Robinson Jesse L Method of molding a urethane reflector
AU1343092A (en) * 1992-01-09 1993-08-03 Scott R. Fohrman Reproduction of holograms
US5538674A (en) * 1993-11-19 1996-07-23 Donnelly Corporation Method for reproducing holograms, kinoforms, diffractive optical elements and microstructures
WO1996016794A1 (en) * 1994-11-28 1996-06-06 Aotec, Inc. Method and apparatus for making plastic lenses having diffractive features
US5728324A (en) 1995-01-31 1998-03-17 Digital Optics Corporation Molding diffractive optical elements
US5958469A (en) 1997-05-14 1999-09-28 Eastman Kodak Company Method for fabricating tools for molding diffractive surfaces on optical lenses
JP2000214884A (ja) * 1999-01-22 2000-08-04 Olympus Optical Co Ltd 音声記録装置
US7306827B2 (en) * 2000-10-30 2007-12-11 Sru Biosystems, Inc. Method and machine for replicating holographic gratings on a substrate
JP2003014938A (ja) * 2001-04-12 2003-01-15 Mitsubishi Engineering Plastics Corp 透明樹脂製の導光板及びその成形方法、入れ子、金型組立体、並びに、面状光源装置
TW548173B (en) * 2001-07-10 2003-08-21 Cinpres Gas Injection Ltd Process and apparatus for injection moulding a hollow plastics article
US20040219464A1 (en) 2003-05-01 2004-11-04 Dunham Gregory David Diffractive optical elements formed on plastic surface and method of making
DE10333370A1 (de) * 2003-07-23 2005-02-24 Schott Ag Beleuchtungseinrichtung, Linse und Herstellung der Linse
CN1715033A (zh) * 2004-06-29 2006-01-04 柯尼卡美能达精密光学株式会社 注射成形用模具和光学元件的成形方法
JP2008173914A (ja) * 2007-01-22 2008-07-31 Toppan Printing Co Ltd 微細凹凸パターンの転写方法及び転写箔
JP5140517B2 (ja) * 2008-08-07 2013-02-06 アピックヤマダ株式会社 樹脂モールド装置および樹脂モールド方法
KR101537619B1 (ko) 2009-09-09 2015-07-17 엘지전자 주식회사 사출금형용 스탬퍼 제작방법
WO2012006637A1 (en) * 2010-07-09 2012-01-12 Pixeloptics, Inc. Mold for diffractive ophthalmic lens

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006044247A (ja) * 2004-06-29 2006-02-16 Konica Minolta Opto Inc 射出成形用金型及び射出成形方法
JP2012014138A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Woojeon & Handan Co Ltd 反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネル

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DE102013110702A1 (de) 2015-04-02
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US10315370B2 (en) 2019-06-11
WO2015044314A1 (de) 2015-04-02
CN105593005A (zh) 2016-05-18

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