KR102207976B1 - Preparing method for anti-finger layer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 지문방지층의 형성 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기재의 일면에 습식 공정에 의해 지문방지 도막을 형성하고, 온도 100℃ 이상, 상대 습도 50% 이상의 조건에서 상기 도막을 10 내지 20분간 건조시킴으로써, 진공 증착 장비와 같은 고가의 장비 없이도 우수한 접촉각을 나타내는 지문방지층을 형성할 수 있으며, 장시간의 건조 시간을 요하지 않아 공정 수율을 현저히 개선할 수 있는, 지문방지층의 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming an anti-fingerprint layer, and more particularly, to form an anti-fingerprint film on one surface of a substrate by a wet process, and apply the film for 10 to 20 minutes under conditions of a temperature of 100°C or higher and a relative humidity of 50% or higher. By drying, it is possible to form an anti-fingerprint layer showing an excellent contact angle without expensive equipment such as vacuum evaporation equipment, and a method of forming an anti-fingerprint layer that can significantly improve process yield without requiring a long drying time.

Description

지문방지층의 형성 방법 {Preparing method for anti-finger layer}Forming method for anti-finger layer {Preparing method for anti-finger layer}

본 발명은 지문방지층의 형성 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of forming an anti-fingerprint layer.

전자 제품의 표시부, 예를 들어 TV의 화면, PC나 노트북의 모니터 화면, 휴대폰이나 PDA 등 모바일 기기의 화면 또는 전자제품의 터치패널은 사용자가 손으로 접촉하거나 통화를 하기 위해 얼굴을 대는 경우 지문이나 얼굴의 지방질, 단백질 등의 성분이 그 표면에 부착되어 더러움이 눈에 잘 띄게 되고 보기에도 지저분하게 된다.The display of electronic products, for example, the screen of a TV, the monitor screen of a PC or laptop, the screen of a mobile device such as a mobile phone or PDA, or a touch panel of an electronic product, can be used with fingerprints or when the user touches his or her face to make a call. Components such as facial fat and protein adhere to the surface, making the dirt more visible and dirty to look at.

이를 해결하기 위한 방법의 하나로, 눈부심 방지(anti-galre) 기능을 갖는 별도의 필름을 휴대 전화기, 네비게이션 등의 표시부에 부착하여 지문이 눈에 덜 띄게 하는 방법이 사용되고 있으나, 이런 방법에서는 부착된 필름에 의한 투과율 저하 및 탁도(haze)의 증가로 인해 화상 품질이 저하되며, 낮은 표면 경도로 인해 흠집이 발생하는 문제가 발생한다. 따라서 별도의 필름 부착 없이 디스플레이와 터치 패널 등에 직접 코팅층을 형성하여 지문이 표시면에 부착하는 것을 방지하기 위한 대책이 이루어져 왔다.As one of the methods to solve this problem, a method of attaching a separate film having an anti-galre function to a display unit such as a mobile phone or a navigation system to make the fingerprint less conspicuous is used. However, in this method, the attached film The image quality deteriorates due to a decrease in transmittance and an increase in haze due to the low surface hardness, resulting in a problem that a flaw occurs. Therefore, measures have been taken to prevent fingerprints from adhering to the display surface by directly forming a coating layer on the display and touch panel without attaching a separate film.

대표적으로 발수, 발유성의 코팅층을 형성하는 방법을 들 수 있는데, 이러한 코팅층은 수분 및 유분에 대한 접촉각이 높아 표시부에 지방질이 부착되어도 용이하게 제거가 가능하다.Representatively, there is a method of forming a water-repellent and oil-repellent coating layer. This coating layer has a high contact angle with respect to moisture and oil, so that even if fat adheres to the display, it can be easily removed.

이러한 발수, 발유성의 코팅층은 대표적으로 진공 증착법, 또는 침지, 인쇄, 분사 등의 습식 코팅법에 의하여 형성된다.The water-repellent and oil-repellent coating layer is typically formed by a vacuum deposition method or a wet coating method such as immersion, printing, or spraying.

이러한 진공 증착법의 경우 양호한 접촉각을 갖는 코팅층을 형성할 수 있으나, 증착에 사용되는 장비가 고가이며, 장비 특성상 대면적의 글라스에 각각의 단위 셀이 형성되어 있는 원장의 글라스에 대해서는 적용이 불가능한 등의 문제가 있다.In the case of such a vacuum evaporation method, a coating layer having a good contact angle can be formed, but the equipment used for evaporation is expensive, and due to the characteristics of the equipment, it is not applicable to the glass of the ledger in which each unit cell is formed on the glass of a large area. there is a problem.

한편, 습식 코팅법의 경우 진공 증착 장비와 같은 고가의 장비를 요하지 않고, 보다 용이한 공정 조건하에 코팅층을 수행할 수 있으나, 도막의 형성 이후에 건조에 장시간이 소요되고, 양호한 접촉각을 나타내는 도막의 형성이 용이하지 않은 문제가 있다.On the other hand, in the case of the wet coating method, expensive equipment such as vacuum deposition equipment is not required, and the coating layer can be performed under easier processing conditions. However, it takes a long time to dry after the formation of the coating film, and the coating film showing a good contact angle There is a problem that formation is not easy.

따라서, 우수한 접촉각을 나타내는 코팅층을 고가의 장비 없이도 용이하게 형성할 수 있는 코팅층의 형성 방법이 요구되는 실정이다.Therefore, there is a need for a method of forming a coating layer that can easily form a coating layer having an excellent contact angle without expensive equipment.

한국등록특허 제1242591호에는 지문방지층 증착방법이 개시되어 있다.
Korean Patent No. 1242591 discloses a method of depositing an anti-fingerprint layer.

한국등록특허 제1242591호Korean Patent Registration No. 1242591

본 발명은 습식 방법에 의해서도 우수한 접촉각을 나타내는 지문방지층을 형성할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method capable of forming an anti-fingerprint layer exhibiting an excellent contact angle even by a wet method.

본 발명은 내구성이 우수한 지문방지층을 제공하는 것을 목적으로 한다.
An object of the present invention is to provide an anti-fingerprint layer having excellent durability.

1. 기재의 일면에 습식 공정에 의해 지문방지 도막을 형성하고, 온도 100℃ 이상, 상대 습도 50% 이상의 조건에서 상기 도막을 10 내지 20분간 건조시키는, 지문방지층의 형성 방법.1. A method of forming an anti-fingerprint layer, in which an anti-fingerprint film is formed on one surface of a substrate by a wet process, and the film is dried for 10 to 20 minutes under conditions of a temperature of 100°C or higher and a relative humidity of 50% or higher.

2. 위 1에 있어서, 상기 습식 공정은 액상의 지문방지층 형성용 조성물을 기재의 일면에 도포하는 것인, 지문방지층의 형성 방법.2. The method of 1 above, wherein the wet process is to apply a liquid composition for forming an anti-fingerprint layer to one side of the substrate.

3. 위 1에 있어서, 상기 습식 공정은 잉크젯 또는 스프레이 공정인, 지문방지층의 형성 방법.3. The method of 1 above, wherein the wet process is an inkjet or spray process.

4. 위 1에 있어서, 상기 습식 공정은 스프레이 공정인, 지문방지층의 형성 방법.4. The method of 1 above, wherein the wet process is a spray process.

5. 위 1에 있어서, 상기 건조 공정 온도는 130 내지 150℃인, 지문방지층의 형성 방법.5. In the above 1, the drying process temperature is 130 to 150 ℃, the method of forming an anti-fingerprint layer.

6. 위 1에 있어서, 상기 건조 공정 습도는 50 내지 75%인, 지문방지층의 형성 방법.6. In the above 1, wherein the drying process humidity is 50 to 75%, the method of forming an anti-fingerprint layer.

7. 위 1에 있어서, 상기 건조 공정 수행 시간은 10 내지 15분인, 지문방지층의 형성 방법.7. The method of 1 above, wherein the drying process is performed for 10 to 15 minutes.

8. 위 1에 있어서, 상기 건조는 130 내지 150℃의 온도, 50 내지 75%의 상대 습도 조건에서 10 내지 15분간 수행되는, 지문방지층의 형성 방법.8. The method of 1 above, wherein the drying is performed for 10 to 15 minutes at a temperature of 130 to 150° C. and a relative humidity of 50 to 75% for 10 to 15 minutes.

9. 위 2에 있어서, 상기 지문방지층 형성용 조성물은 과불소폴리에테르 및 용매를 포함하는, 지문방지층의 형성 방법.9. The method for forming an anti-fingerprint layer according to the above 2, wherein the composition for forming the anti-fingerprint layer comprises perfluoropolyether and a solvent.

10. 위 9에 있어서, 상기 과불소폴리에테르는 과불소폴리트리메틸렌옥시드, 과불소폴리에틸렌옥시드, 과불소폴리디옥솔란 및 과불소폴리트리옥소칸으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 지문 방지층의 형성 방법.10. In the above 9, wherein the perfluoropolyether is at least one selected from the group consisting of perfluoropolytrimethylene oxide, perfluoropolyethylene oxide, perfluoropolydioxolane, and perfluoropolytrioxocan, fingerprint Method of forming the barrier layer.

11. 위 9에 있어서, 상기 용매는 퍼플루오로 지방족 탄화수소, 퍼플루오로 방향족 탄화수소, 및 폴리플루오르화 지방족 탄화수소로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 지문 방지층의 형성 방법.
11. The method of claim 9, wherein the solvent is at least one selected from the group consisting of perfluoro aliphatic hydrocarbons, perfluoro aromatic hydrocarbons, and polyfluorinated aliphatic hydrocarbons.

본 발명의 지문방지층 형성 방법은 진공 증착 장비와 같은 고가의 장비 없이도 우수한 접촉각을 나타내는 지문방지층을 형성할 수 있다.The method for forming an anti-fingerprint layer of the present invention can form an anti-fingerprint layer exhibiting an excellent contact angle without expensive equipment such as vacuum deposition equipment.

또한, 본 발명의 방법으로 형성한 지문방지층은 내구성이 우수하여, 주변 환경, 사용 등에 의해 마모된 경우에도 접촉각 저하율이 낮다.In addition, the anti-fingerprint layer formed by the method of the present invention is excellent in durability and has a low contact angle reduction rate even when abrasion is caused by the surrounding environment or use.

본 발명의 지문방지층 형성 방법은 습식 방법에 의해서도, 지문방지층 형성을 위한 장시간의 건조 시간을 요하지 않는다. 이에 따라 공정 수율이 현저히 개선될 수 있다.
The method for forming an anti-fingerprint layer of the present invention does not require a long drying time for forming an anti-fingerprint layer, even by a wet method. Accordingly, the process yield can be significantly improved.

본 발명은 기재의 일면에 습식 공정에 의해 지문방지 도막을 형성하고, 온도 100℃ 이상, 상대 습도 50% 이상의 조건에서 상기 도막을 10 내지 20분간 건조시킴으로써, 진공 증착 장비와 같은 고가의 장비 없이도 우수한 접촉각을 나타내는 지문방지층을 형성할 수 있으며, 장시간의 건조 시간을 요하지 않아 공정 수율을 현저히 개선할 수 있는, 지문방지층의 형성 방법에 관한 것이다.The present invention forms an anti-fingerprint coating film on one side of a substrate by a wet process, and by drying the coating film for 10 to 20 minutes at a temperature of 100°C or higher and a relative humidity of 50% or higher, it is excellent without expensive equipment such as vacuum deposition equipment. The present invention relates to a method of forming an anti-fingerprint layer, which can form an anti-fingerprint layer having a contact angle, and can significantly improve a process yield without requiring a long drying time.

이하 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 지문방지층의 형성 방법은 기재의 일면에 습식 공정에 의해 지문방지 도막을 형성하고, 온도 100℃ 이상, 상대 습도 50% 이상의 조건에서 상기 도막을 10 내지 20분간 건조시킨다.In the method of forming an anti-fingerprint layer of the present invention, an anti-fingerprint film is formed on one surface of a substrate by a wet process, and the film is dried for 10 to 20 minutes under conditions of a temperature of 100°C or higher and a relative humidity of 50% or higher.

기재는 내구성이 크고, 사용자가 디스플레이를 잘 볼 수 있도록 하는 물질이라면 특별히 한정되지 않고 당 분야에서 사용되는 소재가 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 유리, 폴리에테르술폰, 폴리아크릴레이트, 폴리에테르 이미드, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 셀룰로오스 트리 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 유리가 사용될 수 있다.The substrate is not particularly limited as long as it is a material that has high durability and allows a user to see the display well, and a material used in the art may be used without particular limitation. For example, glass, polyethersulfone, polyacrylate, polyether imide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyimide, polycarbonate, cellulose triacetate, cellulose acetate propio Nate or the like may be used, and preferably glass may be used.

기재는 지문방지 도막이 용이하게 형성될 수 있도록 친수성을 개선하는, 프라이머 처리, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 전처리 공정을 거친 것일 수 있다.The substrate may be subjected to a pretreatment process such as primer treatment, plasma treatment, corona treatment, etc. to improve hydrophilicity so that the anti-fingerprint coating film can be easily formed.

본 명세서에서 습식 공정은 액상의 지문방지층 형성용 조성물을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 모든 공정을 의미하는 것으로서, 예를 들면 잉크젯 인쇄, 스프레이 등의 공정을 들 수 있다.In the present specification, the wet process refers to all processes of forming a coating film by applying a liquid anti-fingerprint layer-forming composition to a substrate, and examples thereof include processes such as inkjet printing and spraying.

상기 방법 중, 스프레이는 지문방지층 형성용 조성물을 스프레이 노즐을 통해 분사하는 방법으로, 기재의 표면이 불규칙하거나 요철이 있는 경우에도 도막이 균일하게 형성될 수 있으며, 소량의 조성물을 사용할 수 있어 후술한 건조 공정 시간을 단축할 수 있다. 또한, 고가의 장비 없이 용이하게 수행될 수 있으며, 단일 기재뿐만 아니라 복수의 단위 셀이 형성된 대면적 기재에 대해서도 용이하게 도막을 형성할 수 있다는 점에서 바람직하다. 그리고, 잉크젯 인쇄 시에는 기재 표면에 얼룩이 발생할 수 있는 우려가 있으나, 스프레이 공정에 의하면 그러한 얼룩도 방지할 수 있다.Among the above methods, spray is a method of spraying a composition for forming an anti-fingerprint layer through a spray nozzle, and even when the surface of the substrate is irregular or irregular, the coating film can be uniformly formed, and a small amount of the composition can be used, which will be described later. Process time can be shortened. Further, it is preferable in that it can be easily performed without expensive equipment, and a coating film can be easily formed not only for a single substrate but also for a large-area substrate in which a plurality of unit cells are formed. In addition, there is a concern that stains may occur on the surface of the substrate during inkjet printing, but such stains can also be prevented by spraying.

도막의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 건조 후 두께가 10 내지 20nm가 되도록 형성할 수 있다. 도막의 두께가 상기 범위 내인 경우 지문방지층에 형성되는 지문 및 유분의 제거가 용이하다. 상기 두께의 범위를 벗어날 경우 마모에 대한 내구성이 약화되어, 지속적인 사용에 따라 지문방지층이 손상될 수 있다.The thickness of the coating film is not particularly limited, and may be formed to have a thickness of 10 to 20 nm after drying, for example. When the thickness of the coating film is within the above range, it is easy to remove fingerprints and oil formed on the anti-fingerprint layer. If the thickness is out of the range, durability against abrasion is weakened, and the anti-fingerprint layer may be damaged with continuous use.

지문방지층 형성용 조성물의 조성은 특별히 한정되지 않고 당 분야에 통상적으로 사용되는 조성의 지문방지층 형성용 조성물을 사용할 수 있으며, 예를 들면 불소계 고분자, 용매 등을 포함하는 것일 수 있다.The composition of the composition for forming an anti-fingerprint layer is not particularly limited, and a composition for forming an anti-fingerprint layer having a composition commonly used in the art may be used, and may include, for example, a fluorine-based polymer, a solvent, and the like.

불소계 고분자로는 예를 들면 과불소폴리에테르를 들 수 있다.As a fluorine-based polymer, perfluorine polyether is mentioned, for example.

과불소폴리에테르는 특별히 한정되지 않고 당 분야에 공지된 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면 과불소폴리트리메틸렌옥시드(Perfluoropoly(methylene oxide)), 과불소폴리에틸렌옥시드(Perfluoropoly(ethyleneoxide)), 과불소폴리디옥솔란(Perfluoropoly(dioxolane)), 과불소폴리트리옥소칸(Perfluoropoly(trioxocane)) 등을 들 수 있고, 바람직하게는 과불소폴리트리메틸렌옥시드일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The perfluorinated polyether is not particularly limited and known in the art may be used, for example, perfluoropoly(methylene oxide), perfluoropoly(ethyleneoxide), and perfluorinated Sopolydioxolane (Perfluoropoly(dioxolane)), perfluoropoly(trioxocane), etc. are mentioned, Preferably it may be perfluoropolytrimethylene oxide. These can be used alone or in combination of two or more.

과불소 폴리에테르 화합물은 공지의 방법에 따라 합성할 수 있다[JAMES T. HILL, J. Macromol. Sci.Chem. , A8, (3), p499 (1974)].Perfluorinated polyether compounds can be synthesized according to known methods [JAMES T. HILL, J. Macromol. Sci.Chem. , A8, (3), p499 (1974)].

용매는 상기 불소계 고분자를 용해시킬 수 있으면서 용이하게 도막을 형성하고 건조되어 지문방지층을 형성할 수 있도록 하는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산 등의 탄소수 5 내지 20의 알킬기 또는 시클로알킬기를 갖는 퍼플루오로 지방족 탄화수소; 비스(트리플루오로메틸)벤젠 등의 탄소수 6 내지 18의 아릴기를 갖는 퍼플루오로 방향족 탄화수소; 퍼플루오로부틸 메틸 에테르, 에틸노나플루오로 이소부틸에테르 등의 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 갖는 폴리플루오르화 지방족 탄화수소를 들 수 있고, 바람직하게는 에틸노나플루오로이소부틸에테르일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited as long as it is capable of dissolving the fluorine-based polymer while easily forming a coating film and drying to form an anti-fingerprint layer. For example, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro Perfluoro aliphatic hydrocarbons having an alkyl group having 5 to 20 carbon atoms or a cycloalkyl group such as -1,3-dimethylcyclohexane; Perfluoro aromatic hydrocarbons having an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as bis(trifluoromethyl)benzene; Polyfluorinated aliphatic hydrocarbons having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as perfluorobutyl methyl ether and ethyl nonafluoro isobutyl ether, and preferably ethyl nonafluoroisobutyl ether. These can be used alone or in combination of two or more.

다음으로, 상기 도막을 건조시킴으로써 지문방지층을 형성한다.Next, the anti-fingerprint layer is formed by drying the coating film.

본 발명의 지문방지층의 형성 방법은 습식 공정에 의해 지문방지 도막을 형성하고, 특정 범위의 온도 및 습도 조건에서 소정 시간 상기 도막을 건조시켜 지문방지층을 형성한다. 온도, 습도 및 시간을 소정 범위 내에서 선택하여 조절함으로써, 습식 공정에 의해서도 우수한 접촉각을 나타내는 지문방지층을 형성할 수 있다.In the method of forming an anti-fingerprint layer of the present invention, an anti-fingerprint layer is formed by forming an anti-fingerprint coating film by a wet process, and drying the coating film for a predetermined time under a certain range of temperature and humidity conditions. By selecting and controlling temperature, humidity, and time within a predetermined range, an anti-fingerprint layer exhibiting an excellent contact angle can be formed even by a wet process.

건조 공정은 100℃ 이상의 온도에서 수행된다. 건조 공정 온도가 100℃ 미만이면 용매의 건조가 불충분하여 우수한 내구성을 갖는 지문방지층이 형성이 불가능하다. 빠른 시간 내에 충분히 용매를 건조시키고 경화된 도막을 얻어 우수한 내구성을 갖는 지문방지층을 형성한다는 측면에서 바람직하게는 130 내지 150℃일 수 있다. 온도를 150℃에서 더 증가시키는 경우에는 온도 증가에 따른 이점이 미미하다.The drying process is carried out at a temperature of 100°C or higher. If the drying process temperature is less than 100°C, drying of the solvent is insufficient, and thus it is impossible to form an anti-fingerprint layer having excellent durability. In terms of sufficiently drying the solvent within a short time and obtaining a cured coating film to form an anti-fingerprint layer having excellent durability, it may be preferably 130 to 150°C. If the temperature is further increased at 150° C., the advantage of increasing the temperature is negligible.

또한, 건조 공정은 상대 습도 50% 이상의 조건에서 수행된다. 습도가 50% 미만이면 도막의 경화가 충분히 수행되지 않아 후공정을 거치면서 도막이 손상될 수 있다. 바람직하게는 50 내지 75%일 수 있다. 습도를 75%에서 더 증가시키는 경우에는 습도 증가에 따른 이점이 미미하다.In addition, the drying process is carried out under conditions of 50% or more relative humidity. If the humidity is less than 50%, curing of the coating film is not sufficiently performed, and the coating film may be damaged during the post process. It may be preferably 50 to 75%. If the humidity is further increased from 75%, the benefit of increasing humidity is negligible.

건조 공정은 상기 온도 및 습도 조건의 범위 내에서 10 내지 20분간 수행된다. 건조 공정 시간이 10분 미만이면 용매가 덜 건조되어 경화가 충분히 수행되지 않아, 우수한 내구성을 갖는 지문방지층이 형성이 불가능하다. 그리고 지문방지층이 형성되는 기재에는 베젤 패턴 등의 다양한 패턴이 형성되어 있을 수 있는데, 건조 시간이 20분 초과이면 그러한 패턴들이 손상될 수 있다. 충분히 용매를 건조시키고 경화된 도막을 얻어 우수한 내구성을 갖는 지문방지층을 형성하며, 기 존재하는 패턴의 손상을 방지한다는 측면에서 바람직하게는 10 내지 15분간 수행될 수 있다.The drying process is performed for 10 to 20 minutes within the above temperature and humidity conditions. If the drying process time is less than 10 minutes, the solvent is less dried and curing is not sufficiently performed, so that the anti-fingerprint layer having excellent durability cannot be formed. In addition, various patterns, such as bezel patterns, may be formed on the substrate on which the anti-fingerprint layer is formed. If the drying time exceeds 20 minutes, such patterns may be damaged. It may be preferably carried out for 10 to 15 minutes in terms of sufficiently drying the solvent and obtaining a cured coating film to form an anti-fingerprint layer having excellent durability, and preventing damage to an existing pattern.

지문방지층 형성 공정의 수율을 개선하고, 보다 우수한 접촉각 및 내구성을 나타내는 패턴을 형성한다는 측면에서 보다 바람직하게는 상기 건조는 130 내지 150℃의 온도, 50 내지 75%의 상대 습도 조건에서 10 내지 15분간 수행될 수 있다.In terms of improving the yield of the anti-fingerprint layer forming process and forming a pattern showing a better contact angle and durability, the drying is more preferably performed at a temperature of 130 to 150° C. and a relative humidity of 50 to 75% for 10 to 15 minutes. Can be done.

상기 방법에 의해 제조되는 지문방지층은 수접촉각이 110 내지 125°일 수 있다. 즉, 상기 지문방지층 표면에서 넓게 퍼지지 않고 방울의 형태를 유지한다. 이는 발수성이 현저히 우수함을 나타내는 것으로서, 지문 및 유분이 지문방지층 표면에 부착되는 경우에도 이들을 용이하게 닦아낼 수 있다.The anti-fingerprint layer manufactured by the above method may have a water contact angle of 110 to 125°. That is, it does not spread widely on the surface of the anti-fingerprint layer and maintains the shape of the droplet. This indicates remarkably excellent water repellency, and can be easily wiped off even when fingerprints and oils adhere to the surface of the anti-fingerprint layer.

또한, 통상의 지문방지층은 주변 환경, 사용자의 사용 등에 의해 마모되어 점점 지문 방지 효과가 저하되나, 본 발명의 방법에 의해 제조된 지문방지층은 내구성이 우수하여 마모된 경우에도 우수한 접촉각 특성을 유지할 수 있다.In addition, a conventional anti-fingerprint layer is worn by the surrounding environment and the use of the user, so that the anti-fingerprint effect gradually decreases, but the anti-fingerprint layer manufactured by the method of the present invention has excellent durability and can maintain excellent contact angle characteristics even when worn. have.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
Hereinafter, preferred embodiments are presented to aid the understanding of the present invention, but these examples are only illustrative of the present invention and do not limit the scope of the appended claims, and examples within the scope and spirit of the present invention It is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible, and it is natural that such modifications and modifications fall within the scope of the appended claims.

실시예Example And 비교예Comparative example

두께 0.7t의 강화 유리 기재의 일면에 플라즈마 처리를 하고, 과불소 폴리트리메틸렌옥시드 0.3%, 에틸노나플루오로 이소부틸에테르 99.7%를 포함하는 지문방지층 형성용 조성물을 스프레이 노즐을 통해 상기 기재의 플라즈마 처리면에 도포하여 두께 10nm의 지문방지 도막을 형성하였다. 이후에 하기 표 1에 기재된 온도, 습도 및 시간 조건에 따라 도막을 건조시켜 지문방지층을 형성하였다.
Plasma treatment was performed on one side of a tempered glass substrate having a thickness of 0.7t, and a composition for forming an anti-fingerprint layer containing 0.3% perfluorinated polytrimethylene oxide and 99.7% ethyl nonafluoro isobutyl ether was applied through a spray nozzle. It was applied to the plasma-treated surface to form an anti-fingerprint coating film having a thickness of 10 nm. Thereafter, an anti-fingerprint layer was formed by drying the coating film according to the temperature, humidity and time conditions shown in Table 1 below.

실험예Experimental example . 내마모성 실험 전 후의 . Before and after abrasion resistance test 수접촉각Water contact angle 비교 compare

실시예 및 비교예의 지문방지층에 3㎕의 순수한 물을 적하한 후의 접촉각을 KRUSS 사의 접촉각 측정기로 측정하고, 상기 지문방지층을 내마모 테스트용 지우개로 1500회 문지른 다음에 다시 상기와 동일한 방법으로 수접촉각을 측정하여 접촉각 저하율을 하기 기준에 따라 평가하였다.The contact angle after dropping 3 µl of pure water on the anti-fingerprint layer of Examples and Comparative Examples was measured with a contact angle measuring instrument manufactured by KRUSS, and the anti-fingerprint layer was rubbed 1500 times with an eraser for abrasion resistance test, and then water contact angle was repeated in the same manner as above. By measuring the contact angle reduction rate was evaluated according to the following criteria.

A: 마모 후 접촉각 저하율 3% 이내A: Less than 3% of reduction in contact angle after wear

B: 마모 후 접촉각 저하율 3% 초과 내지 5% 이하B: After abrasion, the contact angle reduction rate exceeds 3% to 5% or less

C: 마모 후 접촉각 저하율 5% 초과 내지 9% 이하C: After abrasion, the contact angle reduction rate exceeds 5% to 9% or less

D: 마모 후 접촉각 저하율 9% 초과 내지 13% 이하D: After abrasion, the contact angle reduction rate exceeds 9% to 13%

E: 마모 후 접촉각 저하율 13% 초과 내지 20% 이하E: After abrasion, the contact angle reduction rate exceeds 13% to 20% or less

F: 마모 후 접촉각 저하율 20% 초과F: More than 20% of reduction in contact angle after wear

구분division 온도(℃)Temperature(℃) 습도(%)Humidity(%) 건조 시간(분)Drying time (minutes) 효과effect 실시예 1Example 1 100100 5050 1010 CC 실시예 2Example 2 100100 6565 1010 CC 실시예 3Example 3 100100 8080 1010 CC 실시예 4Example 4 100100 5050 2020 CC 실시예 5Example 5 100100 6565 2020 CC 실시예 6Example 6 100100 8080 2020 CC 실시예 7Example 7 130130 5050 1010 BB 실시예 8Example 8 130130 6565 1010 BB 실시예 9Example 9 130130 8080 1010 BB 실시예 10Example 10 130130 5050 2020 BB 실시예 11Example 11 130130 6565 2020 BB 실시예 12Example 12 130130 8080 2020 BB 실시예 13Example 13 150150 5050 1010 BB 실시예 14Example 14 150150 6565 1010 AA 실시예 15Example 15 150150 8080 1010 AA 실시예 16Example 16 150150 5050 1515 BB 실시예 17Example 17 150150 6565 1515 AA 실시예 18Example 18 150150 8080 1515 AA 실시예 19Example 19 150150 5050 2020 BB 실시예 20Example 20 150150 6565 2020 AA 실시예 21Example 21 150150 8080 2020 AA 실시예 22Example 22 155155 5050 1515 BB 실시예 23Example 23 155155 6565 1515 AA 실시예 24Example 24 155155 8080 1515 AA 실시예 25Example 25 155155 5050 2020 BB 실시예 26Example 26 155155 6565 2020 AA 실시예 27Example 27 155155 8080 2020 AA 비교예 1Comparative Example 1 5050 5050 1010 FF 비교예 2Comparative Example 2 5050 5050 2525 FF 비교예 3Comparative Example 3 100100 5050 55 FF 비교예 4Comparative Example 4 100100 6565 55 EE 비교예 5Comparative Example 5 100100 8080 55 EE 비교예 6Comparative Example 6 130130 5050 55 EE 비교예 7Comparative Example 7 130130 6565 55 EE 비교예 8Comparative Example 8 130130 8080 55 EE

상기 표 1을 참조하면, 실시예 1 내지 27의 방법에 따라 형성된 지문방지층은 115 내지 118°범위 내의 수접촉각을 나타내어, 종래 건식 공정에 의해 형성되는 지문방지층과 유사한 수준의 우수한 수접촉각을 나타내었다. 그리고, 마모 후에도 접촉각 저하율이 적어 우수한 내구성을 가짐을 확인하였다.Referring to Table 1, the anti-fingerprint layer formed according to the method of Examples 1 to 27 exhibited a water contact angle within the range of 115 to 118°, and exhibited an excellent water contact angle similar to that of the anti-fingerprint layer formed by the conventional dry process. . In addition, it was confirmed that the contact angle reduction rate was small even after abrasion and thus had excellent durability.

그러나, 비교예 1 내지 8의 방법에 따라 형성된 지문방지층은 수접촉각이 110 내지 115 °에 불과하였고, 마모 후에 접촉각 저하율도 커서 내구성이 떨어짐을 확인하였다.However, it was confirmed that the anti-fingerprint layer formed according to the method of Comparative Examples 1 to 8 had a water contact angle of only 110 to 115 °, and the contact angle reduction rate after abrasion was also large and durability was poor.

Claims (11)

습식 공정에 의해 액상의 지문방지층 형성용 조성물을 기재의 일면에 도포하여 지문방지 도막을 형성하고; 그리고
온도 130 내지 155℃, 상대 습도 50% 이상의 조건에서 상기 도막에 대해 10 내지 20분의 수행 시간으로 건조 공정을 수행하여, 상기 도막을 경화시켜, 지문 방지층을 형성하는 것;을 포함하며,
상기 지문방지층 형성용 조성물은 과불소 폴리에테르 및 용매를 포함하고,
상기 과불소 폴리에테르는 과불소 폴리트리메틸렌옥시드, 과불소 폴리에틸렌옥시드, 과불소 폴리디옥솔란 및 과불소 폴리트리옥소칸으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 지문방지층의 형성 방법.
Applying a liquid composition for forming an anti-fingerprint layer to one surface of a substrate by a wet process to form an anti-fingerprint coating film; And
Including; to form a fingerprint protection layer by curing the coating film by performing a drying process on the coating film under conditions of a temperature of 130 to 155°C and a relative humidity of 50% or more with a running time of 10 to 20 minutes, and,
The composition for forming the anti-fingerprint layer comprises perfluorinated polyether and a solvent,
The perfluorinated polyether is at least one selected from the group consisting of perfluorinated polytrimethylene oxide, perfluorinated polyethylene oxide, perfluorinated polydioxolane, and perfluorinated polytrioxocane, a method of forming an anti-fingerprint layer.
삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 습식 공정은 바 코팅, 다이 코팅, 스핀 코팅, 침지, 인쇄 또는 분사 공정인, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the wet process is a bar coating, die coating, spin coating, dipping, printing or spraying process.
청구항 1에 있어서, 상기 습식 공정은 에어 스프레이 공정인, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the wet process is an air spray process.
청구항 1에 있어서, 상기 건조 공정의 온도는 130 내지 150℃인, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the drying process is performed at a temperature of 130 to 150°C.
청구항 1에 있어서, 상기 건조 공정의 상대 습도는 50 내지 75%인, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the drying process has a relative humidity of 50 to 75%.
청구항 1에 있어서, 상기 건조 공정의 수행 시간은 10 내지 15분인, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the drying process is performed for 10 to 15 minutes.
청구항 1에 있어서, 상기 건조는 130 내지 150℃의 온도, 50 내지 75%의 상대 습도 조건에서 10 내지 15분간 수행되는, 지문방지층의 형성 방법.
The method of claim 1, wherein the drying is performed for 10 to 15 minutes at a temperature of 130 to 150°C and a relative humidity of 50 to 75%.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 용매는 퍼플루오로 지방족 탄화수소, 퍼플루오로 방향족 탄화수소, 및 폴리플루오르화 지방족 탄화수소로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 지문 방지층의 형성 방법.The method of claim 1, wherein the solvent is at least one selected from the group consisting of perfluoro aliphatic hydrocarbons, perfluoro aromatic hydrocarbons, and polyfluorinated aliphatic hydrocarbons.
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