KR102167872B1 - Liquid electrode plasma apparatus, metal coating apparatus and liquid sterilizing apparatus using same - Google Patents

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Abstract

액체 전극 플라즈마 장치가 개시된다. 상기 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 개구를 가지고 상기 제1 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제1 액체 공급 라인; 제2 개구를 가지고 상기 제2 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제2 액체 공급 라인; 상기 제1 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제1 전극; 상기 제2 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제2 전극; 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되도록 구성되는 전압인가수단을 포함하고, 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구는 마주하며 소정의 간격을 이루고, 상기 전압인가수단은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가한다.A liquid electrode plasma apparatus is disclosed. The liquid electrode plasma apparatus includes: a first liquid supply line having a first opening and configured to eject a liquid into the first opening; A second liquid supply line having a second opening and configured to eject a liquid through the second opening; A first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening; A second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening; And a voltage applying means configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode, the first opening and the second opening facing each other and forming a predetermined distance, and the voltage applying means is the first opening And a voltage is applied so that plasma is formed between the liquid ejected from the second opening.

Description

액체 전극 플라즈마 장치, 이를 이용한 금속 코팅 장치 및 액체 살균 장치 {LIQUID ELECTRODE PLASMA APPARATUS, METAL COATING APPARATUS AND LIQUID STERILIZING APPARATUS USING SAME}Liquid electrode plasma device, metal coating device and liquid sterilization device using the same {LIQUID ELECTRODE PLASMA APPARATUS, METAL COATING APPARATUS AND LIQUID STERILIZING APPARATUS USING SAME}

본 발명은 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 생성하는 액체 전극 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma device, and more particularly, to a liquid electrode plasma device for generating plasma by applying energy to a liquid.

플라즈마(plasma)란 이온화된 가스를 의미하고, 원자 또는 분자로 이루어진 가스에 에너지를 이용하여 여기시키면, 전자, 이온, 분해된 가스, 및 광자(photon) 등으로 이루어진 플라즈마가 형성된다. 이러한 플라즈마는 핵융합 발전, 반도체 분야에서의 기판의 표면 처리, 또는 분말의 표면 처리 등 다양하게 이용되고 있다.Plasma means an ionized gas, and when a gas composed of atoms or molecules is excited with energy, a plasma composed of electrons, ions, decomposed gas, and photons is formed. Such plasma is used in various ways such as fusion power generation, surface treatment of a substrate, or surface treatment of a powder in the semiconductor field.

고체나 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키기 위해서는 기체에 열에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 경우보다 많은 양의 열에너지 공급이 필요하다.In order to generate a plasma based on a solid or liquid, it is necessary to supply a larger amount of thermal energy than when generating plasma by applying thermal energy to a gas.

그러므로, 기체에 열에너지를 가하는 것이 열에너지를 많이 공급하지 않아도 되기 때문에 가장 효율적이고, 용이하게 플라즈마를 발생시킬 수 있는 방법이다.Therefore, applying thermal energy to the gas is the most efficient and easy way to generate plasma because it is not necessary to supply a large amount of thermal energy.

그러나, 기체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키는 경우에 발생되는 이온 또는 라디칼의 양은 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키는 경우에 발생되는 이온 또는 라디칼의 양에 비해 매우 적다는 문제점이 있다. 이는, 기체가 액체에 비하여 부피는 크지만 밀도가 작기 때문이다.However, there is a problem that the amount of ions or radicals generated when plasma is generated based on a gas is very small compared to the amount of ions or radicals generated when plasma is generated based on a liquid. This is because gas has a larger volume than a liquid, but has a smaller density.

이와 같은 문제를 해결하기 위하여, 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치들이 개발되고 있다.In order to solve this problem, devices for generating plasma by applying energy to a liquid have been developed.

그러나, 종래 대부분의 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치들은 전극의 전체 또는 일부가 수중에 침수되므로 전극이 부식되며, 전극에 부식에 따라 수명이 단축되는 문제가 있었다.However, conventional devices for generating plasma by applying energy to most liquids have a problem that the electrode is corroded because all or part of the electrode is submerged in water, and the lifespan is shortened due to the corrosion of the electrode.

또한, 종래 대부분의 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치는 수중 또는 수면에서 플라즈마를 발생시키는 구조로 개발되었다.In addition, conventional devices for generating plasma by applying energy to most liquids have been developed with a structure that generates plasma in water or in water.

따라서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 액체 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있고, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있도록 한 액체 전극 플라즈마 장치를 제공하는데 있다.Therefore, the problem to be solved by the present invention is to solve the corrosion problem of the metal electrode, which is a chronic problem when the liquid plasma is generated, to provide a new device for liquid plasma generation, and to provide a new coating and water treatment method based on liquid plasma. It is to provide a liquid electrode plasma apparatus.

일 측면으로서, 본 발명은, 제1 개구를 가지고 상기 제1 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제1 액체 공급 라인; 제2 개구를 가지고 상기 제2 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제2 액체 공급 라인; 상기 제1 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제1 전극; 상기 제2 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제2 전극; 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되도록 구성되는 전압인가수단을 포함하고, 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구는 마주하며 소정의 간격을 이루고, 상기 전압인가수단은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가하는, 액체 전극 플라즈마 장치를 제공한다.In one aspect, the present invention comprises: a first liquid supply line having a first opening and configured to eject a liquid into the first opening; A second liquid supply line having a second opening and configured to eject a liquid through the second opening; A first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening; A second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening; And a voltage applying means configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode, the first opening and the second opening facing each other and forming a predetermined distance, and the voltage applying means is the first opening And a liquid electrode plasma apparatus for applying a voltage such that plasma is formed between the liquid ejected from the second opening.

상기 전극은 공급 라인의 외주면을 감싸는 고리형 타입의 전극일 수 있다. 상기 전극은 상기 개구와 떨어져 위치함이 바람직하다. 개구 측에 가까이 위치하면 전극 사이에서 불필요한 방전이 발생할 수 있다. 따라서, 불필요한 방전을 차단하기 위해 상기 제1 및 제 2 액체 공급라인의 각 개구는 이의 둘레에 절연층을 포함할 수 있고, 상기 제1 및 제2 전극은 각각 상기 절연층의 안측에 위치함을 특징으로 할 수 있다. The electrode may be an annular type electrode surrounding the outer peripheral surface of the supply line. It is preferable that the electrode is located away from the opening. If it is located close to the opening side, unnecessary discharge may occur between the electrodes. Therefore, in order to block unnecessary discharge, each opening of the first and second liquid supply lines may include an insulating layer around them, and the first and second electrodes are respectively located inside the insulating layer. It can be characterized.

또는, 상기 제1 및 제2 전극은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비될 수 있다. 액체와 접촉의 의미는 액체가 제1 전극 및 제2 전극에 직접 접촉하는 것을 의미한다.Alternatively, the first and second electrodes may be provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines. The meaning of contact with the liquid means that the liquid is in direct contact with the first electrode and the second electrode.

상기 플라즈마는 상기 액체의 플라즈마임을 특징으로 한다. The plasma is characterized in that it is a plasma of the liquid.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 액체 공급원을 가지고, 상기 액체 공급원으로부터 각각 액체가 공급됨을 특징으로 한다.The first liquid supply line and the second liquid supply line each have a liquid supply source, and each liquid is supplied from the liquid supply source.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 상기 액체 공급원과 각각의 제1 전극 및 제2 전극 사이에 에어볼륨 구간을 포함하며, 상기 에어볼륨 구간은 공기로 채워져 있는 공간을 의미한다. 액체 공급원으로부터 개구까지 액체로 가득 차있는 것이 아니고, 중간 위치에 공기로만 이뤄진 구간을 가져, 액체 공급 라인 내에서 액체 공급원 측의 액체 구간과 개구 측의 액체 라인이 분리되어 있다. 상기 에어볼륨 구간은 전기 절연 구간으로서 기능하여, 전극에 인가되는 전압이 상기 액체 공급원으로의 절연되도록 한다.The first liquid supply line and the second liquid supply line each include an air volume section between the liquid supply source and each of the first and second electrodes, and the air volume section means a space filled with air. . It is not filled with liquid from the liquid supply source to the opening, but has a section made of only air at an intermediate position, so that the liquid section on the liquid supply source side and the liquid line on the opening side are separated in the liquid supply line. The air volume section functions as an electrical insulation section so that the voltage applied to the electrode is insulated from the liquid supply source.

상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 한다.It is characterized in that the liquid is supplied discontinuously in the direction of the electrode between the air volume sections.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각, 상기 각각의 제1 전극 및 제2 전극보다 높은 위치를 가지는 각각 굽이진 구간을 가지고, 상기 에어볼륨 구간은 상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치로부터 아래로 상기 각각의 제1 및 제2 전극 사이에 형성됨을 특징으로 한다. Each of the first liquid supply line and the second liquid supply line has a curved section having a position higher than that of the first electrode and the second electrode, and the air volume section is the high level of the curved section. It is characterized in that it is formed between the respective first and second electrodes downward from the position.

상기 높은 위치로부터 아래로 상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 한다. It is characterized in that the liquid is supplied discontinuously in the direction of the electrode between the air volume section from the high position downward.

상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치와 상기 액체 공급원 사이에 불연속적 액체 공급을 위한 펌프를 포함함을 특징으로 한다. 상기 펌프는 연동 펌프(Peristaltic pump)일 수 있다. And a pump for discontinuous liquid supply between the high position of the bent section and the liquid supply source. The pump may be a peristaltic pump.

상기 액체는 전도성 액체일 수 있다. 전도성을 부가하여 플라즈마의 발생을 위한 낮은 전압을 사용할 수 있는 등의 효율을 높일 수 있다. The liquid may be a conductive liquid. By adding conductivity, efficiency such as being able to use a low voltage for generating plasma can be improved.

여기서, 상기 불연속적 액체 공급의 의미는 액체의 공급이 연속적이지 않은 간헐적인 공급을 의미하는 것이 아니고, 상기 굽이진 구간의 높은 위치로부터 제1 전극 방향 또는 제2 전극 방향으로 액적 형태로 끊어져서 연속 공급되는 것을 의미한다.Here, the meaning of the discontinuous liquid supply does not mean that the supply of the liquid is not continuous and intermittent supply, but is continuously supplied by being cut in the form of droplets in the direction of the first electrode or the direction of the second electrode from a high position in the bent section. Means being.

다른 측면으로서, 본 발명은 상기 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 금속 코팅 장치로서, 상기 액체는 금속 전구체를 포함하고, 상기 액체 전극 플라즈마 장치의 플라즈마를 피처리물에 조사함에 의해 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅시킴을 특징으로 하는, 금속 코팅 장치를 제공한다. 상기 금속 전구체는 액체 상에서 금속이온을 제공할 수 있는 화합물일 수 있고 또는 액체 플라즈마되어 금속을 제공할 수 있는 화합물일 수 있다.In another aspect, the present invention is a metal coating apparatus using the liquid electrode plasma device, wherein the liquid contains a metal precursor, and the object to be processed from the metal precursor is irradiated with plasma of the liquid electrode plasma device. It provides a metal coating apparatus, characterized in that coating a metal on. The metal precursor may be a compound capable of providing metal ions in a liquid phase, or a compound capable of providing a metal through liquid plasma.

또 다른 측면으로서, 상기 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 액체 살균 장치를 제공한다.In another aspect, there is provided a liquid sterilization apparatus using the liquid electrode plasma apparatus.

본 발명에 따른 액체 전극 플라즈마 장치에 의하면, 액체 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있고, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있는 이점이 있다.According to the liquid electrode plasma device according to the present invention, it is possible to solve the corrosion problem of the metal electrode, which is a chronic problem when the liquid plasma is generated, to provide a new device for liquid plasma generation, and to provide a new coating and water treatment method based on liquid plasma. There is an advantage to be able to do.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 제1 개구 및 제2 개구와 제1 전극 및 제2 전극 간의 회로 구성을 나타내는 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 제작된 모습을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로 이용하여, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3·9H2O의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사한 실시예에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지의 분석 결과를 나타낸다.1 is a view for explaining the configuration of a liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a circuit diagram showing a circuit configuration between the first and second openings of FIG. 1 and the first and second electrodes.
3 shows a fabricated state of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a silicon wafer (Si wafer) by plasma discharge with an aqueous solution of aluminum nitrate nonahydrate (ANN) Al(NO 3 ) 3· 9H 2 O using a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention as a metal coating device. ) Shows the analysis results of the surface image of the silicon wafer according to the embodiment.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the present invention, various modifications may be made and various forms may be applied, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form disclosed, it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each drawing, similar reference numerals have been used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown to be enlarged compared to the actual size for clarity of the present invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are used only to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance the possibility of being added.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 도 1의 제1 개구 및 제2 개구와 제1 전극 및 제2 전극 간의 회로 구성을 나타내는 회로도이다.1 is a diagram for explaining a configuration of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit configuration between a first opening and a second opening of FIG. 1 and a first electrode and a second electrode. It is a circuit diagram.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 액체 공급 라인(100), 제2 액체 공급 라인(200), 제1 전극(310), 제2 전극(320), 전압인가수단(400)을 포함한다.1 and 2, a liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first liquid supply line 100, a second liquid supply line 200, a first electrode 310, and a second electrode. (320), and a voltage application means (400).

제1 액체 공급 라인(100)은 소정의 길이를 갖는 호스 형태로 구성될 수 있다. 제1 액체 공급 라인(100)은 제1 개구(101) 및 제1 액체 공급원(110)을 포함한다. 제1 개구(101)는 액체가 분출되는 제1 액체 공급 라인(100)의 끝단부를 의미한다. 제1 액체 공급원(110)은 제1 개구(101)의 높이보다 높게 배치될 수 있고, 액체 플라즈마의 생성을 위한 액체를 저장하여 제1 개구(101) 방향으로 공급한다. The first liquid supply line 100 may be configured in the form of a hose having a predetermined length. The first liquid supply line 100 includes a first opening 101 and a first liquid supply source 110. The first opening 101 refers to an end portion of the first liquid supply line 100 from which liquid is ejected. The first liquid supply source 110 may be disposed higher than the height of the first opening 101, and stores a liquid for generating liquid plasma and supplies it to the first opening 101.

제2 액체 공급 라인(200)은 소정의 길이를 갖는 호스 형태로 구성될 수 있다. 제2 액체 공급 라인(200)은 제2 개구(201) 및 제2 액체 공급원(210)을 포함한다. 제2 개구(201)는 액체가 분출되는 제2 액체 공급 라인(200)의 끝단부를 의미한다. 제2 액체 공급원(210)은 제2 개구(201)의 높이보다 높게 배치될 수 있고, 액체 플라즈마의 생성을 위한 액체를 저장하여 제2 개구(201) 방향으로 공급한다.The second liquid supply line 200 may be configured in the form of a hose having a predetermined length. The second liquid supply line 200 includes a second opening 201 and a second liquid supply source 210. The second opening 201 means the end of the second liquid supply line 200 from which the liquid is ejected. The second liquid supply source 210 may be disposed higher than the height of the second opening 201, and stores a liquid for generating liquid plasma and supplies it to the second opening 201.

여기서, 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)은 서로 대칭적으로 배치될 수 있고, 상기 액체는 전도성 액체이며, 상기 액체 플라즈마는 전도성 액체에 의해 생성되는 플라즈마를 의미한다.Here, the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 may be disposed symmetrically to each other, the liquid is a conductive liquid, and the liquid plasma means plasma generated by the conductive liquid. .

제1 전극(310)은 제1 개구(101)로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성된다. 이를 위해, 제1 전극(310)은 제1 액체 공급 라인(100)의 외주면을 감싸도록 고리형 타입으로 구비될 수 있고, 제1 액체 공급 라인(100) 상에 구비되어 제1 액체 공급 라인(100)의 제1 액체 공급원(110)으로부터 공급되는 액체에 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제1 전극(310)은 제1 개구(101)와 일정 거리 떨어져서 위치한다.The first electrode 310 is configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening 101. To this end, the first electrode 310 may be provided in an annular type to surround the outer circumferential surface of the first liquid supply line 100, and is provided on the first liquid supply line 100 to provide a first liquid supply line ( A voltage may be applied to the liquid supplied from the first liquid supply source 110 of 100). In this case, the first electrode 310 is positioned at a predetermined distance from the first opening 101.

또는, 상기 제1 및 제2 전극(310, 320)은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인(100, 200) 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비될 수 있다. 이러한 경우, 제1 및 제2 전극(310, 320)은 고리 형상이면서 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스 경로의 중간에 호스를 감싸지 않도록 끼워지는 형태로 구비되어서 액체와 직접 접촉하도록 구비될 수 있다.Alternatively, the first and second electrodes 310 and 320 may be provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines 100 and 200. In this case, the first and second electrodes 310 and 320 have a ring shape and are fitted in the middle of the hose path of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 so as not to wrap the hose. Can be provided to be in direct contact with the liquid.

제2 전극(320)은 제2 개구(201)로 분출되는 액체에 전압이 인가되도록 구성된다. 이를 위해, 제2 전극(320)은 제2 액체 공급 라인(200)의 외주면을 감싸도록 고리형 타입으로 구비될 수 있고, 제2 액체 공급 라인(200) 상에 구비되어 제2 액체 공급 라인(200)의 제2 액체 공급원(210)으로부터 공급되는 액체에 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제2 전극(320)은 제2 개구(201)와 일정 거리 떨어져서 위치한다.The second electrode 320 is configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening 201. To this end, the second electrode 320 may be provided in an annular type to surround the outer circumferential surface of the second liquid supply line 200, and is provided on the second liquid supply line 200 to provide a second liquid supply line ( A voltage may be applied to the liquid supplied from the second liquid supply source 210 of 200). In this case, the second electrode 320 is positioned at a predetermined distance from the second opening 201.

상기 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)는 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)간에 방전이 일어나지 않을 거리로 서로 이격되어 위치하며, 상기 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)는 서로 마주하며, 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)는 분출되는 액체가 서로 접하는 거리이거나 또는 서로 접하지 않는 거리일 수 있다. 분출되는 액체가 서로 접하지 않는 거리인 경우, 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로부터 분출되는 액체 사이에 플라즈마가 형성되며, 분출되는 액체가 서로 접하는 거리인 경우, 액체가 전도성을 가지지만 액체가 서로 충돌하여 분산되면서 미스트 형태가 되어서 아크 방전과 같은 현상이 발생되어 플라즈마를 형성할 수 있다.The first electrode 310 and the second electrode 320 are spaced apart from each other by a distance at which no discharge occurs between the first electrode 310 and the second electrode 320, and the first opening 101 and the second electrode 320 2 The openings 201 face each other, and the first opening 101 and the second opening 201 may be a distance in which the ejected liquid contacts each other or a distance not in contact with each other. When the ejected liquids are in contact with each other, plasma is formed between the liquid ejected from the first opening 101 and the second opening 201, and when the ejected liquids are in contact with each other, the liquid becomes conductive. However, the liquids collide with each other and are dispersed to form a mist, and a phenomenon such as arc discharge may occur, thereby forming plasma.

전압인가수단(400)은 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가한다. 이때, 전압인가수단(400)으로부터 인가되는 전압은 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 간의 거리 및 액체의 전도도를 고려하여 적절한 전압으로 인가된다.The voltage applying means 400 applies a voltage such that plasma is formed between the liquid ejected from the first opening 101 and the second opening 201. At this time, the voltage applied from the voltage applying means 400 is applied with an appropriate voltage in consideration of the distance between the first opening 101 and the second opening 201 and the conductivity of the liquid.

한편, 제1 액체 공급 라인(100)은 제1 굽이진 구간(120) 및 제1 에어볼륨 구간(130)을 포함하고, 상기 제2 액체 공급 라인(200)은 제2 굽이진 구간(220) 및 제2 에어볼륨 구간(230)을 포함한다.Meanwhile, the first liquid supply line 100 includes a first curved section 120 and a first air volume section 130, and the second liquid supply line 200 is a second curved section 220 And a second air volume section 230.

제1 굽이진 구간(120)은 제1 액체 공급원(110) 및 제1 전극(310)의 사이에 위치하고, 제2 굽이진 구간(220)은 제2 액체 공급원(210) 및 제2 전극(320)의 사이에 위치한다. 제1 굽이진 구간(120)은 제1 액체 공급원(110)으로부터 제1 전극(310)을 향해 연장되는 구간이고, 제2 굽이진 구간(220)은 제2 액체 공급원(210)으로부터 제2 전극(320)을 향해 연장되는 구간이며, 역U자 형상으로 굽이진 형태일 수 있다. 각각의 굽이진 구간(120, 220)의 높이는 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)의 위치보다 높다. The first bent section 120 is located between the first liquid supply source 110 and the first electrode 310, and the second bent section 220 is the second liquid supply source 210 and the second electrode 320 It is located between ). The first bent section 120 is a section extending from the first liquid supply source 110 toward the first electrode 310, and the second bent section 220 is a second electrode from the second liquid supply source 210. It is a section extending toward (320), it may be a form bent in an inverted U shape. The height of each of the curved sections 120 and 220 is higher than the positions of the first electrode 310 and the second electrode 320.

제1 에어볼륨 구간(130)은 제1 액체 공급원(110)과 제1 전극(310) 사이에 공기로 채워진 공간을 의미하고, 제2 에어볼륨 구간(230)은 제2 액체 공급원(210)과 제2 전극(320) 사이에 공기로 채워진 공간을 의미한다. 제1 에어볼륨 구간(130)은 제1 굽이진 구간(120)의 높은 위치 및 제1 전극(310)의 사이에 형성되고, 제2 에어볼륨 구간(230)은 제2 굽이진 구간(220)의 높은 위치 및 제2 전극(320)의 사이에 형성된다. 각각의 에어볼륨 구간(130, 230)은 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)에 의해 전압이 인가된 액체와 전압이 인가되기 전의 액체 간의 절연 기능을 한다.The first air volume section 130 means a space filled with air between the first liquid supply source 110 and the first electrode 310, and the second air volume section 230 is the second liquid supply source 210 and It means a space filled with air between the second electrodes 320. The first air volume section 130 is formed between the high position of the first bent section 120 and the first electrode 310, and the second air volume section 230 is the second bent section 220 Is formed between the high position and the second electrode 320. Each of the air volume sections 130 and 230 serves as insulation between the liquid to which voltage is applied by the first electrode 310 and the second electrode 320 and the liquid before the voltage is applied.

이러한 각각의 굽이진 구간(120, 220) 및 각각의 에어볼륨 구간(130, 230)을 통해 제1 액체 공급원(110) 및 제2 액체 공급원(210)으로부터 공급되는 액체는 각각 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향으로 불연속적 공급이 이루어질 수 있다. 즉, 액체가 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로 공급되기 전 굽이진 구간(120, 220)의 높은 위치는 액체의 최대 수위일 수 있고, 그 최대 수위에서 액체가 넘치도록 각각의 액체 공급원(110, 210)으로부터 액체가 공급되면 액체는 각각의 굽이진 구간(120, 220)의 높은 위치로부터 액적 형태로 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향을 향해 공급된다.The liquid supplied from the first liquid supply source 110 and the second liquid supply source 210 through each of these curved sections 120 and 220 and each of the air volume sections 130 and 230 is a first electrode 310 ) And the second electrode 320 may be supplied discontinuously. That is, the high position of the bent sections 120 and 220 before the liquid is supplied to the first opening 101 and the second opening 201 may be the maximum level of the liquid, and the liquid overflows at the maximum level, respectively. When the liquid is supplied from the liquid supply sources 110 and 210 of, the liquid is supplied from the high position of each bent section 120 and 220 toward the first electrode 310 and the second electrode 320 in the form of droplets. .

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 펌프(510) 및 제2 펌프(520)를 더 포함한다.Meanwhile, the liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention further includes a first pump 510 and a second pump 520.

제1 펌프(510)는 제1 굽이진 구간(120)의 높은 위치와 제1 액체 공급원(110) 사이에 구비되고, 제2 펌프(520)는 제2 굽이진 구간(220)의 높은 위치와 제2 액체 공급원(210) 사이에 구비된다. 각각의 펌프(510, 520)는 불연속적 액체 공급이 가능하도록 한다. 이를 위해, 펌프(510, 520)는 연동 펌프(Peristaltic pump)로 구비된다. 일 예로, 각각의 펌프(510, 520)는 중심축(511, 521)을 기준으로 회전하는 회전몸체(512, 522), 중심축(511, 521)의 원주 방향을 따라 회전몸체(512, 522)에 배열되고 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스를 가압하여 압축하는 호스압축롤러(513, 523)를 포함할 수 있다. 일 예로, 호스압출롤러(513, 523)는 3개일 수 있다. 호스압출롤러(513, 523)는 호스를 가압할 때 각각의 액체 공급원(110, 210)으로부터 각각의 굽이진 구간(120, 220) 방향으로 흐르는 액체의 흐름을 폐쇄하며, 호스압축롤러(513, 523)가 호스로부터 이격되면 각각의 액체 공급원(110, 210)으로부터 각각의 굽이진 구간(120, 220) 방향으로의 액체의 흐름이 개방된다. 액체의 흐름이 개방될 때 액체는 각각의 굽이진 구간(120, 220)의 최대 수위를 넘어서 액적 형태로 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향을 향해 공급된다.The first pump 510 is provided between the high position of the first bent section 120 and the first liquid supply source 110, and the second pump 520 is located at the high position of the second bent section 220 It is provided between the second liquid supply source 210. Each of the pumps 510 and 520 enables discontinuous liquid supply. To this end, the pumps 510 and 520 are provided as a peristaltic pump. For example, each of the pumps (510, 520) is a rotating body (512, 522) rotating with respect to the central axis (511, 521), the rotating body (512, 522) along the circumferential direction of the central axis (511, 521). ), and may include hose compression rollers 513 and 523 that pressurize and compress hoses of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200. For example, there may be three hose extrusion rollers 513 and 523. Hose extrusion rollers (513, 523) close the flow of liquid flowing from each liquid supply source (110, 210) toward each bent section (120, 220) when pressurizing the hose, hose compression roller (513, When 523 is separated from the hose, the flow of liquid from each of the liquid supply sources 110 and 210 in the direction of each bent section 120 and 220 is opened. When the flow of the liquid is opened, the liquid exceeds the maximum water level of each of the curved sections 120 and 220 and is supplied toward the first electrode 310 and the second electrode 320 in the form of droplets.

한편, 제1 액체 공급 라인(100)은 제1 개구(101)의 둘레에 제1 절연층(미도시)을 포함하고, 제2 액체 공급 라인(200)은 제2 개구(201)의 둘레에 제2 절연층(미도시)을 포함하며, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)은 제1 절연층 및 제2 절연층의 안측, 즉 순차적으로 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)의 단부, 상기 각각의 단부 후단의 제1 절연층 및 제2 절연층, 상기 제1 절연층 및 제2 절연층 각각의 후단의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)순으로 배치될 수 있다. 제1 절연층 및 제2 절연층과 이러한 배치 구조에 의해 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 간의 불필요한 방전을 방지할 수 있다.Meanwhile, the first liquid supply line 100 includes a first insulating layer (not shown) around the first opening 101, and the second liquid supply line 200 is around the second opening 201. It includes a second insulating layer (not shown), and the first electrode 310 and the second electrode 320 are inside the first insulating layer and the second insulating layer, that is, sequentially, the first opening 101 and the second electrode. An end of the opening 201, a first insulating layer and a second insulating layer at a rear end of each end, a first electrode 310 and a second electrode 320 at a rear end of each of the first insulating layer and the second insulating layer They can be placed in order. Unnecessary discharge between the first electrode 310 and the second electrode 320 may be prevented by the first and second insulating layers and the arrangement structure.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 간의 거리, 액체의 전도성, 및 전압의 크기의 제어에 의해 액체 플라즈마를 생성하며, 이러한 제어는 특별한 제한은 없으며, 액체의 공급 용량에 따라 당업자에 의해 적절히 설정될 수 있다.The liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention generates a liquid plasma by controlling the distance between the first opening 101 and the second opening 201, the conductivity of the liquid, and the magnitude of the voltage. Is not particularly limited, and may be appropriately set by a person skilled in the art according to the supply capacity of the liquid.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 통해 액체 플라즈마가 형성되는 과정을 설명한다.Hereinafter, a process of forming a liquid plasma through a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention will be described.

액체는 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200) 각각의 제1 액체 공급원(110) 및 제2 액체 공급원(210)으로부터 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 방향으로 공급된다. 이때, 각각의 액체 공급원(110, 210) 및 각각의 굽이진 구간(120, 220)의 높은 위치(최대 수위) 사이에 액체가 채워지며, 각각의 펌프(510, 520)는 회전한다.The liquid is supplied from the first liquid supply source 110 and the second liquid supply source 210 of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200, respectively, the first opening 101 and the second opening 201 Is supplied in the direction. At this time, the liquid is filled between the high position (maximum water level) of each of the liquid supply sources 110 and 210 and each of the curved sections 120 and 220, and each of the pumps 510 and 520 rotates.

각각의 펌프(510, 520)가 회전하면서 호스압축롤러(513, 523)는 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스를 가압하였다가 이격되는 과정을 반복하며, 호스압축롤러(513, 523)가 호스를 가압하면 각각의 굽이진 구간(120, 220)의 높은 위치로부터 액체가 최대 수위를 넘어서 액적 형태로 각각의 에어볼륨 구간(130, 230)을 지나서 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향으로 공급된다. 이러한 과정은 불연속적으로 반복된다.As each of the pumps 510 and 520 rotates, the hose compression rollers 513 and 523 pressurize the hoses of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 and repeat the process of being spaced apart, When the hose compression rollers (513, 523) pressurize the hose, the liquid from the high position of each bent section (120, 220) exceeds the maximum water level and passes each air volume section (130, 230) in the form of droplets. It is supplied in the direction of the first electrode 310 and the second electrode 320. This process is repeated discontinuously.

액체가 각각의 에어볼륨 구간(130, 230)의 아래로 공급되어 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)이 위치한 영역 내에 채워지면서 액체는 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 방향으로 공급된다. 이때, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)에는 전압인가수단(400)에 의해 전압이 인가되어 액체는 전도성을 갖게 된다.The liquid is supplied below each air volume section 130 and 230 and is filled in the region where each of the first and second electrodes 310 and 320 are located, and the liquid is 2 It is supplied in the direction of the opening 201. In this case, a voltage is applied to the first electrode 310 and the second electrode 320 by the voltage applying means 400 so that the liquid has conductivity.

이어서, 전도성 액체는 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)에서 분출되며, 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)에서 분출되는 액체 사이에 플라즈마가 형성된다.Subsequently, the conductive liquid is ejected from each of the first openings 101 and the second openings 201, and a plasma is formed between the liquids ejected from the respective first openings 101 and the second openings 201.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 제작된 모습을 나타낸 것으로서, 이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 도 3에 도시된 모습과 같이 실제 제작하였고, 제작된 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로서 이용하였다.3 is a view showing a fabricated state of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention, and the liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention was actually manufactured as shown in FIG. The resulting liquid electrode plasma device was used as a metal coating device.

금속 코팅 장치에서, 액체는 금속 전구체를 포함하고, 액체 전극 플라즈마 장치의 액체 플라즈마를 피처리물에 조사하여 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅하였다.In the metal coating apparatus, the liquid contains a metal precursor, and a liquid plasma of the liquid electrode plasma apparatus is irradiated to the object to be processed, thereby coating a metal on the object to be processed from the metal precursor.

실시예로, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3ㅇ9H2O 의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사하였다. 이때, 방전 조건 1로서 수용액의 전도도가 5ms/cm가 되도록 농도 설정하였고, 방전 조건으로서 수용액의 전도도가 70ms/cm가 되도록 농도 설정하였다. 방전 조건1 및 방전 조건에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지를 각각 EDAX 분석하였다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로 이용하여, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3·9H2O 의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사한 실시예에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지의 분석 결과를 나타낸다. 분석 결과, 도 4와 같이 실리콘 웨이퍼 표면에 알루미늄 코팅된 것을 확인할 수 있었다.As an example, plasma discharge was performed with an aqueous solution of ANN (aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3.9H2O to irradiate a silicon wafer (Si wafer). At this time, the concentration was set so that the conductivity of the aqueous solution was 5 ms/cm as the discharge condition 1, and the concentration was set so that the conductivity of the aqueous solution was 70 ms/cm as the discharge condition. The surface images of the silicon wafer according to the discharge condition 1 and the discharge condition were respectively analyzed by EDAX. Figure 4 is a silicon wafer (Si wafer) by plasma discharging with an aqueous solution of aluminum nitrate nonahydrate (ANN) Al (NO 3 ) 3· 9H 2 O using the liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention as a metal coating device. ) Shows the analysis results of the surface image of the silicon wafer according to the embodiment. As a result of the analysis, it was confirmed that aluminum was coated on the surface of the silicon wafer as shown in FIG. 4.

한편, 본 발명의 액체 전극 플라즈마 장치는 액체 살균 장치로서 이용될 수도 있다.Meanwhile, the liquid electrode plasma device of the present invention may be used as a liquid sterilization device.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 이용하면, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)을 수중에 침수시키지 않고서도 액체에 기초한 플라즈마의 생성이 가능해지므로 액체에 기초한 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있는 이점이 있다.When the liquid electrode plasma apparatus according to an embodiment of the present invention is used, it is possible to generate a liquid-based plasma without submerging the first electrode 310 and the second electrode 320 in water. There is an advantage of solving the corrosion problem of the metal electrode, which is a chronic problem when it occurs.

또한, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있는 이점이 있다.In addition, there is an advantage of providing a new apparatus for generating a liquid plasma, and providing a new coating and water treatment method based on a liquid plasma.

제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.The description of the presented embodiments is provided to enable any person skilled in the art to use or implement the present invention. Various modifications to these embodiments will be apparent to those of ordinary skill in the art, and the general principles defined herein can be applied to other embodiments without departing from the scope of the present invention. Thus, the present invention is not to be limited to the embodiments presented herein, but is to be construed in the widest scope consistent with the principles and novel features presented herein.

Claims (14)

제1 개구를 가지고 상기 제1 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제1 액체 공급 라인;
제2 개구를 가지고 상기 제2 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제2 액체 공급 라인;
상기 제1 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제1 전극;
상기 제2 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제2 전극;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되도록 구성되는 전압인가수단을 포함하고,
상기 제1 개구 및 상기 제2 개구는 마주하며 소정의 간격을 이루고,
상기 전압인가수단은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가하는,
액체 전극 플라즈마 장치.A first liquid supply line having a first opening and configured to eject a liquid through the first opening;
A second liquid supply line having a second opening and configured to eject a liquid through the second opening;
A first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening;
A second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening;
A voltage application means configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode,
The first opening and the second opening face each other and form a predetermined distance,
The voltage applying means applies a voltage so that plasma is formed between the liquid ejected from the first opening and the second opening,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 플라즈마는 상기 액체의 플라즈마임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The plasma is characterized in that the plasma of the liquid,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인은 제1 액체 공급원을 갖고, 상기 제2 액체 공급라인은 제2 액체 공급원을 갖고, 상기 제1 액체 공급원 및 상기 제2 액체 공급원으로부터 각각 액체가 공급됨을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The first liquid supply line has a first liquid supply source, the second liquid supply line has a second liquid supply source, characterized in that liquid is supplied from the first liquid supply source and the second liquid supply source, respectively,
Liquid electrode plasma device. 제3항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인은 상기 제1 액체 공급원과 상기 제1 전극 사이에 제1 에어볼륨 구간을 갖고,
상기 제2 액체 공급 라인은 상기 제2 액체 공급원과 상기 제2 전극 사이에 제2 에어볼륨 구간을 가짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 3,
The first liquid supply line has a first air volume section between the first liquid supply source and the first electrode,
Wherein the second liquid supply line has a second air volume section between the second liquid supply source and the second electrode,
Liquid electrode plasma device. 제4항에 있어서,
상기 제1 에어볼륨 구간에서 상기 제1 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄지고,
상기 제2 에어볼륨 구간에서 상기 제2 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 4,
In the first air volume section, discontinuous liquid supply is made in the direction of the first electrode,
In the second air volume section, characterized in that the discontinuous liquid supply is made in the direction of the second electrode,
Liquid electrode plasma device. 제4항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인은 상기 제1 전극의 위치보다 높게 위치하는 제1 굽이진 구간을 갖고,
상기 제2 액체 공급 라인은 상기 제2 전극의 위치보다 높게 위치하는 제2 굽이진 구간을 갖고,
상기 제1 에어볼륨 구간은 상기 제1 액체 공급원 및 상기 제1 전극 사이에 형성되고,
상기 제2 에어볼륨 구간은 상기 제2 액체 공급원 및 상기 제2 전극 사이에 형성됨을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 4,
The first liquid supply line has a first curved section positioned higher than the position of the first electrode,
The second liquid supply line has a second curved section positioned higher than the position of the second electrode,
The first air volume section is formed between the first liquid supply source and the first electrode,
The second air volume section is characterized in that formed between the second liquid supply source and the second electrode,
Liquid electrode plasma device. 제6항에 있어서,
상기 제1 굽이진 구간의 높은 위치로부터 아래로 상기 제1 에어볼륨 구간에서 상기 제1 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄지고,
상기 제2 굽이진 구간의 높은 위치로부터 아래로 상기 제2 에어볼륨 구간에서 상기 제2 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 6,
Discontinuous liquid supply is made in the direction of the first electrode in the first air volume section downward from the high position of the first curved section,
It characterized in that the liquid is supplied discontinuously in the direction of the second electrode in the second air volume section downward from a high position of the second bent section,
Liquid electrode plasma device. 제7항에 있어서,
상기 제1 굽이진 구간의 상기 높은 위치와 상기 제1 액체 공급원 사이에 불연속적 액체 공급을 위한 제1 펌프; 및
상기 제2 굽이진 구간의 상기 높은 위치와 상기 제2 액체 공급원 사이에 불연속적 액체 공급을 위한 제2 펌프를 포함함을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 7,
A first pump for discontinuous liquid supply between the high position of the first curved section and the first liquid supply source; And
It characterized in that it comprises a second pump for discontinuous liquid supply between the high position of the second bent section and the second liquid supply source,
Liquid electrode plasma device. 제8항에 있어서,
상기 제1 펌프 및 상기 제2 펌프는 연동 펌프(Peristaltic pump)임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 8,
The first pump and the second pump are characterized in that the peristaltic pump (Peristaltic pump),
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 액체는 전도성 액체임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The liquid is characterized in that the conductive liquid,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 액체 공급라인의 제1 개구는 이의 둘레에 제1 절연층을 포함하고,
상기 제2 액체 공급라인의 제2 개구는 이의 둘레에 제2 절연층을 포함하고,
상기 제1 전극은 상기 제1 절연층의 안측에 위치하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 절연층의 안측에 위치함을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The first opening of the first liquid supply line includes a first insulating layer around it,
The second opening of the second liquid supply line includes a second insulating layer around it,
The first electrode is positioned inside the first insulating layer, and the second electrode is positioned inside the second insulating layer,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 전극은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비되는 것을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The first and second electrodes are provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines,
Liquid electrode plasma device. 제1항의 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 금속 코팅 장치로서,
상기 액체는 금속 전구체를 포함하고,
상기 액체 전극 플라즈마 장치의 플라즈마를 피처리물에 조사함에 의해 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅시킴을 특징으로 하는,
금속 코팅 장치.A metal coating apparatus using the liquid electrode plasma apparatus of claim 1,
The liquid contains a metal precursor,
By irradiating the plasma of the liquid electrode plasma device to the object to be processed, characterized in that the metal is coated on the object to be processed from the metal precursor
Metal coating device. 제1항의 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 액체 살균 장치.A liquid sterilization device using the liquid electrode plasma device of claim 1.
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