KR20200047141A - Liquid electrode plasma apparatus, metal coating apparatus and liquid sterilizing apparatus using same - Google Patents

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Abstract

A liquid electrode plasma device is disclosed. The liquid electrode plasma device includes: a first liquid supply line having a first opening and configured to eject liquid into the first opening; a second liquid supply line having a second opening and configured to eject liquid into the second opening; a first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected into the first opening; a second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected into the second opening; and a voltage applying unit configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode, wherein the first opening and the second opening facing each other form a predetermined interval, and the voltage applying unit applies a voltage to form plasma between the first opening and the liquid ejected from the second opening.

Description

액체 전극 플라즈마 장치, 이를 이용한 금속 코팅 장치 및 액체 살균 장치 {LIQUID ELECTRODE PLASMA APPARATUS, METAL COATING APPARATUS AND LIQUID STERILIZING APPARATUS USING SAME}Liquid electrode plasma device, metal coating device and liquid sterilization device using the same {LIQUID ELECTRODE PLASMA APPARATUS, METAL COATING APPARATUS AND LIQUID STERILIZING APPARATUS USING SAME}

본 발명은 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 생성하는 액체 전극 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma device, and more particularly, to a liquid electrode plasma device that generates a plasma by applying energy to a liquid.

플라즈마(plasma)란 이온화된 가스를 의미하고, 원자 또는 분자로 이루어진 가스에 에너지를 이용하여 여기시키면, 전자, 이온, 분해된 가스, 및 광자(photon) 등으로 이루어진 플라즈마가 형성된다. 이러한 플라즈마는 핵융합 발전, 반도체 분야에서의 기판의 표면 처리, 또는 분말의 표면 처리 등 다양하게 이용되고 있다.Plasma (plasma) means an ionized gas, and when excited by using energy in a gas composed of atoms or molecules, plasma formed of electrons, ions, decomposed gas, and photons is formed. Such plasmas are widely used in nuclear fusion power generation, surface treatment of substrates in the semiconductor field, or surface treatment of powders.

고체나 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키기 위해서는 기체에 열에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 경우보다 많은 양의 열에너지 공급이 필요하다.In order to generate plasma based on a solid or liquid, it is necessary to supply a larger amount of heat energy than when generating plasma by applying heat energy to a gas.

그러므로, 기체에 열에너지를 가하는 것이 열에너지를 많이 공급하지 않아도 되기 때문에 가장 효율적이고, 용이하게 플라즈마를 발생시킬 수 있는 방법이다.Therefore, applying heat energy to the gas is the most efficient and easy method of generating plasma since it is not necessary to supply much heat energy.

그러나, 기체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키는 경우에 발생되는 이온 또는 라디칼의 양은 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키는 경우에 발생되는 이온 또는 라디칼의 양에 비해 매우 적다는 문제점이 있다. 이는, 기체가 액체에 비하여 부피는 크지만 밀도가 작기 때문이다.However, there is a problem that the amount of ions or radicals generated when generating a plasma based on a gas is very small compared to the amount of ions or radicals generated when generating a plasma based on a liquid. This is because the gas is bulky compared to the liquid, but has a small density.

이와 같은 문제를 해결하기 위하여, 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치들이 개발되고 있다.In order to solve such a problem, devices that generate plasma by applying energy to a liquid have been developed.

그러나, 종래 대부분의 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치들은 전극의 전체 또는 일부가 수중에 침수되므로 전극이 부식되며, 전극에 부식에 따라 수명이 단축되는 문제가 있었다.However, devices that generate plasma by applying energy to most liquids in the related art have a problem in that the electrode is corroded because all or part of the electrode is submerged in water, and the life of the electrode is reduced due to corrosion.

또한, 종래 대부분의 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 장치는 수중 또는 수면에서 플라즈마를 발생시키는 구조로 개발되었다.In addition, a conventional apparatus for generating plasma by applying energy to most liquids has been developed in a structure that generates plasma in water or on the water surface.

따라서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 액체 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있고, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있도록 한 액체 전극 플라즈마 장치를 제공하는데 있다.Therefore, the problem to be solved by the present invention is to solve the corrosion problem of the metal electrode, which is a chronic problem in the generation of liquid plasma, to provide a new apparatus for generating liquid plasma, and to provide a new coating and water treatment method based on liquid plasma. It is to provide a liquid electrode plasma device.

일 측면으로서, 본 발명은, 제1 개구를 가지고 상기 제1 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제1 액체 공급 라인; 제2 개구를 가지고 상기 제2 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제2 액체 공급 라인; 상기 제1 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제1 전극; 상기 제2 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제2 전극; 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되도록 구성되는 전압인가수단을 포함하고, 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구는 마주하며 소정의 간격을 이루고, 상기 전압인가수단은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가하는, 액체 전극 플라즈마 장치를 제공한다.In one aspect, the present invention includes a first liquid supply line having a first opening and configured to eject liquid into the first opening; A second liquid supply line having a second opening and configured to eject liquid into the second opening; A first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening; A second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening; And a voltage applying means configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode, the first opening and the second opening facing each other at a predetermined interval, and the voltage applying means is the first opening And a voltage applied so that a plasma is formed between the liquid ejected from the second opening.

상기 전극은 공급 라인의 외주면을 감싸는 고리형 타입의 전극일 수 있다. 상기 전극은 상기 개구와 떨어져 위치함이 바람직하다. 개구 측에 가까이 위치하면 전극 사이에서 불필요한 방전이 발생할 수 있다. 따라서, 불필요한 방전을 차단하기 위해 상기 제1 및 제 2 액체 공급라인의 각 개구는 이의 둘레에 절연층을 포함할 수 있고, 상기 제1 및 제2 전극은 각각 상기 절연층의 안측에 위치함을 특징으로 할 수 있다. The electrode may be an annular type electrode surrounding the outer peripheral surface of the supply line. Preferably, the electrode is positioned away from the opening. When located close to the opening side, unnecessary discharge may occur between the electrodes. Accordingly, to prevent unnecessary discharge, each opening of the first and second liquid supply lines may include an insulating layer around it, and the first and second electrodes are respectively located on the inner side of the insulating layer. It can be characterized as.

또는, 상기 제1 및 제2 전극은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비될 수 있다. 액체와 접촉의 의미는 액체가 제1 전극 및 제2 전극에 직접 접촉하는 것을 의미한다.Alternatively, the first and second electrodes may be provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines. The meaning of contact with a liquid means that the liquid directly contacts the first electrode and the second electrode.

상기 플라즈마는 상기 액체의 플라즈마임을 특징으로 한다. The plasma is characterized in that it is a plasma of the liquid.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 액체 공급원을 가지고, 상기 액체 공급원으로부터 각각 액체가 공급됨을 특징으로 한다.Each of the first liquid supply line and the second liquid supply line has a liquid source, and liquid is supplied from each of the liquid sources.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 상기 액체 공급원과 각각의 제1 전극 및 제2 전극 사이에 에어볼륨 구간을 포함하며, 상기 에어볼륨 구간은 공기로 채워져 있는 공간을 의미한다. 액체 공급원으로부터 개구까지 액체로 가득 차있는 것이 아니고, 중간 위치에 공기로만 이뤄진 구간을 가져, 액체 공급 라인 내에서 액체 공급원 측의 액체 구간과 개구 측의 액체 라인이 분리되어 있다. 상기 에어볼륨 구간은 전기 절연 구간으로서 기능하여, 전극에 인가되는 전압이 상기 액체 공급원으로의 절연되도록 한다.The first liquid supply line and the second liquid supply line each include an air volume section between the liquid supply source and each of the first and second electrodes, and the air volume section means a space filled with air. . It is not filled with liquid from the liquid source to the opening, but has an air-only section at an intermediate position, so that the liquid section on the liquid supply side and the liquid line on the opening side are separated in the liquid supply line. The air volume section functions as an electrical insulation section, so that the voltage applied to the electrode is insulated to the liquid source.

상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 한다.Discontinuous liquid supply is provided in the direction of the electrode between the air volume sections.

상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각, 상기 각각의 제1 전극 및 제2 전극보다 높은 위치를 가지는 각각 굽이진 구간을 가지고, 상기 에어볼륨 구간은 상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치로부터 아래로 상기 각각의 제1 및 제2 전극 사이에 형성됨을 특징으로 한다. The first liquid supply line and the second liquid supply line each have a bent section having a higher position than the respective first electrode and the second electrode, and the air volume section is the high of the bent section It is characterized in that it is formed between each of the first and second electrodes down from the position.

상기 높은 위치로부터 아래로 상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 한다. It characterized in that the discontinuous liquid supply is made in the direction of the electrode between the air volume section from the high position down.

상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치와 상기 액체 공급원 사이에 불연속적 액체 공급을 위한 펌프를 포함함을 특징으로 한다. 상기 펌프는 연동 펌프(Peristaltic pump)일 수 있다. And a pump for discontinuous liquid supply between the high position of the bent section and the liquid source. The pump may be a peristaltic pump.

상기 액체는 전도성 액체일 수 있다. 전도성을 부가하여 플라즈마의 발생을 위한 낮은 전압을 사용할 수 있는 등의 효율을 높일 수 있다. The liquid may be a conductive liquid. By adding conductivity, it is possible to increase efficiency, such as using a low voltage for generating plasma.

여기서, 상기 불연속적 액체 공급의 의미는 액체의 공급이 연속적이지 않은 간헐적인 공급을 의미하는 것이 아니고, 상기 굽이진 구간의 높은 위치로부터 제1 전극 방향 또는 제2 전극 방향으로 액적 형태로 끊어져서 연속 공급되는 것을 의미한다.Here, the meaning of the discontinuous liquid supply does not mean the intermittent supply in which the supply of the liquid is not continuous, and the continuous supply is cut off in the form of droplets in the first electrode direction or the second electrode direction from the high position of the bent section. It means being.

다른 측면으로서, 본 발명은 상기 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 금속 코팅 장치로서, 상기 액체는 금속 전구체를 포함하고, 상기 액체 전극 플라즈마 장치의 플라즈마를 피처리물에 조사함에 의해 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅시킴을 특징으로 하는, 금속 코팅 장치를 제공한다. 상기 금속 전구체는 액체 상에서 금속이온을 제공할 수 있는 화합물일 수 있고 또는 액체 플라즈마되어 금속을 제공할 수 있는 화합물일 수 있다.In another aspect, the present invention is a metal coating apparatus using the liquid electrode plasma apparatus, wherein the liquid includes a metal precursor, and the plasma object of the liquid electrode plasma apparatus is irradiated to the object to be processed to thereby be processed from the metal precursor. It provides a metal coating device, characterized in that to coat the metal. The metal precursor may be a compound capable of providing metal ions in the liquid phase, or a compound capable of being liquid plasma to provide metal.

또 다른 측면으로서, 상기 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 액체 살균 장치를 제공한다.As another aspect, a liquid sterilization apparatus using the liquid electrode plasma apparatus is provided.

본 발명에 따른 액체 전극 플라즈마 장치에 의하면, 액체 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있고, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있는 이점이 있다.According to the liquid electrode plasma device according to the present invention, it is possible to solve the corrosion problem of the metal electrode, which is a chronic problem when generating liquid plasma, to provide a new device for generating liquid plasma, and to provide a new coating and water treatment method based on liquid plasma. There is an advantage to do.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 제1 개구 및 제2 개구와 제1 전극 및 제2 전극 간의 회로 구성을 나타내는 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 제작된 모습을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로 이용하여, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3ㅇ9H2O 의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사한 실시예에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지의 분석 결과를 나타낸다.1 is a view for explaining the configuration of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration between the first opening and the second opening of FIG. 1 and the first electrode and the second electrode.
3 shows a manufactured state of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention.
4 is a plasma coating with an aqueous solution of aluminum nitrate nonahydrate (ANN) Al (NO3) 3. The analysis results of the surface image of the silicon wafer according to the embodiment are shown.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention can be applied to various changes and may have various forms, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosure form, and it should be understood that all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention are included. In describing each drawing, similar reference numerals are used for similar components. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown to be enlarged than the actual for clarity of the present invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from other components. For example, the first component may be referred to as a second component without departing from the scope of the present invention, and similarly, the second component may be referred to as a first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "include" or "have" are intended to indicate the presence of features, numbers, steps, actions, elements, parts or combinations thereof described in the specification, one or more other features. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person skilled in the art to which the present invention pertains. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having meanings consistent with meanings in the context of related technologies, and should not be interpreted as ideal or excessively formal meanings unless explicitly defined in the present application. Does not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 도 1의 제1 개구 및 제2 개구와 제1 전극 및 제2 전극 간의 회로 구성을 나타내는 회로도이다.1 is a view for explaining the configuration of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a circuit diagram between the first opening and the second opening and the first electrode and the second electrode of Figure 1 It is a circuit diagram.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 액체 공급 라인(100), 제2 액체 공급 라인(200), 제1 전극(310), 제2 전극(320), 전압인가수단(400)을 포함한다.1 and 2, a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention includes a first liquid supply line 100, a second liquid supply line 200, a first electrode 310, and a second electrode 320, a voltage applying means 400.

제1 액체 공급 라인(100)은 소정의 길이를 갖는 호스 형태로 구성될 수 있다. 제1 액체 공급 라인(100)은 제1 개구(101) 및 액체 공급원(110, 210)을 포함한다. 제1 개구(101)는 액체가 분출되는 제1 액체 공급 라인(100)의 끝단부를 의미한다. 액체 공급원(110, 210)은 제1 개구(101)의 높이보다 높게 배치될 수 있고 액체 플라즈마의 생성을 위한 액체를 저장하여 제1 개구(101) 방향으로 공급한다. The first liquid supply line 100 may be configured in the form of a hose having a predetermined length. The first liquid supply line 100 includes a first opening 101 and liquid sources 110 and 210. The first opening 101 means an end of the first liquid supply line 100 through which liquid is ejected. The liquid sources 110 and 210 may be disposed higher than the height of the first opening 101 and store the liquid for generating liquid plasma and supply it in the direction of the first opening 101.

제2 액체 공급 라인(200)은 소정의 길이를 갖는 호스 형태로 구성될 수 있다. 제2 액체 공급 라인(200)은 제2 개구(201) 및 액체 공급원(110, 210)을 포함한다. 제2 개구(201)는 액체가 분출되는 제2 액체 공급 라인(200)의 끝단부를 의미한다. 액체 공급원(110, 210)은 제2 개구(201)의 높이보다 높게 배치될 수 있고, 액체 플라즈마의 생성을 위한 액체를 저장하여 제2 개구(201) 방향으로 공급한다.The second liquid supply line 200 may be configured in the form of a hose having a predetermined length. The second liquid supply line 200 includes a second opening 201 and liquid sources 110 and 210. The second opening 201 means an end of the second liquid supply line 200 through which liquid is ejected. The liquid sources 110 and 210 may be disposed higher than the height of the second opening 201, and store liquid for generating liquid plasma and supply it in the direction of the second opening 201.

여기서, 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)은 서로 대칭적으로 배치될 수 있고, 상기 액체는 전도성 액체이며, 상기 액체 플라즈마는 전도성 액체에 의해 생성되는 플라즈마를 의미한다.Here, the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 may be disposed symmetrically to each other, the liquid is a conductive liquid, and the liquid plasma means a plasma generated by the conductive liquid .

제1 전극(310)은 제1 개구(101)로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성된다. 이를 위해, 제1 전극(310)은 제1 액체 공급 라인(100)의 외주면을 감싸도록 고리형 타입으로 구비될 수 있고, 제1 액체 공급 라인(100) 상에 구비되어 제1 액체 공급 라인(100)의 액체 공급원(110, 210)으로부터 공급되는 액체에 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제1 전극(310)은 제1 개구(101)와 일정 거리 떨어져서 위치한다.The first electrode 310 is configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening 101. To this end, the first electrode 310 may be provided in an annular type to surround the outer circumferential surface of the first liquid supply line 100, and provided on the first liquid supply line 100 to provide a first liquid supply line ( Voltage may be applied to the liquid supplied from the liquid sources 110 and 210 of 100). In this case, the first electrode 310 is positioned at a predetermined distance from the first opening 101.

또는, 상기 제1 및 제2 전극(310, 320)은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인(100, 200) 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비될 수 있다. 이러한 경우, 제1 및 제2 전극(310, 320)은 고리 형상이면서 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스 경로의 중간에 호스를 감싸지 않도록 끼워지는 형태로 구비되어서 액체와 직접 접촉하도록 구비될 수 있다.Alternatively, the first and second electrodes 310 and 320 may be provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines 100 and 200. In this case, the first and second electrodes 310 and 320 are ring-shaped and are provided in a form fitted to not wrap the hose in the middle of the hose paths of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 It can be provided to be in direct contact with the liquid.

제2 전극(320)은 제2 개구(201)로 분출되는 액체에 전압이 인가되도록 구성된다. 이를 위해, 제2 전극(320)은 제2 액체 공급 라인(200)의 외주면을 감싸도록 고리형 타입으로 구비될 수 있고, 제2 액체 공급 라인(200) 상에 구비되어 제2 액체 공급 라인(200)의 액체 공급원(110, 210)으로부터 공급되는 액체에 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제2 전극(320)은 제2 개구(201)와 일정 거리 떨어져서 위치한다.The second electrode 320 is configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening 201. To this end, the second electrode 320 may be provided in an annular type to surround the outer circumferential surface of the second liquid supply line 200, and provided on the second liquid supply line 200 to provide a second liquid supply line ( A voltage may be applied to the liquid supplied from the liquid sources 110 and 210 of 200). At this time, the second electrode 320 is positioned at a predetermined distance from the second opening 201.

상기 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)는 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)간에 방전이 일어나지 않을 거리로 서로 이격되어 위치하며, 상기 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)는 서로 마주하며, 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)는 분출되는 액체가 서로 접하는 거리이거나 또는 서로 접하지 않는 거리일 수 있다. 분출되는 액체가 서로 접하지 않는 거리인 경우, 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로부터 분출되는 액체 사이에 플라즈마가 형성되며, 분출되는 액체가 서로 접하는 거리인 경우, 액체가 전도성을 가지지만 액체가 서로 충돌하여 분산되면서 미스트 형태가 되어서 아크 방전과 같은 현상이 발생되어 플라즈마를 형성할 수 있다.The first electrode 310 and the second electrode 320 are spaced apart from each other at a distance at which no discharge will occur between the first electrode 310 and the second electrode 320, and the first opening 101 and the first electrode The two openings 201 face each other, and the first opening 101 and the second opening 201 may be distances in which the ejected liquids come into contact with each other or distances not in contact with each other. When the ejected liquids are at a distance that does not contact each other, a plasma is formed between the liquids ejected from the first opening 101 and the second opening 201, and when the ejected liquids are at a distance contacting each other, the liquids are conductive. However, as the liquids collide and disperse into each other, they become mist, and a phenomenon such as arc discharge can be generated to form plasma.

전압인가수단(400)은 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가한다. 이때, 전압인가수단(400)으로부터 인가되는 전압은 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 간의 거리 및 액체의 전도도를 고려하여 적절한 전압으로 인가된다.The voltage applying means 400 applies a voltage so that a plasma is formed between the liquid ejected from the first opening 101 and the second opening 201. At this time, the voltage applied from the voltage applying means 400 is applied with an appropriate voltage in consideration of the distance between the first opening 101 and the second opening 201 and the conductivity of the liquid.

한편, 제1 액체 공급 라인(100) 및 상기 제2 액체 공급 라인(200)은 각각 굽이진 구간(120, 130) 및 에어볼륨 구간(130, 230)을 포함한다.Meanwhile, the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 include curved sections 120 and 130 and air volume sections 130 and 230, respectively.

각각의 굽이진 구간(120, 130)은 각각의 액체 공급원(110, 210)과 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)의 사이에 위치한다. 각각의 굽이진 구간(120, 130)은 각각의 액체 공급원(110, 210)으로부터 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)을 향해 연장되는 구간이며, 역U자 형상으로 굽이진 형태일 수 있다. 굽이진 구간(120, 130)의 높이는 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)의 위치보다 높다. Each of the curved sections 120 and 130 is positioned between each of the liquid sources 110 and 210 and each of the first electrode 310 and the second electrode 320. Each of the curved sections 120 and 130 is a section extending from each of the liquid sources 110 and 210 toward each of the first electrode 310 and the second electrode 320, and is bent in an inverted U shape It can be in the form. The heights of the curved sections 120 and 130 are higher than the positions of the first electrode 310 and the second electrode 320.

에어볼륨 구간(130, 230)은 각각의 액체 공급원(110, 210)와 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 사이에 공기로 채워진 공간을 의미한다. 에어볼륨 구간(130, 230)은 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치로부터 아래로 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 사이에 형성된다. 에어볼륨 구간(130, 230)은 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)에 의해 전압이 인가된 액체와 전압이 인가되기 전의 액체 간의 절연 기능을 한다.The air volume sections 130 and 230 mean a space filled with air between each of the liquid sources 110 and 210 and each of the first electrode 310 and the second electrode 320. The air volume sections 130 and 230 are formed between the first electrode 310 and the second electrode 320 from the high position of the curved section 120 and 130 downward. The air volume sections 130 and 230 function as an insulation function between the liquid applied with the voltage by the first electrode 310 and the second electrode 320 and the liquid before the voltage is applied.

이러한 굽이진 구간(120, 130) 및 에어볼륨 구간(130, 230)을 통해 액체는 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향으로 불연속적 공급이 이루어질 수 있다. 즉, 액체가 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)로 공급되기 전 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치는 액체의 최대 수위일 수 있고, 그 최대 수위에서 액체가 넘치도록 액체 공급원(110, 210)으로부터 액체가 공급되면 액체는 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치로부터 액적 형태로 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향을 향해 공급된다.The liquid may be discontinuously supplied to the first electrode 310 and the second electrode 320 through the curved sections 120 and 130 and the air volume sections 130 and 230. That is, the high position of the bent sections 120 and 130 before the liquid is supplied to the first opening 101 and the second opening 201 may be the maximum water level of the liquid, and the liquid overflows at the maximum water level. When liquid is supplied from the sources 110 and 210, the liquid is supplied toward the first electrode 310 and the second electrode 320 in the form of droplets from the high positions of the bent sections 120 and 130.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 펌프(510, 521)를 더 포함한다.Meanwhile, the liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention further includes pumps 510 and 521.

펌프(510, 521)는 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치와 액체 공급원(110, 210) 사이에 구비된다. 펌프(510, 521)는 불연속적 액체 공급이 가능하도록 한다. 이를 위해, 펌프(510, 521)는 연동 펌프(Peristaltic pump)로 구비된다. 일 예로, 펌프(510, 521)는 중심축(511, 521)을 기준으로 회전하는 회전몸체(512, 522), 중심축(511, 521)의 원주 방향을 따라 회전몸체(512, 522)에 배열되고 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스를 가압하여 압축하는 호스압축롤러(513, 523)를 포함할 수 있다. 일 예로, 호스압출롤러(513, 523)는 3개일 수 있다. 호스압출롤러(513, 523)는 호스를 가압할 때 액체 공급원(110, 210)으로부터 굽이진 구간(120, 130) 방향으로 흐르는 액체를 흐름을 폐쇄하며, 호스압축롤러(513, 523)가 호스로부터 이격되면 액체 공급원(110, 210)으로부터 굽이진 구간(120, 130) 방향으로의 액체의 흐름이 개방된다. 액체의 흐름이 개방될 때 액체는 굽이진 구간(120, 130)의 최대 수위를 넘어서 액적 형태로 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향을 향해 공급된다.Pumps 510 and 521 are provided between the high positions of the bent sections 120 and 130 and the liquid sources 110 and 210. The pumps 510 and 521 allow for discontinuous liquid supply. To this end, the pumps 510 and 521 are provided as a peristaltic pump. For example, the pumps 510 and 521 are provided to the rotating bodies 512 and 522 along the circumferential directions of the rotating bodies 512 and 522 rotating relative to the central axes 511 and 521. Arranged and may include hose compression rollers 513 and 523 for compressing the hoses of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200. For example, the hose extrusion rollers 513 and 523 may be three. The hose extrusion rollers 513 and 523 close the flow of the liquid flowing in the direction of the bent sections 120 and 130 from the liquid sources 110 and 210 when the hose is pressed, and the hose compression rollers 513 and 523 hose When separated from the liquid source (110, 210), the flow of liquid in the direction of the bent section (120, 130) is opened. When the flow of liquid is opened, the liquid is supplied toward the first electrode 310 and the second electrode 320 in the form of droplets beyond the maximum water level of the bent sections 120 and 130.

한편, 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)은 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)의 둘레에 절연층(미도시)을 포함하며, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)은 절연층의 안측, 즉 순차적으로 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)의 단부, 상기 단부 후단의 절연층, 상기 절연층 후단의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)순으로 배치될 수 있다. 절연층 및 이러한 배치 구조에 의해 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 간의 불필요한 방전을 방지할 수 있다.Meanwhile, the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 include an insulating layer (not shown) around each of the first opening 101 and the second opening 201, and the first The electrode 310 and the second electrode 320 are inside the insulating layer, that is, sequentially at the ends of the first opening 101 and the second opening 201, the insulating layer at the end of the end, and the first at the rear of the insulating layer. The electrodes 310 and the second electrodes 320 may be arranged in this order. An unnecessary discharge between the first electrode 310 and the second electrode 320 can be prevented by the insulating layer and the arrangement structure.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치는 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 간의 거리, 액체의 전도성, 및 전압의 크기의 제어에 의해 액체 플라즈마를 생성하며, 이러한 제어는 특별한 제한은 없으며, 액체의 공급 용량에 따라 당업자에 의해 적절히 설정될 수 있다.The liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention generates a liquid plasma by controlling the distance between the first opening 101 and the second opening 201, the conductivity of the liquid, and the magnitude of the voltage. Is not particularly limited, and can be appropriately set by those skilled in the art depending on the supply capacity of the liquid.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 통해 액체 플라즈마가 형성되는 과정을 설명한다.Hereinafter, a process of forming a liquid plasma through a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention will be described.

액체는 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200) 각각의 액체 공급원(110, 210)으로부터 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 방향으로 공급된다. 이때, 각각의 액체 공급원(110, 210) 및 각각의 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치(최대 수위) 사이에 액체가 채워지며, 각각의 펌프(510, 521)는 회전한다.The liquid is supplied from the liquid sources 110 and 210 of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 in the direction of the first opening 101 and the second opening 201. At this time, the liquid is filled between the respective liquid sources 110 and 210 and the high position (maximum water level) of each of the bent sections 120 and 130, and the respective pumps 510 and 521 rotate.

각각의 펌프(510, 521)가 회전하면서 호스압축롤러(513, 523)는 제1 액체 공급 라인(100) 및 제2 액체 공급 라인(200)의 호스를 가압하였다가 이격되는 과정을 반복하며, 호스압축롤러(513, 523)가 호스를 가압하면 굽이진 구간(120, 130)의 높은 위치로부터 액체가 최대 수위를 넘어서 액적 형태로 에어볼륨 구간(130, 230)을 지나서 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320) 방향으로 공급된다. 이러한 과정은 불연속적으로 반복된다.As each of the pumps 510 and 521 rotates, the hose compression rollers 513 and 523 press the hoses of the first liquid supply line 100 and the second liquid supply line 200 and repeat the spaced apart process. When the hose compression rollers 513 and 523 pressurize the hose, the liquid from the high position of the bent section 120 and 130 exceeds the maximum water level and passes through the air volume sections 130 and 230 in the form of droplets, respectively, and each first electrode ( 310) and the second electrode 320. This process is discontinuously repeated.

액체가 각각의 에어볼륨 구간(130, 230)의 아래로 공급되어 각각의 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)이 위치한 영역 내에 채워지면서 액체는 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201) 방향으로 공급된다. 이때, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)에는 전압인가수단(400)에 의해 전압이 인가되어 액체는 전도성을 갖게 된다.As the liquid is supplied under each of the air volume sections 130 and 230 and filled in an area where each of the first electrode 310 and the second electrode 320 is located, the liquid is provided in each of the first opening 101 and the agent. 2 It is supplied in the direction of the opening 201. At this time, a voltage is applied to the first electrode 310 and the second electrode 320 by the voltage application means 400 so that the liquid has conductivity.

이어서, 전도성 액체는 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)에서 분출되며, 각각의 제1 개구(101) 및 제2 개구(201)에서 분출되는 액체 사이에 플라즈마가 형성된다.Subsequently, the conductive liquid is ejected from each of the first opening 101 and the second opening 201, and plasma is formed between the liquid ejected from each of the first opening 101 and the second opening 201.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치의 제작된 모습을 나타낸 것으로서, 이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 도 3에 도시된 모습과 같이 실제 제작하였고, 제작된 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로서 이용하였다.FIG. 3 is a view showing the fabrication of a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention, and the liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention was actually fabricated as shown in FIG. 3 and manufactured. The liquid electrode plasma device was used as a metal coating device.

금속 코팅 장치에서, 액체는 금속 전구체를 포함하고, 액체 전극 플라즈마 장치의 액체 플라즈마를 피처리물에 조사하여 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅하였다.In the metal coating apparatus, the liquid contains a metal precursor, and the liquid plasma of the liquid electrode plasma apparatus is irradiated to the workpiece to coat the metal from the metal precursor.

실시예로, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3ㅇ9H2O 의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사하였다. 이때, 방전 조건 1로서 수용액의 전도도가 5ms/cm가 되도록 농도 설정하였고, 방전 조건2로서 수용액의 전도도가 70ms/cm가 되도록 농도 설정하였다. 방전 조건1 및 방전 조건2에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지를 각각 EDAX 분석하였다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 금속 코팅 장치로 이용하여, ANN(aluminium nitrate nonahydrate) Al(NO3)3ㅇ9H2O 의 수용액으로 플라즈마 방전하여 실리콘 웨이퍼(Si wafer)에 조사한 실시예에 따른 실리콘 웨이퍼의 표면 이미지의 분석 결과를 나타낸다. 분석 결과, 도 4와 같이 실리콘 웨이퍼 표면에 알루미늄 코팅된 것을 확인할 수 있었다.As an example, plasma discharge was performed with an aqueous solution of aluminum nitrate nonahydrate (ANN) Al (NO3) 3 ㅇ 9H2O to investigate a silicon wafer. At this time, the concentration was set so that the conductivity of the aqueous solution was 5 ms / cm as discharge condition 1, and the concentration was set so that the conductivity of the aqueous solution was 70 ms / cm as discharge condition 2. The surface images of the silicon wafers according to the discharge conditions 1 and 2 were analyzed by EDAX. 4 is a liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention as a metal coating device, plasma discharge with an aqueous solution of aluminum nitrate nonahydrate (ANN) Al (NO3) 3 ㅇ 9H2O to irradiate a silicon wafer (Si wafer) The analysis results of the surface image of the silicon wafer according to the embodiment are shown. As a result of the analysis, it was confirmed that aluminum was coated on the surface of the silicon wafer as shown in FIG. 4.

한편, 본 발명의 액체 전극 플라즈마 장치는 액체 살균 장치로서 이용될 수도 있다.Meanwhile, the liquid electrode plasma device of the present invention may be used as a liquid sterilization device.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 전극 플라즈마 장치를 이용하면, 제1 전극(310) 및 제2 전극(320)을 수중에 침수시키지 않고서도 액체에 기초한 플라즈마의 생성이 가능해지므로 액체에 기초한 플라즈마 발생시의 고질적인 문제인 금속 전극의 부식 문제를 해결할 수 있는 이점이 있다.When the liquid electrode plasma device according to an embodiment of the present invention is used, the liquid-based plasma can be generated without immersing the first electrode 310 and the second electrode 320 in water. There is an advantage that can solve the problem of corrosion of the metal electrode, which is a chronic problem at the time of occurrence.

또한, 액체 플라즈마 생성을 위한 새로운 장치를 제공하며, 액체 플라즈마에 기초한 새로운 코팅 및 수처리 방법을 제공할 수 있는 이점이 있다.In addition, there is an advantage of providing a new apparatus for generating liquid plasma and providing a new coating and water treatment method based on liquid plasma.

제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.The description of the presented embodiments is provided to enable any person of ordinary skill in the art to use or practice the present invention. Various modifications to these embodiments will be apparent to those skilled in the art of the present invention, and the general principles defined herein can be applied to other embodiments without departing from the scope of the present invention. Thus, the present invention should not be limited to the embodiments presented herein, but should be interpreted in the broadest scope consistent with the principles and novel features presented herein.

Claims (14)

제1 개구를 가지고 상기 제1 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제1 액체 공급 라인;
제2 개구를 가지고 상기 제2 개구로 액체를 분출하도록 구성되는 제2 액체 공급 라인;
상기 제1 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제1 전극;
상기 제2 개구로 분출하는 액체에 전압이 인가되도록 구성되는 제2 전극;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되도록 구성되는 전압인가수단을 포함하고,
상기 제1 개구 및 상기 제2 개구는 마주하며 소정의 간격을 이루고,
상기 전압인가수단은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구로부터 분출되는 액체 사이에서 플라즈마가 형성되도록 전압을 인가하는,
액체 전극 플라즈마 장치.A first liquid supply line having a first opening and configured to eject liquid into the first opening;
A second liquid supply line having a second opening and configured to eject liquid into the second opening;
A first electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the first opening;
A second electrode configured to apply a voltage to the liquid ejected through the second opening;
And a voltage applying means configured to apply a high voltage between the first electrode and the second electrode,
The first opening and the second opening face each other to form a predetermined distance,
The voltage applying means applies a voltage to form a plasma between the liquid ejected from the first opening and the second opening,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 플라즈마는 상기 액체의 플라즈마임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 1,
The plasma is characterized in that the plasma of the liquid,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 액체 공급원을 가지고, 상기 액체 공급원으로부터 각각 액체가 공급됨을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 1,
The first liquid supply line and the second liquid supply line each have a liquid source, characterized in that each liquid is supplied from the liquid source,
Liquid electrode plasma device. 제3항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각 상기 액체 공급원과 각각의 제1 전극 및 제2 전극 사이에 에어볼륨 구간을 가짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 3,
Each of the first liquid supply line and the second liquid supply line has an air volume section between the liquid source and each of the first and second electrodes,
Liquid electrode plasma device. 제4항에 있어서,
상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 4,
It characterized in that the discontinuous liquid supply is made in the direction of the electrode between the air volume section,
Liquid electrode plasma device. 제4항에 있어서,
상기 제1 액체 공급 라인 및 상기 제2 액체 공급라인은 각각,
상기 각각의 제1 전극 및 제2 전극보다 높은 위치를 가지는 각각 굽이진 구간을 가지고,
상기 에어볼륨 구간은 상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치로부터 아래로 상기 각각의 제1 및 제2 전극 사이에 형성됨을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 4,
The first liquid supply line and the second liquid supply line, respectively,
Each of the first electrode and the second electrode has a curved section having a higher position,
The air volume section is formed between each of the first and second electrodes downward from the high position of the bent section,
Liquid electrode plasma device. 제6항에 있어서,
상기 높은 위치로부터 아래로 상기 에어볼륨 구간 사이에서 상기 전극 방향으로 불연속적 액체 공급이 이뤄짐을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 6,
It characterized in that the discontinuous liquid supply is made in the direction of the electrode between the air volume section from the high position down,
Liquid electrode plasma device. 제7항에 있어서,
상기 굽이진 구간의 상기 높은 위치와 상기 액체 공급원 사이에 불연속적 액체 공급을 위한 펌프를 포함함을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 7,
And a pump for discontinuous liquid supply between the high position of the bent section and the liquid source,
Liquid electrode plasma device. 제8항에 있어서,
상기 펌프는 연동 펌프(Peristaltic pump)임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.The method of claim 8,
The pump is characterized in that the peristaltic pump (Peristaltic pump),
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 액체는 전도성 액체임을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 1,
Characterized in that the liquid is a conductive liquid,
Liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제 2 액체 공급라인의 각 개구는 이의 둘레에 절연층을 포함하고,
상기 제1 및 제2 전극은 각각 상기 절연층의 안측에 위치함을 특징으로 하는, 액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 1,
Each opening of the first and second liquid supply lines includes an insulating layer around it,
The first electrode and the second electrode, respectively, characterized in that located on the inner side of the insulating layer, liquid electrode plasma device. 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 전극은 상기 제1 및 제2 액체 공급라인 상에서 상기 액체와 접촉하도록 구비되는 것을 특징으로 하는,
액체 전극 플라즈마 장치.According to claim 1,
The first and second electrodes are provided to contact the liquid on the first and second liquid supply lines,
Liquid electrode plasma device. 제1항의 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 금속 코팅 장치로서,
상기 액체는 금속 전구체를 포함하고,
상기 액체 전극 플라즈마 장치의 플라즈마를 피처리물에 조사함에 의해 상기 금속 전구체로부터 피처리물에 금속을 코팅시킴을 특징으로 하는,
금속 코팅 장치.A metal coating device using the liquid electrode plasma device of claim 1,
The liquid includes a metal precursor,
Characterized in that by coating the plasma of the liquid electrode plasma device to the object to be treated, the metal is coated with the object to be treated
Metal coating device. 제1항의 액체 전극 플라즈마 장치를 이용한 액체 살균 장치.A liquid sterilization device using the liquid electrode plasma device of claim 1.
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