KR102158464B1 - 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 피부외용제 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 활성산소종, 자외선 또는 블루라이트에 대한 피부 보호용, 항산화용 및 항염용 화장료 조성물 및, 염증성 피부질환 개선용 약학 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 세포독성 없이 항산화 관련 단백질의 발현을 조절하는 전사인자인 NRF-2의 발현을 증가시켜, 피부의 내부 및 외부 변화에 의해 유발되는 활성산소종의 생성을 효과적으로 억제하거나 제거하여 피부를 보호할 수 있다. 또한, 염증 유도 사이토카인의 조절을 억제함으로써, 염증반응을 효과적으로 방지하여, 아토피성 피부염이나 알러지성 피부염 등 염증성 피부 질환의 예방, 개선 또는 치료에 유의미한 효과를 발휘할 수 있다

Description

벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 피부외용제 조성물{SKIN EXTERNAL COMPOSITION CONTAINING BENZAMIDE COMPOUND}

본 발명은 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 피부외용제 조성물에 관한 것으로, 구체적으로는 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 활성산소종, 자외선 또는 블루라이트에 대한 피부 보호용, 항산화용 및 항염용 화장료 조성물, 및 염증성 피부질환 개선용 약학 조성물에 관한 것이다.

자외선은 태양광으로부터 조사되는 파장으로 피부에 홍반이나 부종, 주근깨, 피부암 등을 일으키는 주요 원인이 되고 있다. 일반적으로 자외선은 그 파장에 따라 자외선 A(320∼400nm), 자외선 B(280∼320nm) 및 자외선 C(240∼280nm)로 분류된다. 상기 자외선 A는 장파장·저에너지를 특징으로 하며 피부의 진피까지 침투하여 피부암과 주름, 멜라닌 형성을 촉진하는 등 피부 손상 및 피부 자극을 유발하는 것으로 알려져 있으나, 에너지의 강도가 높지 않다. 자외선 B는 단파장·고에너지를 특징으로 하며 자외선 중 광 생물학적으로 인체에 가장 영향을 많이 미치며 피부에 광 손상을 일으키는 주원인이다. 상기 자외선 B는 에너지의 강도가 높기 때문에 피부의 표피까지 침투하여 홍반, 주근깨 및 부종 등을 일으킨다. 또한, 상기 자외선 B에 만성적으로 노출되면 피부 손상, 면역 억제, 피부암 및 세포사멸의 결과를 초래한다. 자외선 C는 오존층을 통과하면서 지표면에 도달하지 못하고 소실된다.

최근에는 이러한 자외선에 의한 피부 손상을 억제하기 위하여, 자외선의 침투 자체를 차단하여 세포를 보호하는 자외선 차단제나 자외선에 의한 세포 내 활성산소종의 생성을 억제하는 기능을 가진 성분들을 이용한　화장료　조성물에 대한 개발이 활발히 이루어지고 있다.

한편, 세포 내에서는 에너지 연소과정에서 자연스럽게 활성산소가 발생되며, 이들 활성산소를 중화할 수 있는 항산화 반응이 동시에 일어난다. 활성산소 생성반응과 항산화 반응이 균형적으로 일어나면, 인체는 정상 성장과 대사가 이루어진다. 그러나, 발생되는 활성산소가 세포 내에서 처리할 수 있는 항산화 반응의 용량을 초과하게 되면 세포는 산화적 스트레스에 빠지고, 암, 당뇨, 심장병 등 각종 만성질환 및 노화 등과 같은 현상을 일으키게 된다.

이를 방지하기 위하여, 세포는 해로운 물질을 해독하고 세포 산화환원 항상성을 유지하기 위하여 복잡한 신호전달 기작을 발생시킨다. 이러한, 신호전달 기작 중 하나는 세포를 보호하고 해독 효소들의 발현을 유도하는데, 제 1단계에서 시토크롬 (cytochrome) P450 효소에 의하여 활성산소의 발생을 촉진시키는 생체이물(xenobiotic)을 수산화(hydroxylation) 시키고 이 반응을 통하여 물을 생성한다고 알려져 있다. 이후, phase II 시스템 효소 반응을 통하여 완전한 수용성 외부 기질 (hydrophilic xenobiotics)로 변화 되고, 마지막으로 Phase I/II 반응을 통하여 생성된 수용성 외부 기질은 phase III 반응을 통하여 최종적으로 세포 외로 배출된다.

NRF-2(nuclear factor erythroid-derived 2-related factor 2)는 산화적 스트레스로부터 인체를 보호하고 생체이물 (xenobiotic)의 해독 역할을 하는 phase II 효소라 불리는 일련의 단백질을 조절하는 주조절자로 알려져 있다. 산화적 스트레스가 없는 경우, 세포질 내 NRF-2는 Keap1(Kelch-like ECH associated protein 1) 단백질에 결합되어 끊임없이 유비퀴티네이션(ubiquitination)되어 분해되므로 그 활성이 억제된다. 반면에, 과도한 산화적 스트레스가 있는 경우, NRF-2는 Keap1 단백질로부터 유리되어 핵 내로 이동되고 항산화효소 유전자 프로모터 내에 존재하는 항산화 반응요소(ARE, antioxidant response element)에 결합하여 항산화 효소를 발현시켜 산화적 스트레스를 제거하려고 한다. 이러한 역할을 통하여 NRF-2는 세포의 항상성 유지에 중요한 역할을 담당하는 것으로 알려져 있다.

이러한 배경하, NRF-2의 활성을 조절할 수 있는 물질은 세포 내 과 생성된 활성산소의 생성을 억제하거나 제거하기 위한 우수한 항산화제로 개발될 수 있음을 착안하여 연구를 심화하였다. 그 결과, 특정 구조의 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 조성물의 경우, 부작용 없이 NRF-2를 활성화시켜 낮은 수준의 활성산소를 생성하고 세포 내의 방어기전을 활성화시킴으로써 피부의 항상성을 유지시킬 수 있음을 확인하여, 본 발명을 완성하였다.

본 발명은 NRF-2의 발현을 증가시켜, 활성산소종, 자외선 또는 블루라이트에 대한 피부 보호 및 항산화 효과를 나타낼 수 있는 화장료 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

이와 동시에, 본 발명은 염증 유도 사이토카인의 발현을 효과적으로 억제하여 항염 효과를 나타낼 수 있는 화장료 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 피부에 대한 부작용을 유발하지 않으며, 염증성 피부 질환 관련 매개 인자의 발현을 효과적으로 억제하여, 염증성 피부 질환의 예방과 개선에 탁월하고 안전한 약학 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상술된 목적을 위하여, 본 발명에서는 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 활성산소종, 자외선 또는 블루라이트에 대한 피부 보호용 화장료 조성물이 제공된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, NRF-2의 발현을 증가시키는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, NRF-2의 발현을 증가시킴에 따라활성산소종의 생성을 억제하거나 제거하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, 자외선 또는 블루라이트로 인해 발생되는 활성산소종의 생성을 억제하거나 제거하여 피부 보호 활성을 나타내는 것일 수 있다.

또한, 본 발명에서는 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 항산화용 화장료 조성물이 제공된다.

또한, 본 발명에서는 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 항염용 화장료 조성물이 제공된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물에 있어서, 상기 유효성분은 총 중량에 대하여, 0.001 내지 5중량%로 포함되는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, 유연화장수, 수렴화장수, 영양화장수, 아이 크림, 영양 크림, 마사지 크림, 클렌징 크림, 클렌징 폼, 클렌징 워터, 에센스 또는 팩 등으로 제형화되는 것일 수 있다.

또한, 본 발명에서는 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 염증성 피부질환 개선용 약학 조성물이 제공된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물에 있어서, 상기 염증성 피부 질환은 아토피피부염, 건선, 접촉성피부염, 습진성 피부염, 광선 피부염, 지루 피부염, 포진성 피부염, 편평태선, 경화태선, 괴저성 농피증, 천포창, 수포성 표피박리증 또는 전신성 경화증 등일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물에 있어서, 상기 유효성분은 총 중량에 대하여, 0.001 내지 5중량%로 포함되는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 로션, 연고, 겔, 크림, 패취 또는 분무제 등으로 제형화되는 것일 수 있다.

본 발명에 따르면, 세포독성 없이 항산화 관련 단백질의 발현을 조절하는 전사인자인 NRF-2의 발현을 증가시켜, 피부의 내부 및 외부 변화에 의해 유발되는 활성산소종의 생성을 효과적으로 억제하거나 제거하여 피부를 보호할 수 있다. 또한, 활성산소종, 자외선이나 블루라이트로부터 야기되는 피부세포 손상을 억제하여, 피부세포 손상 보호에 탁월한 효능을 발휘함과 동시에 피부의 항상성 유지를 돕는다.

본 발명에 따르면, 염증 유도 사이토카인의 조절을 억제함으로써, 염증반응을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, IL-8, IL-17α 발현 억제 효과에 탁월함을 보인다. 이에, 아토피성 피부염이나 알러지성 피부염 등 염증성 피부 질환의 예방, 개선 또는 치료에 유의미한 효과를 발휘할 수 있다는 이점을 제공한다.

도1은 본 발명에 따른 실시예의 MTT assay를 통한 세포독성 확인 그래프이고,
도2는 본 발명에 따른 실시예의 NRF-2 활성 유도 효과를 평가한 결과로, 설포라판을 처리한 양성 대조군에 대한 백분율로 각 시료의 효능을 비교한 그래프이고,
도3은 본 발명에 따른 실시예의 NRF-2 활성화에 대한 효과를 평가한 결과로, 웨스턴 블롯 결과를 도시한 그래프이고,
도4는 본 발명에 따른 실시예의 human keratinocyte 세포에서 HO-1, SOD-1 및 catalase 발현량을 확인한 결과를 도시한 그래프이고,
도5는 본 발명의 활성산소종 소거 효과를 평가한 결과로, 형광 현미경 이미지를 도시한 도면이고,
도6은 본 발명에 따른 실시예의 인공피부에서 염증성 사이토카인인 IL-8의 발현양의 차이를 도시한 도면이고,
도7은 본 발명에 따른 실시예의 인공피부에서 염증성 사이토카인인 IL-17α의 발현양의 차이를 도시한 도면이다.

본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물을 포함하는 화장료 조성물 및 약학 조성물에 대하여 이하 상술하나, 이때 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.

본 명세서의 용어, "NRF-2"는 Keap1 단백질로부터 유리되어 핵 내로 이동되고 항산화 효소 유전자 프로모터 내에 존재하는 항산화 반응요소(ARE, antioxidant response element)에 결합하여 항산화 효소를 발현을 조절하는 필수 전사인자이다.

본 명세서의 용어, "활성산소종(Reactive oxygen species, ROS)"은 불안정한 상태에 있는 산소로, 환경오염과 화학물질, 자외선, 혈액순환장애, 스트레스 등으로 산소가 과잉생산된 것이다. 활성산소종은 사람 몸속에서 산화작용을 일으키게 되는데, 일 예로 세포막, DNA, 그 외의 모든 세포 구조의 손상을 들 수 있으며 손상의 범위에 따라 그 기능을 잃거나 변질될 수 있다. 또한, 피부세포에서 활성산소종은 산화적 스트레스를 유발한다.

본 명세서의 용어, "자외선"은 그 파장에 따라 자외선 A(320∼400nm), 자외선 B(280∼320nm) 및 자외선 C(240∼280nm)로 분류된다. 자외선은 피부세포에 직접적인 손상을 주기도 하고　활성산소종의 발생을 통해서 간접적인 손상을 주는 광원을 의미한다.　활성산소종의 발생은 항산화 방어시스템에 의해 조절되지만 공해, 태양 자외선, 화학 산화제 및 미생물 등에 의해 과도한　활성산소종이 발생되기 되면 이러한 방어체계가 무너지게 되고 그 결과 세포의 DNA, 지질, 단백질에 산화적 손상과 자외선에 의한 산화적 스트레스가 일어나 피부의 염증, 세포괴사를 일으킬 수도 있다.

본 명세서의 용어, "블루라이트"는 380~500nm사이의 파장의 광원을 의미한다. 특히 LED 램프, 스마트폰, 컴퓨터 등 전자 기기로부터 나오는 것으로　알려진 블루라이트는 다른 파장의 가시광선에 비해 에너지가 높고 일상생활에서 빈번하게 노출되어 피부에 악영향을 초래한다.

본 명세서의 용어, "마이크로바이옴(Microbiome)"은 인간의 몸 안팎에서 서식하고 있는 미생물들과 유전정보 전체를 말하는 것으로, 우리 몸에는 매우 많은 미생물이 서식하고 있고 건강과 질병에 미치는 영향도 매우 커서 두 번째 유전자라고도 불린다. 많은 연구 결과들로부터 인체 미생물의 불균형이 여러 종류의 인간 질병에 영향을 미칠 수 있다는 것이 밝혀졌으며, 특히 최근에는 기존에 많이 알려진 아토피 피부염과 같은 염증성 질환뿐만 아니라 인간의 노화에도 영향을 미칠 수 있다는 결과들이 보고되고 있다. 미생물의 조성과 다양성에 의해 숙주의 면역 시스템이 조절되고 이것이 다시 공생 세균의 조성과 다양성으로 피드백 되어 공생 세균과 면역 시스템이 상호 영향을 미치게 된다. 피부의 경우 공생 세균이 직접 항박테리아 펩타이드를 분비하여 병원균의 증식을 억제하게 되는데, 피부의 공생세균인 Staphylococcus epidermidis는 여러 종류의 항박테리아 단백질과 proteases를 분비하는 능력을 가지고 있으며 이로 인해 피부염의 주 원인균으로 알려진 Staphylococcus aureus의 증식을 억제하는 것으로 알려져 있다.

본 명세서의 용어, "염증 유도 사이토카인"은 염증 반응에 의해 발현이 지속적으로 증가하며, 이의 발현을 억제시키는 것은 염증을 완화하는 것을 의미한다.

본 명세서의 용어, "도포"는 임의의 적절한 방법으로 개체의 피부에 본 발명에 따른 조성물을 접촉시키는 것을 의미하며, 이를 통해 해당 조성물을 피부 내부로 흡수시키는 것을 목적으로 한다.

본 명세서의 용어, "개선"은 본 발명에 따른 조성물의 도포로 염증 상태가 호전되거나 이롭게 변경되는 모든 행위를 말한다.

본 발명자들은 화장품 소재에 대한 연구를 거듭하던 중, 특정구조의 벤즈아마이드계 화합물이 항산화 효소의 발현을 조절하는 필수 전사인자인 NRF-2를 활성화시켜 낮은 수준의 활성산소를 생성하여 세포 내의 방어기전을 활성화시킬 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다. 나아가, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물은 과산화수소 등으로 유도된 활성산소종은 물론 자외선 또는 블루라이트로부터 유도된 활성산소종의 소거 효과에 탁월한 효과를 발휘할 수 있다.

본 발명자들은 이와 같은 효과에 있어 현저한 상승효과를 보이는, N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 및 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드에서 선택되는 벤즈아마이드계 화합물에 주목하였다. 상술된 벤즈아마이드계 화합물은 NRF-2의 발현을 현저하게 활성화시킴은 물론 활성산소종의 소거 효과에 탁월함을 나타내어, 피부를 보호한다. 또한, 피부의 항상성을 유지를 돕는다.

더욱이, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물은 항염 효과도 우수하다. 상기 벤즈아마이드계 화합물의 유효량은 사람의 섬유아세포(human dermal fibroblast)를 이용한 실험에서 세포 독성이 없고, 이의 유효량을 포함하는 조성물은 피부에 자극을 유발하지 않는다.

이와 같은 효과를 기반하여, 본 발명자들은 기존에 알려지지 않았던 상술된 벤즈아마이드계 화합물의 새로운 용도 및 이들의 용도에서의 놀랍도록 현저한 효과를 밝힘으로써, 본 발명을 제안하고자 한다.

이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.

본 발명의 일 양태는 하기 구조의 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물이다. 본 발명에 따른 화장료 조성물의 구체적인 용도는 아래와 같다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, ⅰ)활성산소종, 자외선 또는 블루라이트에 대한 피부 보호용, ⅱ)항산화용, 및 ⅲ)항염용일 수 있다.

앞서 설명한 바와 같이, N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 본 발명에 따른 화장료 조성물은 NRF-2-ARE 기전에 있어서의 활성여부를 관찰한 결과 NRF-2의 활성화를 촉진시킬 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 화장료 조성물은 NRF-2의 활성화를 통해 피부를 보호함과 동시에 산화적 피부 손상을 방어하여 피부의 항상성의 붕괴를 억제 및 개선시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 화장료 조성물은, 자외선 또는 블루라이트로부터 유도된 활성산소종을 억제함은 물론 항산화 효과가 우수하여, 피부의 생기를 되찾아 피부에 광택과 윤기를 부여할 수 있다. 뿐만 아니라, 자외선 또는 블루라이트 등에 의해 유도된 각질 형성세포의 세포사를 억제시킬 수 있다.

상기 활성산소종은 피부에 산화적 스트레스를 유발하는 과잉생산된 산소종이라면 제한되지 않으며, 일 예로는 과산화수소, 슈퍼옥사이드 음이온 또는 히드록시 라디칼 등을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은 피부의 마이크로바이옴의 항상성을 유지하면서도 항염성이 우수하다. 구체적으로, 본 발명의 화장료 조성물은 염증성 피부 질환의 병변부위에서 염증 유도 사이토카인의 발현을 현저히 억제하고, 이와 동시에 높은 S.aureus 감소율 및 높은 S.epidermidis 증가율로 염증 유도 사이토카인의 발현 억제를 도와, 항염 효과에 보다 큰 시너지를 부여한다. 이에, 아토피피부염 등과 같은 염증성 피부 질환의 예방 및 치료에 탁월한 효과를 구현할 수 있을 것으로 기대된다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물을 피부에 도포하여 피부의 상태를 개선시키는 방법의 용도로도 사용될 수 있다. 상기 개선은 상술된 효과의 조합에 의해 보다 이로운 피부의 상태로 변화되는 것으로, 본 발명의 효과는 세포 수준에서도 구현되는 우수한 효과임을 틀림없다.

또한, 이와 같은 효과를 기반으로 다양한 피부정보를 스크리닝하여, 피부에 대한 미용 정보를 제공할 수 있는 용도로도 유용하게 활용될 수 있을 것으로 기대된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은 NRF-2의 발현을 증가시킴으로써, 피부를 보호하고 피부 상태를 개선시키는 역할을 한다. 또한, 세포의 DNA손상은 물론 세포막 산화작용을 효과적으로 억제할 수 있다.

또한, 본 발명의 화장료 조성물은 NRF-2의 발현을 증가시킴으로써, HO-1, SOD-1, catalase 등의 항산화 효소의 발현량을 현저하게 증가시킨다. 특히, HO-1은 스트레스나 염증 상황에서 유도되는 항산화 효소로서, 세포보호, 항염증, 항산화 및 항증식 작용이 있는 것으로 알려져 있다. 또한, HO-1을 과발현 시켰을 때, COX-2, 유도형 일산화질소 합성효소(inducible nitric oxide synthase, iNOS)의 발현이 감소된다 알려져 있다.

본 발명에 따르면, 활성화된 대식세포에서 HO-1을 현저하게 유도 발현시키고, IL-8, IL-17α의 염증 유도 사이토카인의 생성을 감소시킨다. 이에, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물은 과생성된 활성산소의 자극과 같은 산화적 스트레스로부터 세포와 조직을 보호하는데 탁월한 효과를 발휘하는 소재로, 피부 상태 개선은 물론 항염효과에 탁월한 시너지를 갖는다.

또한, 상기 벤즈아마이드계 화합물은 피부에 대한 유효한 효과 발현을 하는 사용량에서 세포 독성 및 피부 자극을 유발하지 않아 안전하게 사용할 수 있다. 또한, 상기 벤즈아마이드계 화합물은 제형 내에서 그 효능이 안정적으로 유지됨은 물론 제형 내 석출되거나 분리되는 현상을 야기하지 않을 뿐 아니라 보관 안정성도 좋다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은 유효성분으로써, 상술된 구조의 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 및 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드에서 선택되는 벤즈아마이드계 화합물은 물론 이의 약학적 허용 가능한 염, 이의 용매화물 및 이의 입체이성질체 역시도 본 발명의 일 양태로 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물에 있어서, 상기 유효성분은 상기 화장료 조성물 총 중량을 기준으로 0.001 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 구체적으로는 0.001 내지 3중량%, 보다 구체적으로는 0.01 내지 1중량%로 포함되는 것이 좋다. 상술된 범위로 유효성분을 포함하는 경우, 제형의 안정성을 해치지 않으면서도 본 발명에서 목적하는 효과, 즉 용도에 현저함을 보여 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물에 있어서, 상기 유효성분을 혼합물의 양태로 포함하는 경우 보다 현저한 시너지를 부여할 수 있어 좋다. 특히, 상기 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 및 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드의 조합을 유효성분으로 포함하는 경우, 활성산소종의 소거 효과에 보다 현저함을 보인다.

일 예로, 상기 혼합된 유효성분의 경우, 상기 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드(A) 및 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드(B)의 조합은 0.01:99.99 내지 99.99:0.01의 중량비(A:B)로 혼합한 것일 수 있으며, 구체적으로 1:9 내지 9:1의 중량비, 보다 구체적으로 1:1 내지 9:1의 중량비로 혼합한 것일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은 상술된 유효성분 및 잔량을 물을 포함하는 것일 수 있으며, 다양한 양태로 제형화될 수 있음은 물론이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물 통상적으로 알려진 제조방법을 이용하여, 일반적인 유화 제형 및 가용화 제형 등으로 제형화될 수 있다.

일 예로, 상기 화장료 조성물은 유연화장수, 수렴화장수, 영양화장수, 아이 크림, 영양 크림, 마사지 크림, 클렌징 크림, 클렌징 폼, 클렌징 워터, 에센스, 팩 등에서 선택되는 제형으로 제형화되는 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

또한, 상기 화장료 조성물은 목적하는 바에 따라 적절하게 추가의 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 상기 벤즈아마이드계 화합물과 함께 당업계에 공지된 주름 개선용 성분, 항산화용 성분, 미백 성분 등에서 선택되는 성분을 더 포함할 수 있다. 일 예로, 레티노산, TGF, 동물 태반 유래의 단백질, 베튤린산 및 클로렐라 추출물 등에서 선택될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

또한, 상기 화장료 조성물은 안정화제, 유화제, 점증제, 보습제, 액정 막강화제, pH 조절제, 항균제, 수용성 고분자, 피막제, 금속 이온 봉쇄제, 아미노산, 유기 아민, 고분자 에멀션, pH조정제, 피부 영양제, 산화 방지제, 산화 방지조제, 방부제, 향료 등에서 선택되는 하나 이상의 수성 첨가제; 및 유지류, 왁스류, 탄화 수소유, 고급 지방산유, 고급 알콜, 합성 에스테르유 및 실리콘유 등에서 선택되는 하나 이상의 유성 첨가제;에서 선택되는 하나 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다.

이때, 상기 각 첨가제는 상기 화장료 조성물 총 중량에 대하여 0.001 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.01 내지 10중량%, 0.05 내지 5중량%로 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 다른 일 양태는 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 약학 조성물이다. 본 발명에 따른 약학 조성물의 구체적인 용도는 아래와 같다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은, ⅰ)항염용, 및 ⅱ)NRF-2의 활성 저하에 의해 유발되는 질환의 예방, 개선 및 치료를 위한 용도일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 생체에 안전할 뿐 아니라 피부 장벽 기능 이상, 표피 과증식 등의 피부 부작용을 야기하지 않으며, 염증성 피부 질환 관련 매개 인자의 발현을 조절할 수 있다. 또한, 마이크로바이옴의 항상성을 유지할 수 있다.

구체적으로, 본 발명의 약학 조성물은 구체적으로, IL-8, IL-17α 등의 발현을 효과적으로 억제할 수 있다. 이에, 효과적으로 염증반응을 방지하여, 아토피성 피부염이나 알러지성 피부염 등 염증성 피부 질환의 예방, 개선 또는 치료에 유의미한 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 세포의 증식을 유도하지 않는 범위의 농도에서 독성을 나타내지 않음을 확인함으로써, 이들이 피부에 매우 안전함을 규명하였다.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 피부 외용제로서, 염증 유도 사이토카인 발현을 효과적으로 억제함으로써, 항염 효과에 있어 놀랍도록 향상된 시너지 효과를 나타낼 뿐 아니라 피부장벽기능 이상, 표피 과증식 등의 피부 부작용을 초래하지 않으며, 피부에 대한 안전성이 우수하고, 물리적· 화학적으로 매우 안정하여 제형 개발이 용이하여 피부 외용제 제형으로써 안전하고 효과적으로 활용될 수 있을 것으로 기대된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 NRF-2의 활성 저하에 의해 유발되는 질환 개선에 효과적이다. 이때, 상기 NRF-2의 활성 저하에 의해 유발되는 질환은 노화일 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 약학 조성물은 노화의 원인이 되는 활성산소종의 생성 억제 및 제거하를 통해 항산화 효과를 발휘하는 것일 수 있다. 또한, Biomed. Pharmacother. 2003, 57, 251-260에 따르면, Nrf-2의 활성 증진을 통한 산화적 스트레스 대한 보호는 활성 산소에 의한 노화와 관련된 만성　질환의 (동맥경화증, 고혈압, 당뇨병, 중추 신경계질환, 피부　질환, 눈　질환, 천식과 암) 발병을 예방하거나 늦추는데 유용할 것으로 예상되는 바, 본 발명의 약학 조성물은 상술된 활성 산소에 의한 노화와 관련된 만성　질환의 예방 또는 개선에 유효한 효과를 발휘할 수 있을 것이라 예상된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 아토피피부염을 포함하는 염증성 피부 질환 개선에 효과적이다. 이때, 상기 염증성 피부 질환의 일 예로는 아토피피부염, 건선, 접촉성 피부염, 습진성 피부염, 광선 피부염, 지루성 피부염, 포진성 피부염, 편평태선, 경화태선, 괴저성 농피증, 천포창, 수포성 표피박리증, 전신성 경화증, 피부근염, 다발성근염, 염증성 근병변, 나병 또는 세자리 증후군 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

일 예로, 상기 약학 조성물은 아토피성 피부염 또는 접촉성 피부염 등에 대한 개선 효과가 탁월한 항염용 약학 조성물이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물은 상술된 유효성분 및 잔량을 물을 포함하는 것일 수 있으며, 다양한 양태로 제형화될 수 있음은 물론이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 약학 조성물 통상적으로 알려진 제조방법을 이용하여, 일반적인 유화 제형 및 가용화 제형 등으로 제형화될 수 있다.

일 예로, 상기 약학 조성물은 로션, 연고, 겔, 크림, 패취, 분무제 등에서 선택되는 제형으로 제형화되는 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

또한, 상기 약학 조성물은 목적하는 바에 따라 적절하게 추가의 담체를 포함할 수 있다. 일 예로, 락토스, 덱스트로스, 수크로스, 솔비톨, 만니톨, 전분, 아카시아 고무, 인산 칼슘, 알기네이트, 젤라틴, 규산 칼슘, 미세결정성 셀룰로스, 폴리비닐피롤리돈, 셀룰로스, 물, 시럽, 메틸 셀룰로스, 메틸히드록시벤조에이트, 프로필히드록시벤조에이트, 활석, 스테아르산 마그네슘 또는 미네랄 오일 일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 상기 담체 이외에 윤활제, 습윤제, 감미제, 향미제, 유화제, 현탁제 또는 보존제 등의 담체를 더 포함할 수 있다.

이때, 상기 각 담체는 조성물 총 중량에 대하여 0.001 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.01 내지 10중량%, 0.05 내지 10중량%로 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 일 실시예에 따른 벤즈아마이드계 화합물을 유효성분으로 포함하는 염증 유도 사이토카인 저해제를 제공한다. 이때, 상기 염증 유도 사이토카인 저해제는 염증 유도 사이토카인, 즉 IL-8, IL-17α의 발현 억제 효과를 측정하기 위한 인비트로 실험(in-vitro test) 또는 인비보 실험(in-vivo test) 등에 활용될 수 있다.

상세하게, 본 발명의 일 실시예에 따른 염증 유도 사이토카인 저해제는 인비트로(in-vitro) 피부 세포실험 상에서 염증 유도 사이토카인의 발현 억제를 위한 용도로 활용될 수 있다. 비한정적인 일 예로, 배지 상에 배양된 성인 케라틴생성세포(keratinocyte) 또는 3D 인공 피부조직에 본 발명에 따른 상기 화학식 1의 화합물 및 상기 화학식 2의 화합물의 혼합물을 유효성분으로 포함함으로써 염증 유도 사이토카인의 발현을 억제 또는 저해할 수 있다. 염증 유도 사이토카인의 발현 억제는 염증 유도 시험 물질과 동시에 처리되어 염증 유도 시험 물질과의 상호작용 또는 길항작용을 위한 시험에 응용될 수 있다. 발현이 억제 또는 저해되는 염증 유도 사이토카인은 IL-8, IL-17α의 염증 유도 사이토카인일 수 있다.

(평가방법)

1.세포독성

본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물의 세포독성을 확인하기 위해, MTT assay를 실시하였다.

구체적으로, 사람의 섬유아세포(ATCC 2076)를 5x10⁴cells/ml의 농도로 하여, 소혈청 10%를 함유한 IMDM (Iscove's Modified Dulbecco's Medium, GIBCO) 24웰 배양판에 접종하여, 접종 후 24시간 후 혈청이 없는 배지로 교체한 다음, 각 시료를 농도별로 첨가하여 하루 동안 37℃, 5% CO₂인큐베이터에서 배양한 후 상등액을 제거 하고 다시 5% PBS(phosphate buffered saline)를 200ul씩 가하여 세척한 다음, MTT 용액을 웰당 1.0㎖씩 가한 후 4시간 후에 MTT를 제거한 다음, DMSO를 웰당 1.0㎖씩을 가하여 하룻밤 동안 37℃에서 인큐베이션한 후, 570nm에서 흡광도를 측정 하여 하기 식1을 이용하여 세포 생존율을 구하여, 하기 도1에 도시하였다. 이때, 시료는 유효성분으로 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드를 사용한 것이고, 유효성분을 사용하지 않은 시료는 음성 대조군(control)이다.

[식1]

세포 생존율(%) = (A570λ값/B570λ값) Х 100

A: 각 시험 시료의 570nm에서 흡광도값

B: 음성 대조군의 570nm에서 흡광도값

그 결과, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물은 유효량 범위 내 세포독성이 없는 것으로 확인되었다.

2-1.NRF-2 활성 유도 효과

본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물의 약리 활성을 확인하기 위하여, NRF-2 기능화 세포 기반 분석 방법(NRF-2 functional cell based assay, DiscoveRx)을 구축하여, 산화 스트레스 방어의 주된 조절인자인, NRF-2 활성 유도 효과를 평가하였다.

구체적으로, Human keratinocyte 세포를 이용하였으며, CP 0 시약으로 세포 펠렛을 풀어준 후, 96-웰 플레이트에 1.5Х10⁴ 세포/웰의 밀도로 80μL씩 분주하여 24시간 동안 배양하였다. 각 시료를 포함하는 용액 5μL를 95μL의 CP 0와 혼합하거나 10μL를 90μL의 CP 0와 혼합하여 상기 96-웰 플레이트의 각 웰 당 20μL씩 첨가하였으며, 각 실험은 3번 반복하였다. 양성 대조군으로는 5μM의 설포라판(sulforaphane)을 처리하고 플레이트를 호일에 싸서 6시간 동안 배양하였다(비교예1). 세포 어세이 완충액(cell assay buffer)에 기질 시약(substrate reagent)을 넣어 모두 섞은 후, 96-웰 플레이트에 시질 시약을 웰 당 50μL씩 넣고 호일로 싸서 1시간 동안 배양한 뒤, 발광 분광광도계(luminescence spectrophotometer, Molecular Devices)를 이용하여 전 파장(all wavelength) 및 누적 시간(integaration time) 1000ms에서 발광 값을 측정하였다. 또한, 유효성분을 사용하지 않은 시료는 음성 대조군(control)이고, (-)은 상기 음성 대조군에 UVB 노출시킨 상태의 결과이다.

그 결과는 하기 도2에 나타내었으며, 설포라판을 처리한 양성 대조군에 대한 백분율로 각 시료의 효능을 비교하였다.

도2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드는 유효량 범위 내에서 NRF-2의 발현이 현저하게 활성화되는 것을 확인하였다. 이와 같은 효과는 양성 대조군인 비교예1 대비 210%(실시예1), 270%(실시예2)에 달하는 상승효과에 해당한다.

2-2.시험관 내 NRF-2 활성화에 대한 효과

상기 평가방법 2-1을 통해, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물에 의한 NRF-2 활성화를 간접적으로 확인하였다. 이에, NRF-2 활성화에 대한 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물의 효과를 직접적으로 확인하기 위하여, 웨스턴 블롯을 수행하였다. 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물 각 시료를 농도별로 처리하고, NRF-2의 핵 내 누적 여부 또는 정도를 확인하였다.

구체적으로, Human keratinocyte 세포를 25T 플라스크에서 2Х10⁶ 세포/플라스크의 밀도로 4 mL씩 분주하여 EpiLife 배지에 24시간 동안 배양하였다. 다음 날 각 시료를 DMSO 0.1% 조건으로 최종 농도 0 내지 10μM이 되도록 각각의 배지에 혼합하여 준비한 후 세포를 넣어 6시간 동안 배양하였다. 배양한 세포는 회수하여 10% SDS-PAGE로 전기영동하고, PVDF 막에 이전한 후 소혈청알부민(bovine serum albumin; BSA)으로 차단(blocking)하였다. 이후, 항-NRF-2 항체를 이용하여 핵 내의 NRF-2 단백질 양을 측정하고, 그 결과를 도3에 나타내었다. B-actin 대비로 NRF-2 양을 측정하였다. 또한, 유효성분을 사용하지 않은 시료는 음성 대조군(control)이고, (-)은 상기 음성 대조군에 UVB 노출시킨 상태의 결과이고, 비교예1은 5μM의 설포라판(sulforaphane)을 처리한 시료는 양성 대조군이다.

도3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드를 10μM 농도로 처리한 세포에서는 상당량의 NRF-2가 검출되었다. 이는 본 발명의 벤즈아마이드계 화합물은 농도 의존적으로 NRF-2의 활성화를 촉진시킴을 나타내는 것이다.

2-3.시험관 내 NRF-2 관련 항산화 유전자 mRNA 발현 효과

NRF-2는 전사인자로서, 핵 내에서 항산화 효소들을 증가시켜 세포를 보호하는 역할을 한다. 앞선 평가방법을 통해, NRF-2 활성화를 직간접적으로 확인하였다. 이에, qPCR법을 이용하여 항산화 효소의 양을 측정함으로써, 이들 활성화된 NRF-2가 항산화 효소를 증가시키는지 확인하였다. 검출하고자 하는 항산화 효소로는 NRF-2에 의해 발현이 증가하는 것으로 알려진 HO-1, SOD-1, catalase 을 선택하였다.

구체적으로, human keratinocyte 세포를 6-웰 플레이트에서 5Х10⁵ 세포/웰의 밀도로 1.5mL씩 분주하여 EpiLife 배지에 24시간 동안 배양하였다. 다음 날 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물 각 시료를 DMSO 0.1% 조건으로 최종 농도 10μM이 되도록 각각의 배지에 혼합하여 준비한 후 세포를 넣어 24시간 동안 배양하였다. 배양한 세포는 회수하여 용해시켜 전체 RNA를 추출하고 이후, 세포 내에 발현된 항산화 효소들의 양을 측정하고, 그 결과를 도4에 나타내었다. 또한, 유효성분을 사용하지 않은 시료는 음성 대조군(control)이고, (-)은 상기 음성 대조군에 UVB 노출시킨 상태의 결과이고, 비교예1은 5μM의 설포라판(sulforaphane)을 처리한 시료는 양성 대조군이다.

도4에 도시한 바와 같이, 테스트한 전체 효소들에 대해 처리한 각 시료의 농도에 따라 발현량이 증가하는 경향을 나타내었다. 이에, 본 발명의 N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드는 농도 의존적인 NRF-2 활성화를 통해 항산화 효소들의 발현을 증가시키고, 이에 따라 세포를 보호하는 효과를 나타낼 수 있음을 확인하였다.

3.활성산소종(ROS) 소거 효과 확인

본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물의 활성산소종 소거 효과를 확인하였다.

구체적으로, 세포 내 활성산소종(ROS)의 발생에 대한 이미지 분석은 커버슬립이 부착된 12 웰 플레이트(well plate)에 HDF(human dermal fibroblast)를 1Х10⁵ (100μL/well)개를 씨딩(seeding)하여 수행하였다. UVB 15mJ/cm²에 노출시킨 후 시료를 100 μM 처리하였고 세포는 37℃에서 24시간 동안 부가적으로 배양되었다. DCF-DA 100μM을 각각의 웰에 넣고 37℃에서 45분 동안 배양하였다. PBS로 씻은 후에, 염색된 세포는 마운팅 배지(mounting medium)에 있는 현미경 슬라이드 위에 올려놓았다. 현미경 사진은 fluorescent microscopic image로 관찰하였다. 또한, 유효성분을 사용하지 않은 시료는 음성 대조군(control)이고, (-)은 상기 음성 대조군에 UVB 노출시킨 상태의 결과이다.

이로부터 수득된 결과는, 하기 도5 도시하였다.

4.항염 효과 측정

본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물의 항염 효능 측정을 위해, UVB에 유도되는 염증에 대한 사이토카인인 IL-8 및 IL-17α 대한 그 발현량을 측정하였다

구체적으로, MatTek에서 판매하는 3D culture tissue(EpiDerm Full Thickness 400)에 염증 유발을 위하여 UVB를 처리 후 각 시료를 최종 농도가 0.3% 되도록 하여 48시간 처리하였다. 이어 3D culture tissue를 formalin에 고정하여 paraffin block을 만들어 염증 유발 사이토카인의 발현 정도를 평가하였다.

이로부터 수득된 결과, 하기 도6 및 도7에 도시하였다.

도6 및 도7에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 벤즈아마이드계 화합물은 염증 유발된 피부모델 대비 IL-8 및 IL-17α 억제능을 보임을 확인하였다. 구체적으로, 도6에 따르면 30%(실시예1) 및 33%(실시예2)의 IL-8 억제능을 보임을 확인하였다.

(실시예1 및 실시예2)

하기 표1에 도시한 구조의 아마이드계 화합물을 이용하여, 상기 평가방법을 실시하였다. 각 실시예의 실험군으로 사용할 시료는 각 평가방법에 따라 다양한 농도로 준비되었다.

(실시예3 내지 실시예5 및 비교예2)

하기 표2에 도시한 조성에 따라 화장료 조성물을 제조하였다.

이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (12)

1. N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 활성산소종 또는 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
2. 제 1항에 있어서,
   상기 화장료 조성물은,
   NRF-2의 발현을 증가시키는 것인, 화장료 조성물.
3. 제 2항에 있어서,
   상기 화장료 조성물은,
   활성산소종의 생성을 억제하거나 제거하는 것인, 화장료 조성물.
4. 제 1항에 있어서,
   상기 화장료 조성물은,
   자외선으로 인해 발생되는 활성산소종의 생성을 억제하거나 제거하여 피부 보호 활성을 나타내는 것인, 화장료 조성물.
5. N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 항산화용 화장료 조성물.
6. N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 항염용 화장료 조성물.
7. 제 1항 내지 제 6항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
   상기 유효성분은,
   총 중량에 대하여, 0.001 내지 5중량%로 포함되는 것인, 화장료 조성물.
8. 제 1항 내지 제 6항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
   상기 화장료 조성물은,
   유연화장수, 수렴화장수, 영양화장수, 아이 크림, 영양 크림, 마사지 크림, 클렌징 크림, 클렌징 폼, 클렌징 워터, 에센스 또는 팩으로 제형화되는 것인, 화장료 조성물.
9. N-(2-히드록시에틸)-2,5-디메틸-벤즈아마이드, N-[2-히드록시-1-(히드록시메틸)에틸]-2,5-디메틸-벤즈아마이드 또는 이들의 조합을 유효성분으로 포함하는 염증성 피부질환 개선용 약학 조성물.
10. 제 9항에 있어서,
    상기 염증성 피부 질환은,
    아토피피부염, 건선, 접촉성피부염, 습진성 피부염, 광선 피부염, 지루 피부염, 포진성 피부염, 편평태선, 경화태선, 괴저성 농피증, 천포창, 수포성 표피박리증 또는 전신성 경화증인, 약학 조성물.
11. 제 9항에 있어서,
    상기 유효성분은,
    총 중량에 대하여, 0.001 내지 5중량%로 포함되는 것인, 약학 조성물.
12. 제 9항에 있어서,
    상기 약학 조성물은,
    로션, 연고, 겔, 크림, 패취 또는 분무제로 제형화되는 것인, 약학 조성물.

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