KR102110852B1 - Multi-nozzle evaporating apparatus for deposition process - Google Patents

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Abstract

본 발명은 증착 공정용 멀티 노즐 증착기에 관한 것으로서, 본 발명의 멀티 노즐 증착기는 상측 외부로 돌출된 복수의 원통형의 노즐들이 형성되며, 노즐들이 연장된 노즐관들에 의해 하측 일부가 개구된 형상의 노즐부, 상측이 개구된 원통형 용기로, 외주면에 형성된 결합 부재가 형성되어 노즐부가 결합되도록 하는 도가니와, 도가니를 가열하는 히터부를 포함한다. 이때, 노즐들 중 적어도 하나는, 외부로 돌출된 노즐의 일단이 노즐부의 중앙부에서 멀어지도록 사선 방향으로 기울어진 원통형으로 형성된다. The present invention relates to a multi-nozzle evaporator for a deposition process, the multi-nozzle evaporator of the present invention is formed of a plurality of cylindrical nozzles protruding to the upper outside, the lower part is opened by the nozzle tube extending nozzles The nozzle portion, a cylindrical container with an open top, includes a crucible for forming a coupling member formed on an outer circumferential surface to engage the nozzle portion, and a heater portion for heating the crucible. At this time, at least one of the nozzles is formed in a cylindrical shape inclined in a diagonal direction so that one end of the nozzle protruding outwardly moves away from the center of the nozzle unit.

Description

증착 공정용 멀티 노즐 증착기{MULTI-NOZZLE EVAPORATING APPARATUS FOR DEPOSITION PROCESS}Multi-nozzle evaporator for deposition process {MULTI-NOZZLE EVAPORATING APPARATUS FOR DEPOSITION PROCESS}

본 발명은 증착기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착물질를 증발시켜 OLED(Organic Luminescence Emitting Device) 기판 표면에 박막을 형성하는 증착 공정용 증착기 소스의 노즐 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a vapor deposition apparatus, and more particularly, to a nozzle structure of a vapor deposition source for a deposition process to form a thin film on an OLED (Organic Luminescence Emitting Device) substrate surface by evaporating a deposition material.

유기 전계 발광 소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광 현상을 이용하는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.Organic Luminescence Emitting Device (OLED) is a self-luminous device that uses an electroluminescent phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound. It is lightweight and thin because it does not require a backlight to apply light to a non-luminous device. A flat panel display device can be manufactured.

특히, 유기 전계 발광 소자의 제작에 주로 사용되고 있는 방법은 고진공 증착 방법으로서, 유기물, 무기물, 금속 등의 물질을 대면적의 기판에 증착 코팅하기 위하여, 특정 물질이 들어있는 도가니 주위를 가열하여 해당 물질을 증발시켜 도가니의 상부에 위치한 글라스 기판에 증착되게 하여 글라스 위에 얇은 박막을 제작하는 방법이며, 이때 해당 물질의 오염을 방지하고, 소자의 수명을 장기화하기 위함은 물론, 적당한 증착율의 조절을 위하여 주로 고진공 분위기의 진공 용기 내에서 공정을 하게 된다. Particularly, a method mainly used for manufacturing an organic electroluminescent device is a high-vacuum deposition method, in order to deposit and coat a substance such as an organic substance, an inorganic substance, or a metal on a large-area substrate, the material is heated around a crucible containing a specific substance. It is a method of producing thin thin films on glass by evaporating them to be deposited on a glass substrate located at the top of the crucible. At this time, it is mainly for preventing contamination of the material and prolonging the life of the device, as well as for controlling the proper deposition rate. The process is performed in a high vacuum atmosphere vacuum container.

도 1에서는 주로 사용되는 포인트 소스(point source) 또는 점 증발원을 사용 하는 경우의 증착 방법을 도시한다. 특정 물질을 담는 포인트 소스용 도가니가 진공 챔버(chamber)(1) 내 하부에 위를 보고 위치하고, 상측에 밑을 향하여 놓인 기판(2)이 설치된다. 가열된 도가니로부터 증발되어 나오는 기체는 기판까지 비행하여 기판위에 응고되면서 박막이 형성되는 것이다. 이 때, 유기 박막 기판(2)에 형성되는 박막의 균일도를 향상시키기 위해, 도가니를 가진 포인트 소스(3a, 3b)를 기판의 중심축으로부터 일정거리를 가지는 오프셋 거리(offset)만큼 떨어뜨려 증착공정을 수행한다. 나아가, 박막의 균일도를 향상시키기 위해, 도가니로부터 기판까지의 거리를 일정의 증착 높이(TS)를 유지하도록 한다. 또는, 더욱 향상된 박막의 균일도(예컨대, 5% 이하)를 얻기 위하여, 포인트 소스의 개수를 증가시키고 증착 높이(TS)를 증가시키고 있으나, 도가니들이 중심축과 기판으로부터 너무 멀리 떨어져 있어, 물질의 사용률의 저하(약 3% 이하의 사용 효율)와 진공 챔버의 크기가 매우 커지는 등의 문제점을 가지고 있다.FIG. 1 shows a deposition method when a point source or a point evaporation source is mainly used. The crucible for the point source containing a specific material is positioned on the lower side in the vacuum chamber 1, and the substrate 2 placed downwards on the upper side is installed. The gas evaporated from the heated crucible flies to the substrate and solidifies on the substrate to form a thin film. At this time, in order to improve the uniformity of the thin film formed on the organic thin film substrate 2, the deposition process by dropping the point sources 3a, 3b with a crucible by an offset distance having a certain distance from the central axis of the substrate To perform. Furthermore, in order to improve the uniformity of the thin film, the distance from the crucible to the substrate is maintained at a constant deposition height (TS). Alternatively, in order to obtain more improved thin film uniformity (eg, 5% or less), the number of point sources is increased and the deposition height (TS) is increased, but the crucibles are too far from the central axis and the substrate, so that the material utilization rate is increased. It has problems such as deterioration (use efficiency of less than about 3%) and the size of the vacuum chamber becomes very large.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 증착 공정에 있어서, 멀티 노즐을 사용하는 증착 공정용 증착기으로서, 특히 기판에 증착되는 박막의 두께의 균일도를 향상시키고, 사용 물질의 사용율을 높이기 위한 증착기의 구조를 제공하고자 한다. 다만, 본 실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제로 한정되지 않으며, 또 다른 기술적 과제들이 존재할 수 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention, in the deposition process, as a deposition process deposition apparatus using a multi-nozzle, in particular, to improve the uniformity of the thickness of the thin film deposited on the substrate, the material used It is intended to provide a structure of an evaporator for increasing the utilization rate. However, the technical problem to be achieved by the present embodiment is not limited to the technical problem as described above, and other technical problems may exist.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 제 1 측면에 따른 증착 공정용 멀티 노즐 증착기는, 상측 외부로 돌출된 복수의 원통형의 노즐들이 형성되며, 상기 노즐들이 연장된 노즐관들에 의해 하측 일부가 개구된 형상의 노즐부, 상측이 개구된 원통형 용기로, 상부 외주면에 형성된 결합 부재가 형성되어 상기 노즐부가 결합되도록 하는 도가니와, 상기 도가니를 가열하는 히터부를 포함한다. 이때, 상기 노즐들 중 적어도 하나는, 외부로 돌출된 노즐의 일단이 상기 노즐부의 중앙에서 멀어지도록 사선 방향으로 기울어진 원통형으로 형성된다. As a technical means for achieving the above-described technical problem, a multi-nozzle deposition machine for a deposition process according to the first aspect of the present invention, a plurality of cylindrical nozzles protruding outwardly is formed, and the nozzle tubes are extended nozzles The lower portion of the nozzle portion of the shape is opened, the upper side is a cylindrical container, the coupling member formed on the upper outer circumferential surface is formed to include a crucible to be coupled to the nozzle portion, and a heater portion for heating the crucible. At this time, at least one of the nozzles is formed in a cylindrical shape inclined in a diagonal direction so that one end of the nozzle protruding outwardly moves away from the center of the nozzle unit.

또한, 상기 노즐들은, 상기 노즐부의 중앙부에 형성된 제1 노즐과 상기 제1 노즐의 중심부로부터 기 설정된 오프셋만큼 떨어져 배치된 복수의 제2 노즐들을 포함할 수 있다. 이때, 상기 복수의 제2 노즐들 각각이 상기 사선 방향으로 기울어진 원통형으로 형성될 수 있다. In addition, the nozzles may include a first nozzle formed in a central portion of the nozzle unit and a plurality of second nozzles disposed at a predetermined offset from a center portion of the first nozzle. At this time, each of the plurality of second nozzles may be formed in a cylindrical shape inclined in the diagonal direction.

또한, 상기 노즐관들 각각은 각 노즐관과 이어진 노즐의 직경과 경사가 그대로 유지되도록 형성될 수 있다. In addition, each of the nozzle pipes may be formed to maintain the diameter and inclination of each nozzle pipe and the nozzles connected to each other.

또한, 상기 노즐관들 각각은 사다리꼴 통 구조로 형성될 수 있다. In addition, each of the nozzle pipes may be formed in a trapezoidal barrel structure.

또한, 상기 제2 노즐들은 각도 조절이 가능한 경사 조절부를 더 포함할 수 있다. In addition, the second nozzles may further include an inclination adjustment unit capable of angle adjustment.

또한, 상기 노즐부는 상기 노즐들의 일단과 타단 사이에 형성된 이중 리플렉터(reflector)를 더 포함할 수 있다. Further, the nozzle unit may further include a double reflector formed between one end and the other end of the nozzles.

또한, 상기 히터부의 내주면에는, 상기 도가니의 상부에 맞닿도록 형성된 제1 가열부와, 상기 도가니의 하부에 맞닿도록 형성된 제2 가열부를 포함한다. 이때, 상기 제1 및 제2 가열부 각각은 상기 도가니의 바닥면에 수직하는 복수의 열선과 각 열선의 끝단이 접하는 두 개의 애자(insulator)를 포함할 수 있다. In addition, the inner circumferential surface of the heater portion includes a first heating portion formed to contact the upper portion of the crucible and a second heating portion formed to contact the lower portion of the crucible. In this case, each of the first and second heating units may include a plurality of heating wires perpendicular to the bottom surface of the crucible and two insulators contacted by the ends of each heating wire.

또한, 상기 히터부는, 상기 히터부의 내주면 상부에 형성된 제1 리플렉터와, 상기 히터부의 외주면과 내주면 사이에 형성된 제2 리플렉터를 더 포함할 수 있다. In addition, the heater unit may further include a first reflector formed on the inner circumferential surface of the heater unit, and a second reflector formed between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the heater unit.

이상과 같은 다양한 실시 예들에 따르면, 본 발명의 멀티 노즐 증착기는 기판을 회전시키거나, 복수의 증착기를 배치시키지 않으면서도 기판에 증착되는 박막의 두께의 균일도를 향상시키고, 증착물질의 사용율을 높일 수 있다. 나아가, 노즐부와 히터부에 배치된 이중 리플렉터를 통해 증착물질을 효율적으로 기화시키면서, 증착물질의 클로깅(clogging)을 방지할 수 있다. According to various embodiments as described above, the multi-nozzle evaporator of the present invention can improve the uniformity of the thickness of the thin film deposited on the substrate without rotating the substrate or disposing a plurality of evaporators, and increase the utilization rate of the deposition material. have. Furthermore, clogging of the deposition material can be prevented while vaporizing the deposition material efficiently through a double reflector disposed in the nozzle part and the heater part.

도 1에서는 주로 사용되는 포인트 소스(point source) 또는 점 증발원을 사용 하는 경우의 증착 방법을 도시한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 공정용 멀티 노즐 증착기를 개략적으로 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도가니의 구성을 도시한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐부의 상면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 도 4의 A-A' 절단면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 도 4의 A-A' 절단면이다.
도 7a 는 도 5에 대응되는 노즐부의 저면도이며, 도 7b 는 도 6에 대응되는 노즐부의 저면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 히터부의 내주면의 구성을 도시한다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 도 8의 B-B' 절단면을 도시한다.1 shows a deposition method in the case of using a point source or a point evaporation source, which is mainly used.
2 schematically shows a multi-nozzle deposition machine for a deposition process according to an embodiment of the present invention.
3 shows a configuration of a crucible according to an embodiment of the present invention.
4 is a top view of a nozzle unit according to an embodiment of the present invention.
5 is an AA ′ cut surface of FIG. 4 according to an embodiment of the present invention.
6 is an AA ′ cut surface of FIG. 4 according to another embodiment of the present invention.
7A is a bottom view of the nozzle unit corresponding to FIG. 5, and FIG. 7B is a bottom view of the nozzle unit corresponding to FIG. 6.
Figure 8 shows the configuration of the inner peripheral surface of the heater unit according to an embodiment of the present invention.
9 is a BB ′ cut surface of FIG. 8 according to an embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains may easily practice. However, the present invention can be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In addition, in order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and like reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification.

또한, 도면을 참고하여 설명하면서, 같은 명칭으로 나타낸 구성일지라도 도면에 따라 도면 번호가 달라질 수 있고, 도면 번호는 설명의 편의를 위해 기재된 것에 불과하고 해당 도면 번호에 의해 각 구성의 개념, 특징, 기능 또는 효과가 제한 해석되는 것은 아니다. Also, with reference to the drawings, even in the case of a configuration indicated by the same name, the drawing number may vary depending on the drawing, and the drawing number is for convenience of description only, and the concept, feature, and function of each configuration are indicated by the corresponding drawing number Or, the effect is not to be interpreted limitedly.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미하며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Throughout the specification, when a part is "connected" to another part, this includes not only "directly connected" but also "electrically connected" with another element in between. . Also, when a part is said to "include" a certain component, it means that the component may further include other components, not exclude other components, unless specifically stated otherwise. However, it should be understood that the existence or addition possibilities of numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

본 발명 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 본 발명 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. Throughout the specification of the present invention, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise specified. The terms "about", "substantially", and the like used throughout the specification of the present invention are used in terms of or close to those values when manufacturing and substance tolerances specific to the stated meanings are presented, and To aid understanding, accurate or absolute figures are used to prevent unconscionable abusers from unduly using the disclosed disclosure.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 공정용 멀티 노즐 증착기를 개략적으로 도시한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 증착기(10)는 노즐부(11), 도가니(12) 및 히터부(13)를 포함한다. 2 schematically shows a multi-nozzle deposition machine for a deposition process according to an embodiment of the present invention. The evaporator 10 according to an embodiment of the present invention includes a nozzle unit 11, a crucible 12 and a heater unit 13.

먼저, 도가니(12)는 도 3에 도시된 바와 같이, 내부에 증착물질을 수용할 수 있는 원통형 용기로서, 상부 외주면에는 노즐부(11)와 결합할 수 있는 결합수단(31, 32)이 형성되어 있다. 이 때, 결합수단은 도가니(12)와 노즐부(11) 각각에 형성될 수 있으며, 비한정적인 예로서, 끼움 고정될 수 있는 걸림턱, 나선형 나사, 클램프 등일 수 있다. First, as shown in Figure 3, the crucible 12 is a cylindrical container that can accommodate the deposition material therein, the upper outer circumferential surface is formed with coupling means (31, 32) that can be coupled to the nozzle unit (11) It is. At this time, the coupling means may be formed on each of the crucible 12 and the nozzle unit 11, and as a non-limiting example, it may be a locking jaw, a spiral screw, a clamp, and the like that can be fixed.

다시 도 2를 참조하면, 도가니(12)는 히터부(13)로 둘러싸여, 도가니(12)의 외주면은 열선이 배치된 히터부(13)의 내주면에 맞닿는다. 따라서, 도가니(12)의 내부에 수용된 증착물질이 가열되어 기화된 후, 기화된 증착물질이 도가니(12) 상측 개구부를 통해 노즐부(11)로 이동되면, 노즐부(11)를 통해 증착기(10) 외부로 토출되도록 한다. Referring again to FIG. 2, the crucible 12 is surrounded by a heater unit 13, so that the outer circumferential surface of the crucible 12 abuts the inner circumferential surface of the heater unit 13 in which a heating wire is disposed. Therefore, after the vaporized deposition material accommodated inside the crucible 12 is heated and vaporized, when the vaporized vapor deposition material is moved to the nozzle unit 11 through the upper opening of the crucible 12, the vaporizer (11) 10) Discharge to the outside.

노즐부(11)는 도가니(12)의 상측에 결합되며, 노즐부(11)의 상측에는 외부로 돌출된 다수 개의 원통형의 노즐들이 형성되어 있다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐부(11)의 상면도이며, 도 5 및 도 6은 도 4의 A-A' 절단면이고, 도 7a 및 도 7b는 각각 도 5 및 도 6에 대응되는 노즐부(11)의 저면도이다. 이하, 도 4 내지 도 7을 참조하여 노즐부(11)의 구성을 설명한다. The nozzle part 11 is coupled to the upper side of the crucible 12, and a plurality of cylindrical nozzles protruding outward are formed on the upper side of the nozzle part 11. 4 is a top view of the nozzle unit 11 according to an embodiment of the present invention, FIGS. 5 and 6 are AA 'cut surfaces of FIG. 4, and FIGS. 7A and 7B correspond to FIGS. 5 and 6, respectively. It is a bottom view of the nozzle part 11. Hereinafter, the configuration of the nozzle unit 11 will be described with reference to FIGS. 4 to 7.

노즐부(11)는 상부 중앙부에 형성된 제1 노즐(42)과 제1 노즐(42)의 중심부로부터 기 설정된 오프셋(offset)만큼 떨어져 배치된 복수의 제2 노즐들(41a 내지 41h)을 포함한다. 제2 노즐들(41a 내지 41h)은 외부로 돌출된 노즐의 일단이 노즐부의 중앙부에서 멀어지도록 사선 방향으로 기울어진 원통형이다. 즉, 제1 노즐(42)은 챔버의 상부에 배치된 기판의 중심을 향하여 일직선의 원통형으로 형성되며, 제2 노즐들(41a 내지 41h)은 기판의 외각을 향하여 기울어지도록 형성된다. The nozzle unit 11 includes a first nozzle 42 formed in an upper center portion and a plurality of second nozzles 41a to 41h disposed at a predetermined offset from a center portion of the first nozzle 42. . The second nozzles 41a to 41h are cylindrical inclined in a diagonal direction such that one end of the nozzle protruding to the outside is away from the center of the nozzle unit. That is, the first nozzle 42 is formed in a straight cylindrical shape toward the center of the substrate disposed at the top of the chamber, and the second nozzles 41a to 41h are formed to be inclined toward the outer shell of the substrate.

여기서, 제2 노즐들(41a 내지 41h)의 오프셋(offset)과 기울어진 경사는 기판까지의 높이(TS)에 따른 균일도를 확보하기 위해, 증착 챔버(chamber)와 증착물질의 특성 등을 고려하여 제조시에 결정될 수 있다. 또는, 구현예에 따라 상기 제2 노즐들은 각도 조절이 가능한 경사 조절부(미도시)를 더 포함하여 형성될 수도 있다. 경사 조절부는, 비한정적인 예로서, 특정 각도 또는 다양한 각도로 수축 및 이완이 가능한 소재를 포함하여 제2 노즐의 타단에 형성될 수 있다. Here, the offset of the second nozzles 41a to 41h and the inclined inclination take into consideration the characteristics of the deposition chamber and the deposition material in order to secure uniformity according to the height TS to the substrate. Can be determined at the time of manufacture. Alternatively, depending on the embodiment, the second nozzles may be formed by further including an inclination adjustment unit (not shown) capable of angle adjustment. The inclination adjusting unit may be formed at the other end of the second nozzle, including, by way of non-limiting example, a material that can contract and relax at a specific angle or various angles.

노즐부(11)는 각 노즐이 연장된 노즐관에 의해 하측 일부가 개구된 형상을 갖는다. 도 5을 참조하면, 노즐관(52, 51a 내지 51h)은 각 노즐이 갖는 경사와 직경이 그대로 유지된 형태로 형성될 수 있다. 또는, 도 6에 도시된 바와 같이, 노즐관(62, 61a 내지 61h)은 사다리꼴 통 구조를 이루도록 형성될 수도 있다. 도 7a는 도 5의 노즐관이 형성된 경우의 노즐부(11)의 저면도를 도시하며, 도 7b는 도 6의 노즐관이 형성된 경우의 노즐부(11)의 저면도를 도시한다. The nozzle part 11 has a shape in which a lower portion is opened by a nozzle tube in which each nozzle extends. Referring to FIG. 5, the nozzle pipes 52, 51a to 51h may be formed in such a manner that the inclination and diameter of each nozzle are maintained. Or, as shown in Figure 6, the nozzle tube (62, 61a to 61h) may be formed to form a trapezoidal barrel structure. FIG. 7A shows a bottom view of the nozzle section 11 when the nozzle tube of FIG. 5 is formed, and FIG. 7B shows a bottom view of the nozzle section 11 when the nozzle tube of FIG. 6 is formed.

한편, 노즐부(11)는 외부로 돌출된 노즐들(42, 41a 내지 41h)의 일단과 타단 사이에 형성된 이중 리플렉터(reflector)(43)를 포함한다. 이중 리플렉터(43)는 외부로 열이 손실되는 것을 방지하며, 나아가 기화된 증착물질이 노즐 내에서 응축됨에 따른 클로깅(clogging)을 방지할 수 있다. On the other hand, the nozzle unit 11 includes a double reflector (43) formed between one end and the other end of the nozzles (42, 41a to 41h) protruding to the outside. The double reflector 43 prevents heat loss to the outside, and further prevents clogging as the vaporized deposition material condenses in the nozzle.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 히터부(13)의 내주면의 구성을 도시한다. 히터부(13)의 내주면에는 도가니(12)의 외주면에 맞닿어서 도가니(12) 내부에 수용된 증착물질을 가열하는 제1 가열부(81)와 제2 가열부(82)가 형성된다. 그리고 히터부(13)의 상부에는 제1 리플렉터(83)가 형성되어 외부로 열이 손실되는 것을 방지한다. 8 shows the configuration of the inner peripheral surface of the heater unit 13 according to an embodiment of the present invention. A first heating unit 81 and a second heating unit 82 are formed on the inner circumferential surface of the heater unit 13 to contact the outer circumferential surface of the crucible 12 to heat the deposition material accommodated in the crucible 12. In addition, a first reflector 83 is formed on an upper portion of the heater unit 13 to prevent heat from being lost to the outside.

제1 가열부(81)는 도가니(12)의 상부에 맞닿도록 형성되며, 제2 가열부(82)는 도가니(12)의 하부에 맞닿도록 형성된다. 제1 및 제2 가열부(82)는 도가니(12)의 바닥면에 수직하는 복수의 열선(84, 86)을 포함하며, 각 열선의 끝단은 애자(insulator)(85a, 85b, 87a, 87b)에 접한다. 이 때 애자(85a, 85b, 87a, 87b)는 산화 알루미늄(Al2O3)으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 애자(85a, 85b, 87a, 87b)는 열선의 위치를 지지하는 지지부재로서, 열선이 쇼트나는 것을 방지한다. The first heating unit 81 is formed to contact the upper portion of the crucible 12, and the second heating unit 82 is formed to contact the lower portion of the crucible 12. The first and second heating units 82 include a plurality of heating wires 84 and 86 perpendicular to the bottom surface of the crucible 12, and the ends of each heating wire are insulators 85a, 85b, 87a, 87b ). At this time, the insulators 85a, 85b, 87a, and 87b may be formed of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), but are not limited thereto. In addition, the insulators 85a, 85b, 87a, and 87b are support members that support the position of the heating wire, and prevent the heating wire from being shorted.

한편, 도 8에서는, 제1 가열부(81)의 열선(84)의 길이가 제2 가열부(82)의 열선(86)의 길이보다 짧은 것으로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 가열부의 열선의 길이가 더 길거나, 두 가열부의 열선의 길이가 동일할 수도 있다. Meanwhile, in FIG. 8, the length of the heating wire 84 of the first heating unit 81 is shown to be shorter than the length of the heating wire 86 of the second heating unit 82, but is not limited thereto. The length of the negative heating wire may be longer, or the length of the heating wire of the two heating parts may be the same.

또한, 제1 가열부(81)와 제2 가열부(82)는 사이 공간을 두어 구분되어 형성되며, 개별적으로 구동부(미도시)를 포함하여, 증착물질의 특성 및/또는 증착공정의 특성에 따라 선택적으로 동작될 수 있다. In addition, the first heating unit 81 and the second heating unit 82 are formed by separating the space therebetween, and individually including a driving unit (not shown), according to characteristics of the deposition material and / or characteristics of the deposition process. Therefore, it can be selectively operated.

도 9는 도 8의 B-B' 절단면을 도시한다. 도 9에 도시된 바와 같이, 각 열선(86)은 히터부(13)의 내주면을 따라 배치되며, 애자(87a)에 의해 지지된다. 또한, 히터부(13)는 외주면과 내주면 사이에 제2 리플렉터(91)를 더 포함한다. 즉, 히터부(13)는 내주면 상부에 형성된 제1 리플렉터(83)와, 히터부(13)의 외주면과 내주면 사이에 형성된 제2 리플렉터(91)를 통해, 열선(86)에서 방출된 열이 외부로 방출되지 않고, 도가니(12)로 집중될 수 있도록 한다. 이때, 제1 리플렉터(83)와 제2 리플렉터(91)는 이중 리플렉터로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 제2 리플렉터(91)는 단일 리플렉터로 형성될 수 있다. 한편, 리플렉터는 탄탈럼(Ta)으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. FIG. 9 shows a B-B 'cut surface of FIG. 8. 9, each heating wire 86 is disposed along the inner circumferential surface of the heater unit 13, and is supported by the insulator 87a. In addition, the heater unit 13 further includes a second reflector 91 between the outer peripheral surface and the inner peripheral surface. That is, the heater unit 13, the heat emitted from the heating wire 86, through the first reflector 83 formed on the inner circumferential surface and the second reflector 91 formed between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the heater unit 13 It is not discharged to the outside, so that it can be concentrated in the crucible (12). At this time, the first reflector 83 and the second reflector 91 may be formed of a double reflector, but are not limited thereto, and the second reflector 91 may be formed of a single reflector. Meanwhile, the reflector may be formed of tantalum (Ta), but is not limited thereto.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration only, and those skilled in the art to which the present invention pertains can understand that the present invention can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the above detailed description, and it should be interpreted that all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts thereof are included in the scope of the present invention. do.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 또한, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains may make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. In addition, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention but have been described, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, the scope of the claims of the present invention should be interpreted by the claims below, and all technical spirits within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1: 진공 챔버 2: 기판
3a, 3b: 포인트 소스
10: 증착기
11: 노즐부 12: 도가니
13: 히터부
31, 32: 결합수단
42: 제1 노즐 42: 제2 노즐
43: 이중 리플렉터
81: 제1 가열부 82: 제2 가열부
83: 제1 리플렉터 91: 제2 리플렉터1: vacuum chamber 2: substrate
3a, 3b: point source
10: evaporator
11: Nozzle part 12: Crucible
13: heater section
31, 32: combining means
42: first nozzle 42: second nozzle
43: double reflector
81: first heating unit 82: second heating unit
83: first reflector 91: second reflector

Claims (8)

상측 외부로 돌출된 복수의 원통형의 노즐들이 형성되며, 상기 노즐들이 연장된 노즐관들에 의해 하측 일부가 개구된 형상의 노즐부,
상측이 개구된 원통형 용기로, 상부 외주면에 형성된 결합 부재가 형성되어 상기 노즐부가 결합되도록 하는 도가니와,
상기 도가니를 가열하는 히터부를 포함하되,
상기 노즐부는 상기 노즐들의 일단과 타단 사이에 형성된 이중 리플렉터(reflector)를 포함하고,
상기 노즐들은, 상기 노즐부의 중앙부에 형성된 제1 노즐과 상기 제1 노즐의 중심부로부터 기 설정된 오프셋만큼 떨어져 배치된 복수의 제2 노즐들을 포함하며,
상기 복수의 제2 노즐들이 제1 노즐의 중앙부에서 멀어지도록 각각이 사선 방향으로 기울어진 원통형으로 형성되고,
상기 히터부의 내주면에는
상기 도가니의 상부에 맞닿도록 형성된 제1 가열부와, 상기 도가니의 하부에 맞닿도록 형성된 제2 가열부를 포함하고,
상기 히터부의 내주면 상부에 형성된 제1 리플렉터와, 상기 히터부의 외주면과 내주면 사이에 형성된 제2 리플렉터를 포함하며,
상기 제1 및 제2 가열부 각각은 상기 도가니의 바닥면에 수직하는 복수의 열선과 각 열선의 끝단이 접하는 두 개의 애자(insulator)를 포함하는 것인 멀티 노즐 증착기. A plurality of cylindrical nozzles protruding out of the upper side is formed, the nozzle part of the shape in which the lower part is opened by the nozzle pipes in which the nozzles extend,
A cylindrical container with an open upper side, a crucible for forming a coupling member formed on an upper outer circumferential surface to engage the nozzle unit,
It includes a heater for heating the crucible,
The nozzle unit includes a double reflector formed between one end and the other end of the nozzles,
The nozzles include a first nozzle formed at a central portion of the nozzle unit and a plurality of second nozzles disposed at a predetermined offset from a center portion of the first nozzle,
Each of the plurality of second nozzles is formed in a cylindrical shape inclined in a diagonal direction so as to move away from the center of the first nozzle,
The inner peripheral surface of the heater portion
It includes a first heating unit formed to contact the upper portion of the crucible, and a second heating unit formed to contact the lower portion of the crucible,
A first reflector formed on the inner circumferential surface of the heater portion, and a second reflector formed between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the heater portion,
Each of the first and second heating units includes a plurality of heating wires perpendicular to a bottom surface of the crucible and two insulators in contact with the ends of each heating wire. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 노즐관들 각각은 각 노즐관과 이어진 노즐의 직경과 경사가 그대로 유지되도록 형성되는 것인 멀티 노즐 증착기. According to claim 1,
Each of the nozzle pipes is a multi-nozzle evaporator that is formed so that the diameter and inclination of each nozzle pipe and the subsequent nozzles are maintained. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제2 노즐들은 각도 조절이 가능한 경사 조절부를 더 포함하는 것인 멀티 노즐 증착기. According to claim 1,
The second nozzles are multi-nozzle evaporator further comprising an inclination adjusting unit that can be adjusted. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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