KR102108591B1 - 웨이퍼 형상 물체들의 액체 처리를 위한 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

웨이퍼-형상 물체를 처리하기 위한 장치는 미리 결정된 배향으로 웨이퍼-형상 물체를 홀딩하기 위한 회전 척, 적어도 하나의 상부 노즐로서, 회전 척 상에 위치될 때 웨이퍼-형상 물체의 상방으로 대면하는 표면 상에 처리 용액을 분사하기 위한 상기 적어도 하나의 상부 노즐, 및 회전 척의 주변 영역에 회전 척의 중앙 영역으로부터 연장하는 일련의 하부 노즐들을 포함하는 적어도 하나의 하부 노즐 암을 포함한다. 일련의 노즐들은 회전 척의 중앙 영역 내에 보다 작은 노즐 및 회전 척의 주변 영역 내에 보다 큰 노즐을 포함한다. 본 발명에 따른 방법에서, 가열된 액체는 일련의 노즐들을 통해 공급되어 웨이퍼의 주변 영역들에 중앙 영역들보다 많은 열을 공급한다.

Description

웨이퍼 형상 물체들의 액체 처리를 위한 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR LIQUID TREATMENT OF WAFER SHAPED ARTICLES}
본 발명은 웨이퍼-형상 물체들의 액체 처리를 위한 장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼들은 집적 회로들의 제작 동안 다양한 습식 프로세싱 단계들을을 겪는다. 이러한 프로세스들을 수용하기 위해, 단일 웨이퍼가 회전가능하거나 회전가능하지 않은 캐리어와 연관된 척에 의해 하나 이상의 처리 유체 노즐들에 대해 지지될 수도 있다.
미국 특허 제 4,903,717 호 및 제 5,513,668 호는 복수의 핀 어셈블리들이 웨이퍼의 주변 에지에 접촉하는 원형으로 시리즈로 배열된 척을 기술한다. 핀 어셈블리들의 접촉 표면들은 핀 어셈블리들의 회전 축들에 대해 편심하고 (eccentric), 따라서 방사상으로 내측 사용 위치와 방사상으로 외측 로딩 및 언로딩 위치 사이의 공통의 링 기어에 의해 일제히 구동될 수 있다. 공동으로 소유된 공동으로 계류중인 미국 출원 제 2010/0206481 호는 핀 어셈블리들의 접촉 표면들이 웨이퍼의 중량을 지지하고, 척의 상부 플레이트 위로 고정된 높이에 웨이퍼를 위치시키는 이러한 핀 어셈블리들 상의 변화를 기술한다.
이러한 척들의 보다 최근의 버전들은 척의 상부 플레이트 위이지만 웨이퍼가 지지된 레벨 아래에 위치된 가열 어셈블리들을 포함하고, 이러한 척의 예는 공동으로 소유되고 공동으로 계류중인 미국 출원 제 2013/0061873 호에 기술된다.
이러한 척들의 수리 및 유지보수는 핀 어셈블리들 중 하나를 대체하기 위해서도 클린룸 조건들 하에서 척이 연관된 구동 및 승강 (elevating) 유닛으로부터 디스어셈블되고, 연관된 프로세스 모듈로부터 제거되고, 개별 컴포넌트들로 분해되어야 하기 때문에 상대적으로 복잡하고 시간 소모적이다. 이 동작은 척 자체가 연관된 구동 유닛으로부터 제거되기 전에 전체 램프 하우징이 제거되어야 하기 때문에 상기 식별된 바와 같은 가열 어셈블리들이 구비된 척들의 경우 특히 시간 소모적이다.
따라서, 일 양태에서, 본 발명은 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치로서, 회전 척으로서 회전 척 상에 웨이퍼-형상 물체를 홀드하도록 구성된, 회전 척을 포함하는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치에 관한 것이다. 회전 척은, 웨이퍼-형상 물체의 에지 영역에 접촉하도록 구성된 일련의 주변의 핀들을 포함한다. 핀들 각각은 회전 척으로부터 상방으로 돌출하고, 핀들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 회전 척에 개별적으로 고정된다 (secured). 핀들 중 선택된 어느 하나의 핀은 핀들 중 다른 핀들을 둘러싸는 회전 척의 어떠한 구조체도 제거하지 않고 선택된 핀의 대응하는 연결 메커니즘을 연결해제함으로써 회전 척으로부터 제거될 수 있다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 회전 척은 척 베이스 바디와 커버를 포함하고, 핀들 각각은 커버로부터 상방으로 돌출한다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 회전 척은 중앙 스핀들 (spindle) 을 중심으로 회전하도록 장착되고, 가열 어셈블리가 회전 척의 상부 표면 위에 그리고 핀들이 웨이퍼-형상 물체의 에지에 접촉하는 레벨 아래에서 고정되어 (stationarily) 장착된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 연결 메커니즘 각각은 대응하는 핀의 상부 부분이 통과할 수 있는 개구를 갖는 인서트 (insert) 를 포함하고, 핀 각각은 대응하는 인서트 내의 개구보다 폭이 큰 베이스부를 포함하고, 인서트 각각은 회전 척의 상부 표면 내에 형성된 대응하는 리세스에 수용되고 회전 척 내에서 인서트 아래 쪽에 붙어 있는 대응하는 핀의 베이스부를 사용하여 회전 척에 고정된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 연결 메커니즘은 회전 척으로부터 연결해제되고, 대응하는 핀 및 인서트는 대응하는 핀을 상방으로 당김으로써 척으로부터 멀어지게 함께 들어올려질 수 있다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 링 기어가 척의 내부로 장착되고, 링 기어는 원형으로 배열된 핀들 각각과 동시에 치합 인게이지먼트 (engagement) 된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 원형으로 배열된 핀들 각각은 회전 척 내로 한정되고 링 기어와의 치합하는 기어 이 (gear teeth) 를 포함하는 확장된 베이스를 갖는다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 인서트는 한 쌍의 스크루들에 의해 회전 척에 고정된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 한 쌍의 스크루들 각각은 스크루를 인서트에 부착되게 유지하는 칼라 (collar) 를 갖는다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 인서트는 자신의 하부 표면을 쓰레드하는 스크루를 포함하고 리세스와 함께 형성된 쓰레드된 보어 (bore) 내로 조여진다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 인서트와 리세스 사이에서 회전 척 내로의 액체의 침투를 방지하기 위해, O-링이 리세스를 둘러싸는 홈부 내에 장착된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 인서트와 리세스 사이에서 회전 척 내로의 액체의 침투를 방지하기 위해, 립 시일 (lip seal) 이 인서트와 리세스의 숄더 (shoulder) 사이에 장착된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예들에서, 일련의 핀들 및 이들의 연관된 연결 메커니즘은 각각 PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxy), PPS (polyphenylenesulfide), PEEK (polyetheretherketone), PS/PES (polystyrene/polyethylstyrene), ETFE (ethylene tetrafluoroethylene), PVDF (polyvinylidene fluoride), PCTFE (homopolymer of chlorotrifluoroethylene), FEP (fluorinated ethylene propylene), 및 ECTFE (ethylene chlorotrifluoroethylene) 로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 화학적으로-내성을 갖는 플라스틱으로 형성된다.
다른 양태에서, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척으로서, 회전 척은 그 위에 웨이퍼-형상 물체를 홀딩하도록 구성된다. 회전 척은 웨이퍼-형상 물체의 에지 영역을 접촉하도록 구성된 일련의 주변의 핀들을 포함한다. 핀들 각각은 회전 척의 상부 플레이트로부터 상방으로 돌출하고, 핀들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 상부 플레이트에 개별적으로 고정된다. 핀들 중 선택된 어느 하나의 핀은 상부 플레이트를 제거하지 않고 핀의 대응하는 연결 메커니즘에 의해 회전 척으로부터 제거될 수 있다.
본 발명에 따른 회전 척의 바람직한 실시예들에서, 연결 메커니즘 각각은 대응하는 핀의 상부 부분이 통과할 수 있는 개구를 갖는 인서트를 포함하고, 핀 각각은 대응하는 인서트 내의 개구보다 폭이 큰 베이스부를 포함한다. 인서트 각각은 상부 플레이트 내에 형성된 대응하는 리세스에 수용되고 회전 척 내에서 인서트 아래 쪽에 붙어 있는 대응하는 핀의 베이스부를 사용하여 회전 척에 고정된다.
본 발명에 따른 회전 척의 바람직한 실시예들에서, 연결 메커니즘이 회전 척으로부터 연결해제될 때, 대응하는 핀 및 인서트는 대응하는 핀을 상방으로 당김으로써 척으로부터 멀어지게 함께 들어올려질 수 있다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척에 사용하기 위한 상부 플레이트 어셈블리로서, 내부에 형성된 원형으로 배열된 개구들을 갖는 상부 플레이트로서, 원형으로 배열된 개구들이 상부 플레이트가 회전 척 상에 장착될 때 개구들의 크기 및 위치가 일련의 주변의 핀들 중 대응하는 하나의 핀으로 하여금 개구들 각각의 하나를 통과하게 하도록 선택되는, 상부 플레이트를 포함하는, 회전 척에 사용하기 위한 상부 플레이트 어셈블리에 관한 것이다. 대응하는 리세스에 인접하는 개구부들 각각은 상부 플레이트의 상부 표면 내에 형성된다. 어셈블리는 인서트들의 세트를 포함하고, 인서트들 각각의 하나는 리세스들 각각에 대응하고, 인서트 각각은 인서트가 대응하는 리세스 내에 수용될 때 그리고 상부 플레이트가 회전 척 상에 장착될 때 일련의 주변의 핀들 중 하나의 핀의 상부 부분이 통과할 수 있는 홀을 갖는다. 인서트들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 상부 플레이트에 개별적으로 연결가능하다.
본 발명에 따른 상부 플레이트 어셈블리의 바람직한 실시예들에서, 인서트 각각은 한 쌍의 스크루들에 의해 상부 플레이트에 고정된다.
본 발명에 따른 상부 플레이트 어셈블리의 바람직한 실시예들에서, 한 쌍의 스크루들 각각은 스크루를 인서트에 부착되게 유지하는 칼라를 갖는다.
본 발명에 따른 상부 플레이트 어셈블리의 바람직한 실시예들에서, 인서트 각각은 자신의 하부 표면을 쓰레드하는 스크루를 포함하고 리세스와 함께 형성된 쓰레드된 보어 내로 조여진다.
본 발명의 다른 목적들, 특징들, 및 장점들은 첨부된 도면들을 참조하여 제공된, 본 발명의 바람직한 실시예들의 이하의 상세한 기술을 읽은 후에 보다 명백해 질 것이다.
도 1은 종래의 회전 척의 사시도이다.
도 2는 도 1의 선 II-II를 따라 취해진 부분 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 회전 척의 사시도이다.
도 4는 도 3의 선 IV-IV을 따라 취해진 부분 단면도이다.
도 5는 도 3의 선 V-V를 따라 취해진 부분 단면도이다.
도 6은 도 3의 상세 VI의 확대도이다.
도 7은 핀 어셈블리 및 인서트가 제거된, 도 6에 대응하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 예시적인 실시예들에서 사용하기에 적합한 핀 어셈블리의 사시도이다.
도 9는 본 발명의 바람직한 실시예들에 사용하기에 적합한 인서트의 사시도이다.
도 10은 도 9에서와 같은 인서트와 결합된 도 8에서와 같은 핀 어셈블리의 사시도이다.
도 11은 본 발명의 바람직한 실시예들에서 사용하기에 적합한 인서트의 다른 실시예의 도 4와 유사한 도면이다.
도 12는 본 발명의 바람직한 실시예들에서 사용하기에 적합한 인서트의 또 다른 실시예의 단면도이다.
이제 도면들을 참조하면, 도 1은 일반적으로 수평 배향으로 그 위에 웨이퍼 W를 홀딩하는 종래의 스핀 척을 도시한다. 스핀 척은 상부 플레이트 (2) 가 연결된 회전 베이스 바디 (1) 를 포함한다. 일련의 핀 어셈블리들 (4) 은 상부 플레이트 (2) 내에 형성된 개구들을 통해 상방으로 돌출된다.
도 2에 보다 상세히 도시된 바와 같이, 핀 어셈블리 (4) 각각은 기어 이 (6) 가 구비된 확장된 베이스를 포함하고, 기어 이 (6) 는 모든 핀 어셈블리들 (4) 을 일제히 구동하는 공통 링 기어 (3) 의 기어 이 (7) 와 치합된다. 핀 어셈블리 (4) 각각의 접촉 영역 (5) 이 핀 어셈블리의 회전 축에 대해 편심하기 때문에, 미국 특허 제 4,903,717 호 및 제 5,513,668 호에 기술된 바와 같이, 회전은 접촉 영역 (5) 을 스핀 척의 방사상으로 변위시킨다. 핀 어셈블리들 (4) 의 정확한 포지셔닝은 각각의 니들 베어링들 (8) 및 연관된 스프링들 (9) 이 보조한다.
그러나, 상기에 기술된 바와 같이, 수리 또는 유지보수 또는 교체를 위해 임의의 주어진 핀 어셈블리 (4) 를 제거하기 위해, 척 베이스 바디 (1) 로부터 상부 플레이트 (2) 를 제거하는 것을 포함하여, 전체 척이 디스어셈블되어야 한다.
이제 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 제 1 실시예에서, 회전 척 (12) 은 반도체 웨이퍼들의 단일 웨이퍼 습식 프로세싱을 위해 프로세스 모듈 (11) 내에 장착된다. 회전 척 (12) 각각은 단일 웨이퍼를 홀딩하지만, 공통 웨이퍼 핸들링 장비에 의해 공급되고 공통 제어 메커니즘들에 의해 제어되는 척들과 함께, 소정의 프로세스 모듈 (11) 내에 장착된 복수의 이러한 척이 있을 수도 있다. 핀 어셈블리들 (40) 은 미리 결정된 직경, 예를 들어, 300 ㎜ 또는 450 ㎜의 웨이퍼 W를 홀딩하도록 위치된다. 회전 척 (12) 은 척 베이스 바디 (10) 및 그 위에 고정된 상부 플레이트 (20) 를 포함한다.
하나 이상의 IR 램프들 (68) 을 포함하는 적외선 가열 어셈블리 (60) 는 회전 척 (12) 의 상부 플레이트 (20) 위에 위치된다. 공동으로 소유되고 공동으로 계류 중인 미국 출원 제 2013/0061873 호에 보다 완전히 기술된 바와 같이, 가열 어셈블리 (60) 는 회전 척 (12) 이 회전할 때 가열 어셈블리 (60) 가 고정된 채로 유지되도록, 회전 척 (12) 의 중심을 통과하는 고정된 기둥 상에 장착된다. 또한, 가열 어셈블리 (60) 가 하측면으로부터 웨이퍼 W를 가열하도록 가열 어셈블리는 상부 플레이트 위에 있지만, 핀 어셈블리들 (40) 에 의해 웨이퍼가 홀딩되는 레벨보다 낮다. 고정된 구조체는 또한 웨이퍼 W의 하측면에 상이한 가스들 및/또는 액체들을 각각 공급하는 유체 공급 노즐들 (62, 64, 66) 을 수용한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 핀 어셈블리 (40) 각각은 상부 플레이트 (20) 로부터 상방으로 돌출하고, 상부 플레이트 (20) 를 가로지르는 각각의 개구 (26) 를 통과한다. 도 1 및 도 2의 스핀 척과 달리, 본 실시예에서, 개구 (26) 는 확장된 베이스 (42) 를 포함하여, 전체 핀 어셈블리가 개구 (26) 를 통해 제거되게 하도록 충분히 넓다.
또한 인서트 (50) 가 상부 플레이트 (20) 의 개구 (26) 내에 위치되고, 핀 어셈블리 (40) 의 메인 샤프트를 둘러싼다. O-링 (22) 은 인서트 (50) 와 상부 플레이트 (20) 사이에서 회전 척 (12) 으로 액체가 들어오는 것을 방지하기 위해, 개구 (26) 내에 형성된 홈부 내에 앉혀진다. 인서트 (50) 는 개구 (26) 와 같이 바람직하게 실린더 형인 개구 (56) 를 포함한다. 그러나 개구 (56) 의 폭 (또는 직경) 은 핀 어셈블리 (40) 의 메인 샤프트는 개구 (56) 를 통과할 수 있지만, 확장된 베이스부 (42) 는 개구 (56) 를 통과할 수 없도록 개구 (26) 의 폭보다 작다.
또한 핀 어셈블리 (40) 각각의 확장된 베이스부 (42) 상에 형성된 대응하는 기어 이와 함께 기어 이 (37) 를 통해 치합되는 링 기어 (30) 및 핀 어셈블리 (40) 각각을 포지셔닝하기 위한 니들 베어링 (18) 과 연관된 스프링 (19) 이 도 4에 도시된다.
이제 도 5 내지 도 7을 참조하면, 인서트 (50) 각각이 한 쌍의 스크루들 (52) 에 의해 상부 플레이트 (20) 에 고정된 것을 볼 수 있다. 특히, 인서트 (50) 각각은 상부 플레이트 (20) 내에 형성된 대응하는 리세스 (24) 내에 수용된다. 리세스 (24) 는 상부 플레이트 (20) 를 통과하는 개구 (26), 및 보어들 (28) 이 스크루들 (52) 을 수용하기 위해 형성되는 한 쌍의 리세스된, 비-통과 영역들을 포함한다.
따라서, 도 3 내지 도 7의 회전 척 (12) 으로부터 핀 어셈블리 (40) 를 제거하기 위해, 핀 어셈블리가 예를 들어, 접촉 영역 (45) 에 고정되고, 핀 어셈블리 (40) 에 붙은 채로 유지될 인서트 (50) 와 함께, 상부 플레이트 (20) 내의 개구 (26) 를 통해 척의 위 및 외부로 링 기어 (30) 의 기어 이 (37) 와의 인게이지먼트를 들어올린 후 스크루들 (52) 을 풀기만 하면 된다.
회전 척 (12) 이 이의 구동 및 승강 유닛으로부터 디스어셈블되거나 제거될 필요가 없고 또는 실제로 심지어 자신을 둘러싸는 프로세스 모듈 (11) 로부터 제거될 필요가 없기 때문에, 상기 동작이 종래 기술보다 훨씬 빠르거나 단순하다는 것이 이해될 것이다.
도 8은 사용 시 웨이퍼 에지에 대항하여 지탱하고, 또한 웨이퍼가 상부 플레이트 (20) 위에서 미리 결정된 거리로 유지되도록 웨이퍼를 아래에서 지지하는 편심 접촉 영역 (45) 을 포함하는 핀 어셈블리 (40) 를 보다 명확하게 도시한다. 또한 베이스부 (42) 와 일체로 형성된 기어 이 (46) 를 포함하는 확장된 베이스부 (42) 가 도시되고, 사용 시 핀 어셈블리 각각의 기어 이 (42) 는 공통 링 기어 (30) 의 기어 이 (37) 와 동시에 치합 인게이지먼트된다.
핀 어셈블리 (40) 는 또한 핀 어셈블리 (40) 각각이 개구 (26) 를 통해 척 내로 보다 용이하게 삽입되고 그리고 다른 핀 어셈블리들 (40) 에 대하여 올바른 각도 배향으로 링 기어 (30) 의 기어 이 (37) 와 치합 인게이지먼트할 수 있도록 핀 어셈블리들 (40) 각각 상의 동일한 각도 위치에 형성된, 확장된 베이스부 (42) 내에 형성된 홀 (47) 과 같은 등록부 (registration) 또는 "타이밍" 마크를 포함하는 것이 바람직하다.
도 9는 핀 어셈블리 (40) 의 메인 샤프트가 통과할 수도 있지만, 확장된 베이스부 (42) 의 통과는 허용되지 않는 중앙 개구 (56) 및 스크루들의 편평한 헤드들이 인서트 (50) 의 상부 표면에 같은 높이로 장착되도록 본 실시예에서 스크루들 (52) 을 수용하는 한 쌍의 개구들 (54) 을 포함하는 인서트 (50) 를 보다 명확하게 도시한다.
도 10에서, 인서트 (50) 는 사용 중이고 또한 스크루들 (52) 이 제거되고 핀 어셈블리 (40) 및 인서트 (50) 를 회전 척 (12) 의 상부 플레이트 (20) 밖으로 들어올림으로써 회전 척 (12) 으로부터 핀 어셈블리 (40) 가 추출될 때, 어셈블리 (40) 상에 붙어 있는 것으로 도시된다.
도 11은 본 발명에 따른 바람직한 실시예들에서 사용하기에 적합한 인서트 (51) 의 다른 실시예를 도시한다. 도 11의 인서트 (51) 는 일반적으로 핀 어셈블리 (40) 의 회전 축에 대해 대칭이고, 개별 스크루들 (52) 에 의해서가 아니라 대신 상부 플레이트 (21) 의 쓰레드된 보어 (27) 내에 형성된 대응하는 쓰레드와 짝지어지는 자신의 스크루 쓰레드 (53) 에 의해 고정된다.
상부 플레이트 (21) 의 표면 위로 돌출하는 인서트 (51) 의 부분 (55) 은 핀 어셈블리 (40) 에 대해 비워지고 인서트 (51) 로 하여금 상부 플레이트 (21) 의 쓰레드된 보어 (27) 내로 조여지게 하는 깊은 소켓을 수용할 수 있도록 너트-형상인 것이 바람직하다.
인서트 (51) 와 상부 플레이트 (21) 사이에 액체가 스며드는 것을 방지하기 위해 쓰레드된 부분 위의 보어 (27) 의 홈부 내에 O-링 (23) 이 앉혀진다. 대안적으로 또는 부가적으로, 인서트 (21) 는 인서트 (51) 와 상부 플레이트 (21) 간에 마찰 피팅을 생성하는 립 시일 (57) 과 함께 형성될 수도 있다.
마지막으로, 도 12에서, 도 5 내지 도 7과 관련하여 기술된 인서트 (50) 와 유사하지만, 칼라들 (59) 때문에 인서트 (58) 내에 스크루들 (52) 이 붙어 있는, 인서트 (58) 의 또 다른 실시예가 예시되고, 칼라들 (59) 은 스크루들 (52) 이 리세스 (24) 내에서 보어들 (28) 로부터 조이고 풀리게 하지만, 스크루들 (52) 이 인서트 (58) 로부터 제거되는 것은 방지한다. 따라서 본 실시예는 스크루들 (52) 이 척 (12) 내, 그렇지 않으면 프로세스 모듈 (11) 내로 떨어질 임의의 위험도 제거하면서, 상부 플레이트로부터 핀 어셈블리들의 어셈블리 및 디스어셈블리를 더 단순화한다.
본 발명이 다양한 바람직한 실시예들과 관련하여 기술되었지만, 이들 실시예들은 단순히 본 발명을 예시하기 위해 제공되고, 첨부된 청구항들의 진정한 범위 및 정신에 의해 부여된 보호의 범위를 제한하는 명분으로서 사용되지 않아야 한다는 것이 이해된다.

Claims (20)

  1. 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치로서,
    회전 척으로서 상기 회전 척 상에 웨이퍼-형상 물체를 홀드하도록 구성된, 상기 회전 척을 포함하고,
    상기 회전 척은,
    상기 웨이퍼-형상 물체의 에지 영역에 접촉하도록 구성된 일련의 주변의 핀들을 포함하고,
    상기 핀들 각각은 상기 회전 척으로부터 상방으로 돌출하고, 상기 핀들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 상기 회전 척에 개별적으로 고정되고 (secured),
    상기 핀들 중 선택된 어느 하나의 핀은 상기 핀들 중 다른 핀들을 둘러싸는 상기 회전 척의 어떠한 구조체도 제거하지 않고 상기 선택된 핀의 대응하는 연결 메커니즘을 연결해제함으로써 상기 회전 척으로부터 제거되도록 구성되고,
    상기 연결 메커니즘 각각은 대응하는 핀의 상부 부분이 통과하도록 구성되는 개구를 갖는 인서트 (insert) 를 포함하고,
    상기 핀 각각은 대응하는 인서트 내의 상기 개구보다 폭이 큰 베이스부를 포함하고,
    상기 인서트 각각은 상기 회전 척의 상부 표면 내에 형성된 대응하는 리세스에 수용되고 상기 회전 척 내에서 상기 인서트 아래 쪽에 붙어 있는 대응하는 핀의 상기 베이스부를 사용하여 상기 회전 척에 고정되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전 척은 척 베이스 바디와 커버를 포함하고,
    상기 핀들 각각은 상기 커버로부터 상방으로 돌출하는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전 척은 중앙 스핀들 (spindle) 을 중심으로 회전하도록 장착되고,
    가열 어셈블리가 회전 척의 상부 표면 위에 그리고 상기 핀들이 웨이퍼-형상 물체의 에지에 접촉하는 레벨 아래에서 고정되어 (stationarily) 장착되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 연결 메커니즘이 상기 회전 척으로부터 연결해제될 때, 상기 대응하는 핀 및 상기 인서트는 상기 대응하는 핀을 상방으로 당김으로써 상기 척으로부터 멀어지게 함께 들어올려지도록 구성되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 척의 내부로 장착된 링 기어를 더 포함하고,
    상기 링 기어는 원형으로 배열된 핀들 각각과 동시에 치합 인게이지먼트 (mesh engagement) 되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 원형으로 배열된 핀들 각각은 상기 회전 척 내로 한정되고, 상기 링 기어와 치합되는 기어 이 (gear teeth) 를 포함하는 확장된 베이스를 갖는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트는 한 쌍의 스크루들에 의해 상기 회전 척에 고정되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 한 쌍의 스크루들 각각은 상기 스크루를 상기 인서트에 부착되게 유지하는 칼라 (collar) 를 갖는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트는 자신의 하부 표면을 쓰레드하는 스크루를 포함하고 상기 리세스와 함께 형성된 쓰레드된 보어 (bore) 내로 조여지는 (screw), 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트와 상기 리세스 사이에서 상기 회전 척 내로의 액체의 침투를 방지하기 위해, 상기 리세스를 둘러싸는 홈부 내에 장착된 O-링을 더 포함하는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트와 상기 리세스 사이에서 상기 회전 척 내로의 액체의 침투를 방지하기 위해, 상기 인서트와 상기 리세스의 숄더 (shoulder) 사이에 장착된 립 시일 (lip seal) 을 더 포함하는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 일련의 핀들 및 이들의 연관된 연결 메커니즘은 각각 PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxy), PPS (polyphenylenesulfide), PEEK (polyetheretherketone), PS/PES (polystyrene/polyethylstyrene), ETFE (ethylene tetrafluoroethylene), PVDF (polyvinylidene fluoride), PCTFE (homopolymer of chlorotrifluoroethylene), FEP (fluorinated ethylene propylene), 및 ECTFE (ethylene chlorotrifluoroethylene) 로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 화학적으로-내성을 갖는 플라스틱으로 형성되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 장치.
  14. 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척으로서,
    상기 회전 척은 그 위에 웨이퍼-형상 물체를 홀딩하도록 구성되고,
    상기 회전 척은 웨이퍼-형상 물체의 에지 영역을 접촉하도록 구성된 일련의 주변의 핀들을 포함하고,
    상기 핀들 각각은 상기 회전 척의 상부 플레이트로부터 상방으로 돌출하고,
    상기 핀들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 상기 상부 플레이트에 개별적으로 고정되고,
    상기 핀들 중 선택된 어느 하나의 핀은 상기 상부 플레이트를 제거하지 않고 상기 핀의 대응하는 연결 메커니즘을 연결해제함으로써 상기 회전 척으로부터 제거되도록 구성되고,
    상기 연결 메커니즘 각각은 대응하는 핀의 상부 부분이 통과하도록 구성되는 개구를 갖는 인서트를 포함하고,
    상기 핀 각각은 대응하는 인서트 내의 상기 개구보다 폭이 큰 베이스부를 포함하고,
    상기 인서트 각각은 상기 상부 플레이트 내에 형성된 대응하는 리세스에 수용되고 상기 회전 척 내에서 상기 인서트 아래 쪽에 붙어 있는 대응하는 핀의 상기 베이스부를 사용하여 상기 회전 척에 고정되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척.
  15. 삭제
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 연결 메커니즘이 상기 회전 척으로부터 연결해제될 때, 상기 대응하는 핀 및 상기 인서트는 상기 대응하는 핀을 상방으로 당김으로써 상기 척으로부터 멀어지게 함께 들어올려지도록 구성되는, 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척.
  17. 웨이퍼-형상 물체들을 프로세싱하기 위한 회전 척에 사용하기 위한 상부 플레이트 어셈블리로서,
    내부에 형성된 원형으로 배열된 개구들을 갖는 상부 플레이트로서, 상기 원형으로 배열된 개구들은 상기 상부 플레이트가 회전 척 상에 장착될 때 상기 개구들의 크기 및 위치가 일련의 주변의 핀들 중 대응하는 하나의 핀으로 하여금 상기 개구들 각각의 하나를 통과하게 하도록 선택되고, 대응하는 리세스에 인접하는 상기 개구들 각각은 상기 상부 플레이트의 상부 표면 내에 형성되는, 상기 상부 플레이트; 및
    인서트들의 세트로서, 상기 인서트들 각각의 하나는 상기 리세스들 각각에 대응하고, 상기 인서트 각각은 상기 인서트가 대응하는 리세스 내에 수용될 때 그리고 상기 상부 플레이트가 회전 척 상에 장착될 때 일련의 주변의 핀들 중 하나의 핀의 상부 부분이 통과하도록 구성되는는 홀을 갖고, 상기 인서트들 각각은 각각의 연결 메커니즘에 의해 상기 상부 플레이트에 개별적으로 연결가능한, 상기 인서트들의 세트를 포함하는, 상부 플레이트 어셈블리.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 인서트 각각은 한 쌍의 스크루들에 의해 상기 상부 플레이트에 고정되는, 상부 플레이트 어셈블리.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 한 쌍의 스크루들 각각은 상기 스크루를 상기 인서트에 부착되게 유지하는 칼라를 갖는, 상부 플레이트 어셈블리.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 인서트 각각은 자신의 하부 표면을 쓰레드하는 스크루를 포함하고 상기 리세스와 함께 형성된 쓰레드된 보어 내로 조여지는, 상부 플레이트 어셈블리.
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