KR102100900B1 - 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크를 간단하고 정확하게 위치시킬 수 있는 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 위하여, 마스크 시트와, 상기 마스크 시트에 결합된 마스크 프레임을 포함하는 마스크 유닛과, 상기 마스크 프레임이 삽입될 수 있는 서포터 프레임과 상기 서포터 프레임에 구비되고 상기 마스크 프레임이 하방으로 이동하여 안착될 수 있는 안착부를 갖는 마스크 서포터를 포함하고, 상기 마스크 프레임은 상기 안착부에 안착된 상태에서 상방으로 이동가능하도록 상기 안착부에 얹혀질 수 있는 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 제공한다.

Description

마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치{MASK ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 마스크를 간단하고 정확하게 위치시킬 수 있는 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 기판은 챔버 내에서 공정처리를 통해서 에칭, 확산, 증착 등의 공정을 선택적이고 반복적으로 수행되어, 기판 상에 원하는 패턴을 형성한다. 이 중 식각 공정은 기판 상에 형성된 막 중 선택된 영역을 제거하는 공정으로 습식식각과 건식식각이 사용된다.
예를 들면, 액정 디스플레이나 유기 EL 등의 플랫 패널 디스플레이(이하, "FPD"라 칭함)나, 태양 전지 모듈의 제조에 이용되는 피처리체로서의 유리 기판에 성막이나 에칭 등의 처리를 실행하기 위해, 그 처리속도나 제어성의 관점에서 플라즈마 처리가 많이 이용되고 있으며, 일괄식에 있어서의 장치 구조의 복잡함을 피하고 플라즈마의 성능을 향상시키는 것에 의해 스루풋에 관한 요구에 부합하는 낱장식의 처리 장치가 사용되어 왔다.
그러나 이러한 종래의 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치는 마스크를 정렬하기 위하여 별도의 정렬장치가 필요한 문제점이 있었다. 본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 마스크 유닛을 정확한 위치에 정렬할 수 있는 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 제공할 수 있다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 마스크 시트와, 상기 마스크 시트에 결합된 마스크 프레임을 포함하는 마스크 유닛과, 상기 마스크 프레임이 삽입될 수 있는 서포터 프레임과 상기 서포터 프레임에 구비되고 상기 마스크 프레임이 하방으로 이동하여 안착될 수 있는 안착부를 갖는 마스크 서포터를 포함하고, 상기 마스크 프레임은 상기 안착부에 안착된 상태에서 상방으로 이동가능하도록 상기 안착부에 얹혀질 수 있는 마스크 어셈블리가 제공된다.
상기 마스크 프레임은 상기 마스크 시트가 결합된 사각 프레임이고, 상기 안착부는 상기 마스크 프레임의 4개의 외주면을 각각 지지할 수 있다.
상기 안착부는 상기 마스크 프레임이 안착되는 경사면을 포함할 수 있다.
상기 마스크 프레임의 측면 중 적어도 일부는 상기 안착부의 경사면에 대응하는 방향으로 경사질 수 있다.
상기 마스크 프레임의 측면 중 적어도 일부는 상기 안착부의 경사면에 대응하는 형상으로 이루어질 수 있다.
상기 안착부는 상기 서포터 프레임의 내주면의 적어도 일부에서 돌출될 수 있다.
상기 안착부는 상기 서포터 프레임의 상단과 하단 사이에서 돌출될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 일 관점에 따르면, 챔버와, 상기 챔버 내에서 승강할 수 있으며, 기판이 안착될 수 있는 스테이지 유닛과, 상기 챔버에 분리가능하게 결합되는 리드 플레이트 유닛과, 상기 리드 플레이트 유닛과 상기 스테이지 유닛 사이에 위치하는 전술한 마스크 어셈블리를 포함하는 기판처리장치가 제공된다.
상기 마스크 서포터는 상기 챔버 또는 상기 리드 플레이트 유닛 중 어느 하나에 결합될 수 있다.
상기 챔버 내로 과압가스가 주입될 수 있도록 상기 챔버에 형성된 가스 주입구를 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 마스크를 간단하고 정확하게 위치시킬 수 있는 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는 도 1의 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치 중 일부를 개략적으로 도시하는 부분 사시도이다.
도 은 도 2의 III-III선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치의 일부를 개략적으로 도시하는 부분 사시도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 기팥처리장치의 일부를 개략적으로 도시하는 부분사시도이다.
도 6은 도 5의 VI-VI선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치의 일부를 각각 개략적으로 도시하는 부분 단면도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있는 것으로, 이하의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다. 또한, 상하(z 방향), 좌우(x방향), 전후 방향(y 방향)은 이를 포함한 넓은 의미로 해석될 수 있다.
또한, 이하의 실시예에서 결합 및 연결은 직접적인 결합 및 연결을 의미할 뿐만 아니라 간접적인 결합 및 연결을 의미할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 본 실시예에 따른 기판처리장치는 챔버(110), 리드 플레이트 유닛(120), 스테이지 유닛(130) 및 마스크 어셈블리를 포함할 수 있다.
챔버(110)는 내부 공간에서 기판(G)이 처리되며, 기판(G)이 처리되는 동안 진공 또는 비진공 상태로 유지될 수 있다. 그리고 챔버(110)는 기판(G)이 반입 및 반출되는 게이트(111)가 형성될 수도 있다.
스테이지 유닛(130)은 기판(G)이 안착될 수 있으며, 챔버(110) 내에서 승강할 수 있다. 예를 들어 스테이지 유닛(130)은 기판(G)이 안착되는 평평한 상면을 가지고 내부에 기판(G)을 가열하기 위한 히터(미도시)를 구비한 안착부(131)를 포함할 수 있다. 그리고 스테이지 유닛(130)은 안착부(131)에서 하방으로 연장되는 지지부(132)를 포함할 수 있다. 이 지지부(132)에 구동 유닛(140)이 연결될 수 있다. 예를 들어, 지지부(132)는 상세히 도시되지는 않았지만 스크류, 기어 등에 의해 모터등의 구동 유닛(미도시)에 연결될 수 있다.
한편, 스테이지 유닛(130)에 기판(G)을 안착하기 위하여, 리프트핀(170)이 챔버(110) 내에 위치할 수 있다. 예를 들어, 리프트핀(170)은 복수로써, 상하 방향(z축 방향)으로 연장되고, 일단이 챔버(110)의 저면에 고정되고, 타단이 기판(G)을 지지할 수 있다. 이때, 리프트핀(170)은 도시된 바와 같이 스테이지 유닛(130)을 관통하여 기판(G)을 지지할 수 있다. 구체적으로 챔버(110) 외부에 위치한 트랜스퍼 유닛이 기판(G)을 리프트핀(170)에 안착시킬 수 있다.
리드 플레이트 유닛(120)은 챔버(110)에 분리가능하게 결합될 수 있다. 구체적으로 리드 플레이트 유닛(120)은 상방이 개방된 챔버(110)를 덮을 수 있다. 물론 이에 한정하는 것은 아니며 리드 플레이트 유닛(120)은 챔버(110) 내부에 위치하며, 스테이지 유닛(130)의 상방에 위치할 수 있다.
이러한 리드 플레이트 유닛(120)은 프로세스 공간(S)과 연통되어 프로세스 공간(S)으로 프로세스 가스 등을 공급하는 공정가스 주입유로(121)와, 프로세스 가스 등을 배출하는 공정가스 배출유로(122)를 포함할 수 있다. 여기서 프로세스 공간(S)는 리드 플레이트 유닛(120)과 스테이지 유닛(130) 사이에 형성될 수 있다.
마스크 어셈블리는 마스크 유닛(300) 및 마스크 서포터(400)를 포함할 수 있다. 이하에서 첨부된 도면을 참조하여 마스크 어셈블리를 상세히 설명한다.
도 2는 마스크 어셈블리를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 일부를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
마스크 유닛(300)은 마스크 시트(320)과, 마스크 프레임(330)을 포함할 수 있다. 마스크 시트(320)는 기판(G)의 적어도 일부를 덮을 수 있다. 마스크 프레임(330)은 마스크 시트(320)에 결합될 수 있다. 구체적으로 마스크 프레임(330)은 도시된 바와 같이 사각 프레임으로 마스크 시트(320)를 감쌀 수 있다.
이러한 마스크 유닛(300)은 리드 플레이트 유닛(120)과 스테이지 유닛(130) 사이에 배치될 수 있다. 이때, 마스크 유닛(300)의 위치에 따라, 마스크 어셈블리도 리드 플레이트 유닛(120)과 스테이지 유닛(130) 사이에 배치될 수 있다.
마스크 서포터(400)는 서포터 프레임(430) 및 안착부(410)를 포함할 수 있다.
서포터 프레임(430)은 마스크 프레임(330)이 삽입될 수 있다. 예를 들어, 서포터 프레임(430)은 사각 프레임 형상일 수 있다. 즉, 서포터 프레임(430)은 마스크 프레임(330)보다 약간 클 수 있다. 그리고 마스크 프레임(330)은 하방 즉, 자중이 작용하는 방향으로 이동하여 서포터 프레임(430)에 삽입될 수 있다.
안착부(410)는 서포터 프레임(430)에 구비되고 마스크 프레임(330)이 하방으로 이동하여 안착될 수 있다. 구체적으로, 마스크 프레임(330)은 안착부(410)에 안착된 상태에서 상방으로 이동가능하도록 안착부(410)에 얹혀질 수 있다. 즉, 마스크 프레임(330)은 자중에 의해 안착부(410)에 안착되므로, 하방으로 이동할 수 없으나 상방으로 이동할 수 있다.
안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 내주면의 적어도 일부에서 돌출될 수 있다. 즉, 안착부(410)는 마스크 프레임(330)의 4개의 외주면을 각각 지지할 수 있다. 예를 들어, 안착부(410)는 도시된 바와 같이 서포터 프레임(430)의 4개의 내측면에 각각 형성되며 상호 연결될 수 있다. 다른 예에 대해서는 후술한다.
이러한 안착부(410)는 마스크 유닛(300)이 안착될 때 마스크 유닛(300)을 정렬할 수 있다. 구체적으로 안착부(410)는 마스크 유닛(300)이 접촉하여 슬라이딩되어 마스크 유닛(300)을 정렬시키는 경사면을 포함할 수 있다. 여기서 안착부(410)의 경사면은 마스크 유닛(300) 중 마스크 프레임(330)과 접촉할 수 있다.
예를 들어 마스크 시트(320)는 공정을 위하여 기판(G)의 적어도 일부를 정확하게 덮어야 한다. 이를 위하여 마스크 유닛(300)은 상방에서 하방으로 이동하여 마스크 서포터(400)에 정확하게 안착되어야 한다. 따라서 안착부(410)는 마스크 유닛(300)이 정확하게 안착될 수 있도록 접촉되고 슬라이딩되어 안착 위치로 안내할 수 있다. 즉, 마스크 유닛(300)이 안착부(410)에서 슬라이딩된 후 멈추면 안착 위치에 정확하게 위치할 수 있다.
안착부(410)의 경사면 중 상호 마주하는 경사면은 상방으로 갈수록 멀어질 수 있다. 즉, 안착부(410)의 경사면은 하방으로 비스듬하게 경사질 수 있다. 그리고 안착부(410)의 경사면은 도시된 바와 같이 서포터 프레임(430)의 상단부터 형성될 수 있다. 물론 이에 한정하는 것은 아니며, 안착부(410)의 경사면은 서포터 프레임(430)의 상단과 하단 사이에서 형성될 수 있다.
한편, 마스크 프레임(300)의 측면 중 적어도 일부는 안착부(410)의 경사면에 대응하는 방향으로 경사질 수 있다. 예를 들어, 마스크 프레임(330)은 안착부(410)에 접촉하는 부분이 경사질 수 있다. 즉, 마스크 프레임(330)의 경사면과 안착부(410)의 경사면이 접촉하여, 안착부(410)는 보다 정확하고 안정적으로 마스크 프레임(330)을 정렬할 수 있다.
한편, 마스크 프레임(330)의 측면 중 적어도 일부는 안착부(410)의 경사면에 대응하는 형상으로 이루어질 수 있다. 예를 들어 안착부(410)의 경사면이 평면인 경우, 마스크 프레임(330)의 경사진 측면도 평면일 수 있다. 다른 예로, 안착부(410)가 오목한 곡면인 경우에는, 마스크 프레임(330)은 이에 대응하도록 볼록한 곡면일 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리를 개략적으로 도시하는 부분 단면 사시도이다. 본 실시예에 따른 마스크 어셈블리는 전술한 실시예에 따른 마스크 어셈블리와 동일하거나 유사하다. 따라서 중복되는 설명은 생략한다.
안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 내주면의 적어도 일부에서 돌출될 수 있다. 전술한 바와 같이 안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 4개의 측면에서 각각 돌출되어, 마스크 프레임(330)의 4개의 측면을 각각 안착할 수 있다. 구체적으로 도시된 바에 따르면 안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 한 측면에 하나씩 배치될 수 있다. 물론 이에 한정하는 것은 아니며, 안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 어느 한 면에서 복수로 돌출되는 등 다양한 변형이 가능하다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리를 개략적으로 도시하는 부분 단면 사시도이고, 도 6은 도 5의 VI-VI선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다. 본 실시예에 따른 마스크 어셈블리는 전술한 실시예에 따른 마스크 어셈블리와 동일하거나 유사하다. 따라서 중복되는 설명은 생략한다.
안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 상단과 하단 사이에서 돌출될 수 있다. 구체적으로 안착부(410)의 경사면은 서포터 프레임(430)의 상단과 하단 사이에 배치될 수 있다.
예를 들어, 도시된 바와 같이 안착부((410)는 서포터 프레임(430)의 상단과 하단의 사이에서 돌출될 수 있다. 구체적으로 안착부(410)의 경사면은 상단과 하단의 대략 중간에서 비스듬하게 연장될 수 있다.
이때, 서포터 프레임(430)과 마스크 프레임(330)의 상호 마주하는 측면은 자중의 작용방향(-z방향)과 평행할 수 있다. 후술할 과압가스(O)가 서포터 프레임(430)과 마스크 프레임(330)의 사이를 유동하기 위하여, 서포터 프레임(430)과 마스크 프레임(330)의 마주하는 측면은 z방향에 수직한 방향으로 이격될 수 있다.
다른 예로, 도 2 내지 도 4와 같이 안착부(410)는 서포터 프레임(430)의 단의 경사면은 서포터 프레임(430)의 상단에서 하방으로 비스듬하게 연장될 수 있다.
도 7 및 도 8은 전술한 실시예들에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치의 일부를 개략적으로 도시한 단면도이다. 본 실시예에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치는 전술한 실시예들에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치와 대략 동일하거나 유사하므로 중복되는 설명은 생략한다.
마스크 서포터(400)는 챔버(110) 및 리드 플레이트 유닛(120) 중 어느 하나에 결합될 수 있다. 구체적으로 마스크 서포터(400)의 서포터 프레임(430)이 챔버(110) 및 리드 플레이트 유닛(120) 중 어느 하나에 결합될 수 있다.
예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이 서포터 프레임(430)은 리드 플레이트 유닛(120)에 결합될 수 있다. 구체적으로 서포터 프레임(430)은 리드 플레이트 유닛(120)의 하면에 나사 등의 체결부재(500)에 의해 고정 결합될 수 있다.
다른 예로, 도 8에 도시된 바와 같이 서포터 프레임(430)은 챔버(110)에 결합될 수 있다. 구체적으로 서포터 프레임(430)은 챔버(110)의 상부에 나사 등의 체결부재(500)에 의해 고정 결합될 수 있다.
즉, 마스크 서포터(400)는 챔버(110) 또는 리드 플레이트 유닛(120)에 견고히 고정되어 마스크 유닛(300)을 지지할 수 있다.
도 9는 본 발명이 실시예들에 따른 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리장치가 기판(G)을 처리하는 공정 중을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
여기서 마스크 유닛(300)은 마스크 서포터(400)의 안착부(410)에서 소정의 간격으로 이격될 수 있다. 예를 들어, 마스크 유닛(300)은 공정 전 또는 공정 중에 마스크 서포터(400)에서 이격될 수 있다. 구체적으로 마스크 유닛(300)은 기판(G)이 안착된 스테이지 유닛(130)에 의해 들어올려져 안착부(410)에서 이격될 수 있다.
기판(G)를 처리할 때, 공정가스(P)가 챔버(110) 하부로 유입될 수 있다. 그리고 공정가스(P)가 챔버(110) 하부로 반복적으로 유입됨에 따라 챔버의 하부에서 뭉쳐 파티클이 될 수 있다. 이러한 것을 방지하기 위하여, 챔버(110)의 하부를 양압으로 유지하여, 공정가스(P)의 유입을 차단할 수 있다.
챔버(110)의 하부를 양압으로 유지하기 위하여, 챔버(110)는 외부로부터 내부로 과압가스(O)를 공급받을 수 있다. 예를 들어 기판처리장치는 과압가스(O)가 주입될 수 있도록 챔버에 형성된 가스 주입구(160)를 포함할 수 있다. 이때, 가스 주입구(160)은 챔버(110)의 하부에 형성될 수 있다. 그리고 가스 주입구(160)는 파이프나 튜브에 의해 과압가스(O)가 저장된 봄베(미도시) 또는 탱크(미도시)와 연결될 수 있다.
과압가스(O)는 챔버(110)의 하부를 채워, 전술한 바와 같이 공정가스(P)가 챔버(110)의 하부로 유입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 과압가스(O) 중 일부는 마스크 유닛(300)과 마스크 서포터(400) 사이로 유동할 수 있다. 구체적으로 과압가스(O) 중 일부는 마스크 프레임(330)과 서포터 프레임(430)의 사이로 유동하되 상방으로 이동할 수 있다. 이로 인해, 공정가스(P)가 챔버(110)의 하부로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 마스크 유닛(300)과 마스크 서포터(400) 사이의 공간은 프로세스 공간과 공정가스 주입유로(121)가 만나는 부분 및 프로세스 공간(S)과 공정가스 배출유로(122)가 만나는 부분의 외측에 배치될 수 있다.
한편, 마스크 유닛(300)과 마스크 서포터(400) 사이를 유동한 과압가스(O)는 챔버(110)와 리드 플레이트 유닛(120) 사이의 좁은 공간을 통해 챔버(110)의 외부로 배출되거나, 프로세스 공간(S)으로 유입되어 공정가스 배출유로(122)로 배출될 수 있다. 여기서 과압가스(O)는 아르곤 등의 불활성 가스이므로 공정 반응에 참여하지 않아 공정에 영향을 미치지 않을 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
110: 챔버 120: 리드 플레이트 유닛
121: 공정가스 주입구 122: 공정가스 배출구
130: 스테이지 유닛 160: 가스 주입구
300: 마스크 유닛 320: 마스크 시트
330: 마스크 프레임 400: 마스크 서포터
410: 안착부 430: 서포터 프레임
500: 체결부재

Claims (10)

  1. 마스크 시트와, 상기 마스크 시트에 결합된 마스크 프레임을 포함하는 마스크 유닛; 및
    상기 마스크 프레임이 삽입될 수 있는 서포터 프레임과, 상기 서포터 프레임에 구비되고 상기 마스크 프레임이 하방으로 이동하여 안착될 수 있는 안착부를 갖는 마스크 서포터;
    를 포함하고,
    상기 마스크 프레임은 상기 안착부에 안착된 상태에서 상방으로 이동가능하도록 상기 안착부에 얹혀질 수 있고,
    상기 안착부는 상기 서포터 프레임의 상단과 하단 사이의 내주면에서 돌출되게 형성되어 상기 마스크 프레임이 안착되는 경사면을 포함하고,
    상기 안착부의 상부와 하부에 자중의 작용방향과 평행하게 형성되는 상기 서포터 프레임과 상기 마스크 프레임의 상호 마주하는 측면은, 상기 자중의 작용방향과 수직한 방향으로 이격되게 형성되는, 마스크 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 프레임은 상기 마스크 시트가 결합된 사각 프레임이고,
    상기 안착부는 상기 마스크 프레임의 4개의 외주면을 각각 지지하는, 마스크 어셈블리.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 프레임의 측면 중 적어도 일부는 상기 안착부의 경사면에 대응하는 방향으로 경사진, 마스크 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 프레임의 측면 중 적어도 일부는 상기 안착부의 경사면에 대응하는 형상으로 이루어지는, 마스크 어셈블리.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 챔버;
    상기 챔버 내에서 승강할 수 있으며, 기판이 안착될 수 있는 스테이지 유닛;
    상기 챔버에 분리가능하게 결합되는 리드 플레이트 유닛;
    상기 리드 플레이트 유닛과 상기 스테이지 유닛 사이에 위치하는, 제1항, 제2항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항의 마스크 어셈블리;
    를 포함하는, 기판처리장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 마스크 서포터는 상기 챔버 또는 상기 리드 플레이트 유닛 중 어느 하나에 결합되는, 기판처리장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 챔버 내로 과압가스가 주입될 수 있도록 상기 챔버에 형성된 가스 주입구를 포함하는, 기판처리장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2918780B2 (ja) * 1993-01-28 1999-07-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 加熱された支持部上のシャドーフレーム及び大型平面基板の整列
JP2011231384A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Ulvac Japan Ltd 成膜装置及びアライメント方法

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