KR102089380B1 - 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조 - Google Patents

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하승호
김용관
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(주)신우에이엔티
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Abstract

웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조가 개시된다. 개시되는 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조가 웨이퍼를 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치에 적용되는 것으로서, 세정액 공급 부재, 나노 버블 발생 부재, 밀도 가변용 가스 공급 부재 및 진동 부재를 포함하고, 세정액과, 밀도 가변용 가스 및 나노 버블이 혼합된 나노 버블 혼합액이 웨이퍼의 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 진동 부재에 의해 진동되어 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼의 표면에서 터지게 되고, 그에 따라 상기 웨이퍼의 표면이 세정됨으로써, 상기 웨이퍼의 세정을 위한 작업 시간을 상대적으로 짧게 줄이면서도 상기 웨이퍼의 세정 작업 효율을 향상시킬 수 있게 되는 장점이 있다.

Description

웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조{Nano bubble spray structure applied to wafer cleaning}
본 발명은 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조에 관한 것이다.
반도체 산업이 1950년대 이후로 급속도로 발전해 오면서 현재의 반도체 소자는 초고집적화되고 있는데, 이러한 반도체 소자의 초고집적화로 제조 공정 수는 증가됨에 따라 각 공정을 수행할 때마다 각 공정에서 발생되는 파티클, 금속 오염물, 자연 산화막 등의 오염물을 제거시켜 세정 공정의 중요성이 부각되고 있다.
이는 반도체의 기본이 되는 반도체 웨이퍼의 제조 시에도 동일하게 적용되는데, 이러한 반도체 웨이퍼에 대한 세정 공정을 수행할 수 있는 것이 웨이퍼 세정 장치이고, 이러한 웨이퍼 세정 장치의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것들이다.
그러나, 종래의 웨이퍼 세정 장치에서는 상기 웨이퍼의 세정을 위한 세정액을 단순히 상기 웨이퍼 표면에 공급하게 되는데, 이러한 단순한 세정액 공급은 세정 작업 시간은 매우 길어지되, 상기 웨이퍼가 세정되는 세정 효율은 떨어지는 문제가 있었다.
등록특허 제 10-0413067호, 등록일자: 20031215, 발명의 명칭 : 반도체 제조 장비의 웨이퍼 세정 장비 등록특허 제 10-0625307호, 등록일자: 20060911, 발명의 명칭 : 명칭: 반도체 웨이퍼 세정 장치
본 발명은 웨이퍼의 세정을 위한 작업 시간이 상대적으로 짧으면서도, 상기 웨이퍼가 세정되는 세정 효율을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조는 웨이퍼를 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치에 적용되는 것으로서, 상기 웨이퍼의 세정을 위한 세정액이 공급되는 세정액 공급 부재; 상기 세정액 공급 부재에 연결되고, 상기 세정액 공급 부재에서 유입되는 상기 세정액에 혼합될 수 있는 대상인 나노 버블을 발생시키는 나노 버블 발생 부재; 상기 세정액 공급 부재 중 상기 나노 버블 발생 부재가 연결되기 전단에 연결되고, 상기 나노 버블 발생 부재에서 발생되어 상기 세정액에 혼합되는 상기 나노 버블의 함유 밀도를 가변시킬 수 있는 밀도 가변용 가스가 공급되는 밀도 가변용 가스 공급 부재; 상기 나노 버블 발생 부재에서 배출되어 상기 웨이퍼의 표면에 제공되는 상기 밀도 가변용 가스 및 상기 나노 버블이 혼합된 상기 세정액을 진동시키는 진동 부재; 및 상기 세정액 공급 부재 중 상기 웨이퍼의 상공에 위치된 말단부에서 상기 세정액 공급 부재와 연통되도록 연결되는 분사 부재;를 포함하고, 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스가 혼합되어 가스 혼합액이 형성되고, 상기 가스 혼합액에 상기 나노 버블이 혼합되어 나노 버블 혼합액이 형성되고, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액에 포함된 상기 나노 버블이 상기 진동 부재에 의해 진동되어 터짐으로써, 상기 웨이퍼의 표면이 세정되고, 상기 진동 부재는 상기 웨이퍼의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액에 접촉하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키는 진동체와, 일정 길이 길게 형성되고, 일측 말단부가 상기 진동체와 연결된 상태에서 일정 각도 회전되는 회전암과, 상기 회전암의 타 측 말단부에 설치되고, 상기 회전암 및 상기 진동체를 일정 각도 회전시키는 진동체측 회전 수단을 포함하고, 상기 진동체는 상기 회전 수단의 회전에 의해 상기 웨이퍼 표면의 중앙부에서 가장자리까지 이동되면서 상기 웨이퍼 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시켜 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 확산 이동되면서 터지도록 하고, 상기 분사 부재는 상기 세정액 공급 부재에서 상기 웨이퍼의 표면과 수직 방향으로 연장되고, 그 내부에 유동홀이 형성된 분사 관체와, 상기 분사 관체의 말단부에서 복수 개가 서로 이격되도록 배치되어 상기 유동홀의 면적을 상대적으로 줄임으로써, 상기 유동홀에서 유동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도를 상기 세정액 공급 부재 내부에서 이동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도에 비해 상대적으로 빠르게 함과 함께, 상기 나노 버블 혼합액이 복수 방향으로 분사되도록 하는 분사체와, 상기 분사체가 상기 분사 관체에서 일정 간격 이격됨으로써 상기 분사체와 상기 분사 관체 사이에 형성되고, 상기 세정액 공급 부재에서 이동된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼 표면으로 배출되도록 하는 분사 배출구를 포함하고, 상기 분사 배출구가 상기 분사체 및 상기 분사 관체 사이에 형성됨으로써 각각가의 상기 분사 배출구의 단면적은 상기 유동홀의 단면적에 비해 상대적으로 작게 형성되고, 상대적으로 작은 단면적을 통과하는 상기 나노 버블 혼합액은 압력이 상대적으로 증가하게 되면서, 상기 유동홀에서의 유동 속도에 비해 상대적으로 빠른 속도로 상기 분사 배출구에서 배출되고, 각각의 상기 분사체에서 상기 웨이퍼와 대면되는 면은 상기 웨이퍼 쪽으로 일정 곡률로 함몰된 곡면 형태로 형성되고, 상기 분사체에서 상기 세정액 공급 부재와 대면되는 면은 그 중심부에서 그 외주로 갈수록 상기 웨이퍼 쪽을 향하도록 점진적으로 경사진 형태로 형성되어 상기 분사 배출구를 통한 상기 나노 버블 혼합액의 배출은 가능하되, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 분사 부재에서 배출되어 상기 웨이퍼 표면에 접촉된 후 상기 분사 관체 내부로 역유입되는 것은 방지되는 것을 특징으로 한다.
세정액 공급 부재, 나노 버블 발생 부재, 밀도 가변용 가스 공급 부재 및 진동 부재를 포함하고, 세정액과, 밀도 가변용 가스 및 나노 버블이 혼합된 나노 버블 혼합액이 웨이퍼의 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 진동 부재에 의해 진동되어 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼의 표면에서 터지게 되고, 그에 따라 상기 웨이퍼의 표면이 세정됨으로써, 상기 웨이퍼의 세정을 위한 작업 시간을 상대적으로 짧게 줄이면서도 상기 웨이퍼의 세정 작업 효율을 향상시킬 수 있게 되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조가 적용된 웨이퍼 세정 장치의 모습을 보이는 도면.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조의 모습을 보이는 정면도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 진동 부재에 의해 나노 버블이 확산 이동되는 모습을 개략적으로 보이는 도면.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 나노 버블 발생 부재의 개략적인 모습을 보이는 사시도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 나노 버블 발생 부재의 개략적인 모습을 보이는 정면도.
도 6은 도 2의 A 부분을 확대한 도면.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조의 모습을 보이는 정면도.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 진동 부재에 의해 나노 버블의 속도가 가변되는 모습을 개략적으로 보이는 도면.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조가 적용된 웨이퍼 세정 장치의 모습을 보이는 도면이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조의 모습을 보이는 정면도이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 진동 부재에 의해 나노 버블이 확산 이동되는 모습을 개략적으로 보이는 도면이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 나노 버블 발생 부재의 개략적인 모습을 보이는 사시도이고, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 나노 버블 발생 부재의 개략적인 모습을 보이는 정면도이고, 도 6은 도 2의 A 부분을 확대한 도면이다.
도 1 내지 도 6을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100)는 웨이퍼(20)를 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치(10)에 적용되는 것으로서, 세정액 공급 부재(110), 나노 버블 발생 부재(130), 밀도 가변용 가스 공급 부재(120) 및 진동 부재(140)를 포함하고, 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스가 혼합되어 가스 혼합액이 형성되고, 상기 가스 혼합액에 상기 나노 버블이 혼합되어 나노 버블 혼합액이 형성되고, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20) 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액에 포함된 상기 나노 버블이 상기 진동 부재(140)에 의해 진동되어 터짐으로써, 상기 웨이퍼(20)의 표면이 세정된다.
본 실시예에서 상기 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100)는 노즐 하우징(101) 및 분사 부재(150)를 더 포함한다.
여기서, 상기 웨이퍼 세정 장치(10)는 세정 대상인 상기 웨이퍼(20)에 대한 세정 공정을 수행할 수 잇는 것으로서, 세정을 위한 구성 요소가 내부에 수용되고, 외부에 대하여 밀폐되는 챔버 케이스(11)와, 상기 웨이퍼(20)가 그 상단에 올려지고 세라믹, 알루미늄, 수지류 등의 열전도체로 이루어지는 척 몸체(12)와, 상기 척 몸체(12)의 상면에 위치되고 상기 웨이퍼(20)를 받쳐주는 척 핀(13)과, 상기 척 몸체(12)를 회전시키는 회전 수단(14)과, 상기 척 몸체(12)의 주변을 감싼 형태로 형성되어 상기 회전 수단(14)에 의해 회전되는 상기 척 몸체(12) 상의 상기 웨이퍼(20)에 묻어 있던 세정액이 세정 완료 후 원심력에 의해 상기 웨이퍼(20)에서 이탈되어 수용되는 세정액 환수 부재(15)와, 상기 챔버 케이스(11)의 내부로 외부 공기를 인입시키되, 그 외부 공기 중의 이물질을 필터링해준 다음 상기 챔버 케이스(11) 내부로 하강 기류를 형성하는 팬 필터 부재(30)와, 상기 팬 필터 부재(30)에 의해 하강된 기류를 외부로 배출시키는 배기관(40)과, 상기 웨이퍼 세정 장치(10)를 구성하는 각 구성 요소의 작동 조건을 제어하고, 상기 각 구성 요소의 작동 상태를 확인할 수 있는 제어부(50)를 포함한다.
상기 가스 혼합액은 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급된 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급된 상기 밀도 가변용 가스가 혼합된 상태의 물질을 말하는 것이고, 그에 따라, 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 발생된 상기 나노 버블과 혼합되는 것은 상기 가스 혼합액을 구성하는 상기 세정액이다.
또한, 상기 나노 버블 혼합액은 상기 가스 혼합액에 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 발생된 상기 나노 버블이 혼합된 상태의 물질을 말하는 것이다.
본 실시예에서는 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스가 혼합된 상태 즉, 상기 가스 혼합액 상태에서 상기 나노 버블이 혼합되는 것으로 설명하였으나, 이는 단지 하나의 예시일 뿐, 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스가 혼합되지 아니한 상태, 즉 상기 세정액 그 자체에 상기 나노 버블이 혼합될 수도 있다.
상기 노즐 하우징(101)은 상기 웨이퍼 세정 장치(10)의 내벽에서 상기 웨이퍼(20)의 상공까지 일정 길이 길게 형성되고, 상기 세정액 공급 부재(110), 상기 나노 버블 발생 부재(130), 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120) 및 상기 스프레이 분사 부재(140) 등의 구성 요소가 설치되는 것이다.
상기 세정액 공급 부재(110)는 내부가 빈 관 등의 형태로 형성되어 상기 웨이퍼(20)의 세정을 위한 세정액이 공급되는 것으로, 외부 공급부(미도시)부터 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120), 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 상기 나노 버블 발생 부재(130)까지 연결된 후, 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 연장되어 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20)의 표면에 배출되도록 상기 웨이퍼(20)의 상공에 위치된다.
상기 세정액은 순수한 물(DIW, DeIonized Water) 등이 될 수 있고, 외부에 설치된 저장 탱크(미도시) 등에서 공급되어 상기 세정액 공급 부재(110)에 의해 상기 웨이퍼 세정 장치(10)의 내부까지 유동된다.
상기 나노 버블 발생 부재(130)는 상기 세정액 공급 부재(110)에 연결되고, 상기 세정액 공급 부재(110)에서 유입되는 상기 세정액에 혼합될 수 있는 대상인 나노 버블을 발생시키는 것이다.
여기서, 상기 나노 버블은 육안으로는 확인이 불가능한 직경 1마이크로미터(um)이하의 초미세기포로서, 상온, 상압의 개방 조건에서 안정성을 유지함에 따라 일반 기포와 순수 물들의 수중에서 급속으로 상승되지 않고, 안정성을 유지하면서 순수 물 속에 체류될 수 있는 것이다.
상세히, 상기 나노 버블 발생 부재(130)는 나노 버블 하우징(131)과, 다공체(132)와, 메시체(133) 및 나노 버블 배출홀(134)를 포함한다.
상기 나노 버블 하우징(131)은 그 내부에 구성 요소들, 즉 상기 다공체(132) 및 상기 메시체(133) 등이 설치되는 것이다.
상기 다공체(132)는 상기 나노 버블 하우징(131) 내부에 서로 이격되도록 복수 개가 설치되는 것으로, 상기 다공체(132)의 각 내부에는 복수 개의 홀(hole)들이 형성된다.
상기 각 다공체(132) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 초입에 위치된 것에 형성된 홀에 비해 상기 각 다공체(132) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 말단 측에 위치된 것에 형성된 홀이 상대적으로 더 작게 형성된다.
상기 메시체(133)는 상기 나노 버블 하우징(131)의 내부에 복수 개가 설치되되, 상기 각 다공체(132)와 교대로 설치된다. 즉, 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로, 상기 각 다공체(132) 중 하나, 상기 각 메시체(133) 중 하나, 상기 각 다공체(132) 중 다른 하나, 상기 각 메시체(133) 중 다른 하나의 구조로 설치된다.
상기 각 메시체(133)의 내부는 메시(mesh) 형태로 형성된다.
상기 각 메시체(133) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 초입에 위치된 것에 형성된 메시의 그물코 홀에 비해 상기 각 메시체(133) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 말단 측에 위치된 것에 형성된 메시의 그물코 홀이 상대적으로 더 작게 형성된다.
상기 나노 버블 배출홀(134)은 상기 나노 버블 하우징(131)의 말단부 즉, 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 상기 나노 버블 하우징(131)의 말단 쪽으로 갈수록 점진적으로 좁아지는 테이퍼진 첨두 부분에서 상기 나노 버블 혼합액이 배출되는 출구가 되는 것이다.
상기와 같이 형성되면, 상기 세정액 공급 부재(110)를 통해 공급된 상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급된 상기 밀도 가변용 가스가 혼합된 상기 가스 혼합액이 상기 각 다공체(132) 및 상기 각 메시체(133)를 순차적으로 경유하는 과정에서 상기 나노 버블이 다량 발생되어 상기 나노 버블이 상기 가스 혼합액과 혼합된 상태, 즉 상기 나노 버블 혼합액이 형성된 상태로 상기 나노 버블 배출홀(134)를 통해 배출될 수 있게 된다.
본 실시예에서는 복수 개의 상기 다공체(132)가 일정 간격 이격되어 각각 설치되고, 그 이격된 공간에 상기 메시체(133)가 각각 설치되는 것으로 제안하여 설명하였으나, 이는 단지 하나의 예시일 뿐, 복수 개의 상기 다공체(132)가 설치된 전단 또는 후단에 복수 개의 상기 메시체(133)가 설치될 수도 있다.
상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)는 상기 세정액 공급 부재(110) 중 상기 나노 버블 발생 부재(130)가 연결되기 전단에 연결되고, 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 발생되어 상기 세정액에 혼합되는 상기 나노 버블의 함유 밀도를 가변시킬 수 있는 상기 밀도 가변용 가스가 공급되는 것이다.
상세히, 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)는 내부가 빈 관 형태로 형성되어 외부에 설치된 가스 공급기(미도시)에서 상기 세정액 공급 부재(110)까지 연결되는 것이고, 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급되는 상기 밀도 가변용 가스는 에어(Air), 질소(N2), 산소(O2), 오존(O3), 수소(H2) 등이 될 수 있다.
상기 밀도 가변용 가스는 상기 에어, 질소, 산소, 오존, 수소 중 하나가 적용될 수도 있고, 상기 웨이퍼(20)의 세정 방법 등에 따라서 상기 에어, 질소, 산소, 오존, 수소 중 복수 개가 적용될 수도 있다.
상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)를 통해 공급되는 상기 밀도 가변용 가스의 양이 가변되면, 상기 가스 혼합액을 구성하는 상기 세정액 및 상기 밀도 가변용 가스의 혼합율도 가변되고, 그에 따라, 상기 가스 혼합액을 구성하는 상기 세정액에서 발생되는 상기 나노 버블의 발생량도 가변된다.
상기와 같이, 상기 나노 버블 혼합액에 대한 상기 나노 버블의 밀도를 가변시키게 되면, 상기 웨이퍼(20)의 크기 등에 따라 다양한 세정 방법을 진행할 수 있게 됨으로써, 상기 웨이퍼(20)의 세정 작업을 효율적으로 진행할 수 있게 된다.
상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급되는 상기 밀도 가변용 가스의 유량 및 압력은 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에 결합되는 유량계(flowmeter) 및 압력계(regulator)에 의해 제어된다.
상기 유량계 및 상기 압력계의 구성 및 작동 원리는 일반적인 것이므로 본 실시예에서 상기 유량계 및 상기 압력계의 상세 설명은 생략한다.
상기 진동 부재(140)는 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 배출되어 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공되는 상기 밀도 가변용 가스 및 상기 나노 버블이 혼합된 상기 세정액을 진동시키는 것으로, 진동체(142)와, 회전암(141) 및 진동체측 회전 수단(143)을 포함하고, 상기 진동체(142)는 상기 회전 수단(141)의 회전에 의해 상기 웨이퍼(20)의 표면의 중앙부에서 가장자리까지 이동되면서 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키는 것이다.
상기 진동체(142)는 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액에 접촉하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키는 것이다.
상세히, 상기 진동체(142)는 상기 나노 버블 발생 부재(130)에서 형성된 후 상기 웨이퍼(20)의 상공에 위치된 상기 세정액 공급 부재(110)의 말단부까지 유동되어 상기 웨이퍼(20)의 표면에 공급되는 상기 나노 버블 혼합액을 진동시켜 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20)의 표면에서 터지도록 하는 것이다.
상기 진동체(142)에 의해 상기 나노 버블 혼합액를 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20)의 표면에서 터질 때 4000℃ 내지 6000℃의 순간 고온과 300기압 내지 500기압의 충격파가 발생되고, 이러한 상기 충격파에 의해 상기 웨이퍼(20)의 표면이 세정될 수 있게 된다.
본 실시예에서 상기 진동체(142)는 울트라 소닉 에너지(145)(Ultra sonic energy)를 이용하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시킨다.
여기서, 상기 울트라 소닉 에너지(145)는 20k 내지 400kHz의 주파수를 가지는 초음파 에너지이고, 상기 나노 버블 혼합액에 상기 울트라 소닉 에너지(145)를 인가하게 되면 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 나노 버블 혼합액 내에 포함된 상기 나노 버블이 상기 울트라 소닉 에너지(145)에 의해 확산 이동되어 상기 웨이퍼(20)의 표면에 부착된 이물질 사이에 상대적으로 깊게 침투될 수 있게 되고, 상대적으로 깊게 침투된 상태에서 상기 나노 버블이 터지게 됨에 따라, 상기 웨이퍼(20)의 표면에서 상기 이물질이 효과적으로 분리되어 상기 웨이퍼(20)의 표면을 세정시킬 수 있게 된다.
상기 회전암(141)은 일정 길이 길게 형성되고, 일측 말단부가 상기 진동체(142)와 연결된 상태에서 일정 각도 회전되는 것이다.
상세히, 상기 회전암(141)은 일측 말단부는 상기 진동체(142)와 연결된 상태로 상기 웨이퍼(20)의 상공에서 상기 웨이퍼(20)와 평행하게 일정 길이 연장되다가, 상기 회전암(141)의 개략 중앙부에서 상기 웨이퍼 세정 장치(10)의 저면과 저면과 수직되는 형태로 형성되어, 상기 진동체(142)를 지지시키는 것이다.
상기 진동체측 회전 수단(143)은 상기 회전암의 타 측 말단부에 설치되고, 상기 회전암(141) 및 상기 진동체(142)를 일정 각도 회전시키는 것으로 전기 모터 등이 될 수 있다.
상세히, 상기 진동체측 회전 수단(143)은 상기 회전암(141) 중 상기 진동체(142)가 연결된 일측 말단부와 반대 방향인 타측 말단부에 설치되되, 그 중심축이 상기 회전암(141)의 타측 말단부의 중심축과 일치되는 형태로 형성되고, 외부에서 공급되는 전원에 의해 일정 각도 회전됨으로써 상기 회전암(141) 및 상기 회전암(141)과 연결된 상기 진동체(142)를 함께 회전시킨다.
상기와 같이 형성되면, 상기 진동체측 회전 수단(143)에 의해 상기 회전암(141)이 회전되고, 상기 회전암(141)의 일정 각도 회전에 의해 상기 회전암(141)과 연결된 상기 진동체(142)가 상기 웨이퍼(20)의 상공에서 복수 위치로 이동될 수 있고, 그에 따라, 상기 웨이퍼(20)의 표면 중 특정 위치에 대한 집중 세정 등 상기 웨이퍼(20)의 각 위치에 대한 세정 작업 조건을 가변할 수 있게 됨으로써, 상기 웨이퍼(20) 표면을 효율적으로 세정할 수 있게 된다.
예를 들어, 상기 진동체(142)에 비해 상기 웨이퍼(20)의 크기가 상대적으로 클 경우, 상기 진동체(142)가 고정된 위치에서 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시켜 상기 울트라 소닉 에너지(145)를 인가하게 되면, 상기 진동체(142)와 상대적으로 가까운 곳에 위치된 상기 나노 버블 혼합액에서의 상기 나노 버블의 터짐과 상기 진동체(142)와 상대적으로 먼 곳에 위치된 상기 나노 버블 혼합액에서의 상기 나노 버블의 터짐에는 차이가 발생하게 되고, 그로 인해 상기 웨이퍼(20) 중 상기 진동체(142)와 상대적으로 가까운 곳의 세정 결과와 상기 진동체(142)와 상대적으로 먼 곳의 세정 결과에는 차이가 발생하게 된다.
상기 진동체측 회전 수단(143)의 일정 각도 회전에 의해 상기 회전암(141) 및 상기 진동체(142)가 상기 웨이퍼(20) 표면의 중앙부에서 가장자리까지 이동되면, 상기 진동체(142)가 이동되면서 상기 웨이퍼(20) 표면의 중앙부에서 가장자리까지 제공된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시킬 수 있다.
본 실시예에서는 상기 회전암(141) 및 상기 진동체(142)의 회전과 독립적으로 상기 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100)도 도 1에 도시된 바와 같이 일정 축을 기준으로 회전됨으로써, 상기 웨이퍼(20)의 표면에 대한 상기 나노 버블 혼합액의 배출 범위 및 상기 진동 부재(140)에 의한 상기 나노 버블 혼합액의 진동 범위가 상대적으로 넓어지게 되어 상기 웨이퍼(20)의 세정 효과를 상승시킬 수 있게 된다.
본 실시예에서 상기 상기 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100) 및 상기 진동 부재(140)의 회전 방향은 도 1에 도시된 바와 같이 서로 반대 방향으로 제안하였으나, 이는 단지 하나의 예시일 뿐 동일 방향으로 회전될 수도 있다.
상기 분사 부재(150)는 상기 세정액 공급 부재(110) 중 상기 웨이퍼(20)의 상공에 위치된 말단부에서 상기 세정액 공급 부재(110)와 연통되도록 연결되어 상기 나노 버블 발생 부재(130)에 의해 형성된 상기 나노 버블 혼합액을 상기 웨이퍼(20)에 분사시키는 것이다.
상기 분사 부재(150)는 분사 관체(151)와, 분사체(154) 및 분사 배출구(152)를 포함한다.
상기 분사 관체(151)는 상기 세정액 공급 부재(110)에서 상기 웨이퍼(20)의 표면과 수직 방향으로 연장되고, 그 내부에 유동홀(153)이 형성된 것이다.
상기 분사체(154)는 상기 분사 관체(151)의 말단부에서 복수 개가 서로 이격되도록 배치되어 상기 유동홀(153)의 면적을 상대적으로 줄임으로써, 상기 유동홀(153)에서 유동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도를 상기 세정액 공급 부재(110) 내부에서 이동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도에 비해 상대적으로 빠르게 함과 함께, 상기 나노 버블 혼합액이 복수 방향으로 분사되도록 하는 것이다.
각각의 상기 분사체(154)에서 상기 웨이퍼(20)와 대면되는 면(155)은 상기 웨이퍼(20) 쪽으로 일정 곡률로 함몰된 곡면 형태로 형성되고, 상기 분사체(154)에서 상기 세정액 공급 부재(110)와 대면되는 면(156)은 그 중심부에서 그 외주(157)로 갈수록 상기 웨이퍼(20) 쪽을 향하도록 점진적으로 경사진 형태, 즉 도 6에 도시된 방향을 기준으로 상부가 볼록하고, 하부는 오목한 형태로 형성된다.
상기 분사체(154)가 상기와 같이 형성됨으로써, 상기 분사 배출구(152)를 통한 상기 나노 버블 혼합액의 배출은 가능하되, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 분사 부재(150)에서 배출되어 상기 웨이퍼(20) 표면에 접촉된 후 상기 분사 관체(151) 내부로 역유입되는 것은 방지될 수 있게 된다.
상기 분사 배출구(152)는 상기 분사체(154)가 상기 분사 관체(151)에서 일정 간격 이격됨으로써 상기 분사체(154)와 상기 분사 관체(151) 사이에 형성되고, 상기 세정액 공급 부재(110)에서 이동된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20) 표면으로 배출되도록 하는 것이다.
본 실시예에서 상기 분사 배출구(152)는 상기 분사 관체(151) 내부에 위치된 복수 개의 상기 분사체(154)에 의해 복수 개 형성된다.
상기 분사 배출구(152)가 상기 분사체(154) 및 상기 분사 관체(151) 사이에 형성됨으로써, 각각의 상기 분사 배출구(152)의 단면적은 상기 유동홀(153)의 단면적에 비해 상대적으로 작게 형성되고, 상대적으로 작은 단면적을 통과하는 상기 나노 버블 혼합액은 압력이 상대적으로 증가하게 되면서, 상기 유동홀(153)에서의 유동 속도에 비해 상대적으로 빠른 속도로 상기 분사 배출구(152)에서 배출된다.
상기와 같이, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20) 표면에 상대적으로 고속으로 분사됨에 따라, 상기 나노 버블 혼합액 내에 포함된 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20) 표면에 부착된 상기 이물질 사이의 공간에 상대적으로 깊게 침투할 수 있게 되어 세정 작업이 효과적으로 진행될 수 있게 된다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100)의 작동에 대하여 설명한다.
먼저, 상기 웨이퍼(20)의 크기, 세정 시간, 세정 방법 등의 세정 조건에 따라 상기 밀도 가변용 가스의 압력 및 공급 시간 및 상기 진동 부재의 진동 크기 및 진동 시간 등을 조정한다.
여기서, 상기 밀도 가변용 가스의 압력과 공급 시간의 조정 및 상기 진동 부재의 진동 크기와 진동 시간은 상기 웨이퍼(20)의 세정 시간동안 동일한 조건의 조정일 수도 있고, 상기 웨이퍼(20)의 세정 시간동안 그 조건을 가변하는 조정일 수도 있다.
또한, 상기 밀도 가변용 가스의 압력과 공급 시간 및 상기 진동 부재의 진동 크기와 진동 시간은 상기 제어부(50)가 제어한다.
그런 다음, 상기 세정액 공급 부재(110)를 통해 순수 물 등의 상기 세정액을 공급한다.
상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급된 상기 세정액이 유동되다가, 상기 세정액 공급 부재(110)와 연결된 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급된 상기 밀도 가변용 가스와 혼합되어 상기 가스 혼합액이 형성된다.
이 때, 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120)에서 공급되는 상기 밀도 가변용 가스의 공급 조건 즉, 상기 밀도 가변용 가스의 압력 및 공급 시간 등은 상기 웨이퍼 세정 장치(10)에서 요구되는 상기 나노 버블 혼합액의 밀도에 따라 결정되고, 상기 밀도 가변용 가스의 공급 조건은 상기 제어부(50)가 제어한다.
그런 다음, 상기 가스 혼합액이 상기 나노 버블 발생 부재(130)에 유입된다.
상기 나노 버블 발생 부재(130)에 유입된 상기 가스 혼합액은 도 3에 도시된 바와 같이 교대로 설치된 복수 개의 상기 다공체(132) 및 복수 개의 상기 메시체(133)를 경유하고, 상기 가스 혼합액을 구성하는 상기 세정액에 상기 나노 버블이 발생됨으로써 상기 가스 혼합액은 상기 나노 버블 혼합액이 된다.
여기서, 상기 각 다공체(132) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 초입에 위치된 것에 형성된 홀에 비해 상기 각 다공체(132) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 말단 측에 위치된 것에 형성된 홀이 상대적으로 더 작게 형성된다.
또한, 상기 각 메시체(133) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 초입에 위치된 것에 형성된 메시의 그물코 홀에 비해 상기 각 메시체(133) 중 상기 세정액 공급 부재(110)에서 공급되는 상기 세정액이 유동되는 방향을 기준으로 유동 말단 측에 위치된 것에 형성된 메시의 그물코 홀이 상대적으로 더 작게 형성된다.
그런 다음, 상기 웨이퍼(20) 상공에 위치되고 상기 세정액 공급 부재(110)의 말단부와 연결된 상기 분사 부재(150)가 상기 나노 버블 혼합액을 상기 웨이퍼(20)의 표면에 배출한다.
이 때, 상기 분사 부재(150)를 구성하는 상기 분사 배출구(152)에서 배출되는 상기 나노 버블 혼합액은 상기 유동홀(153) 내에서의 유동 속도에 비해 상대적으로 그 속도가 증가된 상태이다.
상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20)의 표면에 배출될 때, 상기 진동 부재(140)가 상기 웨이퍼(20)의 표면에 배출된 상기 나노 버블 혼합액과 접촉하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동한다.
이때, 상기 진동 부재(140)를 구성하는 상기 진동체(142)가 상기 나노 버블 혼합액에 상기 울트라 소닉 에너지(145)를 인가하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키게 되고, 그에 따라 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 확산 이동되면서 터진다.
그러면, 상기 압력 가변용 가스가 혼합된 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20) 표면에 접촉되면서 터지게 되고, 상기 나노 버블이 터질 때 발생되는 4000℃ 내지 6000℃의 순간 고온과 300기압 내지 500기압의 충격파에 의해 상기 웨이퍼(20)의 표면이 세정된다.
상기와 같이, 상기 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(100)가, 상기 세정액 공급 부재(110), 상기 나노 버블 발생 부재(130), 상기 밀도 가변용 가스 공급 부재(120) 및 상기 진동 부재(140)를 포함하고, 상기 세정액과, 상기 밀도 가변용 가스 및 상기 나노 버블이 혼합된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼(20)의 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 진동 부재(140)에 의해 진동되어 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20)의 표면에서 터지게 되고, 그에 따라 상기 웨이퍼(20)의 표면이 세정됨으로써, 상기 웨이퍼(20)의 세정을 위한 작업 시간을 상대적으로 짧게 줄이면서도 상기 웨이퍼(20)의 세정 작업 효율을 향상시킬 수 있게 된다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조에 대하여 설명한다.
이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 제 1 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조의 모습을 보이는 정면도이고, 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조를 구성하는 진동 부재에 의해 나노 버블의 속도가 가변되는 모습을 개략적으로 보이는 도면이다.
도 7 및 도 8을 함께 참조하면, 본 실시예에서는, 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조(200)가 웨이퍼(20)를 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치에 적용되는 것으로서, 상기 웨이퍼(20)의 세정을 위한 세정액이 공급되는 세정액 공급 부재(210)와, 상기 세정액 공급 부재(210)에 연결되고, 상기 세정액 공급 부재(210)에서 유입되는 상기 세정액에 혼합될 수 있는 대상인 나노 버블을 발생시키는 나노 버블 발생 부재(230)와, 상기 세정액 공급 부재(210) 중 상기 나노 버블 발생 부재(230)가 연결되기 전단에 연결되고, 상기 나노 버블 발생 부재(230)에서 발생되어 상기 세정액에 혼합되는 상기 나노 버블의 함유 밀도를 가변시킬 수 있는 밀도 가변용 가스 공급 부재(220) 및 상기 나노 버블 발생 부재(230)에서 배출되어 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공되는 상기 밀도 가변용 가스 및 상기 나노 버블이 혼합된 상기 세정액을 진동시키는 진동 부재를 포함한다.
상기 진동 부재는 상기 웨이퍼(20)의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액에 접촉하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키는 진동체(242)와, 일정 길이 길게 형성되고, 일측 말단부가 상기 진동체(242)와 연결된 상태에서 일정 각도 회전되는 회전암(241)과, 상기 회전암(241)의 타측 말단부에 설치되고, 상기 회전암(241) 및 상기 진동체(242)를 일정 각도 회전시키는 회전 수단을 포함한다.
본 실시예에서 상기 진동체(242)는 상기 웨이퍼(20)의 표면에 공급된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시켜 상기 나노 버블 혼합액에 포함된 상기 나노 버블의 이동 속도가 가변되도록 한다.
본 실시예에서 상기 진동체(242)는 메가 소닉 에너지(245)(Mega sonic engrgy)를 이용하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시킨다.
여기서, 상기 메가 소닉 에너지(245)는 700kHz 내지 1.2MHz의 주파수를 가지는 에너지이고, 상기 나노 버블 혼합액에 상기 메가 소닉 에너지(245)를 인가하게 되면, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 메가 소닉 에너지(245)에 의해 상기 나노 버블 혼합액 내에 포함된 상기 나노 버블의 가속도가 상대적으로 증가하게 된다.
상대적으로 가속도가 증가된 상기 나노 버블이 상기 웨이퍼(20)의 표면에 부착된 이물질에 부딪히게 되면, 상기 나노 버블의 가속도에 의해 상기 웨이퍼(20) 표면으로부터 상기 이물질의 박리가 효율적으로 진행됨으로써 상기 웨이퍼(20) 표면의 세정 효율이 상승될 수 있게 된다.
상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조에 의하면, 나노 버블 발생 부재에서 형성된 나노 버블 혼합액이 웨이퍼 표면에 배출 시 진동 부재에 의해 진동됨으로써, 웨이퍼의 세정을 위한 작업 시간을 상대적으로 짧게 줄이면서도 나노 버블 혼합액의 투입량 대비 웨이퍼가 세정되는 세정 효율을 향상시킬 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.
10 : 웨이퍼 세정 장치 11 : 챔버 케이스
12 : 척 몸체 13 : 척 핀
14 : 회전 수단 15 : 세척액 환수 부재
20 : 웨이퍼 30 : 팬 필터 부재
40 : 배기관 50 : 제어부
100 : 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조
101 : 노즐 하우징 110 : 세정액 공급 부재
120 : 밀도 가변용 가스 공급 부재 130 : 나노 버블 발생 부재
140 : 진동 부재 150 : 분사 부재

Claims (5)

  1. 웨이퍼를 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치에 적용되는 것으로서,
    상기 웨이퍼의 세정을 위한 세정액이 공급되는 세정액 공급 부재;
    상기 세정액 공급 부재에 연결되고, 상기 세정액 공급 부재에서 유입되는 상기 세정액에 혼합될 수 있는 대상인 나노 버블을 발생시키는 나노 버블 발생 부재;
    상기 세정액 공급 부재 중 상기 나노 버블 발생 부재가 연결되기 전단에 연결되고, 상기 나노 버블 발생 부재에서 발생되어 상기 세정액에 혼합되는 상기 나노 버블의 함유 밀도를 가변시킬 수 있는 밀도 가변용 가스가 공급되는 밀도 가변용 가스 공급 부재;
    상기 나노 버블 발생 부재에서 배출되어 상기 웨이퍼의 표면에 제공되는 상기 밀도 가변용 가스 및 상기 나노 버블이 혼합된 상기 세정액을 진동시키는 진동 부재; 및
    상기 세정액 공급 부재 중 상기 웨이퍼의 상공에 위치된 말단부에서 상기 세정액 공급 부재와 연통되도록 연결되는 분사 부재;를 포함하고,
    상기 세정액에 상기 밀도 가변용 가스가 혼합되어 가스 혼합액이 형성되고, 상기 가스 혼합액에 상기 나노 버블이 혼합되어 나노 버블 혼합액이 형성되고, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼 표면에 배출되고, 배출된 상기 나노 버블 혼합액에 포함된 상기 나노 버블이 상기 진동 부재에 의해 진동되어 터짐으로써, 상기 웨이퍼의 표면이 세정되고,
    상기 진동 부재는
    상기 웨이퍼의 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액에 접촉하여 상기 나노 버블 혼합액을 진동시키는 진동체와,
    일정 길이 길게 형성되고, 일측 말단부가 상기 진동체와 연결된 상태에서 일정 각도 회전되는 회전암과,
    상기 회전암의 타 측 말단부에 설치되고, 상기 회전암 및 상기 진동체를 일정 각도 회전시키는 진동체측 회전 수단을 포함하고,
    상기 진동체는 상기 회전 수단의 회전에 의해 상기 웨이퍼 표면의 중앙부에서 가장자리까지 이동되면서 상기 웨이퍼 표면에 제공된 상기 나노 버블 혼합액을 진동시켜 상기 나노 버블 혼합액을 구성하는 상기 나노 버블이 확산 이동되면서 터지도록 하고,
    상기 분사 부재는
    상기 세정액 공급 부재에서 상기 웨이퍼의 표면과 수직 방향으로 연장되고, 그 내부에 유동홀이 형성된 분사 관체와,
    상기 분사 관체의 말단부에서 복수 개가 서로 이격되도록 배치되어 상기 유동홀의 면적을 상대적으로 줄임으로써, 상기 유동홀에서 유동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도를 상기 세정액 공급 부재 내부에서 이동되는 상기 나노 버블 혼합액의 속도에 비해 상대적으로 빠르게 함과 함께, 상기 나노 버블 혼합액이 복수 방향으로 분사되도록 하는 분사체와,
    상기 분사체가 상기 분사 관체에서 일정 간격 이격됨으로써 상기 분사체와 상기 분사 관체 사이에 형성되고, 상기 세정액 공급 부재에서 이동된 상기 나노 버블 혼합액이 상기 웨이퍼 표면으로 배출되도록 하는 분사 배출구를 포함하고,
    상기 분사 배출구가 상기 분사체 및 상기 분사 관체 사이에 형성됨으로써 각각가의 상기 분사 배출구의 단면적은 상기 유동홀의 단면적에 비해 상대적으로 작게 형성되고, 상대적으로 작은 단면적을 통과하는 상기 나노 버블 혼합액은 압력이 상대적으로 증가하게 되면서, 상기 유동홀에서의 유동 속도에 비해 상대적으로 빠른 속도로 상기 분사 배출구에서 배출되고,
    각각의 상기 분사체에서 상기 웨이퍼와 대면되는 면은 상기 웨이퍼 쪽으로 일정 곡률로 함몰된 곡면 형태로 형성되고, 상기 분사체에서 상기 세정액 공급 부재와 대면되는 면은 그 중심부에서 그 외주로 갈수록 상기 웨이퍼 쪽을 향하도록 점진적으로 경사진 형태로 형성되어 상기 분사 배출구를 통한 상기 나노 버블 혼합액의 배출은 가능하되, 상기 나노 버블 혼합액이 상기 분사 부재에서 배출되어 상기 웨이퍼 표면에 접촉된 후 상기 분사 관체 내부로 역유입되는 것은 방지되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조.
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