KR102075945B1 - 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법은 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자를 준비하는 단계; 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체를 준비하는 단계; 상기 무기 나노입자와 그라프트 중합체를 반응시켜, 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 도입된 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액을 준비하는 단계; 및 상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조하는 단계를 포함한다. 이에 따라, 열팽창 계수가 낮은 폴리에테르술폰 복합 필름을 제공할 수 있다.

Description

폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법{METHOD OF PREPARING A POLYETHERSULFONE COMPOSITE FILM}
본 발명은 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 낮은 열팽창계수를 갖는 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조할 수 있는 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
플렉시블 디스플레이가 각광받게 되면서, 종래의 평면 디스플레이 장치의 베이스 기재가 되던 투명한 유리 기판을 대체하고자 하는 시도들이 많이 이루어지고 있으나, 유리 기판 수준의 광학적 물성을 가지면서도, 플라스틱의 유연성을 만족하는, 저가의 베이스 기재를 위한 소재가 아직 개발되지 못한 실정이다. 특히, 플라스틱은 유리에 비해서 열적으로 취약하기 때문에 이를 개선해야만 한다.
열적 특성을 개선하기 위한 고내열 엔지니어링 플라스틱인 폴리이미드(polyimide)가 주목받은 바 있다. 폴리이미드의 제조를 위한 반응성 모노머의 구조에 따라 어느 정도 차이가 있기는 하지만, 폴리이미드는 일반적으로 500℃ 내외의 높은 유리전이온도를 갖고, 유리기판 수준의 낮은 열팽창계수를 갖는 장점이 있다. 그럼에도 불구하고, 폴리이미드는 오히려 내열성이 높아 용융시키기 어렵기 때문에 대부분 용액 캐스팅(solution casting) 방법에 의해서 폴리이미드 필름을 제조하고 있다. 용액 캐스팅 방식에서는 폴리이미드 용액에서 용매를 제거하는 건조 공정을 수행하는데, 이 때문에 건조되는 용매를 회수하기 어렵고 재활용하기도 어려워 공정 수행의 경제성이 낮은 단점이 있다. 또한, 대량 필름 생산 공정으로 알려져 있는 롤-투-롤(roll to roll)과 같은 연속공정을 수행할 수 없기 때문에 대량 생산이 어려워 베이스 기재의 단가를 낮추는데 한계가 있다.
폴리이미드 필름을 대체하기 위해서, 폴리이미드보다 유리전이 온도는 낮아 내열 특성은 낮지만 이로 인해 압출 성형이 가능해 양산성을 확보하는 소재로 폴리에테르술폰(polyether sulfone)이 이용되고 있다. 또한, 폴리에테르술폰은 폴리이미드보다는 유리전이 온도가 낮지만, 한편으로는 PET, PEN, PC 등의 다른 디스플레이 소재보다는 내열 특성이 우수하여 비교적 우위를 점하고 있다.
하지만, 디스플레이 제조 공정에서, 내열 특성과 함께 중요시되는 베이스 소재로서의 특성은 열팽창 계수이다. 즉, 가열과 감열을 반복하여 진행되는 디스플레이 제조 공정 중에서 정밀한 위치 제어(aligning)가 필요한 미세 공정에서, 보다 더 높은 정밀도를 달성하기 위해서 낮은 열팽창 계수가 요구된다. 유색을 갖는 폴리이미드와 유리의 경우에는 5 ppm/℃, 투명 폴리이미드의 경우에는 20 ppm/℃ 수준까지 낮은 열팽창 계수를 갖는 것으로 보고된 연구들이 알려져 있다. 반면, 폴리에테르술폰의 경우에는 이보다는 높은, 55 ppm/℃ 정도의 열팽창 계수를 나타낸다. 즉, 폴리에테르술폰은 대량 생산이 가능하고, 내열 특성이 우수하다는 장점이 있지만 높은 열팽창 계수를 가지기 때문에, 폴리이미드와 비교하면 플렉시블 디스플레이의 베이스 기재로 상용화되기는 아직 어려운 상황이다.
본 발명의 일 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 폴리에테르술폰을 기반으로 하여 열팽창 계수가 낮은 플렉시블 기판을 구현할 수 있는, 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 목적을 위한 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법은 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자를 준비하는 단계; 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체를 준비하는 단계; 상기 무기 나노입자와 그라프트 중합체를 반응시켜, 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 도입된 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액을 준비하는 단계; 및 상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조하는 단계를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 무기 나노입자는 나노와이어 형상을 갖는 실리카 입자일 수 있다. 이때, 상기 무기 나노입자는 평균지름이 100 nm 내지 250 nm이고 길이가 1 ㎛ 내지 15 ㎛인 나노와이어일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 그라프트 중합체를 준비하는 단계는 폴리에테르술폰을 염화술폰화 시키는 단계; 및 그래프팅 물질을 염화술폰화된 폴리에테르술폰과 반응시키는 단계를 포함할 수 있다. 이때, 상기 그래프팅 물질은 L-아르기닌(L-arginine)일 수 잇다.
일 실시예예서, 상기 코팅 용액을 준비하는 단계에서 무기 나노입자의 표면작용기인 에폭시기의 개환반응을 통해 폴리에테르술폰에 무기 나노입자가 복합화되어 유-무기 복합체가 형성될 수 잇다.
일 실시예에서, 상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 얻은 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수는 5 ppm/℃ 이상 20 ppm/℃ 미만일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 코팅 용액을 준비하는 단계에서, 상기 무기 나노입자의 함량은 그라프트 중합체 100 중량부에 대해서 0.1 내지 5 중량부일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 무기 나노입자를 준비하는 단계는 졸-겔법으로 무기 나노입자를 제조하는 단계; 및 졸-겔법으로 제조된 무기 나노입자를 에폭시기를 갖는 화합물과 반응시켜, 무기 나노입자의 표면에 에폭시기를 도입시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기에서 설명한 본 발명의 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법에 따르면, 폴리에테르술폰이 무기 나노입자와 복합화되어 이들 사이의 화학적 결합을 통해 낮은 열팽창 계수를 갖는 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조할 수 있다. 이를 통해, 플렉시블 특성을 갖는 베이스 기재로서 대량 생산이 가능하고, 내열 특성 및 치수 안정성이 확보됨으로써, 플렉시블 디스플레이의 생산성 및 생산 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 제조예 1에서 합성한 실리카 나노와이어의 주사전자 현미경 배율별 이미지들을 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 실리카 나노와이어에 대해 에폭시기 도입 전후에 따른 푸리에 변환 적외선 분광 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 폴리에테르술폰과 본 발명의 제조예 1에서 합성한 염화술폰화된 폴리에테르술폰 각각의 푸리에 변환 적외선 분광 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 제조예 1에서 합성한 염화술폰화된 폴리에테르술폰과 아민기가 도입된 폴리에테르술폰 각각의 푸리에 변환 적외선 분광 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 5는 본 발명의 제조예 1에 따라 제조된 폴리에테르술폰 복합 필름의 열기계 분석 결과를 나타낸 도면이다.
이하, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법은, (i) 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자를 준비하는 단계; (ii) 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체를 준비하는 단계; (iii) 무기 나노입자와 그라프트 중합체를 반응시켜, 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 도입된 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액을 준비하는 단계; 및 (iv) 상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조하는 단계를 포함한다.
먼저, 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자는 졸-겔(sol-gel)법을 통해서 준비될 수 있다.
본 발명에서 무기 나노입자는 실리카 입자일 수 있고, 무기 나노입자는 나노와이어 형태를 가질 수 있다. 에폭시기를 갖는 무기 나노입자는, 실리카 입자를 제조한 후 실리카 입자에 대해서 에폭시기를 도입함으로써 준비할 수 있다.
일례로, 계면 활성제를 용매에 녹인 용액을 준비하고, 촉매를 혼합환 후에 실리카를 제조하기 위한 실리카 전구체를 투입한다. 실리카 전구체가 투입된 상태에서, 6 시간 이상 반응시켜 균일한 크기의 나노와이어 형태를 갖는 실리카 입자를 얻을 수 있다. 반응 온도는 4℃ 내지 70℃일 수 있고, 이때의 반응 온도를 조절함으로써 실리키 입자의 표면 평탄화 정도가 조절될 수 있다.
상기 실리카 전구체로서는 테트라에틸 오르소실리케이트(tetraethyl orthosilicate, TEOS)를 이용할 수 있고, 용매로서는 이소프로판올(isopropanol), 1-부탄올(1-butanol), 1-펜탄올(pentanol) 등을 이용할 수 있다. 용매의 종류를 조절함으로써 실리카 입자의 나노와이어 형태의 두께를 조절할 수 있다. 상기 촉매로서는 암모니아를 이용할 수 있으며, 계면활성제로서는 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone, PVP)을 이용할 수 있다.
상기와 같이 얻어진 실리카 입자에 대해서 표면작용기로서 에폭시기를 도입하기 위해, 실리카 입자 용액을 준비하고 커플링제(coupling agent)를 투입하여 pH를 4 내지 5로 맞추어 반응시킬 수 있다. 이때, 실리카 입자 용액을 위한 용매로서는 에탄올과 물의 혼합 용매를 이용할 수 있고, 커플링제로서는 실란계(silane-based) 커플링제인 (3-글리시딜옥시프로필)트리메톡실실란[(3-Glycidyloxypropyl) trimethoxysilane]을 이용할 수 있다. pH의 조절은 아세트산을 이용하여 수행할 수 있으며, pH를 맞춘 후에는 70℃의 온도에서 24 시간 이상 교반시킴으로써, 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자, 예를 들어, 에폭시기가 도입된 실리카 나노와이어를 준비할 수 있다.
에폭시기가 도입된 실리카 나노와이어의 경우, 평균지름이 100 nm 내지 250 nm일 수 있고, 바람직하게는 150 nm 내지 200 nm일 수 있다. 이때, 실리카 나노와이어의 길이는 1 ㎛ 내지 15 ㎛일 수 있되, 바람직하게는 5 ㎛ 내지 10 ㎛일 수 있다. 실리카 나노와이어의 경우, 실리카 전구체와 촉매의 양을 조절함으로써 실리카 나노와이어의 길이를 제어할 수 있다.
한편, 표면반응기로서 에폭시기가 도입된 무기 나노입자의 준비와 함께, 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체를 준비한다.
그라프트 중합체는, 폴리에테르술폰을 염화술폰화시키고 이에 아민기를 갖는 화합물을 그래프팅 물질로서 이용하여 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
일례로, 폴리에테르술폰 용액에 염화술폰산을 투입하여 반응시킴으로써 염화술폰화된 폴리에테르술폰을 얻는다. 폴리에테르술폰을 용매에 녹이고 교반시키면서 저온에서 염화술폰산을 천천히 투입하고, 이후 질소 분위기에서 3시간 동안 교반시킴으로써 반응을 수행할 수 있다. 폴리에테르술폰은 중량평균 분자량이 30,000 g/mol 내지 100,000 g/mol인 것을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 50,000 g/mol 내지 75,000 g/mol인 것을 사용할 수 있다. 폴리에테르술폰 용액을 준비하기 위한 용매로는 메틸렌클로라이드(methylene chloride)와 클로로포름(Chloroform)을 사용할 수 있다.
염화술폰화된 폴리에테르술폰을 다시 용매에 분산시킨 후, 그래프팅 물질을 투입하고 상온에서 5 시간동안 교반함으로써 아민기가 도입된 폴리에테르술폰을 얻을 수 있다. 이때 이용되는 용매로서는, N,N-디메틸포름아미드(N,N-Dimethylformamide)와 디메틸아세트아미드(dimethylacetamide)를 이용할 수 있다. 그래프팅 물질로서는, L-아르기닌(L-arginie)을 이용할 수 있다.
상기에서 (i) 단계에서 준비된 에폭시기를 표면작용기로 갖는 무기 나노입자와, (ii) 단계에서 준비된 아민기가 도입된 폴리에테르술폰인 그라프트 중합체를 반응시켜, 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 도입된 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액을 얻는다. 유-무기 복합체는 그라프트 중합체의 아민기와 무기 나노입자의 에폭시기의 반응을 통해서 얻어질 수 있으며, 즉, 무기 나노입자의 에폭시기의 개환반응에 의해서 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 화학적으로 결합되어 유-무기 하이브리된 유-무기 복합체를 얻을 수 있다.
일례로, 에폭시기를 갖는 무기 나노입자를, 그라프트 중합체가 녹을 수 있는 용매에 분산시키고, 무기 나노입자가 분산된 용액에 추가적으로 그라프트 중합체를 넣어 60℃ 내지 100℃로 6 시간 이상 가열하여 그라프트 중합체를 녹일 수 있다. 이때 이용하는 용매로서는 N,N-디메틸포름아미드(N,N-Dimethylformamide)와 디메틸아세트아미드(dimethylacetamide)와 같은 유기 용매일 수 있고, 무기 나노입자의 함량은 그라프트 중합체 100 중량부에 대해서 0.1 내지 5 중량부가 되도록 혼합하여 이용할 수 있다.
이와 같이 얻은 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액은 베이스 기재 위에 필름 형태로 코팅한 후, 건조시킴으로써 최종 생성물로서 폴리에테르술폰 복합 필름을 얻을 수 있다. 이때, 얻어진 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수는 20 ppm/℃ 미만으로, 낮은 열팽창 계수를 갖는 폴리에테르술폰 복합 필름을 구현할 수 있다. 본 발명에 따라 얻어진 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수는 5 ppm/℃ 이상 20 ppm/℃ 미만일 수 있다. 예를 들어, 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수는 15 ppm/℃ 내지 19.5 ppm/℃일 수 있다.
상기에서 설명한 바와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조 방법을 통해서, 낮은 열팽창 계수를 갖는 폴리에테르술폰 복합 필름을 구현할 수 있고, 이는 플렉시블 디스플레이의 플라스틱 기판 물질로 이용되거나, 고내열성 플라스틱이 필요한 다양한 분야에서 널리 활용될 수 있다.
이하에서는, 구체적인 제조예 및 제조예에 따라서 얻어진 폴리에테르술폰 복합 필름의 물성에 대해서 확인함으로써 본 발명에 대해서 보다 상세하게 설명하기로 한다.
제조예 1: 폴리에테르술폰 복합 필름의 제조
(1) 무기 나노입자의 준비
PVP 1g을 1-펜탄올 10 mL에 초음파를 통해 녹여 혼합용매를 준비하였다. 상기 혼합용매에 물 340 ㎕, 0.18M 시트르산나트륨(Sodium citrate) 67 ㎕, 에탄올 1 mL, 암모니아 50 ㎕를 넣고 혼합하여 혼합 용액을 준비하였다. 상기 혼합 용액에 TEOS 100 ㎕를 넣고 30초 동안 교반을 시켰고, 상온에서 12시간 동안 에이징하였다. 이를 통해 균일한 크기로 제조된 실리카 나노와이어를 얻었다. 합성된 실리카 나노와이어에 대해서 주사전자현미경(SEM) 이미지를 얻었고, 그 결과를 도 1에 나타낸다(도 1의 (a)는 1,000배 확대 사진이고, (b)는 50,000배 확대 사진임).
상기와 같이 준비된 실리카 나노와이어 0.35 g을 에탄올 8.3125 g, 물 0.4375 g의 혼합물에 분산시켜, 분산 용액을 준비하였다. 상기 분산 용액에 실란 커플링제로 (3-글리시딜옥시프로필)트리메톡실실란 0.007 g을 첨가한 후, 아세트산을 이용하여 pH를 4 내지 5 사이로 맞추고 70℃에서 24시간동안 교반시켰다. 이로써 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 실리카 나노와이어를 준비하였다. 에폭시기를 갖는 실리카 나노와이어에 대해서, 푸리에 변환 적외선 분광기(FT-IR)를 이용하여 분석하였고, 그 결과를 도 2에 나타낸다. 도 2를 참조하면, 실제로 상기와 같은 공정을 통해서 준비된 에폭시기를 갖는 실리카 나노와이어(GPTMS로 나타냄)에서는 실리카 나노와이어(SIO2로 표시됨)와 다른 피크가 존재하고, 이를 통해서 에폭시기가 도입되었음을 확인할 수 있다.
(2) 아민기가 도입된 폴리에테르술폰의 준비
한편, 폴리에테르술폰 5 g을 메틸렌클로라이드 40 mL에 녹인 후, 6℃에서 교반을 하면서 염화술폰산 3.5 g을 첨가하였고 이어서 추가로 3시간동안 더 교반하였다. 이로써, 염화술폰화된 폴리에테르술폰을 얻었고, 이를 FT-IR을 이용하여 분석하였으며, 그 결과를 도 3에 나타낸다. 도 3을 참조하면, 실제로, 상기와 같은 공정을 통해서 준비된 염화술폰화된 폴리에테르술폰(sulfonated PES로 표시됨)에서는 폴리에테르술폰(PES)과 다른 양상의 피크가 나타나는 것을 확인할 수 있고, 이를 통해서 염화술폰화된 폴리에테르술폰의 제조를 확인할 수 있었다.
염화술폰화된 폴리에테르술폰 5 g을 디메틸아세트아미드 40 mL에 녹인 후 L-아르기닌 5.2g 을 첨가하였고, 상온에서 5시간 동안 교반을 시킴으로써 아민기가 도입된 폴리에테르술폰을 준비하였고, 이를 FT-IR을 이용하여 분석하였으며, 그 결과를 도 4에 나타낸다. 도 4를 참조하면, 실제로, 상기와 같은 공정을 통해서 염화술폰화된 폴리에테르술폰(sulfonated PES로 나타냄)과 다르게, 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 것(L-arginine modified PES로 나타냄)을 확인할 수 있다.
(3) 유-무기 복합체의 제조
상기와 같이 준비된 에폭시기를 갖는 실리카 나노와이어를 디메틸아세트아미드 3.2 mL에 분산시켰고, 분산 용액에 아민기가 도입된 폴리에테르술폰 1 g을 첨가하고 70℃에서 12시간 교반을 시켰다.
(4) 필름의 제조
교반시킨 후 얻은 코팅 용액을 유리 기판 상에 캐스팅(casting)하여 캐스팅 필름을 준비하고, 이를 충분히 건조시켜 최종적으로 본 발명의 제조예 1에 따라 제조된 폴리에테르술폰 복합 필름을 얻었다.
물성 평가: 열팽창 계수 측정
상기와 같이 제조예 1에 따라 준비된 폴리에테르술폰 복합 필름에 대해서 열기계 분석기(TMA)를 통해서 분석하였고, 그 결과를 도 5에 나타낸다. 도 5를 참조하면, 제조예 1에 따라 제조된 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수가 20 ppm/℃ 미만의 값을 나타내는 것을 확인할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (9)

  1. 표면반응기로서 에폭시기를 갖는 무기 나노입자를 준비하는 단계;
    폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체를 준비하는 단계;
    상기 무기 나노입자와 그라프트 중합체를 반응시켜, 그라프트 중합체에 무기 나노입자가 도입된 유-무기 복합체를 포함하는 코팅 용액을 준비하는 단계; 및
    상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 폴리에테르술폰 복합 필름을 제조하는 단계를 포함하고,
    상기 폴리에테르술폰에 아민기가 도입된 그라프트 중합체는, 폴리에테르술폰을 염화술폰화시키고, 그래프팅 물질을 염화술폰화된 폴리에테르술폰과 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 무기 나노입자는
    나노와이어 형상을 갖는 실리카 입자인 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 무기 나노입자는,
    평균지름이 100 nm 내지 250 nm이고 길이가 1 ㎛ 내지 15 ㎛인 나노와이어인 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 그래프팅 물질은 L-아르기닌(L-arginine)인 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 코팅 용액을 준비하는 단계에서
    무기 나노입자의 표면작용기인 에폭시기의 개환반응을 통해 폴리에테르술폰에 무기 나노입자가 복합화되어 유-무기 복합체가 형성되는 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 코팅 용액을 코팅 및 건조시켜 얻은 폴리에테르술폰 복합 필름의 열팽창 계수는 5 ppm/℃ 이상 20 ppm/℃ 미만인 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 코팅 용액을 준비하는 단계에서,
    상기 무기 나노입자의 함량은 그라프트 중합체 100 중량부에 대해서 0.1 내지 5 중량부인 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 무기 나노입자를 준비하는 단계는
    졸-겔법으로 무기 나노입자를 제조하는 단계; 및
    졸-겔법으로 제조된 무기 나노입자를 에폭시기를 갖는 화합물과 반응시켜, 무기 나노입자의 표면에 에폭시기를 도입시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    폴리에테르술폰 복합필름의 제조 방법.
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