KR102068172B1 - 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹 - Google Patents

머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따르는 머시너블 세라믹은 연납석과, Al2O3과, MgO과, Na2CO3과, TiO2과, MgF2과, ZrO2를 포함하는 혼합 분말을 유기용매와 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계(슬러리 제조 단계); 상기 슬러리 제조 단계에서 제조된 슬러리를 건조시키는 단계(슬러리 건조 단계); 상기 슬러리 건조 단계에서 건조된 분말을 열처리하여 용융시키는 단계(용융 단계); 상기 용융 단계에서 용융된 세라믹 조성물을 상온으로 급랭시켜 유리화하는 단계(유리화 단계); 상기 유리화 단계에서 유리화된 세라믹 조성물을 분쇄하여 분말화시키는 단계(분말화 단계); 상기 분말화 단계에서 제조된 분말을 가압하여 성형하고 소결하는 단계(성형 및 소결 단계);로 제조된 머시너블 세라믹에 관한 것이다.

Description

머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹{Machinable ceramic and manufacturing method of the same}
본 발명에 따르는 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 산화물 기반의 세라믹 조성물로 이루어져 프로브카드(probe card)에 적용될 수 있는 열팽창 특성과 레이저 가공시 안정성이 향상된 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹에 관한 것이다.
세라믹 소재는 일반적으로 금속재료에 비하여 강도와 고온 내열성, 내마멸성 및 내부식성 등과 같은 물리적 특성이 상대적으로 우수하여 예를 들면, 절삭공구나 자동차의 스파크 플러그, 실린더 라이너 등과 같이 고온용 기계부품에서 반도체 제조장비의 부품에 이르기까지 그 적용분야가 점차 확대되고 있다.
하지만, 기존의 통상적인 세라믹 소재는 일반적인 금속재료에 비하여 기계적 가공이 어려워 복잡한 형상의 정밀부품을 제조하기가 어려운 단점이 있다.
기존의 세라믹 소재가 지니는 단점을 개선하기 위해 개발된 머시너블 세라믹(Machinable ceramic)은 마이카 등을 첨가하여 기계 가공성을 보다 높인 것으로 알려져 있다. 이에 따라 머시너블 세라믹은 정밀한 미세가공이 가능하여 예컨대, 반도체 검사용 프로브 카드에 미세 프로브를 고정시키는 핵심 부품인 프로브 카드용 가이드 등과 같은 다양한 산업에서 정밀 부품 소재로 활용되고 있다.
한편, 상기한 바와 같은 가공성 세라믹은 사용 온도에 따른 열 수축 및 팽창을 최소화하기 위해 열팽창 계수가 작아야하며, 적정한 수준의 강도를 지니고 있어야 한다.
하지만, 기존의 마이카 계열의 가공성 세라믹은 열팽창계수가 크기 때문에 고온에서 사용되는 정밀 부품으로 사용할 수 없으며, 강도가 낮은 단점을 지니고 있다.
대한민국 공개특허공보 10-2018-0014285호
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 가공성에 영향을 미치는 경도 값의 변화를 최소화하고, 강도와 열팽창계수가 개선된 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명에 따르는 머시너블 세라믹 제조 방법은 연납석 분말 65∼80중량%와, Al2O3 분말 4∼9.9중량%와, MgO 분말 6∼12중량%와, Na2CO3 분말 2∼8중량%와, TiO2 분말 1.5∼7중량%와, MgF2 분말 1∼10중량%와, ZrO2 분말 0중량%를 초과하고 6중량% 이하의 범위로 포함하는 조성비로 이루어진 혼합 분말을 유기용매와 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계(슬러리 제조 단계);
상기 슬러리 제조 단계에서 제조된 슬러리를 건조시키는 단계(슬러리 건조 단계);
상기 슬러리 건조 단계에서 건조된 분말을 열처리하여 용융시키는 단계(용융 단계);
상기 용융 단계에서 용융된 세라믹 조성물을 상온으로 급랭시켜 유리화하는 단계(유리화 단계);
상기 유리화 단계에서 유리화된 세라믹 조성물을 분쇄하여 분말화시키는 단계(분말화 단계);
상기 분말화 단계에서 제조된 분말을 가압하여 성형하고 소결하는 단계(성형 및 소결 단계);를 포함하는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법을 제공한다.
상기에서, 세라믹 조성물 전체에서 Al2O3 분말과 ZrO2 분말의 비율의 합은 4.1∼15.9중량%인 것을 특징으로 한다.
상기에서, 슬러리 제조 단계에서 유기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 증류수 중 하나 또는 이들 중 2개 이상이 혼합되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 슬러리 제조 단계에서 지르코니아 볼을 더 포함하여 혼합되며, 상기 혼합 분말은 상기 지르코니아 볼에 의해 분쇄되며 슬러리로 제조되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 용융 단계에서 분말은 1400∼1600℃ 온도 범위에서 2∼4시간 동안 가열되어 용융되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 소결 단계에서 소결은 1000∼1200℃ 온도 분위기에서 2∼4시간 동안 수행되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 소결 단계에서 소결은 전기로를 이용하여 산화분위기에서 수행되는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명은 상기 중 하나의 방법으로 제조된 머시너블 세라믹을 제공한다.
상기에서, 머시너블 세라믹은 플로오로프로고파이트(Fluorophlogopite) 결정상과 코디어라이트(Cordierite) 결정상이 혼재되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹은 프로브카드(probe card)에 적용될 수 있는 열팽창 특성과 레이저 가공성이 향상되며, 제조 비용이 절감되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 주 결정상의 XRD 분석결과이며,
도 2는 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹에 대한 1000배 배율의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope;SEM) 사진이고,
도 3은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹에 대한 5000배 배율의 주사전자현미경 사진이며,
도 4는 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹에 대한 1000배 배율의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope;SEM) 사진이고,
도 5는 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹에 대한 5000배 배율의 주사전자현미경 사진이며,
도 6은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 레이저 가공성을 시험한 사진이다.
이하에서 도면을 참조하여 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹에 대하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 주 결정상의 XRD 분석결과이며, 도 2는 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹에 대한 1000배 배율의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope;SEM) 사진이고, 도 3은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹에 대한 5000배 배율의 주사전자현미경 사진이며, 도 4는 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹에 대한 1000배 배율의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope;SEM) 사진이고, 도 5는 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹에 대한 5000배 배율의 주사전자현미경 사진이며, 도 6은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 레이저 가공성을 시험한 사진이다.
본 발명에 따르는 머시너블 세라믹은 분말 형태의 연납석(pyrophyllite), Al2O3, MgO, Na2CO3, TiO2, MgF2, ZrO2가 혼합되어 이루어진다.
상기 머시너블 세라믹은 연납석, Al2O3, MgO, Na2CO3, TiO2, MgF2, ZrO2가 혼합되어 실리콘웨이퍼(siliconwafer)와 비슷한 열팽창 계수(4ppm/℃)를 갖도록 개선되었으며, 가공성에 영향을 미치는 경도 값의 변화를 최소화하고, 레이저 가공성이 향상된다.
상기 연납석은 분말 형태로 65∼80중량% 포함된다. 상기 연납석의 분자식은 'Al2(OH)2Si4O10'이다. 상기 연납석 분말이 65중량% 미만이거나 80중량% 초과하는 경우에는 머시너블 세라믹의 경도나 강도와 같은 기계적 성질이 좋지 않다.
상기 Al2O3는 분말 형태로 4∼9.9중량% 포함된다. 바람직하게는 5∼7중량% 포함되는 것이 바람직하며, 더 바람직하게는 5∼5.5중량% 포함되는 것이 더 바람직하다. 상기 Al2O3 분말이 4중량% 미만인 경우에는 내화학성이 취약해지며, 9.9중량% 초과하는 경우에는 고온 점도 증가와 함께 용융 부하가 증가하는 문제가 발생한다.
상기 MgO는 분말 형태로 6∼12중량% 포함된다. 바람직하게는 6∼7중량% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 MgO는 원료의 용융을 도우면서 유리 구조의 내구성을 보강해준다. 상기 MgO 분말이 6중량% 미만인 경우에는 내구성이 약화되며, 12중량% 초과하는 경우에는 결정화 경향이 증가하여 결정 결함이 증가된다.
상기 Na2CO3는 분말 형태로 2∼8중량% 포함된다. 바람직하게는 2∼6중량% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 Na2CO3 분말이 2중량% 미만인 경우에는 미용융물의 생성이 증가되며, 8중량% 초과하는 경우에는 내화학성이 저하되고 열팽창계수가 커지면서 열충격 저항이 나빠지게 된다.
상기 TiO2는 분말 형태로 1.5∼7중량% 포함된다. 바람직하게는 2∼6중량% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 TiO2 분말은 유리의 핵 생성을 통한 결정화를 촉진 시켜준다. 상기 TiO2 분말이 1.5중량% 미만인 경우에는 결정 활성화 에너지가 1.5중량% 이상일 때보다 높으며, 1.5중량% 이상일 때 결정 활성화 에너지가 최소가 된다. 상기 TiO2 분말이 7중량% 초과하는 경우에는 과도한 핵 생성과 결정 성장으로 인하여 세라믹의 강도가 높아져서 가공성이 나빠진다.
상기 MgF2는 분말 형태로 1∼10중량% 포함된다. 바람직하게는 3∼7중량% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 MgF2의 F2성분은 연납석에 포함된 유리 성분(SiO2) 내의 산소를 대체하며, 유리 내의 원자 이동을 활발하게 해주고, 유리의 점도를 낮춰준다. 상기 MgF2의 F2 성분은 유리 성분(SiO2) 내의 산소를 대체할 때, 원자 이동을 위한 열적 에너지를 감소시켜준다.
상기 MgF2 분말이 1중량% 미만인 경우에는 MgF2의 효과가 미미하며, 10중량% 초과하는 경우에는 소결 시 입자의 성장을 더디게 하여 결정 성장이 거의 일어나지 못해 소결체에 기공이 많이 발생하게 되며, 세라믹의 표면 가공 시 기판이 쉽게 깨지거나 크랙이 발생하게 된다.
상기 ZrO2는 분말 형태로 0중량%를 초과하고 6중량% 이하의 범위로 포함된다. 상기 ZrO2를 첨가함에 따라 소결시 소결 온도가 낮아져 입자 성장에 도움을 준다. 또한, ZrO2는 머시너블 세라믹의 강도와 내마모성을 개선시키는 역할을 한다. 상기 ZrO2 분말이 0.1중량% 미만인 경우에는 ZrO2의 효과가 없으며, 6중량% 초과하는 경우에는 소결 시 입자 성장이 촉진되어 결정이 비대화되며, 세라믹의 강도가 너무 높아져 가공성이 매우 나빠지게 된다.
상기 ZrO2와 Al2O3의 비율의 합은 4.1∼15.9중량%로 유지된다. 상기 ZrO2의 함량이 많아지면 Al2O3의 함량이 적어지고, ZrO2의 함량이 적어지면 Al2O3의 함량이 많아진다.
이하에서는 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 제조 방법을 설명한다.
상기 머시너블 세라믹 제조 방법은 슬러리 제조 단계와, 슬러리 건조 단계와, 용융 단계와, 유리화 단계와, 분말화 단계와, 성형 및 소결 단계로 이루어진다.
상기 슬러리 제조 단계에서는 우선 상기 연납석 분말 65∼80중량%와, Al2O3 분말 4∼9.9중량%와, MgO 분말 6∼12중량%와, Na2CO3 분말 2∼8중량%와, TiO2 분말 1.5∼7중량%와, MgF2 분말 1∼10중량%와, ZrO2 분말 0.1∼6중량%를 혼합하여 준비한다. 상기 조성물의 혼합 전 분말 입자의 평균 입도(D50)는 4∼10㎛ 범위로 준비된다.
그 다음, 니트릴(nitrile) 병에 혼합된 분말과 유기 용매 및 지르코니아(zirconia;ZrO2) 볼을 함께 넣어 24시간동안 습식 혼합으로 슬러리를 제조한다.
상기 유기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 증류수 중 하나 또는 이들 중 2개 이상이 혼합되어 사용된다.
상기 지르코니아(zirconia;ZrO2) 볼은 직경이 10㎜이며, 상기 혼합 분말을 분쇄하는 역할을 한다. 상기 혼합 분말은 지르코니아 볼에 의해 혼합 분말의 85∼90%가 1∼3㎛ 이하의 입도를 가지도록 분쇄되며 유기 용매와 혼합되어 슬러리로 된다.
상기 슬러리 건조 단계에서는 상기 슬러리 제조 단계에서 제조된 슬러리가 건조된다. 상기 슬러리 건조 단계에서는 상기 슬러리 제조 단계에서 사용된 용매를 휘발시키기 위하여 슬러리를 80∼110℃ 범위에서 6시간 동안 건조시킨다. 온도는 용매의 종류에 따라 상기 범위 내에서 조절된다.
상기 용융 단계에서는 상기 슬러리 건조 단계에서 건조된 분말을 도가니에 넣고 열처리하여 용융시킨다. 상기 도가니는 예를 들어 알루미나 도가니가 사용된다. 상기 용융 단계에서 분말은 1400∼1600℃ 온도 범위에서 2∼4시간 동안 가열되어 용융된다. 상기 용융 단계에서는 MgF2의 F2성분이 연납석에 포함된 유리(SiO2) 성분인 산소와 치환된다.
상기 유리화 단계에서는 상기 용융 단계에서 용융된 세라믹 조성물을 상온(15∼25℃)으로 냉각시켜 유리화한다. 상기 용융된 세라믹 조성물은 상기 용융 단계에서 사용된 도가니로부터 상온에서 그라파이트 몰드(graphite mold)로 옮겨지고, 대기 중에서 1∼2시간 동안 냉각된다.
상기 분말화 단계에서는 상기 유리화 단계에서 유리화된 세라믹 조성물을 분쇄하여 분말화시킨다. 상기 유리화된 세라믹 조성물은 도가니(예를 들어 지르코니아 도가니 등)에 넣어 플래너터리(planetary) 밀링기를 이용하여 30분∼60분 동안 분쇄한다. 분쇄된 분말의 평균 입도(D50)는 2∼3㎛ 범위가 되도록 분쇄한다.
상기 성형 및 소결 단계에서는 상기 분말화 단계에서 제조된 분말을 가압하여 성형한 후 소결한다.
상기 성형 단계에서는 그래파이트 몰드(graphite mold)에 분쇄된 분말을 충진하고 가압하여 성형한다. 상기 그래파이트 몰드는 실린더 형상의 초경 합금 몰드로 구비될 수 있다. 상기 분말화 단계에서 제조된 분말은 실린더 형상의 초경 합금 몰드에 충진되어 일축 가압 성형 방식으로 가압하여 성형한다. 가압할 때 초경 합금 몰드의 압력은 1,000㎏/㎠이다.
그 다음, 소결 단계에서는 성형된 세라믹 조성물을 전기로에 넣어 산화분위기에서 소결한다. 상기 세라믹 조성물은 전기로의 온도가 2℃/min의 속도로 서서히 상승하여 1000∼1200℃ 온도 분위기에서 2∼4시간 동안 소결되어 완성된다.
본 발명의 머시너블 세라믹은 산화분위기에서 진행됨으로써 종래의 질화물로 이루어진 머시너블 세라믹의 소결 온도인 1800∼2000℃보다 낮은 온도에서도 소결이 가능하여 세라믹 제조시 공정 비용이 감소한다. 또한, 반응이 산화분위기에서 진행됨으로써 본 발명의 머시너블 세라믹은 종래의 세라믹보다 레이저를 이용한 사각 홀 가공이 용이한 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 주 결정상의 XRD 분석결과이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹은 플루오로플로고파이트(Fluorophlogopite) 결정상과 코디어라이트(Cordierite) 결정상이 혼재되어 결정 복합체에 의한 구조로 이루어져 있음을 확인할 수 있다. 또한, 플루오로플로고파이트 결정이 생성되는 동시에 셀라이트(Sellaite;MgF2)가 생성된다. 상기 플루오로플로고파이트 결정과 코디어라이트 결정과 함께 셀라이트 결정이 생성됨으로써 머시너블 세라믹의 가공성이 향상된다.
이하에서, 본 발명에 따른 실시 예를 더욱 구체적으로 제시하며, 다음에 제시하는 실시 예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다. 하기 실시 예는 동일 조건에서 ZrO2가 제외된 비교 예와 대조하여 설명한다.
<실시 예>
연납석 분말 70중량%(210g), Al2O3 분말 7중량%(21g), MgO 분말 8중량%(24g), Na2CO3 분말 6중량%(18g), TiO2 분말 2중량%(6g), MgF2 분말 4중량%(12g), ZrO2 분말 3중량%(9g)를 니트릴 병에 에탄올 400㎖와 지르코니아 볼 1,500g을 넣어 24시간동안 혼합하여 슬러리를 제조한다. 제조된 슬러리는 110℃ 오븐에서 4시간 건조 후, 건조된 분말을 알루미나 도가니에 넣어 1500℃에서 2시간 동안 용융을 시킨다. 용융된 조성물은 상온(20℃)까지 대기중에서 냉각시키고, 분쇄하여 평균입도(D50) 2㎛ 이내의 분말을 제조한다. 제조된 분말은 실린더 형상의 초경 합금 몰드에 넣고 1,000㎏/㎠의 압력으로 가압하여 직경20㎜, 두께 2㎜인 세라믹체를 형성한다. 성형된 세라믹체는 전자로를 이용하여 산화분위기인 1150℃에서 2시간 동안 소결하여 시편을 제조한다.
<비교 예>
연납석 분말 70중량%(210g), Al2O3 분말 10중량%(30g), MgO 분말 8중량%(24g), Na2CO3 분말 6중량%(18g), TiO2 분말 2중량%(6g), MgF2 분말 4중량%(12g)를 니트릴 병에 에탄올 400㎖와 지르코니아 볼 1,500g을 넣어 24시간동안 혼합하여 슬러리를 제조한다. 제조된 슬러리는 110℃ 오븐에서 4시간 건조 후, 건조된 분말을 알루미나 도가니에 넣어 1500℃에서 2시간 동안 용융을 시킨다. 용융된 조성물은 상온(20℃)까지 대기 중에서 냉각시키고, 분쇄하여 평균입도(D50) 2㎛ 이내의 분말을 제조한다. 제조된 분말은 실린더 형상의 초경 합금 몰드에 넣고 1,000㎏/㎠의 압력으로 가압하여 직경20㎜, 두께 2㎜인 세라믹체를 형성한다. 성형된 세라믹체는 전자로를 이용하여 산화분위기인 1150℃에서 2시간 동안 소결하여 시편을 제조한다.
도 2와 도 3은 본 발명에 따른 머시너블 세라믹 시편에 대한 1000배와 5000배 배율의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope;SEM) 사진이고, 도 4와 도 5는 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹 시편에 대한 1000배와 5000배 배율의 주사전자현미경 사진이다.
도 2 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 머시너블 세라믹 시편과 ZrO2를 첨가하지 않은 머시너블 세라믹 시편을 비교하면, 본 발명은 플르오로플로고파이트 결정이 균일하게 핵생성이 일어난 후 핵을 중심으로 방사 상태를 이루며 성장하다가 매우 미세한 결정들로 재배열된 것을 확인할 수 있다. 또한, ZrO2를 첨가함에 따라 결정의 소결 온도가 낮아져 입자끼리 연결되며 성장되어 본 발명은 ZrO2를 첨가하지 않은 시편에 비하여 입자가 크게 형성된 것을 확인할 수 있다.
도 6은 본 발명에 따르는 머시너블 세라믹의 레이저 가공성을 시험한 사진이다. 레이저로는 UV 나노 레이저가 사용되었다.
상기 사진에서 홀의 직경은 50㎛이며, 이웃하는 홀 사이의 간격을 15㎛로 하여 5×5개의 원형 홀을 형성하였다. 도 6에 도시된 바와 같이, 이웃하는 홀 사이의 간격이 미세하게 형성되도록 구멍을 뚫을 수 있는 점에서 가공성이 향상된 것을 확인할 수 있다.
지금까지 본 발명에 따른 머시너블 세라믹 제조 방법 및 그에 따라 제조된 머시너블 세라믹은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당업자라면 누구든지 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (9)

  1. 연납석 분말 65∼80중량%와, Al2O3 분말 4∼9.9중량%와, MgO 분말 6∼12중량%와, Na2CO3 분말 2∼8중량%와, TiO2 분말 1.5∼7중량%와, MgF2 분말 1∼10중량%와, ZrO2 분말 0중량%를 초과하고 6중량% 이하의 범위로 포함하는 조성비로 이루어진 혼합 분말을 유기용매와 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계(슬러리 제조 단계);
    상기 슬러리 제조 단계에서 제조된 슬러리를 건조시키는 단계(슬러리 건조 단계);
    상기 슬러리 건조 단계에서 건조된 분말을 열처리하여 용융시키는 단계(용융 단계);
    상기 용융 단계에서 용융된 세라믹 조성물을 상온으로 급랭시켜 유리화하는 단계(유리화 단계);
    상기 유리화 단계에서 유리화된 세라믹 조성물을 분쇄하여 분말화시키는 단계(분말화 단계);
    상기 분말화 단계에서 제조된 분말을 가압하여 성형하고 소결하는 단계(성형 및 소결 단계);를 포함하여,
    플루오로플로고파이트(Fluorophlogopite) 결정상 및 코디어라이트(Cordierite) 결정상과 함께 셀라이트(Sellaite) 결정상이 혼재되도록 하는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 세라믹 조성물 전체에서 Al2O3 분말과 ZrO2 분말의 비율의 합은 4.1∼15.9중량%인 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  3. 제1 항에 있어서, 상기 슬러리 제조 단계에서 유기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 증류수 중 하나 또는 이들 중 2개 이상이 혼합되는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  4. 제1 항에 있어서, 상기 슬러리 제조 단계에서 지르코니아 볼을 더 포함하여 혼합되며, 상기 혼합 분말은 상기 지르코니아 볼에 의해 분쇄되며 슬러리로 제조되는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  5. 제4 항에 있어서, 상기 용융 단계에서 분말은 1400∼1600℃ 온도 범위에서 2∼4시간 동안 가열되어 용융되는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  6. 제4 항에 있어서, 상기 성형 및 소결 단계에서 소결은 1000∼1200℃ 온도 분위기에서 2∼4시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서, 상기 성형 및 소결 단계에서 소결은 전기로를 이용하여 산화분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹 제조 방법.
  8. 제1 항 내지 제7 항 중 하나의 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹.
  9. 제8 항에 있어서, 상기 머시너블 세라믹은 플루오로플로고파이트(Fluorophlogopite) 결정상 및 코디어라이트(Cordierite) 결정상과 함께 셀라이트(Sellaite) 결정상이 혼재되어 있는 것을 특징으로 하는 머시너블 세라믹.
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