KR102063529B1

KR102063529B1 - Semiconductor structure and manufacturing method of the same

Info

Publication number: KR102063529B1
Application number: KR1020130155144A
Authority: KR
Inventors: 시-헝 첸
Original assignee: 매크로닉스 인터내셔널 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2013-12-13
Filing date: 2013-12-13
Publication date: 2020-01-08
Also published as: KR20150069115A

Abstract

반도체 구조가 제공된다. 상기 반도체 구조는 제1 적층 구조를 포함한다. 상기 제1 적층 구조는 제1 방향을 따라 배치되는 제1 적층 부분, 상기 제1 적층 부분에 연결되고 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향을 따라 배치되는 적어도 하나의 제2 적층 부분, 그리고 상기 제1 방향으로 연결되고 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 적층 부분과 교대로 배열되는 적어도 하나의 제3 적층 부분을 포함한다. 상기 제3 적층 부분의 폭은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 적층 부분의 폭 보다 작다.A semiconductor structure is provided. The semiconductor structure includes a first stacked structure. The first laminated structure may include a first laminated portion disposed along a first direction, at least one second laminated portion disposed along a second direction connected to the first laminated portion and orthogonal to the first direction, and the And at least one third stacked portion connected in a first direction and arranged alternately with the second stacked portion along the first direction. The width of the third laminated portion is smaller than the width of the second laminated portion along the second direction.

Description

Semiconductor Structure and Manufacturing Method Thereof {SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}

본 발명은 대체로 반도체 구조 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고밀도 반도체 구조 및 그 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention generally relates to a semiconductor structure and a method for manufacturing the same, and more particularly to a high density semiconductor structure and a method for manufacturing the same.

메모리 장치들은 MP3 플레이어들, 디지털 카메라들, 컴퓨터 파일들 등과 같은 많은 물품들을 위한 저장 소자에 사용된다. 그 용도가 증가함에 따라, 상기 메모리 장치들에 대한 요구 사항들은 작은 사이즈와 큰 메모리 용량에 집중되고 있다. 이러한 요구를 만족시키기 위해. 높은 소자 밀도를 갖는 메모리가 필요하다.Memory devices are used in storage elements for many items such as MP3 players, digital cameras, computer files, and the like. As its use increases, the requirements for the memory devices are focused on small size and large memory capacity. To meet these needs. There is a need for a memory with a high device density.

설계자들이 메모리 용량을 증가시키고 셀당 비용을 감소시키기 위해 3차원(3D) 적층 메모리 장치를 이용하여 메모리 장치 밀도를 개선하기 위한 방법들을 개발하고 있다. 낮은 제조비용으로, 신뢰성 있는 매우 작은 메모리 소자들과 게이트 구조들을 갖는 메모리 셀 스트링들의 이웃하는 스택들과 관련하여 개선된 공정 원도우를 구비하는 3차원 집적 회로 메모리를 위한 구조를 제공하는 것이 바람직하다. Designers are developing methods for improving memory device density using three-dimensional (3D) stacked memory devices to increase memory capacity and reduce cost per cell. It is desirable to provide a structure for a three dimensional integrated circuit memory having improved process window with respect to neighboring stacks of memory cell strings having very small memory elements and gate structures that are reliable at low manufacturing costs.

본 발명은 반도체 구조 및 이의 제조 방법에 관련된다. 이러한 제조 방법은 간단하며, 상기 제조 방법에 의해 형성되는 제품은 보다 우수한 안정성을 가진다. The present invention relates to a semiconductor structure and a method of manufacturing the same. This manufacturing method is simple and the product formed by the manufacturing method has better stability.

일 실시예에 따르면, 반도체 구조가 제공된다. 상기 반도체 구조는 제1 적층 구조를 포함한다. 상기 제1 적층 구조는 제1 방향을 따라 배치되는 제1 적층 부분, 상기 제1 적층 부분에 연결되고 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향을 따라 배치되는 적어도 하나의 제2 적층 부분, 그리고 상기 제1 적층 부분에 연결되고 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 적층 부분과 교대로 배열되는 적어도 하나의 제3 적층 부분을 포함한다. 상기 제3 적층 부분의 폭은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 적층 부분의 폭 보다 작다.According to one embodiment, a semiconductor structure is provided. The semiconductor structure includes a first stacked structure. The first laminated structure may include a first laminated portion disposed along a first direction, at least one second laminated portion disposed along a second direction connected to the first laminated portion and orthogonal to the first direction, and the And at least one third stacked portion connected to the first stacked portion and alternately arranged with the second stacked portion along the first direction. The width of the third laminated portion is smaller than the width of the second laminated portion along the second direction.

일 실시예에 따르면, 반도체 구조가 제공된다. 상기 반도체 구조는 제1 적층 구조 및 제2 적층 구조를 포함한다. 상기 제1 적층 구조는 제1 적층 부분, 상기 제1 적층 부분에 직교하는 적어도 하나의 제2 적층 부분, 그리고 상기 제1 적층 부분에 직교하고 상기 제2 적층 부분과 교대로 배열되는 적어도 하나의 제3 적층 부분을 포함한다. 상기 제2 적층 구조는 상기 제1 적층 부분에 평행한 제4 적층 부분, 상기 제4 적층 부분에 직교하게 연결되고 상기 제3 적층 부분에 대응되는 적어도 하나의 제5 적층 부분, 그리고 상기 제4 적층 부분에 직교하게 연결되고 상기 제2 적층 부분에 대응되는 적어도 하나의 제6 적층 부분을 포함한다.According to one embodiment, a semiconductor structure is provided. The semiconductor structure includes a first stacked structure and a second stacked structure. The first laminated structure includes a first laminated portion, at least one second laminated portion orthogonal to the first laminated portion, and at least one first orthogonal to the first laminated portion and alternately arranged with the second laminated portion. It includes three laminated parts. The second stacked structure is a fourth stacked portion parallel to the first stacked portion, at least one fifth stacked portion orthogonally connected to the fourth stacked portion and corresponding to the third stacked portion, and the fourth stacked portion. And at least one sixth stacked portion orthogonally connected to the portion and corresponding to the second stacked portion.

일 실시예에 따르면, 반도체 구조를 제조하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 다음 단계들을 포함한다. 반도체층들 및 절연층들이 교대로 적층되므로, 상기 반도체층들은 상기 절연층들에 의해 서로 분리된다. 상기 반도체층들 및 상기 절연층들은 베이스 적층 구조를 형성하도록 패터닝되며, 여기서 상기 베이스 적층 구조는 적어도 하나의 제1 관통 홀을 포함한다. 상기 제1 관통 홀은 도전성 물질들로 채워진다. 상기 베이스 적층 구조는 제1 적층 구조 및 베이스 도전성 라인을 형성하도록 식각되며, 여기서 상기 제1 적층 구조 제1 방향을 따라 배치되는 제1 적층 부분, 상기 제1 적층 부분에 직교하는 적어도 하나의 제2 적층 부분, 그리고 상기 제1 적층 부분에 직교하고 상기 제2 적층 부분과 교대로 배열되는 적어도 하나의 제3 적층 부분을 포함한다. 상기 제3 적층 부분의 폭은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 적층 부분의 폭 보다 작다. 유전 요소가 상기 제1 적층 구조 상에 형성된다. 상기 베이스 도전성 라인의 일부가 적어도 하나의 제2 관통 홀 및 적어도 하나의 제1 도전성 라인을 형성하도록 식각되어, 상기 제1 도전성 라인이 상기 제2 적층 부분의 일측 단부 상에 배치된다. 복수의 제2 도전성 라인들 및 도전성 아일랜드들이 상기 제1 적층 구조 상에 형성된다. 2개의 인접하는 도전성 아일랜드들 사이에 간격이 형성되므로, 상기 2개의 도전성 라인들은 서로 분리된다.According to one embodiment, a method of manufacturing a semiconductor structure is provided. The method includes the following steps. Since the semiconductor layers and the insulating layers are alternately stacked, the semiconductor layers are separated from each other by the insulating layers. The semiconductor layers and the insulating layers are patterned to form a base stacked structure, wherein the base stacked structure includes at least one first through hole. The first through hole is filled with conductive materials. The base stacked structure is etched to form a first stacked structure and a base conductive line, wherein the first stacked portion disposed along a first direction of the first stacked structure, at least one second perpendicular to the first stacked portion A laminated portion, and at least one third laminated portion orthogonal to the first laminated portion and alternately arranged with the second laminated portion. The width of the third laminated portion is smaller than the width of the second laminated portion along the second direction. A dielectric element is formed on the first stacked structure. A portion of the base conductive line is etched to form at least one second through hole and at least one first conductive line, such that the first conductive line is disposed on one end of the second stacked portion. A plurality of second conductive lines and conductive islands are formed on the first stacked structure. Since a gap is formed between two adjacent conductive islands, the two conductive lines are separated from each other.

본 발명의 전술한 특징 및 기타 이점들은 제한적이지 않은 실시예(들)에 대한 다음의 상세한 설명을 통해 보다 명확하게 이해될 것이다. 다음의 상세한 설명은 첨부된 도면들을 참조하여 기술된다.The foregoing features and other advantages of the present invention will be more clearly understood from the following detailed description of the non-limiting embodiment (s). The following detailed description is described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들에 따른 반도체 구조는 신뢰성 있고 매우 작은 메모리 셀 요소들 및 게이트 구조들을 갖는 메모리 셀 스트링들의 이웃하는 스택들에 관련하여 개선된 공정을 구비한다. 따라서, 보다 용이한 제조 방법뿐만 아니라 보다 높은 안정성이 제공된다.The semiconductor structure according to embodiments of the present invention has an improved process with respect to neighboring stacks of memory cell strings having reliable and very small memory cell elements and gate structures. Thus, not only easier manufacturing methods but also higher stability are provided.

본 발명의 다른 특징들 및 기타 이점들은 첨부된 도면들을 참조하여 바람직한 실시예들의 상세한 설명을 통해 보다 명확해질 것이며, 첨부 도면들에 있어서,
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조의 일부의 3차원 도면을 나타낸다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조의 상면도를 나타낸다.
도 1c는 도 1b의 B-B' 라인을 따른 상기 반도체 구조의 단면도를 나타낸다.
도 2 내지 도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조의 제조 방법을 나타낸다.Other features and other advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the preferred embodiments with reference to the accompanying drawings, in which:
1A shows a three-dimensional view of a portion of a semiconductor structure in accordance with one embodiment of the present invention.
1B illustrates a top view of a semiconductor structure in accordance with one embodiment of the present invention.
FIG. 1C shows a cross-sectional view of the semiconductor structure along the BB ′ line of FIG. 1B.
2-9B illustrate a method of manufacturing a semiconductor structure in accordance with an embodiment of the present invention.

다음의 상세한 설명에 있어서, 설명의 목적을 위하여, 많은 특정 사항들이 본 발명의 실시예들의 완전한 이해를 제공하도록 기술된다. 그러나, 하나 또는 그 이상의 실시예들이 이들 특정 사항들이 없이도 실시될 수 있는 점은 명백하다. 다른 예들에 있어서는, 잘 알려진 구조들과 장치들이 도시의 편의를 위해 개략적으로 도시된다.In the following detailed description, for purposes of explanation, numerous specific details are set forth in order to provide a thorough understanding of embodiments of the present invention. It may be evident, however, that one or more embodiments may be practiced without these specific details. In other instances, well-known structures and devices are schematically shown for the convenience of illustration.

이하, 본 발명의 실시예들을 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 실시예들에서 동일한 부재들에 대해서는 동일한 참조 부호들을 사용한다. 또한, 상기 예시들이 필수적으로 일정한 비율로 도시되지는 않을 수 있으며, 특정하게 예시되지 않은 본 발명의 다른 실시예들이 존재할 수 있는 점이 언급되는 것을 중요하다. 따라서, 본 명세서와 도면들은 제한하려는 의도가 아니라 예시적인 의미로 이해되어야 할 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the embodiments the same reference numerals are used for the same members. It is also important to note that the above examples may not necessarily be drawn to scale, and that there may be other embodiments of the invention that are not specifically illustrated. The specification and drawings are, accordingly, to be regarded in an illustrative rather than a restrictive sense.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조(100)의 일부의 3차원 도면을 예시한다. 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조(100)의 상면도를 예시한다. 본 발명의 기술적 내용들에 대한 이해가 용이해지도록, 도 1a는 도 1b의 영역(A1) 내의 반도체 구조(100)의 일부의 3차원 도면을 예시한다.1A illustrates a three dimensional view of a portion of semiconductor structure 100 in accordance with an embodiment of the present invention. 1B illustrates a top view of a semiconductor structure 100 in accordance with one embodiment of the present invention. To facilitate understanding of the technical details of the present invention, FIG. 1A illustrates a three-dimensional view of a portion of semiconductor structure 100 in region A1 of FIG. 1B.

도 1a 및 도 1b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예의 상기 반도체 구조(100)는 제1 적층 구조(stacked structure)(1) 및 제2 적층 구조(2)를 포함한다. 상기 제1 적층 구조(1)는 제1 방향으로 배치되는 제1 적층 부분(11), 상기 제1 적층 부분(11)에 연결되고 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향으로 배치되는 적어도 하나의 제2 적층 부분(12), 그리고 상기 제1 방향으로 연결되고 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 적층 부분(12)과 교대로 배열되는 적어도 하나의 제3 적층 부분(13)을 포함한다. 이러한 실시예에 있어서, 상기 제1 방향은 X-방향을 따르며, 상기 제2 방향은 Y-방향을 따른다. 즉, 상기 제2 적층 부분(12) 및 상기 제3 적층 부분(13)은 상기 제1 적층 부분(11)과 직교한다. 도면들에 도시된 바와 같이, 상기 제3 적층 부분(13)의 폭(L3)은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 적층 부분(12)의 폭(L2) 보다 작다.As shown in FIGS. 1A and 1B, the semiconductor structure 100 of one embodiment of the present invention includes a first stacked structure 1 and a second stacked structure 2. The first stacked structure 1 may include a first stacked portion 11 arranged in a first direction and at least one arranged in a second direction connected to the first stacked portion 11 and orthogonal to the first direction. A second laminated portion 12 and at least one third laminated portion 13 connected in the first direction and arranged alternately with the second laminated portion 12 along the first direction. In this embodiment, the first direction is along the X-direction and the second direction is along the Y-direction. That is, the second laminated portion 12 and the third laminated portion 13 are orthogonal to the first laminated portion 11. As shown in the figures, the width L3 of the third laminated portion 13 is smaller than the width L2 of the second laminated portion 12 along the second direction.

이러한 실시예에 있어서, 상기 제1 적층 구조(1)는 복수의 제2 적층 부분들(12)과 제3 적층 부분들(13)을 포함한다. 이들 제2 적층 부분들(12)과 제3 적층 부분들(13)은 상기 제1 방향을 따라 제1 간격(D1)을 가진다. 즉, 상기 제2 적층 부분들(12)과 제3 적층 부분들(13) 사이의 간격들은 동일하다.In this embodiment, the first laminated structure 1 comprises a plurality of second laminated portions 12 and third laminated portions 13. These second stacked portions 12 and third stacked portions 13 have a first gap D1 along the first direction. That is, the spacings between the second stacked portions 12 and the third stacked portions 13 are the same.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 적층 부분(12)은 상기 제1 적층 부분(11)에 연결되는 제1 단부(121) 및 상기 제1 단부(121)에 대향하는 제2 단부(122)를 포함한다. 상기 반도체 구조(100)는 또한 상기 제2 적층 부분(12)의 제2 단부(122) 상에 배치되는 적어도 하나의 제1 도전성 라인(31)을 포함한다.In one embodiment, the second laminated portion 12 has a first end 121 connected to the first laminated portion 11 and a second end 122 opposite the first end 121. Include. The semiconductor structure 100 also includes at least one first conductive line 31 disposed on the second end 122 of the second stacked portion 12.

이러한 실시예에 있어서, 상기 반도체 구조(100)는 상기 제1 적층 구조(1)와 마주하는 제2 적층 구조(2)를 더 포함한다. 상기 제2 적층 구조(2)는 상기 제1 적층 구조(1)와 유사하다. 상기 제2 적층 구조(2)는 상기 제1 방향(X-방향)을 따라 배치되는 제4 적층 부분(24), 상기 제4 적층 부분(24)에 연결되고 상기 제2 방향(Y-방향)을 따라 배치되는 적어도 하나의 제5 적층 부분(25), 그리고 상기 적층 부분(24)에 연결되고 상기 제1 방향을 따라 상기 제5 적층 부분(25)과 교대로 배치되는 적어도 하나의 제6 적층 부분(26)을 포함한다. 즉, 상기 제4 적층 부분(24)은 상기 제1 적층 부분(11)과 평행하고, 상기 제5 적층 부분(25) 및 상기 제6 적층 부분(26)은 상기 제4 적층 부분(24)과 직교한다.In this embodiment, the semiconductor structure 100 further includes a second stacked structure 2 facing the first stacked structure 1. The second laminated structure 2 is similar to the first laminated structure 1. The second laminated structure 2 is connected to the fourth laminated portion 24 and the fourth laminated portion 24 disposed along the first direction (X-direction) and in the second direction (Y-direction). At least one fifth stacking portion 25 disposed along the stack, and at least one sixth stacking connected to the stacking portion 24 and alternately disposed with the fifth stacking portion 25 along the first direction. And part 26. That is, the fourth stacked portion 24 is parallel to the first stacked portion 11, and the fifth stacked portion 25 and the sixth stacked portion 26 are parallel to the fourth stacked portion 24. Orthogonal.

상기 제1 적층 구조(1)와 유사하게, 상기 제2 적층 구조(2)의 제6 적층 부분(26)의 폭(L6)은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 적층 구조(2)의 제5 적층 부분(25)의 폭(L5) 보다 작다. 일 실시예에 있어서, 상기 도전성 라인들(31)의 적어도 하나가 상기 제5 적층 부분(25)의 일측 단부 상에 배치될 수 있다. 상기 제5 적층 부분(25)과 상기 제6 적층 부분(26) 사이의 제2 간격(D2)은 상기 제1 간격(D1)과 실질적으로 동일하다.Similar to the first laminated structure 1, the width L6 of the sixth laminated portion 26 of the second laminated structure 2 is defined by the second laminated structure 2 along the second direction. 5 is smaller than the width L5 of the laminated portion 25. In one embodiment, at least one of the conductive lines 31 may be disposed on one end of the fifth stacked portion 25. The second interval D2 between the fifth laminated portion 25 and the sixth laminated portion 26 is substantially the same as the first interval D1.

상기 반도체 구조(100)의 내부 구조를 보다 분명하게 도시하기 위해, 도 1a가 상기 제2 적층 구조(2)의 일부만을 예시하는 점에 유의하여야 한다. 도 1b에 도시한 바와 같이, 이러한 실시예에서 상기 제5 적층 부분(25)이 상기 제3 적층 부분(13)에 대응되는 반면, 상기 제6 적층 부분(26)은 상기 제2 적층 부분(12)에 대응된다. 일 실시예에 있어서, 상기 제1 도전성 라인(31)과 상기 제3 적층 부분(13) 사이의 제3 간격(D3)은 상기 제1 도전성 라인(31)과 상기 제6 적층 부분(26) 사이의 제4 간격(D4)과 실질적으로 동일하다. 상기 제2 적층 구조(2)가 상기 제1 적층 구조(1)와 유사한 구조를 가지기 때문에, 이하의 설명은 상기 제1 적층 구조(1)를 기반으로 한다.In order to more clearly show the internal structure of the semiconductor structure 100, it should be noted that FIG. 1A illustrates only a part of the second stacked structure 2. As shown in FIG. 1B, in this embodiment the fifth laminated portion 25 corresponds to the third laminated portion 13, while the sixth laminated portion 26 is the second laminated portion 12. Corresponds to). In one embodiment, a third gap D3 between the first conductive line 31 and the third stacked portion 13 is between the first conductive line 31 and the sixth stacked portion 26. It is substantially equal to the fourth interval D4 of. Since the second laminated structure 2 has a structure similar to the first laminated structure 1, the following description is based on the first laminated structure 1.

일 실시예에 있어서, 상기 반도체 구조(100)는 상기 제1 적층 부분(11), 상기 제2 적층 부분(12), 그리고 상기 제3 적층 부분(13) 상에 형성되는 유전 요소(dielectric element)(40)를 더 포함한다. 이와 유사하게, 상기 유전 유소(40)가 상기 제4 적층 부분(24), 상기 제5 적층 부분(25), 그리고 상기 제6 적층 부분(26) 상에 형성될 수 있다.In one embodiment, the semiconductor structure 100 is a dielectric element formed on the first stacked portion 11, the second stacked portion 12, and the third stacked portion 13. It further includes 40. Similarly, the dielectric oil 40 may be formed on the fourth stacked portion 24, the fifth stacked portion 25, and the sixth stacked portion 26.

이러한 실시예에 있어서, 상기 제1 적층 부분(11)은 제1 상부 표면(111)을 포함하고, 상기 제2 적층 부분(12)은 제2 상부 표면(112), 제1 측부 표면(123) 및 상기 제1 측부 표면(123)에 대향하는 제2 측부 표면(124)을 포함하며, 상기 제3 적층 부분(13)은 제3 상부 표면(113), 제3 측부 표면(133) 및 상기 제3 측부 표면(133)에 대향하는 제4 측부 표면(134)을 포함한다. 상기 제3 측부 표면(133)은 상기 제2 측부 표면(124)과 마주하고, 상기 제4 측부 표면(134)은 상기 제1 측부 표면(123)과 마주한다. 상기 유전 요소(40)는 상기 제1 상부 표면(111), 상기 제2 상부 표면(112), 상기 제3 상부 표면(113), 상기 제1 측부 표면(123), 상기 제2 측부 표면(124), 상기 제3 측부 표면(133) 및 상기 제4 측부 표면(134) 상에 배치된다.In this embodiment, the first laminated portion 11 comprises a first upper surface 111 and the second laminated portion 12 is a second upper surface 112, a first side surface 123. And a second side surface 124 opposite the first side surface 123, wherein the third stacked portion 13 comprises a third upper surface 113, a third side surface 133 and the first side surface 123. A fourth side surface 134 opposite the three side surface 133. The third side surface 133 faces the second side surface 124 and the fourth side surface 134 faces the first side surface 123. The dielectric element 40 includes the first top surface 111, the second top surface 112, the third top surface 113, the first side surface 123, and the second side surface 124. ), The third side surface 133 and the fourth side surface 134.

상기 유전 요소(40)는 단일 유전 물질을 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 유전 요소(40)는 안티-퓨즈(anti-fuse) 메모리층으로 기능하며, 예를 들면, 실리콘 산화물과 같은 산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 질화물을 포함하는 안티-퓨즈 물질로 구성된다. 다른 실시예에 있어서, 상기 유전 요소(40)는, 예를 들면, ONO 다층 구조와 같은 다양한 유전 물질들(실리콘 산화물과 같은 산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 질화물)로 구성되는 다층 구조를 가진다. 일 실시예에 있어서, 상기 유전 요소(40)는 전하 저장층으로 기능할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 상기 유전 요소(40)는 ONONO 다층 구조를 가지며, 전하 저장층 또는 터널 유전층으로 기능할 수 있다.The dielectric element 40 may comprise a single dielectric material. In one embodiment, the dielectric element 40 functions as an anti-fuse memory layer, for example, with an anti-fuse material comprising an oxide such as silicon oxide or a nitride such as silicon nitride. It is composed. In another embodiment, the dielectric element 40 has a multilayer structure composed of various dielectric materials (such as an oxide such as silicon oxide or nitride such as silicon nitride), for example, an ONO multilayer structure. In one embodiment, the dielectric element 40 may function as a charge storage layer. In another embodiment, the dielectric element 40 has an ONONO multilayer structure and can function as a charge storage layer or tunnel dielectric layer.

도 1c는 도 1b의 B-B' 라인을 따른 상기 반도체 구조(100)의 단면도를 예시한다. 도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 반도체 구조(100)는 상기 유전 요소(40) 상에 배치되는 복수의 도전성 아일랜드들(conductive islands)(35)을 포함할 수 있다. 이러한 실시예에 있어서, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제2 적층 부분(12)과 상기 제3 적층 부분(13) 사이에 배치될 수 있다. 보다 상세하게는, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제2 상부 표면(112), 상기 제1 측부 표면(123), 상기 제2 측부 표면(124), 상기 제3 측부 표면(133) 및 상기 제4 측부 표면(134) 상에 배치될 수 있다. 상기 도전성 아일랜드들(35)의 상부 표면들(351)은 서로 정렬될 수 있고, 인접하는 2개의 도전성 아일랜드들(35)은 서로 분리될 수 있다. 이와 유사하게, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제2 적층 구조(2)의 상기 제5 적층 부분(25)과 상기 제6 적층 부분(26) 사이에 배치될 수 있다.FIG. 1C illustrates a cross-sectional view of the semiconductor structure 100 along the line BB ′ of FIG. 1B. 1A-1C, the semiconductor structure 100 in accordance with one embodiment of the present invention may include a plurality of conductive islands 35 disposed on the dielectric element 40. have. In this embodiment, the conductive islands 35 may be disposed between the second stacked portion 12 and the third stacked portion 13. More specifically, the conductive islands 35 include the second upper surface 112, the first side surface 123, the second side surface 124, the third side surface 133 and the May be disposed on the fourth side surface 134. Top surfaces 351 of the conductive islands 35 may be aligned with each other, and two adjacent conductive islands 35 may be separated from each other. Similarly, the conductive islands 35 may be disposed between the fifth stacked portion 25 and the sixth stacked portion 26 of the second stacked structure 2.

이러한 실시예에 있어서, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 복수의 오목부들(concaves)(36)을 포함한다. 상기 오목부들(36)의 상부 표면들(361)은 서로 정렬된다. 2개의 인접하는 도전성 아일랜드들(35)은 상기 오목부들(36)에 의해 서로 이격될 수 있다. 그러나, 본 발명에 이에 한정되는 아니다. 일 실시예에 있어서, 상기 도전성 아일랜드들(35)의 일부는 상기 제3 상부 표면(113) 상에 배치될 수 있다(도시되지 않음). 보다 상세하게는, 상기 도전성 아일랜드들(35)의 일부는 상기 제3 상부 표면(113) 상의 상기 유전 요소(40) 상에 배치될 수 있지만, 2개의 인접하는 도전성 아일랜드들(35)은 여전히 서로 분리될 수 있다. 즉, 상기 제3 상부 표면(113) 상의 상기 2개의 인접하는 도전성 아일랜드들(35) 사이에 간격이 존재할 수 있으므로, 상기 2개의 인접하는 도전성 아일랜드들(35)이 서로 접촉되지 않을 수 있다.In this embodiment, the conductive islands 35 include a plurality of concaves 36. The upper surfaces 361 of the recesses 36 are aligned with each other. Two adjacent conductive islands 35 may be spaced apart from each other by the recesses 36. However, the present invention is not limited thereto. In one embodiment, some of the conductive islands 35 may be disposed on the third upper surface 113 (not shown). More specifically, some of the conductive islands 35 may be disposed on the dielectric element 40 on the third upper surface 113, but two adjacent conductive islands 35 are still mutually Can be separated. That is, since there may be a gap between the two adjacent conductive islands 35 on the third upper surface 113, the two adjacent conductive islands 35 may not be in contact with each other.

또한, 상기 제3 적층 부분(13)의 양 측부들 상에 배치되는 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제3 적층 부분(13)에 의해 서로 절연될 수 있다. 보다 상세하게는, 상기 제3 측부 표면(133) 및 상기 제4 측부 표면(134) 상에 배치되는 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제3 적층 부분(13) 상의 상기 유전 요소(40)에 의해 서로 절연될 수 있다. 이와 유사하게, 상기 제6 적층 부분(26)의 양 측부들 상에 배치되는 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제6 적층 부분(26) 상의 상기 유전 요소(40)에 의해 서로 절연될 수 있다.In addition, the conductive islands 35 disposed on both sides of the third stacked portion 13 may be insulated from each other by the third stacked portion 13. More specifically, the conductive islands 35 disposed on the third side surface 133 and the fourth side surface 134 are connected to the dielectric element 40 on the third stacked portion 13. Can be insulated from one another. Similarly, the conductive islands 35 disposed on both sides of the sixth stacked portion 26 may be insulated from each other by the dielectric element 40 on the sixth stacked portion 26. .

일 실시예에 있어서, 상기 반도체 구조(100)는 상기 제2 적층 부분(12) 및 상기 제5 적층 부분(25) 상에 배치되는 적어도 하나의 제2 도전성 라인(32)을 포함할 수 있다. 보다 상세하게는, 상기 제2 도전성 라인(32)은 상기 제2 적층 부분(12) 및 상기 제5 적층 부분(25) 상의 상기 유전 요소(40) 상에 배치될 수 있다.In an embodiment, the semiconductor structure 100 may include at least one second conductive line 32 disposed on the second stacked portion 12 and the fifth stacked portion 25. More specifically, the second conductive line 32 may be disposed on the dielectric element 40 on the second stacked portion 12 and the fifth stacked portion 25.

이러한 실시예에 있어서, 상기 제1 적층 구조(1) 및 상기 제2 적층 구조(2)는 교대로 적층되는 반도체 스트립들(strips)(41) 및 절연 스트립들(42)을 포함하며, 상기 반도체 스트립들(41)은 상기 절연 스트립들(42)에 의해 서로 분리된다.In this embodiment, the first stacked structure 1 and the second stacked structure 2 include semiconductor strips 41 and insulating strips 42 stacked alternately. The strips 41 are separated from each other by the insulating strips 42.

또한, 본 발명에 따른 실시예들에 있어서, 다른 층들의 상기 반도체 스트립들(41)은 다른 평면들의 메모리 셀들의 비트 라인들(BL)로 기능할 수 있고, 상기 제1 도전성 라인(31)은 상기 비트 라인들(BL)의 패드들로 기능할 수 있으며, 상기 제2 도전성 라인(32)은 워드 라인들(WL)로 기능할 수 있고, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 스트링 선택 라인들(SSL)로 기능할 수 있다.Further, in embodiments according to the present invention, the semiconductor strips 41 of different layers may function as bit lines BL of memory cells of different planes, and the first conductive line 31 may be The second conductive line 32 may function as word lines WL, and the conductive islands 35 may function as string pads of the bit lines BL. SSL).

도 2 내지 도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 구조(100)의 제조 방법을 예시한다. 도 2를 참조하면, 반도체층들(4) 및 절연층들(6)이 교대로 적층되므로, 상기 반도체층들(4)이 상기 절연층들(6)에 의해 서로 이격된다. 상기 반도체층들(4)은 폴리실리콘을 포함한다. 일 실시예에 있어서, 상기 반도체층들(4)은 도핑 공정 후에 어닐될 수 있다. 상기 반도체층들(4)은 또한 금속을 포함한다. 상기 절연층들(6)은 산화물을 포함한다. 이후에, 상기 반도체층들(4) 및 상기 절연층들(6)은 도 3a 및 도 3b에 예시한 바와 같은 베이스(base) 적층 구조(91)를 형성하도록 패터닝된다. 도 3b는 도 3a의 베이스 적층 구조(91)의 상면도를 예시한다. 상기 베이스 적층 구조(91)는 적어도 하나의 제1 관통 홀(51)을 포함한다. 상기 패터닝 방법은 사진식각 공정을 포함한다.2-9B illustrate a method of manufacturing a semiconductor structure 100 in accordance with one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, since the semiconductor layers 4 and the insulating layers 6 are alternately stacked, the semiconductor layers 4 are spaced apart from each other by the insulating layers 6. The semiconductor layers 4 comprise polysilicon. In one embodiment, the semiconductor layers 4 may be annealed after a doping process. The semiconductor layers 4 also comprise metal. The insulating layers 6 comprise an oxide. Thereafter, the semiconductor layers 4 and the insulating layers 6 are patterned to form a base stacked structure 91 as illustrated in FIGS. 3A and 3B. 3B illustrates a top view of the base stacked structure 91 of FIG. 3A. The base stacked structure 91 includes at least one first through hole 51. The patterning method includes a photolithography process.

도 4b는 도 4a의 베이스 적층 구조(91)의 상면도를 예시한다. 도 4a 및 도 4b에 도시한 바와 같이, 상기 제1 관통 홀(51)은 도전성 물질들(61)로 채워진다. 상기 도전성 물질들(61)은 폴리실리콘을 포함할 수 있고, 예를 들면, 상기 도전성 물질들(61)은 n-채널을 위한 n+ 폴리실리콘 또는 p-채널을 위한 p+ 폴리실리콘이 될 수 있다.4B illustrates a top view of the base laminate structure 91 of FIG. 4A. As shown in FIGS. 4A and 4B, the first through hole 51 is filled with conductive materials 61. The conductive materials 61 may comprise polysilicon, for example, the conductive materials 61 may be n + polysilicon for n-channel or p + polysilicon for p-channel.

도 5b는 도 5a의 상기 구조의 상면도를 예시한다. 보다 명료하게 설명하기 위하여, 다음의 3차원 도면들은 상기 적층 구조의 일부를 나타낸다. 예를 들면, 도 5a는 도 5b의 영역(A2)만에 대응되는 상기 구조의 3차원(3D) 도면을 예시한다.5B illustrates a top view of the structure of FIG. 5A. For the sake of clarity, the following three-dimensional drawings show part of the laminated structure. For example, FIG. 5A illustrates a three-dimensional (3D) diagram of the structure corresponding to only area A2 of FIG. 5B.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 상기 베이스 적층 구조(91)는 제1 적층 구조(1)를 형성하도록 식각된다. 상기 제1 적층 구조(1)는 제1 방향(X-방향과 같은)을 따라 배치되는 제1 적층 부분(11), 적어도 하나의 제2 적층 부분(12) 그리고 상기 제1 적층 부분(11)에 직교하는 적어도 하나의 제3 적층 부분(13)을 포함한다. 상기 제3 적층 부분(13)은 상기 제2 적층 부분(12)과 교대로 배열된다.5A and 5B, the base laminate structure 91 is etched to form a first laminate structure 1. The first laminated structure 1 has a first laminated portion 11, at least one second laminated portion 12 and the first laminated portion 11 disposed along a first direction (such as in the X-direction). At least one third laminated portion 13 orthogonal to. The third stacked portion 13 is alternately arranged with the second stacked portion 12.

도 5b에 도시한 바와 같이, 상기 제1 적층 구조(1) 및 상기 제1 적층 구조(1)와 마주하는 제2 적층 구조(2)는 동시에 형성된다. 상기 제2 적층 구조(2)는 상기 제1 적층 구조(1)와 유사한 구조를 가진다. 상기 제2 적층 구조(2)는 제4 적층 부분(24), 적어도 하나의 제5 적층 부분(25), 그리고 적어도 하나의 제6 적층 부분(26)을 포함한다. 상기 제1 적층 부분(11), 상기 제2 적층 부분(12), 상기 제3 적층 부분(13), 상기 제4 적층 부분(24), 상기 제5 적층 부분(25) 및 상기 제6 적층 부분(26)은 각기 교대로 적층되는 반도체 스트립들(41) 및 절연 스트립들(42)을 포함한다.As shown in FIG. 5B, the first laminated structure 1 and the second laminated structure 2 facing the first laminated structure 1 are simultaneously formed. The second laminated structure 2 has a structure similar to the first laminated structure 1. The second laminated structure 2 comprises a fourth laminated portion 24, at least one fifth laminated portion 25, and at least one sixth laminated portion 26. The first laminated part 11, the second laminated part 12, the third laminated part 13, the fourth laminated part 24, the fifth laminated part 25 and the sixth laminated part. Reference numeral 26 includes semiconductor strips 41 and insulating strips 42, each stacked alternately.

또한, 상기 도전성 물질들(61)도 적어도 하나의 베이스 도전성 라인(62)으로서 식각된다. 상기 베이스 도전성 라인(62)은 상기 제2 적층 부분(12)을 상기 제6 적층 부분(26)에 연결하고, 상기 제3 적층 부분(13)을 상기 제5 적층 부분(25)에 연결한다.In addition, the conductive materials 61 are also etched as at least one base conductive line 62. The base conductive line 62 connects the second stacked portion 12 to the sixth stacked portion 26, and the third stacked portion 13 to the fifth stacked portion 25.

도 6에 도시한 바와 같이, 유전 요소(40)가 상기 제1 적층 구조(1) 및 상기 제2 적층 구조(2) 상에 형성된다. 이후에, 도 7a 및 도 7b를 참조하면(상기 유전 요소(40)는 도 7b에서는 생략되어 있고, 도 7a는 도 7b의 영역(A3)만에 대응되는 구조의 3차원 도면을 예시한다), 상기 제1 적층 구조(1)와 상기 제2 적층 구조(2)는 유기 유전 물질(63)로 채워진다. 이후에, 상기 베이스 도전성 라인(62)에 대응되는 복수의 개구들(711)을 포함하는 패터닝된 마스크층(71)이 상기 유기 유전 물질(63) 상에 제공된다.As shown in FIG. 6, a dielectric element 40 is formed on the first stacked structure 1 and the second stacked structure 2. Subsequently, referring to FIGS. 7A and 7B (the dielectric element 40 is omitted in FIG. 7B, and FIG. 7A illustrates a three-dimensional view of the structure corresponding to only area A3 in FIG. 7B), The first laminated structure 1 and the second laminated structure 2 are filled with an organic dielectric material 63. Thereafter, a patterned mask layer 71 is provided on the organic dielectric material 63 including a plurality of openings 711 corresponding to the base conductive line 62.

도 7c는 도 7b의 C-C' 라인을 따른 상기 구조의 단면도이다. 도 7c에 도시한 바와 같이, 상기 베이스 도전성 라인(62)의 일부에 대응되는 상기 유기 유전 물질(63)의 일부가 식각되어, 상기 유기 유전 물질(63)의 일부의 상부 표면들(631) 서로 정렬되며, 상기 베이스 도전성 라인(62)의 일부 상의 상기 유전 요소(40)의 일부가 노출된다.FIG. 7C is a cross sectional view of the structure along the line CC ′ in FIG. 7B. As shown in FIG. 7C, a portion of the organic dielectric material 63 corresponding to a portion of the base conductive line 62 is etched, such that upper surfaces 631 of the portion of the organic dielectric material 63 are mutually oriented. Aligned, a portion of the dielectric element 40 on a portion of the base conductive line 62 is exposed.

도 8b는 도 8a의 D-D' 라인을 따른 상기 구조의 단면도이다. 도 8a 및 도 8b에 도시한 바와 같이(상기 유전 요소(40)는 도 8a에서는 생략된다), 상기 노출된 유전 요소(40) 및 상기 유전 요소(40) 아래의 상기 베이스 도전성 라인(62)의 일부가 적어도 하나의 제2 관통 홀(52) 및 적어도 하나의 제1 도전성 라인(31)을 형성하도록 식각된다. 일 실시예에 있어서, 식각 가스가 식각 공정이 수행되도록 투여될 수 있다. 상기 식각 가스가 상기 유전 요소(40) 및 상기 베이스 도전성 라인(62)을 식각하지만, 상기 유기 유전 물질(63)을 식각하지 않도록 큰 선택비를 가지므로, 상기 제1 도전성 라인(31)이 소정의 위치에 형성될 수 있다. 상기 식각 공정 후, 상기 제1 도전성 라인(31)은 상기 제2 적층 부분(12) 또는 상기 제5 적층 부분(25)의 일측 단부 상에 배치된다. 또한, 제3 간격(D3)이 상기 제1 도전성 라인(31) 및 상기 제3 적층 부분(13) 사이에 형성되고, 제4 간격(D4)이 상기 제1 도전성 라인(31) 및 상기 제6 적층 부분(26) 사이에 형성된다.FIG. 8B is a cross-sectional view of the structure along the line D-D 'in FIG. 8A. As shown in FIGS. 8A and 8B (the dielectric element 40 is omitted in FIG. 8A), the exposed dielectric element 40 and the base conductive line 62 underneath the dielectric element 40. A portion is etched to form at least one second through hole 52 and at least one first conductive line 31. In one embodiment, an etching gas may be administered to perform the etching process. Although the etch gas etches the dielectric element 40 and the base conductive line 62, but has a large selectivity so as not to etch the organic dielectric material 63, the first conductive line 31 is predetermined. It can be formed at the position of. After the etching process, the first conductive line 31 is disposed on one end of the second stacked portion 12 or the fifth stacked portion 25. Further, a third gap D3 is formed between the first conductive line 31 and the third stacked portion 13, and a fourth gap D4 is formed on the first conductive line 31 and the sixth. It is formed between the laminated portions 26.

이후에, 상기 유기 유전 물질(63) 및 상기 패터닝된 마스크층(71)이 제거된다. 보다 명료하게 도시하기 위하여, 상기 유전 요소(40)는 도 9a 및 도 9b에 생략되어 있으며, 도 9a는 도 9b의 영역(A4)만에 대응되는 구조의 3차원 도면을 예시한다. 도 9a 및 도 9b에서 상기 제1 적층 부분(11), 상기 제2 적층 부분(12), 상기 제3 적층 부분(13), 상기 제4 적층 부분(24), 상기 제5 적층 부분(25), 상기 제6 적층 부분(26), 상기 제1 도전성 라인(31), 그리고 상기 제2 관통 홀(52)의 위치들에 대해서 분명하게 볼 수 있다.Thereafter, the organic dielectric material 63 and the patterned mask layer 71 are removed. For clarity, the dielectric element 40 is omitted in FIGS. 9A and 9B, which illustrates a three-dimensional view of the structure corresponding to only area A4 of FIG. 9B. 9A and 9B, the first laminated portion 11, the second laminated portion 12, the third laminated portion 13, the fourth laminated portion 24, and the fifth laminated portion 25. The positions of the sixth stacked portion 26, the first conductive line 31, and the second through hole 52 can be clearly seen.

마지막으로, 복수의 제2 도전성 라인들(32) 및 도전성 아일랜드들(35)이 도 1a에 예시한 바와 같은 상기 반도체 구조(100)를 형성하도록 상기 제1 적층 구조(1) 및 상기 제2 적층 구조(2) 상에 형성된다. 상기 복수의 제2 도전성 라인들(32)과 도전성 아일랜드들(35)을 형성하는 방법은 사진식각 공정을 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 상기 제2 도전성 라인들(32)은 상기 제2 적층 부분(12)과 상기 제5 적층 부분(25) 사이에 배치될 수 있다. 보다 상세하게는, 상기 제2 도전성 라인들(32)은 상기 제2 적층 부분(12) 및 상기 제5 적층 부분(25) 상의 상기 유전 요소(40) 상에 배치될 수 있다. 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제2 적층 부분(12)과 상기 제3 적층 부분(13) 사이에 배치될 수 있다. 이와 유사하게, 상기 도전성 아일랜드들(35)은 상기 제5 적층 부분(25)과 상기 제6 적층 부분(26) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 상기 도전성 아일랜드들(35)의 상부 표면들(351)은 서로 정렬된다.Finally, the first stacked structure 1 and the second stacked structure such that a plurality of second conductive lines 32 and conductive islands 35 form the semiconductor structure 100 as illustrated in FIG. 1A. It is formed on the structure (2). The method of forming the plurality of second conductive lines 32 and the conductive islands 35 may include a photolithography process. In one embodiment according to the present invention, the second conductive lines 32 may be disposed between the second stacked portion 12 and the fifth stacked portion 25. More specifically, the second conductive lines 32 may be disposed on the dielectric element 40 on the second stacked portion 12 and the fifth stacked portion 25. The conductive islands 35 may be disposed between the second stacked portion 12 and the third stacked portion 13. Similarly, the conductive islands 35 may be disposed between the fifth stacked portion 25 and the sixth stacked portion 26. In addition, the upper surfaces 351 of the conductive islands 35 are aligned with each other.

간격이 2개의 상기 인접하는 도전성 아일랜드들(35) 사이에 형성되므로, 상기 2개의 도전성 아일랜드들(35)이 서로 접촉되지 않는 점에 유의하여야 한다. 따라서, 상기 2개의 도전성 아일랜드들(35)을 분리시키는 1회 이상의 사진식각 공정이 요구된다. 예를 들면, 복수의 오목부들(36)(도 1c에 도시됨)이 2개의 상기 인접하는 도전성 아일랜드들(35)을 분리시키도록 형성된다. 상기 오목부들(36)의 상부 표면들(361)은 서로 정렬될 수 있다.Note that since the gap is formed between two adjacent conductive islands 35, the two conductive islands 35 do not contact each other. Thus, one or more photolithography processes are required to separate the two conductive islands 35. For example, a plurality of recesses 36 (shown in FIG. 1C) are formed to separate the two adjacent conductive islands 35. The upper surfaces 361 of the recesses 36 may be aligned with each other.

이에 따라, 본 발명에 따른 일 실시예의 상기 반도체 구조는 신뢰성 있고 매우 작은 메모리 셀 요소들 및 게이트 구조들을 갖는 메모리 셀 스트링들의 이웃하는 스택들에 관련하여 개선된 공정을 구비한다. 이는 보다 용이한 제조 방법뿐만 아니라 보다 높은 안정성을 제공한다.Accordingly, the semiconductor structure of one embodiment according to the present invention has an improved process with respect to neighboring stacks of memory cell strings having reliable and very small memory cell elements and gate structures. This not only provides easier manufacturing methods but also higher stability.

해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 개시된 실시예들에 대한 다양한 변형들과 변경들이 가능함이 명백할 것이다. 본 명세서와 실시예들은 다음 특허청구범위 및 그 균등물들에 의해 나타내는 본 발명의 범주 내에서 예시적인 것으로서만 간주되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations of the disclosed embodiments are possible. The specification and examples are to be regarded as illustrative only within the scope of the invention as indicated by the following claims and their equivalents.

1：제1 적층 구조 2：제2 적층 구조
4：반도체층 6：절연층
11：제1 적층 부분 12：제2 적층 부분
13：제3 적층 부분 24：제4 적층 부분
25：제5 적층 부분 26：제6 적층 부분
31：제1 도전성 라인 32：제2 도전성 라인
35：도전성 아일랜드 36：오목부들
40：유전 요소 41：반도체 스트립들
42：절연 스트립들 51：제1 관통 홀
52：제2 관통 홀 61：도전성 물질
62：도전성 베이스 라인 63：유기 유전 물질
71：마스크층 91：베이스 적층 구조
100：반도체 구조 111：제1 상부 표면
112：제2 상부 표면 113：제3 상부 표면
123：제1 측부 표면 124：제2 측부 표면
133：제3 측부 표면 134：제4 측부 표면1: First laminated structure 2: Second laminated structure
4: semiconductor layer 6: insulating layer
11: first laminated part 12: second laminated part
13: 3rd laminated part 24: 4th laminated part
25: fifth laminated part 26: sixth laminated part
31: first conductive line 32: second conductive line
35: conductive island 36: concave parts
40: dielectric element 41: semiconductor strips
42: insulating strips 51: first through hole
52: second through hole 61: conductive material
62: conductive baseline 63: organic dielectric material
71: mask layer 91: base laminated structure
100: semiconductor structure 111: first upper surface
112: second upper surface 113: third upper surface
123: First side surface 124: Second side surface
133: third side surface 134: fourth side surface

Claims

It has a first laminated structure, wherein the first laminated structure,
A first stacked portion disposed in the first direction;
Connected to the first laminated portion. A plurality of second stacked portions extending in a second direction orthogonal to the first direction; And
A plurality of third stacked portions connected to the first stacked portion and alternately arranged with the second stacked portions along the first direction,
The width of the third laminated portions is smaller than the width of the second laminated portions along the second direction,
And the second stacked portions and the third stacked portions have a plurality of gaps along the first direction, and the gaps between the second stacked portions and the third stacked portions are the same.

The semiconductor of claim 1, wherein each of the second stacked portions includes a first end and a second end opposite the first end, wherein the first end is connected to the first stacked portion. rescue.

2. The semiconductor structure of claim 1, further comprising a dielectric element formed on the first stacked portion, the second stacked portions, and the third stacked portions.

The method of claim 3, wherein
The first laminated portion comprises a first upper surface;
Each of the second laminated portions comprises a second top surface, a first side surface and a second side surface opposite the first side surface;
Each of the third laminated portions comprises a third top surface, a third side surface and a fourth side surface opposite the third side surface;
The third side surface faces the second side surface and the fourth side surface faces the first side surface;
Said dielectric element being disposed on said first upper surface, said second upper surface, said third upper surface, said first side surface, said second side surface, said third side surface and said fourth side surface. A semiconductor structure characterized by the above-mentioned.

The method of claim 4, wherein
A plurality of conductive islands disposed on the dielectric element, wherein the conductive islands are on the second top surface, the first side surface, the second side surface, the third side surface, and the fourth side surface. And top surfaces of the conductive islands are aligned with each other, and two adjacent conductive islands are separated from each other.

6. The semiconductor structure of claim 5, wherein the conductive islands disposed on the third side surface and the fourth side surface are insulated from each other by the dielectric element on the third stacked portions.

The method of claim 1, further comprising a second laminated structure facing the first laminated structure, wherein the second laminated structure,
A fourth stacked portion disposed along the first direction;
At least one fifth stacked portion connected to the fourth stacked portion and disposed along the second direction; And
At least one sixth stacked portion connected to the fourth stacked portion and alternately arranged with the fifth stacked portion along the first direction,
And the width of the sixth stacked portion is smaller than the width of the fifth stacked portion along the second direction.

The method of claim 7, wherein
A first gap between the second stacked portion and the third stacked portion along the first direction; And
And a second gap between the fifth laminated portion and the sixth laminated portion along the first direction, wherein the second interval is equal to the first interval.

8. The semiconductor structure of claim 7, wherein the fifth stacked portion corresponds to the third stacked portion and the sixth stacked portion corresponds to the second stacked portion.

The semiconductor structure of claim 1, wherein the first stacked structure includes semiconductor strips and insulating strips that are alternately stacked, the semiconductor strips being separated from each other by the insulating strips.

It has a first laminated structure, wherein the first laminated structure,
A first laminated portion;
At least one second stacked portion orthogonal to the first stacked portion; And
At least one third laminated portion orthogonal to the first laminated portion and arranged alternately with the second laminated portion,
It has a second laminated structure, wherein the second laminated structure,
A fourth laminated portion parallel to the first laminated portion;
At least one fifth stacked portion orthogonally connected to the fourth stacked portion and corresponding to the third stacked portion; And
And at least one sixth stacked portion orthogonally connected to the fourth stacked portion and corresponding to the second stacked portion.

12. The semiconductor structure of claim 11, further comprising at least one first conductive line disposed on one end of the second stacked portion or one end of the fifth stacked portion.

The method of claim 12,
A third gap between the first conductive line and the third stacked portion; And
And a fourth gap between the first conductive line and the sixth stacked portion, wherein the fourth gap is equal to the third gap.

12. The semiconductor structure of claim 11, further comprising a dielectric element disposed on the second stacked portion, the third stacked portion, the fifth stacked portion and the sixth stacked portion.

The method of claim 14,
A plurality of conductive islands, the semiconductor structure further comprising a plurality of conductive islands disposed between the second stacked portion and the third stacked portion or between the fifth stacked portion and the sixth stacked portion. .

16. The conductive islands of claim 15, wherein the conductive islands disposed on both sides of the third stacked portion are insulated from each other by the dielectric element on the third stacked portion and disposed on both sides of the sixth stacked portion. Wherein said conductive islands are insulated from each other by said dielectric element on said sixth stacked portion.

The method of claim 11,
And a plurality of second conductive lines disposed between the second stacked portion and the fifth stacked portion.

In the manufacturing method of a semiconductor structure,
Alternately stacking the semiconductor layers and the insulating layers such that the semiconductor layers are separated from each other by insulating layers;
Patterning the semiconductor layer and the insulating layers to form a base stacked structure, the base stacked structure including at least one first through hole;
Filling the first through hole with conductive materials;
Etching the base stacked structure to form a first stacked structure and a base conductive line, the first stacked structure comprising: a first stacked portion arranged along a first direction, at least orthogonal to the first stacked portion; One second laminated portion, at least one third laminated portion orthogonal to the first laminated portion and alternately arranged with the second laminated portion, wherein the width of the third laminated portion is perpendicular to the first direction Less than a width of the second laminated portion along a second direction;
Forming a dielectric element on the first stacked structure;
Etching a portion of the base conductive line to form at least one second through hole and at least one first conductive line such that a first conductive line is disposed on one end of the second stacked portion;
Forming a plurality of second conductive lines and conductive islands on the first stacked structure, wherein a gap is formed between two adjacent conductive islands such that the two adjacent conductive lines are separated from each other. Method for manufacturing a semiconductor structure, characterized in that.

The method of claim 18,
And simultaneously forming the first stacked structure and the second stacked structure facing the first stacked structure.

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