KR102063061B1 - Conductive laminate - Google Patents

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Abstract

본 출원은 도전성 적층체 및 그 용도에 관한 것이다. 본 출원의 도전성 적층체는 표면 단차를 가지는 기재에 부착되는 경우에도 단차부 주변의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있으므로, 상기 도전성 적층체가 적용된 제품의 외관이나 성능을 유지할 수 있다. 이러한 도전성 적층체는 예를 들어, 터치 패널 등에 유용하게 사용될 수 있다.The present application relates to a conductive laminate and its use. Since the conductive laminate of the present application can effectively suppress the generation of bubbles around the stepped portion even when attached to a substrate having a surface level difference, the appearance and performance of the product to which the conductive laminate is applied can be maintained. Such a conductive laminate can be usefully used, for example, in a touch panel.

Description

도전성 적층체 {CONDUCTIVE LAMINATE}Conductive Laminate {CONDUCTIVE LAMINATE}

본 출원은 도전성 적층체 및 그 용도에 관한 것이다.The present application relates to a conductive laminate and its use.

터치 패널 또는 터치 스크린은 이동 통신 단말기 또는 ATM 등과 같은 각종 정보 처리용 단말기나, TV 및 모니터 등의 표시 장치에 다양하게 적용되고 있다. 또한, 소형 휴대용 전자 기기로의 적용이 증가하면서 보다 소형이고 경량화된 터치 패널 또는 스크린에 대한 요구가 증가하는 추세이다.The touch panel or touch screen is applied to various information processing terminals such as mobile communication terminals or ATMs, and display devices such as TVs and monitors. In addition, as the application to small portable electronic devices increases, the demand for smaller and lighter touch panels or screens increases.

상기 터치 패널 또는 스크린의 구성 시에는 예를 들면 특허문헌 1 또는 2에 개시된 것과 같은 도전성 적층체가 사용된다. 이러한 도전성 적층체는 점착제층을 포함하고 있을 수 있다. 상기 도전성 적층체은 점착제층을 통하여 다른 기재에 합지될 경우 기포를 발생시키지 않는 것이 중요하다. 기포가 발생하는 경우 화면의 디자인성을 현저하게 해쳐 외관에 영향을 줄 수 있고, 성능을 저하시키는 원인이 될 수 있기 때문이다.In the configuration of the touch panel or screen, for example, a conductive laminate as disclosed in Patent Documents 1 or 2 is used. Such a conductive laminate may include an adhesive layer. It is important that the conductive laminate does not generate bubbles when laminated to another substrate through the pressure-sensitive adhesive layer. This is because if bubbles are generated, the design of the screen may be remarkably impaired, which may affect the appearance and may cause a decrease in performance.

특허 문헌 1: 대한민국 공개특허 제2002-0036837호Patent Document 1: Republic of Korea Patent Publication No. 2002-0036837 특허 문헌 2: 대한민국 공개특허 제2001-0042939호Patent Document 2: Republic of Korea Patent Publication No. 2001-0042939

본 출원은 도전성 적층체 및 그 용도에 관한 것이다. The present application relates to a conductive laminate and its use.

본 출원은 도전성 적층체에 관한 것이다. 도 1은 본 출원의 제 1 실시예에 따른 도전성 적층체의 구조를 예시적으로 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 도전성 적층체(1)는 기재층(101); 및 상기 기재층의 일면에 형성된 도전성층(201); 및 상기 제 1 기재층의 제 1 도전성층이 형성되어 있지 않은 면에 부착되어 있는 점착제층(30)을 포함할 수 있다. 이하, 본 출원의 도전성 적층체에 대하여 구체적으로 설명한다The present application relates to a conductive laminate. 1 exemplarily shows a structure of a conductive laminate according to a first embodiment of the present application. As shown in FIG. 1, the electroconductive laminated body 1 is the base material layer 101; And a conductive layer 201 formed on one surface of the base layer. And an adhesive layer 30 attached to a surface on which the first conductive layer of the first base layer is not formed. Hereinafter, the conductive laminated body of this application is demonstrated concretely.

[기재층][Base layer]

기재층(101)의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 유리 기재 또는 플라스틱 기재 등을 사용할 수 있다. 플라스틱 기재로는 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리스티렌 필름 또는 폴리올레핀 필름 등을 사용할 수 있고, 통상적으로 폴리에틸렌테레프탈레이트 등과 같은 폴리에스테르 필름, 아크릴 수지 필름 또는 폴리카보네이트 필름 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The kind of base material layer 101 is not specifically limited, For example, a glass base material or a plastic base material can be used. As the plastic substrate, a polyester film, a polyamide film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film, or a polyolefin film may be used, and a polyester film such as polyethylene terephthalate, an acrylic resin film, or a polycarbonate film may be used. However, it is not limited thereto.

기재층(101)의 두께는 특별히 제한되지 않고, 도전성 적층체로서 기능을 할 수 있는 한 적절히 설정할 수 있다. 예를 들면, 상기 기재층의 두께는 약 1㎛ 내지 500㎛, 약 3㎛ 내지 300㎛, 약 5㎛ 내지 250㎛ 또는 10㎛ 내지 200㎛ 정도의 범위 내일 수 있다.The thickness of the base material layer 101 is not specifically limited, It can set suitably as long as it can function as an electroconductive laminated body. For example, the thickness of the substrate layer may be in the range of about 1 μm to 500 μm, about 3 μm to 300 μm, about 5 μm to 250 μm, or about 10 μm to 200 μm.

기재층(101)에는 예를 들어, 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리 또는 스퍼터 에칭 처리 등의 적절한 접착 처리가 수행되어 있을 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The substrate layer 101 may be, for example, a suitable adhesion treatment such as corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment or sputter etching treatment, but is not limited thereto.

[도전성층][Conductive layer]

도전성층(201)은 상기 기재층(101)의 일면에 형성되어 있을 수 있다. 상기 도전성층(201)을 구성하는 소재로는, 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석 또는 상기 중 2종 이상의 합금 등과 같은 금속, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 카드뮴 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물로 구성되는 금속 산화물, 요오드화 구리 등이 사용될 수 있고, 상기 도전성층은 결정층 또는 비결정층 일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 도전성층을 구성하는 소재는 인듐 주석 산화물(ITO; Indium Tin Oxide)을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The conductive layer 201 may be formed on one surface of the base layer 101. Examples of the material constituting the conductive layer 201 include metals such as gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin, alloys of two or more thereof, indium oxide, Tin oxide, titanium oxide, cadmium oxide or a metal oxide composed of a mixture of two or more thereof, copper iodide, and the like may be used, and the conductive layer may be a crystalline layer or an amorphous layer. In one example, the material constituting the conductive layer may use Indium Tin Oxide (ITO), but is not limited thereto.

도전성층(201)의 두께는 연속 피막의 형성 가능성, 도전성 및 투명성 등을 고려하여, 약 10nm 내지 300nm, 약 10nm 내지 200nm 또는 약 10nm 내지 100nm의 범위로 조절할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The thickness of the conductive layer 201 may be adjusted in a range of about 10 nm to 300 nm, about 10 nm to 200 nm, or about 10 nm to 100 nm in consideration of the possibility of forming a continuous film, conductivity, transparency, and the like, but is not limited thereto.

도전성층(201)의 형성법은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열분해법, 화학 도금법, 전기 도금법 또는 상기 중 2종 이상의 방법을 조합한 통상의 박막 형성법으로 형성할 수 있고, 통상적으로 진공 증착법 또는 스퍼터링법으로 형성할 수 있다.The method of forming the conductive layer 201 is not particularly limited, but for example, a vacuum thin film deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a spray pyrolysis method, a chemical plating method, an electroplating method, or a conventional thin film formation method combining two or more of the above methods may be employed. It can form, and can be formed by a vacuum vapor deposition method or sputtering method normally.

도전성층(201)은 필요한 경우 앵커층 또는 유전체층을 매개로 기재층 일면에 형성되어 있을 수도 있다. 상기 앵커층 또는 유전체층은 도전성층과 기재층 사이의 밀착성을 향상시키고, 내찰상성 또는 내굴곡성을 개선할 수 있다.The conductive layer 201 may be formed on one surface of the base layer through an anchor layer or a dielectric layer if necessary. The anchor layer or the dielectric layer may improve adhesion between the conductive layer and the base layer, and may improve scratch resistance or flex resistance.

또한, 상기와 같은 앵커층 또는 유전체층은, 예를 들면, SiO2, MgF2 또는 Al2O3 등과 같은 무기물; 아크릴 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지 또는 실록산계 폴리머 등의 유기물 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물을 사용한 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 또는 도공법을 사용하여 형성할 수 있다. 상기 앵커층 또는 유전체층은 통상적으로 약 100nm 이하, 구체적으로는 15nm 내지 100nm 또는 20nm 내지 60nm의 두께로 형성할 수 있다.In addition, the anchor layer or the dielectric layer may be, for example, an inorganic material such as SiO 2 , MgF 2 or Al 2 O 3 ; It can be formed using an organic substance such as an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an alkyd resin, or a siloxane polymer, or a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a coating method using a mixture of two or more of the above. The anchor layer or dielectric layer may be typically formed to a thickness of about 100 nm or less, specifically 15 nm to 100 nm or 20 nm to 60 nm.

[점착제층][Adhesive Layer]

점착제층(30)은 상기 기재층(101)의 도전성층(201)이 형성되어 있지 않은 면에 부착되어 있을 수 있다. 상기 점착제층 점착성 중합체를 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「중합체」는, 서로 상이한 1종 이상의 단량체들이 혼합되어 중합된 중합체를 지칭할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 점착제층은 상기 점착성 중합체를 가교된 상태로 포함할 수 있다. 이하, 점착제층의 저장 탄성률 또는 손실 탄성률에 대하여 기술하면서 특별한 언급이 없는 한, 상기 점착성 중합체를 가교된 상태로 포함하는 점착제층의 저장 탄성률 또는 손실 탄성률을 지칭한다. 상기 점착제층은 표면 단차를 가지는 다른 기재에 부착될 경우 단차 주변부에 기포 발생을 억제한다는 측면에서 그 물성 및 조성이 하기와 같이 조절될 수 있다.The adhesive layer 30 may be attached to a surface on which the conductive layer 201 of the base layer 101 is not formed. The pressure-sensitive adhesive layer may include an adhesive polymer. As used herein, the term “polymer” may refer to a polymer in which one or more monomers different from each other are mixed and polymerized. In one example, the pressure-sensitive adhesive layer may include the pressure-sensitive adhesive polymer in a crosslinked state. Hereinafter, the storage modulus or loss modulus of the pressure-sensitive adhesive layer refers to the storage modulus or loss modulus of the pressure-sensitive adhesive layer including the pressure-sensitive adhesive polymer in a crosslinked state unless otherwise specified. When the pressure-sensitive adhesive layer is attached to another substrate having a surface step, its physical properties and composition may be controlled as follows in terms of suppressing bubble generation at the periphery of the step.

점착제층(30)은 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 손실 탄성률(Loss Modulus)이 1.0 x 10 4 Pa 이하, 0.98 x 10 4 Pa 이하, 0.96 x 10 4 Pa 이하, 0.94 x 10 4 Pa 이하, 0.92 x 10 4 Pa 이하, 0.90 x 10 4 Pa 이하, 0.80 x 10 4 Pa 이하, 0.70 x 10 4 Pa 이하, 0.60 x 10 4 Pa 이하 또는 0.50 x 10 4 Pa 이하일 수 있다. 점착제층(30)의 상기 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 손실 탄성률을 하한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 0.1 x 104 Pa 이상일 수 있다. 본 명세서에서 용어 「손실 탄성률」은 통상적으로 알려진 「동적 손실 탄성률」을 의미한다. 즉, 탄성체에 상기와 같이 sine 형태의 전단 변형을 가하는 경우, pi/2만큼 지연된 위상에 있는 부분, 즉 탄성에 의하여 열 등으로 전환되어 비가역적으로 손실되는 에너지를「동적 손실 탄성률」 또는 「손실 탄성률」이라 지칭할 수 있다. 점착제층의 손실 탄성률을 전술한 범위 내에서 조절하여, 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 억제할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer 30 has a loss modulus at a temperature of 50 ° C. and a frequency of 1 rad / sec of 1.0 x 10 4 Pa or less, 0.98 x 10 4 Pa or less, 0.96 x 10 4 Pa or less, 0.94 x 10 4 Pa Or less than or equal to 0.92 x 10 4 Pa or less, or less than or equal to 0.90 x 10 4 Pa, less than or equal to 0.80 x 10 4 Pa, less than or equal to 0.70 x 10 4 Pa, less than or equal to 0.60 x 10 4 Pa, or less than or equal to 0.50 x 10 4 Pa. The lower limit of the loss modulus at the 50 ° C. temperature and the 1 rad / sec frequency of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is not particularly limited, and may be, for example, 0.1 × 10 4 Pa or more. As used herein, the term "loss modulus" refers to the commonly known "dynamic loss modulus". That is, when the sine type shear deformation is applied to the elastic body as described above, the portion of the phase delayed by pi / 2, that is, the energy that is irreversibly lost by being converted into heat or the like due to elasticity, is referred to as "dynamic loss modulus" or "loss." Modulus of elasticity ”. The loss elastic modulus of an adhesive layer can be adjusted in the above-mentioned range, and even if it adheres to the base material which has a surface level | step difference, generation | occurrence | production of the bubble of a peripheral part of a level | step difference can be suppressed.

점착제층(30)은 또한, 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 저장 탄성률(Storage Modulus)이 1.0 x 10 4 Pa 이하, 0.98 x 10 4 Pa 이하, 0.96 x 10 4 Pa 이하, 0.94 x 10 4 Pa 이하, 0.92 x 10 4 Pa 이하, 0.90 x 10 4 Pa 이하, 0.80 x 10 4 Pa 이하, 0.70 x 10 4 Pa 이하 또는 0.60 x 10 4 Pa 이하일 수 있다. 점착제층(30)의 상기 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 저장 탄성률을 하한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 0.1 x 104 Pa 이상일 수 있다. 본 명세서에서 용어 「저장 탄성률」은 통상적으로 알려진 「동적 저장 탄성률」을 의미한다. 즉, 탄성체에 sine 형태의 전단 변형을 가하면, 점탄성 물질의 경우 중간적인 형태로 응력이 지연되어 나타나게 되고, 이를 수학적으로 표현하면, 한 성분은 같은 위상에 있고, 다른 한 성분은 pi/2만큼 지연되는 것을 의미할 수 있으며, 이 경우 같은 위상에 있는 부분, 즉 탄성에 의하여 손실 없이 저장되는 에너지를 「동적 저장 탄성률」 또는 「저장 탄성률」이라 지칭될 수 있다. 점착제층의 저장 탄성률을 전술한 범위 내에서 조절하여, 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. The pressure-sensitive adhesive layer 30 also has a storage modulus at a temperature of 50 ° C. and a frequency of 1 rad / sec of 1.0 x 10 4 Pa or less, 0.98 x 10 4 Pa or less, 0.96 x 10 4 Pa or less, 0.94 x 10 4 Pa or less, 0.92 x 10 4 Pa or less, 0.90 x 10 4 Pa or less, 0.80 x 10 4 Pa or less, 0.70 x 10 4 Pa or less, or 0.60 x 10 4 Pa or less. The lower limit of the storage elastic modulus at the 50 ° C. temperature and the 1 rad / sec frequency of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is not particularly limited, and may be, for example, 0.1 × 10 4 Pa or more. As used herein, the term "storage modulus" refers to the commonly known "dynamic storage modulus". In other words, when sine-type shear deformation is applied to an elastic body, in the case of a viscoelastic material, the stress is delayed to appear in an intermediate form. Mathematically, one component is in the same phase and the other component is delayed by pi / 2. In this case, a portion in the same phase, that is, energy stored without loss by elasticity may be referred to as "dynamic storage modulus" or "storage modulus". By controlling the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer within the above-described range, bubbles can be effectively suppressed even when adhered to a substrate having a surface level difference.

점착제층(30)에 포함되는 점착성 중합체는 탄소수 5 이상의 알킬기를 가지는 제 1 단량체 중합 단위와 가교성 단량체 중합 단위로 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「단량체 중합 단위」는 그 단량체가 중합 반응을 거쳐서 그 중합체의 골격, 예를 들면, 주쇄 또는 측쇄를 형성하고 있는 형태를 의미할 수 있다. 점착성 중합체가 상기 단량체 중합 단위를 포함하는 경우 점착제층은 전술한 손실 또는 저장 탄성률 범위를 나타낼 수 있고, 이를 통해 점착제층이 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 억제할 수 있다.The adhesive polymer included in the pressure-sensitive adhesive layer 30 may be included as a first monomer polymerization unit having a C5 or more alkyl group and a crosslinkable monomer polymerization unit. As used herein, the term "monomer polymerized unit" may refer to a form in which the monomer forms a skeleton, for example, a main chain or a side chain, of the polymer through a polymerization reaction. When the adhesive polymer includes the monomer polymerization unit, the pressure-sensitive adhesive layer may exhibit the above-described loss or storage modulus range, thereby suppressing bubble generation around the step difference even when the pressure-sensitive adhesive layer is attached to a substrate having a surface level difference. have.

제 1 단량체로는 예를 들어, 탄소수 5 이상의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 알킬기는 탄소수 5 이상인 경우 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 분지쇄 또는 직쇄 알킬기일 수 있고, 보다 바람직하게는 직쇄 알킬기를 사용할 수 있다. 이러한 제 1 단량체로는, 예를 들어 펜틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 노닐 (메타)아크릴레이트 또는 라우릴 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있고, 상기 중 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으며, 본 출원의 일 실시예로서 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있으나, 이제 제한되는 것은 아니다. 제 1 단량체의 알킬기의 탄소수 상한은 특별히 제한되지 않으나 예를 들어, 탄소수 20 이하, 탄소수 18 이하, 탄소수 16 이하, 탄소수 14 이하, 탄소수 12 이하 또는 탄소수 10 이하의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. As a 1st monomer, the alkyl (meth) acrylate which has a C5 or more alkyl group can be used, for example. The alkyl group is not particularly limited when it has 5 or more carbon atoms, but may be, for example, a branched or straight chain alkyl group, and more preferably a straight chain alkyl group. As such a 1st monomer, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, or lauryl (meth), for example Acrylate, etc. may be exemplified, and one or more kinds thereof may be used, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate may be used as one embodiment of the present application, but is not limited thereto. The upper limit of the carbon number of the alkyl group of the first monomer is not particularly limited, but for example, an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group of 20 or less carbon atoms, 18 or less carbon atoms, 16 or less carbon atoms, 14 or less carbon atoms, 12 carbon atoms or 10 carbon atoms. Can be used.

제 1 단량체 중합 단위는 점착성 중합체 100 중량부 대비 약 50 중량부 초과의 비율로 포함될 수 있다. 본 명세서에서 단위 「중량부」는 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다. 보다 구체적으로 제 1 단량체 중합단위는 점착성 중합체 100 중량부 대비 약 55 중량부 이상, 60 중량부 이상, 65 중량부 이상, 약 70 중량부 이상, 약 75 중량부 이상 또는 약 80 중량부 이상의 비율로 점착성 중합체에 포함될 수 있다. 제 1 단량체 중합단위의 점착성 중합체 내의 함량 비율의 상한은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 약 95 중량부 이하 또는 약 90 중량부 이하일 수 있다. 이러한 범위에서 점착제층은 전술한 손실 또는 저장 탄성률 범위를 나타낼 수 있고, 이를 통해 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.The first monomer polymerization unit may be included in a ratio of more than about 50 parts by weight to 100 parts by weight of the tacky polymer. In the present specification, the unit "parts by weight" may mean a ratio of weights between components. More specifically, the first monomer polymerization unit has a ratio of about 55 parts by weight, 60 parts by weight, 65 parts by weight, about 70 parts by weight, about 75 parts by weight or about 80 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the adhesive polymer. It can be included in the adhesive polymer. The upper limit of the content ratio in the tacky polymer of the first monomer polymerizing unit is not particularly limited, but may be, for example, about 95 parts by weight or less or about 90 parts by weight or less. In this range, the pressure-sensitive adhesive layer may exhibit the above-described loss or storage modulus range, and thus, even when adhered to a substrate having a surface step, it is possible to effectively suppress bubble generation around the step difference.

점착성 중합체는 또한, 가교성 단량체 중합 단위를 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「가교성 단량체」는 가교성 관능기와 점착성 중합체를 형성할 수 있는 다른 관능기를 가져서 중합 단위로 중합체에 포함되면, 중합체에 가교성 관능기를 제공할 수 있는 단량체를 의미할 수 있다. The adhesive polymer may also include crosslinkable monomer polymerization units. As used herein, the term "crosslinkable monomer" may mean a monomer capable of providing a crosslinkable functional group to the polymer when the polymer is included in the polymer unit by having a crosslinkable functional group and another functional group capable of forming an adhesive polymer.

점착제의 제조 분야에서는 가교성 단량체로 사용될 수 있는 단량체가 다양하게 공지되어 있으며, 이러한 단량체는 모두 상기 점착성 중합체에 사용될 수 있다. 예를 들어, 가교성 단량체로는 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트 또는 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트; 폴리(에틸렌글리콜) (메타)아크릴레이트 또는 폴리(프로필렌글리콜) (메타)아크릴레이트 등의 폴리(알킬렌글리콜) (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산 또는 말레산 무수물 등의 카복실기 함유 공중합성 단량체 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. There are various known monomers that can be used as crosslinkable monomers in the manufacture of pressure sensitive adhesives, and all of these monomers can be used in the pressure sensitive adhesive polymer. For example, as a crosslinkable monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate or 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate; Poly (alkylene glycol) (meth) acrylates, such as poly (ethylene glycol) (meth) acrylate or poly (propylene glycol) (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxy acetic acid Carboxyl group-containing copolymerizable monomers such as 3- (meth) acryloyloxy propyl acid, 4- (meth) acryloyloxy butyl acid, acrylic acid duplex, itaconic acid, maleic acid or maleic anhydride can be used. However, it is not limited thereto.

상기 점착성 중합체에 가교성 단량체 중합 단위가 포함되는 경우, 예를 들면 상기 가교성 단량체 중합 단위는 점착성 중합체 100 중량부 대비 1 중량부 내지 30 중량부, 5 중량부 내지 30 중량부, 10 중량부 내지 30 중량부 또는 12 중량부 내지 30 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 이러한 범위에서 점착제층은 전술한 손실 또는 저장 탄성률 범위를 나타낼 수 있고, 이를 통해 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.When the crosslinkable monomer polymerization unit is included in the adhesive polymer, for example, the crosslinkable monomer polymerization unit may be included in an amount of 1 part by weight to 30 parts by weight, 5 parts by weight to 30 parts by weight, and 10 parts by weight to 100 parts by weight of the adhesive polymer. It may be included in the ratio of 30 parts by weight or 12 to 30 parts by weight. In this range, the pressure-sensitive adhesive layer may exhibit the above-described loss or storage modulus range, and thus, even when adhered to a substrate having a surface step, it is possible to effectively suppress bubble generation around the step difference.

점착성 중합체는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 가지는 제 2 단량체 중합 단위를 추가로 포함할 수 있다. 제 2 단량체로는 예를 들면, 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 가지는 알킬 (메타) 아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 알킬기는 탄소수 1 내지 4인 경우 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 분지쇄 또는 직쇄 알킬기일 수 있고, 보다 바람직하게는 직쇄 알킬기를 사용할 수 있다. 이러한 단량체로는, 예를 들어 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트 또는 sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 등이 예시될 수 있고, 본 출원의 일 실시예에 따르면 메틸 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있으나, 이제 제한되는 것은 아니다.The adhesive polymer may further include a second monomer polymerization unit having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. As a 2nd monomer, the alkyl (meth) acrylate which has a C1-C4 alkyl group can be used, for example. The alkyl group is not particularly limited in the case of 1 to 4 carbon atoms, for example, may be a branched or straight chain alkyl group, more preferably a straight chain alkyl group. As such a monomer, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate or sec-butyl (meth) acrylate, and the like may be exemplified, and methyl (meth) acrylate may be used according to one embodiment of the present application, but is not limited thereto.

점착성 중합체에 제 2 단량체 중합 단위가 추가로 포함되는 경우, 예를 들면 상기 제 2 단량체 중합 단위는 점착성 중합체 100 중량부 대비 1 중량부 내지 30 중량부, 5 중량부 내지 30 중량부, 10 중량부 내지 30 중량부 또는 12 중량부 내지 30 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 이러한 범위에서 점착제층은 전술한 손실 또는 저장 탄성률 범위를 나타낼 수 있고, 이를 통해 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 더욱 효과적으로 억제할 수 있다.When the adhesive polymer further includes a second monomer polymerization unit, for example, the second monomer polymerization unit may be included in an amount of 1 part by weight to 30 parts by weight, 5 parts by weight to 30 parts by weight, and 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the adhesive polymer. To 30 parts by weight or 12 parts by weight to 30 parts by weight. In this range, the pressure-sensitive adhesive layer may exhibit the above-described loss or storage modulus range, and thus, even when adhered to a substrate having a surface step, it is possible to more effectively suppress bubble generation around the step difference.

점착성 중합체를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 통상의 방식으로 제조할 수 있다. 상기 점착성 중합체는 예를 들면, LRP(Living Radical Polymerization) 방식으로 중합할 수 있고, 그 예로는 유기 희토류 금속 복합체를 중합 개시제로 사용하거나, 유기 알칼리 금속 화합물을 중합 개시제로 사용하여 알칼리 금속 또는 알칼리토금속의 염 등의 무기산염의 존재 하에 합성하는 음이온 중합, 유기 알칼리 금속 화합물을 중합 개시제로 사용하여 유기 알루미늄 화합물의 존재 하에 합성하는 음이온 중합 방법, 중합 제어제로서 원자 이동 라디칼 중합제를 이용하는 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), 중합 제어제로서 원자이동 라디칼 중합제를 이용하되 전자를 발생시키는 유기 또는 무기 환원제 하에서 중합을 수행하는 ARGET(Activators Regenerated by Electron Transfer) 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), ICAR(Initiators for continuous activator regeneration) 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), 무기 환원제 가역 부가-개열 연쇄 이동제를 이용하는 가역 부가-개열 연쇄 이동에 의한 중합법(RAFT) 또는 유기 텔루륨 화합물을 개시제로서 이용하는 방법 등이 있으며, 이러한 방법 중에서 적절한 방법이 선택되어 적용될 수 있다.The method for producing the adhesive polymer is not particularly limited and can be prepared in a conventional manner. The adhesive polymer may be polymerized by, for example, LRP (Living Radical Polymerization), for example, an alkali metal or an alkaline earth metal using an organic rare earth metal complex as a polymerization initiator or an organic alkali metal compound as a polymerization initiator. Anion polymerization method synthesized in the presence of an inorganic acid such as a salt of an anion, an anion polymerization method synthesized in the presence of an organoaluminum compound using an organoalkali metal compound as a polymerization initiator, an atom transfer radical using an atom transfer radical polymerizer as a polymerization control agent Polymerization (ATRP), activators regenerated by electron transfer (ARRP), which uses an atomic transfer radical polymerizer as a polymerization control agent and performs polymerization under an organic or inorganic reducing agent that generates electrons. Initiators for continuous activator regeneration ATRP), a reversible addition-cracking chain transfer polymerization method using an inorganic reducing agent reversible addition-cracking chain transfer agent (RAFT), or a method of using an organic tellurium compound as an initiator, and an appropriate method may be selected and applied. have.

점착성 중합체의 중량평균분자량은 예를 들어, 30만 내지 100만, 30만 내지 90만 또는 30만 내지 80만일 수 있다. 이러한 범위에서 점착제층은 전술한 손실 또는 저장 탄성률 범위를 나타낼 수 있고, 이를 통해 표면 단차를 가지는 기재에 부착된 경우에도 단차 주변부의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.The weight average molecular weight of the adhesive polymer may be, for example, 300,000 to 1 million, 300,000 to 900,000, or 300,000 to 800,000. In this range, the pressure-sensitive adhesive layer may exhibit the above-described loss or storage modulus range, and thus, even when adhered to a substrate having a surface step, it is possible to effectively suppress bubble generation around the step difference.

점착제층은 점착성 중합체를 가교시킬 수 있는 가교제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 가교제로는 상기 점착성 중합체에 포함되는 가교성 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 적어도 1개 이상, 1개 내지 10개, 1개 내지 8개, 1개 내지 6개 또는 1개 내지 4개를 가지는 가교제를 사용할 수 있다. 이러한 가교제로는, 이소시아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 아지리딘 가교제 또는 금속 킬레이트 가교제 등의 통상적인 가교제들 중에서 점착성 중합체가 가지는 가교성 관능기의 종류를 고려하여 적절한 종류가 선택되어 사용될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may further include a crosslinking agent capable of crosslinking the adhesive polymer. The crosslinking agent may have at least one functional group capable of reacting with a crosslinkable functional group included in the adhesive polymer, and having from 1 to 10, 1 to 8, 1 to 6 or 1 to 4 Crosslinking agents can be used. As such a crosslinking agent, an appropriate kind may be selected and used in consideration of the kind of the crosslinkable functional group of the adhesive polymer among conventional crosslinking agents such as an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent or a metal chelate crosslinking agent.

이소시아네이트 가교제로는, 톨리렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소보론 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트 또는 나프탈렌 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물이나 상기 디이소시아네이트 화합물과 폴리올, 예를 들면 트리메틸롤프로판 등의 반응물 또는 상기 디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트 부가체 등이 예시될 수 있으나, 바람직하게는 크실렌 디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트를 사용할 수 있고, 에폭시 가교제로는, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜 에틸렌디아민 및 글리세린 디글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있다.As an isocyanate crosslinking agent, diisocyanate compounds, such as tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isoborone diisocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate, or naphthalene diisocyanate, and the said diisocyanate compound, Reactants such as polyols such as trimethylolpropane or isocyanurate adducts of the diisocyanate compounds may be exemplified, but preferably xylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate may be used, and epoxy crosslinking agent may be used. , Ethylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetraglycidyl ethylenediamine and glycerin diglycidyl ether It is at least one selected from can be illustrated.

아지리딘 가교제로는 N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌 멜라민, 비스이소프로탈로일-1-(2-메틸아지리딘) 또는 트리-1-아지리디닐포스핀옥시드 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 상기 금속 킬레이트 가교제로는, 알루미늄, 철, 아연, 주석, 티탄, 안티몬, 마그네슘 및/또는 바나듐과 같은 다가 금속이 아세틸 아세톤 또는 아세토초산 에틸 등에 배위하고 있는 화합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of aziridine crosslinkers include N, N'-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridinecarboxamide ), Triethylene melamine, bisisoprotaloyl-1- (2-methylaziridine) or tri-1-aziridinylphosphineoxide and the like can be exemplified, but is not limited thereto. Examples of the compound include a compound in which a polyvalent metal such as aluminum, iron, zinc, tin, titanium, antimony, magnesium, and / or vanadium is coordinated with acetyl acetone, ethyl acetoacetate, or the like, but is not limited thereto.

가교제는, 예를 들면, 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부, 0.015 중량부 내지 5 중량부, 0.02 중량부 내지 2.5 중량부 또는 0.025 중량부 내지 1 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 상기 가교제를 전술한 범위에서 상기 점착성 중합체에 포함되도록 조절하여 전술한 손실 또는 저장 탄성률을 원하는 범위 내에서 형성되도록 할 수 있다. For example, the crosslinking agent may be included in a ratio of 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, 0.015 parts by weight to 5 parts by weight, 0.02 parts by weight to 2.5 parts by weight, or 0.025 parts by weight to 1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the adhesive polymer. The crosslinking agent may be adjusted to be included in the adhesive polymer in the aforementioned range so that the aforementioned loss or storage modulus is formed within a desired range.

점착제층은 실란 커플링제를 추가로 포함할 수 있다. 실란 커플링제로는, 예를 들면 베타-시아노기 또는 아세토아세틸기를 가지는 실란 커플링제를 사용할 수 있다. 이러한 실란 커플링제는, 예를 들면 분자량이 낮은 중합체에 의해 형성된 점착제가 우수한 밀착성 및 접착 안정성을 나타내도록 할 수 있도록 할 수 있다. 점착제층이 실란 커플링제를 추가로 포함하는 경우 실란 커플링제는 상기 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 5 중량부 또는 0.01 중량부 내지 1 중량부로 포함될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may further include a silane coupling agent. As the silane coupling agent, for example, a silane coupling agent having a beta-cyano group or an acetoacetyl group can be used. Such silane coupling agents can, for example, enable the pressure-sensitive adhesive formed by a low molecular weight polymer to exhibit excellent adhesion and adhesion stability. When the pressure-sensitive adhesive layer further includes a silane coupling agent, the silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 5 parts by weight or 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the adhesive polymer.

점착제층은, 필요에 따라 점착성 부여제를 추가로 포함할 수도 있다. 점착성 부여제로는 예를 들면, 히드로카본 수지 또는 그의 수소 첨가물, 로진 수지 또는 그의 수소 첨가물, 로진 에스테르 수지 또는 그의 수소 첨가물, 테르펜 수지 또는 그의 수소 첨가물, 테르펜 페놀 수지 또는 그의 수소 첨가물, 중합 로진 수지 또는 중합 로진 에스테르 수지 등의 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 점착성 부여제는 상기 점착성 중합체 100 중량부에 대하여, 100 중량부 이하의 양으로 점착제 조성물에 포함될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may further contain a tackifier as necessary. As the tackifier, for example, a hydrocarbon resin or a hydrogenated substance thereof, a rosin resin or a hydrogenated substance thereof, a rosin ester resin or a hydrogenated substance thereof, a terpene resin or a hydrogenated substance thereof, a terpene phenol resin or a hydrogenated substance thereof, a polymerized rosin resin or One kind or a mixture of two or more kinds such as a polymerized rosin ester resin may be used, but is not limited thereto. A tackifier may be included in the pressure-sensitive adhesive composition in an amount of 100 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer.

점착제층은, 필요한 경우 경화제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. If necessary, the pressure-sensitive adhesive layer may further include one or more additives selected from the group consisting of a curing agent, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, an antifoaming agent, a surfactant, and a plasticizer.

점착제층을 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 통상의 방식으로 제조할 수 있다. 예를 들어, 점착성 중합체가 가교된 상태로 존재하는 점착제 조성물을 통상의 수단으로 적절한 공정 기재에 도포한 후 경화시키는 방식에 의하여 제조될 수 있다. 본 출원에서 상기 경화 과정은, 점착제 조성물 내부에 포함된 휘발 성분 또는 반응 잔류물과 같은 기포 유발 성분을 충분히 제거한 후, 수행하는 것이 바람직하다. 이에 따라 점착제의 가교 밀도 또는 분자량 등이 지나치게 낮아 탄성률이 떨어지고, 고온 상태에서 점착 계면에 존재하는 기포들이 커져 내부에서 산란체를 형성하는 문제점 등을 방지할 수 있다. 상기에서 점착제 조성물을 경화시키는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 적절한 가열, 건조 및/또는 숙성(aging) 공정을 통한 경화, 또는 자외선(UV)과 같은 전자기파 조사에 의한 경화 방식을 채용할 수 있다.The method for producing the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited and can be produced in a conventional manner. For example, the pressure-sensitive adhesive composition in which the pressure-sensitive polymer is present in a crosslinked state may be prepared by applying a conventional means to an appropriate process substrate and then curing. In the present application, the curing process is preferably performed after sufficiently removing the bubble-inducing components such as volatile components or reaction residues contained in the pressure-sensitive adhesive composition. As a result, the crosslinking density or molecular weight of the pressure-sensitive adhesive is too low, the elastic modulus is lowered, and bubbles present at the pressure-sensitive interface in the high temperature state become large, thereby preventing problems such as forming scattering bodies therein. The method of curing the pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, and for example, curing through appropriate heating, drying and / or aging processes, or curing by electromagnetic radiation such as ultraviolet (UV) may be employed. Can be.

[제 2 기재층 및 제 2 도전성층][2nd base material layer and 2nd electroconductive layer]

도전성 적층체는 제 2 기재층 및 제 2 도전성층을 추가로 포함할 수 있다. 이하, 구분을 위하여 전술한 기재층 및 도전성층을 각각 제 1 기재층 및 제 1 도전성층으로 호칭한다. 도 2는 본 출원의 제 2 실시예에 따른 도전성 적층체(2)의 구조를 예시적으로 나타낸다. 도 2 에 나타낸 바와 같이, 도전성 적층체(2)는 제 1 기재층(101); 상기 제 1 기재층(101)의 일면에 형성된 제 1 도전성층(201); 및 상기 제 1 기재층의 제 1 도전성층이 형성되어 있지 않은 면에 부착되어 있는 점착제층(30)을 포함한다. 또한, 상기 도전성 적층체(2)는 제 2 기재층(102) 및 제 2 기재층(102)의 일면에 형성되고 표면 단차(2021)를 가지는 제 2 도전성층(202)를 포함한다. 또한, 상기 제 1 기재층(101)의 제 1 도전성층이 형성되어 있지 않은 면과 상기 제 2 도전성층(202)의 단차를 가지는 표면은 상기 점착층(30)에 의하여 부착된 상태로 존재할 수 있다. The conductive laminate may further include a second base layer and a second conductive layer. Hereinafter, the base material layer and the conductive layer mentioned above are called a 1st base material layer and a 1st conductive layer, respectively, for classification. 2 exemplarily shows a structure of the conductive laminate 2 according to the second embodiment of the present application. As shown in FIG. 2, the conductive laminate 2 includes a first base layer 101; A first conductive layer 201 formed on one surface of the first base layer 101; And the pressure-sensitive adhesive layer 30 adhered to a surface on which the first conductive layer of the first base layer is not formed. In addition, the conductive laminate 2 includes a second substrate layer 102 and a second conductive layer 202 formed on one surface of the second substrate layer 102 and having a surface step 2021. In addition, the surface on which the first conductive layer of the first base layer 101 is not formed and the surface having the step difference between the second conductive layer 202 may be present in a state of being attached by the adhesive layer 30. have.

본 명세서에서 용어 「표면 단차」는 표면의 높이의 차이(도 2의 H로 도시)를 의미할 수 있다. 제 2 도전성층의 표면의 단차는 예를 들어, 후술하는 터치 패널에 사용되는 패턴 전극에 유래하는 것일 수 있다. 패턴 전극의 패턴 형상은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 메쉬 형상이거나 또는 단면이 다각형 또는 원형인 전극이 서로 이격되어 존재하는 형상일 수도 있다. 또한, 패턴 전극의 소재는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나 또는 이들의 합금일 수 있다. 다른 하나의 예시에서, 제 2 도전성층 표면의 단차는 예를 들어, 화면의 디자인성을 향상시키기 위해 인쇄된 인쇄 단차일 수도 있다. As used herein, the term "surface step" may mean a difference in height of the surface (illustrated by H in FIG. 2). The level difference of the surface of a 2nd electroconductive layer may be derived from the pattern electrode used for the touch panel mentioned later, for example. The pattern shape of the pattern electrode is not particularly limited and may be, for example, a mesh shape or a shape in which electrodes having a polygonal or circular cross section are spaced apart from each other. In addition, the material of a pattern electrode is not specifically limited, For example, any one of silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), chromium (Cr), nickel (Ni), and molybdenum (Mo) or these It may be an alloy of. In another example, the step on the surface of the second conductive layer may be a printed step, for example, to improve the design of the screen.

제 2 도전성층의 표면 단차의 두께는 특별히 제한되지 않고, 표면 단차를 유발하는 구성이 적용되는 용도에 따라 적절히 선택될 수 있으나, 통상적으로 약 1 um 내지 150 um 범위내일 수 있다. 점착제층의 두께 범위는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 15 um 내지 30 um 범위 내일 수 있다. 다른 하나의 예시에서, 점착제층의 두께는 예를 들어, 상기 표면 단차의 두께에 비하여 약 2um 이상 두꺼운 두께 범위를 가질 수 있다. 점착제층(30)의 두께가 상기 범위 내인 경우, 제 2 도전성층의 표면 단차 주변부(도 2의 A로 도시)에 기포를 발생을 효과적으로 감소시킬 수 있다.The thickness of the surface step of the second conductive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the application to which the configuration causing the surface step is applied, but may generally be in the range of about 1 um to 150 um. The thickness range of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but may be, for example, within a range of 15 um to 30 um. In another example, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer may have a thickness range of about 2 μm or more, for example, compared to the thickness of the surface step. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is in the above range, it is possible to effectively reduce the generation of bubbles in the peripheral portion (shown as A of FIG. 2) of the surface of the second conductive layer.

도전성 적층체는 전술한 기재층, 도전성층 및 점착제층을 기본 단위로 포함하고, 필요한 경우 도전성 적층체의 형성에 통상 적용되는 다른 요소, 예를 들면, 투명 시트층, 이형 필름층 또는 하드 코팅층 등을 추가로 포함할 수 있다. The conductive laminate includes the above-described base layer, the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer as basic units, and if necessary, other elements usually applied to the formation of the conductive laminate, for example, a transparent sheet layer, a release film layer, a hard coating layer, or the like. It may further include.

본 출원은, 또한 상기 도전성 적층체의 용도에 관한 것이다. 본 출원의 도전성 적층체는 예를 들어, 터치 패널의 구성으로 사용될 수 있다. 터치 패널은 상기 도전성 적층체를 예를 들면, 터치 패널용 전극판으로 포함할 수 있다. 또한, 전술한 패턴 전극은 터치 센서로서 기능할 수 있다. 상기 터치 패널은 상기 도전성 적층체를 포함하는 한, 정전용량 방식 또는 저항막 방식 등을 포함한 공지의 구조로 형성될 수 있다. 상기 도전성 적층체는, 터치 패널뿐만 아니라 액정 디스플레이 등의 다양한 장치의 형성 등에 사용할 수 있다.The present application also relates to the use of the conductive laminate. The conductive laminate of the present application can be used, for example, in the configuration of a touch panel. The touch panel may include the conductive laminate as, for example, an electrode plate for a touch panel. In addition, the pattern electrode described above can function as a touch sensor. As long as the touch panel includes the conductive laminate, the touch panel may be formed in a known structure including a capacitive type or a resistive film type. The conductive laminate can be used for forming not only a touch panel but also various devices such as a liquid crystal display.

본 출원의 도전성 적층체는 표면 단차를 가지는 기재에 부착되는 경우에도 단차부 주변의 기포 발생을 억제할 수 있으므로, 상기 도전성 적층체가 적용된 제품의 외관이나 성능을 유지할 수 있다. 이러한 도전성 적층체는 예를 들어, 터치 패널 등에 유용하게 사용될 수 있다.The conductive laminate of the present application can suppress the generation of bubbles around the stepped portion even when adhered to a substrate having a surface level, so that the appearance and performance of the product to which the conductive laminate is applied can be maintained. Such a conductive laminate can be usefully used, for example, in a touch panel.

도 1은 본 출원 제 1 실시예의 도전성 적층체의 모식도이다.
도 2는 본 출원 제 2 실시예의 도전성 적층체의 모식도이다.
1 is a schematic diagram of a conductive laminate of a first embodiment of the present application.
It is a schematic diagram of the electroconductive laminated body of 2nd Example of this application.

이하 본 출원에 따르는 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 보다 상세히 설명하나, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present application will be described in more detail with reference to examples according to the present application and comparative examples not according to the present application, but the scope of the present application is not limited to the examples given below.

이하 실시예 및 비교예에서의 물성은 하기의 방식으로 평가하였다.
The physical properties in the following Examples and Comparative Examples were evaluated in the following manner.

1. 분자량 측정1. Molecular weight measurement

중량평균분자량(Mw)는 GPC를 사용하여 이하의 조건으로 측정하였으며, 검량선의 제작에는 Agilent system의 표준 폴리스티렌을 사용하여 측정 결과를 환산하였다.The weight average molecular weight (Mw) was measured under the following conditions using GPC, and the measurement results were converted using standard polystyrene of Agilent system for the production of calibration curves.

<측정 조건><Measurement conditions>

측정기: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)Meter: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)

컬럼: PL Mixed B 2개 연결Column: Connect 2 PL Mixed B

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

용리액: THF(Tetrahydrofuran)Eluent: THF (Tetrahydrofuran)

유속: 1.0 mL/minFlow rate: 1.0 mL / min

농도: ~ 1 mg/mL (100μL injection)
Concentration: ~ 1 mg / mL (100 μL injection)

2. 손실 탄성률 평가2. Loss modulus evaluation

이형필름 사이에 실시예 및 비교예에서 제조된 점착제 조성물을 코팅한 후 15 cm × 25 cm의 크기로 재단하고, 편면의 이형 필름을 제거한 다음, 5번 적층시켜서, 두께를 약 1mm가 되도록 하였다. 이어서, 상기 적층체를 지름 8 mm의 원형으로 재단하고, 글래스(glass)를 이용하여, 압축한 다음, 밤새 방치하여, 각 층간의 계면에서의 웨팅(wetting)을 향상시켜, 적층시 생긴 기포를 제거하여 시료를 제조하였다. 이어서, 시료를 패러랠 플레이트(parallel plate) 위에 놓고, 갭(gap)을 조정한 후, Normal & Torque의 영점을 맞추고, Normal force의 안정화를 확인한 후, 손실 탄성률을 측정하였다.After coating the pressure-sensitive adhesive composition prepared in Examples and Comparative Examples between the release film and cut to a size of 15 cm × 25 cm, remove the release film on one side, and laminated five times, so that the thickness was about 1mm. Subsequently, the laminate was cut into a circle having a diameter of 8 mm, compressed using glass, and left overnight to improve wetting at the interface between the layers, thereby improving bubbles produced during lamination. The sample was prepared by removal. Subsequently, the sample was placed on a parallel plate, the gap was adjusted, the zero point of Normal & Torque was set, the stability of the normal force was confirmed, and then the loss modulus was measured.

측정 기기 및 측정 조건 Measuring instruments and measuring conditions

측정 기기: 강제 대류 오븐을 구비한 ARES-RDA, TA Instruments Inc. Measuring instrument: ARES-RDA with forced convection oven, TA Instruments Inc.

측정 조건: Measuring conditions:

geometry : 8 mm parallel plategeometry: 8 mm parallel plate

간격: 약 1 mmThickness: about 1 mm

test type : dynamic strain frequency sweeptest type: dynamic strain frequency sweep

변형(Strain) = 10.0 [%], 온도: 50 ℃Strain = 10.0 [%], temperature: 50 ° C

초기 주파수: 0.1 rad/s, 최종 주파수:1 rad/s
Initial frequency: 0.1 rad / s, Final frequency: 1 rad / s

3. 3. 단차Step 특성 평가 (1) Characteristic evaluation (1)

PET 필름(가로x세로 = 10cm x 10cm 두께: 50um) 상에 ITO층(가로x세로 = 10cm x 10cm 두께: 2nm)을 통상적인 방식으로 형성한 투명 도전성 적층체(두께: 약 50 um)를 약 150 ℃ 오븐에서 약 1시간 동안 열처리 한 후, 상기 열처리된 투명 전도성 적층체의 ITO층 상에 Ag paste (가로x세로=1cm x 10cm, 두께: 18um)를 도포한 후, 약 150 ℃ 오븐에서 약 30분 동안 열처리 하였다. 다음으로, 실시예 및 비교예에서 제조된 도전성 적층체의 점착층이 상기 투명 도전성 적층체의 Ag paste가 형성된 면에 접하도록 도포한 후, 광학 현미경을 통하여 단차 주변부에 기포를 관찰하였다. A transparent conductive laminate (thickness: about 50 um) in which an ITO layer (width x length = 10 cm x 10 cm thickness: 2 nm) was formed on a PET film (width x length = 10 cm x 10 cm thickness: 50 um) in a conventional manner was approximately. After annealing in an oven at 150 ° C. for about 1 hour, Ag paste (width × vertical = 1 cm x 10 cm, thickness: 18 μm) was applied onto the ITO layer of the heat-treated transparent conductive laminate, and then in an oven at about 150 ° C. Heat treatment for 30 minutes. Next, after applying the adhesive layer of the conductive laminates prepared in Examples and Comparative Examples to contact the surface on which the Ag paste of the transparent conductive laminate is formed, bubbles were observed in the periphery of the step through an optical microscope.

O: 육안에 의해 기포가 확인되지 않음.O: Bubbles are not confirmed by the naked eye.

△: 미세한 기포가 육안으로 관찰됨Δ: fine bubbles are visually observed

X: 큰 기포가 육안으로 관찰됨
X: Large bubbles observed with the naked eye

4. 4. 단차Step 특성 평가 (2) Characteristic evaluation (2)

단차 특성 평가 (1)의 시편을 50℃에서 30분 동안 6kgf/cm2 조건에서 오토클레이브 처리한 후, 광학 현미경을 통하여 단차 주변부에 기포를 관찰하였다.6 kgf / cm 2 of the specimen of step characteristic evaluation (1) for 30 minutes at 50 ℃ After autoclave-processing on conditions, the bubble was observed in the periphery of a step | step through an optical microscope.

O: 육안에 의해 기포가 확인되지 않음.O: Bubbles are not confirmed by the naked eye.

△: 미세한 기포가 육안으로 관찰됨Δ: fine bubbles are visually observed

X: 큰 기포가 육안으로 관찰됨
X: Large bubbles observed with the naked eye

제조예Production Example 1. 점착성 중합체(A1)의 제조 1. Preparation of Adhesive Polymer (A1)

내부에 질소가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 2-에틸헥실 아크릴레이트(EHA) 80 중량부, 메틸 아크릴레이트(MA) 10 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트(HEA) 10 중량부를 투입하였다. 이어서, 에틸아세테이트(EAc) 100 중량부를 용제로 투입하고, 산소 제거를 위하여 질소 가스를 60분 동안 퍼지(purging)한 후, 온도를 60℃로 유지한 상태에서 반응 개시제인 아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.06 중량부를 투입하여 반응을 개시시켰다. 이 후, 약 5시간 반응을 시킨 반응물을 에틸아세테이트(EAc)로 희석하여 점착성 중합체(A1)를 제조하였다.
80 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (EHA), 10 parts by weight of methyl acrylate (MA), and 2-hydroxyethyl acryl in a 1L reactor equipped with a refrigeration system under nitrogen gas reflux and a cooling device for easy temperature control. 10 parts by weight of HEA was added. Subsequently, 100 parts by weight of ethyl acetate (EAc) was added as a solvent, purged with nitrogen gas for 60 minutes to remove oxygen, and then azobisisobutyronitrile as a reaction initiator while maintaining the temperature at 60 ° C. 0.06 parts by weight of (AIBN) was added to initiate the reaction. Thereafter, the reaction product reacted for about 5 hours was diluted with ethyl acetate (EAc) to prepare a tacky polymer (A1).

제조예Production Example 2 내지  2 to 제조예Production Example 5. 점착성 중합체(A2 내지 A3 및 B1 내지 B2)의 제조 5. Preparation of Sticky Polymers (A2 to A3 and B1 to B2)

제조예 1에서 점착성 중합체(A1) 중합 시에 사용된 원료 및 첨가제 등의 종류를 하기 표 1과 같이 조절한 것을 제외하고는 제조예 1의 경우와 동일하게 점착성 중합체(A2 내지 A3 및 B1 내지 B2)를 제조하였다.Adhesive polymers (A2 to A3 and B1 to B2) were prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the types of raw materials and additives used in the polymerization of the adhesive polymer (A1) in Preparation Example 1 were adjusted as shown in Table 1 below. ) Was prepared.


원료Raw material EA
EA
V-65
V-65
EHAEHA MAMA BABA IBOAIBOA HEAHEA
점착 성
중합체

Sticky
polymer
A1A1 8080 1010 -- -- 1010 100100 0.20.2
A2A2 9090 -- -- -- 1010 100100 0.150.15 A3A3 9090 -- -- -- 1010 100100 0.20.2 B1B1 5050 4040 -- -- 1010 100100 0.060.06 B2B2 -- -- 5555 3030 1515 100100 0.060.06 함량 단위:g
BA: n-butyl acrylate
IBOA: isobornyl acrylate
MA: (meth)acrylate
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
EHA : 2-ethylhexyl acrylate
EA: ethyl acetate
V-65: 2,2'-azobis(2,4-dimethyl valeronitrile)
Content Unit: g
BA: n-butyl acrylate
IBOA: isobornyl acrylate
MA: (meth) acrylate
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
EHA: 2-ethylhexyl acrylate
EA: ethyl acetate
V-65: 2,2'-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile)

실시예Example 1 One

점착제 조성물의 제조Preparation of pressure-sensitive adhesive composition

제조예 1에서 제조된 점착성 중합체(A1) 고형분 100 중량부에 대하여 가교제로서 크실렌 디이소시아네이트인 "Takenate D110N" ((주)미쯔이 화학) 0.25 중량부로 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조하였다.
The pressure-sensitive adhesive composition was prepared by uniformly mixing 0.25 parts by weight of "Takenate D110N" (Mitsui Chemical Co., Ltd.), which is xylene diisocyanate, as a crosslinking agent with respect to 100 parts by weight of the adhesive polymer (A1) solids prepared in Preparation Example 1.

도전성 Conductivity 적층체의Laminate 제조 Produce

PET 필름의 일면에 실리콘으로 이형 처리한 후, 그 위에 상기 제조된 점착제 조성물을 두께가 약 25㎛ 정도가 되도록 코팅 및 경화하여 점착제층을 형성하였다. 그 후, 상기 점착제층을 통상적인 방식으로 일면에 ITO층을 형성한 PET 필름(두께: 약 25㎛)의 반대면에 전사하고, 상기 이형 처리된 PET 필름을 박리하여 도전성 적층체를 제조하였다.
After release treatment with silicone on one surface of the PET film, the pressure-sensitive adhesive layer was formed by coating and curing the prepared pressure-sensitive adhesive composition to have a thickness of about 25 μm. Thereafter, the pressure-sensitive adhesive layer was transferred to an opposite surface of a PET film (thickness: about 25 μm) having an ITO layer formed on one surface in a conventional manner, and the release-treated PET film was peeled off to prepare a conductive laminate.

실시예Example 2 2

실시예 1의 점착제 조성물에 포함된 점착성 중합체를 A2로 투입한 것을 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 점착 필름을 제조하였다.
An adhesive composition and an adhesive film were prepared in the same manner as in Example 1 that the adhesive polymer included in the adhesive composition of Example 1 was added as A2.

실시예Example 3 3

실시예 1의 점착제 조성물에 포함된 점착성 중합체를 A3으로 투입한 것을 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 점착 필름을 제조하였다.
An adhesive composition and an adhesive film were prepared in the same manner as in Example 1 that the adhesive polymer included in the adhesive composition of Example 1 was added to A3.

비교예Comparative example 1 One

실시예 1의 점착제 조성물에 포함된 점착성 중합체를 B1로 투입한 것을 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 점착 필름을 제조하였다.
An adhesive composition and an adhesive film were prepared in the same manner as in Example 1 that the adhesive polymer included in the adhesive composition of Example 1 was added to B1.

비교예Comparative example 2 2

실시예 1의 점착제 조성물에 포함된 점착성 중합체를 B2로 투입한 것을 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 점착 필름을 제조하였다.
An adhesive composition and an adhesive film were prepared in the same manner as in Example 1 that the adhesive polymer included in the adhesive composition of Example 1 was added to B2.

상기 각 실시예 및 비교예에 대하여 측정한 물성 및 평가 결과는 하기 표 2에 나타난 바와 같다.Physical properties and evaluation results measured for the above Examples and Comparative Examples are as shown in Table 2 below.

구분division 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 1One 22 분자량(단위:만)Molecular weight (unit: only) 5656 4242 7474 110110 120120 저장 탄성률 (×104)
(단위: pa)
Storage modulus (× 10 4 )
(Unit: pa)
0.90.9 0.50.5 0.60.6 7.77.7 8.88.8
단차 평가(1)Step evaluation (1) XX XX 단차 평가(2)Step evaluation (2) X X XX

상기 표 2로부터 확인되는 바와 같이, 본 출원의 도전성 적층체의 경우, 특정 범위 내의 저장 탄성률을 가짐으로써, 단차 주변부의 기포 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.
As confirmed from Table 2, in the case of the conductive laminate of the present application, by having a storage elastic modulus within a specific range, it is possible to effectively suppress the generation of bubbles at the stepped periphery.

101 및 102: 제 1 및 제 2 기재층
201 및 202: 제 2 및 제 2 도전성층
2021: 단차
30: 점착제층
H: 단차 두께
A: 단차 주변부
101 and 102: first and second substrate layers
201 and 202: second and second conductive layers
2021: step
30: adhesive layer
H: step thickness
A: step periphery

Claims (21)

제 1 기재층;
상기 제 1 기재층의 일면에 형성된 제 1 도전성층;
상기 제 1 기재층의 제 1 도전성층이 형성되어 있지 않은 면에 부착되어 있고, 50℃온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 손실 탄성률이 0.50 x 104 Pa 이하인 점착제층;
제 2 기재층;
제 2 기재층의 일면에 형성되고 표면 단차를 가지는 제 2 도전성층을 포함하고,
상기 제 1 기재층의 제 1 도전성층이 형성되어 있지 않은 면과 상기 제 2 도전성층의 단차를 가지는 표면은 상기 점착제층에 의하여 부착된 상태로 존재하며, 상기 제 2 도전성층의 표면 단차는 제 2 도전성층의 표면에 형성된 패턴 전극에 유래하고,
상기 제 1 도전성층과 제 2 도전성층의 두께는 각각 10nm 내지 300nm의 범위 내이며, 상기 표면 단차의 두께는 1 um 내지 150 um의 범위 내이고,
상기 점착제층은 점착성 중합체를 가교된 상태로 포함하며, 상기 점착성 중합체는 탄소수 5 이상의 알킬기를 가지는 제 1 단량체 중합 단위 및 가교성 단량체 중합 단위를 포함하고, 상기 제 1 단량체 중합 단위는 점착성 중합체 100 중량부 대비 70 중량부 이상의 비율로 포함되는 도전성 적층체.
A first base layer;
A first conductive layer formed on one surface of the first base layer;
An adhesive layer attached to a surface on which the first conductive layer of the first base layer is not formed, and having a loss modulus of 0.50 x 10 4 Pa or less at a temperature of 50 ° C. and a frequency of 1 rad / sec;
Second substrate layer;
A second conductive layer formed on one surface of the second substrate layer and having a surface level difference,
The surface on which the first conductive layer of the first base layer is not formed and the surface having the step difference between the second conductive layer are present in a state of being attached by the pressure-sensitive adhesive layer, and the surface level of the second conductive layer is 2 derived from the pattern electrode formed on the surface of the conductive layer,
The thickness of the first conductive layer and the second conductive layer is in the range of 10nm to 300nm, respectively, the thickness of the surface step is in the range of 1um to 150um,
The pressure-sensitive adhesive layer includes an adhesive polymer in a crosslinked state, the adhesive polymer includes a first monomer polymerization unit and a crosslinkable monomer polymerization unit having an alkyl group having 5 or more carbon atoms, and the first monomer polymerization unit is 100 weight of the adhesive polymer. Electroconductive laminated body contained in the ratio of 70 weight part or more with respect to parts.
제 1 항에 있어서,
제 1 기재층은 유리 기판, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리스티렌 필름 및 폴리올레핀 필름으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The first base layer is at least one conductive laminate selected from the group consisting of a glass substrate, a polyester film, a polyamide film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film, and a polyolefin film.
제 1 항에 있어서,
제 1 도전성층은 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 카드뮴 또는 요오드화 구리를 포함하는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The first conductive layer comprises gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin, indium oxide, tin oxide, titanium oxide, cadmium oxide or copper iodide.
제 1 항에 있어서,
제 1 도전성층은 앵커층 또는 유전체층을 매개로 제 1 또는 제 2 기재층의 일면에 형성되어 있는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The first conductive layer is a conductive laminate formed on one surface of the first or second substrate layer via an anchor layer or a dielectric layer.
제 1 항에 있어서,
점착제층은 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 손실 탄성률이 0.1 x 104 Pa 이상인 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The pressure-sensitive adhesive layer is a conductive laminate having a loss modulus of 0.1 × 10 4 Pa or more at a temperature of 50 ° C. and a frequency of 1 rad / sec.
제 1 항에 있어서,
점착제층은 50℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 저장 탄성률이 1.0 x 10 4 Pa 이하인 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The pressure-sensitive adhesive layer is a conductive laminate having a storage modulus at a temperature of 50 ° C. and a frequency of 1 rad / sec of 1.0 × 10 4 Pa or less.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
점착성 중합체는 중량평균분자량이 30만 내지 100만 범위 내인 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The adhesive polymer has a weight average molecular weight in the range of 300,000 to 1 million, conductive laminate.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
제 1 단량체는 탄소수 5 이상의 분지쇄 또는 직쇄 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트인 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The first monomer is an alkyl (meth) acrylate having a branched or straight chain alkyl group having 5 or more carbon atoms.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
가교성 단량체는 점착성 중합체 100 중량부 대비 1 중량부 내지 30 중량부 비율로 포함되는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The crosslinkable monomer is a conductive laminate comprising 1 to 30 parts by weight relative to 100 parts by weight of the adhesive polymer.
제 1 항에 있어서,
점착성 중합체는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 가지는 제 2 단량체 중합단위를 추가로 포함하는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The adhesive polymer further comprises a second monomer polymerization unit having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
제 13 항에 있어서,
제 2 단량체는 탄소수 1 내지 4의 분지쇄 또는 직쇄 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트인 도전성 적층체.
The method of claim 13,
The second monomer is an alkyl (meth) acrylate having a branched or straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
제 13 항에 있어서,
제 2 단량체는 점착성 중합체 100 중량부 대비 1 중량부 내지 30 중량부 비율로 포함되는 도전성 적층체.
The method of claim 13,
The second monomer is a conductive laminate comprising 1 to 30 parts by weight relative to 100 parts by weight of the adhesive polymer.
제 1 항에 있어서,
점착제층은 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부의 가교제를 추가로 포함하는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The adhesive layer further comprises 0.01 to 10 parts by weight of a crosslinking agent based on 100 parts by weight of the adhesive polymer.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
패턴 전극은 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나 또는 이들의 합금을 포함하는 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The pattern electrode includes any one of silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), chromium (Cr), nickel (Ni), molybdenum (Mo), or an alloy thereof.
제 1 항에 있어서,
점착제층의 두께는 표면 단차의 두께 대비 2 um 이상 두꺼운 도전성 적층체.
The method of claim 1,
The thickness of an adhesive layer is 2 micrometers or more thick electroconductive laminate compared with the thickness of a surface level | step difference.
제 1 항의 도전성 적층체를 포함하는 터치 패널. A touch panel comprising the conductive laminate of claim 1.
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