KR102039996B1 - 중이온빔 조사에 의한 TiO2 SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법 및 이를 이용하여 제조된 적층체 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 중이온빔 조사에 의한 코팅 표면개질 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 모재를 준비하는 단계; 모재의 표면에 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 포함하는 코팅재를 코팅하는 단계; 및 코팅된 모재 표면을 중이온빔 조사장치로부터 발생하는 중이온빔에 노출하는 단계; 및 상기 중이온빔을 조사한 코팅모재의 표면에 제2코팅재를 코팅하는 단계를 포함하며, 중이온빔의 에너지의 크기는 1 MeV 이상인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법에 관한 것이다.
본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법을 이용하면 코팅의 고온에서의 열응력, 부식저항성 및 접합성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법을 이용하면 코팅의 고온에서의 열응력, 부식저항성 및 접합성을 향상시킬 수 있다.
Description
본 발명은 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법 및 이를 이용하여 제조된 적층체에 관한 것으로, 보다 바람직하게는 모재를 준비하는 단계; 모재의 표면에 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 포함하는 코팅재를 코팅하는 단계; 및 코팅된 모재 표면을 중이온빔 조사장치로부터 발생하는 중이온빔에 노출하는 단계;를 포함하며, 중이온빔의 에너지의 크기는 1 MeV 이상인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법에 관한 것이다.
원자로 구조물 및 계통 표면에 보호피막을 형성하여 재료 열화를 방지하려는 기술로서 산화 피막(Pre oxidation) 기술, Pt/TiO2 도포 기술, 세라믹 화학기상증착(CVD), 플라즈마 스프레이(Plasma spray)기술 등이 시도되었으나, 기지금속과의 접착력이 미흡하여 큰 진전이 없었다.
이온 빔 조사(Ion beam mixing)를 통한 세라믹 코팅 접합성 향상 기술은 이온 빔을 활용하여 코팅 물질과 금속모재 소재가 혼합된 균질한 중간 피막층을 형성하여 코팅의 접합성을 향상하는 기술이다. 이 기술을 활용하면 열팽창에 의한 코팅 균열 및 부식 저항성을 향상시킬 수 있을 것으로 기대되었다.
그러나, 종래 기술은 50 내지 500 keV의 이온빔을 조사하여 이온빔 믹싱을 유도하였으나, 이 경우 큰 믹싱 효과를 얻기에는 어려웠다.
이에 본 발명자들은 이러한 종래기술의 문제점을 해결하고자 신개념 졸겔 TiO2 코팅 및 유무기계 혼성(hybrid) TiO2-SiO2 코팅 소재 기술과 이온빔 조사를 통한 이온 믹싱 표면개질 기술을 융합하는 기술을 개발하여, 원전 표면의 부식 열화방지가 기대되는 본 발명에 이르렀다.
본 발명의 목적은 고온에서의 열응력, 부식 저항성 및 코팅 접합성이 향상된 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 이러한 적층체를 보다 효과적으로 제조할 수 있는 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅 표면개질 방법은 모재를 준비하는 단계; 모재의 표면에 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 포함하는 코팅재를 코팅하는 단계; 및 코팅된 모재 표면을 중이온빔 조사장치로부터 발생하는 중이온빔에 노출하는 단계;를 포함하며, 중이온빔의 에너지의 크기는 500KeV 이상, 바람직하게는 1 MeV 이상, 보다 바람직하게는 2 내지 40 MeV 일 수 있다.
중이온빔 조사장치에 사용되는 원소는 철(Fe), 아이오딘(I), 텅스텐(W), 구리(Cu), 실리콘(Si), 아르곤(Ar), 금(Au), 알루미늄(Al), 티탄(Ti) 및 이들을 하나 이상 혼합한 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
중이온빔의 주입량은 50uC 내지 10,000uC일 수 있으며, 중이온빔 조사장치에 인가되는 전류는 0.01 μA 내지 1 μA일 수 있으며, 중이온빔의 노출시간은 1분 내지 2시간인 것일 수 있다.
중이온빔에 노출하는 단계는 1회 또는 2회 이상 수행할 수 있으며, 중이온빔에 노출하는 단계를 2회 이상 수행하는 경우, 코팅된 모재 표면을 중이온빔에 노출하는 단계 이후에 중이온빔을 조사한 코팅된 모재 표면에 제2코팅재를 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다.
제2코팅재는 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액일 수 있다.
모재는 304 스테인레스강, Alloy 800H, Alloy 690, Hastelloy X, Hayness230, Hayness556, CX2002U, Alloy X750, Alloy 718, Sanicro28 및 이들의 복합재료에서 선택되는 어느 하나의 금속일 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 바람직한 일 실시예에 따르면, 금속모재; 금속모재의 금속 성분과 TiO2 성분 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 성분을 포함하는 혼합계면층; 및 혼합계면층 상에 적층되어 있는 TiO2 코팅층 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅층;을 포함하는 적층체를 제공할 수 있다.
혼합계면층은 철(Fe), 아이오딘(I), 텅스텐(W), 구리(Cu), 실리콘(Si), 아르곤(Ar), 금(Au), 알루미늄(Al), 티탄(Ti), 산소(O) 및 이들이 하나 이상 혼합된 원소군에서 선택되는 어느 하나의 원소가 존재하고, 1 내지 200 nm의 두께를 가지는 것일 수 있다.
본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법을 이용하면 코팅의 고온에서의 열응력, 부식저항성 및 접합성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법에 대한 순서도이다.
도 2는 본 발명의 중이온빔 조사장치의 사진이다.
도 3은 본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질의 결과를 해석하기 위한 SRIM(Stopping and Range of Ions in Materials) 프로그램이다.
도 4는 본 발명의 실험예 1에서와 같이 실시예 7의 적층체에 대하여 철 기지 위에 형성된 100nm 혼합계면층 경계 내외에 형성된 표면에서부터의 거리에 따른 Fe, O, Ti 원소의 함유 분포도를 나타낸 그래프이다.
도 5는 본 발명의 실험예 2에서와 같이 실시예 1 내지 3의 표면사진이다.
도 6은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 7의 중이온빔 조사 전후 코팅 표면의 균일도를 확인한 사진(100배 확대) 결과이다.
도 7은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 1의 중이온빔 조사 전후 코팅 표면의 균일도를 확인한 사진(100배 확대) 결과이다.
도 8은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 1 내지 3의 중이온빔 조사 및 2차 코팅 후 코팅계면의 표면 균일도를 SEM으로 관찰한 사진(100배 내지 5,000배 확대) 및 코팅 두께를 SEM으로 관찰한 사진(6,500배 내지 100,000배 확대)이다.
도 2는 본 발명의 중이온빔 조사장치의 사진이다.
도 3은 본 발명의 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질의 결과를 해석하기 위한 SRIM(Stopping and Range of Ions in Materials) 프로그램이다.
도 4는 본 발명의 실험예 1에서와 같이 실시예 7의 적층체에 대하여 철 기지 위에 형성된 100nm 혼합계면층 경계 내외에 형성된 표면에서부터의 거리에 따른 Fe, O, Ti 원소의 함유 분포도를 나타낸 그래프이다.
도 5는 본 발명의 실험예 2에서와 같이 실시예 1 내지 3의 표면사진이다.
도 6은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 7의 중이온빔 조사 전후 코팅 표면의 균일도를 확인한 사진(100배 확대) 결과이다.
도 7은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 1의 중이온빔 조사 전후 코팅 표면의 균일도를 확인한 사진(100배 확대) 결과이다.
도 8은 본 발명의 실험예 3에서와 같이 실시예 1 내지 3의 중이온빔 조사 및 2차 코팅 후 코팅계면의 표면 균일도를 SEM으로 관찰한 사진(100배 내지 5,000배 확대) 및 코팅 두께를 SEM으로 관찰한 사진(6,500배 내지 100,000배 확대)이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 본 발명의 기술범위가 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명에서 '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1의 모식도와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법은 모재(10)를 준비하는 단계; (a) 모재(10)의 표면에 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 포함하는 코팅재를 코팅(20)하는 단계; 및 (b) 코팅된 모재(10, 20) 표면을 중이온빔 조사장치로부터 발생하는 중이온빔(31)에 노출하는 단계;를 포함하며, 중이온빔의 에너지의 크기는 500 KeV이상, 바람직하게는 1 MeV 이상, 보다 바람직하게는 2 내지 40 MeV 일 수 있다.
코팅재(20)는 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 사용하는 것일 수 있다.
도 1의 (a)단계에 해당하는 졸 용액을 이용한 코팅단계는 통상적으로 사용되는 졸-겔 법을 이용한 코팅방법은 어느 것이나 사용할 수 있으며, 코팅조건 또한 모재(10)와 코팅재(20)의 종류에 따라 통상적인 코팅조건을 활용하는 것일 수 있다.
도 1의 (b)단계에 해당되는 중이온빔(31) 제공을 위한 중이온빔 조사장치에 사용되는 원소는 철(Fe), 아이오딘(I), 텅스텐(W), 구리(Cu), 실리콘(Si), 아르곤(Ar), 금(Au), 알루미늄(Al), 티탄(Ti), 아르곤(Ar) 및 이들을 하나 이상 혼합한 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
중이온빔(31)의 주입량은 50uC 내지 10,000uC이며, 중이온빔 조사장치에 인가되는 전류는 0.01 μA 내지 1 μA이며, 중이온빔의 노출시간은 1분 내지 2시간인 것일 수 있다. 본 발명의 바람직한 중이온빔 주입량이나 중이온빔 조사장치에 인가되는 전류범위 및 중이온빔 노출시간 범위를 벗어날 경우, 효과적인 이온빔 믹싱이 발생하지 않는 문제가 발생할 수 있다.
또한, 도 1의 (b) 중이온빔(31)에 노출하는 단계는 1회 또는 2회 이상 수행할 수 있으며, 중이온빔(31)에 노출하는 단계를 2회 이상 수행하는 경우, (b) 코팅된 모재(10, 30) 표면을 중이온빔(31)에 노출하는 단계 이후에 (c) 중이온빔을 조사한 코팅된 모재(10, 30) 표면에 제2코팅재(40)를 코팅하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
제2코팅재(40)는 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액일 수 있다. 따라서, 코팅재(10)를 코팅하고 중이온빔(31)에 노출한 뒤 제2코팅(40)을 수행하는 단계를 통해 제1코팅-제2코팅으로 TiO2 코팅-TiO2 코팅, TiO2 코팅-TiO2-SiO2 코팅, 금속모재와 TiO2 하이브리드 코팅-TiO2 코팅, 금속모재와 TiO2 하이브리드 코팅-TiO2-SiO2 코팅, TiO2-SiO2 코팅-TiO2 코팅, TiO2-SiO2 코-TiO2-SiO2 코팅, 금속모재와 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅-TiO2 코팅, 금속모재와 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅-TiO2-SiO2 코팅이 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 TiO2-SiO2 코팅-TiO2 코팅, TiO2-SiO2 코팅-TiO2-SiO2 코팅, 금속모재와 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅-TiO2 코팅 또는 금속모재와 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅-TiO2-SiO2 코팅이 형성될 수 있다.
모재(10)는 304 스테인레스강, Alloy 800H, Alloy 690, Hastelloy X, Hayness230, Hayness556, CX2002U, Alloy X750, Alloy 718, Sanicro28 및 이들의 복합재료에서 선택되는 어느 하나의 금속일 수 있다.
코팅재(20) 또는 제2코팅재(40)로 사용되는 TiO2 졸 용액 또는 TiO2??SiO2 하이브리드 졸 용액은 티타늄 알콕사이드, 실리콘 알콕사이드, 산 또는 염기 촉매 및 용매를 포함하는 것일 수 있다.
티타늄 알콕사이드는 티타늄 이소프로폭사이드(TIP, Titanium isopropoxide), 티타늄 테트라에톡사이드(TTE, Titanium tetraethoxide), 티타늄 테트라이소프로폭사이드(TTIP, Titanium tetraisopropoxide), 티타늄 테트라부톡사이드(TTB, Titanium tetrabutoxide), 테트라부틸오르쏘티타네이트(TBOT, Tetrabutyl orthotitanate) 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나이고, 보다 바람직하게 티타늄 알콕사이드는 TBOT를 사용하는 것일 수 있다.
실리콘 알콕사이드는 테트라메틸오르쏘실리케이트(TMOS, tetramethylorthosilicate), 테트라에틸오르쏘실리케이트(TEOS, tetraethylorthosilicate), 테트라프로필오르쏘실리케이트(TPOS, tetrapropylorthosilicate), 테트라노말부틸오르쏘실리케이트(TBOS, tetr-n-butylorthosilicate), 감마-메타크릴옥시 프로필트리메톡시실란(MAPTS, γ-methacryloxy propyltrimethoxysilane) 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나이며, 보다 바람직하게 실리콘 알콕사이드는 MAPTS를 사용하는 것일 수 있다.
유무기 혼성(TiO2-SiO2 하이브리드) 졸 용액은 티타늄 알콕사이드 1몰에 대하여 실리콘 알콕사이드를 0.40몰 이상 포함하는 것일 수 있다. 바람직하게는 티타늄 알콕사이드 1몰에 대하여 실리콘 알콕사이드를 0.40몰 내지 13.5몰 포함할 수 있으며, 보다 더 바람직하게는 티타늄 알콕사이드 1몰에 대하여 실리콘 알콕사이드를 8몰 내지 13.5몰 포함하는 것일 수 있다. 티타늄 알콕사이드 1몰에 대하여 실리콘 알콕사이드를 0.40몰 미만 포함할 경우, TBOT-MAPTS 망목구조 형성에 의한 코팅의 균일성 및 접합성 효과가 약화될 수 있다.
용매는 C1-10의 알코올, 물 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나이다. 보다 바람직하게 용매는 에탄올, 메탄올, 프로판올, 부탄올, 물 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 용매는 티타늄 알콕사이드에 포함된 티타늄 1몰당 1 내지 20 몰, 보다 바람직하게는 티타늄 1몰당 13 내지 18 몰로 포함될 수 있다. 용매가 티타늄 1몰당 1몰 미만으로 포함될 경우에는 안정적으로 용액화되지 않을 수 있으며, 티타늄 1몰당 20몰을 초과하여 포함될 경우에는 용액의 밀도가 낮아져 졸 용액을 구성하는 입자가 안정적으로 분산하는데 필요한 촉매량이 부족할 수 있다.
산촉매는 염산(HCl), 아세트산 및 이들이 하나 이상 포함된 혼합산을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 티타늄 알콕사이드를 구성하는 티타늄 1몰당 산촉매를 0.1 내지 2 몰 포함하며, 졸 용액의 산도는 pH 2 내지 6일 수 있다. 산촉매를 티타늄 1몰당 0.1 몰 미만으로 포함하거나, 졸 용액의 pH가 6을 초과할 경우에는 촉매량 부족으로 졸 용액이 원활하게 구성되지 않을 수 있다. 또한 산촉매를 티타늄 1몰당 2 몰을 초과하여 포함시키거나, 졸 용액의 pH가 2 미만일 경우에는 급격한 겔화 반응이 진행되어 졸 용액이 안정적으로 유지되지 않는 문제가 발생할 수 있다.
염기 촉매는 에탄올아민(Ethanolamine, ETA)을 포함할 수 있으며, 티타늄 알콕사이드 1몰당 염기 촉매를 1x10-6 내지 2x10-6 몰 포함하는 것일 수 있다. 염기 촉매를 티타늄 알콕사이드 1몰당 1x10-6 몰 미만으로 포함할 경우, 촉매량 부족으로 Ti 미립자 또는 Ti-Si 하이브리드 미립자의 형성속도가 매우 느려져 코팅을 위한 졸 용액이 효과적으로 형성되지 않을 수 있으며, 염기 촉매를 티타늄 알콕사이드 1몰당 2x10-6 몰을 초과하여 포함시킬 경우 급격한 겔화 반응이 진행되어 졸 용액이 안정적으로 유지되지 않는 문제가 발생할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 바람직한 일 실시예에 따르면, 도 1의 (c)에 도시된 바와 같이 금속모재(10); 금속모재의 금속 성분과 TiO2 성분 또는 금속모재의 금속 성분과 TiO2-SiO2 하이브리드 성분을 포함하는 혼합계면층(30); 및 혼합계면층(30) 상에 적층되어 있는 TiO2 코팅층(40) 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅층(40);을 포함하는 적층체를 제공할 수 있다.
혼합계면층(30)은 철(Fe), 아이오딘(I), 텅스텐(W), 구리(Cu), 실리콘(Si), 아르곤(Ar), 금(Au), 알루미늄(Al), 티탄(Ti), 산소(O) 및 이들이 하나 이상 혼합된 원소군에서 선택되는 어느 하나의 원소가 존재하고, 1 내지 200 nm의 두께, 바람직하게는 1 내지 100 nm의 두께, 보다 더 바람직하게는 1 내지 50 nm의 두께를 가지는 것일 수 있다.
또한, 혼합계면층(30) 상에 적층되어 있는 코팅층(40)은 코팅의 경계부가 균일하게 접합된 계면을 형성하고, 균열없는 단일한 코팅층을 포함할 수 있다. 그리고 이온빔 믹싱을 수행하지 않은 코팅층에 비해 혼합계면층 및 코팅층을 포함하는 적층체는 코팅이 균일하며 두께가 증가하는 효과를 가진다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
[실시예 1]
에탄올 100 ml에 티타늄 알콕사이드(Ti-alkoxide)인 TBOT(tetrabutyl orthotitanate, 분자량:340.32 g/mol, Aldrich사 제공) 2.86 ml와 TBOT 내에 포함된 Ti 1몰에 대하여 Si이 1몰 포함되도록 실리콘 알콕사이드 MAPTS(γ-methacryloxy propyltrimethoxysilane, 분자량:240.32 g/mol, Aldrich)를 첨가하여 제1혼합용액을 제조하였다.
여기에 아세트산과 에틸아세토아세테이트(Ethyl Acetoacetate, EAcAc, 분자량: 130.14 g/mol, Aldrich사 제공)를 TBOT:아세트산:EAcAc의 몰비가 1:0.5:0.65 만큼 포함하는 제2혼합용액을 제조하여, 제1혼합용액에 한 방울씩 30분에 걸쳐 천천히 점적한 뒤 2시간 동안 교반하여 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 제조하였다.
304 스테인레스 강 기지금속을 모재로 준비하여, TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 1차 딥코팅시켜 하이브리드 코팅 시편을 제조하였다. 모재는 1.0 ㎛ 알루미나(Al2O3) 분말을 사용하여 입도 #100 내지 #2000으로 정밀연마하고, 연마 후 잔류불순물을 제거하기 위해 아세톤 용액에서 30분간 초음파 세척하여 전처리하였다. 딥코팅의 하강-상승속도는 3.36 mm/sec로 하였다. 모재를 15분간 용액에 침지(dipping)시킨 후, 상승시켜 코팅한 후, 50 ℃에서 15분간 건조시켰다. 이러한 과정을 3회 반복한 후 코팅 모재 시편을 200 ℃에서 1시간동안 열처리하였다.
제조된 코팅 모재 시편을 도 2의 중이온 조사 설비(Tendem)에 장착하고, 2 MeV Si2+ 이온빔을 0.5 uA, 1시간 동안 조사하여, 총 7,000 uC이 조사되었다.
이온빔 믹싱이 완료된 코팅 모재 시편에 1차 딥코팅에 사용한 것과 동일한 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 딥코팅시켜 적층체 시편을 제조하였다.
[실시예 2 내지 3]
실시예 1의 조건에서 중이온빔을 각각 0.05 uA, 1시간 동안 조사하여, 총 700 uC을 조사(실시예 2)하고, 0.05 uA, 6분 동안 조사하여, 총 70 uC을 조사(실시예 3)하는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체 시편을 제조하였다.
[실시예 4 내지 6]
실시예 1 내지 3의 조건에서 TBOT 내에 포함된 Ti 1몰에 대하여 Si이 4몰 포함되도록 MAPTS를 첨가한 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 사용하는 점을 제외하고는 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 적층체 시편을 제조하였다.
[실시예 7]
실시예 1의 조건에서 MAPTS를 포함하지 않는 TiO2 졸 용액을 제조하는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체 시편을 제조하였다.
[비교예 1]
실시예 1의 조건에서 500 keV 이온빔을 조사하는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체 시편을 제조하였다.
[실험예 1] SRIM 조사 해석
도 3은 중이온빔 조사에 의한 코팅 표면개질의 결과를 해석하기 위한 SRIM(Stopping and Range of Ions in Materials) 프로그램에 관한 것이고, 도 4는 이러한 SRIM 조사 분석 프로그램을 사용하여 실시예 7의 적층체 시편의 깊이에 따른 (a) 철(Fe), (b) 산소(O) 및 (c) 티타늄(Ti) 이온 분포 결과를 분석한 결과 그래프이다.
도 4의 (a) 내지 (c)에서 도시한 바와 같이, 실시예 7의 적층체에 대하여 표면에서부터의 거리에 따른 Fe, O, Ti 원소의 함유 분포도를 분석한 결과, 철 기지 위에 형성된 100nm 두께의 TiO2 코팅에서 코팅층 경계를 기준으로 시편의 깊이 10 nm 구간에서 Fe, O, Ti 등의 원소가 서로 혼합되는 구간이 존재하는 것을 확인할 수 있었다. 따라서, 이러한 SRIM 분석을 통해 중이온빔 조사에 따른 금속 모재와 산화 코팅막의 경계가 서로 믹싱된 혼합계면층이 형성된 것을 알 수 있었다.
[실험예 2] 중이온빔 조사 후 표면 분석(색상)
도 5는 본 발명의 실시예 1 내지 3(Test 1 내지 3)의 중이온빔 조사 이후 표면을 관찰한 사진이다.
실시예 3에 비해 실시예 2의 중이온빔 조사량이 10배 증가하였고, 실시예 1은 실시예 2에 비해 10배 많은 이온 조사량을 가지며, 도 5의 관찰 결과, 실시예 1이 실시예 2 및 3에 비해 보다 선명한 표면 색상 변화를 보였다.
이러한 중이온빔 조사 이후 적층체의 표면 색상 변화가 뚜렷한 양상을 통해, 실시예 1의 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅막과 금속 모재의 이온빔 믹싱 정도가 실시예 2 또는 3에 비해 현저하였으며, 이는 중이온빔 조사에 의한 이온 믹싱이 실질적으로 발생하였음을 유추할 수 있었다.
[실험예 3] 중이온빔 조사 후 표면 분석(균일도)
도 6 내지 도 7은 본 발명의 실시예 7 또는 실시예 1의 중이온빔 조사 이후 코팅계면 표면의 균일도를 확인한 사진(100배 확대) 결과이고, 도 8은 본 발명의 실시예 1 내지 3의 중이온빔 조사 및 2차 코팅 후 코팅계면의 표면 균일도를 SEM으로 관찰한 사진(100배 내지 5,000배 확대) 및 코팅 두께를 SEM으로 관찰한 사진(6,500배 내지 100,000배 확대)이다.
도 6의 (a)는 본 발명의 실시예 7에 있어서, 1차 코팅 후 중이온빔을 조사하기 전 시편 표면(단면 및 평면)에 대한 사진이고, (b)는 중이온빔을 조사한 후 혼성계면층이 형성된 시편 표면(단면 및 평면)의 사진이다. 도 6의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 이온빔 조사에 의한 이온 믹싱 효과를 통해 균열이 없으며, 균일한 코팅층이 형성된 것을 확인할 수 있었다.
도 7의 (a)는 본 발명의 실시예 1에 있어서, 1차 코팅 후 중이온빔을 조사하기 전의 시편 표면(단면 및 평면)에 대한 사진이고, (b)는 중이온빔을 조사한 후 혼성계면층이 형성된 시편 표면(단면 및 평면)의 사진이다. 도 7의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 하이브리드 코팅에 중이온빔을 조사한 경우도 도 6의 결과와 유사하게 이온 믹싱에 의한 균열없는 균일한 코팅층이 형성된 것을 확인할 수 있었다.
도 8의 (a)는 실시예 1 내지 3의 1차 코팅 후 중이온빔을 조사하여 혼합계면층이 형성된 코팅 표면을 100배 내지 5000배 확대한 SEM 이미지이다. 도 8의 (a) 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 이온 믹싱 후 코팅층에 균열이 발생하지 않았으며, 균일한 표면층이 형성된 것을 확인할 수 있었다.
도 8의 (b)는 (a)에서 형성된 이온빔 믹싱을 통한 혼합계면층의 형성 이후 2차 TiO2 코팅을 수행하였을 때, 코팅층의 단면을 6,500배 내지 100,000배 확대한 SEM 이미지이며, 이를 통해 전체 코팅 두께의 평균값을 산출한 결과이다. 도 8(b)의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 2차 코팅의 두께는 평균적으로 112.62nm만큼 형성되었으며, 이온 믹싱의 효과로 이온빔을 조사하지 않은 코팅에 비해 재코팅된 시편의 코팅두께가 증가하고, 코팅의 경계부가 균일하게 접합된 계면을 형성하며, 균열이 없는 단일한 코팅을 형성한다는 것을 확인할 수 있었다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
10 : 모재, 20 : 코팅층
30 : 혼합계면층, 31 : 중이온(빔)
40 : 제2코팅층
30 : 혼합계면층, 31 : 중이온(빔)
40 : 제2코팅층
Claims (10)
- 모재를 준비하는 단계;
상기 모재의 표면에 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액을 포함하는 코팅재를 코팅하는 단계; 및
상기 코팅된 모재 표면을 중이온빔 조사장치로부터 발생하는 중이온빔에 노출하는 단계;를 포함하며,
상기 중이온빔의 에너지의 크기는 2 내지 40 MeV이고,
상기 중이온빔의 주입량은 50uC 내지 10,000uC이며,
상기 중이온빔 조사장치에 인가되는 전류는 0.01 μA 내지 1 μA이고,
상기 중이온빔의 노출시간은 1분 내지 2시간인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 중이온빔 조사장치에 사용되는 원소는 철(Fe), 아이오딘(I), 텅스텐(W), 구리(Cu), 실리콘(Si), 아르곤(Ar), 금(Au), 알루미늄(Al), 티탄(Ti) 및 이들을 하나 이상 혼합한 군에서 선택되는 어느 하나인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 중이온빔에 노출하는 단계는 1회 또는 2회 이상 수행하는 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 제5항에 있어서,
상기 중이온빔에 노출하는 단계를 2회 이상 수행하는 경우,
상기 코팅된 모재 표면을 중이온빔에 노출하는 단계 이후에 상기 중이온빔을 조사한 코팅모재의 표면에 제2코팅재를 코팅하는 단계를 더 포함하는 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 제6항에 있어서,
상기 제2코팅재는 TiO2 졸 용액 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 졸 용액인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 제1항에 있어서,
상기 모재는 304 스테인레스강, Alloy 800H, Alloy 690, Hastelloy X, Hayness230, Hayness556, CX2002U, Alloy X750, Alloy 718, Sanicro28 및 이들의 복합재료에서 선택되는 어느 하나의 금속인 중이온빔 조사에 의한 TiO2 코팅 또는 TiO2-SiO2 하이브리드 코팅의 표면개질 방법. - 삭제
- 삭제
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