KR102033671B1 - Grill beam structure of semiconductor factory - Google Patents

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KR102033671B1 KR1020170126554A KR20170126554A KR102033671B1 KR 102033671 B1 KR102033671 B1 KR 102033671B1 KR 1020170126554 A KR1020170126554 A KR 1020170126554A KR 20170126554 A KR20170126554 A KR 20170126554A KR 102033671 B1 KR102033671 B1 KR 102033671B1
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삼성물산 주식회사
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Abstract

반도체 공장 내부에 설치되며, 일정 간격을 따라 종횡으로 세워지는 수직 기둥인 샛기둥과, 인접되는 두 개의 샛기둥 상부에 거치되어 고정됨으로써 샛기둥 상부를 가로질러 연결시키는 일 방향 보와, 일 방향 보로 둘러싸여 형성되는 장방형의 수평면적을 채우는 형태로 설치되는 장방형의 격자보로 구성되되, 일 방향 보의 측면에는 돌출 형태의 단차가 형성되고 격자보의 측면에는 함몰 형태의 단차가 형성되어 격자보 측면 단차의 저면이 일 방향 보 측면 단차의 상면에 거치되는 형태로 격자보가 설치되는 반도체공장의 격자보 구조물로서, 상기 샛기둥 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보 단부 사이의 틈과, 일 방향 보의 측면과 격자보의 측면 사이의 틈에는 몰탈이 주입됨으로써, 일 방향 보가 단부끼리 접합되어 고정되고, 일 방향 보와 격자보가 서로 접합 고정되는 것을 특징으로 함으로써, 콘크리트 타설 및 양생에 소요되는 시간 보다 훨씬 신속하게 결합이 이루어질 수 있는 수단이 갖추어지고, 또한 구조물이 진동에 견딜 수 있게 대형화 된 만큼 격자보와 일 방향 보 및 샛기둥 간의 결합도 더욱 견고해질 수 있는 구조를 가질 수 있는 반도체공장의 격자보 구조물을 제공하고자 한다.It is installed inside the semiconductor factory, and is a vertical pillar vertically erected vertically and horizontally along a predetermined interval, and a one-way beam connecting across the upper portion of the pillar by being mounted and fixed on the two adjacent pillars, It consists of a rectangular lattice beam that is installed in the form of filling a rectangular horizontal area that is enclosed, wherein one side of the beam is formed with a protruding step and a recessed step is formed on the side of the lattice beam. A lattice beam structure of a semiconductor factory in which a lattice beam is installed in such a manner that a bottom surface of the beam is mounted on an upper surface of a one-way beam side step. Mortar is injected into the gap between the side surfaces of the lattice beams so that the one-way beams are joined to each other and fixed. It is characterized in that the joints are fixed to each other, so that the coupling can be made much faster than the time required for concrete pouring and curing, and also the grid beam and one-way beam and fin are large enough to withstand the vibration. The purpose of the present invention is to provide a lattice beam structure of a semiconductor factory, which may have a structure in which coupling between pillars can be further strengthened.

Figure R1020170126554
Figure R1020170126554

Description

반도체공장의 격자보 구조물{Grill beam structure of semiconductor factory}Grating beam structure of semiconductor factory

본 발명은 반도체공장의 분할형 격자보 구조물에 관한 것으로 특히 격자보와 샛기둥 및 일방향 보가 PC로 제작되어 현장 조립이 가능하면서도 진동 억제 성능을 강화시키는 접합수단이 적용되는 분할형 격자보 구조물에 관한 것이다.The present invention relates to a split grating beam structure of a semiconductor factory, and more particularly, to a split grating beam structure in which a lattice beam, a hollow column, and a one-way beam are made of a PC, and thus a field assembly is possible, but a joining means for enhancing vibration suppression performance is applied. will be.

반도체 공장의 클린룸(Clean Room)이란 일정한 실내의 공기 중에 존재하는 먼지 미립자 뿐만 아니라 온도, 습도, 압력, 진동 및 산소의 비율, 기류의 분포와 속도 등을 일정한 범위 내로 유지하기 위하여 환경적으로 제어되는 밀폐된 공간을 말하는데, 산업이 고도화되고 발전될수록 클린룸의 적용분야는 매우 광범위하게 넓어지고 있으며 적용되는 산업분야에 따라 먼지 등 미립자 제어를 대상으로 하는 산업용 클린룸(Industrial Clean Room; ICR)과 세균이나 곰팡이 등의 생물입자를 제어하는 바이오 클린룸(Biological Clean Room; BCR)으로 크게 나눌 수 있다.The clean room of a semiconductor factory is environmentally controlled to maintain not only dust particles present in a certain room air but also temperature, humidity, pressure, vibration and oxygen ratio, air flow distribution and speed within a certain range. As the industry is advanced and developed, the application of the clean room becomes very wide and the industrial clean room (ICR) and It can be broadly divided into a Biological Clean Room (BCR) that controls biological particles such as bacteria and fungi.

그 중에서 산업용 클린룸은 미립자를 주요 제어대상으로 하지만 미립자에 대한 청정도는 물론 온도, 습도, 압력, 진동 등의 환경조건을 제어하고 있으며, 특히, 근래 비약적인 기술 진보가 이루어지고 있는 반도체, 전자, TFT-LCD,우주항공, 정밀기계산업 등은 신기술의 개발로 인하여 제품들을 더욱 경박(輕薄) 단소(短小)화시켜 고품질화하고 있어서 이와 같은 산업의 공장에서는 실내에 떠다니는 미립자가 제품에 부착되거나 진동 등으로 인한 정밀도의 저하는 제품의 불량초래 및 신뢰 성하락과 생산수율에 막대한 영향을 미치게 되므로 공장전체 또는 필요작업장을 청정도가 높은 클린룸으로 형성하고 있다.Among them, industrial clean rooms are the main targets for controlling microparticles, but they control not only the cleanliness of microparticles, but also environmental conditions such as temperature, humidity, pressure, and vibration. -LCD, aerospace, and precision machinery industries are making products more light and thin due to the development of new technologies and making them high quality.In such industrial factories, particles floating indoors are attached to products or vibrated, etc. The deterioration of precision caused by the product has a huge impact on product defects, reliability deterioration and production yield, and thus the entire factory or required workplaces are formed into clean rooms with high cleanliness.

따라서 클린룸의 제어대상 조건들 중에서 미립자, 온도, 습도, 압력 등의 환경조건들은 건축물 내부에 ULPA필터, HEPA필터, 에어샤워, 보일러, 냉온수발생기, 흡기/배기덕트, 흡수냉동기 등의 장치를 설치하여 외부와 내부를 격리하므로 무균, 무진, 항온, 항습의 청정공간을 유지하도록 하고 있는데, 상기와 같은 클린룸을 위한 지원설비들을 설치 시공하기 위해서는 건축물의 시공단계에서부터 상기와 같은 지원설비들을 설치하기 위한 공간의 배려가 필요하게 된다.Therefore, environmental conditions such as particulates, temperature, humidity, and pressure among the control targets of the clean room are installed in the building such as ULPA filter, HEPA filter, air shower, boiler, cold / hot water generator, intake / exhaust duct, absorption chiller, etc. It keeps clean space of sterile, dust-free, constant temperature, and humidity because it isolates the outside from inside. To install the supporting facilities for the clean room as above, install the above supporting facilities from the construction stage of the building. Consideration of space is necessary.

그래서 클린룸 건축물의 골조 공사는 일반 건축물의 골조 공사와는 다른 특징을 갖게 된다.Thus, the framing construction of clean room buildings is different from the framing construction of general buildings.

클린룸 건축물의 내부 구성을 개략적으로 도시하면 도1에 나타낸 바와 같이 바닥콘크리트(1)에 현장에서 철근을 배근하고 거푸집을 제작한 후 콘크리트를 타설하여 주기둥(main column)(2)과 샛기둥(post)(3)을 시공하고, 샛기둥(3)의 상부와 주기둥(2)의 일측에 접하도록 현장에서 거푸집을 제작한 후 콘크리트를 타설하여 격자형으로 형성한 격자보(Grille Beam)(4)를 시공하고, 상기 주기둥(2)의 상부에 현장에서 거푸집을 제작한 후 콘크리트를 타설하여 보(Girder)(5)와 슬래브(Slab)(6)를 시공함으로 격자보(4)의 하측으로는 배관설비 등과 같은 지원설비들을 시공하는 지원설비층(7)을 형성하게되고, 격자보(4)의 상측으로는 클린룸층(8)을 형성하게 되고, 클린룸층(8)의 상부에는 보(5)와 슬래브(6)의 사이에는 HEPA 필터, 조명 등과 같은 설비가 매입되는 시스템 실링부(9)가 시공 되고, 클린룸층(8)에는 주요한 생산설비를 설치하여 제품을 생산 및 연구개발하게 되며 지원설비층(7)과 시스템실링부(9)에는 클린룸층(8)의 환경조건들을 유지하는 지원설비들이 설치되어 클린룸층(8)을 청정공간으로 유지하게 된다.As shown in FIG. 1, the internal structure of the clean room building is roughly shown in FIG. 1, where the reinforcing bar is placed on the floor concrete (1), the formwork is made, and concrete is poured into the main column (2) and the pillar. (Post) (3) construction, the formwork in the field to contact the upper side of the main pillar (3) and one side of the main pillar (2) and then cast concrete to form a grid beam (Grille Beam) (4) the construction, the formwork on the top of the main pillar (2) and then cast concrete to install the beam (5) and slab (Slab) (6) by lattice beam (4) The lower side of the to form a support facility (7) for constructing the support facilities, such as plumbing facilities, the upper side of the grid beam (4) to form a clean room layer (8), the upper part of the clean room layer (8) The system sealing part 9 in which equipment such as a HEPA filter, lighting, etc. is embedded between the beam 5 and the slab 6. It is constructed, and the main production equipment is installed in the clean room floor (8) to produce and research and develop the products. The support facility layer (7) and the system sealing unit (9) support facilities for maintaining the environmental conditions of the clean room floor (8). Are installed to maintain the clean room layer 8 as a clean space.

뿐만 아니라, 상기와 같은 클린룸을 구비한 생산 및 연구용 건축물들 중에서도 특히 반도체, 전자, TFT-LCD, 우주항공, 정밀기계산업의 생산 장비들은 건축물의 진동에 특히 많은 영향을 받게 되는데 특히 반도체의 경우 진동이 생산수율에 미치는 영향이 막대하므로 건축물의 구조물에 까다로운 진동 억제성능이 요구된다.In addition, among the production and research buildings equipped with the above clean rooms, the production equipment of the semiconductor, electronics, TFT-LCD, aerospace, and precision machinery industries is particularly affected by the vibration of buildings. As the impact of vibration on production yield is huge, demanding vibration suppression performance is required for building structures.

따라서 상기와 같은 진동조건 문제를 해결하기 위해서는 골조를 큰 중량을 가지도록 보다 대형화된 구조물로 시공하여 진동의 영향을 최소화시킬 수밖에 없어서 대부분의 반도체를 위한 클린룸 공장 건축물의 모든 골조 공사는 대중량의 골조 구조물을 현장타설 콘크리트로 시공하여 클린룸의 진동조건을 충족시키도록 하고 있다.Therefore, in order to solve the vibration condition as described above, construction of the frame to a larger structure to have a large weight has to minimize the impact of vibration, so all the construction work of the construction of the clean room factory for most semiconductors The framing structures are constructed with cast-in-place concrete to satisfy the vibration conditions of the clean room.

그러나 이와 같이 콘크리트를 현장에서 타설하는 시공방법은 현장에서 거푸집을 제작하고 콘크리트를 타설한 후 양생과정을 거처서 다음 구조물을 위한 거푸집을 제작해야함으로 거푸집 제작을 위해서 많은 전문 인력이 동원되어야 하고, 콘크리트 타설 및 양생에 많은 시간이 소요되는 노동집약적이며, 공사기간이 많이 소요되는 공법임이 문제이다.However, in the construction method of pouring concrete in the field, many professional personnel must be mobilized to manufacture the form because the form should be manufactured at the site, the concrete should be cast and then the form for the next structure should be manufactured. And it is a labor-intensive and time-consuming construction method that takes a lot of time to cure.

따라서 제품들의 개발 사이클(cycle)과 소비자들의 선호제품 보유 기간이 계속 단축되고 있어서, 무엇보다도 신제품을 적시에 출시하는 것이 가장 큰 경쟁력 이 되는 타이밍(timing)산업이라고 할 정도로 급변하는 첨단 산업의 생산 및 연구를 위한 클린룸의 시공에 있어서 새로운 제품을 연구 또는 생산하기 위한 새로운 클린룸 건축물의 시공기간 단축에 가장 큰 문제점이 된다.As a result, the development cycle of products and the retention period of consumers' preferred products continue to be shortened. Above all, the production and production of high-tech industries such as the timing industry where the timely launch of new products is the most competitive. In the construction of a clean room for research, it is the biggest problem in shortening the construction time of a new clean room building for researching or producing a new product.

그러므로 공장에서 미리 제작된 프리캐스트 자재로 반도체 공장 격자보 구조물을 시공하여 현장 콘크리트 타설 및 양생 공정을 줄일 필요가 있다.Therefore, it is necessary to reduce the on-site concrete casting and curing process by constructing a semiconductor factory grid beam structure with precast materials pre-fabricated at the factory.

그런데 이처럼 프리캐스트 자재가 사용될 경우 프리캐스트로 이루어지는 일 방향 보와 격자보 간의 결합을 위해 종래에는 어쩔 수 없이 콘크리트를 타설하였으므로 역시나 그 이전과 마찬가지로 규모는 작지만 콘크리트 타설과 양생 공정이 불가피한 문제가 있다.However, when the precast material is used, the concrete is inevitably poured in order to combine the one-way beam and the lattice beam, which is made of precast, but as before, there is a problem that the concrete placing and curing process are inevitable.

따라서 이러한 콘크리트 타설 이외의 방법으로 일 방향 보와 샛기둥 및 격자보 간의 결합이 견고하게 이루어질 수 있고 또한 콘크리트 타설 및 양생에 소요되는 시간 보다 훨씬 신속하게 결합이 이루어질 수 있는 수단이 필요하다.Therefore, there is a need for a means that can be securely coupled between the one-way beam, the stud column and the lattice beam by a method other than the concrete placing, and can be made much faster than the time required for concrete placing and curing.

또한 구조물이 미진동에 견딜 수 있게 대형화 된 만큼 격자보와 일 방향 보 및 샛기둥 간의 결합 또한 더욱 견고해질 수 있는 구조를 가질 수 있는 기술이 요청된다.In addition, as the structure is enlarged to withstand microscopic vibration, there is a demand for a technology that can have a structure in which the coupling between the lattice beam, the one-way beam and the stud column is also more robust.

등록실용신안공보 제20-0480639호(등록일자: 2016.06.13.)Utility Model Registration No. 20-0480639 (Registration Date: June 13, 2016)

이에 본 발명은 종래기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로써, 반도체공장에서 콘크리트 타설 이외의 방법으로 일 방향 보와 샛기둥 및 격자보 간의 결합이 견고하게 이루어질 수 있고 또한 콘크리트 타설 및 양생에 소요되는 시간 보다 훨씬 신속하게 결합이 이루어질 수 있는 수단이 갖추어지고, 또한 구조물이 진동에 견딜 수 있게 대형화 된 만큼 격자보와 일 방향 보 및 샛기둥 간의 결합도 더욱 견고해질 수 있는 구조를 가질 수 있는 할 수 있는 반도체 공장의 격자보 구조물을 제공하고자 한다.Therefore, the present invention is to improve the problems of the prior art, the coupling between one-way beam and the stud column and lattice beam by a method other than concrete placing in the semiconductor factory, and also the time required for concrete casting and curing It is possible to have a structure that can be combined much more quickly, and that the structure between the lattice beam, the one-way beam and the stud can be more robust as the structure is enlarged to withstand vibration. To provide a grid beam structure of a semiconductor factory.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 공장의 격자보 구조물은 반도체 공장 내부에 설치되며, 일정 간격을 따라 종횡으로 세워지는 수직 기둥인 샛기둥과, 인접되는 두 개의 샛기둥 상부에 거치되어 고정됨으로써 샛기둥 상부를 가로질러 연결시키는 일 방향 보와, 일 방향 보로 둘러싸여 형성되는 장방형의 수평면적을 채우는 형태로 설치되는 장방형의 격자보로 구성되되, 일 방향 보의 측면에는 돌출 형태의 단차가 형성되고 격자보의 측면에는 함몰 형태의 단차가 형성되어 격자보 측면 단차의 저면이 일 방향 보 측면 단차의 상면에 거치되는 형태로 격자보가 설치되는 반도체공장의 격자보 구조물로서, 상기 샛기둥 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보 단부 사이의 틈과, 일 방향 보의 측면과 격자보의 측면 사이의 틈에는 몰탈이 주입됨으로써, 일 방향 보가 단부끼리 접합되어 고정되고, 일 방향 보와 격자보가 서로 접합 고정된다.The grid beam structure of the semiconductor factory according to the present invention for achieving this object is installed inside the semiconductor factory, and is fixed to be mounted on top of the two pillars and vertical pillars vertically erected vertically and horizontally along a predetermined interval. It consists of a one-way beam connecting across the upper pillar, and a rectangular lattice beam installed in the form of filling a horizontal horizontal area formed by being surrounded by the one-way beam, the protruding step is formed on the side of the one-way beam And a lattice beam structure of a semiconductor factory in which a lattice beam is formed on a side surface of the lattice beam so that the bottom surface of the lattice beam side step is mounted on the upper surface of the one-way beam side step. Mortar is mainly used in the gap between the ends of two one-way beams and between the sides of the one-way beam and the side of the grid beams. Thereby, it is fixed in one direction is bonded between the end beams, and is fixed in one direction beams and lattice beams joined to each other.

여기서 상기 샛기둥 내부에는 샛기둥의 길이 방향으로 복수개의 수직근이 장입되되, 수직근의 상단은 바람직하게는 샛기둥의 상면보다 더 돌출되고, 상기 일 방향 보의 단부에 인접된 저면에는 샛기둥의 상면보다 더 돌출된 상기 수직근의 상단이 삽입되는 수직근 삽입 홈이 형성되어, 수직근이 수직근 삽입 홈에 삽입됨으로써 샛기둥과 일 방향 보가 결합된다.Here, a plurality of vertical muscles are inserted into the inner pillar in the longitudinal direction of the inner pillar, and the upper end of the vertical root is preferably more protruding than the upper surface of the inner pillar, and the lower surface adjacent to the end of the one-way beam The vertical root insertion groove into which the upper end of the vertical root which protrudes more than the upper surface of the pillar is inserted is formed, and the vertical root is inserted into the vertical root insertion groove, thereby coupling the jaw column and the one-way beam.

또한 상기 샛기둥 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보 각각은 바람직하게는 단부의 상부 모서리가 단차가 형성되게 절개되고, 상기 두 개의 일 방향 보 단부가 샛기둥 상부에서 일정 간격을 두고 나란하게 인접될 때 상기 단차가 만나면서 형성되는 공간에 몰탈이 주입됨으로써, 몰탈이 상기 공간과, 두 개의 일 방향 보 사이 간격과, 일 방향 보와 격자보 사이 간격에 몰탈이 채워지면서 응고되어 결합시킨다.In addition, each of the two one-way beams that meet in the upper jaw column is preferably incised to form a stepped upper edge of the end, and when the two one-way beam ends are adjacent to be adjacent to each other at regular intervals in the upper jaw column The mortar is injected into the space formed while the step meets, so that the mortar is solidified while the mortar is filled in the space, the space between two one-way beams, and the space between the one-way beams and the lattice beams.

이 경우 상기 수직근 삽입 홈은 바람직하게는 일 방향 보 단부가 절개되어 형성되는 단차의 바닥까지 관통됨으로써, 두 개의 일 방향 보 단부가 인접되면서 형성되는 공간에 채워지는 몰탈이 수직근 삽입 홈 내부까지 채워져서, 수직근 삽입 홈의 내주면과 샛기둥 상부로 돌출된 수직근 외주면 사이가 고정 결합된다.In this case, the vertical muscle insertion groove is preferably penetrated to the bottom of the step formed by cutting the one-way beam end, so that the mortar filled in the space formed while the two one-way beam ends are adjacent to the inside of the vertical muscle insertion groove. It is filled, and is fixedly coupled between the inner peripheral surface of the vertical muscle insertion groove and the outer peripheral surface of the vertical muscle projecting to the upper jaw pole.

특히 상기 일 방향 보에서 측면의 돌출 형태의 단차 상면에는 바람직하게는 일정 길이만큼 높이가 낮아지는 단차 형태의 트렌치 홈이 일 방향 보의 길이 방향을 따라 복수개가 형성되어, 일 방향 보와 격자보 사이 간격으로 주입된 몰탈이 트렌치 홈에 채워짐으로써, 일 방향 보와 격자보 간에는 측면 및 저면이 모두 몰탈이 응고되어 접착 결합 된다.In particular, a plurality of stepped trench grooves having a height lowered by a predetermined length may be formed along the longitudinal direction of the one-way beam on the upper surface of the stepped protrusion of the one-way beam. Since the mortars injected at intervals are filled in the trench grooves, mortar is solidified and adhesively bonded to both side and bottom surfaces of the one-way beam and the lattice beam.

또는 바람직하게는 상기 격자보에서 측면의 함몰 형태의 단차 저면에는 일정 길이만큼 높이가 높아지는 단차 형태의 트렌치 홈이 격자보의 면을 따라 복수개가 형성되어, 일 방향 보와 격자보 사이 간격으로 주입된 몰탈이 트렌치 홈에 채워짐으로써, 일 방향 보와 격자보 간에는 측면 및 저면이 모두 몰탈이 응고되어 접착 결합 된다.Alternatively, a plurality of trench grooves having a stepped height that is increased by a predetermined length may be formed on the bottom of the stepped recessed side of the lattice beam along the plane of the lattice beam, and injected at intervals between the one-way beam and the lattice beam. As the mortar is filled in the trench grooves, the mortar is solidified and adhesively bonded to both side and bottom surfaces between the one-way beam and the lattice beam.

한편 상기 구성으로 이루어지는 반도체 공장의 격자보 구조물의 시공 방법은 상기 격자보와 일 방향 보를 프리캐스트로 제작하는 제1단계와, 샛기둥을 일정 간격을 따라 종횡으로 배치되게 설치하되, 샛기둥용 거푸집 높이보다 상부로 더 높게 돌출되게 수직근을 배근하는 제2단계와, 프리캐스트 보인 일 방향 보를 인접되는 두 개의 샛기둥 상부를 가로질러 연결시키는 형태로 설치하되, 제1단계에서 일 방향 보를 제작하면서 상기 수직근 상단이 삽입될 수 있는 수직근 삽입 홈을 형성하여 수직근 삽입 홈에 수직근 상단을 삽입하면서 일 방향 보를 샛기둥 상부에 거치하여 설치하는 제3단계와, 상기 일 방향 보를 종횡으로 설치된 샛기둥을 연결시키는 형태로 설치하여 일 방향 보로 둘러싸이는 공간에 격자형태의 프리캐스트 슬라브인 격자보를 설치하되, 격자보의 측면 단차 저면이 일 방향 보의 측면 단차 상면에 거치되게 설치하는 제4단계 및, 서로 나란하게 인접되는 일 방향 보 사이 간격과, 일 방향 보와 격자보 사이 간격에 몰탈을 주입하여 응고시켜서 일 방향 보를 서로 연결시킴과 함께 격자보와 일 방향 보를 서로 고정 연결시키는 제5단계로 구성된다.On the other hand, the construction method of the lattice beam structure of the semiconductor factory having the above configuration is the first step of manufacturing the lattice beam and one-way beam to precast, and the pillars are installed so as to be arranged laterally and horizontally along a predetermined interval, While installing the second step of reinforcing the vertical muscle so as to project higher than the height, and connecting the one-way beam, which is precast, across two adjacent upper pillars, while manufacturing the one-way beam in the first step. A third step of forming a vertical muscle insertion groove into which the vertical muscle top can be inserted, mounting the vertical muscle upper end to the vertical muscle insertion groove, and mounting the one-way beam on the upper jaw, and vertically installing the one-way beam vertically and horizontally; Install the grid beam, which is a grid-shaped precast slab, in the space surrounded by the beam in one direction by installing it in the form of connecting the pillar. For example, the fourth step of installing the bottom of the side step of the grid beam is mounted on the top of the side step of the beam in one direction, and the mortar is injected into the gap between the beams in one direction adjacent to each other and the distance between the beam in one direction and the grid beam. By solidifying by connecting the one-way beams to each other and the fifth step of fixing the grid beams and one-way beams to each other.

여기서 상기 제1단계에서는 바람직하게는 일 방향 보의 양측 단부에서 상부 모서리를 절개하여 단차를 형성함으로써, 제4단계에서 서로 나란하게 인접되는 격자보 사이에 단차 형성을 위해 절개된 만큼의 공간이 형성된다.Here, in the first step, preferably, a step is formed by cutting the upper edges at both ends of the one-way beam, thereby forming a space that is cut to form a step between the grid beams adjacent to each other in parallel in the fourth step. do.

이 경우 상기 제1단계에서는 바람직하게는 수직근 삽입 홈이 일 방향 보의 양측 단부에 형성되는 상기 단차 바닥면부터 일 방향 보의 저면까지 관통되게 형성하고, 상기 제5단계에서는 일 방향 보의 양측 단부가 서로 나란하게 인접되어 형성되는 상기 공간에 몰탈을 주입함으로써, 몰탈이 일 방향 보의 상부로 넘치지 않고 인접되는 두 개의 일 방향 보의 단부 사이 간격과, 일 방향 보와 격자보 사이 간격과, 수직근 삽입 홈 내주면과 수직근 외주면 사이 틈으로 몰탈이 주입하여 응고한다.In this case, in the first step, preferably, the vertical muscle insertion groove is formed to penetrate from the stepped bottom surface formed at both ends of the one-way beam to the bottom of the one-way beam, and in the fifth step, both sides of the one-way beam. By injecting mortar into the space formed by the end adjacent to each other adjacent to each other, the distance between the ends of the two unidirectional beams adjacent to each other without overflowing the mortar to the top of the one-way beam, the spacing between the one-way beam and the lattice beam, Mortar is injected into the gap between the inner circumference of the vertical muscle insertion groove and the outer circumference of the vertical muscle to solidify.

특히 상기 제1단계에서는 바람직하게는 상기 일 방향 보에서 측면의 돌출 형태의 단차 상면에 일정 길이만큼 높이가 낮아지는 단차 형태의 트렌치 홈을 일 방향 보의 길이 방향을 따라 복수개로 형성하여, 일 방향 보와 격자보 사이 간격으로 몰탈을 주입하여 트렌치 홈에 채움으로써, 일 방향 보와 격자보 간에는 측면 및 저면이 모두 몰탈이 응고되어 접착 결합 된다.In particular, in the first step, preferably, a plurality of trench grooves having a stepped shape, the height of which is lowered by a predetermined length, is formed on the upper surface of the stepped protrusion in the one-way beam along the longitudinal direction of the one-way beam, and in one direction. By filling the trench grooves by injecting mortar at intervals between the beams and the lattice beams, mortar is solidified and adhesively bonded to both side and bottom surfaces of the one-way beams and the lattice beams.

본 발명에 따른 반도체 공장의 격자보 구조물에 따르면, 반도체공장에서 콘크리트 타설 이외의 방법으로 일 방향 보와 샛기둥 및 격자보 간의 결합이 견고하게 이루어질 수 있고 또한 콘크리트 타설 및 양생에 소요되는 시간 보다 훨씬 신속하게 결합이 이루어질 수 있는 수단이 갖추어지고, 또한 구조물이 진동에 견딜 수 있게 대형화 된 만큼 격자보와 일 방향 보 및 샛기둥 간의 결합도 더욱 견고해질 수 있는 구조를 가질 수 있는 효과가 있다.According to the lattice beam structure of the semiconductor factory according to the present invention, the coupling between the one-way beam, the plinth, and the lattice beam in a method other than concrete placing in the semiconductor factory can be made firmly, and also much more than the time required for concrete casting and curing. Means for quick coupling is provided, and as the structure is enlarged to withstand vibration, there is an effect that the coupling between the lattice beam, the one-way beam and the stud can be more firm.

도 1은 반도체 공장의 내부 단면 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 격자보 구조물의 분해 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 격자보 구조물에서 격자보의 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 격자보 구조물에서 일 방향 보의 사시도,
도 5는 본 발명에 따른 격자보 구조물에서 샛기둥의 사시도,
도 6은 본 발명에 따른 격자보 구조물의 평단면도,
도 7은 도 6에서 A로 표시된 영역의 부분 확대도
도 8은 일 방향 보의 정단면도,
도 9는 일 방향 보의 측단면도,
1 is an internal cross-sectional perspective view of a semiconductor factory,
2 is an exploded perspective view of a grid beam structure according to the present invention;
3 is a perspective view of a grid beam in a grid beam structure according to the present invention,
4 is a perspective view of a one-way beam in a grid beam structure according to the present invention;
5 is a perspective view of the stud column in a grid beam structure according to the present invention,
6 is a plan cross-sectional view of a grid beam structure according to the present invention;
7 is an enlarged partial view of the area indicated by A in FIG.
8 is a front sectional view of the one-way beam;
9 is a side cross-sectional view of the one-way beam;

본 발명의 실시예에서 제시되는 특정한 구조 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있다. 또한 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경물, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
Specific structural or functional descriptions presented in the embodiments of the present invention are only illustrated for the purpose of describing the embodiments according to the inventive concept, and the embodiments according to the inventive concept may be implemented in various forms. In addition, it should not be construed as limited to the embodiments described herein, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the present invention.

본 발명에 따른 반도체 공장의 격자보 구조물은 도 2에 도시된 바와 같이 반도체 공장 내부에 설치되며, 일정 간격을 따라 종횡으로 세워지는 수직 기둥인 샛기둥(10)과, 인접되는 두 개의 샛기둥(10) 상부에 거치되어 고정됨으로써 샛기둥(10) 상부를 가로질러 연결시키는 일 방향 보(30)와, 일 방향 보(30)로 둘러싸여 형성되는 장방형의 수평면적을 채우는 형태로 설치되는 장방형의 격자보(20)로 구성된다.The lattice beam structure of the semiconductor factory according to the present invention is installed in the semiconductor factory as shown in FIG. 2, a vertical pillar 10 which is vertically erected vertically and horizontally along a predetermined interval, and two adjacent pillars ( 10) a rectangular lattice installed in a form of filling a horizontal horizontal area formed by being enclosed and secured to the upper portion by connecting the one-way beam 30 to be connected across the upper pillar 10 and the one-way beam 30. It consists of a beam 20.

여기서 일 방향 보(30)의 측면에는 도 4에 도시된 것처럼 돌출 형태의 단차가 형성되고, 격자보(20)의 측면에는 도 3에 도시된 것처럼 함몰 또는 후퇴 형태의 단차가 형성되어 격자보(20) 측면 단차의 저면이 일 방향 보(30) 측면 단차의 상면에 거치되는 형태로 격자보(20)가 설치된다. Here, a step of a protruding form is formed on the side of the one-way beam 30, as shown in Figure 4, a step of depression or retreat form is formed on the side of the lattice beam 20 to form a lattice beam ( 20) The grid beam 20 is installed in such a manner that the bottom of the side step is mounted on the top surface of the one-way beam 30 side step.

참고로 도 4에 도시된 일 방향 보(30)의 측면 단차의 상면을 '돌출 단차 상면(33)'이라 하고 도 3에 도시된 격자보(20) 측면의 단차 저면을 '후퇴 단차 저면(23)'이라 칭하기로 한다.For reference, the upper surface of the side step of the one-way beam 30 shown in FIG. 4 is called the 'projection step upper surface 33' and the bottom of the step surface of the grating beam 20 shown in FIG. Will be called.

본 발명에서는 상기와 같이 구성된 샛기둥(10), 격자보(20), 일 방향 보(30)의 결합을 위해 몰탈(40)이 마련된다. 몰탈(40)은 샛기둥(10) 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보(30) 단부 사이의 틈과, 일 방향 보(30)의 측면과 격자보(20)의 측면 사이의 틈에 주입되어, 일 방향 보(30)가 단부끼리 접합되어 고정되고, 일 방향 보(30)와 격자보(20)가 서로 접합 고정된다.In the present invention, the mortar 40 is provided for the coupling of the column 10, the lattice beam 20, the one-way beam 30 configured as described above. Mortar 40 is injected into the gap between the ends of the two one-way beam 30 that meets the upper column 10, the gap between the side of the one-way beam 30 and the side of the grid beam 20, The one-way beam 30 is joined to each other and fixed, and the one-way beam 30 and the grid beam 20 are bonded to each other.

샛기둥(10)은 도 2의 분해사시도에는 도시되지 않았으나, 도 6에 도시된 바와 같이 두 개의 일 방향 보(30)가 나란하게 연결되는 지점과, 네 개의 격자보(20)가 모두 결합되는 모서리 지점의 하부에 설치되어 전체 구조물을 지지한다. Although the pillar 10 is not shown in the exploded perspective view of FIG. 2, as shown in FIG. 6, two one-way beams 30 are connected side by side, and all four grid beams 20 are coupled to each other. It is installed below the corner point to support the whole structure.

샛기둥(10) 내부에는 도 5에 도시된 바와 같이 샛기둥(10)의 길이 방향으로 복수개의 수직근(12)이 장입되되, 수직근(12)의 상단은 샛기둥(10)의 상면보다 더 돌출되고, 도 8과 도 9에 도시된 바와 같이 일 방향 보(30)의 단부에 인접된 일 방향 보(30)의 저면에는 수직근(12)의 상단이 삽입되는 수직근 삽입 홈(36)이 형성되어 일 방향 보(30)의 단부 근처의 저면이 샛기둥(10)의 상면에 안착될 때 까지 수직근(12)이 수직근 삽입 홈(36)에 삽입된다.As shown in FIG. 5, a plurality of vertical roots 12 are inserted in the lengthwise direction of the pillar 10, and an upper end of the vertical root 12 is a top surface of the pillar 10. 8 and 9, the vertical root insertion groove into which the upper end of the vertical root 12 is inserted into the bottom of the one-way beam 30 adjacent to the end of the one-way beam 30 is shown in FIGS. 8 and 9. 36 is formed so that the vertical muscle 12 is inserted into the vertical muscle insertion groove 36 until the bottom surface near the end of the one-way beam 30 is seated on the upper surface of the jaw (10).

이로써 샛기둥(10)과 일 방향 보(30)는 진동이 발생되어도 서로 분리되지 않고 견고하게 결합된다.As a result, the jaw 10 and the one-way beam 30 are firmly coupled to each other without being separated even when vibration is generated.

그리고 샛기둥(10) 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보(30) 각각은 단부의 상부 모서리가 단차가 형성되게 절개되고, 두 개의 일 방향 보(30) 단부가 샛기둥(10) 상부에서 일정 간격을 두고 나란하게 인접될 때 각각 형성되어 마주보는 두 측단 상부 단차(32)가 만나면서 도 8에 도시된 바와 같이 용기 모양으로 형성되는 공간에 몰탈(40)이 주입됨으로써, 몰탈(40)이 상기 용기 모양으로 형성되는 공간과, 두 개의 일 방향 보(30) 단부 사이 간격(d2)과, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 간격(d1)에 몰탈(40)이 채워지면서 응고되어 결합시킨다.And each of the two one-way beams 30 that meet in the upper column 10 is cut to form a stepped upper edge of the end, the two one-way beam 30 end is a predetermined distance from the upper column 10 When the mortar 40 is injected into a space formed in a container shape as shown in FIG. 8 while the two side end upper steps 32 are formed to face each other when adjacently adjacent to each other, the mortar 40 is the container. The space formed in the shape, the gap (d2) between the two ends of the one-way beam 30, the one-way beam 30 and the lattice beam 20, the space (d1) of the mortar 40 is solidified while being combined Let's do it.

몰탈(40)은 콘크리트에 비해 배합이 간단하고 내구성이 좋을 뿐만 아니라 모래나 자갈이 섞이지 않았으므로 좁은 틈새로 침투가 가능하여 콘크리트로 격자보(20)와 일 방향 보(30) 및 샛기둥(10)을 결합시키는 방법에 비해 훨씬 간편하고 효율적이다. 또한 건조되면서 수축이 발생되는 점이 이용될 수 있어 두 개의 일 방향 보(30) 단부 사이 간격(d2)과, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 간격(d1)에 몰탈(40)이 침투된 후 건조되면서 간격이 좁혀저 더욱 긴밀한 구성간의 결합이 가능하다.Mortar 40 is simpler and more durable than concrete, and because sand or gravel was not mixed, the mortar 40 can penetrate into a narrow gap so that the lattice beam 20 and the one-way beam 30 and the pillars 10 are made of concrete. ) Is much simpler and more efficient than combining them. In addition, the point where the shrinkage occurs as it is dried may be used, so that the mortar 40 is disposed in the interval d2 between the ends of two one-way beams 30 and the interval d1 of the one-way beam 30 and the grid beam 20. As it penetrates and dries, the gap is narrowed, allowing for a closer coupling between components.

특히 본 발명에서는 일 방향 보(30)의 단부에 측단 상부 단차(32)를 둠으로써, 나란하게 이어지는 두 개의 일 방향 보(30)와, 일 방향 보(30)의 측면에 결합되는 네 개의 격자보(20)가 만나면서 용기 모양으로 형성되는 공간이 생겨 몰탈(40)을 주입 할 때 몰탈(40)이 일 방향 보(30)의 상부로 넘치는 현상이 방지될 뿐만 아니라 용기 모양으로 형성되는 공간에 채워진 몰탈(40)의 하중으로 인하여 몰탈(40)이 일 방향 보(30) 단부 사이 간격(d2)과, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 간격(d1)에 훨씬 용이하게 침투될 수 있다.In particular, in the present invention, by placing the side end upper step 32 at the end of the one-way beam 30, two one-way beams 30 connected in parallel and four grids coupled to the side of the one-way beam 30 When the beam 20 meets, a space formed in a container shape is formed, and when the mortar 40 is injected, the phenomenon that the mortar 40 overflows to the upper portion of the one-way beam 30 is not only prevented, but also in a space formed in a container shape. Due to the load of the mortar 40 being filled, the mortar 40 is more easily penetrated into the gap d2 between the ends of the one-way beam 30 and the gap d1 of the one-way beam 30 and the grid beam 20. Can be.

그리고 앞서 설명된 수직근 삽입 홈(36)은 측단 상부 단차(32)의 상면부터 일 방향 보(30)의 저면까지 완전히 관통하는 형태로 일 방향 보(30)가 제작됨으로써, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 측단 상부 단차(32)를 통해 주입되는 몰탈(40)은 수직근 삽입 홈(36) 내부로도 주입되어 수직근(12)이 수직근 삽입 홈(36) 내부에 견고하게 부착되어 진동이 발생되더라도 일 방향 보(30)가 샛기둥(10) 상면으로부터 분리되는 현상이 방지될 수 있다.In addition, the vertical muscle insertion groove 36 described above is manufactured by forming the one-way beam 30 so as to completely penetrate from the top surface of the side end upper step 32 to the bottom surface of the one-way beam 30. As shown in the mortar 40 is injected through the upper end step 32 is also injected into the vertical muscle insertion groove 36 so that the vertical muscle 12 is firmly attached to the interior of the vertical muscle insertion groove 36 Thus, even if vibration is generated, a phenomenon in which the one-way beam 30 is separated from the upper surface of the jaw 10 may be prevented.

특히 본 발명에서는 일 방향 보(30)의 측면에 형성되는 돌출 단차 상면(33)에 도 4에 도시된 바와 같이 일정한 길이만큼 높이가 낮아지는 일명 '트렌치 홈(34)'이 형성된다.In particular, in the present invention, a so-called 'trench groove 34' is formed on the protruding step top surface 33 formed on the side of the one-way beam 30, the height is reduced by a certain length as shown in FIG.

종래에는 일 방향 보(30)의 측면 돌출 단차 상면(33)에 격자보(20) 측면의 후퇴 단차 저면(23)이 안착되게 거치되며 이때 격자보(20)의 하중으로 인하여 몰탈(40)이든 콘크리트든 어떠한 결합 부재도 침투될 수 없는 문제가 있다.Conventionally, the receding step bottom surface 23 of the grating beam 20 is mounted on the upper surface 33 of the side protrusion stepped surface of the one-way beam 30, and at this time, the mortar 40 may be caused by the load of the grating beam 20. There is a problem that no coupling member can penetrate concrete.

또한 이러한 문제를 해결하게 위해서 격자보(20)를 상부로 인양하여 일 방향 보(30)의 측면 돌출 단차 상면(33)에 콘크리트를 타설하면 격자보(20)의 수평을 조절하기 곤란하여 수평이 맞지 않거나 또는 격자보(20)가 설계 수치보다 더 부상하여 전체 구조물의 건전성이 저하되는 문제가 있다.In addition, in order to solve this problem, if the concrete beam is placed on the upper surface 33 of the lateral protrusion step of the one-way beam 30 by lifting the grid beam 20 to the upper side, it is difficult to adjust the horizontal of the grid beam 20, There is a problem that does not fit or the lattice beam 20 rises more than the design value to reduce the integrity of the overall structure.

이때 트렌치 홈(34)이 형성되면 일 방향 보(30)의 측면 돌출 단차 상면(33)에 거치되는 격자보(20) 측면의 후퇴 단차 저면(23)과 돌출 단차 상면(33) 사이에 공간이 형성되는데, 일 방향 보(30)의 측단 상부 단차(32)로 형성되는 공간에 주입되는 몰탈(40)이 일 방향 보(30)와 격자보(20) 간격(d1) 사이로 흘러내리다가 트렌치 홈(34)에 채워짐으로써, 일 방향 보(30)와 격자보(20)의 측면뿐만 아니라 일 방향 보(30)의 측면 돌출 단차 상면(33)과 격자보(20)의 측면 후퇴 단차 저면(23) 사이에도 트렌치 홈(34) 부위에 몰탈(40)이 채워져서 결합이 이루어질 수 있다.At this time, when the trench groove 34 is formed, a space is formed between the bottom step 23 of the stepped stepped stepped side of the lattice beam 20 mounted on the top surface 33 of the stepped stepped step of the one-way beam 30 and the top surface 33 of the protruded step. It is formed, the mortar 40 is injected into the space formed by the side step upper step 32 of the one-way beam 30 flows between the one-way beam 30 and the grid beam 20 interval d1 and the trench groove By being filled in the 34, the top surface 33 of the side protruding steps of the one-way beam 30 and the side receding step bottom of the lattice beam 20, as well as the side surfaces of the one-way beam 30 and the grid beam 20, 23. The mortar 40 may be filled in the trench grooves 34, and the coupling may be performed between the two grooves.

이로써 본 발명에서는 일 방향 보(30)와 격자보(20) 및 샛기둥(10)이 서로 간단한 공정으로 조립 가능하면서도 또한 견고한 결합이 이루어질 수 있다.As a result, in the present invention, the one-way beam 30, the grid beam 20, and the stud 10 may be assembled with each other in a simple process, but also may be firmly coupled.

이러한 결합의 견고성은 특히 종래보다 큰 사이즈의 격자보(20)가 설치될 때 큰 사이즈로 인한 증가된 중량의 효과와 함께 더욱 진동에 견디는 탁월한 효과가 발휘된다.The robustness of this coupling is particularly exerted with the effect of increased weight due to the larger size when the lattice beam 20 of a larger size is installed than the conventional one, and an excellent effect to withstand vibration.

이러한 효과는 일 방향 보(30)의 양단에 형성되는 측단 상부 단차(32)로 인한 용이한 몰탈(40)의 주입 및 몰탈(40) 중량으로 인한 몰탈(40)의 침투성 증가와 더불어 수직근(12)이 일 방향 보(30)에 삽입 형태로 설치되되 수직근 삽입 홈(36)에 몰탈(40)이 주입되는 구조를 가짐으로써 가능하며, 특히 트렌치 홈(34)의 형성으로 인하여 측면 결합 뿐만 아니라 상하 결합도 가능해지므로 결국 전체 구성의 유기적인 결합으로 인해 가능하게 된다.This effect is facilitated by the injection of the mortar 40 due to the side end step 32 formed at both ends of the one-way beam 30 and the increase in the permeability of the mortar 40 due to the weight of the mortar 40. 12) is installed in the one-way beam 30 in the form of insertion, but it is possible by having a structure in which the mortar 40 is injected into the vertical muscle insertion groove 36, in particular due to the formation of the trench groove 34 In addition, it is possible to combine up and down, which is possible due to the organic combination of the overall configuration.

참고로 트렌치 홈은 일 방향 보(30)의 측단 상부 단차(32)뿐만 아니라 격자보(20)의 측면에 형성되는 후퇴 단차 저면(23)에 형성될 수도 있다.(미도시)For reference, the trench groove may be formed on the bottom step 23 of the receding step formed on the side surface of the lattice beam 20 as well as the side step upper step 32 of the one-way beam 30.

또한 본 발명에서 트렌치 홈(34)이 도 4 및 도 8에 도시된 바와 같이 상부로 갈수록 넓어지는 형태로 형성되면, 트렌치 홈(34)에 몰탈(40)이 채워지다가 트렌치 홈(34) 전체에 몰탈(40)이 가득 채워지는 순간에 트렌치 홈(34)의 측면과 격자보(20) 측면의 후퇴 단차 저면(23)이 이루는 각이 90도 이하의 예각이 되므로 몰탈(40)이 모세관 효과로 인하여 돌출 단차 상면(33)과 후퇴 단차 저면(23) 사이로 침투되어 결국 일 방향 보(30)와 격자보(20)의 결합은 더욱 견고해질 수 있는 효과도 발생된다.
In addition, in the present invention, when the trench groove 34 is formed to be widened upward as shown in FIGS. 4 and 8, the mortar 40 is filled in the trench groove 34, and then the entire trench groove 34 is formed. At the moment when the mortar 40 is full, the angle formed between the side of the trench groove 34 and the bottom step 23 of the receding step of the lattice beam 20 becomes an acute angle of 90 degrees or less, so that the mortar 40 has a capillary effect. Due to the penetration step between the stepped upper surface 33 and the receding stepped bottom surface 23, the combination of the one-way beam 30 and the lattice beam 20 is also generated to be more robust.

한편, 본 발명에 따른 반도체 공장의 격자보(20) 구조물 시공 방법은 상기 설명과 모두 중복되는 내용이므로 불필요한 중복을 피하기 위하여 반복 설명은 생략하기로 한다.
On the other hand, since the construction method of the lattice beam 20 structure of the semiconductor factory according to the present invention are all overlap with the above description, repeated description will be omitted to avoid unnecessary duplication.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.
The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

d1 : 일 방향 보와 격자보 간격 d2 : 일 방향 보 단부 사이 간격
10 : 샛기둥 12 : 수직근
20 : 격자보 22 : 중공
23 : 후퇴 단차 저면 30 : 일 방향 보
32 : 측단 상부 단차 33 : 돌출 단차 상면
34 : 트렌치 홈 35 : 상부근
36 : 수직근 삽입 홈 37 : 상부근 결속구
40 : 몰탈
d1: Distance between beam in one direction and grid beam d2: Distance between beam direction in one direction
10: ridge 12: vertical muscle
20: lattice beam 22: hollow
23: Retraction step bottom 30: One-way beam
32: side step upper step 33: protruding step upper surface
34: trench groove 35: upper root
36: vertical muscle insertion groove 37: upper muscle binding hole
40: mortar

Claims (10)

반도체 공장 내부에 설치되며, 일정 간격을 따라 종횡으로 세워지는 수직 기둥인 샛기둥(10)과, 인접되는 두 개의 샛기둥(10) 상부에 거치되어 고정됨으로써 샛기둥(10) 상부를 가로질러 연결시키는 일 방향 보(30)와, 일 방향 보(30)로 둘러싸여 형성되는 장방형의 수평면적을 채우는 형태로 설치되는 장방형의 격자보(20)로 구성되되, 일 방향 보(30)의 측면에는 돌출 형태의 단차가 형성되고 격자보(20)의 측면에는 함몰 형태의 단차가 형성되어 격자보(20) 측면 단차의 저면이 일 방향 보(30) 측면 단차의 상면에 거치되는 형태로 격자보(20)가 설치되는 반도체공장의 격자보 구조물로서,
상기 샛기둥(10) 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보(30) 단부 사이의 틈과, 일 방향 보(30)의 측면과 격자보(20)의 측면 사이의 틈에는 몰탈(40)이 주입됨으로써, 일 방향 보(30)가 단부끼리 접합되어 고정되고, 일 방향 보(30)와 격자보(20)가 서로 접합 고정되며,
상기 샛기둥(10) 내부에는 샛기둥(10)의 길이 방향으로 복수개의 수직근(12)이 장입되되, 수직근(12)의 상단은 샛기둥(10)의 상면보다 더 돌출되고,
상기 일 방향 보(30)의 단부에 인접된 저면에는 샛기둥(10)의 상면보다 더 돌출된 수직근(12)의 상단이 삽입되는 수직근 삽입 홈(36)이 형성되어, 수직근(12)이 수직근 삽입 홈(36)에 삽입됨으로써 샛기둥(10)과 일 방향 보(30)가 결합되며,
상기 샛기둥(10) 상부에서 만나는 두 개의 일 방향 보(30) 각각은 단부의 상부 모서리가 단차가 형성되게 절개되고, 상기 두 개의 일 방향 보(30) 단부가 샛기둥(10) 상부에서 일정 간격을 두고 나란하게 인접될 때 상기 단차가 만나면서 형성되는 공간에 몰탈(40)이 주입됨으로써, 몰탈(40)이 상기 공간과, 두 개의 일 방향 보(30) 사이 간격과, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 사이 간격에 몰탈이 채워지면서 응고되어 결합되고,
상기 수직근 삽입 홈(36)은 일 방향 보(30) 단부가 절개되어 형성되는 단차의 바닥을 뚫고 관통됨으로써, 두 개의 일 방향 보(30) 단부가 인접되면서 형성되는 공간에 채워지는 몰탈(40)이 수직근 삽입 홈(36) 내부까지 채워져서, 수직근 삽입 홈(36)의 내주면과 샛기둥(10) 상부로 돌출된 수직근(12) 외주면 사이가 고정 결합되며,
상기 일 방향 보(30)에서 측면의 돌출 형태의 단차 상면에는 일정 길이만큼 높이가 낮아지는 단차 형태의 트렌치 홈(34)이 일 방향 보(30)의 길이 방향을 따라 복수개가 형성되어, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 사이 간격으로 주입된 몰탈(40)이 트렌치 홈(34)을 통해 격자보(20) 측면 단차가 일 방향 보(30) 측면 단차에 거치될 때 상기 측면 단차끼리 접촉되어 형성되는 수평 접촉면을 통과하여, 거치면 하부의 수직 방향 틈새 끝까지 몰탈이 주입됨으로써, 일 방향 보(30)와 격자보(20) 사이는 상부부터 하부까지 모두 몰탈(40)이 주입되어 견고하게 결합되는 것을 특징으로 하는 반도체 공장의 격자보 구조물.
It is installed inside the semiconductor factory and connected across the upper part of the column 10 by being mounted on top of two pillars 10 which are vertical columns vertically erected vertically and horizontally along a predetermined interval. It consists of a one-way beam 30 and a rectangular lattice beam 20 is installed in the form of filling the horizontal area of the rectangle formed surrounded by the one-way beam 30, protruding to the side of the one-way beam 30 A step is formed in the form of a stepped grating beam 20 is formed on the side of the grating beam 20, the bottom surface of the side step of the grating beam 20 is mounted on the upper surface of the side step of the grating beam 20 ) Is a lattice beam structure of a semiconductor factory
The mortar 40 is injected into a gap between two end portions of the one-way beam 30 that meets the upper portion of the jaw 10, and a gap between the side of the one-way beam 30 and the side of the lattice beam 20. The one-way beam 30 is bonded to each other end is fixed, the one-way beam 30 and the grid beam 20 are bonded to each other,
A plurality of vertical roots 12 are charged in the longitudinal direction of the pillar 10 in the inner column 10, and the upper end of the vertical root 12 protrudes further than the upper surface of the column 10,
The bottom surface adjacent to the end of the one-way beam 30 is formed with a vertical root insertion groove 36 is inserted into the upper end of the vertical root 12 protruding more than the upper surface of the stud 10, vertical root 12 ) Is inserted into the vertical muscle insertion groove 36 is coupled to the jaw column 10 and the one-way beam 30,
Each of the two one-way beams 30 that meets the upper portion of the ear column 10 is cut to form a stepped upper edge of the end, and the two one-way beam 30 ends are fixed at the upper side of the ear column 10. When the mortar 40 is injected into a space formed when the step meets when adjacent to each other at a distance, the mortar 40 is spaced between the space, two one-way beam 30, and one-way beam 30 ) And the mortar filled in the gap between the grid beam 20 is solidified and combined,
The vertical muscle insertion groove 36 penetrates through the bottom of the step formed by cutting one end of the one-way beam 30, thereby filling the space formed by adjacent two end portions of the one-way beam 30. ) Is filled up to the inside of the vertical muscle insertion groove 36, and is fixedly coupled between the inner circumferential surface of the vertical muscle insertion groove 36 and the outer peripheral surface of the vertical muscle 12 protruding upwards of the ear column 10,
A plurality of stepped trench grooves 34 having a height lowered by a predetermined length are formed along the longitudinal direction of the one-way beam 30 on the upper surface of the stepped protrusion in the one-way beam 30, and in one direction. When the mortar 40 injected at intervals between the beams 30 and the grid beams 20 is mounted on the lateral beams of the one-way beam 30 through the trench grooves 34, the side steps Through the horizontal contact surface formed in contact with each other, the mortar is injected to the end of the vertical gap in the bottom of the mounting surface, the mortar 40 is injected from the top to the bottom between the one-way beam 30 and the lattice beam 20 is firm Grid structure of a semiconductor factory, characterized in that coupled to.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210100376A (en) 2020-02-06 2021-08-17 서울대학교산학협력단 Modular PC slab for vibration reduction
KR102330481B1 (en) 2021-01-06 2021-11-23 삼성물산(주) Semiconductor factory structure using grill beam structure
KR20240015439A (en) 2022-06-27 2024-02-05 (주)삼우종합건축사사무소 Grille beam structure construction method for semiconductor factory

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10718114B2 (en) * 2017-10-30 2020-07-21 Samsung C&T Corporation High-damping reinforced concrete (RC) lattice beam and substructure using same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003293506A (en) * 2002-03-29 2003-10-15 Kumagai Gumi Co Ltd Reinforced concrete floor structure
KR100855547B1 (en) * 2007-05-25 2008-09-01 동서 피, 씨, 씨 주식회사 Structure for jointing framework of clean room construction
JP2014055443A (en) * 2012-09-12 2014-03-27 Shimizu Corp Precast concrete wall and column-beam joint structure

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100392189B1 (en) * 2000-03-17 2003-07-22 삼성물산 주식회사 Unit grille beam and construction method thereof
KR200320805Y1 (en) * 2003-04-11 2003-07-22 삼성물산 주식회사 Precast concrete member for column being connected in floor space and structure for connecting column by using of it
KR101036755B1 (en) * 2009-02-23 2011-05-24 박승우 Precast upper plates, lower plates and columns for bridges, and method for manufacturing bridges using the same
KR20110052994A (en) * 2009-11-13 2011-05-19 한국건설기술연구원 High durability permanent form using steel fiber reinforced cementitous composites
KR200480639Y1 (en) 2014-06-25 2016-06-20 박정익 Access floor fixing structure for clean room

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003293506A (en) * 2002-03-29 2003-10-15 Kumagai Gumi Co Ltd Reinforced concrete floor structure
KR100855547B1 (en) * 2007-05-25 2008-09-01 동서 피, 씨, 씨 주식회사 Structure for jointing framework of clean room construction
JP2014055443A (en) * 2012-09-12 2014-03-27 Shimizu Corp Precast concrete wall and column-beam joint structure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210100376A (en) 2020-02-06 2021-08-17 서울대학교산학협력단 Modular PC slab for vibration reduction
KR102330481B1 (en) 2021-01-06 2021-11-23 삼성물산(주) Semiconductor factory structure using grill beam structure
KR20240015439A (en) 2022-06-27 2024-02-05 (주)삼우종합건축사사무소 Grille beam structure construction method for semiconductor factory

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