KR102032009B1 - Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder - Google Patents

Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder

Info

Publication number
KR102032009B1
KR102032009B1 KR1020147025111A KR20147025111A KR102032009B1 KR 102032009 B1 KR102032009 B1 KR 102032009B1 KR 1020147025111 A KR1020147025111 A KR 1020147025111A KR 20147025111 A KR20147025111 A KR 20147025111A KR 102032009 B1 KR102032009 B1 KR 102032009B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nickel powder
metal nickel
metal
pure water
ratio
Prior art date
Application number
KR1020147025111A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20150003159A (en
Inventor
마사요시 사이토
츠요시 아사이
와타루 가고하시
Original Assignee
도호 티타늄 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도호 티타늄 가부시키가이샤 filed Critical 도호 티타늄 가부시키가이샤
Publication of KR20150003159A publication Critical patent/KR20150003159A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102032009B1 publication Critical patent/KR102032009B1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/28Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from gaseous metal compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054Nanosized particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054Nanosized particles
    • B22F1/056Submicron particles having a size above 100 nm up to 300 nm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C19/00Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/03Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/005Electrodes
    • H01G4/008Selection of materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

금속 니켈 분말 입자끼리가 응집하여 형성된 조대입자의 함유량이 적은 금속 니켈 분말을 제공한다. 평균 입경이 10nm 내지 1000nm이며, MCT 검출기를 구비하는 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 있어서의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X)와 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y)가, Y≤-1.0X+23.0인 금속 니켈 분말.A metal nickel powder having a low content of coarse particles formed by aggregation of metal nickel powder particles is provided. And the average particle diameter 10nm to 1000nm, S / N ratio (X) and 3700cm -1 to 3600cm -1 of absorption in the absorption spectrum of the signal of 1200cm -1 to 900cm -1 in a Fourier transform infrared spectrophotometer provided with an MCT detector Metal nickel powder whose S / N ratio (Y) of a spectral signal is Y <=-1.0X + 23.0.

Description

금속 니켈 분말 및 금속 니켈 분말의 제조 방법{NICKEL METAL POWDER AND PROCESS FOR PRODUCING NICKEL METAL POWDER}Metal nickel powder and manufacturing method of metal nickel powder {NICKEL METAL POWDER AND PROCESS FOR PRODUCING NICKEL METAL POWDER}

본 발명은, 금속 니켈 분말 및 금속 니켈 분말의 제조 방법에 관한 것이며, 특히, 입자끼리가 응집하여 형성된 조대(粗大)입자의 함유량이 적은 금속 니켈 분말 및 그 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method of a metal nickel powder and a metal nickel powder. Specifically, It is related with the metal nickel powder with little content of the coarse particle formed by the aggregation of particle | grains, and its manufacturing method.

금속 니켈은, 공기나 습도에 대해서는 철보다 훨씬 안정적이며, 내식·내열내마모가 뛰어나다는 점에서, 키친이나 식기 등의 스테인리스강으로서 이용되고 있다. 또, 방열 특성이나 전기 특성도 우수하다는 점에서, 니켈 수소전지나 리튬 이온 배터리의 재료로도 사용되고 있는 것 외에, 휴대 전화나 PC의 부품으로서 없어서는 안 될 적층 세라믹 콘덴서(이하, MLCC로 약칭하는 경우가 있음)의 전극 재료로도 사용되고 있다.Metal nickel is much more stable than iron with respect to air and humidity, and is used as stainless steel for kitchens and tablewares because it is excellent in corrosion resistance and heat resistance. In addition, since it is excellent in heat dissipation characteristics and electrical characteristics, it is also used as a material for nickel-metal hydride batteries or lithium ion batteries, and is a multilayer ceramic capacitor (hereinafter, abbreviated as MLCC) which is indispensable as a part of a mobile phone or a PC. It is also used as an electrode material.

MLCC는, 유전체 세라믹층과, 내부 전극으로서 사용되는 금속층이 번갈아 겹쳐지고, 그 적층체의 양단에 외부 전극이 접속된 구성으로 되어 있다. 여기서, 유전체를 구성하는 재료로는, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 산화이트륨 등의 유전율이 높은 재료를 주성분으로 하는 것이 이용되고 있다. 한편, 내부 전극을 구성하는 금속으로는, 은, 팔라듐, 백금, 금 등의 귀금속 분말, 이들 귀금속 분말을 이용한 합금, 혹은 니켈, 코발트, 철, 몰리브덴, 텅스텐, 구리 등의 비금속 분말, 이들 비금속 분말을 이용한 합금 등이 이용되고 있다. 이들 중에서, 근년에는 금속 니켈 분말을 내부 전극 재료로서 이용한 MLCC의 개발이 활발히 행해지고 있다.The MLCC has a structure in which a dielectric ceramic layer and a metal layer used as an internal electrode are alternately overlapped, and external electrodes are connected to both ends of the laminate. Here, as the material constituting the dielectric, a material having a high dielectric constant such as barium titanate, strontium titanate, yttrium oxide, etc. as a main component is used. On the other hand, as the metal constituting the internal electrode, precious metal powders such as silver, palladium, platinum and gold, alloys using these precious metal powders, or nonmetal powders such as nickel, cobalt, iron, molybdenum, tungsten and copper and these nonmetal powders An alloy using this is used. Among these, in recent years, the development of MLCC which uses metal nickel powder as an internal electrode material is actively performed.

또, 근년, 전자기기의 경량 소형화에 따라, MLCC를 소형화하는 것이 요구되고 있다. MLCC의 소형화에는, 유전체층, 전극층 두께를 박육화하는 것이 필요하며, 그에 따라 금속 니켈 분말의 입경을 1μm 이하, 또한 0.5μm 이하, 0.2μm 이하로 미분화하는 요구가 해마다 높아지고 있다.In addition, in recent years, miniaturization of MLCC has been demanded due to the miniaturization of light weight of electronic devices. In miniaturization of MLCC, it is necessary to reduce the thickness of the dielectric layer and the electrode layer. As a result, the demand for fine-differentiating the particle size of the metal nickel powder to 1 μm or less, 0.5 μm or less and 0.2 μm or less is increasing year by year.

MLCC는, 일반적으로 다음과 같은 방법으로 제조되고 있다. 우선, 티탄산바륨 등의 유전체 분말을 유기 바인더와 혼합하여 현탁시키고, 이것을 독터 블레이드법에 의해 시트형상으로 성형하고 유전체 그린시트를 작성한다. 한편, 내부 전극용 금속 분말은, 유기용제, 가소제, 유기 바인더 등의 유기 화합물과 혼합하여 금속 분말 페이스트를 형성한 후, 이것을 상기 그린시트 상에 스크린 인쇄법으로 인쇄, 건조한다. 이어서, 이 시트를 적층 및 압착한 후, 가열 처리로 유기 성분을 제거하고 나서, 1300℃ 전후 또는 그 이상의 온도로 소성한다. 이 후, 소성체의 양단에 외부 전극을 소부하여 MLCC를 얻는다.MLCC is generally manufactured by the following method. First, a dielectric powder, such as barium titanate, is mixed with an organic binder and suspended, which is molded into a sheet by the doctor blade method to prepare a dielectric green sheet. On the other hand, the metal powder for internal electrodes is mixed with organic compounds, such as an organic solvent, a plasticizer, and an organic binder, and forms a metal powder paste, and this is printed and dried on the said green sheet by the screen printing method. Subsequently, after laminating | stacking and crimping | stacking this sheet, after removing an organic component by heat processing, it bakes at the temperature of 1300 degreeC or more or more. Thereafter, external electrodes are baked at both ends of the fired body to obtain MLCC.

상기와 같은 MLCC의 제조 방법에 있어서, 금속 분말 페이스트 중의 금속 분말에, 예를 들면 금속 분말이 응집하여 형성된 조대입자가 존재하면, 유전체층을 관통해 전극 사이에서 단락을 발생시키는 원인이 되는 문제가 있었다.In the MLCC manufacturing method as described above, if coarse particles formed by agglomeration of the metal powder are present in the metal powder in the metal powder paste, there is a problem of causing a short circuit between the electrodes through the dielectric layer. .

그 대책으로서, 예를 들면, 특허 문헌 1에는, 적외선 흡수 스펙트럼(이하, FT-IR로 약칭하는 경우가 있음) 신호 위치가 3700cm-1 내지 3600cm-1에 있어서 흡수 피크를 나타내지 않는 니켈 분말을 이용함으로써, 분말끼리의 집합을 억제할 수 있음이 제안되고 있다. 이 범위의 진동은, 금속 니켈에 화학적으로 결합하는 OH 기에 귀속하는 것이다. 이러한 금속 니켈 분말은, 기상법 등에 의해 얻어진 금속 니켈 분말을, 200℃~400℃의 산화성 분위기하에서 열처리를 행함으로써 얻을 수 있다.As the countermeasure, for example, (in some cases it abbreviated as follows, FT-IR) In Patent Document 1, infrared absorption spectrum where the signal using a nickel powder does not exhibit an absorption peak in 3700cm -1 to 3600cm -1 It is proposed that the aggregation of powders can be suppressed by this. Vibrations in this range belong to OH groups chemically bonded to metallic nickel. Such metal nickel powder can be obtained by heat-processing the metal nickel powder obtained by the vapor phase method etc. in 200 degreeC-400 degreeC oxidizing atmosphere.

그러나, 상기한 종래의 방법에서는, 조대입자로의 응집을 경감하여 개선하는 목적으로는 그 나름의 효과를 올리고 있으나, 조대입자로의 응집을 방지하는 방법으로는 반드시 충분하지 않았다.However, in the above-described conventional method, although its effect is improved for the purpose of reducing and improving coagulation to coarse particles, a method of preventing coagulation into coarse particles is not necessarily sufficient.

일본국 특허 제3787032호 공보Japanese Patent No. 3787032

따라서, 본 발명의 목적은, 금속 니켈 분말 입자끼리가 응집하여 형성된 조대입자의 함유량이 적은 금속 니켈 분말 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a metal nickel powder having a small content of coarse particles formed by agglomeration of metal nickel powder particles and a method for producing the same.

본 발명자들은, 금속 니켈 분말의 조대입자에 대해서 열심히 연구를 거듭한 결과, 금속 니켈 분말 표면의 수산화물 외에, 미량으로 포함되는 규산의 존재에 의해, 니켈 분말이 응집하여 조대입자가 발생함을 밝혀내고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors have diligently studied the coarse particles of the metal nickel powder, and found that the coarse particles are generated by coagulation of the nickel powder due to the presence of a small amount of silicic acid in addition to the hydroxide on the surface of the metal nickel powder. The present invention has been completed.

즉, 본 발명은, 평균 입경이 10nm 내지 1000nm이며, MCT 검출기를 구비하는 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 있어서의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X)와 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y)가,That is, the present invention, the average particle diameter is 10nm to 1000nm, S / N ratio (X) and 3700cm -1 of the absorption spectrum of the signal of 1200cm -1 to 900cm -1 in a Fourier transform infrared spectrophotometer provided with an MCT detector S / N ratio (Y) of the absorption spectrum signal of 3600 cm -1 ,

Y≤-1.0X+23.0Y≤-1.0X + 23.0

인 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말이다.It is a metal nickel powder characterized by the above-mentioned.

또, 본 발명은, 상기한 금속 니켈 분말의 제조 방법으로서, 기상법 또는 액상법에 의해 니켈 화합물로부터 금속 니켈 분말을 생성시키고, 상기 금속 니켈 분말을 냉각하고, 정전 흡착 여과를 행하여 규소 함유량을 저감한 순수에 이산화탄소를 용해시켜 탄산수용액을 조제하고, 상기 탄산수용액에 의해서 상기 금속 니켈 분말을 처리하는 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말의 제조 방법이다.Moreover, this invention is a pure water which produced | generated the metal nickel powder from a nickel compound by the gas phase method or the liquid phase method, cooled the said metal nickel powder, performed electrostatic adsorption filtration, and reduced the silicon content as said manufacturing method of said metal nickel powder. A carbonic acid solution is prepared by dissolving carbon dioxide in the carbon dioxide solution, and treating the metal nickel powder with the carbonic acid solution.

본 발명에 따른 금속 니켈 분말은, 금속 니켈 분말이 응집하여 형성되는 조대입자를 대부분 포함하지 않는 금속 니켈 분말이며, 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극용으로서 적절하다.The metal nickel powder which concerns on this invention is a metal nickel powder which does not contain the coarse particle which the metal nickel powder aggregates, and is suitable for the internal electrode of a multilayer ceramic capacitor.

도 1은 본 발명의 실시예 1의 금속 니켈 분말의 FT-IR 흡수 스펙트럼을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 비교예 1의 금속 니켈 분말의 FT-IR 흡수 스펙트럼을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 참고예 1(비교예 1의 금속 니켈 분말)의 FT-IR 흡수 스펙트럼을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예 1~실시예 7, 비교예 1~비교예 3의 결과를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예, 비교예에 이용한 금속 니켈 분말의 제조 장치를 나타낸 도면이다.
1 is a view showing the FT-IR absorption spectrum of the metal nickel powder of Example 1 of the present invention.
2 is a diagram showing an FT-IR absorption spectrum of the metal nickel powder of Comparative Example 1 of the present invention.
3 is a diagram showing an FT-IR absorption spectrum of Reference Example 1 (metal nickel powder of Comparative Example 1) of the present invention.
4 is a view showing the results of Examples 1 to 7, and Comparative Examples 1 to 3 of the present invention.
5 is a view showing an apparatus for producing metal nickel powder used in Examples and Comparative Examples of the present invention.

본 발명의 금속 니켈 분말은, 평균 입경이 10nm 내지 1000nm이며, MCT 검출기를 구비하는 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 있어서의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X)와 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y)가,Metallic nickel powder of the present invention, the average particle diameter is 10nm to 1000nm, 1200cm -1 to the S / N ratio (X) and 3700cm of the absorption spectrum of the signal 900cm -1 in a Fourier transform infrared spectrophotometer provided with an MCT detector The S / N ratio (Y) of the absorption spectrum signal of -1 to 3600 cm -1 is

Y≤-1.0×X+23.0Y≤-1.0 × X + 23.0

인 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말이다. 바람직하게는,It is a metal nickel powder characterized by the above-mentioned. Preferably,

Y≤-1.0×X+16.7Y≤-1.0 × X + 16.7

인 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말이다. 이 범위로 함으로써, 응집하여 형성되는 조대입자를 대부분 포함하지 않는 분산성이 양호한 금속 니켈 분말을 얻을 수 있다.It is a metal nickel powder characterized by the above-mentioned. By setting it as this range, the metal nickel powder with favorable dispersibility which does not contain the coarse particle formed by aggregation can be obtained.

본 발명의 금속 니켈 분말의 평균 입경은, 10nm 내지 1μm가 바람직하고, 10nm 내지 0.4μm의 범위의 미립자이면 더욱 바람직하다. 이 범위로 함으로써 도전 페이스트에 이용하는데 적절하다. 또한, 본 발명의 금속 니켈 분말의 입경은, 각 입자를 감싸는 최소원의 직경이다.10 nm-1 micrometer is preferable, and, as for the average particle diameter of the metal nickel powder of this invention, it is more preferable if it is microparticles | fine-particles of the range of 10 nm-0.4 micrometer. By setting it as this range, it is suitable for using for a electrically conductive paste. In addition, the particle size of the metal nickel powder of this invention is the diameter of the minimum circle which wraps each particle.

본 발명의 금속 니켈 분말의 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 의한 적외 흡수 스펙트럼 분석에 있어서의 1200cm-1~900cm-1의 흡수 스펙트럼은, Si-O-Si(사슬형), (Si-O-Si)3(환형), (Si-O-Si)4(환형), (Si-O-Si)n(환형), SiO3 2 -(규산염)의 Si-O-Si의 골격 진동에 귀속되는 피크이다. (문헌 참조:「Handbook of Infrared and Raman Spectra of Inorganic Compounds and Organic Salts(4-Volume set)」, 「N.B.Colthup etal., Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy(Third Edition)」, 「K.Nakamoto, Infrared and Raman Spectra of Inorganic and Coordination Compounds(FOURTH EDITION)」, 「호리구치 히로시 저 적외흡광 도설 총람 산쿄 출판사」, 「유기 화합물로의 흡수 스펙트럼의 응용 도쿄카가쿠 도진」, 「기기 분석의 입문 카가쿠 도진사」). 또, 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼은, Ni(OH)2에 귀속되는 피크이다(문헌 참조:일본국 특허 공개 2010-237051호 공보).Absorption spectrum of 1200cm -1 ~ 900cm -1 in the infrared absorption spectrum analysis by a Fourier transform infrared spectrophotometer of the metallic nickel powder of the present invention, Si-O-Si (catenary), (Si-O-Si ) 3 (cyclic), (SiO-Si) 4 ( cyclic), (SiO-Si) n (cyclic), SiO 3 2 - is the peak attributable to the skeleton vibration of the SiO-Si of the (silicate) . (Reference: `` Handbook of Infrared and Raman Spectra of Inorganic Compounds and Organic Salts (4-Volume set) '', `` NBColthup etal., Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy (Third Edition), '' K. Nakamoto, Infrared and Raman Spectra of Inorganic and Coordination Compounds (FOURTH EDITION), `` Hiroguchi Hiroshi Infrared Absorption Scenario General Sankyo Publishing Company '', `` Application of Absorption Spectrum to Organic Compounds Tokyo Kagaku Tojin '', `` Introduction to Instrument Analysis Kagaku Tojinsa '' ). Also, absorption spectrum of 3700cm -1 to 3600cm -1 is a peak attributed to the Ni (OH) 2 (Reference: Japanese Patent Publication 2010-237051 gazette).

본 발명의 금속 니켈 분말의 S/N비는 이하와 같은 방법에 의해 구한 것이다. 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼의 흡광도, 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼의 흡광도의, 흡수 스펙트럼이 없고 베이스라인이 변형되어 있지 않은 영역의 흡광도에 대한 비이다. 일반적으로, 흡수 스펙트럼이 없고 베이스라인이 변형되어 있지 않은 영역의 흡광도는, 수분 및 이산화탄소에 영향을 받지 않는 파수(波數)를 선택하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 2200cm-1 내지 1950cm-1의 범위 내에서 선정하는 것이 바람직하다. 흡광도는, 상기 주파수 범위를 50cm-1단위로 피크 면적치를 구하고, 그 평균치로 했다.The S / N ratio of the metal nickel powder of this invention is calculated | required by the following method. 1200cm -1 to the absorbance of the absorption spectrum of the 900cm -1, 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum of the absorbance, a ratio of the absorbance is not the base line variations do not have the absorption spectrum range. In general, the absorbance of the region having no absorption spectrum and the baseline is not deformed, it is preferable to select a wave number that is not affected by moisture and carbon dioxide, for example, 2200cm -1 to 1950cm -1 It is preferable to select within the range of. The absorbance calculated | required the peak area value in 50 cm <-1> units of the said frequency range, and made it the average value.

또한, 본 발명의 금속 니켈 분말에 포함되는 SiOH, SiOn, Ni(OH)2는 미량이므로, 푸리에 변환 적외 분광 광도계의 검출기는 고감도 타입이 바람직하고, MCT 검출기 타입을 이용한다. 이 검출기의 조성은, 수은, 카드뮴, 텔루륨으로 이루어지는 반도체소자로 이루어져 있으며, 액체 질소를 사용하여 검출기를 사용하여 차게 하면 고감도로 정보가 얻어지고, 미량 물질에는 유효하다. 또한, 측정중의 시료실의 분위기하에는 다종 성분의 가스가 들어가 있지 않은 것이 바람직하고, 시료실 내는 건조 분위기 가스하 혹은 진공 상태가 바람직하다. 또한, 건조 분위기 가스하에서 측정하는 경우, 노점은 -50℃ 이하로 유지하지 않으면 OH기에 유래하는 신호가 나타나, 해석에 지장을 주므로 주의할 필요가 있다. 적산 횟수는, 노점이 유지되고 있으면 128회 이상이면 충분하다. 측정 분해능은, 4cm-1 이하가 바람직하다.In addition, since SiOH, SiO n , and Ni (OH) 2 contained in the metal nickel powder of this invention are trace amounts, the detector of a Fourier Transform infrared spectrophotometer has a high sensitivity type, and uses an MCT detector type. The detector is composed of a semiconductor element composed of mercury, cadmium, and tellurium. When the detector is filled with liquid nitrogen and filled with a detector, information is obtained with high sensitivity and is effective for trace substances. In addition, it is preferable that the gas of various components does not enter in the atmosphere of the sample chamber under measurement, and the inside of a sample chamber is preferable under a dry atmosphere gas or a vacuum state. In addition, when measuring under dry atmosphere gas, when a dew point is not maintained at -50 degrees C or less, the signal derived from an OH group will appear, and it needs to be careful because it interferes with an analysis. The total number of times of integration is sufficient as 128 times or more as long as a dew point is maintained. As for the measurement resolution, 4 cm <-1> or less is preferable.

예를 들면, 본 발명의 푸리에 변환 적외 분광의 흡수 스펙트럼의 강도는 이하의 측정 조건으로 구한 것이다.For example, the intensity | strength of the absorption spectrum of the Fourier transform infrared spectroscopy of this invention is calculated | required by the following measurement conditions.

기종명:형식 Nicolet 6700(써모피셔싸이언티픽사 제조)Model name: Model Nicolet 6700 (manufactured by Thermo Fisher Scientific)

검출기:MCT 검출기Detector: MCT Detector

측정 방법:확산 반사 방식Measurement method: Diffuse reflection method

측정 조건:분해능 4cm-1, 적산 횟수 256회Measurement condition: Resolution 4cm -1 , accumulation times 256 times

광원:적외 흡수광(IR)Light source: infrared absorption light (IR)

시료실 내 가스:건조 질소(노점:-72℃)Gas in sample chamber: Dry nitrogen (dew point: -72 ° C)

빔 스플리터:KBrBeam Splitter: KBr

백그라운드 적산 횟수, 분해능:256회, 4cm-1 Background integration count, resolution: 256 times, 4 cm -1

해석법:K-M 변환Method: K-M Conversion

본 발명의 니켈 분말은, 예를 들면, 기상법이나 액상법 등 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 특히 염화 니켈 가스와 환원성 가스를 접촉시킴으로써 니켈 분말을 생성시키는 기상 환원법, 혹은 열 분해성의 니켈 화합물을 분무하여 열 분해하는 분무 열 분해법이, 생성하는 금속 미분말의 입자 직경을 용이하게 제어할 수 있으며, 또한 구(球)상의 입자를 효율적으로 제조할 수 있다고 하는 점에서 바람직하다. 또, 니켈 분말의 입경은, 10nm 내지 1μm인 것이 일반적이다.The nickel powder of this invention can be manufactured by well-known methods, such as a gas phase method and a liquid phase method, for example. In particular, the gas phase reduction method of contacting nickel chloride gas and reducing gas to generate nickel powder, or the spray pyrolysis method of thermally decomposing a pyrolytic nickel compound by thermal decomposition, can easily control the particle diameter of the fine metal powder to be produced. Moreover, it is preferable at the point that spherical particle | grains can be manufactured efficiently. Moreover, it is common that the particle size of nickel powder is 10 nm-1 micrometer.

니켈 분말 기상 환원법에 있어서는, 기화시킨 염화 니켈의 가스와 수소 등의 환원성 가스를 반응시키는데, 고체의 염화 니켈을 가열하여 증발시켜 염화 니켈 가스를 생성시켜도 된다. 그러나, 염화 니켈의 산화 또는 흡습 방지, 및 에너지 효율을 고려하면, 금속 니켈에 염소 가스를 접촉시켜 염화 니켈 가스를 연속적으로 발생시키고, 이 염화 니켈 가스를 환원 공정에 직접 공급하고, 그 다음에 환원성 가스와 접촉시켜 염화 니켈 가스를 연속적으로 환원하여 니켈 미분말을 제조하는 방법이 유리하다.In the nickel powder gas phase reduction method, a gas of evaporated nickel chloride and a reducing gas such as hydrogen may be reacted. Nickel chloride gas may be produced by heating and evaporating solid nickel chloride. However, in view of preventing oxidation or absorption of nickel chloride and energy efficiency, chlorine gas is brought into contact with metal nickel to continuously generate nickel chloride gas, and the nickel chloride gas is directly supplied to a reduction process, and then reducible. It is advantageous to produce nickel fine powder by contacting with gas to continuously reduce nickel chloride gas.

기상 환원 반응에 의한 니켈 분말의 제조 과정에서는, 염화 니켈 가스와 환원성 가스가 접촉한 순간에 니켈 원자가 생성되고, 니켈 원자끼리가 충돌·응집함으로써 초미립자가 생성되고, 성장한다. 그리고, 환원 공정에서의 염화 니켈 가스의 분압이나 온도 등의 조건에 의해서, 생성하는 니켈 미분말의 입경이 정해진다. 상기와 같은 니켈 분말의 제조 방법에 의하면, 염소 가스의 공급량에 따른 양의 염화 니켈 가스가 발생하기 때문에, 염소 가스의 공급량을 제어함으로써 환원 공정에 공급하는 염화 니켈 가스의 양을 조정할 수 있고, 이에 의해서 생성하는 니켈 미분말의 입경을 제어할 수 있다. In the manufacturing process of the nickel powder by a gas phase reduction reaction, a nickel atom is produced at the moment when nickel chloride gas and a reducing gas contact, and ultrafine particles generate | generate and grow by colliding and aggregating nickel atoms. And the particle diameter of the fine nickel powder to produce | generate is determined by conditions, such as partial pressure of nickel chloride gas and temperature in a reduction process. According to the method for producing nickel powder as described above, since nickel chloride gas in an amount corresponding to the supply amount of chlorine gas is generated, the amount of nickel chloride gas supplied to the reduction process can be adjusted by controlling the supply amount of chlorine gas. Particle diameter of the nickel fine powder produced | generated can be controlled.

또한, 금속 염화물 가스는, 염소 가스와 금속의 반응으로 발생하기 때문에, 고체 금속 염화물의 가열 증발에 의해 금속 염화물 가스를 발생시키는 방법과는 상이하며, 캐리어 가스의 사용을 적게 할 수 있을 뿐만 아니라, 제조 조건에 따라서는 사용하지 않는 것도 가능하다. 따라서, 기상 환원 반응이, 캐리어 가스의 사용량 저감과 그에 따르는 가열 에너지의 저감에 의해, 제조 비용의 삭감을 도모할 수 있다.In addition, since the metal chloride gas is generated by the reaction between the chlorine gas and the metal, it is different from the method of generating the metal chloride gas by heat evaporation of the solid metal chloride, and the use of the carrier gas can be reduced, Depending on manufacturing conditions, it is also possible not to use. Therefore, the gas phase reduction reaction can reduce the production cost by reducing the amount of the carrier gas used and the heating energy.

또, 염화 공정에서 발생한 염화 니켈 가스에 불활성 가스를 혼합함으로써, 환원 공정에 있어서의 염화 니켈 가스의 분압을 제어할 수 있다. 이와 같이, 염소 가스의 공급량 혹은 환원 공정에 공급하는 염화 니켈 가스의 분압을 제어함으로써, 니켈 분말의 입경을 제어할 수 있어, 입경의 불균일을 억제할 수 있음과 더불어, 입경을 임의로 설정할 수 있다.Moreover, the partial pressure of nickel chloride gas in a reduction process can be controlled by mixing an inert gas with the nickel chloride gas produced at the chloride process. Thus, by controlling the supply amount of chlorine gas or the partial pressure of nickel chloride gas supplied to a reduction process, the particle size of nickel powder can be controlled, the nonuniformity of a particle size can be suppressed, and a particle size can be set arbitrarily.

상기와 같은 기상 환원법에 의한 니켈 분말의 제조 조건은, 평균 입경 1μm 이하가 되도록 임의로 설정하는데, 예를 들면, 출발 원료인 금속 니켈의 입경은 약 5~20mm의 입상, 괴상, 판상 등이 바람직하고, 또, 그 순도는 대체로 99.5% 이상이 바람직하다. 이 금속 니켈을, 우선 염소 가스와 반응시켜 염화 니켈 가스를 생성시키는데, 그 때의 온도는, 반응을 충분히 진행시키기 위해서 800℃ 이상으로 하고, 또한 니켈의 융점인 1453℃ 이하로 한다. 반응 속도와 염화로의 내구성을 고려하면, 실용적으로는 900℃~1100℃의 범위가 바람직하다.The conditions for producing the nickel powder by the vapor phase reduction method as described above are arbitrarily set so as to have an average particle diameter of 1 μm or less. For example, the particle size of the metal nickel, which is a starting material, is preferably about 5 to 20 mm in granules, blocks, plates, and the like. In addition, the purity is preferably 99.5% or more. The metal nickel is first reacted with chlorine gas to generate nickel chloride gas. The temperature at that time is 800 ° C or higher in order to sufficiently advance the reaction, and 1453 ° C or lower, which is the melting point of nickel. In consideration of the reaction rate and the durability of the chlorine furnace, a practical range of 900 ° C to 1100 ° C is preferable.

그 다음에, 이 염화 니켈 가스를 환원 공정에 직접 공급하고, 수소 가스 등의 환원성 가스와 접촉 반응시키는데, 질소나 아르곤 등의 불활성 가스를, 염화 니켈 가스에 대해 1~30몰% 혼합하고, 이 혼합 가스를 환원 공정에 도입해도 된다. 또, 염화 니켈 가스와 함께, 또는 독립하여 염소 가스를 환원 공정에 공급할 수도 있다. 이와 같이 염소 가스를 환원 공정에 공급함으로써, 염화 니켈 가스의 분압을 조정할 수 있어, 생성하는 니켈 분말의 입경을 제어하는 것이 가능해진다. 환원 반응의 온도는 반응 완결에 충분한 온도 이상이면 되는데, 고체형의 니켈 분말을 생성하는 것이, 취급이 용이하므로, 니켈의 융점 이하가 바람직하고, 경제성을 고려하면 900℃~1100℃가 실용적이다.Subsequently, the nickel chloride gas is directly supplied to a reduction step and brought into contact with a reducing gas such as hydrogen gas. An inert gas such as nitrogen or argon is mixed in an amount of 1 to 30 mol% with respect to the nickel chloride gas. You may introduce mixed gas into a reduction process. Moreover, chlorine gas can also be supplied to a reduction process with nickel chloride gas or independently. Thus, by supplying chlorine gas to a reduction process, the partial pressure of nickel chloride gas can be adjusted, and it becomes possible to control the particle diameter of the nickel powder to produce | generate. Although the temperature of a reduction reaction should just be sufficient as the temperature sufficient for completion | finish of reaction, since producing a solid nickel powder is easy to handle, below melting | fusing point of nickel is preferable, and considering economical efficiency, 900 degreeC-1100 degreeC is practical.

이와 같이 환원 반응을 행한 니켈 분말을 생성시켰으면, 다음은 생성 니켈 분말을 냉각한다. 냉각시에, 생성한 니켈의 1차 입자끼리의 응집에 의한 2차 입자의 생성을 방지하여 원하는 입경의 니켈 분말을 얻기 위해서, 질소 가스 등의 불활성 가스를 취입함으로써, 환원 반응을 끝낸 1000℃ 부근의 가스류를 400~800℃ 정도까지 급속 냉각시키는 것이 바람직하다. 그 후, 생성한 니켈 분말을, 예를 들면 버그 필터 등에 의해 분리, 회수한다.After the nickel powder subjected to the reduction reaction is produced, the produced nickel powder is cooled next. At the time of cooling, in order to prevent generation | occurrence | production of secondary particle by the aggregation of the primary particle | grains of the nickel which were produced | generated, and to obtain nickel powder of a desired particle size, inert gas, such as nitrogen gas, was blown in near 1000 degreeC which completed the reduction reaction. It is preferable to rapidly cool the gas stream to about 400-800 degreeC. Thereafter, the produced nickel powder is separated and recovered by, for example, a bug filter or the like.

또, 분무 열 분해법에 의한 니켈 분말의 제조 방법에서는, 열 분해성의 니켈 화합물을 원료로 하는데, 구체적으로는, 질산염, 황산염, 옥시질산염, 옥시황산염, 염화물, 암모늄 착체, 인산염, 카르본산염, 알콕시 화합물 등의 1종 또는 2종 이상이 포함된다. 이 니켈 화합물을 포함하는 용액을 분무하여, 미세한 액적을 만드는데, 이 때의 용매로는, 물, 알코올, 아세톤, 에테르 등이 이용된다. 또, 분무 방법은, 초음파 또는 이중 제트 노즐 등의 분무 방법에 의해 행한다. 이와 같이 하여 미세한 액적으로 하고, 고온으로 가열하여 금속 화합물을 열 분해하고, 니켈 분말을 생성시킨다. 이 때의 가열 온도는, 사용되는 특정의 니켈 화합물이 열 분해하는 온도 이상이며, 바람직하게는 금속의 융점 부근이다.In the method for producing nickel powder by spray pyrolysis, pyrolytic nickel compounds are used as raw materials. Specifically, nitrates, sulfates, oxynitrates, oxysulfates, chlorides, ammonium complexes, phosphates, carbonates and alkoxy 1 type, or 2 or more types of compounds, etc. are contained. A fine liquid droplet is formed by spraying the solution containing this nickel compound, and water, alcohol, acetone, ether and the like are used as the solvent at this time. In addition, the spraying method is performed by a spraying method such as an ultrasonic wave or a double jet nozzle. In this way, fine droplets are dropped and heated to a high temperature to thermally decompose the metal compound to produce nickel powder. The heating temperature at this time is more than the temperature which the specific nickel compound used thermally decomposes, Preferably it is near melting | fusing point of a metal.

액상법에 의한 금속 미분말의 제조 방법에서는, 황산니켈, 염화니켈 혹은 니켈 착체를 포함하는 니켈 수용액을, 수산화나트륨 등의 알칼리금속수산화물 중에 첨가하는 등 접촉시켜 니켈 수산화물을 생성시키고, 그 다음에 히드라진 등의 환원제로 니켈수산화물을 환원하여 금속 니켈 분말을 얻는다. 이와 같이 하여 생성한 금속 니켈 분말은, 균일한 입자를 얻기 위해서 필요에 따라 해쇄 처리를 행한다.In the method for producing fine metal powders by the liquid phase method, an aqueous nickel solution containing nickel sulfate, nickel chloride or a nickel complex is added to an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, and the like is brought into contact with each other to produce a nickel hydroxide. The nickel hydroxide is reduced with a reducing agent to obtain metal nickel powder. The metal nickel powder thus produced is subjected to a pulverization treatment as necessary in order to obtain uniform particles.

예를 들면, 이상과 같은 방법으로 얻어진 니켈 분말을, pH, 온도를 제어한 특정한 조건으로 탄산수용액 중에 현탁시켜 처리를 행한다. 탄산수용액으로 처리함으로써, 니켈 표면에 부착되어 있는 염소 등의 불순물이 충분히 제거됨과 더불어, 니켈 분말의 표면에 존재하는 수산화니켈 등의 수산화물이나 입자끼리의 마찰 등에 의해 표면으로부터 이격하여 형성된 미립자가 제거되므로, 표면에 균일한 산화 니켈의 피막을 형성할 수 있다. 예를 들면, 탄산수용액으로 세정을 행하는 방법, 혹은 순수 세정 후의 물 슬러리 중에 탄산 가스를 취입하거나, 혹은 탄산수용액을 첨가하여 처리할 수도 있다.For example, the nickel powder obtained by the above method is suspended and suspended in a carbonated aqueous solution under specific conditions in which pH and temperature are controlled. By treating with a carbonated aqueous solution, impurities such as chlorine adhering to the surface of nickel are sufficiently removed, and fine particles formed away from the surface by friction between particles of hydroxides such as nickel hydroxide present on the surface of nickel powder or particles are removed. A uniform film of nickel oxide can be formed on the surface. For example, carbonic acid gas may be blown into the method of washing with a carbonated aqueous solution, or water slurry after pure water washing, or it may be added and treated.

이 탄산수용액으로의 처리에서는, 규소 함유량 15wtppm 이하인 탄산수용액 또는 규소 함유량 15wtppm 이하인 순수에 이산화탄소를 용해시킨 것을 이용하고, 처리 조건은 온도 0℃ 이상 30℃ 미만, pH4 이상 6 미만이다. 이러한 조건으로의 처리에 의해, 건조 후의 니켈 분말 표면에 균일한 산화 피막이 형성되고, 또, 규산의 니켈 분말로의 부착이 억제되므로, 조대입자의 발생을 억제할 수 있다.In the treatment with this carbonated aqueous solution, carbonic acid aqueous solution having a silicon content of 15 wtppm or less or carbon dioxide dissolved in a pure water having a silicon content of 15 wtppm or less is used, and the treatment conditions are a temperature of 0 ° C or higher and less than 30 ° C and pH 4 or higher and lower than 6. By treatment under such conditions, a uniform oxide film is formed on the surface of the nickel powder after drying, and adhesion of silicic acid to the nickel powder is suppressed, so that generation of coarse particles can be suppressed.

또한, 순수로부터의 규소 제거에는, RO 역침투막, 이온 교환기 및 정전 흡착 기능을 구비한 여과기를 이용한다. 지금까지는 RO 역침투막과 이온 교환기를 이용하여 여과하는 것이 일반적이었지만, RO 역침투막과 이온 교환기로 다 제거할 수 없는 규산에 대한 대응이 곤란했다. 그러나, 본 발명자들이 예의 연구를 거듭한 결과, RO 역침투막과 이온 교환기로 다 제거할 수 없는 규산은 콜로이달실리카 등으로 이루어지는 것임을 알았다. 이 콜로이달 실리카는, 표면의 제타전위가 (-)로 하전되어 있으므로, 표면의 제타전위가 (+)로 하전된 여재를 구비한 여과기를 이용함으로써 저감 할 수 있음을 알았다. 이 여과기의 재질은, 친수성의 나일론, 올레핀 폴리머 또는 폴리에스테르 등 각종 적용할 수 있는데, 표면의 제타전위가 플러스(+)인 재질이면 특별히 제한은 없다. 순수 중에 포함되는 규산은, 통상의 순수 제조에 사용되는 역침투막이나 이온 교환기로는 충분히 제거할 수 없다. 규소 함유량 15wtppm 이하인 순수나 탄산수용액은, 표면의 제타전위가 (+)로 대전된 필터를 갖는 여과기로 더 처리함으로써 얻을 수 있다. 예를 들면, 이러한 필터는, 상품명:다용도형 탱크가 있는 홀더 여과판 타입(어드밴텍토요 주식회사)이나 상품명:Posidyne UP(일본 폴 주식회사) 등으로서 시판되고 있다.In addition, the RO reverse osmosis membrane, an ion exchanger, and the filter provided with the electrostatic adsorption function are used for silicon removal from pure water. Until now, it was common to filter using RO reverse osmosis membrane and ion exchanger, but it was difficult to cope with silicic acid which cannot be removed by RO reverse osmosis membrane and ion exchanger. However, as a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that silicic acid, which cannot be removed by the RO reverse osmosis membrane and ion exchanger, consists of colloidal silica or the like. Since the zeta potential of the colloidal silica is negatively charged, it has been found that the colloidal silica can be reduced by using a filter provided with a filter in which the zeta potential of the surface is positively charged. The material of the filter can be applied to various kinds of materials, such as hydrophilic nylon, olefin polymer or polyester, but there is no particular limitation as long as the zeta potential of the surface is positive (+). The silicic acid contained in the pure water cannot be sufficiently removed by a reverse osmosis membrane and an ion exchanger used in ordinary pure water production. Pure water or a carbonated aqueous solution having a silicon content of 15 wtppm or less can be obtained by further treating with a filter having a filter in which the zeta potential of the surface is charged with (+). For example, such a filter is commercially available as a holder filter plate type (Advantech Toyo Co., Ltd.), a brand name: Posidyne UP (Japan Pole Co., Ltd.), etc. which have a multipurpose tank.

이와 같이 하여 니켈 분말을 탄산 처리한 후, 그 니켈 분말을 건조한다. 건조 방법은 공지의 방법을 채용할 수 있으며, 구체적으로는 고온의 가스와 접촉시켜 건조하는 기류 건조, 가열 건조 및 진공 건조 등을 들 수 있다. 이들 중, 기류 건조는 입자끼리의 접촉에 의한 산화 피막의 마모가 없으므로, 바람직한 방법이다. 또, 니켈 분말의 표면에 균질인 산화 피막을 형성시키기 위해서는, 단시간에 수분을 제거하여 건조하는 것이 바람직하다.In this manner, after the nickel powder is carbonated, the nickel powder is dried. A well-known method can be employ | adopted as a drying method, Specifically, airflow drying, heat drying, vacuum drying, etc. which contact and dry in contact with hot gas are mentioned. Among these, airflow drying is a preferred method because there is no wear of the oxide film due to contact between the particles. Moreover, in order to form a homogeneous oxide film on the surface of nickel powder, it is preferable to remove moisture and to dry in a short time.

이 건조한 니켈 분말은, 또한 산소 분압을 제어한 환경하에서 열처리를 행하고, 분말 표면의 Ni(OH)2량을 제어한다. 예를 들면, 유동 교반기 등을 이용하여, 교반을 행하면서, 산소 분압을 제어한 분위기하에서 열처리를 행한다. 열처리 온도, 열처리 시간은, 니켈 분말의 사이즈, 산화 피막의 두께에 따라 결정되며, 이 때의 열처리 온도로는, 통상 200~400℃이며, 바람직하게는 200~300℃, 보다 바람직하게는 200~250℃이다. 또, 열처리 시간은, 통상 1분~10시간이다.The dried nickel powder is further subjected to heat treatment in an environment in which the oxygen partial pressure is controlled to control the amount of Ni (OH) 2 on the surface of the powder. For example, heat processing is performed in the atmosphere which controlled oxygen partial pressure, stirring, using a flow stirrer. The heat treatment temperature and the heat treatment time are determined according to the size of the nickel powder and the thickness of the oxide film, and the heat treatment temperature at this time is usually 200 to 400 ° C, preferably 200 to 300 ° C, more preferably 200 to 250 ° C. Moreover, heat processing time is 1 minute-10 hours normally.

이와 같이 하여 얻어진 니켈 분말은 필요에 따라서, 다시, 물 등의 용매에 분산된다. 그 후, 필터를 통과시킴으로써, 조분이나 연결립의 제거를 행한다. 니켈 분말의 분산성이 양호하므로, 효율적으로 조분이나 연결립의 제거를 행할 수 있다. 필트레이션에는, 공지의 방법을 이용할 수 있으며, 필터는, 유기 고분자제(나일론, 폴리프로필렌, 4불화에틸렌수지, 셀룰로오스, 멜라민, 페놀수지, 아크릴 등), 금속제, 무기 화합물제의 필터를 이용할 수 있다. 또한, 필터의 효율을 올리기 위해서, 필터를 통과시키기 전에, 그 외의 분급 수단, 예를 들면 원심력을 이용한 분급 수단(액체 사이클론) 등을 행해도 된다.The nickel powder thus obtained is further dispersed in a solvent such as water as needed. Thereafter, coarse powder and connecting lip are removed by passing the filter. Since the dispersibility of nickel powder is favorable, coarse powder and a connection grain can be removed efficiently. A well-known method can be used for filtration, The filter can use the organic polymer (nylon, polypropylene, tetrafluoroethylene resin, cellulose, melamine, phenol resin, acryl, etc.), a metal, an inorganic compound filter have. Moreover, in order to raise the efficiency of a filter, you may perform other classification means, such as the classification means (liquid cyclone) using a centrifugal force, before letting a filter pass.

다음에, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명은, 이하의 예에 의해 전혀 제한되는 것은 아니다.Next, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not restrict | limited at all by the following example.

실시예Example

본 실시예에 있어서의 평균 입경, FT-IR 측정, 규소 농도, 응집은 이하의 방법에 의해 평가를 행했다.The average particle diameter, FT-IR measurement, silicon concentration, and aggregation in the present Example were evaluated by the following method.

a. 평균 입경의 평가a. Evaluation of Average Particle Size

주사 전자현미경에 의해 니켈 분말의 사진을 촬영하고, 그 사진으로부터 입자 200개의 입경을 측정하여 그 평균치를 산출했다. 또한, 입경은 입자를 감싸는 최소원의 직경으로 했다.The photograph of the nickel powder was taken with the scanning electron microscope, the particle diameter of 200 particle | grains was measured from the photograph, and the average value was computed. In addition, the particle diameter was made into the diameter of the minimum circle which wraps particle | grains.

b. FT-IR 측정b. FT-IR measurement

이하의 조건으로, FT-IR 측정을 행했다.FT-IR measurement was performed on condition of the following.

기종명:형식 Nicolet 6700(써모피셔싸이언티픽사 제조)Model name: Model Nicolet 6700 (manufactured by Thermo Fisher Scientific)

검출기:MCT 검출기Detector: MCT Detector

측정 방법:확산 반사 방식Measurement method: Diffuse reflection method

측정 조건:분해능 4cm-1, 적산 횟수 256회Measurement condition: Resolution 4cm -1 , accumulation times 256 times

광원:적외 흡수광(IR)Light source: infrared absorption light (IR)

시료실 내 가스:건조 질소(노점:-72℃)Gas in sample chamber: Dry nitrogen (dew point: -72 ° C)

빔 스플리터:KBrBeam Splitter: KBr

백그라운드 적산 횟수:256회Background accumulation total: 256 times

분해능:4cm-1 Resolution: 4cm -1

해석:K-M 변환Interpretation: K-M Conversion

측정 샘플은 이하와 같이 조제했다. 금속 니켈 분말을, 구경 7mm인 바닥이 있는 원기둥 샘플 지그에 채운 후, 금속 니켈 분말을 원기둥 샘플 지그 상단부에서 수평으로 밀어 고르게 했다. 이 원기둥 샘플 지그를, 샘플을 흘리지 않도록 FT-IR 장치에 세트했다.The measurement sample was prepared as follows. Metal Nickel Powder, Caliber 7mm After filling the cylindrical sample jig with phosphorus bottom, the metal nickel powder was pushed horizontally at the top of the cylindrical sample jig to be even. This cylindrical sample jig was set in an FT-IR apparatus so that a sample might not flow.

S/N비는, 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼의 흡광도 또는 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼의 흡광도의, 흡수 스펙트럼이 없고 베이스라인이 변형되어 있지 않은 영역의 흡광도(2200cm-1 내지 1950cm-1)에 대한 비로 했다. 또한, 흡광도는, 상기한 주파수 범위를 50cm-1 단위로 피크 면적치를 구하고, 그 평균치로 했다.S / N ratio, 1200cm -1 to the absorbance of the absorption spectrum of the absorbance of 900cm -1 absorbance or absorption spectrum 3700cm -1 to 3600cm -1 of, that is not the base line variations do not have absorption spectra region (2200cm - 1 to 1950 cm -1 ). In addition, the absorbance calculated | required the peak area value in 50 cm <-1> unit of said frequency range, and made it the average value.

c. 규소 농도 측정c. Silicon concentration measurement

이온 크로마토그래피에 의해, 순수, 탄산수용액 중의 규소 함유량을 측정했다.By ion chromatography, the silicon content in the pure water and the carbonated aqueous solution was measured.

기종명:형식 IC-2010(토소(tosoh)사 제조)(검출기:CM검출기)Model name: Model IC-2010 (manufactured by Tosoh, Inc.) (detector: CM detector)

분석 모드:CM;Range(5000μS-1/2) 논 서프레서(non-suppressor) 모드Analysis mode: CM; Range (5000 μS-1 / 2) non-suppressor mode

칼럼:TSKgel SuperIC-AP 4.6mmID×7.5cmColumn: TSKgel SuperIC-AP 4.6mmID × 7.5cm

용리액:2mM의 KOHEluent: 2 mM KOH

유속:0.8mL/minFlow rate: 0.8 mL / min

칼럼 온도:40℃Column temperature: 40 degrees Celsius

d. 응집의 평가d. Evaluation of Cohesion

금속 니켈 분말 100g을 순수 1900g에 투입하고, 5wt%의 금속 니켈 분말 슬러리를 작성한다. 그 다음에, 체눈 크기 1μm인 필터에 의해 흡인 여과를 행한다. 필터 상에 남은 금속 니켈 분말을 불활성 가스 분위기하에서 120℃, 30분 건조, 그 중량을 계측하고, 그 통과율((100(g)-필터 상의 니켈 분말의 중량(g))/100(g))에 의해 응집을 평가했다. 통과율이 90% 이상을 우량(표 1, 도 4에서는 「○」로 나타냄), 80%이상을 양호(표 1, 도 4에서는 「△」로 나타냄), 80% 미만을 불합격(표 1, 도 4에서는 「×」로 나타냄)으로 했다.100 g of metal nickel powder is charged into 1900 g of pure water, and a 5 wt% metal nickel powder slurry is prepared. Next, suction filtration is performed by a filter having a body size of 1 m. The metal nickel powder remaining on the filter was dried at 120 ° C. for 30 minutes in an inert gas atmosphere, and the weight thereof was measured, and the passing rate thereof ((100 (g)-weight of nickel powder on the filter (g)) / 100 (g)) The aggregation was evaluated by. A pass rate of 90% or more is excellent (indicated by "○" in Table 1 and FIG. 4), 80% or more is good (indicated by "△" in Table 1 and FIG. 4), and less than 80% is rejected (Table 1 and FIG. In 4, it is represented by "x".

<실시예 1>(Si 최소, Ni(OH) 최소)Example 1 (Si minimum, Ni (OH) minimum)

일본국 특허 제4286220호 공보의 실시예 1에 기재하는 방법과 동일한 방법으로 금속 니켈 분말을 제작했다. 또한, 금속 니켈 분말의 제조에 앞서, 하기의 규소 농도가 상이한 순수를 준비했다.Metal nickel powder was produced by the method similar to the method of Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 4286220. In addition, prior to the preparation of the metal nickel powder, pure water having different silicon concentrations below was prepared.

순수 A:규소 농도 65wtppmPure A: Silicon Concentration 65wtppm

순수 B:순수 A를 표면의 제타전위가 (+)로 대전한 필터를 갖는 여과 장치(다용도형 탱크가 있는 홀더 여과판 타입(어드밴텍토요 주식회사 제조))로 처리했다. 규소 농도는 3wtppm이다.Pure water B: The pure water A was processed by the filtration apparatus (holder filter plate type with a versatile tank type (made by Advantech Toyo Co., Ltd.)) with the filter which the zeta potential of the surface charged to (+). Silicon concentration is 3 wtppm.

도 5에 나타내는 금속 니켈 분말의 제조 장치의 염화로(1)에, 평균 입경 5mm인 금속 니켈 M을 충전하고, 가열 수단(11)으로 노 내 분위기 온도를 1100℃로 했다. 그 다음에, 노즐(12)로부터 염화로(1) 내에 염소 가스를 공급하고, 금속 니켈 쇼트 M을 염화하여 염화 니켈 가스를 발생시켰다. 그 후, 노즐(13)로부터 공급한 질소 가스로 희석, 혼합했다. 그리고, 염화 니켈 가스와 질소 가스의 혼합 가스를, 가열 수단(21)으로 1000℃의 노 내 분위기 온도로 한 환원로(2) 내에, 노즐(22)로부터 도입했다.In the chloride furnace 1 of the apparatus for producing a metal nickel powder shown in FIG. 5, a metal nickel M having an average particle diameter of 5 mm was filled, and the furnace 11 temperature was set to 1100 ° C. by the heating means 11. Then, chlorine gas was supplied from the nozzle 12 into the chloride furnace 1, and the metal nickel short M was chlorided to generate nickel chloride gas. Thereafter, the mixture was diluted and mixed with nitrogen gas supplied from the nozzle 13. And the mixed gas of nickel chloride gas and nitrogen gas was introduce | transduced from the nozzle 22 into the reduction furnace 2 which made into the furnace atmosphere temperature of 1000 degreeC with the heating means 21. As shown in FIG.

이와 동시에, 노즐(23)로부터 환원로(2) 내에 수소 가스를 공급하여 염화 니켈 가스를 환원하고, 니켈 분말 P를 얻었다. 또한, 환원 공정에서 생성한 금속 니켈 분말 P에, 노즐(24)로부터 공급한 질소 가스를 접촉시키고, 금속 니켈 분말 P를 냉각했다. 금속 니켈 분말 P의 일부를 채취하여, 수세 후, 평균 입경을 측정한 바, 금속 니켈 분말 P의 평균 입경은 0.3μm였다.At the same time, hydrogen gas was supplied from the nozzle 23 into the reduction furnace 2 to reduce nickel chloride gas to obtain nickel powder P. Moreover, the nitrogen gas supplied from the nozzle 24 was made to contact the metal nickel powder P produced | generated at the reduction process, and metal nickel powder P was cooled. A part of metal nickel powder P was sampled and the average particle diameter was measured after water washing, and the average particle diameter of metal nickel powder P was 0.3 micrometer.

그 다음에, 질소 가스-염산 증기-금속 니켈 분말 P로 이루어지는 혼합 가스를, 순수 B를 충전한 세정조로 유도하고, 금속 니켈 분말을 분리 회수하고, 순수 B로 세정했다(순수 세정).Next, the mixed gas consisting of nitrogen gas-hydrochloric acid vapor-metal nickel powder P was led to a washing tank filled with pure water B, the metal nickel powder was separated and recovered, and washed with pure water B (pure washing).

그 다음에, 금속 니켈 분말 슬러리 중에 탄산 가스를 취입하여 pH4.0으로 하고, 탄산수용액으로서 25℃에서 60분 처리를 행했다(탄산수용액 처리).Next, carbonic acid gas was blown into the metal nickel powder slurry to pH 4.0, and 60 minutes of processing was performed at 25 degreeC as a carbonic acid solution (carbonated aqueous solution process).

탄산수용액으로 처리한 금속 니켈 분말을 건조한 후, 대기중에 있어서 200℃에서 30분 처리를 행하고(가열 처리), 금속 니켈 분말을 얻었다. 금속 니켈 분말의 평균 입경은 0.3μm였다.After drying the metallic nickel powder treated with the aqueous carbonic acid solution, the mixture was treated at 200 ° C. for 30 minutes in the air (heating treatment) to obtain a metallic nickel powder. The average particle diameter of the metal nickel powder was 0.3 μm.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다. 또, FT-IR의 결과를 도 1에 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown. Moreover, the result of FT-IR was shown in FIG.

<실시예 2><Example 2>

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 5wtppm으로 한 순수를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 250℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 5 wtppm was used, and the heat treatment after drying was carried out at 250 ° C for 30 minutes instead of for 30 minutes at 200 ° C. In the same manner, a metal nickel powder was obtained. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 3><Example 3>

건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 150℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Metal nickel powder was obtained like Example 1 except having carried out the heat processing after drying at 30 degreeC for 30 minutes instead of 30 degreeC at 200 degreeC. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 4><Example 4>

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 14wtppm으로 한 순수를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Metal nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that pure water having a silicon concentration of 14 wtppm was used instead of pure water B having a silicon concentration of 3 wtppm. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 5>Example 5

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 6wtppm으로 한 순수를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 150℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 6 wtppm was used, and the heat treatment after drying was carried out at 150 ° C for 30 minutes instead of for 30 minutes at 200 ° C. In the same manner, a metal nickel powder was obtained. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 6><Example 6>

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 5 ppm으로 한 순수를 이용하고, 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 150℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 5 ppm was used, except that the heat treatment after drying was treated at 150 ° C for 30 minutes instead of 30 minutes at 200 ° C. In the same manner, a metal nickel powder was obtained.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 7><Example 7>

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 4wtppm으로 한 순수를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 150℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 4 wtppm was used, and the heat treatment after drying was carried out at 150 ° C for 30 minutes instead of for 30 minutes at 200 ° C. In the same manner, a metal nickel powder was obtained. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 8><Example 8>

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 대신에, 규소 농도 7wtppm으로 한 순수를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Metal nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that pure water at a silicon concentration of 7 wtppm was used instead of pure water at a silicon concentration of 3 wtppm. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 9>Example 9

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 14wtppm으로 한 순수를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 250℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 14 wtppm was used, and, except that the heat treatment after drying was treated at 250 ° C for 30 minutes instead of at 30 ° C for 30 minutes, In the same manner, a metal nickel powder was obtained. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<비교예 1>Comparative Example 1

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 45wtppm으로 한 순수 A를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 150℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Example 1 except that pure water A having a silicon concentration of 45 wtppm was used instead of pure water B having a silicon concentration of 3 wtppm, and heat treatment after drying was performed at 150 ° C. for 30 minutes instead of 200 minutes for 30 minutes. In the same manner as the above, a metal nickel powder was obtained. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<비교예 2>Comparative Example 2

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 49wtppm으로 한 순수를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다. 또한, 순수의 규소 농도는, 순수 A와 순수 B를 혼합함으로써 조제했다.Metal nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that pure water having a silicon concentration of 49 wtppm was used instead of pure water B having a silicon concentration of 3 wtppm. In addition, the silicon concentration of pure water was prepared by mixing pure water A and pure water B. FIG.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<비교예 3>Comparative Example 3

규소 농도 3wtppm으로 한 순수 B 대신에, 규소 농도 65wtppm으로 한 순수를 이용하고, 또한 건조 후의 가열 처리를 200℃에서 30분 처리 대신에, 250℃에서 30분 처리로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 금속 니켈 분말을 얻었다.Instead of pure water B with a silicon concentration of 3 wtppm, pure water with a silicon concentration of 65 wtppm was used, and the heat treatment after drying was carried out at 250 ° C for 30 minutes instead of for 30 minutes at 200 ° C. In the same manner, a metal nickel powder was obtained.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<실시예 10><Example 10>

노즐(13)로부터의 질소 가스의 희석량을 증가시키는 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 금속 니켈 분말 Q를 제작했다. 금속 니켈 분말 Q의 일부를 채취하여, 수세 후, 평균 입경을 측정했는데, 금속 니켈 분말 Q의 평균 입경은 0.15μm였다. 이 금속 니켈 분말 Q를, 실시예 1과 동일하게 순수 세정, 탄산수용액 처리, 가열 처리를 행했다.A metal nickel powder Q was produced in the same manner as in Example 1 except that the dilution amount of the nitrogen gas from the nozzle 13 was increased. A part of metal nickel powder Q was taken out and the average particle diameter was measured after water washing, but the average particle diameter of metal nickel powder Q was 0.15 micrometer. Pure water washing | cleaning, a carbonated aqueous solution process, and heat processing were performed like this metal nickel powder Q similarly to Example 1.

표 1에, 금속 니켈 분말의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X), 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y), 응집의 평가 결과를 나타냈다.In Table 1, the S / N ratio (Y), aggregation of the S / N ratio (X), the absorption spectrum signal of 3700cm -1 to 3600cm -1 of the absorption spectrum signal of 1200cm -1 to 900cm -1 of metal nickel powder The evaluation result was shown.

<참고예 1>Reference Example 1

비교예 1의 금속 니켈 분말을, TGS 검출기를 갖는 이하의 FT-IR 장치(기종명:형식 Nicolet6700(써모피셔싸이언티픽사 제조))로 평가한 결과를 도 3에 나타냈다.The metal nickel powder of the comparative example 1 was evaluated with the following FT-IR apparatus (model name: model Nicolet6700 (made by Thermo Fisher Scientific)) which has a TGS detector, and is shown in FIG.

실시예 1~실시예 9, 비교예 1~비교예 3의 결과를 도 4에 나타냈다. 도 4를 보면, 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 있어서의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X)와 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y)가, Y≤-1.0×X+23.0을 만족시키는 금속 니켈 분말이, 응집이 없고 양호한 분산성을 나타냄을 알 수 있다. 특히, Y≤-1.0×X+16.7을 만족시키는 금속 니켈 분말이, 보다 뛰어난 분산성을 나타냄을 알 수 있다.The result of Example 1-Example 9 and Comparative Example 1-Comparative Example 3 was shown in FIG. In Figure 4 a, S / N ratio of the signal absorption spectrum of the Fourier transform infrared spectrophotometer 1200cm -1 to 3700cm -1 and 900cm S / N ratio (X) of the absorption spectrum signal of -1 to 3600cm -1 in the ( It turns out that the metal nickel powder which Y) satisfy | fills Y <= 1.0 * X + 23.0 does not have aggregation, and shows favorable dispersibility. In particular, it can be seen that the metal nickel powder satisfying Y ≦ −1.0 × X + 16.7 exhibits more excellent dispersibility.

본 발명에 의하면, 니켈 입자가 응집하여 형성된 조대입자가 대부분 포함되지 않은 금속 니켈 분말이 얻어지고, 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극용 니켈 분말로서 적절하다.According to the present invention, a metal nickel powder containing almost no coarse particles formed by agglomeration of nickel particles is obtained, and is suitable as nickel powder for internal electrodes of a multilayer ceramic capacitor.

1:염화로
11:가열 수단
12:염소 가스 공급관
13:질소 가스 공급관
2:환원로
21:가열 수단
22:노즐
23:수소 가스 공급관
24:냉각 가스 공급관
M:니켈 원료
P:니켈 분말
1: chloride
11: heating means
12: chlorine gas supply pipe
13: Nitrogen gas supply pipe
2: reduction furnace
21: heating means
22: Nozzle
23: hydrogen gas supply pipe
24: cooling gas supply pipe
M: Nickel Raw Material
P: nickel powder

Claims (4)

평균 입경이 10nm 내지 1000nm이며, MCT 검출기를 구비하는 푸리에 변환 적외 분광 광도계에 있어서의 1200cm-1 내지 900cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(X)와 3700cm-1 내지 3600cm-1의 흡수 스펙트럼 신호의 S/N비(Y)가,
Y≤-1.0X+23.0
인 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말.
And the average particle diameter 10nm to 1000nm, S / N ratio (X) and 3700cm -1 to 3600cm -1 of absorption in the absorption spectrum of the signal of 1200cm -1 to 900cm -1 in a Fourier transform infrared spectrophotometer provided with an MCT detector The S / N ratio (Y) of the spectral signal is
Y≤-1.0X + 23.0
Metal nickel powder, characterized in that.
청구항 1에 있어서,
상기 S/N비(X)와 상기 S/N비(Y)가,
Y≤-1.0X+16.7
인 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말.
The method according to claim 1,
The S / N ratio (X) and the S / N ratio (Y)
Y≤-1.0X + 16.7
Metal nickel powder, characterized in that.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 금속 니켈 분말의 제조 방법으로서,
기상법 또는 액상법에 의해 니켈 화합물로부터 금속 니켈 분말을 생성시키고,
상기 금속 니켈 분말을 냉각하고,
정전 흡착 여과를 행하여 규소 함유량을 저감한 순수에 이산화탄소를 용해시켜 탄산수용액을 조제하고,
상기 탄산수용액에 의해서 상기 금속 니켈 분말을 처리하는 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말의 제조 방법.
As a manufacturing method of the metal nickel powder of Claim 1 or 2,
Metal nickel powder is produced from the nickel compound by vapor phase or liquid phase method,
To cool the metal nickel powder,
Electrostatic adsorption filtration to dissolve carbon dioxide in pure water having reduced silicon content to prepare a carbonated aqueous solution,
The metal nickel powder is treated with the carbonated aqueous solution.
청구항 3에 있어서,
상기 정전 흡착 여과에 의해서, 규소 함유량을 15wtppm 이하로 하는 것을 특징으로 하는 금속 니켈 분말의 제조 방법.
The method according to claim 3,
A silicon nickel powder is 15 wtppm or less by said electrostatic adsorption filtration, The manufacturing method of the metal nickel powder characterized by the above-mentioned.
KR1020147025111A 2012-04-06 2013-04-05 Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder KR102032009B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-087765 2012-04-06
JP2012087765 2012-04-06
PCT/JP2013/060559 WO2013151172A1 (en) 2012-04-06 2013-04-05 Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150003159A KR20150003159A (en) 2015-01-08
KR102032009B1 true KR102032009B1 (en) 2019-10-14

Family

ID=49300648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147025111A KR102032009B1 (en) 2012-04-06 2013-04-05 Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6086613B2 (en)
KR (1) KR102032009B1 (en)
CN (1) CN104379279B (en)
TW (1) TWI597112B (en)
WO (1) WO2013151172A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI716526B (en) * 2016-01-12 2021-01-21 日商東邦鈦股份有限公司 Nickel powder
CN110461503B (en) * 2017-03-10 2022-01-14 东邦钛株式会社 Nickel powder and nickel paste
CN110799285B (en) * 2017-07-05 2022-04-29 东邦钛株式会社 Metal powder and method for producing same
JP7193534B2 (en) * 2018-06-28 2022-12-20 東邦チタニウム株式会社 Nickel powder and its production method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000045002A (en) 1998-07-27 2000-02-15 Toho Titanium Co Ltd Metal nickel powder
WO2007114895A2 (en) 2006-04-06 2007-10-11 Z Corporation Production of three-dimensional objects by use of electromagnetic radiation
WO2011115213A1 (en) 2010-03-17 2011-09-22 新日鐵化学株式会社 Process for production of nickel nanoparticles

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04214770A (en) * 1990-11-30 1992-08-05 Kao Corp Surface-treating agent for copper powder and surface-treated copper powder
JPH0543921A (en) * 1991-08-12 1993-02-23 Murata Mfg Co Ltd Production of nickel fine powder
KR101014158B1 (en) * 2002-08-28 2011-02-14 도호 티타늄 가부시키가이샤 Metallic nickel powder and method for production thereof
JP3938770B2 (en) * 2004-04-16 2007-06-27 Tdk株式会社 Nickel powder manufacturing method, nickel powder manufacturing device and nickel powder manufacturing crucible
JP2010237051A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Method for quantifying hydroxyl group on surface of metal powder

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000045002A (en) 1998-07-27 2000-02-15 Toho Titanium Co Ltd Metal nickel powder
WO2007114895A2 (en) 2006-04-06 2007-10-11 Z Corporation Production of three-dimensional objects by use of electromagnetic radiation
WO2011115213A1 (en) 2010-03-17 2011-09-22 新日鐵化学株式会社 Process for production of nickel nanoparticles

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013151172A1 (en) 2015-12-17
JP6086613B2 (en) 2017-03-01
TW201347877A (en) 2013-12-01
TWI597112B (en) 2017-09-01
WO2013151172A1 (en) 2013-10-10
CN104379279A (en) 2015-02-25
KR20150003159A (en) 2015-01-08
CN104379279B (en) 2016-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101951452B1 (en) Coated metal microparticle and manufacturing method thereof
KR102150818B1 (en) MXene particle material, slurry, secondary battery, transparent electrode, manufacturing method of MXene particle material
JP5898400B2 (en) Copper fine particles, production method thereof, and copper fine particle dispersion
KR102032009B1 (en) Nickel metal powder and process for producing nickel metal powder
JP6282648B2 (en) Method for producing cuprous oxide fine particles
JP5306966B2 (en) Method for producing copper fine particle dispersed aqueous solution and method for storing copper fine particle dispersed aqueous solution
KR102589697B1 (en) nickel powder
CN106457379B (en) Nickel powder
TW201936295A (en) Method for producing fine particles and fine particles
JP5843820B2 (en) Method for producing surface-treated metal powder
US6863708B2 (en) Method for producing metal powder and metal powder, and electroconductive paste and monolithic ceramic capacitor
JP5879078B2 (en) Method for producing barium titanyl oxalate and method for producing barium titanate
JP5843819B2 (en) Method for producing surface-treated metal powder
WO2010131674A1 (en) Ito powder, ito coating material, and transparent conductive film formed using ito coating material
TWI813559B (en) Nickel powder and nickel paste
JPWO2019146414A1 (en) Copper fine particles
JP5849641B2 (en) Method for producing copper oxide particles
CN110449572A (en) The preparation method of the functional silver powder of electric slurry
JP4540364B2 (en) Nickel powder, and conductive paste and multilayer ceramic capacitor using the same
JP5869538B2 (en) Method for producing surface-treated metal powder
JP3766351B2 (en) Nickel powder dispersion, method for preparing the same, and method for preparing a conductive paste using the same
WO2024203265A1 (en) Perovskite-type composite oxide powder
KR102558927B1 (en) Nickel oxide particle and method for preparing the same
JP2004176120A (en) Electrically conductive powder, production method therefor, and electrically conductive paste obtained by using the same
CN115348907A (en) Copper particles and method for producing same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant