KR102031816B1 - Substrate for Display Device and Method for manufacturing the same and Liquid Crystal Display Device and Method for manufacturing the same - Google Patents

Substrate for Display Device and Method for manufacturing the same and Liquid Crystal Display Device and Method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

본 발명은, 기판의 일면에 얼라인 마크를 패턴 형성하는 공정; 상기 얼라인 마크와 상이한 층에 제1 광차단 패턴층을 도포하는 공정; 및 상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 제1 광차단 패턴층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 제1 광차단 패턴을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 제1 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크는 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 디스플레이 장치용 기판 및 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 패턴 대상물이 광투과를 차단하는 광차단 패턴이라 하더라도 상기 광차단 패턴을 구성하는 재료로서 소정의 광투과율을 구비한 차광 재료를 이용함으로써 링 조명 장치를 이용한 패턴 마스크의 얼라인 공정이 가능하다. The present invention, the step of forming an alignment mark on one surface of the substrate; Applying a first light blocking pattern layer to a layer different from the alignment mark; And forming a predetermined first light blocking pattern by performing a patterning process on the first light blocking pattern layer after aligning a pattern mask by using the alignment mark. The first light blocking pattern is made of a first light blocking material, the alignment mark is made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. A manufacturing method and a display device substrate manufactured by the method, and a liquid crystal display device using the same, and a manufacturing method thereof
According to the present invention, even if the pattern object is a light blocking pattern for blocking light transmission, an alignment process of a pattern mask using a ring illumination device by using a light blocking material having a predetermined light transmittance as a material constituting the light blocking pattern. This is possible.

Description

디스플레이 장치용 기판과 그 제조방법 및 액정표시장치와 그 제조방법{Substrate for Display Device and Method for manufacturing the same and Liquid Crystal Display Device and Method for manufacturing the same}Substrate for Display Device and Method for manufacturing the same and Liquid Crystal Display Device and Method for manufacturing the same

본 발명은 액정표시장치 등과 같은 디스플레이 장치의 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 링 조명 방식을 통해 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행한 후 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a pattern forming method of a display device such as a liquid crystal display device, and more particularly, to a method of forming a pattern after performing an alignment process for a pattern mask through a ring illumination method.

초창기 디스플레이 장치인 음극선관(Cathode Ray Tube)을 대체하는 디스플레이 장치로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), 및 유기발광장치(Organic Light Emitting Display Device) 등이 개발된 바 있다. As a display device that replaces an early display device, a cathode ray tube, a liquid crystal display device, a plasma display panel, and an organic light emitting display device are used. It was developed.

이와 같은 디스플레이 장치는 소정의 기판 상에 다양한 구성요소를 패턴 형성하는 공정을 통해 제조된다. Such a display device is manufactured through a process of forming various components on a predetermined substrate.

상기 다양한 구성요소를 패턴 형성하는 공정은, 소정의 패턴 마스크를 이용하여 노광한 후 현상하는 일련의 마스크 공정을 포함하여 이루어진다. 이때, 정밀한 패턴 형성을 위해서는 상기 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정이 필수적이다. The process of pattern forming the various components includes a series of mask processes that are developed after exposure using a predetermined pattern mask. In this case, an alignment process for the pattern mask is essential for accurate pattern formation.

이와 같은 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행하는 종래의 방법으로 링조명 방식이 있다. There is a ring illumination method as a conventional method of performing the alignment process for such a pattern mask.

이하, 도면을 참조로 종래 링조명 방식을 이용하여 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행하는 방법에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a method of performing an alignment process on a pattern mask using a conventional ring lighting method will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1a는 일반적인 컬러 필터 패턴이 형성된 기판의 개략적인 평면도이고, 도 1b는 도 1a에 따른 컬러 필터 패턴을 형성하는 방법을 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 1c는 일반적인 링 조명 장치의 개략도이다. FIG. 1A is a schematic plan view of a substrate on which a general color filter pattern is formed, FIG. 1B is a cross-sectional view schematically illustrating a method of forming a color filter pattern according to FIG. 1A, and FIG. 1C is a schematic view of a general ring lighting apparatus.

도 1a에서 알 수 있듯이, 기판(10) 상에 스트라이프(stripe) 구조로 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터 패턴(14)이 형성되고, 이와 같은 컬러 필터 패턴(14)을 형성하기 위해서 상기 기판(10) 상에 소정의 얼라인 마크(12)가 형성된다. 상기 컬러 필터 패턴(14)을 형성하기 위한 방법을 설명하면 다음과 같다. As shown in FIG. 1A, a color filter pattern 14 of red (R), green (G), and blue (B) is formed on the substrate 10 in a stripe structure. In order to form 14, a predetermined alignment mark 12 is formed on the substrate 10. A method for forming the color filter pattern 14 will be described below.

도 1b에서 알 수 있듯이, 기판(10)의 주변부에 얼라인 마크(12)를 형성하고, 상기 기판(10)의 전면(全面)에 컬러 필터층(14a)을 도포한다. 이때, 상기 얼라인 마크(12)는 광투과를 차단하는 광차단 재료로 이루어져 있다. As shown in FIG. 1B, the alignment mark 12 is formed at the periphery of the substrate 10, and the color filter layer 14a is applied to the entire surface of the substrate 10. At this time, the alignment mark 12 is made of a light blocking material that blocks light transmission.

상기 기판(10)의 아래에 광을 반사시킬 수 있는 척(C)을 위치시킨 후 소정의 링 조명 장치를 이용하여 상기 기판(10) 위에서 광을 조사하게 되면, 조사된 광이 기판(10)을 투과한 후 상기 척(C)에서 반사된다. 이때, 반사된 광이 상기 얼라인 마크(12)가 형성되지 않은 영역에서는 그대로 진행하지만 상기 얼라인 마크(12)가 형성된 영역에서는 그 진행이 차단된다. When the chuck C capable of reflecting light is positioned below the substrate 10 and then irradiated with light onto the substrate 10 using a predetermined ring illumination device, the irradiated light is irradiated onto the substrate 10. After passing through and reflected by the chuck (C). At this time, the reflected light proceeds as it is in the region where the alignment mark 12 is not formed, but its progress is blocked in the region where the alignment mark 12 is formed.

따라서, 광의 진행이 차단되는 영역을 통해 상기 얼라인 마크(12)의 형상을 인식할 수 있고, 그에 따라 상기 컬러 필터층(14a)의 패턴 형성을 위한 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행할 수 있게 된다. 즉, 상기 기판(10) 상에 형성된 얼라인 마크(12)와 소정의 패턴 마스크(미도시) 상에 형성된 얼라인 마크를 상기와 같은 링 조명 방식을 통해 일치시킴으로써 소정의 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행할 수 있다. Therefore, the shape of the alignment mark 12 may be recognized through the region where the light is blocked, and accordingly, the alignment process may be performed on the pattern mask for forming the pattern of the color filter layer 14a. do. That is, the alignment mark 12 formed on the substrate 10 and the alignment mark formed on a predetermined pattern mask (not shown) are matched through the ring illumination method to align the predetermined pattern mask. The process can be carried out.

그 후, 얼라인 된 패턴 마스크를 이용하여 노광 공정을 수행한 후 소정의 현상액을 이용한 현상 공정을 수행함으로써, 소정의 컬러 필터 패턴(14)을 형성할 수 있게 된다. Subsequently, the predetermined color filter pattern 14 may be formed by performing the exposure process using the aligned pattern mask and then performing the development process using the predetermined developer.

상기 링 조명 장치는 도 1c에 도시된 바와 같이, 다양한 각도로 광을 조사하는 다수의 링 조명(22), 상기 링 조명(22)에서 조사된 후 반사되는 광이 투과하는 렌즈(24), 및 상기 렌즈(24)를 투과한 광을 인식하는 카메라(26)를 포함하여 이루어진다. 상기 링 조명 장치의 원리를 간략히 설명하면, 상기 링 조명(22)에서 조사된 후 상기 카메라(26)로 입사되는 광과 그렇지 않은 광을 인식함으로써, 상기 얼라인 마크(12)의 형상을 인식할 수 있게 된다. As shown in FIG. 1C, the ring illumination device includes a plurality of ring lights 22 for irradiating light at various angles, a lens 24 through which light reflected after being irradiated from the ring lights 22 is transmitted, and It comprises a camera 26 for recognizing the light transmitted through the lens 24. Briefly explaining the principle of the ring illumination device, by recognizing the light incident on the camera 26 and the light that is not emitted after being emitted from the ring illumination 22, it is possible to recognize the shape of the alignment mark 12 It becomes possible.

그러나, 이와 같은 링 조명 방식에 의한 패턴 마스크의 얼라인 공정은 패턴의 대상물이 광투과 물질인 경우에만 적용가능하고, 패턴의 대상물이 광차단 물질인 경우에는 적용 불가능한 단점이 있다. However, the alignment process of the pattern mask by the ring illumination method is applicable only when the object of the pattern is a light transmitting material, and is not applicable when the object of the pattern is a light blocking material.

도 2는 종래 링 조명 방식을 이용할 때 패턴 마스크의 얼라인 공정이 불가능한 경우를 도시한 개략도이다. 2 is a schematic diagram illustrating a case in which an alignment process of a pattern mask is impossible when using a conventional ring illumination method.

도 2에서 알 수 있듯이, 기판(10)의 일면 상에 얼라인 마크(12)를 형성하고, 기판(10)의 타면에 패턴 대상이 되는 패턴층(16)을 도포한 후, 상기 패턴층(16)에 대한 패턴 형성 공정을 수행한다고 가정한다. As can be seen in FIG. 2, after the alignment marks 12 are formed on one surface of the substrate 10 and the pattern layer 16 to be a pattern is applied to the other surface of the substrate 10, the pattern layer ( Assume that the pattern forming process for 16) is performed.

이때, 상기 패턴층(16)이 광차단 물질로 이루어진 경우, 링 조명 장치를 통해 광을 조사한다 하여도, 조사된 광이 기판(10) 아래의 척(C)까지 진행하지 못하고, 상기 패턴층(16)에서 그 진행이 차단된다. 따라서, 링 조명 방식을 통해 패턴 마스크의 얼라인 공정이 불가능하고, 그에 따라 패턴 형성 공정을 수행할 수 없는 문제가 있다. In this case, when the pattern layer 16 is made of a light blocking material, even if light is irradiated through a ring illumination device, the irradiated light does not proceed to the chuck C under the substrate 10, and the pattern layer At 16, the process is blocked. Therefore, the alignment process of the pattern mask is impossible through the ring illumination method, and thus there is a problem in that the pattern forming process cannot be performed.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 패턴 대상물이 광차단 물질이라 하더라도 링 조명 방식을 통해 패턴 형성이 가능하도록 하는 방법 및 그 방법에 의해 제조되는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised to solve the above-mentioned conventional problems, and the present invention provides a method and a display device manufactured by the method for enabling a pattern to be formed through a ring illumination method even if the pattern object is a light blocking material. For the purpose of

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 기판의 일면에 얼라인 마크를 패턴 형성하는 공정; 상기 얼라인 마크와 상이한 층에 제1 광차단 패턴층을 도포하는 공정; 및 상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 제1 광차단 패턴층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 제1 광차단 패턴을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 제1 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크는 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a process for forming an alignment mark on one surface of a substrate in order to achieve the above object; Applying a first light blocking pattern layer to a layer different from the alignment mark; And forming a predetermined first light blocking pattern by performing a patterning process on the first light blocking pattern layer after aligning a pattern mask by using the alignment mark. The first light blocking pattern is made of a first light blocking material, the alignment mark is made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. It provides a method of manufacturing.

본 발명은 또한, 기판 상에 형성된 제1 광차단 패턴을 포함하여 이루어지고, 상기 제1 광차단 패턴은 흡광도(Optical Density)가 0.5 ~ 4.5 범위인 제1 차광재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판을 제공한다. The present invention also includes a first light blocking pattern formed on a substrate, wherein the first light blocking pattern is a display device, characterized in that made of a first light blocking material having an optical density of 0.5 to 4.5 range It provides a substrate for.

본 발명은 또한, 제1 기판의 일면에 얼라인 마크 및 블랙 매트릭스 패턴을 패턴 형성하는 공정; 상기 제1 기판의 타면에 광차단 패턴층을 도포하는 공정; 상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 광차단 패턴층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 광차단 패턴을 형성하는 공정; 제2 기판을 준비한 후 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 공정; 소정의 스크라이빙 라인을 따라 합착 기판에 대한 스크라이빙을 수행하는 공정; 및 상기 광차단 패턴 상에 제1 편광판을 형성하고, 상기 제1 편광판 상에 FPR을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며, 이때, 상기 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크 및 블랙 매트릭스 패턴은 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a process for forming an alignment mark and a black matrix pattern on one surface of a first substrate; Applying a light blocking pattern layer to the other surface of the first substrate; Forming a predetermined light blocking pattern by performing a patterning process on the light blocking pattern layer after aligning the pattern mask using the alignment mark; Preparing a second substrate and then bonding the first substrate and the second substrate to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; Scribing the bonded substrate along a predetermined scribing line; And forming a first polarizing plate on the light blocking pattern and forming an FPR on the first polarizing plate, wherein the light blocking pattern is made of a first light blocking material, and the alignment mark And a black matrix pattern made of a second light blocking material, wherein the first light blocking material has a light transmittance superior to that of the second light blocking material.

본 발명은 또한, 제1 기판의 일면에 얼라인 마크 및 광차단 패턴을 패턴 형성하는 공정; 상기 제1 기판의 타면에 블랙 매트릭스층을 도포하는 공정; 상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 블랙 매트릭스층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 블랙 매트릭스 패턴을 형성하는 공정; 제2 기판을 준비한 후 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 공정; 소정의 스크라이빙 라인을 따라 합착 기판에 대한 스크라이빙을 수행하는 공정; 및 상기 광차단 패턴 상에 제1 편광판을 형성하고, 상기 제1 편광판 상에 FPR을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며, 이때, 상기 블랙 매트릭스 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크 및 광차단 패턴은 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a process for forming an alignment mark and a light blocking pattern on one surface of a first substrate; Applying a black matrix layer to the other surface of the first substrate; Aligning a pattern mask using the alignment marks and then performing a patterning process on the black matrix layer to form a predetermined black matrix pattern; Preparing a second substrate and then bonding the first substrate and the second substrate to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; Scribing the bonded substrate along a predetermined scribing line; And forming a first polarizing plate on the light blocking pattern and forming an FPR on the first polarizing plate, wherein the black matrix pattern is made of a first light blocking material, and the alignment mark And the light blocking pattern is formed of a second light blocking material, and the first light blocking material has a light transmittance superior to that of the second light blocking material.

본 발명은 또한, 액정층을 사이에 두고 합착된 제1 기판 및 제2 기판을 포함하여 이루어지며, 상기 제1 기판의 일면에는 블랙 매트릭스 패턴이 형성되어 있고, 상기 제1 기판의 타면에는 광차단 패턴, 제1 편광판 및 FPR이 차례로 형성되어 있으며, 상기 블랙 매트릭스 패턴과 상기 광차단 패턴 중 어느 하나는 제1 차광재료로 이루어지고, 나머지 하나는 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다. The present invention also includes a first substrate and a second substrate bonded to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, one surface of the first substrate is formed with a black matrix pattern, and the other surface of the first substrate is light blocked. The pattern, the first polarizing plate, and the FPR are sequentially formed, one of the black matrix pattern and the light blocking pattern is made of a first light blocking material, and the other is made of a second light blocking material, and the first light blocking material The present invention provides a liquid crystal display device, characterized in that light transmittance is superior to that of the second light blocking material.

본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention has the following effects.

본 발명에 따르면, 패턴 대상물이 광투과를 차단하는 광차단 패턴이라 하더라도 상기 광차단 패턴을 구성하는 재료로서 소정의 광투과율을 구비한 차광 재료를 이용함으로써 링 조명 장치를 이용한 패턴 마스크의 얼라인 공정이 가능하다. According to the present invention, even if the pattern object is a light blocking pattern for blocking light transmission, an alignment process of a pattern mask using a ring illumination device by using a light blocking material having a predetermined light transmittance as a material constituting the light blocking pattern. This is possible.

도 1a는 일반적인 컬러 필터 패턴이 형성된 기판의 개략적인 평면도이고, 도 1b는 도 1a에 따른 컬러 필터 패턴을 형성하는 방법을 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 1c는 일반적인 링 조명 장치의 개략도이다.
도 2는 종래 링 조명 방식을 이용할 때 패턴 마스크의 얼라인 공정이 불가능한 경우를 도시한 개략도이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도이다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 개략적인 공정 단면도이다.
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 개략적인 공정 단면도이다. FIG. 1A is a schematic plan view of a substrate on which a general color filter pattern is formed, FIG. 1B is a cross-sectional view schematically illustrating a method of forming a color filter pattern according to FIG. 1A, and FIG. 1C is a schematic view of a general ring lighting apparatus.
2 is a schematic diagram illustrating a case in which an alignment process of a pattern mask is impossible when using a conventional ring illumination method.
3A and 3B are schematic process cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to an embodiment of the present invention.
4A and 4B are schematic process cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to another embodiment of the present invention.
5A and 5B are schematic process cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to another embodiment of the present invention.
6A through 6E are schematic cross-sectional views of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
7A to 7F are schematic cross-sectional views of manufacturing a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도이다. 3A and 3B are schematic process cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 기판(100)의 일면, 예로서, 기판(100)의 하면 상에 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하고, 상기 기판(100)의 타면, 예로서, 기판(100)의 상면 상에 제1 광차단 패턴층(120a)을 도포한다. First, as shown in FIG. 3A, an alignment mark 110 is patterned on one surface of the substrate 100, for example, a lower surface of the substrate 100, and the other surface of the substrate 100, for example, a substrate. The first light blocking pattern layer 120a is coated on the top surface of the substrate 100.

상기 얼라인 마크(110)는 상기 제1 광차단 패턴층(120a)을 패터닝하는 공정시 사용되는 패턴 마스크의 얼라인을 위한 것으로서, 상기 기판(100)의 일면 가장자리에 복수 개를 형성하는 것이 바람직하다. The alignment marks 110 are for aligning the pattern mask used in the process of patterning the first light blocking pattern layer 120a. A plurality of alignment marks 110 may be formed at one edge of one surface of the substrate 100. Do.

상기 얼라인 마크(110)는 링 조명 장치를 이용하여 패턴 마스크의 얼라인 공정이 가능하도록, 광투과를 차단하는 제2 차광재료로 이루어진다. The alignment mark 110 is formed of a second light blocking material that blocks light transmission so that an alignment process of the pattern mask may be performed using a ring illumination device.

상기 제2 차광재료는 링 조명 장치를 이용할 때 얼라인 마크(110)를 명확하게 인식할 수 있도록 광차단 효과가 우수한 재료로 이루어진 것이 바람직하며, 예로서, 흡광도(Optical Density)가 4.5 이상인 재료로 이루어진 것이 바람직하다. 본 명세서 전체에서 상기 흡광도는 1um의 두께당 값을 의미한다. The second light blocking material is preferably made of a material having excellent light blocking effect so that the alignment mark 110 can be clearly recognized when using the ring lighting device. For example, the second light blocking material is made of a material having an optical density of 4.5 or more. It is preferable that it is made. In the present specification, the absorbance means a value per thickness of 1 μm.

상기 제2 차광재료로 이용될 수 있는 재료의 예로는, 액정표시장치에서 광누설을 방지하기 위해서 컬러 필터 기판에 적용되는 블랙 매트릭스(Black Matrix)를 구성하는 재료를 들 수 있다. An example of a material that may be used as the second light blocking material may include a material constituting a black matrix applied to a color filter substrate to prevent light leakage in a liquid crystal display device.

상기 제1 광차단 패턴층(120a)은 여러 가지 다양한 목적을 달성하기 위해서 소정의 영역에서 광투과를 차단하기 위해 적용되는 제1 광차단 패턴(도 3b의 도면부호 120 참조)을 형성하기 위한 것이다. The first light blocking pattern layer 120a is to form a first light blocking pattern (refer to reference numeral 120 of FIG. 3B) applied to block light transmission in a predetermined region in order to achieve various various purposes. .

상기 제1 광차단 패턴층(120a)은 광투과를 차단하기 위한 것이지만 광투과를 완전히 차단하게 되면, 링 조명 장치를 이용하여 패턴 마스크의 얼라인 공정이 불가능하게 된다. 따라서, 상기 제1 광차단 패턴층(120a)은 광투과 차단이라는 소정의 목적은 달성할 수 있으면서도 링 조명 장치를 이용한 패턴 마스크의 얼라인 공정이 가능하도록 하는 제1 차광재료로 이루어진다. Although the first light blocking pattern layer 120a is to block light transmission, when the light transmission is completely blocked, the alignment process of the pattern mask is impossible using a ring illumination device. Accordingly, the first light blocking pattern layer 120a may be formed of a first light blocking material that enables the alignment process of the pattern mask using a ring illumination device while achieving a predetermined purpose of light blocking.

상기 제1 광차단 패턴층(120a)의 재료로 이용되는 제1 차광재료는 상기 얼라인 마크(110)의 재료로 이용되는 제2 차광재료보다 광투과율이 우수하다. 구체적으로, 상기 제1 차광재료는 흡광도(Optical Density)가 0.5 ~ 4.5 범위인 재료를 이용할 수 있다. The first light blocking material used as the material of the first light blocking pattern layer 120a has better light transmittance than the second light blocking material used as the material of the alignment mark 110. Specifically, the first light blocking material may use a material having an optical density of 0.5 to 4.5.

만약, 상기 제1 차광재료의 흡광도가 0.5 미만일 경우에는 광차단 효과가 너무 떨어져 원하는 목적을 달성하지 못할 수 있고, 상기 제1 차광재료의 흡광도가 4.5를 초과할 경우에는 광차단 효과가 너무 우수하여 링 조명 장치를 이용한 얼라인 공정이 불가능할 수 있다. If the absorbance of the first light blocking material is less than 0.5, the light blocking effect may be too low to achieve a desired purpose, and when the absorbance of the first light blocking material exceeds 4.5, the light blocking effect may be too excellent. The alignment process using the ring lighting device may not be possible.

이와 같은 제1 차광재료는 광차단 기능을 수행하면서 패턴 형성이 용이한 재료로 이루어진 것이 바람직하다. 구체적으로, 상기 제1 차광재료는 블랙 안료, 분산제, 광개시제(Photo initiator), 바인더(Binder) 및 첨가제를 포함하여 이루어진다. The first light blocking material is preferably made of a material that is easy to form a pattern while performing a light blocking function. Specifically, the first light blocking material includes a black pigment, a dispersant, a photo initiator, a binder, and an additive.

상기 블랙 안료는 광차단 기능을 수행하는 것으로서, 블랙 유기 잉크와 카본 블랙 잉크 중 적어도 하나의 잉크를 포함하여 이루어질 수 있다. The black pigment performs a light blocking function, and may include at least one ink of a black organic ink and a carbon black ink.

상기 블랙 안료는 1 ~ 6 중량부로 포함될 수 있다. 상기 블랙 안료가 1 중량부 미만으로 포함될 경우에는 제1 차광재료가 광차단 기능을 수행하지 못할 수 있고, 6 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 링 조명 장치를 이용한 얼라인 공정이 불가능할 수 있다. The black pigment may be included in 1 to 6 parts by weight. When the black pigment is included in less than 1 part by weight, the first light blocking material may not perform the light blocking function. When the black pigment is included in an amount exceeding 6 parts by weight, the alignment process using the ring lighting device may not be possible.

상기 분산제는 상기 블랙 안료가 균일하게 분산될 수 있도록 하는 것으로서, 당업계에 공지된 다양한 안료 분산제로 이루어질 수 있다. The dispersant is to allow the black pigment to be uniformly dispersed, and may be composed of various pigment dispersants known in the art.

상기 분산제는 2 ~ 8 중량부로 포함될 수 있다. 상기 분산제가 2 중량부 미만으로 포함될 경우에는 블랙 안료의 분산효과가 떨어지고, 8 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 다른 성분들의 기능 저하를 초래할 수 있다. The dispersant may be included in 2 to 8 parts by weight. When the dispersing agent is included in less than 2 parts by weight, the dispersing effect of the black pigment is inferior, and when included in more than 8 parts by weight may lead to a decrease in the function of other components.

상기 광개시제(Photo initiator)는 노광 및 현상 공정에 의해서 상기 제1 광차단 패턴층(120a)에 대한 패턴 형성이 가능하도록 하는 것으로서, 비이미다졸계 화합물, 아세토페논계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 포스핀 옥사이드계 화합물 및 쿠마린계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 화합물로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The photoinitiator (Photo initiator) is to enable the pattern formation for the first light blocking pattern layer (120a) by the exposure and development process, non-imidazole compound, acetophenone compound, O-acyl oxime compound , But may be composed of one or more compounds selected from the group consisting of benzophenone compounds, thioxanthone compounds, phosphine oxide compounds, and coumarin compounds, but are not necessarily limited thereto.

상기 광개시제는 0.1 ~ 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광개시제가 0.1 중량부 미만으로 포함될 경우에는 패턴 형성이 용이하지 않을 수 있고, 5 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 다른 성분들의 기능 저하, 예로서, 기계적 특성 저하를 초래할 수 있다. The photoinitiator may be included in 0.1 to 5 parts by weight. When the photoinitiator is included in less than 0.1 part by weight, it may not be easy to form a pattern. When the photoinitiator is included in an amount of more than 5 parts by weight, the function of other components may be reduced, for example, mechanical properties may be reduced.

상기 바인더(Binder)는 상기 제1 광차단 패턴층(120a)의 기계적 특성 향상을 위한 것으로서, 당업계에 공지된 아크릴계 고분자 화합물로 이루어질 수 있다. The binder is for improving the mechanical properties of the first light blocking pattern layer 120a and may be made of an acrylic polymer compound known in the art.

상기 바인더는 5 ~ 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 바인더가 5 중량부 미만으로 포함될 경우에는 제1 차광재료의 기계적 특성이 떨어질 수 있고, 상기 바인더가 30 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 도포 공정 및 패턴 형성 공정이 용이하지 않을 수 있다. The binder may be included in 5 to 30 parts by weight. When the binder is included in less than 5 parts by weight, the mechanical properties of the first light blocking material may be degraded, and when the binder is included in more than 30 parts by weight, the coating process and the pattern forming process may not be easy.

상기 첨가제는 경화제, 가소제, 접착 촉진제, 및 계면활성제 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 경화제는 멜라민계 또는 에틸렌계 고분자를 포함하여 이루어질 수 있고, 상기 가소제는 프탈레이트(phtalate)계 고분자를 포함하여 이루어질 수 있고, 상기 접착 촉진제는 실란(silane)계 고분자를 포함하여 이루어질 수 있고, 상기 계면활성제는 실록산(siloxane)계 고분자를 포함하여 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The additive may include one or more selected from a curing agent, a plasticizer, an adhesion promoter, and a surfactant. The curing agent may be made of a melamine-based or ethylene-based polymer, the plasticizer may be made of a phthalate-based polymer, the adhesion promoter may be made of a silane (silane) -based polymer, The surfactant may include a siloxane-based polymer, but is not necessarily limited thereto.

상기 첨가제는 0.01 ~ 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 첨가제가 0.01 중량부 미만으로 포함될 경우에는 첨가제의 기능을 발현하기가 어려울 수 있고, 상기 첨가제가 5 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 제1 차광재료의 기계적 특성이 떨어지거나 또는 패턴 형성 공정이 용이하지 않을 수 있다. The additive may be included in 0.01 to 5 parts by weight. When the additive is included in less than 0.01 part by weight it may be difficult to express the function of the additive, when the additive is included in more than 5 parts by weight of the mechanical properties of the first light-shielding material or the pattern forming process is not easy You may not.

이상과 같이, 제2 차광재료를 이용하여 기판(100)의 일면에 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하고, 제1 차광재료를 이용하여 기판(100)의 타면에 제1 광차단 패턴층(120a)을 도포하게 되면, 링 조명 장치에서 조사되는 광이 상기 제1 광차단 패턴층(120a)과 기판(100)을 통과한 후 기판(100) 아래에 위치한 척(C)에서 반사될 수 있고, 반사된 광의 진행이 상기 얼라인 마크(110)에 의해서 차단되어 상기 얼라인 마크(110)를 인식하게 되고, 인식한 얼라인 마크(110)를 이용하여 패턴 마스크를 용이하게 얼라인 할 수 있게 된다. As described above, the alignment mark 110 is patterned on one surface of the substrate 100 using the second light blocking material, and the first light blocking pattern layer is formed on the other surface of the substrate 100 using the first light blocking material. When the coating 120a is applied, the light irradiated from the ring illumination device may be reflected by the chuck C positioned below the substrate 100 after passing through the first light blocking pattern layer 120a and the substrate 100. The reflected light is blocked by the alignment mark 110 to recognize the alignment mark 110 and to easily align the pattern mask using the recognized alignment mark 110. do.

상기 링 조명 장치는 전술한 도 1c에 도시된 바와 같은 장치로 이루어질 수 있으며, 특히, 당업계에 공지된 다양한 링 조명 장치가 이용될 수 있다. The ring lighting device may be composed of the device as shown in FIG. 1C described above, and in particular, various ring lighting devices known in the art may be used.

다음, 도 3b에서 알 수 있듯이, 얼라인 된 패턴 마스크를 이용하여 노광 및 현상 공정을 수행하여, 상기 제1 광차단 패턴층(120a)에 대한 패터닝 공정을 수행함으로써 소정의 제1 광차단 패턴(120)을 형성한다.Next, as can be seen in Figure 3b, by performing an exposure and development process using an aligned pattern mask, by performing a patterning process for the first light blocking pattern layer 120a a predetermined first light blocking pattern ( 120).

상기 제1 광차단 패턴(120)은 원하는 목적에 따라 원하는 패턴으로 형성하게 된다. 예로서, 상기 제1 광차단 패턴(120)은 매트릭스(Matrix) 구조로 형성될 수도 있고, 스트라이프(Stripe) 구조로 형성될 수도 있다. The first light blocking pattern 120 is formed in a desired pattern according to a desired purpose. For example, the first light blocking pattern 120 may be formed in a matrix structure or may be formed in a stripe structure.

한편, 최종 디스플레이 장치를 제조하는 과정에서 소정의 스크라이빙 라인(s)을 따라서 스크라이빙 공정이 수행될 수 있고, 그 경우, 최종 디스플레이 장치 내에는 상기 얼라인 마크(110)가 형성되지 않고 상기 제1 광차단 패턴(120)만이 형성될 수 있다. Meanwhile, the scribing process may be performed along a predetermined scribing line s in the process of manufacturing the final display device, in which case the alignment mark 110 is not formed in the final display device. Only the first light blocking pattern 120 may be formed.

이상과 같은 도 3a 및 도 3b에 따른 방법은 기판(100)의 하면 상에 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하고 기판(100)의 상면 상에 제1 광차단 패턴(120)을 패턴 형성하는 공정을 도시하였지만, 본 발명이 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 기판(100)의 상면 상에 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하고 기판(100)의 하면 상에 제1 광차단 패턴(120)을 패턴 형성하는 것도 포함한다. 3A and 3B, the alignment mark 110 is patterned on the bottom surface of the substrate 100, and the first light blocking pattern 120 is patterned on the top surface of the substrate 100. Although the process is illustrated, the present invention is not necessarily limited thereto, and the alignment mark 110 is formed on the upper surface of the substrate 100, and the first light blocking pattern 120 is formed on the lower surface of the substrate 100. Pattern formation is also included.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도로서, 전술한 실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는, 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다. 4A and 4B are schematic cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to another embodiment of the present invention, and the same reference numerals are given to the same components as the above-described embodiments, and hereinafter, the same components will be described. Repeated description will be omitted.

우선, 도 4a에서 알 수 있듯이, 기판(100)의 일면, 예로서, 기판(100)의 하면 상에 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)을 패턴 형성하고, 상기 기판(100)의 타면, 예로서, 기판(100)의 상면 상에 제1 광차단 패턴층(120a)을 도포한다. First, as shown in FIG. 4A, the alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 are patterned on one surface of the substrate 100, for example, the lower surface of the substrate 100, and the substrate ( For example, the first light blocking pattern layer 120a may be coated on the other surface of the substrate 100.

상기 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)은 동일한 공정을 통해 동시에 패턴 형성할 수 있다. 따라서, 상기 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)은 동일한 제2 차광재료로 이루어질 수 있다. The alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 may be simultaneously patterned through the same process. Therefore, the alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 may be made of the same second light blocking material.

상기 제2 광차단 패턴(111)은 원하는 목적에 따라 원하는 패턴으로 형성한다. 예로서, 상기 제2 광차단 패턴(111)은 매트릭스(Matrix) 구조로 형성될 수도 있고, 스트라이프(Stripe) 구조로 형성될 수도 있다. The second light blocking pattern 111 is formed in a desired pattern according to a desired purpose. For example, the second light blocking pattern 111 may be formed in a matrix structure or may be formed in a stripe structure.

상기 제1 광차단 패턴층(120a)은 전술한 바와 같이 제1 차광재료로 이루어진다.As described above, the first light blocking pattern layer 120a is made of a first light blocking material.

이상과 같이, 제2 차광재료를 이용하여 기판(100)의 일면에 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)을 패턴 형성하고, 제1 차광재료를 이용하여 기판(100)의 타면에 제1 광차단 패턴층(120a)을 도포하게 되면, 링 조명 장치를 통해 상기 얼라인 마크(110)를 인식할 수 있고 그에 따라 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 용이하게 수행할 수 있다. As described above, the alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 are patterned on one surface of the substrate 100 using the second light blocking material, and the substrate 100 is formed using the first light blocking material. When the first light blocking pattern layer 120a is applied to the other surface, the alignment mark 110 may be recognized through a ring illumination device, and accordingly, an alignment process for the pattern mask may be easily performed.

다음, 도 4b에서 알 수 있듯이, 얼라인 된 패턴 마스크를 이용하여 노광 및 현상 공정을 수행하여, 상기 제1 광차단 패턴층(120a)에 대한 패터닝 공정을 수행함으로써 소정의 제1 광차단 패턴(120)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 4B, the exposure and development processes are performed using the aligned pattern mask to perform a patterning process on the first light blocking pattern layer 120a. 120).

전술한 바와 같이, 상기 제1 광차단 패턴(120)은 원하는 목적에 따라 매트릭스(Matrix) 구조 또는 스트라이프(Stripe) 구조 등으로 다양하게 형성될 수 있다. As described above, the first light blocking pattern 120 may be variously formed in a matrix structure or a stripe structure according to a desired purpose.

또한, 전술한 바와 같이, 최종 디스플레이 장치를 제조하는 과정에서 소정의 스크라이빙 라인(s)을 따라서 스크라이빙 공정이 수행될 수 있고, 그 경우, 최종 디스플레이 장치 내에는 상기 얼라인 마크(110)가 형성되지 않고, 상기 제1 광차단 패턴(120)과 상기 제2 광차단 패턴(111) 만이 형성될 수 있다. In addition, as described above, a scribing process may be performed along a predetermined scribing line s in the process of manufacturing the final display device, in which case the alignment mark 110 is included in the final display device. ) May not be formed, and only the first light blocking pattern 120 and the second light blocking pattern 111 may be formed.

이상과 같은 도 4a 및 도 4b에 따른 방법은 기판(100)의 하면 상에 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)을 패턴 형성하고 기판(100)의 상면 상에 제1 광차단 패턴(120)을 패턴 형성하는 공정을 도시하였지만, 본 발명이 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 기판(100)의 상면 상에 얼라인 마크(110) 및 제2 광차단 패턴(111)을 패턴 형성하고 기판(100)의 하면 상에 제1 광차단 패턴(120)을 패턴 형성하는 것도 포함한다. 4A and 4B, the alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 are patterned on the bottom surface of the substrate 100, and the first light is formed on the top surface of the substrate 100. Although the process of pattern-forming the blocking pattern 120 is shown, the present invention is not necessarily limited thereto, and the alignment mark 110 and the second light blocking pattern 111 are patterned on the upper surface of the substrate 100. And pattern forming the first light blocking pattern 120 on the bottom surface of the substrate 100.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 제조하는 개략적인 공정 단면도로서, 전술한 실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는, 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다. 5A and 5B are schematic cross-sectional views of manufacturing a substrate for a display device according to still another embodiment of the present invention. The same reference numerals are given to the same components as those of the above-described embodiment, and hereinafter, the same components will be described. Repeated descriptions will be omitted.

우선, 도 5a에서 알 수 있듯이, 기판(100)의 일면, 예로서, 기판(100)의 상면 상에 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하고, 상기 얼라인 마크(110) 상에 중간층(112)을 형성하고, 상기 중간층(112) 상에 제1 광차단 패턴층(120a)을 도포한다. First, as shown in FIG. 5A, the alignment mark 110 is patterned on one surface of the substrate 100, for example, the upper surface of the substrate 100, and the intermediate layer 112 is formed on the alignment mark 110. ) And apply a first light blocking pattern layer 120a on the intermediate layer 112.

상기 얼라인 마크(110)는 전술한 바와 같이 제2 차광재료로 이루어진다. The alignment mark 110 is made of a second light blocking material as described above.

상기 중간층(112)은 다양한 목적에 따라 다양한 재료로 이루어질 수 있다. 예로서, 상기 중간층(112)은 절연체로 이루어질 수도 있고, 컬러 필터로 이루어질 수도 있다. 다만, 상기 중간층(112)은 광차단 재료로 이루어지지 않는 것이 바람직하다. The intermediate layer 112 may be made of various materials according to various purposes. For example, the intermediate layer 112 may be made of an insulator or may be made of a color filter. However, it is preferable that the intermediate layer 112 is not made of a light blocking material.

상기 제1 광차단 패턴층(120a)은 전술한 바와 같이 제1 차광재료로 이루어진다.As described above, the first light blocking pattern layer 120a is made of a first light blocking material.

한편, 도시하지는 않았지만, 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예와 유사하게, 상기 얼라인 마크(110)를 패턴 형성하는 공정 시, 상기 얼라인 마크(110)와 동일한 제2 차광재료를 이용하여 제2 광차단 패턴을 동시에 패턴 형성하고, 그 후에, 상기 중간층(112) 및 제1 광차단 패턴층(120a)을 차례로 형성하는 것도 가능하다. Although not shown, similarly to the embodiment of FIG. 4A and FIG. 4B, the same second light blocking material as the alignment mark 110 is used in the process of forming the alignment mark 110. It is also possible to simultaneously form a second light blocking pattern, and thereafter, the intermediate layer 112 and the first light blocking pattern layer 120a may be sequentially formed.

이상과 같이, 기판(100)의 일면에 얼라인 마크(110), 중간층(112) 및 제1 광차단 패턴층(120a)을 차례로 형성하게 되면, 링 조명 장치를 통해 상기 얼라인 마크(110)를 인식할 수 있고 그에 따라 패턴 마스크에 대한 얼라인 공정을 용이하게 수행할 수 있다. As described above, when the alignment mark 110, the intermediate layer 112, and the first light blocking pattern layer 120a are sequentially formed on one surface of the substrate 100, the alignment mark 110 is formed through a ring illumination device. Can be recognized and thus the alignment process for the pattern mask can be easily performed.

다음, 도 5b에서 알 수 있듯이, 얼라인 된 패턴 마스크를 이용하여 노광 및 현상 공정을 수행하여, 상기 제1 광차단 패턴층(120a)에 대한 패터닝 공정을 수행함으로써 소정의 제1 광차단 패턴(120)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5B, the exposure and development processes are performed using the aligned pattern mask to perform a patterning process on the first light blocking pattern layer 120a. 120).

전술한 바와 같이, 상기 제1 광차단 패턴(120)은 원하는 목적에 따라 매트릭스(Matrix) 구조 또는 스트라이프(Stripe) 구조 등으로 다양하게 형성될 수 있다. As described above, the first light blocking pattern 120 may be variously formed in a matrix structure or a stripe structure according to a desired purpose.

또한, 전술한 바와 같이, 최종 디스플레이 장치를 제조하는 과정에서 소정의 스크라이빙 라인(s)을 따라서 스크라이빙 공정이 수행될 수 있고, 그 경우, 최종 디스플레이 장치 내에는 상기 얼라인 마크(110)가 형성되지 않을 수 있다. In addition, as described above, a scribing process may be performed along a predetermined scribing line s in the process of manufacturing the final display device, in which case the alignment mark 110 is included in the final display device. ) May not be formed.

도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 개략적인 공정 단면도로서, 이는 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 방법을 적용한 것이다. 6A through 6E are schematic cross-sectional views of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which is applied to the method of FIGS. 4A and 4B.

우선, 도 6a에서 알 수 있듯이, 제1 기판(300)의 일면, 구체적으로 제1 기판(300)의 하면 상에 얼라인 마크(310) 및 블랙 매트릭스(Black Matrix) 패턴(311)을 패턴 형성하고, 상기 블랙 매트릭스 패턴(311) 사이에 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(312)를 형성하고, 그 후, 상기 제1 기판(300)의 타면, 구체적으로 제1 기판(300)의 상면 상에 광차단 패턴층(320a)을 도포한다. First, as shown in FIG. 6A, an alignment mark 310 and a black matrix pattern 311 are patterned on one surface of the first substrate 300, specifically, on the lower surface of the first substrate 300. In addition, a color filter 312 of red (R), green (G), and blue (B) is formed between the black matrix patterns 311, and then, on the other side of the first substrate 300, The light blocking pattern layer 320a is coated on the upper surface of the first substrate 300.

상기 얼라인 마크(310) 및 블랙 매트릭스 패턴(311)은 동일한 공정을 통해 동시에 패턴 형성할 수 있으며, 따라서, 상기 얼라인 마크(310) 및 블랙 매트릭스 패턴(311)은 동일하게 전술한 제2 차광재료로 이루어질 수 있다. The alignment mark 310 and the black matrix pattern 311 may be simultaneously patterned through the same process. Therefore, the alignment mark 310 and the black matrix pattern 311 may be the same as the second light shielding described above. It may be made of a material.

상기 광차단 패턴층(320a)은 전술한 제1 차광재료로 이루어진다.The light blocking pattern layer 320a is formed of the first light blocking material described above.

한편, 도시하지는 않았지만, 상기 컬러 필터(312) 상에는 기판 평탄화를 위한 오버 코트층이 추가로 형성될 수 있고, 상기 오버 코트층 상에 셀갭 유지를 위한 컬럼 스페이서가 추가로 형성될 수 있다. Although not shown, an overcoat layer for planarization of the substrate may be further formed on the color filter 312, and a column spacer for maintaining a cell gap may be further formed on the overcoat layer.

다음, 도 6b에서 알 수 있듯이, 상기 얼라인 마크(310)를 이용하여 링조명 장치를 통해 소정의 패턴 마스크를 얼라인 한 후, 노광 및 현상 공정을 수행하여 상기 광차단 패턴층(320a)에 대한 패터닝 공정을 수행함으로써, 상기 제1 기판(300)의 타면에 소정의 광차단 패턴(320)을 형성한다.Next, as can be seen in Figure 6b, after aligning a predetermined pattern mask through the ring illumination device using the alignment mark 310, performing an exposure and development process to the light blocking pattern layer 320a By performing a patterning process, a predetermined light blocking pattern 320 is formed on the other surface of the first substrate 300.

상기 광차단 패턴(320)은 3D 영상을 구현함에 있어서 시야각 특성을 향상시키기 위해 적용되는 것이다. 즉, 3D 영상을 구현하기 위해서는 후술할 FPR(Film-type Patterned Retarder)(도 6e의 도면부호 340 참조)을 적용할 수 있고, 이와 같이 FPR을 적용함에 있어서 좌안 영상 영역과 우안 영상 영역 사이의 경계 영역에서의 광투과를 차단할 경우, 3D 영상에 대한 시야각 특성이 향상될 수 있다. The light blocking pattern 320 is applied to improve the viewing angle characteristic in implementing the 3D image. That is, in order to implement a 3D image, a FPR (Film-type Patterned Retarder) (see reference numeral 340 of FIG. 6E), which will be described later, may be applied, and in this way, a boundary between the left eye image area and the right eye image area When the light transmission in the area is blocked, the viewing angle characteristic of the 3D image may be improved.

따라서, 상기 광차단 패턴(320)은 FPR(도 6e의 도면부호 340 참조)의 좌안 영상 영역과 우안 영상 영역 사이의 경계 영역에 패턴 형성되며, 그 예로서, 상기 블랙 매트릭스 패턴(311)에 대응하면서 매트릭스 구조가 아닌 스트라이프 구조로 형성될 수 있다. Accordingly, the light blocking pattern 320 is patterned in a boundary region between the left eye image area and the right eye image area of the FPR (see reference numeral 340 of FIG. 6E), and corresponds to the black matrix pattern 311 as an example. It can be formed as a stripe structure, not a matrix structure.

다음, 도 6c에서 알 수 있듯이, 소정의 제2 기판(500)을 준비한 후, 액정층(700)을 사이에 두고 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(500)을 합착한다. Next, as shown in FIG. 6C, after the predetermined second substrate 500 is prepared, the first substrate 300 and the second substrate 500 are bonded to each other with the liquid crystal layer 700 therebetween.

상기 제2 기판(500)은 그 위에 소정의 어레이(array)층(510)을 형성하여 준비한다. 상기 어레이층(510)은 서로 교차하여 복수의 화소를 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선, 상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하는 영역에 형성되는 박막 트랜지스터, 및 상기 박막 트랜지스터와 연결되면서 상기 복수의 화소 각각에 형성되는 화소 전극을 포함하여 이루어진다. The second substrate 500 is prepared by forming a predetermined array layer 510 thereon. The array layer 510 includes a gate line and a data line crossing each other to define a plurality of pixels, a thin film transistor formed in an area where the gate line and the data line cross, and each of the plurality of pixels connected to the thin film transistor. It comprises a pixel electrode formed in.

이와 같은 어레이층(510)은 TN(Twisted Nematic) 모드, IPS(In-plane Switching) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드 등 액정표시장치의 구동 모드에 따라 다양하게 변경될 수 있다. The array layer 510 may be variously changed according to a driving mode of a liquid crystal display such as twisted nematic (TN) mode, in-plane switching (IPS) mode, and vertical alignment (VA) mode.

상기 액정층(700)을 사이에 두고 제1 기판(300)과 제2 기판(500)을 합착하는 공정은, 진공 주입법 또는 액정 적하법을 이용하여 수행할 수 있다. The process of bonding the first substrate 300 and the second substrate 500 with the liquid crystal layer 700 therebetween may be performed using a vacuum injection method or a liquid crystal dropping method.

상기 진공 주입법은 소정의 주입구를 구비한 씰런트(600)를 이용하여 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(500)을 합착한 후, 상기 주입구를 통해 액정을 주입하고, 그 후 상기 주입구를 밀봉하는 공정이다. 상기 액정 적하법은 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(500) 중 어느 하나의 기판 상에 주입구 없는 씰런트(600)를 도포한 후, 상기 씰런트(600)의 안쪽에 액정을 적하하고, 그 후 양 기판(300, 500)을 합착하는 공정이다. In the vacuum injection method, the first substrate 300 and the second substrate 500 are bonded together using a sealant 600 having a predetermined injection hole, and then liquid crystal is injected through the injection hole, and then the injection hole Sealing process. In the liquid crystal dropping method, after applying the sealant 600 without the injection hole on any one of the first substrate 300 and the second substrate 500, the liquid crystal is dropped into the sealant 600. After that, the substrates 300 and 500 are bonded to each other.

다음, 도 6d에서 알 수 있듯이, 소정의 스크라이빙 라인(도 6c의 s라인 참조)을 따라 상기 합착 기판(300, 500)에 대한 스크라이빙 공정을 수행한다. Next, as shown in FIG. 6D, a scribing process for the bonded substrates 300 and 500 is performed along a predetermined scribing line (see s-line of FIG. 6C).

상기 스크라이빙 공정에 의해서 상기 얼라인 마크(310)는 상기 합착 기판(300, 500)에서 제거된다. The align mark 310 is removed from the bonded substrates 300 and 500 by the scribing process.

다음, 도 6e에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(300)의 광차단 패턴(320) 상에 제1 편광판(330)을 형성하고, 상기 제1 편광판(330) 상에 FPR(340)을 형성함과 더불어 상기 제2 기판(500) 상에 제2 편광판(530)을 형성한다. 6E, a first polarizer 330 is formed on the light blocking pattern 320 of the first substrate 300, and an FPR 340 is formed on the first polarizer 330. In addition, a second polarizer 530 is formed on the second substrate 500.

상기 제1 편광판(330)과 제2 편광판(530)은 액정표시장치의 모드에 따라서 적절한 편광축을 가지도록 구성된다. The first polarizer 330 and the second polarizer 530 are configured to have an appropriate polarization axis according to the mode of the liquid crystal display.

상기 FPR(340)은 좌안 영상 영역(342)과 우안 영상 영역(344)을 포함하여 이루어진다. 상기 좌안 영상 영역(342)과 우안 영상 영역(344)은 서로 상이한 편광축을 가지도록 구성되어 있어, 상기 좌안 영상 영역(342)을 통해서 좌안 영상이 출광되고, 상기 우안 영상 영역(344)을 통해서 우안 영상이 출광되며, 그에 따라, 사용자가 3D 영상을 시청할 수 있게 된다. The FPR 340 includes a left eye image area 342 and a right eye image area 344. The left eye image area 342 and the right eye image area 344 are configured to have different polarization axes so that a left eye image is output through the left eye image area 342, and the right eye through the right eye image area 344. The image is output, so that the user can watch the 3D image.

이때, 상기 좌안 영상 영역(342)과 우안 영상 영역(344) 사이의 경계 영역에 대응하는 영역에는, 전술한 바와 같이 광차단 패턴(320)이 형성되어 있다. In this case, the light blocking pattern 320 is formed in the region corresponding to the boundary region between the left eye image region 342 and the right eye image region 344.

도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 개략적인 공정 단면도이다. 전술한 실시예에 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다. 7A to 7F are schematic cross-sectional views of manufacturing a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. The same components are denoted by the same reference numerals in the above-described embodiment, and repeated descriptions of the same components will be omitted.

우선, 도 7a에서 알 수 있듯이, 제1 기판(300)의 일면, 구체적으로 제1 기판(300)의 상면 상에 얼라인 마크(310) 및 광차단 패턴(320)을 패턴 형성하고, 그 후, 상기 제1 기판(300)의 타면, 구체적으로 제1 기판(300)의 하면 상에 블랙 매트릭스층(311a)을 도포한다. First, as shown in FIG. 7A, the alignment mark 310 and the light blocking pattern 320 are patterned on one surface of the first substrate 300, specifically, on the upper surface of the first substrate 300. The black matrix layer 311a is coated on the other surface of the first substrate 300, specifically, on the lower surface of the first substrate 300.

상기 얼라인 마크(310) 및 광차단 패턴(320)은 동일한 공정을 통해 동시에 패턴 형성할 수 있으며, 따라서, 상기 얼라인 마크(310) 및 광차단 패턴(320)은 동일하게 전술한 제2 차광재료로 이루어질 수 있다. The alignment mark 310 and the light blocking pattern 320 may be simultaneously patterned through the same process, and thus, the alignment mark 310 and the light blocking pattern 320 may be the same as the second light shielding described above. It may be made of a material.

상기 블랙 매트릭스층(311a)은 전술한 제1 차광재료로 이루어진다.The black matrix layer 311a is formed of the first light blocking material described above.

다음, 도 7b에서 알 수 있듯이, 상기 얼라인 마크(310)를 이용하여 링조명 장치를 통해 소정의 패턴 마스크를 얼라인 한 후, 노광 및 현상 공정을 수행하여 상기 블랙 매트릭스층(311a)에 대한 패터닝 공정을 수행함으로써, 상기 제1 기판(300)의 타면에 소정의 블랙 매트릭스 패턴(311)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 7B, after aligning a predetermined pattern mask through a ring illumination device using the alignment mark 310, an exposure and development process may be performed on the black matrix layer 311a. By performing a patterning process, a predetermined black matrix pattern 311 is formed on the other surface of the first substrate 300.

다음, 도 7c에서 알 수 있듯이, 상기 블랙 매트릭스 패턴(311) 사이에 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(312)를 형성한다. Next, as shown in FIG. 7C, color filters 312 of red (R), green (G), and blue (B) are formed between the black matrix patterns 311.

도시하지는 않았지만, 상기 컬러 필터(312) 상에는 기판 평탄화를 위한 오버 코트층이 추가로 형성될 수 있고, 상기 오버 코트층 상에 셀갭 유지를 위한 컬럼 스페이서가 추가로 형성될 수 있다. Although not shown, an overcoat layer for planarizing the substrate may be further formed on the color filter 312, and a column spacer for maintaining a cell gap may be further formed on the overcoat layer.

다음, 도 7d에서 알 수 있듯이, 소정의 제2 기판(500)을 준비한 후, 액정층(700)을 사이에 두고 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(500)을 합착한다. Next, as shown in FIG. 7D, after the predetermined second substrate 500 is prepared, the first substrate 300 and the second substrate 500 are bonded to each other with the liquid crystal layer 700 therebetween.

상기 제2 기판(500)은 전술한 바와 같이 그 위에 소정의 어레이(array)층(510)을 형성하여 준비한다. As described above, the second substrate 500 is prepared by forming a predetermined array layer 510 thereon.

상기 액정층(700)을 사이에 두고 제1 기판(300)과 제2 기판(500)을 합착하는 공정도, 전술한 바와 같이, 진공 주입법 또는 액정 적하법을 이용하여 수행할 수 있다. The process of bonding the first substrate 300 and the second substrate 500 with the liquid crystal layer 700 therebetween may also be performed using a vacuum injection method or a liquid crystal dropping method, as described above.

다음, 도 7e에서 알 수 있듯이, 소정의 스크라이빙 라인(도 7d의 s라인 참조)을 따라 상기 합착 기판(300, 500)에 대한 스크라이빙 공정을 수행한다. 그리하면, 상기 얼라인 마크(310)가 상기 합착 기판(300, 500)에서 제거된다. Next, as shown in FIG. 7E, a scribing process for the bonded substrates 300 and 500 is performed along a predetermined scribing line (see s-line of FIG. 7D). Then, the alignment mark 310 is removed from the bonded substrates 300 and 500.

다음, 도 7f에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(300)의 광차단 패턴(320) 상에 제1 편광판(330)을 형성하고, 상기 제1 편광판(330) 상에 FPR(340)을 형성함과 더불어 상기 제2 기판(500) 상에 제2 편광판(530)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7F, a first polarizer 330 is formed on the light blocking pattern 320 of the first substrate 300, and an FPR 340 is formed on the first polarizer 330. In addition, a second polarizer 530 is formed on the second substrate 500.

100: 기판 110, 310: 얼라인 마크
111: 제2 광차단 패턴 120, 120a: 제1 광차단 패턴, 제1 광차단 패턴층
300: 제1 기판 311: 블랙 매트릭스 패턴
320, 320a: 광차단 패턴, 광차단 패턴층
330: 제1 편광판 340: FPR
500: 제2 기판 510: 어레이층
530: 제2 편광판 600: 씰런트
700: 액정층100: substrate 110, 310: alignment mark
111: second light blocking pattern 120, 120a: first light blocking pattern, first light blocking pattern layer
300: first substrate 311: black matrix pattern
320, 320a: light blocking pattern, light blocking pattern layer
330: first polarizing plate 340: FPR
500: second substrate 510: array layer
530: second polarizer 600: sealant
700: liquid crystal layer

Claims (10)

기판의 일면에 얼라인 마크를 패턴 형성하는 공정;
상기 얼라인 마크와 상이한 층에 제1 광차단 패턴층을 도포하는 공정; 및
상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 제1 광차단 패턴층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 제1 광차단 패턴을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고,
이때, 상기 제1 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크는 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법. Forming an alignment mark on one surface of the substrate;
Applying a first light blocking pattern layer to a layer different from the alignment mark; And
And forming a predetermined first light blocking pattern by performing a patterning process on the first light blocking pattern layer after aligning the pattern mask using the alignment mark.
In this case, the first light blocking pattern is made of a first light blocking material, the alignment mark is made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. The manufacturing method of the board | substrate for display apparatuses. 제1항에 있어서,
상기 기판의 일면에 제2 광차단 패턴을 형성하는 공정을 추가로 포함하여 이루어지며, 이때, 상기 제2 광차단 패턴은 상기 얼라인 마크와 동일한 공정을 통해 동일한 재료인 제2 차광재료로 형성하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법. The method of claim 1,
And forming a second light blocking pattern on one surface of the substrate, wherein the second light blocking pattern is formed of a second light blocking material of the same material through the same process as that of the alignment mark. The manufacturing method of the board | substrate for display apparatuses characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,
상기 제1 차광재료는 흡광도(Optical Density)가 0.5 ~ 4.5 범위인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법. The method of claim 1,
The first light blocking material has a light absorbance (Optical Density) is a manufacturing method of the substrate for a display device, characterized in that the range of 0.5 to 4.5. 기판 일면 상에 형성된 제1 광차단 패턴;
상기 일면과 대향하는 상기 기판의 타면 상에 형성된 제2 광차단 패턴; 그리고
상기 기판의 상기 타면에 제2 차광재료로 이루어진 얼라인 마크를 포함하되,
상기 제1 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고,
상기 제2 광차단 패턴은 제2 차광 재료로 이루어지며,
상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.A first light blocking pattern formed on one surface of the substrate;
A second light blocking pattern formed on the other surface of the substrate facing the one surface; And
An alignment mark made of a second light blocking material on the other surface of the substrate,
The first light blocking pattern is made of a first light blocking material,
The second light blocking pattern is made of a second light blocking material,
And the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. 제4항에 있어서,
상기 제1 차광재료는 흡광도(Optical Density)가 0.5~4.5 범위이고,
상기 제2 차광재료는 흡광도가 4.5 이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.The method of claim 4, wherein
The first light blocking material has an optical density of 0.5 to 4.5,
The second light blocking material has a light absorbency of 4.5 or more substrate. 삭제delete 제1 기판의 일면에 얼라인 마크 및 블랙 매트릭스 패턴을 패턴 형성하는 공정;
상기 제1 기판의 타면에 광차단 패턴층을 도포하는 공정;
상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 광차단 패턴층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 광차단 패턴을 형성하는 공정;
제2 기판을 준비한 후 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 공정;
소정의 스크라이빙 라인을 따라 합착 기판에 대한 스크라이빙을 수행하는 공정; 및
상기 광차단 패턴 상에 제1 편광판을 형성하고, 상기 제1 편광판 상에 FPR을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며,
이때, 상기 광차단 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크 및 블랙 매트릭스 패턴은 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. Patterning the alignment marks and the black matrix pattern on one surface of the first substrate;
Applying a light blocking pattern layer to the other surface of the first substrate;
Forming a predetermined light blocking pattern by performing a patterning process on the light blocking pattern layer after aligning the pattern mask using the alignment mark;
Preparing a second substrate and then bonding the first substrate and the second substrate to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween;
Scribing the bonded substrate along a predetermined scribing line; And
And forming a first polarizing plate on the light blocking pattern and forming an FPR on the first polarizing plate,
In this case, the light blocking pattern is made of a first light blocking material, the alignment mark and the black matrix pattern are made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. A method of manufacturing a liquid crystal display device. 제1 기판의 일면에 얼라인 마크 및 광차단 패턴을 패턴 형성하는 공정;
상기 제1 기판의 타면에 블랙 매트릭스층을 도포하는 공정;
상기 얼라인 마크를 이용하여 패턴 마스크를 얼라인 한 후 상기 블랙 매트릭스층에 대한 패터닝 공정을 수행하여 소정의 블랙 매트릭스 패턴을 형성하는 공정;
제2 기판을 준비한 후 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 공정;
소정의 스크라이빙 라인을 따라 합착 기판에 대한 스크라이빙을 수행하는 공정; 및
상기 광차단 패턴 상에 제1 편광판을 형성하고, 상기 제1 편광판 상에 FPR을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며,
이때, 상기 블랙 매트릭스 패턴은 제1 차광재료로 이루어지고, 상기 얼라인 마크 및 광차단 패턴은 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. Forming an alignment mark and a light blocking pattern on one surface of the first substrate;
Applying a black matrix layer to the other surface of the first substrate;
Aligning a pattern mask using the alignment marks and then performing a patterning process on the black matrix layer to form a predetermined black matrix pattern;
Preparing a second substrate and then bonding the first substrate and the second substrate to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween;
Scribing the bonded substrate along a predetermined scribing line; And
And forming a first polarizing plate on the light blocking pattern and forming an FPR on the first polarizing plate,
In this case, the black matrix pattern is made of a first light blocking material, the alignment mark and the light blocking pattern are made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. A method of manufacturing a liquid crystal display device. 액정층을 사이에 두고 합착된 제1 기판 및 제2 기판을 포함하여 이루어지며,
상기 제1 기판의 일면에는 블랙 매트릭스 패턴이 형성되어 있고, 상기 제1 기판의 타면에는 광차단 패턴, 제1 편광판 및 FPR이 차례로 형성되어 있으며,
상기 블랙 매트릭스 패턴과 상기 광차단 패턴 중 어느 하나는 제1 차광재료로 이루어지고, 나머지 하나는 제2 차광재료로 이루어지며, 상기 제1 차광재료는 상기 제2 차광재료보다 광투과율이 우수한 것을 특징으로 하는 액정표시장치. It comprises a first substrate and a second substrate bonded with a liquid crystal layer interposed therebetween,
A black matrix pattern is formed on one surface of the first substrate, and a light blocking pattern, a first polarizing plate, and an FPR are sequentially formed on the other surface of the first substrate.
One of the black matrix pattern and the light blocking pattern is made of a first light blocking material, and the other is made of a second light blocking material, and the first light blocking material has a higher light transmittance than the second light blocking material. A liquid crystal display device. 제9항에 있어서,
상기 FPR은 좌안 영상 영역과 우안 영상 영역을 포함하여 이루어지고, 상기 광차단 패턴은 상기 좌안 영상 영역과 우안 영상 영역의 경계 영역에 대응하도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The method of claim 9,
The FPR includes a left eye image area and a right eye image area, and the light blocking pattern is formed to correspond to a boundary area between the left eye image area and the right eye image area.
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