KR102012798B1 - 자외선 유도된 지질 과산화를 감소시키는 상승작용 조성물, 제형 및 방법 - Google Patents
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Abstract
상승작용에 유효한 비율의 하이드록삼산, 염 및/또는 그것의 복합물 및 산화방지제의 조성물이 개시된다. 조성물은 지질의 자외선으로의 노출 상에서 지질 과산화를 감소시키거나 또는 방지하는데 효과적이다. 개인 관리 및 다른 제형들이 본 발명의 범위 내에 포함되고, 산화방지제의 산화방지 잠재력을 증가시키는 방법, 일정 기간에 결쳐 개인 관리 제형 내의 지질 성분의 과산화를 감소시키는 방법 및 포유동물 피부 세포들 내의 지질들의 과산화를 감소시키는 방법들도 본 발명에 포함된다.
Description
본 발명은 하이드록삼산(hydroxamic acid), 염(salt) 및/또는 그것의 복합물의 양 및 산화방지제의 양을 상승작용에 유효한 비율로 포함하는 조성물에 관한 것이다.
태양 방사(solar radiation)는 태양에 의해 방출되고 적어도 전기파의 이러한 스펙트럼들로 구성되는 에너지의 형태이다: 가시광선, 적외선 및 자외선. 가시광선은 400 내지 700나노미터의 파장들에 의해 표현되는 스펙트럼의 부분이다. 적외선 복사는 700나노미터보다 큰 파장(즉, 가시 스펙트럼의 모서리의 명목상의 적색으로부터 확장하는 파장)의 비-가시(invisible) 방사선이고, 이는 열로서 물리적으로 지각될 수 있다. 자외선 복사는 약 400㎜ 내지 약 10㎜의 범위 내의 파장들이다. 태양 복사로의 과도한 노출은 선번(sunburn) 및 홍반(erythema)과 같은 급성 및 즉각적인 손상, 및/또는 피부의 조기 노화 및 피부암과 같은, 장기간 손상을 포함하여, 생물들에 해로운 결과들을 야기할 수 있다. UV 복사로의 노출은 특히 심각할 수 있는데, 그 이유는 이것이 개별적으로 지각될 수 없고 따라서 그 또는 그녀는 노출 레벨을 판단할 수 없기 때문이다.
자외선 복사(UV)는 UVA 복사(300 내지 320㎜) UVB 복사(320 내지 290㎜) 및 UVC 복사(290 내지 10㎜)로 더 세분된다. 일반적으로, UVC 복사는 오존층에 의해 거의 완전하게 흡수되고 인간 또는 다른 동물들에 영향을 미치지 않는다. 그러나, UVA 및 UVB 복사는 대기에 의해 완전히 흡수되지 않고, 피부 및 다른 물질들과 접촉하거나 이들을 손상시키거나 또는 분해할 수 있다. UVB 복사로의 피부 노출은 즉각적인 피부 태닝(tanning) 및 급성 선번을 야기할 수 있다 UVA 복사로의 노출은 멜라닌 합성 및 지연된 태닝뿐만 아니라, 피부 세포들 내의 유리 라디칼(free radical)들을 생산할 수 있는 산화적 광생물학 반응을 촉진한다.
UVA 및 UVB 모두 피부 조직에 대한 손상(예를 들면, 콜라겐 분해)과 관련된 발암 잠재력 및 뒤따르는 조기 노화의 징후들을 갖는 것으로 이해된다. 더 구체적으로, UV 복사는 피부 세포들 내의 핵산들, 단백질들 및 지질들의 손상들을 야기할 수 있다. 예를 들면, Puntala 및 Ahotupa(1991)는 UVA 및 UVB 복사 모두가 지질 과산화 반응들을 유도할 수 있고 인간 케라틴 세포(keratinocyte)들 내의 세포 산화방지 효소 시스템들을 저해할 수 있다는 사실을 보고하였다(Punnonen, K., A. Puntala, and M. Ahotupa, "Effects of ultraviolet A and B irradiation on lipid peroxidation and activity of the antioxidant enzymes in keratinocytes in culture", Photodermatol., Photoimmunol. & Photomed., 8, pp. 3-6 (1991)).
또한, Vile 및 Tyrrell(1995)은 UVA에 노출된 인간 피부 섬유아세포(fibroblast)가 또한, 철(iron), 일중항 산소(singlet oxygen) 및 과산화수소를 포함하는 반응들에서 UVA에 의해 촉진되는 유해한 지질 과산화를 겪는다는 것을 관찰하였다(Vile, G. F., and R. M. Tyrrell, "UVA radiation-induced oxidative damage to lipids and proteins in vitro and in human skin fibroblasts is dependent on iron and singlet oxygen", Free Rad. Biol. Med., 18, pp. 721-730 (1995)).
여기에 보충해서, Yin, Xu 및 Porter(2011)는 자외선 복사가 결국 지질들, 단백질들 및 다른 구조들과 상호작용할, 또한 활성 산소(Reactive Oxygen species, ROS)로서 알려진, 세포내 산소-발생 유리 라디칼들을 여기하고, 정상 세포 기능을 손상시킨다는 것을 보고하였다(Yin, H., L. Xu, and N. A. Porter, "Free Radical Lipid Peroxidation: Mechanisms and Analysis", Chem. Rev., 111, pp. 5944-5972 (2011)).
"라디칼(radical)" 또는 "유리기(free radical)"는 그것의 외부 오비탈 쉘(orbital shell) 내의 하나 이상의 짝이 없는(unpaired) 전자를 갖는 분자이다. 유리 라디칼들은 때때로 다른 분자들과 반응하고 사슬 반응의 자가-전파에서 새로운 유리 라디칼 종들을 형성하는, 고도로 화학적으로 반응성이다. 세포막 지질에 대한 유리 라디칼 손상은 막을 손상하여 산소, 영양성분 및 물을 세포에 수송하는 기능을 잃어버리게 한다. 그러한 형태의 세포 기능장애는 공통으로 다양한 병리 조건들 및 노화와 관련된다. 실제로, 대한민국특허 제20010010240호는 지질 과산화 저해제로서 트리테르펜(triterpene) 유도체들의 사용을 언급하고, 또한 항암 약물들 및 노화 방지 제제들로서의 실행을 특징으로 한다.
이러한 단점들 외에, 과산화, 특히 지질 과산화는 식물성 오일들, 식물성 왁스(wax)들, 버터들, 트리글리세리드(triglyceride)들 및 다른 불포화 지방성 물질들과 같은 성분들을 포함하는 개인 관리(personal care) 및 약학 제품들의 저장 안전성(shelf stability)에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들면, 일본 특허 제 H05320048호에서, Shiseido사는 제형을 안정성을 촉진하기 위하여 지질 과산화의 대상이 되는 화장품 제형들에서의 보존제(preservative)로서 용도로 δ-토코페롤 및 천연 스핑고신(sphingosin)의 상승작용 조합을 제공하였다.
개인 관리/약학 제품들 및 살아있는 피부 세포들 모두에서 이러한 지질 과산화를 억제하거나 또는 방지하기 위한 시도들이 있었다. 피부에 국소적으로 적용되는 선스크린 제제들은 자외선 복사를 여과/흡수하고, 활성 산소 형성을 방지한다. 그러한 제제들은 옥토크릴린(octocrylene), 옥틸 메톡시신나메이트(octyl methoxycinnamate), 벤조페논(benzophenone)-3, 벤조페논-4, 옥틸 살리실레이트(octyl salicylate), 부틸메톡시디벤조일메탄(butyl methoxydibenzoylmethane)을 포함할 수 있다. 또, 이러한 제제들의 활성은 용량, 노출 파장 및 시간에 의존한다. 이러한 종래의 많은 선스크린 제제들은 광에 덜 안정적이고 따라서 더 지속적인 보호를 제공하지 않는다.
아스코르브산(ascorbic acid), 소듐 아스코르빌 포스페이트(sodium ascorbyl phosphate), 아스코르빌 팔미테이트(ascorbyl palmitate), α-토코페롤, 토코페릴 아세테이트(tocopheryl acetate), 부틸화 하이드록시톨루엔(butylated hydroxytoluene), 부틸화 하이드록시아니졸(butylated hydroxyanisole), 페놀성 화합물, 카로티노이드, 및 유기 셀레늄(organic selenium)과 같은, 산화방지 제제는 유리 라디칼(free radical)들을 안정화시킬 수 있고, 따라서 사슬 반응(chain reaction)을 방해한다. 그것들의 활성은 또한 용량 의존적이고 일부는 광, 산소 및 가수분해에 민감하다. 마지막으로, 디소듐 에틸렌디아민테드라아세트산(disodium ethylenediaminetetraacetic acid), 테트라소듐 에틸렌디아민테드라아세트산(tetrasodium ethylenediaminetetraacetic acid), 펜타소듐 에틸렌디아민테드라아세트산(pentasodium ethylenediamine tetramethylene phosphonate), 하이드록삼산(hydroxamic acids), 시트르산(citric acid)과 같은, 킬레이트제들은 금속 이온에 결합되고 이에 의해 산화 반응들에 그것들의 참여를 방지한다. 킬레이트제들은 상대적으로 더 안정적인 화합물들이긴 하나, 자유 라디칼 연쇄성장반응의 억제 대신에 고유의 산화 촉매제들(금속 이온들)과 복합물들을 형성함으로써 기능을 한다. 그 결과, 그것들은 과산화의 감소에 덜 효과적이다.
지질 과산화(lipid peroxidation)를 저해하기 위한 메커니즘과 관련하여, 이전에 설명된 접근법들은 각각 그것의 장점들과 단점들을 갖고 이는 여러 가지 방식들로 결합될 수 있다. 예를 들면, 미국특허 제7,012,092호는 순수 합성 토코페롤(tocopherol)의 산화방지 능력의 적어도 17배를 전달하도록 디자인된 토코페롤들 및 토코트리에놀(tocotrienol)들의 상승작용 조성물을 청구한다. 그러나, Hanson, Gratton 및 Bardeen(2006)은 자외선 복사 하에서의 60분 이후에, 노출이 실제로 길항 효과를 발생시키고 활성 산소의 생산을 증가시키는 선스크린(sunscreen)의 조합에 대해 설명하고 있다. (Hanson, K. M., E. Gratton and C. J. Bardeen, "Sunscreen enhancement of UV-induced reactive oxygen species in the skin", Free Rad. Bio. Med., 41, pp. 1205-1212 (2006).)
이와 관련하여, 피부에 또는 개인 관리(personal care) 및 약학 제형들이건, 자외선 복사의 유해한 영향들에 대항하여 효율적인 보호를 제공할 수 있는 새로운 화합물 또는 화합물들의 조합을 위한 필요성이 존재한다.
본 발명은 하이드록삼산(hydroxamic acid), 염(salt) 및/또는 그것의 복합물의 양 및 산화방지제의 양을 상승 작용에 유효한 비율로 포함하는 상승작용 조성물 을 포함한다. 조성물은 지질의 자외선 광 노출 시 지질 과산화를 감소시키거나 또는 방지할 수 있다. 일부 실시 예들에서, 조성물은 약 5: 약 12, 약 4: 약, 11, 약 3: 약 10, 약 1: 약 4, 약 1: 약 6, 약: 약 15, 약 15: 약 1, 약 6: 약 1, 약 4: 약 1, 약 10: 약 3, 약 11: 약 4, 약 12: 약 5의 비율로부터 선택되는 중량 퍼센트 비율의 하이드록삼산, 염, 및/또는 그것의 복합물 및 산화 방지제를 포함한다.
또한, 지질의 자외선 광으로의 노출 시 지질 과산화의 감소를 위해 적어도 하나의 하이드록삼산, 염 및/또는 그것의 복합물의 양, 및 적어도 하나의 산화방지제의 양을 상승작용에 유효한 비율로 포함하는, 일정 기간에 걸쳐 구성 지질의 과산화를 감소시키는 개인 관리 제형을 포함한다.
본 발명은, 산화 방지제의 산화 방지 잠재력을 증가시키는 방법, 일정 기간에 걸쳐 개인 관리 제형 내의 지질 성분의 과산화를 감소시키는 방법, 및 포유동물 피부 세포들 내의 지질의 과산화를 감소시키는 방법을 포함하는 다양한 방법들, 개시되는 조성물들 또는 제형들의 용도를 포함한다.
본 발명의 조성물은 세포 및 개인 관리 제형에서 지질 과산화에 대한 우수한 상승효과를 나타낸다.
이전의 요약뿐만 아니라 아래의 본 발명의 바람직한 실시 예들의 상세한 설명은 첨부된 도면들과 함께 읽을 때 더 잘 이해될 것이다. 본 발명의 설명의 목적을 위하여, 도면들에 현재 바람직한 실시 예들이 도시된다. 그러나 본 발명은 도시된 정확한 배치들과 수단들에 한정되지 않는다는 것을 이해하여야 한다.
도 1은 상승작용 효과를 나타내는 샘플들을 강조한, UVA 복사 이전(A) 및 이후(B)를 도시한다.
도 2는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 도 1의 A 및 B로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 3은 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 2로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 4는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 3으로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 5는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 4로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 1은 상승작용 효과를 나타내는 샘플들을 강조한, UVA 복사 이전(A) 및 이후(B)를 도시한다.
도 2는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 도 1의 A 및 B로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 3은 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 2로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 4는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 3으로부터 획득된 데이터를 도시한다.
도 5는 대조군의 퍼센트 및 컬 방정식(Kull equation)에 의해 계산된 테스트 조성물의 상승작용 지수로서, 실시 예 4로부터 획득된 데이터를 도시한다.
지질의 자외선 광으로의 노출의 결과로서 지질의 과산화 및 지질 유리 라디칼(free radical)의 발생은 돌연변이 활성의 개시를 포함하는, 생체 세포내 성분 및 세포막의 손상, 또는 지질로 구성된 제형의 분해를 야기할 수 있다. 여기서 설명되는 본 발명은 해결방안을 제공한다-본 발명은 자외선 노출로부터 야기하는 지질 과산화를 방지하거나 또는 감소시키기 위한 능력에 관한 것이다. 특히, 컬 방정식을 사용하여 평가하였을 때, 산화방지 제제 및 킬레이트제(chelating agent)의 조성물이 놀랍게도 각각의 제제의 개별적인 사용과 비교하여 지질 보호 능력을 적어도 50% 증가시키는 상승작용이 있는 것으로 증명되었다. 이러한 상승작용의 레벨은 이전에는 달성되지 않았고 이는 많은 상이한 개인 관리 및 약학 제품들에서의 산업, 의학 및 식품 적용들에 널리 유용하다.
따라서, 여기서 설명되는 본 발명은 지질의 자외선 광으로의 노출 상에서 지질 과산화를 감소시키거나 또는 방지할 수 있는 조성물들, 산화방지제의 산화방지 잠재력을 증가시키는 방법들, 일정 시간에 걸쳐 개인 관리 제형 내의 지질 성분의 과산화의 비율을 감소시키는 방법들 및 진핵 세포, 바람직하게는 피부 세포, 바람직하게는 포유동물의 피부 세포 내의 지질들의 과산화를 감소시키는 방법들을 포함한다. 본 발명의 조성물들을 포함하는 약학, 개인 관리 및/또는 식품 제품들에 대한 제형들이 또한 포함된다.
여기서 설명되는 본 발명은 UVA, UVB, 또는 UVC 방사, 또는 두 개 이상의 이들의("자외선 광")의 조합의 노출 상에서 지질 과산화를 감소시킬 수 있다.
여기서 사용되는, "지질 과산화"는, 지질 라디칼을 발생시키기 위하여 지질 분자로부터 전자들의 제거를 야기하는 메커니즘들에 의한 산화성 분해(oxidative degradation)를 의미한다. 지질(들)은 그것들이 순수한 지질이거나 또는 제형에 포함되는지(제형의 "지질 성분들")에 상관없이, 세포 내의 지질들(예를 들면, 생체내 세포내 지질들 또는 살아있는 진핵 세포 내의 막 지질들), 식품 내에 존재하는 지질들(천연물 또는 첨가물), 또는 레시틴(lecithin)에서 발견되는 인지질(phospholipid)과 같은, 세포 외부의 어떠한 기원의 지질들일 수 있다.
지질 과산화의 발생/비-발생은 종래에 알려졌거나 또는 개발되려는 어떠한 분석 기술을 사용하여 정량화될 수 있다. 적절한 기술들은 발생된 지질 과산화 제품들의 직접적 또는 간접적 측정을 포함한다. 적절한 기술은 예를 들면, Wang 등(Wang, Y. R., H. Zhao, X. S. Sheng, P. E. Gambino, B. Costello and Bojanowski K., "Protective effect of Fructus lycii Polysaccharides against time- and hyperthermia-induced damage in cultured seminiferous epithelium", J. Ethnopharmacol., 82, pp. 169-175 (2002))에 의해 변형된, Estee Lauder의 Pelle 등(Pelle, E., D., Maes, G. A. Padulo, E. K. Kim and W. P. Smith, "An in vitro model to test relative antioxidant potential: ultraviolet-induced lipid peroxidation in liposomes", Arch. Biochem. Biophys., 283, pp. 234-240 (1990))에 개시된다.
여기서 설명되는 본 발명의 조성물들 및 방법들은 살아있는 세포들, 특히 피부 세포들과 같은, 진핵 세포들에 적용될 때 항돌연변이성(antimutagenic) 효과를 나타내는, 화장품(미학적) 및/또는 의학적 용도로, 및/또는 개인 관리 제형들, 약학 제형들 및/또는 식품 제품들에 포함될 때, 안정성 개선 효과를 나타내는 보존제로 사용될 수 있다.
규정된 비율로 함께 존재할 때 상승작용을 나타내는 두 가지 성분, 산화방지 제제 및 킬레이트제의 혼합물이 본 발명에 포함된다. 특히, 킬레이트제는 하이드록삼산 또는 두 가지 이상의 하이드록삼산의 혼합물이다. 본 발명에서의 사용을 위하여, 하이드록삼산은 알킬하이드록삼산을 포함할 수 있다. 하이드록삼산들을 그것들의 유리(비-중화된) 또는 염(중화된) 형태들뿐만 아니라, 그것들의 염들 및/또는 복합물들(또는 이들의 조합들)로 존재할 수 있다. 또 첨가할 때 그러한 화합물들, 염들 및 복합물들을 형성하도록 반응하는, 그러한 화합물들의 전구물질들이 또한 포함된다.
위에서 설명된 것과 같이, 하이드록삼산(들)은 알킬하이드록삼산(들)일 수 있다. 적절한 알킬하이드록삼산(들)은 약 2개 내지 약 22개 탄소 원자, 그리고 바람직하게는 약 6개 내지 약 12개 탄소 원자의 선형(linear) 또는 분기형 탄소 사슬(branched carbon chain)들을 가질 수 있다. 탄소 사슬들은 이중 결합들, 즉 불포화의 영역들을 포함할 수 있고, 또한 기능성(원하는 최종 사용자 또는 특성들에 의존하여, 탄소 사슬을 따라 수소 원자에 대한 작용기(functional group)의 치환에 의해)을 가질 수 있다.
예를 들면, 수산기(hydroxy group)는 더 나은 친수성을 나타내게 하는 선택된 하이드록삼산의 사슬 상의 유익한 측(side) 또는 말단 치환기(substituent)일 수 있다. 개인 관리 및/또는 약학 제형 용도에 적합하거나 및/또는 제안되는 기준을 충족하는 다른 유사한 작용기들이 하나 이상의 수소 원자에 대하여 치환될 수 있다. 그러한 치환들이 만들어진 화합물들의 예들은, 제한 없이, 헥사노하이드록삼산(hexanohydroxamic acid), 카프릴로하이드록삼산(caprylohydroxamic acid), 카프로하이드록삼산(caprohydroxamic acid), 라우로하이드록삼산(laurohydroxamic acid)을 포함한다.
일부 실시 예들에서, 본 발명에서의 사용을 위하여 선택된, 치환되거나 또는 무-치환된, 하이드록삼산은 예를 들면, 리파아제 촉매작용(lipase catalysis)뿐만 이나라 종래에 알려졌거나 또는 개발되려는 다른 합성 기술들을 사용하여 하나 이상의 천연 오일로부터 합성될 수 있다.
일부 실시 예들에서, 위에 설명된 하이드록삼산, 염 또는 복합물이 각각 총 조성물 중량의, 약 0.001% 내지 약 50%, 약 0.10% 내지 약 45%, 약 5% 내지 약 35% 또는 약 10% 내지 약 25%의 양으로 존재하는 것이 바람직할 수 있다. 만일 본 발명의 일 양상에 따른 성분들로서 전구 물질들이 사용되면, 중량 퍼센트는 조성물 내의 형성될 화합물의 최종 양으로 언급될 것이다.
본 발명의 방법들 및 조성물들은 산화방지제의 양을 포함한다. 개인 관리, 약학 혹은 인간 또는 포유동물 소비에 적합한 어떠한 산화방지제 또는 산화방지제들의 조합도 사용될 수 있다. 적절한 예들은 제한 없이, 아스코르브산(ascorbic acid), 소듐 아스코르빌 포스페이트(sodium ascorbyl phosphate), 아스코르빌 팔미테이트(ascorbyl palmitate), α-토코페롤, 토코페릴 아세테이트(tocopheryl acetate), 부틸화 하이드록시톨루엔(butylated hydroxytoluene), 부틸화 하이드록시아니졸(butylated hydroxyanisole), 레스베라트롤(resveratrol), 케르세틴(quercetin), 요산(uric acid), 카로틴, 글루타티온(glutathione), 멜라토닌(melatonin), 및 셀레늄(selenium)을 포함할 수 있다. 고려되는 최종 사용자에 따라, 바람직한 산화방지제는 아스코르브산, 소듐 아스코르빌 포스페이트, 토코페롤, 토코페릴 아세테이트 및 부틸화 하이드록시톨루엔 또는 두 가지 이상의 이들이 혼합물들을 포함할 수 있다. 일부 실시 예들에서, 선택된 산화방지제(들)가 또한 비타민인 것이 바람직하고, 따라서 이는 제형에서 이중 역할을 한다.
일부 실시 예들에서, 산화방지제는 조성물 총 중량의, 약 0.001% 내지 약 50.0%, 약 5.0% 내지 약 40.0%, 약 15.0% 내지 약 35.0%, 및 약 20.0% 내지 약 28.0%의 양으로 존재하는 것이 바람직할 수 있다.
위에 제시된 총 조성물의 중량의 제안된 양에도 불구하고, 하이드록삼산, 염 및/또는 이의 복합물 및 산화방지제는 서로에 대하여 상승작용에 유효한 비율로 조성물 내에 존재한다. 여기서 사용되는, 용어 "상승작용에 유효한 비율"은 제제들 중 어느 하나가 단독으로 야기하는 지질 과산화의 감소/예방보다 큰 지질 과산화의 감소 또는 예방을 제공하는, 각 제제의 다른 제제에 대한 상대적인 양(비율)을 의미한다.
그러한 상승작용 효과는 종래에 알려졌거나 또는 개발되려는 어떠한 수단들에 의해 측정되거나 또는 평가될 수 있다. 그러나 여기에서는 상승작용으로 간주되는 효과들을 컬 방정식을 사용하여 평가하였다. F.C. Kull 등; Applied Microbiology Vol. 9, pp. 538-541 (1961); David C. Steinberg, Cosmetics & Toiletries Vol. 115 (No. 110), pp. 59-62, November 2000;이 참조된다. 두 화합물, 또는 화합물들의 조합 사이의 상승작용은 동시에 평가될 때 서로의 고유의 활성에 대하여 향상시키거나 또는 부가하는, 그러한 화합물들 또는 화합물들의 조합의 특이한 능력으로 이해된다(상승작용 지수>1.0). 두 가지 상이한 화합물 또는 두 가지 상이한 화합물들의 조합의 혼합물이 활성에서의 어떠한 진전도 야기하지 않을 때, 어떠한 상승작용도 관찰되지 않는다(상승작용 지수 = 1.0). 다른 한편으로, 동일한 혼합물이 고유의 활성의 감소 또는 저해를 야기할 때, 혼합물은 길항물질(antogonist)로서의 특징을 갖는다.
컬 방정식은 다음과 같다:
SI = C×D/A + C×E/B, 여기서
"A"는 시간 "t"에서 기질 A, 또는 기질 A의 조성물에 대한 반응을 나타낸다.
"B"는 시간 "t"에서 기질 B, 또는 기질 B의 조성물에 대한 반응을 나타낸다.
"C"는 시간 "t"에서 혼합물 A+B에 대한 반응을 나타낸다.
"D"는 C 내의 A의 양을 나타내고,
"E"는 C 내의 B의 양을 나타낸다.
"∼의 양"은 단독으로 사용될 때 테스트에서 사용된 양(A 또는 B에서 사용된 양)을 조합하여 사용된 양(C에서 사용된 양)으로 나눈 것을 의미한다.
일부 실시 예들에서, 산화방지제에 대한 하이드록삼산의 상승작용으로의 유효 비율은 약 5: 약 12, 약 4: 약, 11, 약 3: 약 10, 약 1: 약 4, 약 1: 약 6, 약: 약 15, 약 15: 약 1, 약 6: 약 1, 약 4: 약 1, 약 10: 약 3, 약 11: 약 4, 약 12: 약 5의 비율들로부터 선택되는 산화방지제의 중량 퍼센트(총 조성물의 중량)에 대한 하이드록삼산, 염, 및/또는 그것의 복합물의 중량 퍼센트의 비율인 것이 바람직할 수 있다.
본 발명의 일부 실시 예들에서, 하이드록삼산, 염, 및/또는 그것의 복합물의 혼합물은 직접적으로 혼합물의 피부 또는 다른 표면으로의 국소적(topical) 적용을 허용하거나 및/또는 2차 제형, 예를 들면, 개인 관리 제형 또는 약학 제형으로의 조성물의 양의 쉬운 전달을 허용하는 전달 비히클(delivery vehicle) 내에 운반된다. 적절한 비히클들의 예들은 제한 없이, 증류수 또는 정제수, 알코올, 디올(diol), 글리콜(glycol), 에스테르, 폴리에스테르, 식물성 오일, 광물성 오일, 실리콘 오일, 트리글리세리드(triglycerides), 디메틸 이소소르바이드(dimethyl isosorbide), 왁스(wax), 활석(talc), 옥수수전분(cornstarch), 실리카, 키토산(chitosan), 셀룰로오스, 타피오카(tapioca), 염, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 일부 실시 예들에서, 비히클이 물 및 글리콜 또는 디메틸 이소소르바이드의 용액인 것이 바람직할 수 있다.
본 발명의 조성물들 내의 산화방지제 및 알킬하이드록삼산의 용해도 및 다른 물리-화학적 특성들에 의존하여, 여기서 설명되는 조성물들 내에 가용화제(solubilizing agent) 및/또는 유화제(emulsifier)가 필요할 수 있다. 적절한 가용화제 및/또는 유화제들의 예들은 글리세린, 프로필렌 글리세롤(propylene glycol), 부틸렌 글리콜(butylene glycol), 헥실렌 글리콜(hexylene glycol), 카프릴릴 글리콜(caprylyl glycol), 에틸헥실글리세린(ethylhexylglycerin), 메틸 프로판디올(methylpropanediol), 프로판디올, 1,2-헥산디올(hexanediol), 글리세릴 카프릴레이트(glyceryl caprylate), 글리세릴 운데실레네이트(glyceryl undecylenate), 프로필렌 글리콜 디벤조에이트((propylene glycol dibenzoate), 네오펜틱 글리콜 디헵타노에이트(neopentyl glycol diheptanoate), 에탄올, 페녹시에탄올(phenoxyethanol), 펜에틸 알코올(phenethyl alcohol), 벤질 알코올(benzyl alcohol), 2-(2-에톡시에톡시(ethoxyethoxy))에탄올, 폴리소르베이트(polysorbate)-20, 폴리소르베이트-60, 폴리소르베이트-80, 알킬 글루코시드(alkyl glucoside), 코카마이드(cocamide), 및 이들의 조합을 포함하나, 이에 한정되지 않는다.
바람직하게, 가용화제 및/또는 유화제는 본 발명의 조성물 총 중량의 0.001% 내지 50.000%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 20%로 존재한다.
본 발명의 조성물들은 바람직하게는 포유동물의, 피부 표면에 국소적으로 적용될(또는 그렇지 않으면 직접적으로 포유동물 또는 진핵 세포 내로 도입될) 수 있고, 자외선 광의 노출 상에서 지질 과산화를 방지하거나 또는 감소시키기 위하여 식품 표면에 적용되거나 또는 식품에 포함될 수 있다. 대안으로서, 본 발명의 조성물들은 개인 관리(화장품 및 세면품을 포함하는) 제형들과 같은 2차 제형들, 및 의약, 약학 및/또는 식품 보존제 제형들에 포함될 수 있다.
그러한 제형들은 본 발명의 조성물 이외의 성분을 포함한다. 제형들 내에 존재할 수 있는 성분들은 제형의 최종 사용자에 따라 변경될 것이나. 착색제(colorant), 향수, 활성 성분(active ingredient), 센세이트(sensate), 색소, 계면활성제, 실리카, 키토산(chitosan), 알코올, 실리콘, 식물 추출물, 검(gum), 페트롤라텀(petrolatum), 왁스, 에스테르, 텍스처라이저(texturizer), 자외선 여과제(UV filtering agent), 자외선 차단제, 보존제, 비타민, 전분(starch), 및 글리세린을 포함할 수 있다.
제형들은 어떠한 바람직한 제품, 예를 들면, 스킨 토너(skin toner), 스킨 클린저, 나이트 크림(night cream), 쉐이빙 크림, 스킨 케어 로션, 산화방지 피부 제품들, 또는 화장품 제제: 파운데이션(foundation), 액체 및 분말 기반 화장품, 마스카라(mascara), 립스틱, 블러시(blush), 글로스(gloss), 아이-라이너 등과 같은 화장품; 또는 연고제(ointments), 겔-크림(gel-cream), 로션, 선스크린, 립 밤(lip balm), 향수, 마사지 오일, 샴푸, 컨디셔너, 컨디셔닝 샴푸, 헤어 스타일링 겔(hair styling gel), 헤어 리페러티브(hair reparative), 헤어 토닉, 모발 고정제(hair fixatives), 헤어 무스(hair mousses), 배스(bath) 및 샤워 겔, 액체 비누, 보습(moisturizing) 스프레이, 화장품, 고형 분말 제형들, 목욕 첨가제, 안과용 약제(ophthalmic preparation), 거품 비누 및 바디 워시, 선스크린, 위생용 와이프(wipe), 손 세정제, 냅킨(towelette) 및 와이프 등과 같은, 다른 개인 관리 및/또는 약학 조성물들;이 되도록 제조될 수 있다.
만일 본 발명의 조성물이 물 기반 2차 제형에 포함된다면, 친수성 희석물로서 조성물을 제조하고 이를 2차 제형의 수상(water phase)에 첨가하는 것이 바람직할 수 있다.
오일- 또는 실리콘 기반 제형과 관련하여, 소수성 희석물로서 조성물을 제조하고 이를 오일 또는 실리콘 상에 첨가하는 것이 바람직할 수 있다. 고체 제형들에서, 조성물들은 실리카, 활석(talc), 탄산마그네슘(magnesium carbonate), 마그네슘 알루미늄 실리케이트(magnesium aluminum silicate), 고령토(kaolin), 이산화티탄(titanium dioxide), 산화 아연(zinc oxide), 전분(starch), 변성(modified) 전분 등에 흡착될 수 있다. 또는, 조성물들은 유화 시스템(emulsified system), 또는 친수성 시스템, 또는 소수성 시스템으로서 제조될 수 있고, 바람직하게는 35-45℃ 사이에서, 제조 과정의 최종 단계에 첨가될 수 있다.
2차 제형들 내에 존재하는 조성물의 양은 제형의 최종 용도에 따라 다양할 것이다. 그러나 일부 실시 예들에서 전체 제형의 약 0.01% 내지 약 50%, 약 0.50% 내지 약 20%, 또는 약 0.1% 내지 약 5% 중량의 양에서의 조성물을 포함하는 것이 바람직할 수 있다. 만일 본 발명의 조성물이 제형에 첨가되면, 미리 혼합하여 제형에 첨가할 수 있다. 또는, 조성물의 각각의 성분을 개별적으로 제형에 첨가할 수 있다.
본 발명은 또한 상승작용의 혼합물을 형성하기 위하여 적어도 하나의 산화 방지제를 하이드록삼산, 염 및/또는 그것의 복합물과 결합함으로써 산화 방지제의 산화 방지 잠재력을 증가시키는 방법을 포함하고, 상승작용 혼합물의 산화 방지 잠재력은 산화 방지제 단독의 산화 방지 잠재력보다 크다. 결과로서 생기는 제품은 식품, 약학 및 영양보조제(nutritional supplement) 또는 보존제(preservative)와 같은 소비자 제품 적용들에서 사용될 수 있다.
일정 기간에 걸쳐 개인 관리 제형 내의 지질 성분의 과산화의 비율을 감소시키는 방법 및 포유동물 피부 세포들 내의 지질들의 과산화를 감소시키는 방법이 또한 본 발명의 범위 내에 포함된다.
구성 요소의 존재 또는 부재를 포함하여, 위에 설명된 구성 요소들의 모든 순열(permutation)이 본 발명의 조성물들, 제형들, 및/또는 방법들의 실시 예들에서 고려된다.
실시 예 1
디메틸 이소소르바이드(dimethyl isosorbide, 0.4%, w/w) 및 물(qsp 100% w/w)에 희석된 카프릴로하이드록삼산(caprylohydroxamic acid, 0.15% w/w)을 포함하도록 테스트 조성물(1)이 제조되었다. 테스트 조성물(2)은 테스트 조성물(1)과 동일한 용제 내에 희석된 아스코르브산(0.5% w/w)을 포함하였다. 최종적으로, 테스트 조성물들(1 및 2)에서와 같이 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w) 및 아스코르브산(0.5% w/w) 모두를 포함하는 테스트 조성물(3)이 제조되었다.
Wang 등(Wang, Y. R., H. Zhao, X. S. Sheng, P. E. Gambino, B. Costello and Bojanowski K., "Protective effect of Fructus lycii Polysaccharides against time- and hyperthermia-induced damage in cultured seminiferous epithelium", J. Ethnopharmacol., 82, pp. 169-175 (2002))에 의해 변형된, Estee Lauder의 Pelle 등(Pelle, E., D., Maes, G. A. Padulo, E. K. Kim and W. P. Smith, "An in vitro model to test relative antioxidant potential: ultraviolet-induced lipid peroxidation in liposomes", Arch. Biochem. Biophys., 283, pp. 234-240 (1990))에 의해 개발된 방법을 사용하여, 테스트 조성물들(1-3) 각각에 대하여 자외선 유도된 지질 과산화가 평가되었다.
간단하게 설명하면, 테스트 조성물들은 레시틴(천연 인지질)의 분산제에 첨가되었고 UVA 광(6 mW/㎝2, 리드(lid) 없음) 및 UVB 광(0.9 mW/㎝2)으로 개별적으로 조사되었다. 조사 2.5 시간 후에, 티오바르비탈산(thiobarbituric acid)이 첨가되었고 말론알데히드(malonaldehyde, 말론알데히드는 산화된 지질들로부터 자발적으로 발생되는 분해 산물이다)와 같은 티오바르비탈산 반응성 물질(TBARS)들의 농도가 Molecular Ddevices사의 마이크로플레이트 리더(microplate reader) MAX190을 사용하여, 550㎚에서 분광 측정법으로 측정되었다. 음성 대조군으로서 물이 사용되었다.
샘플들은 10%의 최종 농도로의 희석 후에 3회 분석되었다. Canon Rebel X 디지털 카메라로 사진 문서화되었다. 통계적 유의도는 양측검정(double-tailed) t 테스트로 계산되었고 p 값 유의도 임계는 0.05로 설정되었다(0.05보다 낮은 p 값들을 갖는 차이들은 통계적으로 유의한 것으로 고려되었다). 결과들은 물 대조군에 대한 티오바르비탈산 반응성 물질들의 비율로서 정의되는, %대조군(CONTROL)으로서 기록되었다. 실험에 기술적 타당성을 제공하기 위하여 양성 대조군(200㎍/mL에서의 아스코르브산)이 포함되었다. 도 1은 상승작용 샘플들을 강조한, UAB 조사 이전(A) 및 이후(B)의 사진을 도시한다.
데이터에 의거하여, 테스트 조성물(3)에 대한 상승작용 지수가 컬 방정식을 사용하여 계산되었다. 도 2는 자외선 유도된 지질 과산화의 상승작용 지수 결과들을 제시한다.
실시 예 2
본 실시 예에서, 디메틸 이소소르바이드(0.4%, w/w) 및 물(qsp 100% w/w)에 희석된 카프릴로하이드록삼산(caprylohydroxamic acid, 0.15% w/w)을 포함하도록 테스트 조성물(4)이 제조되었다. 테스트 조성물(5)은 디메틸 이소소르바이드(0.4%, w/w), 폴리소르베이트-60(0.3% w/w) 및 물(qsp 100% w/w)에 희석된 아스코르브산(0.4% w/w); 소듐 아스코르빌 포스페이트(0.4% w/w); α-토코페롤(0.4% w/w); 토코페릴 아세테이트(0.4% w/w) 및 부틸화 하이드록시톨루엔(butylated hydroxytoluene, 0.2% w/w)을 포함하는 산화방지제들의 풀(1.8% w/w)을 포함하였다. 최종적으로, 테스트 조성물(2)에서와 같이 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w) 및 산화방지제들의 풀(1.8% w/w) 모두를 포함하도록 테스트 조성물(6)이 제조되었다.
지질 과산화의 평가는 실시 예 1에서와 같이 수행되었다. 생성된 데이터를 사용하여, 테스트 조성물(6)에 대한 상승작용 지수가 컬 방정식을 사용하여 계산된다. 도 3은 자외선 유도된 지질 과산화의 상승작용 지수 결과들을 제시한다.
실시 예 3
디메틸 이소소르바이드(qsp 100%, w/w)에 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w)을 포함하도록 테스트 조성물(7)이 제조되었다. 테스트 조성물(7)과 동일한 용제 내에 희석된, 베타-카로틴(0.5% w/w) 및 당근(carrot) 오일(0.5% w/w)의 조합을 포함하도록 테스트 조성물(8)이 제조되었다. 최종적으로, 테스트 조성물(7)에서와 같이 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w) 및 베타-카로틴(0.5% w/w)과 당근 오일(0.5% w/w)의 조합 모두를 포함하도록 테스트 조성물(11)이 제조되었다.
지질 과산화의 평가는 실시 예 1에서와 같이 수행되었다. 발생된 데이터를 사용하여, 테스트 조성물(12)에 대한 상승작용 지수가 컬 방정식을 사용하여 계산된다. 도 4는 자외선 유도된 지질 과산화의 상승작용 지수 결과들을 제시한다.
실시 예4
디메틸 이소소르바이드(0.4%, w/w) 및 물(qsp 100% w/w)에 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w)을 포함하도록 테스트 조성물(10)이 제조되었다. 테스트 조성물(7)과 동일한 용제 내에 희석된, 프랑스의 ieS Labo사로부터 이용 가능한, 감람나무(Olea europaea) 잎들의 수화글리세린(hydroglycerin) 추출물(2.0% w/w) 및 무화과(Ficus carica) 열매의 수화글리세린 추출물(2.0% w/w) 모두를 포함하도록 테스트 조성물(11)이 제조되었다. 최종적으로, 테스트 조성물(10)에서와 같이 희석된 카프릴로하이드록삼산(0.15% w/w) 및 식물 추출물들의 조합(4.0% w/w) 모두를 포함하도록 테스트 조성물(11)이 제조되었다.
지질 과산화의 평가는 실시 예 1에서와 같이 수행되었다. 발생된 데이터를 사용하여, 테스트 조성물(12)에 대한 상승작용 지수가 컬 방정식을 사용하여 계산된다. 도 5는 자외선 유도된 지질 과산화의 상승작용 지수 결과들을 제시한다.
통상의 지식을 가진 자들은 본 발명의 광범위한 개념을 벗어나지 않고 위에 설명된 실시 예들에 변경들이 만들어질 수 있다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명은 개시된 특정 실시 예들에 한정되지 않고 첨부된 청구항들에 의해 정의된 것과 같이 본 발명의 사상과 범위 내의 변형들을 포함하도록 의도되는 것에 유의하여야 한다.
Claims (32)
- a) 6 내지 12 탄소원자를 갖는 알킬하이드록삼산(alkyl hydroxamic acid), 그 염(salt) 또는 그 복합물(complex) 및 b)산화방지제를, 전체 조성물 중의 중량%로 1~15:15~1(a:b)의 비율로 포함하는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 자외선 광은 UVA, UVB 및 그것들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
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- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 분기형인 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 선형인 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 적어도 하나의 불포화의 영역을 포함하는 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 적어도 하나의 치환 영역을 포함하는 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
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- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산은 헥사노하이드록삼산(hexanohydroxamic acid), 카프릴로하이드록삼산(caprylohydroxamic acid), 라우로하이드록삼산(laurohydroxamic acid) 또는 그것들의 조합들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 산화방지제는 아스코르브산(ascorbic acid), 소듐 아스코르빌 포스페이트(sodium ascorbyl phosphate), 아스토리빌 팔미테이트(ascorbyl palmitate), α-토코페롤, 토코페릴 아세테이트(tocopheryl acetate), 부틸화 하이드록시톨루엔(butylated hydroxytoluene), 부틸화 하이드록시아니졸(butylated hydroxyanisole), 레스베라트롤(resveratrol), 케르세틴(quercetin), 요산(uric acid), 카로틴, 글루타티온(glutathione), 멜라토닌(melatonin), 및 셀레늄(selenium) 또는 그것들의 혼합물들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 피부 보호용 화장료 조성물.
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- a) 6 내지 12 탄소원자를 갖는 알킬하이드록삼산(alkyl hydroxamic acid), 그 염(salt) 또는 그 복합물(complex) 및 b)산화방지제를, 전체 조성물 중의 중량%로 1~15:15~1(a:b)의 비율로 포함하는 것을 특징으로 하는, 개인 관리 제형의, 자외선에 대한 보존제 조성물.
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- 제15항에 있어서, 상기 자외선 광은 UVA, UVB 및 그것들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
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- 제15항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 분기형인 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 선형인 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 적어도 하나의 불포화의 영역을 포함하는 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산, 그 염 또는 그 복합물은 적어도 하나의 치환 영역을 포함하는 탄소 사슬을 갖는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
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- 제15항에 있어서, 상기 알킬하이드록삼산은 헥사노하이드록삼산, 카프릴로하이드록삼산, 라우로하이드록삼산 또는 그것들의 조합들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 산화방지제는 아스코르브산, 소듐 아스코르빌 포스페이트, 아스코르빌 팔미테이트, α-토코페롤, 토코페릴 아세테이트, 부틸화 하이드록시톨루엔, 부틸화 하이드록시아니졸, 레스베라트롤, 케르세틴, 요산, 카로틴, 글루타티온, 멜라토닌, 및 셀레늄 또는 그것들의 혼합물들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
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- 제15항에 있어서, 개인 관리 제형은 착색제, 향수, 및 피부 활성 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- 제15항에 있어서, 개인 관리 제형은 피부 보습제(skin moisturiser), 스킨 토너(skin toner), 스킨 클린저, 나이트 크림(night cream), 쉐이빙 크림 또는 로션, 메이크업 파운데이션(makeup foundation), 분말 기반 화장품, 마스카라(mascara), 립스틱, 블러시(blush), 글로스(gloss), 아이-라이너, 연고제(ointments), 겔(gel), 선스크린, 립 밤(lip balm), 마사지 오일, 샴푸, 헤어 컨디셔너, 헤어 스타일링 조성물, 목욕 또는 샤워 겔, 액체 비누에서 선택되는것을 특징으로 하는, 자외선에 대한 보존제 조성물.
- a) 6 내지 12 탄소원자를 갖는 알킬하이드록삼산(alkyl hydroxamic acid), 그 염(salt) 또는 그 복합물(complex) 및 b)산화방지제를, 전체 조성물 중의 중량%로 1~15:15~1(a:b)의 비율로 결합하여 상승작용 혼합물을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 상승작용 혼합물의 산화방지 잠재력(potential)은 상기 산화방지제 단독의 산화방지 잠재력보다 큰 것을 특징으로 하는, 산화방지제의 산화방지 잠재력을 증가시키는 방법.
- 개인 관리 제형에, a) 6 내지 12 탄소원자를 갖는 알킬하이드록삼산(alkyl hydroxamic acid), 그 염(salt) 또는 그 복합물(complex) 및 b)산화방지제를, 전체 조성물 중의 중량%로 1~15:15~1(a:b)의 비율로 결합시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 개인 관리 제형 내의 지질 성분의 과산화 비율을 감소시키는 방법.
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