KR102009331B1 - Display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 공정 단순화 및 비용을 절감할 수 있는 터치 센서를 가지는 표시 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 봉지부 상에 터치 센서가 직접 배치됨으로써 별도의 접착 공정이 불필요해져 공정이 단순화되며 비용을 저감할 수 있으며, 표시 패드의 표시 커버 전극이 터치 센서에 포함된 도전막과 동일 재질로 동일 평면 상에 배치됨으로써 표시 패드 전극의 손상을 방지할 수 있다.The present invention relates to a display device having a touch sensor that can simplify the process and reduce the cost. In the organic light emitting display device having the touch sensor according to the present invention, a separate bonding process is performed by directly placing the touch sensor on an encapsulation unit. Since it is unnecessary, the process can be simplified and the cost can be reduced, and since the display cover electrode of the display pad is disposed on the same plane as the conductive film included in the touch sensor, damage to the display pad electrode can be prevented.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로, 특히 공정 단순화 및 비용을 절감할 수 있는 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device that can simplify the process and reduce the cost.

터치 스크린은 표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다. 즉, 터치 스크린은 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환하며, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다. 이와 같은 터치 스크린은 키보드 및 마우스와 같이 표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.The touch screen is an input device for inputting a user's command by selecting instructions displayed on a screen such as a display device by a human hand or an object. That is, the touch screen converts a contact position in direct contact with a human hand or an object into an electrical signal, and the instruction selected at the contact position is received as an input signal. Since such a touch screen can replace a separate input device that is connected to a display device such as a keyboard and a mouse, its use range is gradually expanding.

이와 같은 터치 스크린은 일반적으로 액정 표시 패널 또는 유기 전계 발광 표시 패널과 같은 표시 패널의 전면에 접착제를 통해 부착되는 경우가 많다. 이 경우, 터치 스크린이 별도로 제작되어 표시 패널의 전면에 부착되므로, 부착 공정의 추가로 공정이 복잡해지며 비용이 상승하는 문제점이 있다.Such a touch screen is generally attached to the front surface of a display panel such as a liquid crystal display panel or an organic electroluminescent display panel through an adhesive. In this case, since the touch screen is manufactured separately and attached to the front surface of the display panel, there is a problem in that the process becomes complicated and the cost increases due to the addition of the attaching process.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 공정 단순화 및 비용을 절감할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above problems, the present invention is to provide a display device that can simplify the process and reduce the cost.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 봉지부 상에 터치 센서가 직접 배치됨으로써 별도의 접착 공정이 불필요해져 공정이 단순화되며 비용을 저감할 수 있으며, 표시 패드의 표시 커버 전극이 터치 센서에 포함된 도전막과 동일 재질로 동일 평면 상에 배치됨으로써 표시 패드 전극의 손상을 방지할 수 있다.In order to achieve the above object, in the organic light emitting display device having the touch sensor according to the present invention, since the touch sensor is directly disposed on the encapsulation unit, a separate bonding process is unnecessary, so that the process is simplified and the cost can be reduced. The display cover electrode may be disposed on the same plane as the conductive film included in the touch sensor, thereby preventing damage to the display pad electrode.

본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 터치 전극들이 접착제없이 봉지부 상에 직접적으로(directly) 배치됨으로써 별도의 접착 공정이 불필요해져 공정이 단순화되며 비용을 저감할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 표시 패드의 표시 커버 전극이 터치 센서에 포함된 도전막과 동일 재질로 동일 평면 상에 배치됨으로써 표시 패드 전극의 손상을 방지할 수 있다.In the organic light emitting diode display having the touch sensor according to the present invention, since the touch electrodes are directly disposed on the encapsulation unit without an adhesive, a separate bonding process is unnecessary, thereby simplifying the process and reducing the cost. In addition, in the organic light emitting display device having the touch sensor according to the present invention, the display cover electrode of the display pad is disposed on the same plane as the conductive film included in the touch sensor, thereby preventing damage to the display pad electrode.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 1에서 선 "Ⅰ-Ⅰ'"와, "Ⅱ-Ⅱ'" 를 따라 절취한 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 2 및 도 3에 도시된 터치 전극의 다른 실시 예를 나타내는 평면도 및 단면도이다.
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 8a 및 도 8b는 도 6에 도시된 라우팅 라인의 다른 실시예들을 나타내는 단면도들이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view illustrating an organic light emitting display device having a touch sensor according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view illustrating an OLED display having the touch sensor illustrated in FIG. 1.
FIG. 3 is a cross-sectional view of an organic light emitting diode display having a touch sensor taken along a line "I-I '" and "II-II'" in FIG. 1.
4 is a plan view and a cross-sectional view illustrating another embodiment of the touch electrode illustrated in FIGS. 2 and 3.
5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an OLED display having a touch sensor according to a first embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device having a touch sensor according to a second embodiment of the present invention.
7A to 7E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an OLED display having a touch sensor according to a second embodiment of the present invention.
8A and 8B are cross-sectional views illustrating other embodiments of the routing line illustrated in FIG. 6.
9 is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device having a touch sensor according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 사시도 및 평면도이다. 1 and 2 are a perspective view and a plan view of an organic light emitting display device having a touch sensor according to the present invention.

도 1및 도 2에 도시된 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치는 터치 기간 동안 터치 전극들(152e,154e)을 통해 사용자의 터치에 의한 상호 정전 용량(mutual capacitance)(Cm)의 변화량 감지하여 터치 유무 및 터치 위치를 센싱한다. 그리고, 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치는 표시 기간 동안 발광 소자(120)를 포함하는 단위 화소를 통해 영상을 표시한다. 단위 화소는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 서브 화소(PXL)로 구성되거나, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 서브 화소(PXL)로 구성된다.The organic light emitting display device having the touch sensor illustrated in FIGS. 1 and 2 senses a change amount of mutual capacitance Cm due to a user's touch through the touch electrodes 152e and 154e during the touch period and touches the touched light. Sensing presence and absence of touch. The organic light emitting diode display having the touch sensor displays an image through a unit pixel including the light emitting element 120 during the display period. The unit pixel is composed of red (R), green (G), and blue (B) subpixels (PXL), or red (R), green (G), blue (B), and white (W) subpixels (PXL). It consists of.

이를 위해, 도 1에 도시된 유기 발광 표시 장치는 기판(111) 상에 매트릭스 형태로 배열된 다수의 서브 화소들(PXL)과, 다수의 서브 화소들(PXL) 상에 배치된 봉지부(140)와, 봉지부(140) 상부에 배치된 상호 정전 용량(Cm)을 구비한다. To this end, the organic light emitting diode display illustrated in FIG. 1 includes a plurality of subpixels PXL arranged in a matrix form on the substrate 111 and an encapsulation unit 140 disposed on the plurality of subpixels PXL. ) And the mutual capacitance Cm disposed above the encapsulation unit 140.

다수의 서브 화소들(PXL) 각각은 화소 구동 회로와, 화소 구동 회로와 접속되는 발광 소자(120)를 구비한다.Each of the plurality of sub pixels PXL includes a pixel driving circuit and a light emitting element 120 connected to the pixel driving circuit.

화소 구동 회로는 스위칭 트랜지터(T1), 구동 트랜지스터(T2) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 구비한다.The pixel driving circuit includes a switching transistor T1, a driving transistor T2, and a storage capacitor Cst.

스위칭 트랜지스터(T1)는 스캔 라인(SL)에 스캔 펄스가 공급되면 턴-온되어 데이터 라인(DL)에 공급된 데이터 신호를 스토리지 캐패시터(Cst) 및 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극으로 공급한다.When the scan pulse is supplied to the scan line SL, the switching transistor T1 is turned on to supply the data signal supplied to the data line DL to the storage capacitor Cst and the gate electrode of the driving transistor T2.

구동 트랜지스터(T2)는 그 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극에 공급되는 데이터 신호에 응답하여 고전위 전원(VDD) 라인으로부터 발광 소자(130)로 공급되는 전류(I)을 제어함으로써 발광 소자(120)의 발광량을 조절하게 된다. 그리고, 스위칭 트랜지스터(T1)가 턴-오프되더라도 스토리지 캐패시터(Cst)에 충전된 전압에 의해 구동 트랜지스터(T2)는 다음 프레임의 데이터 신호가 공급될 때까지 일정한 전류(I)를 공급하여 발광 소자(120)가 발광을 유지하게 한다.The driving transistor T2 controls the current I supplied from the high potential power supply VDD line to the light emitting element 130 in response to a data signal supplied to the gate electrode of the driving transistor T2, thereby emitting light 120. ) The amount of light emitted. In addition, even when the switching transistor T1 is turned off, the driving transistor T2 supplies a constant current I until the data signal of the next frame is supplied by the voltage charged in the storage capacitor Cst to emit light. 120 keeps luminescence.

이러한 구동 박막트랜지스터(T2,130)는 도 3에 도시된 바와 같이 게이트 전극(132)과, 게이트 절연막(112)을 사이에 두고 게이트 전극(132)과 중첩되는 반도체층(134)과, 층간 절연막(114) 상에 형성되어 반도체층(134)과 접촉하는 소스 및 드레인 전극(136,138)을 구비한다. As illustrated in FIG. 3, the driving thin film transistors T2 and 130 may include a gate electrode 132, a semiconductor layer 134 overlapping the gate electrode 132 with the gate insulating layer 112 interposed therebetween, and an interlayer insulating layer. Source and drain electrodes 136 and 138 formed on 114 and in contact with the semiconductor layer 134.

발광 소자(120)는 기판(111)의 액티브 영역에 배치되며, 애노드 전극(122)과, 애노드 전극(122) 상에 형성되는 발광스택(124)과, 발광스택(124) 위에 형성된 캐소드 전극(126)을 구비한다. The light emitting device 120 is disposed in an active region of the substrate 111, and includes an anode electrode 122, a light emitting stack 124 formed on the anode electrode 122, and a cathode electrode formed on the light emitting stack 124. 126).

애노드 전극(122)은 평탄화막(118)을 관통하는 화소 컨택홀을 통해 노출된 구동 박막트랜지스터(130)의 드레인 전극(138)과 전기적으로 접속된다. 발광 스택(124)은 뱅크(128)에 의해 마련된 발광 영역의 애노드 전극(122) 상에 형성된다. 발광스택(124)은 애노드 전극(122) 상에 정공 관련층, 유기 발광층, 전자 관련층 순으로 또는 역순으로 적층되어 형성된다. 캐소드 전극(126)은 발광스택(124)을 사이에 두고 애노드 전극(122)과 대향하도록 형성된다.The anode electrode 122 is electrically connected to the drain electrode 138 of the driving thin film transistor 130 exposed through the pixel contact hole penetrating the planarization layer 118. The light emitting stack 124 is formed on the anode electrode 122 of the light emitting region provided by the bank 128. The light emitting stack 124 is formed by stacking the hole related layer, the organic light emitting layer, and the electron related layer on the anode electrode 122 in the reverse order. The cathode electrode 126 is formed to face the anode electrode 122 with the light emitting stack 124 therebetween.

봉지부(140)는 외부의 수분이나 산소에 취약한 발광 소자(120)로 외부의 수분이나 산소가 침투되는 것을 차단한다. 이를 위해, 봉지부(140)는 다수의 무기 봉지층들(142,146)과, 다수의 무기 봉지층들(142,146) 사이에 배치되는 유기 봉지층(144)을 구비하며, 무기 봉지층(146)이 최상층에 배치되도록 한다. 이 때, 봉지부(140)는 적어도 2층의 무기 봉지층(142,146)과 적어도 1층의 유기 봉지층(144)을 구비한다. 본 발명에서는 제1 및 제2 무기 봉지층들(142,146) 사이에 유기 봉지층(144)이 배치되는 봉지부(140)의 구조를 예로 들어 설명하기로 한다. The encapsulation unit 140 prevents external moisture or oxygen from penetrating into the light emitting device 120 which is vulnerable to external moisture or oxygen. To this end, the encapsulation unit 140 includes a plurality of inorganic encapsulation layers 142 and 146 and an organic encapsulation layer 144 disposed between the plurality of inorganic encapsulation layers 142 and 146. Be placed on the top floor. At this time, the encapsulation unit 140 includes at least two inorganic encapsulation layers 142 and 146 and at least one organic encapsulation layer 144. In the present invention, the structure of the encapsulation unit 140 in which the organic encapsulation layer 144 is disposed between the first and second inorganic encapsulation layers 142 and 146 will be described as an example.

제1 무기 봉지층(142)은 발광 소자(120)와 가장 인접하도록 캐소드 전극(126)이 형성된 기판(111) 상에 형성된다. 이러한 제1 무기 봉지층(142)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(Al2O3)과 같은 저온 증착이 가능한 무기 절연 재질로 형성된다. 이에 따라, 제1 무기 봉지층(142)이 저온 분위기에서 증착되므로, 제1 무기 봉지층(142) 증착 공정시 고온 분위기에 취약한 발광 스택(124)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The first inorganic encapsulation layer 142 is formed on the substrate 111 on which the cathode electrode 126 is formed to be closest to the light emitting device 120. The first inorganic encapsulation layer 142 is formed of an inorganic insulating material capable of low temperature deposition such as silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), silicon oxynitride (SiON), or aluminum oxide (Al2O3). Accordingly, since the first inorganic encapsulation layer 142 is deposited in a low temperature atmosphere, the light emitting stack 124 vulnerable to high temperature atmosphere during the deposition process of the first inorganic encapsulation layer 142 may be prevented from being damaged.

유기 봉지층(144)은 유기 발광 표시 장치의 휘어짐에 따른 각 층들 간의 응력을 완화시키는 완충역할을 하며, 평탄화 성능을 강화한다. 이 유기 봉지층(144)은 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드, 폴리에틸렌 또는 실리콘옥시카본(SiOC)과 같은 유기 절연 재질로 형성된다. The organic encapsulation layer 144 serves as a buffer for alleviating stress between layers due to the bending of the organic light emitting diode display, and enhances planarization performance. The organic encapsulation layer 144 is formed of an organic insulating material such as acrylic resin, epoxy resin, polyimide, polyethylene, or silicon oxycarbon (SiOC).

제 2 무기 봉지층(146)은 유기 봉지층(144)이 형성된 기판(111) 상에 유기 봉지층(144)의 상부면 및 측면을 덮도록 형성된다. 이에 따라, 제2 무기 봉지층(146)은 외부의 수분이나 산소가 유기 봉지층(144)으로 침투하는 것을 최소화하거나 차단한다. 이러한 제2 무기 봉지층(146)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(Al2O3)과 같은 무기 절연 재질로 형성된다. The second inorganic encapsulation layer 146 is formed on the substrate 111 on which the organic encapsulation layer 144 is formed to cover the top and side surfaces of the organic encapsulation layer 144. Accordingly, the second inorganic encapsulation layer 146 minimizes or blocks external moisture or oxygen from penetrating into the organic encapsulation layer 144. The second inorganic encapsulation layer 146 is formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), silicon oxynitride (SiON), or aluminum oxide (Al2O3).

이러한 봉지부(140) 상에는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)이 터치 절연막(168)을 사이에 두고 교차되게 배치된다. 2 and 3, the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 are disposed to intersect with the touch insulating layer 168 therebetween.

터치 구동 라인(152)은 다수의 제1 터치 전극들(152e)과, 다수의 제1 터치 전극들(152e) 사이를 전기적으로 연결하는 제1 브릿지들(152b)을 구비한다. The touch driving line 152 includes a plurality of first touch electrodes 152e and first bridges 152b electrically connecting the plurality of first touch electrodes 152e.

다수의 제1 터치 전극들(152e)은 봉지부(140) 상에서 X 또는 Y 방향을 따라 일정한 간격으로 이격된다. 이러한 다수의 제1 터치 전극들(152e) 각각은 제1 브릿지(152b)를 통해 인접한 제1 터치 전극(152e)과 전기적으로 연결된다. The plurality of first touch electrodes 152e are spaced at regular intervals along the X or Y direction on the encapsulation unit 140. Each of the plurality of first touch electrodes 152e is electrically connected to the adjacent first touch electrodes 152e through the first bridge 152b.

제1 브릿지(152b)는 제1 터치 전극(152e)과 동일 평면인 봉지부(140) 상에 배치되어 별도의 컨택홀 없이 제1 터치 전극(152e)과 전기적으로 접속된다. 이 제1 브릿지(152b)는 뱅크(128)와 중첩되도록 배치되므로 제1 브릿지(152b)에 의해 개구율이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The first bridge 152b is disposed on the encapsulation unit 140 coplanar with the first touch electrode 152e and electrically connected to the first touch electrode 152e without a separate contact hole. Since the first bridge 152b is disposed to overlap the bank 128, it is possible to prevent the opening ratio from being damaged by the first bridge 152b.

터치 센싱 라인(154)은 다수의 제2 터치 전극들(154e)과, 다수의 제2 터치 전극들(154e) 사이를 전기적으로 연결하는 제2 브릿지들(154b)을 구비한다. The touch sensing line 154 includes a plurality of second touch electrodes 154e and second bridges 154b electrically connecting the plurality of second touch electrodes 154e.

다수의 제2 터치 전극들(154e)은 봉지부(140) 상에서 Y 또는 X방향을 따라 일정한 간격으로 이격된다. 이러한 다수의 제2 터치 전극들(154e) 각각은 제2 브릿지(154b)를 통해 인접한 제2 터치 전극(154e)과 전기적으로 연결된다. The plurality of second touch electrodes 154e are spaced apart at regular intervals along the Y or X direction on the encapsulation unit 140. Each of the plurality of second touch electrodes 154e is electrically connected to an adjacent second touch electrode 154e through a second bridge 154b.

제2 브릿지(154b)는 터치 절연막(168) 상에 형성되며 터치 절연막 (168)을 관통하는 터치 센서 컨택홀(150)을 통해 노출된 제2 터치 전극(154e)과 전기적으로 접속된다. 이 제2 브릿지(154b)는 제1 브릿지(152b)와 마찬가지로 뱅크(128)와 중첩되도록 배치되므로 제2 브릿지(154b)에 의해 개구율이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The second bridge 154b is formed on the touch insulating layer 168 and is electrically connected to the second touch electrode 154e exposed through the touch sensor contact hole 150 passing through the touch insulating layer 168. Since the second bridge 154b is disposed to overlap the bank 128 similarly to the first bridge 152b, the opening ratio can be prevented from being damaged by the second bridge 154b.

이와 같은 터치 센싱 라인들(154)은 터치 구동 라인(152)과 터치 절연막(168)을 사이에 두고 서로 교차함으로써 터치 센싱 라인(154)과 터치 구동 라인(152)의 교차부에는 상호 정전 용량(mutual capacitance)(Cm)이 형성된다. 이에 따라, 상호 정전 용량(Cm)은 터치 구동 라인(152)에 공급되는 터치 구동 펄스에 의해 전하를 충전하고, 충전된 전하를 터치 센싱 라인(154)으로 방전함으로써 터치 센서의 역할을 하게 된다.The touch sensing lines 154 cross each other with the touch driving line 152 and the touch insulating layer 168 interposed therebetween, so that the mutual capacitances are formed at the intersections of the touch sensing line 154 and the touch driving line 152. mutual capacitance Cm is formed. Accordingly, the mutual capacitance Cm serves as a touch sensor by charging the charge by the touch driving pulse supplied to the touch driving line 152 and discharging the charged charge to the touch sensing line 154.

한편, 본 발명에 따른 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 각각은 도 2에 도시된 바와 같이 플레이트 형태로 형성되거나, 도 4에 도시된 바와 같이 메쉬 형태로 형성될 수도 있다. 도 4에 도시된 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e)은 투명 도전막(15b)과, 그 투명 도전막(15b)의 상부 또는 하부에 메쉬 형태로 형성된 메쉬 금속막(15a)으로 이루어진다. 메쉬 금속막(15a)은 라우팅 라인(156)과 동일 재질로 라우팅 라인(156)과 동일 마스크 공정으로 형성된다. 이에 따라, 메쉬 금속막(15a)으로 인해 제조 공정이 복잡해지고 비용이 상승하는 것을 방지할 수 있다.Meanwhile, each of the first and second touch electrodes 152e and 154e according to the present invention may be formed in a plate shape as shown in FIG. 2, or may be formed in a mesh shape as shown in FIG. 4. The first and second touch electrodes 152e and 154e shown in FIG. 4 are formed of a transparent conductive film 15b and a mesh metal film 15a formed in a mesh shape on or below the transparent conductive film 15b. . The mesh metal film 15a is formed of the same material as the routing line 156 by the same mask process as the routing line 156. Accordingly, the mesh metal film 15a can prevent the manufacturing process from becoming complicated and increasing the cost.

이외에도 터치 전극(152e,154e)은 투명 도전막(15b)없이 메쉬 금속막(15a)으로만 이루어지거나, 메쉬 금속막(15a)없이 투명 도전막(15b)이 메쉬 형태로 형성될 수도 있다. 여기서, Al, Ti, Cu, Mo와 같은 메쉬 금속막(15a)으로 이루어진 터치 전극(152e,154e)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전막(15b) 이루어진 터치 전극(152e,154e)보다 전도성이 좋아 터치 전극(152e,154e)을 저저항 전극으로 형성할 수 있다. 이에 따라, 터치 전극(152e,154e) 자체의 저항과 커패시턴스 감소되어 RC 시정수가 감소되어 터치 감도를 향상시킬 수 있다. 또한, 메쉬 금속막(15a)의 선폭이 매우 얇아 메쉬 금속막(15a)으로 인해 개구율 및 투과율이 저하되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the touch electrodes 152e and 154e may be made of only the mesh metal film 15a without the transparent conductive film 15b, or the transparent conductive film 15b may be formed in a mesh shape without the mesh metal film 15a. Here, the touch electrodes 152e and 154e made of the mesh metal film 15a such as Al, Ti, Cu, and Mo have better conductivity than the touch electrodes 152e and 154e made of the transparent conductive film 15b such as ITO or IZO. The touch electrodes 152e and 154e may be formed as low resistance electrodes. Accordingly, the resistance and capacitance of the touch electrodes 152e and 154e may be reduced to reduce the RC time constant, thereby improving touch sensitivity. In addition, since the line width of the mesh metal film 15a is very thin, it is possible to prevent the opening ratio and the transmittance from being lowered due to the mesh metal film 15a.

또한, 터치 전극(152e,154e)과 다른 평면 상에서 불투명 도전막으로 이루어진 제2 브릿지(154b)는 도 4에 도시된 바와 같이 다수의 슬릿(151)을 구비한다. 다수의 슬릿(151)을 구비하는 제2 브릿지(154b)는 슬릿(151)을 구비하지 않는 브릿지에 비해 면적이 줄일 수 있다. 이에 따라, 제2 브릿지(154b)에 의한 외부광 반사를 줄일 수 있어 시인성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이러한 슬릿(151)을 구비하는 제2 브릿지(154b)는 뱅크(128)와 중첩됨으로써 불투명 도전막으로 이루어진 제2 브릿지(154b)에 의해 개구율이 저하되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the second bridge 154b formed of an opaque conductive film on a plane different from the touch electrodes 152e and 154e includes a plurality of slits 151 as shown in FIG. 4. The second bridge 154b having a plurality of slits 151 may have an area smaller than that of a bridge not having the slits 151. As a result, the reflection of external light by the second bridge 154b can be reduced, and the visibility can be prevented from being lowered. Since the second bridge 154b having the slit 151 overlaps with the bank 128, the opening ratio can be prevented from being lowered by the second bridge 154b made of an opaque conductive film.

본 발명의 터치 구동 라인(152) 및 터치 센싱 라인(154) 각각은 비액티브(베젤) 영역에 배치되는 라우팅 라인(156) 및 터치 패드(170)를 통해 터치 구동부(도시하지 않음)와 연결된다. Each of the touch drive line 152 and the touch sensing line 154 of the present invention is connected to a touch driver (not shown) through a routing line 156 and a touch pad 170 disposed in an inactive (bezel) region. .

이에 따라, 라우팅 라인(156)은 터치 구동부에서 생성된 터치 구동 펄스를 터치 패드(170)를 통해 터치 구동 라인(152)에 전송하고, 터치 센싱 라인(154)으로부터의 터치 신호를 터치 패드(170)에 전송한다. 이 라우팅 라인(156)은 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 각각과 터치 패드(170) 사이에 배치되며, 별도의 컨택홀없이 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 각각과 전기적으로 연결된다.Accordingly, the routing line 156 transmits the touch drive pulse generated by the touch driver to the touch drive line 152 through the touch pad 170, and transmits the touch signal from the touch sensing line 154 to the touch pad 170. To be sent). The routing line 156 is disposed between each of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the touch pad 170, and each of the first and second touch electrodes 152e and 154e without a separate contact hole. Electrically connected.

제1 터치 전극(152e)과 접속된 라우팅 라인(156)은 도 2에 도시된 바와 같이 액티브 영역의 상측 및 하측 중 적어도 어느 한 측으로 신장되어 터치 패드(170)와 접속된다. 제2 터치 전극(154e)과 접속된 라우팅 라인(156)은 액티브 영역의 좌측 및 우측 중 적어도 어느 한 측으로 신장되어 터치 패드(170)와 접속된다. 한편, 라우팅 라인(156)의 배치는 도 2의 구조에 한정되지 않고, 표시 장치의 설계사항에 따라 다양하게 변경 가능하다.As illustrated in FIG. 2, the routing line 156 connected to the first touch electrode 152e extends to at least one of the upper side and the lower side of the active area and is connected to the touch pad 170. The routing line 156 connected to the second touch electrode 154e extends to at least one of left and right sides of the active area and is connected to the touch pad 170. The layout of the routing line 156 is not limited to the structure of FIG. 2 and may be variously changed according to the design of the display device.

라우팅 라인(156)은 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강하고 전도성이 좋은 제1 도전층을 이용하여 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 예를 들어, 라우팅 라인(156)은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo와 같이 적층된 3층 구조로 형성되거나, 내식성 및 내산성이 강한 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전층과, 전도성이 좋은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo와 같은 불투명 도전층을 포함하는 다층 구조로 형성된다.The routing line 156 is formed in a single layer or a multilayer structure by using a first conductive layer having high corrosion resistance and acid resistance and good conductivity such as Al, Ti, Cu, and Mo. For example, the routing line 156 is formed of a three-layer structure stacked such as Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo, or has a high conductivity and a transparent conductive layer such as ITO or IZO having high corrosion resistance and acid resistance. It is formed into a multilayer structure including an opaque conductive layer such as Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo.

터치 패드(170)는 터치 보조 전극(168), 제1 및 제2 터치 패드 전극(172,174) 및 터치 커버 전극(176)으로 이루어진다. The touch pad 170 includes a touch auxiliary electrode 168, first and second touch pad electrodes 172 and 174, and a touch cover electrode 176.

터치 보조 전극(168)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로, 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 평면 상에 형성된다. 즉, 터치 보조 전극(168)은 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로 층간 절연막(114) 상에 형성된다. The touch auxiliary electrode 168 is made of the same material as the source and drain electrodes 136 and 138 of the driving transistors T2 and 130, and is formed on the same plane as the source and drain electrodes 136 and 138. That is, the touch auxiliary electrode 168 is formed on the interlayer insulating layer 114 with the same material as the source and drain electrodes 136 and 138.

제1 터치 패드 전극(172)은 라우팅 라인(156)으로부터 신장되어 형성됨으로써 라우팅 라인(156)과 동일 재질로 형성된다. 제1 터치 패드 전극(172)은 보호막(116)을 관통하는 제1 터치 패드 컨택홀(178a)을 통해 노출된 터치 보조 전극(168)과 전기적으로 접속된다.The first touch pad electrode 172 extends from the routing line 156 and is formed of the same material as the routing line 156. The first touch pad electrode 172 is electrically connected to the touch auxiliary electrode 168 exposed through the first touch pad contact hole 178a passing through the passivation layer 116.

제2 터치 패드 전극(174)은 제1 및 제2 터치 전극들(152e,154e)과 동일 재질로 형성된다. 제2 터치 패드 전극(174)은 제1 터치 패드 전극(172)을 덮도록 형성됨으로써 별도의 컨택홀없이 제1 터치 패드 전극(172)과 직접 접속된다. The second touch pad electrode 174 is formed of the same material as the first and second touch electrodes 152e and 154e. The second touch pad electrode 174 is formed to cover the first touch pad electrode 172 so that the second touch pad electrode 174 is directly connected to the first touch pad electrode 172 without a separate contact hole.

터치 커버 전극(176)은 터치 센서에 포함된 도전막과 동일 재질로 동일 평면 상에 배치된다. 예를 들어, 표시 커버 전극(188)은 터치 센서 중 최상층에 위치하는 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 제2 브릿지(154b)와 동일 평면인 터치 절연막(158) 상에 형성된다. 터치 커버 전극(176)은 터치 절연막(158)을 관통하는 제2 패드 컨택홀(178b)을 통해 노출된 제2 터치 패드 전극(174)과 전기적으로 접속된다. 이러한 터치 커버 전극(176)은 터치 배리어 필름(194)에 의해 노출되도록 형성됨으로써 터치 구동부가 실장된 신호 전송 필름과 접속된다. 여기서, 터치 배리어 필름(194)은 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)을 덮도록 형성되어 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)뿐만 아니라 발광 소자(120)가 외부의 수분 등에 의해 손상되는 것을 방지한다. 이러한 터치 배리어 필름(194)은 유기 절연 필름 상에 무기 절연막이 도포된 형태로 형성된다. 터치 배리어 필름(194) 상에는 원편광판 또는 휘도 향상 필름(OTF; Oled Transmittance Controllable Film)과 같은 광학 필름(도시하지 않음)이 배치될 수도 있다. The touch cover electrode 176 is disposed on the same plane as the conductive film included in the touch sensor. For example, the display cover electrode 188 is formed on the touch insulating layer 158 coplanar with the second bridge 154b of the same material as the second bridge 154b positioned on the uppermost layer of the touch sensor. The touch cover electrode 176 is electrically connected to the second touch pad electrode 174 exposed through the second pad contact hole 178b passing through the touch insulating layer 158. The touch cover electrode 176 is formed to be exposed by the touch barrier film 194 and is connected to the signal transmission film on which the touch driver is mounted. Here, the touch barrier film 194 is formed to cover the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 so that the light emitting device 120 as well as the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 may be formed. To prevent damage by moisture, etc. The touch barrier film 194 is formed in a form in which an inorganic insulating film is coated on the organic insulating film. An optical film (not shown), such as a circular polarizing plate or an brightness enhancement film (OTF), may be disposed on the touch barrier film 194.

한편, 비액티브(베젤) 영역에는 터치 패드(170)와 함께 표시 패드(180)가 배치된다. 터치 패드(170) 및 표시 패드(180)는 도 2에 도시된 바와 같이 기판(111)의 일측 및 타측 영역 중 적어도 어느 한 영역에 배치되거나, 터치 패드(170) 및 표시 패드(180)가 서로 다른 영역에 배치될 수 있다. 한편, 터치 패드(170) 및 표시 패드(180)의 배치는 도 2의 구조에 한정되지 않고, 표시 장치의 설계사항에 따라 다양하게 변경 가능하다. 이와 같이, 터치 패드(170)와 함께 비액티브 영역에 배치되는 표시 패드(180)는 터치 패드(170)와 동일한 적층 구조를 가진다. 이 경우, 터치 패드(170)와 표시 패드(180) 각각의 최상층에 위치하는 터치 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 동일 평면 상에 배치되므로, 신호 전송 필름의 부착 공정이 동시에 이루어질 수 있어 공정이 단순화된다. 이러한 표시 패드(180)는 표시 패드 전극(182), 적어도 한 층의 표시 보조 전극(184,186) 및 표시 커버 전극(188)으로 이루어진다. Meanwhile, the display pad 180 is disposed along with the touch pad 170 in the inactive (bezel) region. As illustrated in FIG. 2, the touch pad 170 and the display pad 180 may be disposed in at least one region of one side and the other side of the substrate 111, or the touch pad 170 and the display pad 180 may be mutually disposed. It can be placed in another area. The layout of the touch pad 170 and the display pad 180 is not limited to the structure of FIG. 2, and may be variously changed according to design details of the display device. As such, the display pad 180 disposed in the inactive region together with the touch pad 170 has the same stacked structure as the touch pad 170. In this case, since the touch cover electrode 176 and the display cover electrode 188 disposed on the uppermost layer of each of the touch pad 170 and the display pad 180 are disposed on the same plane, the process of attaching the signal transmission film is performed simultaneously. Can simplify the process. The display pad 180 includes a display pad electrode 182, at least one display auxiliary electrode 184 and 186, and a display cover electrode 188.

표시 패드 전극(182)은 발광 소자(120)가 형성된 액티브 영역 내의 스캔 라인(SL), 데이터 라인(DL) 및 고전위 전원(VDD) 라인 중 적어도 어느 하나의 신호 라인으로부터 신장되어 형성된다. 이 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132), 소스 및 드레인 전극(136,138) 중 적어도 어느 하나와 동일 재질로, 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132), 소스 및 드레인 전극(136,138) 중 적어도 어느 하나와 동일 평면 상에 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 즉, 단층 구조의 표시 패드 전극(182)은 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로 층간 절연막(114) 상에 또는 게이트 전극(132)과 동일 재질로 기판(111) 상에 형성된다. 다층 구조의 표시 패드 전극(182)은 게이트 전극(132)과 동일 재질로 기판(111) 상에 형성되는 제1 표시 패드 전극(도시하지 않음)과, 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로 층간 절연막(114) 상에 제1 표시 패드 전극과 접속되는 제2 표시 패드 전극(도시하지 않음)을 포함하도록 형성된다. The display pad electrode 182 extends from at least one signal line among the scan line SL, the data line DL, and the high potential power supply line VDD in the active region in which the light emitting device 120 is formed. The display pad electrode 182 is made of at least one of the gate electrode 132, the source and drain electrodes 136 and 138 of the driving transistors T2 and 130, and the gate electrode 132 of the driving transistors T2 and 130. ) And at least one of the source and drain electrodes 136 and 138 on the same plane. That is, the display pad electrode 182 having a single layer structure is formed on the interlayer insulating layer 114 with the same material as the source and drain electrodes 136 and 138 or on the substrate 111 with the same material as the gate electrode 132. The display pad electrode 182 having the multi-layer structure is formed of the same material as the gate electrode 132 and the same material as the first display pad electrode (not shown) formed on the substrate 111 and the source and drain electrodes 136 and 138. A second display pad electrode (not shown) connected to the first display pad electrode is formed on the interlayer insulating layer 114.

제1 표시 보조 전극(184)은 라우팅 라인(156)과 동일 평면 상에 라우팅 라인(156)과 동일 재질로 형성된다. 제1 표시 보조 전극(184)은 보호막(116)을 관통하는 제1 표시 패드 컨택홀(190)을 통해 노출된 표시 패드 전극(182)과 전기적으로 접속된다.The first display auxiliary electrode 184 is formed of the same material as the routing line 156 on the same plane as the routing line 156. The first display auxiliary electrode 184 is electrically connected to the display pad electrode 182 exposed through the first display pad contact hole 190 penetrating the passivation layer 116.

제2 표시 보조 전극(186)은 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e)들과 동일 재질로 형성된다. 제2 표시 보조 전극(186)은 제1 표시 보조 전극(184)을 덮도록 형성됨으로써 별도의 컨택홀없이 제1 표시 보조 전극(184)과 직접 접속된다. The second display auxiliary electrode 186 is formed of the same material as the first and second touch electrodes 152e and 154e. The second display auxiliary electrode 186 is formed to cover the first display auxiliary electrode 184 to be directly connected to the first display auxiliary electrode 184 without a separate contact hole.

표시 커버 전극(188)은 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 제2 브릿지(154b)와 동일 평면인 터치 절연막(158) 상에 형성된다. 표시 커버 전극(188)은 터치 절연막(158)을 관통하는 제2 표시 패드 컨택홀(192)을 통해 노출된 제2 표시 보조 전극(186)과 전기적으로 접속된다.The display cover electrode 188 is formed on the touch insulating layer 158 coplanar with the second bridge 154b of the same material as the second bridge 154b. The display cover electrode 188 is electrically connected to the second display auxiliary electrode 186 exposed through the second display pad contact hole 192 penetrating the touch insulating layer 158.

도 5a 내지 도 5e는 도 3에 도시된 터치 센서를 가지는 유기 전계 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.5A through 5E are plan views and cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device having a touch sensor illustrated in FIG. 3.

도 5a를 참조하면, 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터(T2,130), 발광 소자(120), 봉지부(140)가 형성된 기판(111)을 마련한다.Referring to FIG. 5A, a substrate 111 on which switching transistors, driving transistors T2 and 130, a light emitting device 120, and an encapsulation unit 140 are formed is provided.

구체적으로, 다수의 마스크 공정을 통해 기판(111) 상에 터치 보조 전극(168), 표시 패드 전극(182), 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터(T2,130)이 형성된다. 여기서, 터치 보조 전극(168) 및 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 마스크 공정으로 동시에 형성된다. 이외에도 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132)과 동일 마스크 공정으로 동시에 형성될 수도 있다. In detail, the touch auxiliary electrode 168, the display pad electrode 182, the switching transistor, and the driving transistors T2 and 130 are formed on the substrate 111 through a plurality of mask processes. Here, the touch auxiliary electrode 168 and the display pad electrode 182 are simultaneously formed in the same mask process as the source and drain electrodes 136 and 138 of the driving transistors T2 and 130. In addition, the display pad electrode 182 may be simultaneously formed in the same mask process as the gate electrode 132 of the driving transistors T2 and 130.

그런 다음, 터치 보조 전극(168), 표시 패드 전극(182), 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터(T2,130)을 덮도록 보호막(116) 및 평탄화층(118)이 전면 형성되고, 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 통해 보호막(116) 및 평탄화층(118)을 관통하는 화소 컨택홀(148), 제1 터치 패드 컨택홀(178a), 제1 표시 패드 컨택홀(190)이 형성된다. 그런 다음, 평탄화층(118) 상에 애노드 전극(122), 뱅크(128), 발광스택(124) 및 캐소드 전극(126)이 순차적으로 형성된다. 캐소드 전극(126)이 형성된 기판(111) 상에 무기 봉지층(142,146)과 유기 봉지층(144)이 순차적으로 적층됨으로써 봉지부(140)가 형성된다.Thereafter, the passivation layer 116 and the planarization layer 118 are formed on the entire surface of the touch auxiliary electrode 168, the display pad electrode 182, the switching transistor, and the driving transistors T2 and 130, and the photolithography process and etching are performed. The pixel contact hole 148, the first touch pad contact hole 178a, and the first display pad contact hole 190 penetrating the passivation layer 116 and the planarization layer 118 are formed through the process. Then, the anode electrode 122, the bank 128, the light emitting stack 124, and the cathode electrode 126 are sequentially formed on the planarization layer 118. The encapsulation unit 140 is formed by sequentially stacking the inorganic encapsulation layers 142 and 146 and the organic encapsulation layer 144 on the substrate 111 on which the cathode electrode 126 is formed.

도 5b를 참조하면, 봉지부(140)가 형성된 기판(111) 상에 라우팅 라인(156), 제1 터치 패드 전극(172) 및 제1 표시 보조 전극(184)이 형성된다.Referring to FIG. 5B, a routing line 156, a first touch pad electrode 172, and a first display auxiliary electrode 184 are formed on the substrate 111 on which the encapsulation unit 140 is formed.

구체적으로, 봉지부(140)가 형성된 기판(111) 상에 제1 도전층이 스퍼터링을 이용한 증착 공정을 통해 상온에서 전면 증착된 후, 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 제1 도전층이 패터닝됨으로써 라우팅 라인(156), 제1 터치 패드 전극(172) 및 제1 표시 보조 전극(184)이 형성된다. 여기서, 제1 도전층은 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강한 금속을 이용하여 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 예를 들어, 제1 도전층은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo와 같이 적층된 3층 구조로 형성된다. 제1 표시 보조 전극(184)은 표시 패드 전극(182)의 노출을 방지하므로, 추후 라우팅 라인(156), 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 및 제1 및 제2 브릿지(152b,154b) 형성시 표시 패드 전극(182)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.Specifically, after the first conductive layer is entirely deposited at room temperature on the substrate 111 on which the encapsulation unit 140 is formed through a deposition process using sputtering, the first conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process, thereby routing. A line 156, a first touch pad electrode 172, and a first display auxiliary electrode 184 are formed. Here, the first conductive layer is formed in a single layer or a multilayer structure using a metal having strong corrosion resistance and acid resistance such as Al, Ti, Cu, and Mo. For example, the first conductive layer is formed of a stacked three-layer structure such as Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo. Since the first display auxiliary electrode 184 prevents the display pad electrode 182 from being exposed, the routing line 156, the first and second touch electrodes 152e and 154e, and the first and second bridges 152b, It is possible to prevent the display pad electrode 182 from being damaged when the 154b is formed.

도 5c를 참조하면, 라우팅 라인(156), 제1 터치 패드 전극(172) 및 제1 표시 보조 전극(184)이 형성된 기판(111) 상에 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b), 제2 터치 패드 전극(174) 및 제2 표시 보조 전극(186)이 형성된다.Referring to FIG. 5C, the first and second touch electrodes 152e and 154e may be formed on the substrate 111 on which the routing line 156, the first touch pad electrode 172, and the first display auxiliary electrode 184 are formed. The first bridge 152b, the second touch pad electrode 174, and the second display auxiliary electrode 186 are formed.

구체적으로, 라우팅 라인(156) 및 제1 터치 패드 전극(172)이 형성된 기판(111) 상에 제2 도전층이 전면 증착된다. 여기서, 제2 도전층으로 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전층이 이용되는 경우, 투명 도전층은 상온에서 스퍼터링 등과 같은 증착 방법으로 상온으로 형성된다. 그런 다음, 제2 도전층이 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) , 제2 터치 패드 전극(174) 및 제2 표시 보조 전극(186)이 형성된다. In detail, the second conductive layer is entirely deposited on the substrate 111 on which the routing line 156 and the first touch pad electrode 172 are formed. Here, when a transparent conductive layer such as ITO or IZO is used as the second conductive layer, the transparent conductive layer is formed at room temperature by a deposition method such as sputtering at room temperature. Thereafter, the second conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process, so that the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, the second touch pad electrode 174, and the second display assistant are formed. An electrode 186 is formed.

도 5d를 참조하면, 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b), 제2 터치 패드 전극(174) 및 제2 표시 보조 전극(186)이 형성된 기판(111) 상에 터치 센서 컨택홀(150), 제2 터치 패드 컨택홀(178b) 및 제2 표시 패드 컨택홀(192)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된다.Referring to FIG. 5D, on the substrate 111 on which the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, the second touch pad electrode 174, and the second display auxiliary electrode 186 are formed. The touch insulating layer 158 having the touch sensor contact hole 150, the second touch pad contact hole 178b, and the second display pad contact hole 192 is formed.

구체적으로, 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) 및 제2 터치 패드 전극(174)이 형성된 기판(111) 상에 증착 또는 코팅 공정을 통해 500Å~5㎛두께의 터치 절연막(158)이 형성된다. 여기서, 터치 절연막(158)으로 유기막이 이용되는 경우, 유기막은 기판 상에 코팅된 후, 고온에 취약한 발광 스택(124)의 손상을 방지하기 위해 100도 이하의 온도에서 경화(curing)됨으로써 터치 절연막(158)이 형성된다. 터치 절연막(158)으로 무기막이 이용되는 경우, 고온에 취약한 발광 스택(124)의 손상을 방지하기 위해 저온 CVD 증착 공정과 세정 공정을 적어도 2회 반복함으로써 다층 구조의 터치 절연막(158)이 형성된다. 그런 다음, 터치 절연막(158)이 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 터치 센서 컨택홀(150), 제2 터치 패드 컨택홀(178b) 및 제2 표시 패드 컨택홀(192)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된다. Specifically, the thickness of 500 μm to 5 μm through the deposition or coating process on the substrate 111 on which the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, and the second touch pad electrode 174 are formed. A touch insulating film 158 is formed. Here, when the organic film is used as the touch insulating film 158, the organic film is coated on the substrate, and then cured at a temperature of 100 degrees or less to prevent damage to the light emitting stack 124 which is vulnerable to high temperatures. 158 is formed. When the inorganic film is used as the touch insulating film 158, the touch insulating film 158 of the multi-layer structure is formed by repeating the low temperature CVD deposition process and the cleaning process at least twice to prevent damage to the light emitting stack 124 which is vulnerable to high temperature. . Thereafter, the touch insulating layer 158 is patterned by a photolithography process and an etching process, thereby forming a touch insulating layer having a touch sensor contact hole 150, a second touch pad contact hole 178b, and a second display pad contact hole 192. 158 is formed.

도 5e를 참조하면, 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된 기판(111) 상에 제2 브릿지(154b), 터치 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된다. Referring to FIG. 5E, the second bridge 154b is formed on the substrate 111 on which the touch insulating layer 158 having the touch sensor contact hole 150, the touch pad contact hole 178, and the display pad contact hole 190 is formed. The touch cover electrode 176 and the display cover electrode 188 are formed.

구체적으로, 터치 센서 컨택홀(150), 제2 터치 패드 컨택홀(178b) 및 제2 표시 패드 컨택홀(192)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된 기판(111) 상에 제3 도전층이 형성된다. 여기서, 제3 도전층으로 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전층 또는 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강한 금속이 이용되는 경우, 제3 도전층은 상온에서 스퍼터링 등과 같은 증착 방법으로 상온으로 형성된다. 그런 다음, 제3 도전층이 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제2 브릿지(154b), 터치 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된다. 그런 다음, 제2 브릿지(154b), 패드 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된 기판(111) 상에 도 3에 도시된 바와 같이 터치 배리어 필름(194) 및 광학 필름이 부착된다.Specifically, a third conductive layer is formed on the substrate 111 on which the touch insulating layer 158 having the touch sensor contact hole 150, the second touch pad contact hole 178b, and the second display pad contact hole 192 is formed. Is formed. Here, when a transparent conductive layer such as ITO or IZO or a metal having high corrosion resistance and acid resistance such as Al, Ti, Cu, and Mo is used as the third conductive layer, the third conductive layer may be formed at room temperature by a deposition method such as sputtering at room temperature. Is formed. Then, the third conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process to form the second bridge 154b, the touch cover electrode 176, and the display cover electrode 188. Then, the touch barrier film 194 and the optical film are attached to the substrate 111 on which the second bridge 154b, the pad cover electrode 176, and the display cover electrode 188 are formed, as shown in FIG. 3. .

이와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치는 봉지부(140) 상에 터치 전극들(152e,154e)이 직접 배치된다. 이에 따라, 접착제를 통해 터치 스크린이 유기 발광 표시 장치에 접착되는 종래 유기 발광 표시 장치에 비해 본원 발명은 접착 공정이 불필요해져 공정이 단순화되며 비용을 저감할 수 있다. As described above, in the organic light emitting diode display having the touch sensor according to the first exemplary embodiment, the touch electrodes 152e and 154e are directly disposed on the encapsulation unit 140. Accordingly, in the present invention, the adhesive process is unnecessary, compared to the conventional organic light emitting display device in which the touch screen is attached to the organic light emitting display device through the adhesive, thereby simplifying the process and reducing the cost.

또한, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 라우팅 라인(156)과 동일 마스크 공정으로 형성되는 제1 표시 보조 전극(184)과, 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e)과 동일 마스크 공정으로 형성되는 제2 표시 보조 전극(186)과, 제2 브릿지(154b)와 동일 마스크 공정으로 형성되는 표시 커버 전극(188) 각각이 표시 패드 전극(182) 상에 배치된다. 이 경우, 라우팅 라인(156), 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 및 제2 브릿지(154b) 각각의 제조 공정시 표시 패드 전극(182)이 노출되는 것이 방지된다. 이에 따라, 라우팅 라인(156), 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e) 및 제2 브릿지(154b) 제조시 이용되는 식각 가스 또는 식각액에 의해 표시 패드 전극(182)이 손상되는 것을 방지할 수 있다. In addition, in the organic light emitting diode display having the touch sensor according to the first exemplary embodiment, the first display auxiliary electrode 184 and the first and second touch electrodes formed in the same mask process as the routing line 156 may be provided. Each of the second display auxiliary electrode 186 formed in the same mask process as that of 152e and 154e and the display cover electrode 188 formed in the same mask process as the second bridge 154b are disposed on the display pad electrode 182. Is placed. In this case, the display pad electrode 182 is prevented from being exposed during the manufacturing process of the routing line 156, the first and second touch electrodes 152e and 154e, and the second bridge 154b. Accordingly, the display pad electrode 182 may be prevented from being damaged by the etching gas or the etching liquid used when the routing line 156, the first and second touch electrodes 152e and 154e, and the second bridge 154b are manufactured. Can be.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 전계 발광 표시 장치를 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device having a touch sensor according to a second embodiment of the present invention.

도 6 및 도 7에 도시된 유기 전계 발광 표시 장치는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유기 전계 발광 표시 장치와 대비하여 터치 패드(170)와 표시 패드(180)의 적층 구조가 서로 다른 것을 제외하고는 동일한 구성 요소를 구비한다. 이에 따라, 동일한 구성요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.6 and 7 show that the touch pad 170 and the display pad 180 have different stacked structures compared to the organic light emitting display device according to the first embodiment of the present invention. And the same components. Accordingly, detailed description of the same components will be omitted.

표시 패드(180)는 표시 패드 전극(182) 및 표시 커버 전극(188)으로 이루어진다.The display pad 180 includes a display pad electrode 182 and a display cover electrode 188.

표시 패드 전극(182)은 발광 소자(120)가 형성된 액티브 영역 내의 스캔 라인(SL), 데이터 라인(DL) 및 고전위 전원(VDD) 라인 중 적어도 어느 하나의 신호 라인으로부터 신장되어 형성된다. 이 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132), 소스 및 드레인 전극(136,138) 중 적어도 어느 하나와 동일 재질로, 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132), 소스 및 드레인 전극(136,138) 중 적어도 어느 하나와 동일 평면 상에 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 즉, 단층 구조의 표시 패드 전극(182)은 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로 층간 절연막(114) 상에 또는 게이트 전극(132)과 동일 재질로 기판(111) 상에 형성된다. 다층 구조의 표시 패드 전극(182)은 게이트 전극(132)과 동일 재질로 기판(111) 상에 형성되는 제1 표시 패드 전극(도시하지 않음)과, 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 재질로 층간 절연막(114) 상에 제1 표시 패드 전극과 접속되는 제2 표시 패드 전극(도시하지 않음)을 포함하도록 형성된다. The display pad electrode 182 extends from at least one signal line among the scan line SL, the data line DL, and the high potential power supply line VDD in the active region in which the light emitting device 120 is formed. The display pad electrode 182 is made of at least one of the gate electrode 132, the source and drain electrodes 136 and 138 of the driving transistors T2 and 130, and the gate electrode 132 of the driving transistors T2 and 130. ) And at least one of the source and drain electrodes 136 and 138 on the same plane. That is, the display pad electrode 182 having a single layer structure is formed on the interlayer insulating layer 114 with the same material as the source and drain electrodes 136 and 138 or on the substrate 111 with the same material as the gate electrode 132. The display pad electrode 182 having the multi-layer structure is formed of the same material as the gate electrode 132 and the same material as the first display pad electrode (not shown) formed on the substrate 111 and the source and drain electrodes 136 and 138. A second display pad electrode (not shown) connected to the first display pad electrode is formed on the interlayer insulating layer 114.

표시 커버 전극(188)은 터치 센서에 포함된 도전막과 동일 재질로 동일 평면 상에 배치된다. 예를 들어, 표시 커버 전극(188)은 터치 센서 중 최상층에 위치하는 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 제2 브릿지(154b)와 동일 평면인 터치 절연막(158) 상에 형성된다. 표시 커버 전극(188)은 보호막(116) 및 터치 절연막(158)을 관통하는 표시 패드 컨택홀(190)을 통해 노출된 표시 패드 전극(182)과 전기적으로 접속된다. 한편, 본 발명에서는 표시 패드 전극 상에 보호막(116) 및 터치 절연막(158)이 배치되는 구조를 예로 들어 설명하였지만, 이외에도 표시 패드 전극(182) 상에 발광 소자 하부에 배치되는 하부 절연막 및 발광 소자 상부에 배치되는 상부 절연막 중 적어도 1층이 배치된다. 여기서, 하부 절연막은 보호막(116) 및 평탄화막(118) 중 어느 하나이며, 상부 절연막은 제1 및 제2 무기 봉지층(142,146), 유기 봉지층(144) 및 터치 절연막(158) 중 어느 하나이다. 이 경우, 표시 패드 컨택홀(190)은 표시 패드 전극(182) 상에 배치되는 상부 절연막 및 하부 절연막 중 적어도 어느 하나를 관통하도록 형성된다. The display cover electrode 188 is disposed on the same plane as the conductive film included in the touch sensor. For example, the display cover electrode 188 is formed on the touch insulating layer 158 coplanar with the second bridge 154b of the same material as the second bridge 154b positioned on the uppermost layer of the touch sensor. The display cover electrode 188 is electrically connected to the display pad electrode 182 exposed through the display pad contact hole 190 penetrating the passivation layer 116 and the touch insulating layer 158. Meanwhile, in the present invention, the structure in which the passivation layer 116 and the touch insulating layer 158 are disposed on the display pad electrode has been described as an example. At least one layer of the upper insulating film disposed above is disposed. The lower insulating layer may be any one of the passivation layer 116 and the planarization layer 118, and the upper insulating layer may be any one of the first and second inorganic encapsulation layers 142 and 146, the organic encapsulation layer 144, and the touch insulating layer 158. . In this case, the display pad contact hole 190 is formed to penetrate at least one of the upper and lower insulating layers disposed on the display pad electrode 182.

터치 패드(170)는 적어도 한 층의 터치 패드 전극(172,174) 및 터치 커버 전극(176)으로 이루어진다. The touch pad 170 includes at least one layer of touch pad electrodes 172 and 174 and a touch cover electrode 176.

제1 터치 패드 전극(172)은 라우팅 라인(156)으로부터 신장되어 형성됨으로써 라우팅 라인(156)과 동일 재질로 형성된다. The first touch pad electrode 172 extends from the routing line 156 and is formed of the same material as the routing line 156.

제2 터치 패드 전극(174)은 제1 및 제2 터치 전극들(152e,154e)과 동일 재질로 형성된다. 제2 터치 패드 전극(174)은 제1 터치 패드 전극(172)을 덮도록 형성됨으로써 별도의 컨택홀없이 제1 터치 패드 전극(172)과 직접 접속된다. The second touch pad electrode 174 is formed of the same material as the first and second touch electrodes 152e and 154e. The second touch pad electrode 174 is formed to cover the first touch pad electrode 172 so that the second touch pad electrode 174 is directly connected to the first touch pad electrode 172 without a separate contact hole.

터치 커버 전극(176)은 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 제2 브릿지(154b)와 동일 평면인 터치 절연막(158) 상에 형성된다. 터치 커버 전극(176)은 터치 절연막(158)을 관통하는 터치 패드 컨택홀(178)을 통해 노출된 제2 터치 패드 전극(174)과 전기적으로 접속된다. The touch cover electrode 176 is formed on the touch insulating layer 158 coplanar with the second bridge 154b of the same material as the second bridge 154b. The touch cover electrode 176 is electrically connected to the second touch pad electrode 174 exposed through the touch pad contact hole 178 penetrating the touch insulating layer 158.

이러한 터치 커버 전극(176)은 터치 배리어 필름(194)에 의해 노출되도록 형성됨으로써 터치 구동부가 실장된 신호 전송 필름과 접속되며, 표시 커버 전극(188)은 터치 배리어 필름(194)에 의해 노출되도록 형성됨으로써 표시 구동부(예를 들어, 게이트 구동부 및 데이터 구동부)가 실장된 신호 전송 필름과 접속된다. 여기서, 터치 배리어 필름(194)은 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)을 덮도록 형성되어 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)뿐만 아니라 발광 소자(120)가 외부의 수분 등에 의해 손상되는 것을 방지한다. 이러한 터치 배리어 필름(194)은 유기 절연 필름 상에 무기 절연막이 도포된 형태로 형성된다. 터치 배리어 필름(194) 상에는 원편광판 또는 휘도 향상 필름(OTF; Oled Transmittance Controllable Film)과 같은 광학 필름(도시하지 않음)이 배치될 수도 있다. The touch cover electrode 176 is formed to be exposed by the touch barrier film 194 and is connected to the signal transmission film on which the touch driver is mounted, and the display cover electrode 188 is formed to be exposed by the touch barrier film 194. As a result, the display driver (for example, the gate driver and the data driver) is connected to the mounted signal transmission film. Here, the touch barrier film 194 is formed to cover the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 so that the light emitting device 120 as well as the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 may be formed. To prevent damage by moisture, etc. The touch barrier film 194 is formed in a form in which an inorganic insulating film is coated on the organic insulating film. An optical film (not shown), such as a circular polarizing plate or an brightness enhancement film (OTF), may be disposed on the touch barrier film 194.

도 7a 내지 도 7e는 도 6에 도시된 터치 센서를 가지는 유기 전계 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.7A to 7E are plan views and cross-sectional views for describing a method of manufacturing an organic light emitting display device having a touch sensor illustrated in FIG. 6.

도 7a를 참조하면, 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터(T2,130), 발광 소자(120), 봉지부(140)가 형성된 기판(111)을 마련한다.Referring to FIG. 7A, a substrate 111 on which switching transistors, driving transistors T2 and 130, a light emitting device 120, and an encapsulation unit 140 are formed is provided.

구체적으로, 다수의 마스크 공정을 통해 기판(111) 상에 표시 패드 전극(182), 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터(T2,130) 및 발광 소자(120)가 형성된다. 이 때, 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 소스 및 드레인 전극(136,138)과 동일 마스크 공정으로 동시에 형성된다. 이외에도 표시 패드 전극(182)은 구동 트랜지스터(T2,130)의 게이트 전극(132)과 동일 마스크 공정으로 동시에 형성될 수도 있다. 그런 다음, 발광 소자(120)가 형성된 기판(111) 상에 무기 봉지층(142,146)과 유기 봉지층(144)이 순차적으로 적층됨으로써 봉지부(140)가 형성된다.In detail, the display pad electrode 182, the switching transistor, the driving transistors T2 and 130, and the light emitting device 120 are formed on the substrate 111 through a plurality of mask processes. In this case, the display pad electrode 182 is simultaneously formed in the same mask process as the source and drain electrodes 136 and 138 of the driving transistors T2 and 130. In addition, the display pad electrode 182 may be simultaneously formed in the same mask process as the gate electrode 132 of the driving transistors T2 and 130. Then, the encapsulation part 140 is formed by sequentially stacking the inorganic encapsulation layers 142 and 146 and the organic encapsulation layer 144 on the substrate 111 on which the light emitting device 120 is formed.

도 7b를 참조하면, 봉지부(140)가 형성된 기판(111) 상에 라우팅 라인(156) 및 제1 터치 패드 전극(172)이 형성된다.Referring to FIG. 7B, a routing line 156 and a first touch pad electrode 172 are formed on the substrate 111 on which the encapsulation unit 140 is formed.

구체적으로, 봉지부(140)가 형성된 기판(111) 상에 제1 도전층이 스퍼터링을 이용한 증착 공정을 통해 상온에서 전면 증착된 후, 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 제1 도전층이 패터닝됨으로써 라우팅 라인(156)과 제1 터치 패드 전극(172)이 형성된다. 여기서, 제1 도전층은 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강한 금속을 이용하여 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 예를 들어, 제1 도전층은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo와 같이 적층된 3층 구조로 형성된다.Specifically, after the first conductive layer is entirely deposited at room temperature on the substrate 111 on which the encapsulation unit 140 is formed through a deposition process using sputtering, the first conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process, thereby routing. A line 156 and a first touch pad electrode 172 are formed. Here, the first conductive layer is formed in a single layer or a multilayer structure using a metal having strong corrosion resistance and acid resistance such as Al, Ti, Cu, and Mo. For example, the first conductive layer is formed of a stacked three-layer structure such as Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo.

도 7c를 참조하면, 라우팅 라인(156) 및 제1 터치 패드 전극(172)이 형성된 기판(111) 상에 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) 및 제2 터치 패드 전극(174)이 형성된다. Referring to FIG. 7C, the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, and the second on the substrate 111 on which the routing line 156 and the first touch pad electrode 172 are formed. The touch pad electrode 174 is formed.

구체적으로, 라우팅 라인(156) 및 제1 터치 패드 전극(172)이 형성된 기판(111) 상에 제2 도전층이 전면 증착된다. 여기서, 제2 도전층으로 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전층이 이용되는 경우, 투명 도전층은 상온에서 스퍼터링 등과 같은 증착 방법으로 상온으로 형성된다. 그런 다음, 제2 도전층이 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) 및 제2 터치 패드 전극(174)이 형성된다. In detail, the second conductive layer is entirely deposited on the substrate 111 on which the routing line 156 and the first touch pad electrode 172 are formed. Here, when a transparent conductive layer such as ITO or IZO is used as the second conductive layer, the transparent conductive layer is formed at room temperature by a deposition method such as sputtering at room temperature. Then, the second conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process to form the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, and the second touch pad electrode 174.

도 7d를 참조하면, 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) 및 제2 터치 패드 전극(174)이 형성된 기판(111) 상에 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된다.Referring to FIG. 7D, the touch sensor contact hole 150 may be formed on the substrate 111 on which the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, and the second touch pad electrode 174 are formed. The touch insulating layer 158 having the touch pad contact hole 178 and the display pad contact hole 190 is formed.

구체적으로, 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e), 제1 브릿지(152b) 및 제2 터치 패드 전극(174)이 형성된 기판(111) 상에 증착 또는 코팅 공정을 통해 500Å~5㎛두께의 터치 절연막(158)이 형성된다. 여기서, 터치 절연막(158)으로 유기막이 이용되는 경우, 유기막은 기판 상에 코팅된 후, 100도 이하의 온도에서 경화(curing)됨으로써 터치 절연막(158)이 형성된다. 터치 절연막(158)으로 무기막이 이용되는 경우, 저온 CVD 증착 공정과 세정 공정을 적어도 2회 반복함으로써 다층 구조의 터치 절연막(158)이 형성된다. 그런 다음, 터치 절연막(158) 및 보호막(116)이 포토리소그래피 공정과 건식 식각 공정으로 일괄 패터닝됨으로써 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)이 형성된다. 터치 센서 컨택홀(150)은 터치 절연막(158)을 관통하도록 형성됨으로써 제2 터치 전극(154e)을 노출시키도록 형성된다. 터치 패드 컨택홀(178)은 터치 절연막(158)을 관통하도록 형성함으로써 제2 터치 패드 전극(174)을 노출시키도록 형성된다. 표시 패드 컨택홀(190)은 보호막(116) 및 터치 절연막(158)을 관통하도록 형성됨으로써 표시 패드 전극(182)을 노출시키도록 형성된다. Specifically, the thickness of 500 μm to 5 μm through the deposition or coating process on the substrate 111 on which the first and second touch electrodes 152e and 154e, the first bridge 152b, and the second touch pad electrode 174 are formed. A touch insulating film 158 is formed. Here, when the organic film is used as the touch insulating film 158, the organic film is coated on the substrate, and then cured at a temperature of 100 degrees or less to form the touch insulating film 158. When the inorganic film is used as the touch insulating film 158, the touch insulating film 158 of the multi-layer structure is formed by repeating the low temperature CVD deposition process and the cleaning process at least twice. Thereafter, the touch insulating layer 158 and the passivation layer 116 are patterned in a photolithography process and a dry etching process to form the touch sensor contact hole 150, the touch pad contact hole 178, and the display pad contact hole 190. do. The touch sensor contact hole 150 is formed to penetrate the touch insulating layer 158 to expose the second touch electrode 154e. The touch pad contact hole 178 is formed to pass through the touch insulating layer 158 to expose the second touch pad electrode 174. The display pad contact hole 190 is formed to pass through the passivation layer 116 and the touch insulating layer 158 to expose the display pad electrode 182.

한편, 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)형성시, 터치 전극(152e,154e)의 메쉬 형태의 금속막(15a)은 도 4에 도시된 바와 같이 터치 전극(152e,154e)의 투명 도전막(15b)에 의해 보호되므로, 식각 가스에 의해 메쉬 형태의 금속막(15a)이 손상되는 것을 방지할 수 있다. Meanwhile, when the touch sensor contact hole 150, the touch pad contact hole 178, and the display pad contact hole 190 are formed, the metal film 15a in the mesh form of the touch electrodes 152e and 154e is illustrated in FIG. 4. As described above, since it is protected by the transparent conductive films 15b of the touch electrodes 152e and 154e, it is possible to prevent the metal film 15a in the mesh form from being damaged by the etching gas.

도 7e를 참조하면, 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된 기판(111) 상에 제2 브릿지(154b), 터치 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된다. Referring to FIG. 7E, the second bridge 154b is formed on the substrate 111 on which the touch insulating layer 158 having the touch sensor contact hole 150, the touch pad contact hole 178, and the display pad contact hole 190 is formed. The touch cover electrode 176 and the display cover electrode 188 are formed.

구체적으로, 터치 센서 컨택홀(150), 터치 패드 컨택홀(178) 및 표시 패드 컨택홀(190)을 가지는 터치 절연막(158)이 형성된 기판(111) 상에 제3 도전층이 형성된다. 여기서, 제3 도전층으로 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전층 또는 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강한 금속이 이용되는 경우, 제3 도전층은 상온에서 스퍼터링 등과 같은 증착 방법으로 상온으로 형성된다. 그런 다음, 제3 도전층이 포토리소그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제2 브릿지(154b), 터치 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된다. 그런 다음, 제2 브릿지(154b), 패드 커버 전극(176) 및 표시 커버 전극(188)이 형성된 기판(111) 상에 터치 배리어 필름(194) 및 광학 필름이 부착된다.In detail, a third conductive layer is formed on the substrate 111 on which the touch insulating layer 158 having the touch sensor contact hole 150, the touch pad contact hole 178, and the display pad contact hole 190 is formed. Here, when a transparent conductive layer such as ITO or IZO or a metal having high corrosion resistance and acid resistance such as Al, Ti, Cu, and Mo is used as the third conductive layer, the third conductive layer may be formed at room temperature by a deposition method such as sputtering at room temperature. Is formed. Then, the third conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process to form the second bridge 154b, the touch cover electrode 176, and the display cover electrode 188. Then, the touch barrier film 194 and the optical film are attached to the substrate 111 on which the second bridge 154b, the pad cover electrode 176, and the display cover electrode 188 are formed.

이와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치는 봉지부(140) 상에 터치 전극들(152e,154e)이 직접 배치된다. 이에 따라, 접착제를 통해 터치 스크린이 유기 발광 표시 장치에 접착되는 종래 유기 발광 표시 장치에 비해 본원 발명은 접착 공정이 불필요해져 공정이 단순화되며 비용을 저감할 수 있다. As described above, in the organic light emitting diode display having the touch sensor according to the second exemplary embodiment, the touch electrodes 152e and 154e are directly disposed on the encapsulation unit 140. Accordingly, in the present invention, the adhesive process is unnecessary, compared to the conventional organic light emitting display device in which the touch screen is attached to the organic light emitting display device through the adhesive, thereby simplifying the process and reducing the cost.

또한, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 터치 센서를 가지는 유기 발광 표시 장치에서는 표시 패드 전극(182)을 노출시키는 표시 패드 컨택홀(190)이 터치 패드 전극(172,174)을 노출시키는 터치 패드 컨택홀(178)과 동시에 형성된다. 이에 따라, 본 발명에서는 마스크 공정 추가 없이 표시 패드 컨택홀을 형성할 수 있다.Also, in the OLED display having the touch sensor according to the second exemplary embodiment, the display pad contact hole 190 exposing the display pad electrode 182 exposes the touch pad contact holes 172 and 174. 178 is formed at the same time. Accordingly, in the present invention, the display pad contact hole can be formed without adding a mask process.

뿐만 아니라, 본 발명에서는 라우팅 라인(156), 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e)의 제조 공정시 표시 패드 전극(182)이 보호막(116) 및 터치 절연막(158)을 포함하는 패드 절연막에 의해 보호되므로, 표시 패드 컨택홀(190) 형성 전까지 표시 패드 전극(182)이 외부로 노출되는 것이 방지할 수 있다. 이에 따라, 라우팅 라인(156)과 제1 및 제2 터치 전극(152e,154e)의 제조시 이용되는 식각 가스 또는 식각액에 의해 표시 패드 전극(182)의 손상, 특히 표시 패드 전극(182)의 두께가 감소하는 것을 방지할 수 있다. In addition, in the present invention, in the manufacturing process of the routing line 156, the first and second touch electrodes 152e and 154e, the pad insulating film including the passivation layer 116 and the touch insulating layer 158 in the display pad electrode 182. Because of the protection, the display pad electrode 182 can be prevented from being exposed to the outside until the display pad contact hole 190 is formed. Accordingly, damage to the display pad electrode 182, particularly the thickness of the display pad electrode 182, may be caused by the etching gas or the etchant used in the manufacture of the routing line 156 and the first and second touch electrodes 152e and 154e. Can be prevented from decreasing.

한편, 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치의 라우팅 라인(156)이 도 3에 도시된 바와 같이 터치 전극(152e,154e) 및 브릿지(152b,154b)와 다른 마스크 공정으로 형성되는 경우를 예로 들어 설명하였지만, 이외에도 터치 전극(152e,154e) 및 브릿지(152b,154b)가 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이 동일 마스크 공정으로 형성될 수도 있다. 즉, 도 8a에 도시된 바와 같이 라우팅 라인(156)은 터치 전극(152e,154e)과 동일 마스크 공정으로 형성되는 제1 라우팅층(156a)과, 제2 브릿지(154b)와 동일 마스크 공정으로 형성되는 제2 라우팅층(156b)으로 이루어진다. 이 경우, 제1 라우팅층(156a)은 터치 전극(152e,154e)과 동일 재질로 이루어지며, 제2 라우칭층(156b)은 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 이루어진다. 또한, 도 8b에 도시된 바와 같이 라우팅 라인(156)은 제1 도전층으로 이루어진 제1 라우팅층(156c)과, 터치 전극(152e,154e)과 동일 마스크 공정으로 형성되는 제2 라우팅층(156b)과, 제2 브릿지(154b)와 동일 마스크 공정으로 형성되는 제3 라우팅층(156c)으로 이루어진다. 이 경우, 제2 라우팅층(156b)은 터치 전극(152e,154e)과 동일 재질로 이루어지며, 제3 라우칭층(156c)은 제2 브릿지(154b)와 동일 재질로 이루어진다.Meanwhile, the routing line 156 of the organic light emitting diode display according to the present invention will be described by using a mask process different from the touch electrodes 152e and 154e and the bridges 152b and 154b as illustrated in FIG. 3. However, in addition, the touch electrodes 152e and 154e and the bridges 152b and 154b may be formed by the same mask process as shown in FIGS. 8A and 8B. That is, as shown in FIG. 8A, the routing line 156 is formed in the same mask process as the first routing layer 156a and the second bridge 154b formed in the same mask process as the touch electrodes 152e and 154e. Consisting of a second routing layer 156b. In this case, the first routing layer 156a is made of the same material as the touch electrodes 152e and 154e, and the second routing layer 156b is made of the same material as the second bridge 154b. In addition, as illustrated in FIG. 8B, the routing line 156 includes a first routing layer 156c formed of a first conductive layer and a second routing layer 156b formed of the same mask process as the touch electrodes 152e and 154e. ) And a third routing layer 156c formed by the same mask process as the second bridge 154b. In this case, the second routing layer 156b is made of the same material as the touch electrodes 152e and 154e, and the third routing layer 156c is made of the same material as the second bridge 154b.

또한, 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치는 도 9에 도시된 바와 같이 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152) 각각과, 발광 소자(120)에 사이에 형성되는 터치 버퍼막(196)을 구비한다. 이 터치 버퍼막(196)은 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152) 각각과, 캐소드 전극(126) 사이의 이격 거리가 최소 5㎛를 유지하도록 한다. 이에 따라, 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152) 각각과, 캐소드 전극(126) 사이에 형성되는 기생커패시터의 용량값을 최소화할 수 있어 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152) 각각과, 캐소드 전극(126) 간의 커플링(coupling)에 의한 상호 영향을 방지할 수 있다. In addition, as illustrated in FIG. 9, the organic light emitting diode display according to the present invention includes a touch buffer layer 196 formed between each of the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 and the light emitting device 120. It is provided. The touch buffer layer 196 maintains a distance of at least 5 μm between each of the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 and the cathode electrode 126. Accordingly, capacitance values of parasitic capacitors formed between each of the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 and the cathode electrode 126 can be minimized, so that the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 can be minimized. ) And mutual influence due to coupling between the cathode electrode 126 and the cathode 126 can be prevented.

한편, 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치의 애노드 전극(122) 및 캐소드 전극(126) 사이에는 하나의 발광 스택(124)이 배치되는 것을 예로 들어 설명하였지만, 이외에도 2개 이상의 발광 스택이 배치될 수도 있다. 예를 들어, 도 9에 도시된 바와 같이 애노드 전극(122) 및 캐소드 전극(126) 사이에는 제1 및 제2 발광 스택들(124a,124b)이 배치된다. 제1 및 제2 발광 스택들(124a,124b) 사이에는 전하 생성층(CGL)이 배치된다. 제1 발광 스택(124a)은 애노드 전극(122) 상에 순차적으로 형성되는 정공 수송층(HTL1), 유기 발광층(EML1) 및 전자 수송층(ETL1)을 구비하며, 제2 발광 스택(124b)은 전하 생성층(CGL) 상에 순차적으로 형성되는 정공 수송층(HTL2), 유기 발광층(EML2) 및 전자 수송층(ELT2)을 구비한다. 여기서, 제1 발광 스택(124a)의 발광층(EML1) 및 제2 발광 스택(124b)의 발광층(EML2) 중 어느 하나는 청색광을 생성하고, 제1 발광 스택(124a)의 발광층(EML1) 및 제2 발광 스택(124b)의 발광층(EML2) 중 나머지 하나는 노란색-녹색광을 생성함으로써 제1 및 제2 발광 스택(124a,124b)을 통해 백색광이 생성된다. Meanwhile, although one light emitting stack 124 is disposed between the anode electrode 122 and the cathode electrode 126 of the organic light emitting diode display according to the present invention as an example, two or more light emitting stacks may be disposed. have. For example, as illustrated in FIG. 9, first and second light emitting stacks 124a and 124b are disposed between the anode electrode 122 and the cathode electrode 126. The charge generation layer CGL is disposed between the first and second light emitting stacks 124a and 124b. The first light emitting stack 124a includes a hole transport layer HTL1, an organic light emitting layer EML1, and an electron transport layer ETL1 that are sequentially formed on the anode electrode 122, and the second light emitting stack 124b generates charge. A hole transport layer (HTL2), an organic light emitting layer (EML2) and an electron transport layer (ELT2) formed sequentially on the layer (CGL). Here, any one of the light emitting layer EML1 of the first light emitting stack 124a and the light emitting layer EML2 of the second light emitting stack 124b generates blue light, and the light emitting layer EML1 and the first light emitting stack 124a of the first light emitting stack 124a are formed. The other one of the light emitting layers EML2 of the second light emitting stack 124b generates yellow-green light, thereby generating white light through the first and second light emitting stacks 124a and 124b.

이와 같이, 본 발명에서는 백색광을 생성하는 적어도 하나의 발광 스택(124)과, 컬러 필터를 구비하는 유기 발광 표시 장치의 봉지부(140) 상에 도 1 내지 도 9에 도시된 터치 센서가 적용될 수 있다. As described above, in the present invention, the touch sensor illustrated in FIGS. 1 to 9 may be applied to at least one light emitting stack 124 for generating white light and the encapsulation unit 140 of the organic light emitting display device including the color filter. have.

이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 명세서에 개시된 실시 예들은 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the present invention, and various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the specification of the present invention are not intended to limit the present invention. The scope of the present invention should be construed by the claims below, and all techniques within the scope equivalent thereto will be construed as being included in the scope of the present invention.

142,144 : 무기 봉지층 146 : 유기 봉지층
152 : 터치 구동 라인 154 : 터치 센싱 라인
156 : 라우팅 라인 170 : 터치 패드
180 : 표시 패드142,144: inorganic encapsulation layer 146: organic encapsulation layer
152: touch drive line 154: touch sensing line
156: routing line 170: touch pad
180: display pad

Claims (52)

기판 상에 배치되는 발광소자와;
상기 발광 소자 상에 배치되는 봉지 유닛과;
상기 봉지 유닛 상에 배치되며, 다수의 도전막이 적층된 구조로 이루어지는 메쉬 형태의 터치 센서와;
상기 봉지 유닛 상에 배치되며 상기 메쉬 형태의 상기 터치 센서와 접속되는 라우팅 라인과;
상기 라우팅 라인과 접속되는 터치 패드와;
상기 발광 소자와 상기 터치 센서 사이에 배치되는 터치 버퍼막을 구비하는 표시 장치.A light emitting element disposed on the substrate;
A sealing unit disposed on the light emitting element;
A touch sensor having a mesh shape disposed on the encapsulation unit and having a structure in which a plurality of conductive films are stacked;
A routing line disposed on the encapsulation unit and connected to the touch sensor in the mesh form;
A touch pad connected to the routing line;
And a touch buffer layer disposed between the light emitting element and the touch sensor. 제 1 항에 있어서,
상기 터치 센서는
다수의 제1 및 제2 터치 전극들과;
상기 다수의 제1 터치 전극들을 연결하는 제1 브릿지와;
상기 다수의 제2 터치 전극들을 연결하는 제2 브릿지를 추가로 구비하며,
상기 다수의 제1 터치 전극들은 제1 방향으로 배열되며,
상기 다수의 제2 터치 전극들은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열되는 표시 장치.The method of claim 1,
The touch sensor is
A plurality of first and second touch electrodes;
A first bridge connecting the plurality of first touch electrodes;
Further provided with a second bridge for connecting the plurality of second touch electrodes,
The plurality of first touch electrodes are arranged in a first direction,
The plurality of second touch electrodes are arranged in a second direction crossing the first direction. 제 2 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 브릿지 사이에 배치되는 터치 절연막을 추가로 구비하며,
상기 제1 및 제2 터치 전극과 제1 브릿지는 상기 봉지 유닛 상에 배치되며,
상기 제2 브릿지는 상기 터치 절연막 상에 배치되는 표시 장치.The method of claim 2,
Further provided with a touch insulating film disposed between the first and second bridge,
The first and second touch electrodes and the first bridge are disposed on the encapsulation unit,
The second bridge is disposed on the touch insulating layer. 제 2 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 브릿지 사이에 배치되는 터치 절연막을 추가로 구비하며,
상기 제2 브릿지는 상기 봉지 유닛 상에 배치되며,
상기 제1 및 제2 터치 전극과 제1 브릿지는 상기 터치 절연막 상에 배치되는 표시 장치.The method of claim 2,
Further provided with a touch insulating film disposed between the first and second bridge,
The second bridge is disposed on the encapsulation unit,
The first and second touch electrodes and the first bridge are disposed on the touch insulating layer. 제 2 항에 있어서,
상기 제1 브릿지, 제2 브릿지, 제1 터치 전극, 제2 터치 전극 및 라우팅 라인 중 적어도 어느 하나는 상기 다수의 도전막이 적층된 구조로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 2,
And at least one of the first bridge, the second bridge, the first touch electrode, the second touch electrode, and the routing line has a structure in which the plurality of conductive films are stacked. 제 5 항에 있어서,
상기 다수의 도전막 중 적어도 어느 하나는 다층 구조로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 5,
At least one of the plurality of conductive films has a multilayer structure. 제 6 항에 있어서,
상기 다수의 도전막 중 적어도 어느 한 층은 Al, Ti, Cu, Mo, ITO 또는 IZO를 포함하여 다층 구조로 이루어지는 유기 발광 표시 장치.The method of claim 6,
At least one layer of the plurality of conductive layers includes Al, Ti, Cu, Mo, ITO or IZO, an organic light emitting display device having a multilayer structure. 제 6 항에 있어서,
상기 다수의 도전막 중 적어도 어느 한 층은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 6,
At least one layer of the plurality of conductive layers is formed of Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo. 제 2 항에 있어서,
상기 제1 터치 전극, 상기 제2 터치 전극, 상기 제1 브릿지 및 상기 제2 브릿지 중 적어도 하나는 개구부를 가지는 상기 메쉬 형태의 도전막을 구비하는 표시 장치.The method of claim 2,
And at least one of the first touch electrode, the second touch electrode, the first bridge, and the second bridge includes a conductive film in the form of a mesh having an opening. 제 9 항에 있어서,
상기 메쉬 형태의 도전막은 상기 발광 소자의 발광 영역을 마련하는 뱅크와 중첩되는 표시 장치.The method of claim 9,
The mesh-shaped conductive film overlaps a bank for forming a light emitting region of the light emitting device. 제 9 항에 있어서,
상기 개구부는 상기 발광 영역과 중첩되는 표시 장치.The method of claim 9,
The display device overlaps the light emitting area. 제 10 항에 있어서,
상기 메쉬 형태의 도전막은 상기 뱅크를 따라서 배치되는 표시 장치.The method of claim 10,
The mesh-shaped conductive film is disposed along the bank. 제 1 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 상기 봉지 유닛의 측면을 따라 형성되는 표시 장치.The method of claim 1,
The routing line is formed along a side of the encapsulation unit. 제 1 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 상기 봉지 유닛의 측면과 접촉하는 표시 장치.The method of claim 1,
The routing line is in contact with the side of the encapsulation unit. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 상기 터치 버퍼막의 측면을 따라 형성되는 표시 장치.The method of claim 1,
The routing line is formed along a side of the touch buffer layer. 제 1 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 상기 터치 버퍼막의 측면과 접촉하는 표시 장치.The method of claim 1,
The routing line contacts the side surface of the touch buffer layer. 제 1 항에 있어서,
상기 표시 장치는 벤딩 및 휘어짐이 가능한 표시 장치.The method of claim 1,
The display device may be bent and bent. 제 2 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 하부 라우팅층 및 상부 라우팅층을 포함하는 다수의 라우팅층이 적층된 구조로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 2,
The routing line has a structure in which a plurality of routing layers including a lower routing layer and an upper routing layer are stacked. 제 19 항에 있어서,
상기 하부 라우팅층의 두께와 상기 상부 라우팅층의 두께는 서로 다른 표시 장치.The method of claim 19,
The thickness of the lower routing layer and the thickness of the upper routing layer is different. 제 20 항에 있어서,
상기 상부 라우팅층의 두께는 상기 하부 라우팅층의 두께보다 두꺼운 표시 장치.The method of claim 20,
The thickness of the upper routing layer is thicker than the thickness of the lower routing layer. 제 19 항에 있어서,
상기 하부 라우팅층은 상기 제1 및 제2 브릿지 중 어느 하나와 동일 층 상에 동일 재질로 이루어지며,
상기 상부 라우팅층은 상기 제1 및 제2 브릿지 중 나머지 하나와 동일 층 상에 동일 재질로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 19,
The lower routing layer is made of the same material on the same layer as any one of the first and second bridges,
The upper routing layer is formed of the same material on the same layer as the other one of the first and second bridges. 제 19 항에 있어서,
상기 상부 라우팅층 및 하부 라우팅층 중 적어도 어느 하나는 상기 터치 패드와 접속되는 표시 장치.The method of claim 19,
At least one of the upper routing layer and the lower routing layer is connected to the touch pad. 제 19 항에 있어서,
상기 상부 라우팅층 및 하부 라우팅층은 상기 봉지 유닛 상에서 서로 중첩되는 표시 장치.The method of claim 19,
The upper routing layer and the lower routing layer overlap each other on the encapsulation unit. 제 19 항에 있어서,
상기 상부 라우팅층 및 하부 라우팅층 사이에 배치되는 층간막을 더 구비하는 표시 장치.The method of claim 19,
And an interlayer film disposed between the upper routing layer and the lower routing layer. 제 25 항에 있어서,
상기 층간막은 투명 도전막 또는 투명 절연막으로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 25,
And the interlayer film is formed of a transparent conductive film or a transparent insulating film. 제 25 항에 있어서,
상기 상부 라우팅층, 하부 라우팅층 및 층간막 중 적어도 어느 하나는 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 25,
At least one of the upper routing layer, the lower routing layer, and the interlayer film is formed of Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo. 제 2 항에 있어서,
상기 터치 패드는 다수의 패드 전극이 적층된 구조로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 2,
The touch pad has a structure in which a plurality of pad electrodes are stacked. 제 28 항에 있어서,
상기 다수의 패드 전극 중 적어도 어느 하나는 다층 구조로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 28,
At least one of the pad electrodes has a multilayer structure. 제 28 항에 있어서,
상기 다수의 패드 전극 중 적어도 어느 하나는 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 28,
At least one of the pad electrodes includes Ti / Al / Ti or Mo / Al / Mo. 제 28 항에 있어서,
상기 다수의 패드 전극 중 적어도 어느 하나는 상기 제1 및 제2 브릿지 중 적어도 어느 하나와 동일 층 상에 동일 재질로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 28,
At least one of the pad electrodes is formed of the same material on the same layer as at least one of the first and second bridges. 제 28 항에 있어서,
상기 표시 장치의 좌측 및 우측에서 상기 터치 패드로 신장되는 상기 라우팅 라인의 총 개수는
상기 표시 장치의 상측 및 하측에서 상기 터치 패드로 신장되는 상기 라우팅 라인의 총 개수와 동일하거나 다른 표시 장치.The method of claim 28,
The total number of routing lines extending from the left and right sides of the display device to the touch pad is
And a total number of routing lines extending from the upper side and the lower side of the display device to the touch pad. 제 1 항에 있어서,
상기 발광 소자와 접속되는 박막트랜지스터를 추가로 구비하며,
상기 박막트랜지스터는
상기 기판 상에 배치되는 게이트 전극과;
상기 게이트 전극의 상부 또는 하부에 배치되는 액티브층과;
상기 액티브층과 접속되는 소스 전극과;
상기 액티브층과 접속되는 드레인 전극을 구비하는 표시 장치.The method of claim 1,
Further comprising a thin film transistor connected to the light emitting element,
The thin film transistor is
A gate electrode disposed on the substrate;
An active layer disposed above or below the gate electrode;
A source electrode connected to the active layer;
And a drain electrode connected to the active layer. 제 33 항에 있어서,
상기 기판의 외곽부에 배치되는 상기 라우팅 라인 및 상기 터치 패드는 상기 발광 소자와 상기 기판 사이에 위치하는 다수의 절연막 중 어느 하나의 절연막 상에 배치되는 표시 장치.The method of claim 33,
The routing line and the touch pad disposed at an outer portion of the substrate are disposed on any one of a plurality of insulating layers disposed between the light emitting element and the substrate. 제 34 항에 있어서,
상기 다수의 절연막은
상기 박막트랜지스터의 게이트 전극과 액티브층 상에 배치되는 게이트 절연막과;
상기 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극과, 상기 액티브층 사이에 배치되는 층간 절연막과;
상기 소스 및 드레인 전극 상에 배치되는 보호막을 포함하는 표시 장치.The method of claim 34, wherein
The plurality of insulating films
A gate insulating film disposed on the gate electrode and the active layer of the thin film transistor;
An interlayer insulating layer disposed between the source and drain electrodes of the thin film transistor and the active layer;
And a passivation layer on the source and drain electrodes. 제 35 항에 있어서,
상기 라우팅 라인은 상기 기판의 외곽부에서 상기 게이트 절연막, 상기 층간 절연막, 상기 발광 소자의 발광 영역을 마련하는 뱅크, 상기 보호막, 및 봉지 유닛 중 적어도 어느 하나와 중첩되는 표시 장치.36. The method of claim 35 wherein
And the routing line overlaps at least one of the gate insulating film, the interlayer insulating film, a bank for forming a light emitting region of the light emitting element, the passivation film, and an encapsulation unit at an outer portion of the substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 라우팅 라인 및 상기 터치 패드 중 어느 하나와 상기 기판 사이의 거리는 상기 터치 센서와 상기 기판 사이의 거리 보다 가까운 표시 장치.The method of claim 1,
And a distance between any one of the routing line and the touch pad and the substrate is closer than the distance between the touch sensor and the substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 봉지 유닛은 유기 봉지층을 사이에 두고 마주보는 제1 및 제2 무기 봉지층을 구비하며,
상기 제2 무기 봉지층은 상기 유기 봉지층의 상부면 및 측면을 덮도록 배치되며;
상기 유기 봉지층은 상기 제1 무기 봉지층의 상부면을 덮도록 배치되는 표시 장치.The method of claim 1,
The encapsulation unit includes first and second inorganic encapsulation layers facing each other with the organic encapsulation layer therebetween,
The second inorganic encapsulation layer is disposed to cover an upper surface and a side surface of the organic encapsulation layer;
The organic encapsulation layer is disposed to cover an upper surface of the first inorganic encapsulation layer. 제 1 항에 있어서,
상기 터치 패드가 배치된 상기 기판의 비액티브 영역에 배치되는 표시 패드를 추가로 구비하며,
상기 표시 패드는
상기 발광 소자가 배치된 상기 기판의 액티브 영역에 배치되는 신호 라인과 접속되는 표시 패드 전극과;
상기 표시 패드 전극을 덮도록 배치되며 상기 터치 센서에 포함된 도전층과 동일 재질로 이루어지는 표시 커버 전극을 구비하는 표시 장치.The method of claim 1,
And a display pad disposed in an inactive region of the substrate on which the touch pad is disposed.
The display pad
A display pad electrode connected to a signal line disposed in an active region of the substrate on which the light emitting element is disposed;
And a display cover electrode disposed to cover the display pad electrode and formed of the same material as the conductive layer included in the touch sensor. 제 39 항에 있어서,
상기 표시 패드는
상기 표시 패드 전극을 덮는 제1 절연막을 관통하여 표시 패드의 일부를 노출시키는 제1 표시 패드 컨택홀과;
상기 표시 패드 전극과 접속되는 표시 보조 전극과;
상기 표시 보조 전극을 덮는 제2 절연막을 관통하여 표시 보조 전극의 일부를 노출시키는 제2 표시 패드 컨택홀을 추가로 구비하며,
상기 표시 커버 전극은 상기 제2 표시 패드 컨택홀을 통해 상기 표시 보조 전극과 접속되는 표시 장치.The method of claim 39,
The display pad
A first display pad contact hole penetrating the first insulating layer covering the display pad electrode to expose a portion of the display pad;
A display auxiliary electrode connected to the display pad electrode;
A second display pad contact hole penetrating the second insulating layer covering the display auxiliary electrode to expose a portion of the display auxiliary electrode;
The display cover electrode is connected to the display auxiliary electrode through the second display pad contact hole. 제 40 항에 있어서,
상기 표시 보조 전극은 상기 표시 패드 전극 및 상기 표시 커버 전극과 직접 접속되는 표시 장치.The method of claim 40,
The display auxiliary electrode is directly connected to the display pad electrode and the display cover electrode. 제 39 항에 있어서,
상기 표시 패드 전극은 상기 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극과 동일 재질로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 39,
The display pad electrode is formed of the same material as the source and drain electrodes of the thin film transistor. 제 39 항에 있어서,
상기 표시 패드는
상기 표시 패드 전극을 덮는 제1 및 제2 절연막을 관통하여 표시 패드의 일부를 노출시키는 표시 패드 컨택홀을 추가로 구비하며,
상기 표시 커버 전극은 상기 표시 패드 컨택홀을 통해 상기 표시 패드 전극과 접속되는 표시 장치.The method of claim 39,
The display pad
And a display pad contact hole penetrating the first and second insulating layers covering the display pad electrode to expose a portion of the display pad.
The display cover electrode is connected to the display pad electrode through the display pad contact hole. 제 43 항에 있어서,
상기 표시 패드 전극은 상기 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극과 동일 재질로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 43,
The display pad electrode is formed of the same material as the source and drain electrodes of the thin film transistor. 제 34 항에 있어서,
상기 터치 패드는
상기 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극과 동일 재질로 이루어지는 터치 보조 전극과;
상기 터치 보조 전극을 덮는 제1 절연막을 관통하여 상기 터치 보조 전극의 일부를 노출시키는 제1 터치 패드 컨택홀과;
상기 터치 보조 전극과 접속되는 터치 패드 전극과;
상기 터치 패드 전극을 덮는 제2 절연막을 관통하여 상기 터치 패드 전극의 일부를 노출시키는 제2 터치 패드 컨택홀과;
상기 제2 터치 패드 컨택홀을 통해 상기 터치 패드 전극과 접속되는 터치 커버 전극을 구비하는 표시 장치.The method of claim 34, wherein
The touch pad
A touch auxiliary electrode made of the same material as the source and drain electrodes of the thin film transistor;
A first touch pad contact hole penetrating a first insulating layer covering the touch auxiliary electrode to expose a portion of the touch auxiliary electrode;
A touch pad electrode connected to the touch auxiliary electrode;
A second touch pad contact hole penetrating a second insulating film covering the touch pad electrode to expose a portion of the touch pad electrode;
And a touch cover electrode connected to the touch pad electrode through the second touch pad contact hole. 제 45 항에 있어서,
상기 터치 커버 전극은 상기 터치 패드 전극을 통해 상기 터치 보조 전극과 접속되는 표시 장치.The method of claim 45,
The touch cover electrode is connected to the touch auxiliary electrode through the touch pad electrode. 제 46 항에 있어서,
상기 터치 패드 전극은 상기 터치 보조 전극 및 상기 터치 커버 전극과 직접 접속되는 표시 장치.The method of claim 46,
The touch pad electrode is directly connected to the touch auxiliary electrode and the touch cover electrode. 제 34 항에 있어서,
상기 터치 패드는
상기 다수의 절연막에 포함되는 제1 절연막 상에 배치되는 터치 패드 전극과;
상기 터치 패드 전극을 덮는 제2 절연막을 관통하여 상기 터치 패드 전극의 일부를 노출시키는 터치 패드 컨택홀과;
상기 터치 패드 컨택홀을 통해 상기 터치 패드 전극과 접속되는 터치 커버 전극을 구비하는 표시 장치.The method of claim 34, wherein
The touch pad
A touch pad electrode disposed on a first insulating film included in the plurality of insulating films;
A touch pad contact hole penetrating through a second insulating layer covering the touch pad electrode to expose a portion of the touch pad electrode;
And a touch cover electrode connected to the touch pad electrode through the touch pad contact hole. 제 45 항 또는 제 48 항에 있어서,
상기 터치 패드 전극은
상기 라우팅 라인과 동일 재질로 이루어진 제1 터치 패드 전극과;
상기 제1 터치 패드 전극을 덮도록 배치되어 상기 제1 터치 패드 전극과 접속되는 제2 터치 패드 전극을 구비하는 표시 장치.49. The method of claim 45 or 48,
The touch pad electrode is
A first touch pad electrode made of the same material as the routing line;
And a second touch pad electrode disposed to cover the first touch pad electrode and connected to the first touch pad electrode. 제 39 항에 있어서,
상기 표시 커버 전극은 상기 터치 패드의 최상부에 배치되는 터치 커버 전극과 동일 재질로 이루어지는 표시 장치.The method of claim 39,
The display cover electrode is made of the same material as the touch cover electrode disposed on the top of the touch pad. 제 40 항에 있어서,
상기 표시 보조 전극은
상기 라우팅 라인과 동일 재질로 이루어진 제1 표시 보조 전극과;
상기 제1 표시 보조 전극을 덮도록 배치되어 상기 제1 표시 보조 전극과 접속되는 제2 표시 보조 전극을 구비하는 표시 장치.The method of claim 40,
The display auxiliary electrode
A first display auxiliary electrode made of the same material as the routing line;
And a second display auxiliary electrode disposed to cover the first display auxiliary electrode and connected to the first display auxiliary electrode. 제 1 항에 있어서,
상기 봉지 유닛과 상기 터치 센서 사이에 배치되는 컬러 필터를 더 구비하는 표시 장치.The method of claim 1,
And a color filter disposed between the encapsulation unit and the touch sensor.
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