KR101998729B1 - Novel compound, photosensitive resin composition including the same and color filter - Google Patents
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Abstract
하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물 및 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)There is provided a compound represented by the following formula (1), a photosensitive resin composition containing the compound, and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
[Chemical Formula 1]
(Wherein each substituent is as defined in the specification).
Description
본 기재는 신규 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터에 관한 것이다.The present invention relates to a novel compound, a photosensitive resin composition containing the same, and a color filter.
디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다. 이와 같은 액정디스플레이 장치는 블랙매트릭스, 컬러필터 및 ITO 화소전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전캐패시터층으로 구성된 능동회로부와 ITO 화소전극이 형성된 상부의 기판을 포함하여 구성된다. 컬러필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색)을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. 컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막이 형성되는 방법이다. 안료분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합 단량체, 광중합 개시제, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어지고, 여기에 에폭시 수지 등을 더 포함하기도 한다. 상기와 같은 안료분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. 그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 분말의 미세화 공정이 어렵고, 분산을 하더라도 분산상태가 분산액 내에서 안정해야 하기 때문에 다양한 첨가제가 필요하고, 공정 또한 매우 까다로우며, 더욱이 안료분산액은 최적의 품질상태를 유지해야 하기 때문에 보관 및 운송조건이 어려운 단점이 있다. 또한 안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 이에 따라 안료를 대신해 안료와 유사한 내열성 및 내화학성을 갖는 염료 개발의 필요성이 대두되었다.The liquid crystal display device, which is one of the display devices, has advantages such as lightness, thinness, low cost, low power consumption driving and bonding with an excellent integrated circuit, and its use range is expanding for notebook computers, monitors and TV images. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate on which a black matrix, a color filter, and ITO pixel electrodes are formed, and an upper substrate on which an active circuit portion composed of a liquid crystal layer, a thin film transistor, and a capacitor layer and an ITO pixel electrode are formed. The color filter includes a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate so as to shield the boundary between pixels and a plurality of colors (typically red (R), green (G), blue ) Are arrayed in a predetermined order, and the pixel portions are stacked in this order. In the pigment dispersion method, which is one of the methods of implementing a color filter, a photopolymerizable composition containing a colorant is coated on a transparent substrate provided with a black matrix, a pattern of a pattern to be formed is exposed, And a coloring thin film is formed by repeating a series of processes of thermosetting. The colored photosensitive resin composition used in the production of a color filter according to the pigment dispersion method generally comprises an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a solvent and other additives, and may further contain an epoxy resin or the like. The pigment dispersion method as described above is actively applied to manufacture LCDs for mobile phones, notebooks, monitors, TVs and the like. However, even in a photosensitive resin composition for a color filter using a pigment dispersion method having various advantages in recent years, it is difficult to make the powder finer, and various additives are required because the dispersed state must be stable in the dispersion even when dispersed. And it is difficult to store and transport because the pigment dispersion must maintain an optimal quality state. Further, in a color filter made of a pigment type photosensitive resin composition, there is a limit of brightness and contrast ratio resulting from the pigment particle size. Accordingly, there has been a need to develop dyes having heat resistance and chemical resistance similar to those of pigments instead of pigments.
일 구현예는 염이 아닌 쯔바이터 타입의 신규한 시아닌계 화합물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a novel cyanine-based compound of the zwitter type that is not a salt.
다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising the above compound.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.An embodiment provides a compound represented by the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에서, In Formula 1,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-CR6R7-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고, 상기 R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,X 1 and X 2 are each independently * -CR 6 R 7 - *, * -O- * or * -S- *, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 To C10 alkyl group,
R1, R2 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, R 1 , R 2 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group,
상기 R1 및 R2는 서로 결합하여 고리를 이룰 수 있고,R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring,
R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof,
단, 상기 R3 및 R4 중 어느 하나는 반드시 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고, 다른 하나는 반드시 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,Provided that any one of R 3 and R 4 is an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof and the other is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.L 1 and L 2 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.
상기 음이온은 하기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The anion may be represented by any one of the following formulas A-1 to A-3.
[화학식 A-1][A-1]
[화학식 A-2][A-2]
[화학식 A-3][A-3]
상기 R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, 상기 R4는 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온일 수 있다.R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 to
상기 R4는 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온일 수 있다.The R 4 may be an anion represented by the formula (A-2) or (A-3).
상기 R4는 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온일 수 있다.The R 4 may be an anion represented by the above formula (A-3).
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, 상기 R4는 수소 원자일 수 있다.R 3 is a C1 to C20 alkyl group substituted with an anion represented by any one of the above formulas A-1 to A- 3 at the terminal, and R 4 may be a hydrogen atom.
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다.The R 3 may be a C1 to C20 alkyl group substituted at the terminal thereof with an anion represented by the above formula (A-2) or (A-3).
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다.The R 3 may be a C1-C20 alkyl group substituted at the terminal thereof with an anion represented by the above formula (A-3).
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-12 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-12.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
[화학식 1-3][Formula 1-3]
[화학식 1-4][Formula 1-4]
[화학식 1-5][Formula 1-5]
[화학식 1-6][Chemical Formula 1-6]
[화학식 1-7][Chemical Formula 1-7]
[화학식 1-8][Chemical Formula 1-8]
[화학식 1-9][Chemical Formula 1-9]
[화학식 1-10][Chemical Formula 1-10]
[화학식 1-11][Formula 1-11]
[화학식 1-12][Formula 1-12]
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 450nm 내지 780nm의 파장범위에서 최대 흡광도를 가질 수 있다.The compound represented by Formula 1 may have a maximum absorbance in a wavelength range of 450 nm to 780 nm.
다른 일 구현예는 상기 화합물을 착색제 내 염료로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin composition comprising the compound as a dye in a colorant.
상기 염료는 적색 염료, 바이올렛 염료 또는 황색 염료일 수 있다.The dye may be a red dye, a violet dye or a yellow dye.
상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further contain a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cadmium binder resin, or a combination thereof.
상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further comprise a pigment.
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 착색제 5 중량% 내지 30 중량%; 상기 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 광중합성 화합물 5 중량% 내지 15 중량%; 상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및 상기 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition contains 5 to 30% by weight of the colorant, based on the total amount of the photosensitive resin composition; 1% by weight to 10% by weight of the binder resin; 5 wt% to 15 wt% of the photopolymerizable compound; 0.1% by weight to 5% by weight of the photopolymerization initiator, and the balance of the solvent.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합 개시제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent comprising malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a vinyl group or a (meth) acryloxy group, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, .
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other aspects of the present invention are included in the following detailed description.
일 구현예에 따른 화합물은 염 형태가 아닌 쯔바이터 형태의 신규한 시아닌계 화합물로서, 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용 시 내구성 및 전기적 특성을 향상시킬 수 있어, 컬러필터 제조에 유용하게 사용될 수 있다.The compound according to one embodiment is a novel cyanine compound in the form of a zwitter that is not a salt form, and can improve durability and electrical characteristics when used as a colorant in a photosensitive resin composition, and can be usefully used for manufacturing a color filter.
도 1은 실시예 7 내지 실시예 12 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터의 상온(25℃) 및 60℃에서의 전압 보전율(VHR; Voltage holding ratio)을 측정하여, 그 결과를 나타낸 그래프이다.1 is a graph showing the relationship between a room temperature (25 DEG C) and a voltage holding ratio (VHR) at 60 DEG C of a color filter manufactured using the photosensitive resin composition according to Examples 7 to 12 and Comparative Examples 1 to 3, And the results are shown in the graph.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Means that at least one hydrogen atom of the functional group of the present invention is substituted with a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group NH 2, NH (R 200), or N (R 201) (R 202), wherein R 200, R 201 and R 202 are the same or different, each independently being a C1 to C10 alkyl groups), amidino group, A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alicyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group, And a substituted or unsubstituted heterocyclic group substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "alkyl group" means C1 to C20 alkyl group, specifically C1 to C15 alkyl group, "cycloalkyl group" means C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 Refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically, a C1 to C18 alkoxy group, and an "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, specifically, a C6 to C20 aryl group, Refers to a C 2 to
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.(Meth) acrylate "refers to both" acrylic acid "and" methacrylic acid " It means both are possible.
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.As used herein, unless otherwise defined, "combination" means mixing or copolymerization. "Copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer or random copolymer.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, when no chemical bond is drawn at the position where the chemical bond should be drawn, it means that the hydrogen atom is bonded at the above position.
본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.In the present specification, the cadmium resin means a resin in which at least one functional group selected from the group consisting of the following Chemical Formulas (2-1) to (2-11) is contained in the main backbone of the resin.
또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise defined herein, "*" means the same or different atom or moiety connected to the formula.
일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.An embodiment provides a compound represented by the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Formula 1,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-CR6R7-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고, 상기 R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,X 1 and X 2 are each independently * -CR 6 R 7 - *, * -O- * or * -S- *, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 To C10 alkyl group,
R1, R2 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, R 1 , R 2 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group,
상기 R1 및 R2는 서로 결합하여 고리를 이룰 수 있고,R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring,
R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof,
단, 상기 R3 및 R4 중 어느 하나는 반드시 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고, 다른 하나는 반드시 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,Provided that any one of R 3 and R 4 is an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof and the other is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.L 1 and L 2 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.
예컨대, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 존재하며, 고리를 이루지 않을 수 있다.For example, R 1 and R 2 are each independently present and may not form a ring.
예컨대, 상기 R1 및 R2는 서로 결합하여 고리, 예컨대 벤젠고리를 이룰 수 있다.For example, R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring, such as a benzene ring.
전술한 바와 같이, 안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 또한 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입하여 염료에 적합한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비가 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있다.As described above, in a color filter made of a pigment type photosensitive resin composition, there is a limit of luminance and contrast ratio resulting from the pigment particle size. Further, in the case of a color imaging device for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required for forming a fine pattern. In order to meet such a demand, attempts have been made to introduce a dye that does not form a particle instead of a pigment to produce a photosensitive resin composition suitable for a dye, thereby realizing a color filter having improved luminance and contrast ratio.
일반적으로 시아닌계 화합물은 전하가 분리되어 염의 형태로 존재하며, 이러한 형태의 시아닌계 화합물을 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물은 PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도가 낮고, 내열성 및 내화학성 등의 내구성이 떨어져, 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용하는데 한계가 있었다. 그러나, 일 구현예에 따른 화합물, 즉 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 염이 아닌 쯔바이터 형태로 존재하며, 말단에 아크릴레이트기를 포함하고, 또한 중간 연결기로 우레탄 연결기를 포함하는 치환기를 가짐으로써, 유기용매에 대한 용해도를 개선할 수 있어, 감광성 수지 조성물 내 염료로 사용시에 적합하다. 또한, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 사용하는 감광성 수지 조성물은 내구성 및 전기적 특성이 우수한 컬러필터를 제조할 수 있다.In general, the cyanine compound is separated from the charge and is present in the form of a salt. The photosensitive resin composition containing such a cyanine compound as a colorant has low solubility in an organic solvent such as PGMEA and has durability such as heat resistance and chemical resistance There is a limit to use as a colorant in the photosensitive resin composition. However, the compound according to one embodiment, that is, the compound represented by the formula (1), exists in the form of a zwitter rather than a salt, has an acrylate group at the end, and has a substituent containing an urethane linkage group as an intermediate linking group, It is possible to improve solubility in an organic solvent and is suitable for use as a dye in a photosensitive resin composition. In addition, a photosensitive resin composition using a compound according to one embodiment as a dye can produce a color filter excellent in durability and electrical characteristics.
상기 음이온은 하기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The anion may be represented by any one of the following formulas A-1 to A-3.
[화학식 A-1][A-1]
[화학식 A-2][A-2]
[화학식 A-3][A-3]
상기 R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, 상기 R4는 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온일 수 있다.R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 to
예컨대, 상기 R4는 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온일 수 있다. 예컨대, 상기 R4는 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온일 수 있다.For example, R 4 may be an anion represented by the formula (A-2) or (A-3). For example, R 4 may be an anion represented by the above formula (A-3).
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, 상기 R4는 수소 원자일 수 있다.R 3 is a C1 to C20 alkyl group substituted with an anion represented by any one of the above formulas A-1 to A- 3 at the terminal, and R 4 may be a hydrogen atom.
예컨대, 상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다. 예컨대, 상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다.For example, R 3 may be a C1-C20 alkyl group substituted at the terminal thereof with an anion represented by the above formula (A-2) or (A-3). For example, R 3 may be a C1 to C20 alkyl group substituted at the terminal thereof with an anion represented by the above formula (A-3).
상기 화학식 A-1로 표시되는 음이온보다 상기 화학식 A-2로 표시되는 음이온을 포함하는 일 구현예에 따른 화합물이 우수한 내구성(예컨대 내열성 등) 및 전기적 특성을 가지며, 상기 화학식 A-2로 표시되는 음이온보다 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온을 포함하는 일 구현예에 따른 화합물이 우수한 내구성(예컨대 내열성 등) 및 전기적 특성을 가질 수 있다.The compound according to one embodiment containing an anion represented by the above formula (A-2) is more excellent in durability (such as heat resistance) and electrical characteristics than the anion represented by the above formula (A-1) Compounds according to one embodiment containing an anion represented by the above formula (A-3) rather than an anion may have excellent durability (e.g., heat resistance) and electrical characteristics.
상기 음이온 또는 말단에 음이온을 포함하는 알킬 치환기가 벤젠 고리를 이루는 탄소 원자에 연결된 경우보다, 상기 음이온 또는 말단에 음이온을 포함하는 알킬 치환기가 양전하를 가지는 질소 원자에 연결된 경우가 우수한 내구성(예컨대 내열성 등) 및 전기적 특성을 가질 수 있다.It is preferable that the anion or an alkyl substituent including an anion at a terminal thereof is connected to a nitrogen atom having a positive charge more than when the alkyl substituent including an anion at the anion or the terminal is connected to a carbon atom constituting the benzene ring ) And electrical characteristics.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-12 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-12, but is not limited thereto.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
[화학식 1-3][Formula 1-3]
[화학식 1-4][Formula 1-4]
[화학식 1-5][Formula 1-5]
[화학식 1-6][Chemical Formula 1-6]
[화학식 1-7][Chemical Formula 1-7]
[화학식 1-8][Chemical Formula 1-8]
[화학식 1-9][Chemical Formula 1-9]
[화학식 1-10][Chemical Formula 1-10]
[화학식 1-11][Formula 1-11]
[화학식 1-12][Formula 1-12]
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 450nm 내지 780nm의 파장범위에서 최대 흡광도를 가질 수 있다.The compound represented by Formula 1 may have a maximum absorbance in a wavelength range of 450 nm to 780 nm.
다른 일 구현예는 상기 화합물을 착색제 내 염료로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin composition comprising the compound as a dye in a colorant.
상기 염료는 적색 염료, 바이올렛 염료 또는 황색 염료일 수 있다.The dye may be a red dye, a violet dye or a yellow dye.
상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further contain a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
이하에서는 상기 성분들에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the components will be described in detail.
착색제coloring agent
상기 착색제는 염료를 포함하고, 상기 염료는 일 구현예에 따른 화합물을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 염료는 일 구현예에 따른 화합물일 수 있다.The colorant comprises a dye, and the dye may comprise a compound according to one embodiment. For example, the dye may be a compound according to one embodiment.
상기 염료는 적색 염료, 바이올렛 염료 또는 황색 염료일 수 있다.The dye may be a red dye, a violet dye or a yellow dye.
상기 착색제는 상기 화합물 이외에, 유기용매 가용성 염료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further comprise, in addition to the compound, an organic solvent-soluble dye.
상기 유기용매 가용성 염료의 예로는, 트리아릴메탄계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 벤질리덴계 화합물, 크산텐계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 아자포피린계 화합물, 인디고계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent soluble dye include a triarylmethane compound, an anthraquinone compound, a benzylidene compound, a xanthene compound, a phthalocyanine compound, an azapphyrin compound, and an indigo compound.
상기 착색제는 상기 화합물 이외에, 안료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further include a pigment in addition to the above-mentioned compounds.
상기 안료는 청색 안료, 바이올렛 안료, 적색 안료, 녹색 안료, 황색 안료 등을 포함할 수 있다.The pigment may include a blue pigment, a violet pigment, a red pigment, a green pigment, a yellow pigment and the like.
상기 청색 안료의 예로는, C.I. 청색 안료 15:6, C.I. 청색 안료 15, C.I. 청색 안료 15:1, C.I. 청색 안료 15:2, C.I. 청색 안료 15:3, C.I. 청색 안료 15:4, C.I. 청색 안료 15:5, C.I. 청색 안료 16, C.I. 청색 안료 22, C.I. 청색 안료 60, C.I. 청색 안료 64, C.I. 청색 안료 80 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the blue pigments include C.I. Blue pigment 15: 6, C.I. Blue pigment 15, C.I. Blue pigment 15: 1, C.I. Blue pigment 15: 2, C.I. Blue pigment 15: 3, C.I. Blue pigment 15: 4, C.I. Blue pigment 15: 5, C.I. Blue pigment 16, C.I. Blue pigment 22, C.I.
상기 바이올렛 안료의 예로는, C.I. 바이올렛 안료 1, C.I. 바이올렛 안료 19, C.I. 바이올렛 안료 23, C.I. 바이올렛 안료 27, C.I. 바이올렛 안료 28, C.I. 바이올렛 안료 29, C.I. 바이올렛 안료 30, C.I. 바이올렛 안료 32, C.I. 바이올렛 안료 37, C.I. 바이올렛 안료 40, C.I. 바이올렛 안료 42, C.I. 바이올렛 안료 50 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the violet pigment include C.I. Violet pigment 1, C.I. Violet pigment 19, C.I. Violet pigment 23, C.I. Violet pigment 27, C.I. Violet pigment 28, C.I. Violet pigment 29, C.I.
상기 적색 안료의 예로는 C.I. 적색 안료 254, C.I. 적색 안료 255, C.I. 적색 안료 264, C.I. 적색 안료 270, C.I. 적색 안료 272, C.I. 적색 안료 177, C.I. 적색 안료 179, C.I. 적색 안료 89 등을 들 수 있다. Examples of the red pigment include C.I. Red pigment 254, C.I. Red pigment 255, C.I. Red pigment 264, C.I. Red pigment 270, C.I. Red pigment 272, C.I. Red pigment 177, C.I. Red pigment 179, C.I. Red pigment 89 and the like.
상기 녹색 안료의 예로는, C.I. 녹색 안료 7, C.I. 녹색 안료 36, C.I. 안료 녹색 58, C.I. 안료 녹색 59 등의 할로겐화 프탈로시아닌계 안료 등을 들 수 있다.Examples of the green pigment include C.I. Green pigment 7, C.I. Green pigment 36, C.I. Pigment green 58, C.I. And halogenated phthalocyanine pigments such as Pigment Green 59 and the like.
상기 황색 안료의 예로는, C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 150 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the yellow pigments include C.I. Pigment yellow 139, C.I. Pigment yellow 138, C.I. Pigment yellow 150, etc. These may be used alone or in combination of two or more.
상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.The pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.
상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a solid pigment, a solvent, and a dispersant for uniformly dispersing the pigment in the solvent.
상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량%내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The solid pigment may be present in the pigment dispersion in an amount ranging from 1% to 20%, such as 8% to 20%, such as 8% to 15%, such as 10% to 20% 15% by weight.
상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다. 상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersing agent, a nonionic dispersing agent, an anionic dispersing agent, a cationic dispersing agent and the like can be used. Specific examples of the dispersing agent include polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid Salts, alkylamide alkylene oxide adducts, and alkylamines. These may be used singly or in combination of two or more.
상기 분산제의 시판되는 제품을 예로들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.DISPERBYK-161, DISPERBYK-160, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-160, DISPERBYK-130, DISPERBYK- -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 and the like; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400 and EFKA-450 of EFKA Chemical Co., Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 from Zeneka; Or Ajinomoto's PB711 and PB821.
상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어 감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The dispersing agent may be contained in an amount of 1 to 20% by weight based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersing agent is contained within the above range, the dispersibility of the photosensitive resin composition can be maintained because an appropriate viscosity can be maintained, so that optical, physical and chemical quality can be maintained when the product is applied.
상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 (모노)메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. As the solvent for forming the pigment dispersion, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol (mono) methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether and the like can be used.
상기 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 25 중량%로 포함될 수 있다. 상기 착색제가 상기 범위 내로 포함될 경우,색 재현율이 우수하며, 패턴의 경화성 및 밀착성이 우수하다.The colorant may be included in an amount of 5% by weight to 30% by weight, for example, 5% by weight to 25% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the colorant is contained within the above range, the color reproducibility is excellent and the pattern is excellent in curability and adhesion.
바인더 수지Binder resin
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지일 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cadmium binder resin, or a combination thereof. For example, the binder resin may be an acrylic binder resin.
상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다. The acrylic resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the first ethylenically unsaturated monomer, and is a resin containing at least one acrylic repeating unit.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, and combinations thereof.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% by weight to 50% by weight, for example, 10% by weight to 40% by weight based on the total amount of the acrylic binder resin.
상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzyl methyl ether; (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; These may be used singly or in combination of two or more.
상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / 2- Acrylate copolymer, a (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and the like, but not limited thereto, and they may be used alone or in combination have.
상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조시 기판과의 밀착성이 우수하다. The weight average molecular weight of the acrylic binder resin may be from 3,000 g / mol to 150,000 g / mol, such as from 5,000 g / mol to 50,000 g / mol, such as from 20,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, the photosensitive resin composition is excellent in physical and chemical properties, has an appropriate viscosity, and is excellent in adhesion to a substrate during the production of a color filter.
상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic binder resin may be from 15 mgKOH / g to 60 mgKOH / g, such as from 20 mgKOH / g to 50 mgKOH / g. When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.The cadmium binder resin may include a repeating unit represented by the following formula (2).
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에서,In Formula 2,
R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시알킬기이고,R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth) acryloyloxyalkyl group,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR15R16, SiR17R18(여기서, R15 내지 R18은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고, Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 15 R 16 , SiR 17 R 18 (wherein R 15 to R 18 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C 1 to
[화학식 2-1][Formula 2-1]
[화학식 2-2][Formula 2-2]
[화학식 2-3][Formula 2-3]
[화학식 2-4][Chemical Formula 2-4]
[화학식 2-5][Chemical Formula 2-5]
(상기 화학식 2-5에서,(In the above Formula 2-5,
Ra는 수소원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R a is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH = CH 2 or a phenyl group.
[화학식 2-6][Chemical Formula 2-6]
[화학식 2-7][Chemical Formula 2-7]
[화학식 2-8][Chemical Formula 2-8]
[화학식 2-9][Chemical Formula 2-9]
[화학식 2-10][Chemical Formula 2-10]
[화학식 2-11][Chemical Formula 2-11]
Z2는 산이무수물 잔기이고,Z 2 is an acid anhydride residue,
m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 4;
상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 3으로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The cadmium-based binder resin may include a functional group represented by the following formula (3) on at least one of both terminals.
[화학식 3](3)
상기 화학식 3에서,In Formula 3,
Z3은 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-7로 표시될 수 있다.Z 3 can be represented by the following formulas (3-1) to (3-7).
[화학식 3-1][Formula 3-1]
(상기 화학식 3-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(Wherein R b and R c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group or an ether group)
[화학식 3-2][Formula 3-2]
[화학식 3-3][Formula 3-3]
[화학식 3-4][Chemical Formula 3-4]
[화학식 3-5][Formula 3-5]
(상기 화학식 3-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)(Wherein R d is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a C1 to C20 alkylamine group, or a C2 to C20 alkenylamine group).
[화학식 3-6][Chemical Formula 3-6]
[화학식 3-7][Chemical Formula 3-7]
상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산디무수물, 비페닐테트라카르복실산디무수물, 벤조페논테트라카르복실산디무수물, 피로멜리틱디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산디무수물,페릴렌테트라카르복실산디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산디무수물, 테트라하이드로프탈산무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.Examples of the cationic binder resin include fluorene-containing compounds such as 9,9-bis (4-oxiranylmethoxyphenyl) fluorene; Benzene tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, perylenetetracarboxylic dianhydride , Tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrophthalic anhydride and the like; Glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol and benzyl alcohol; Propylene glycol methyl ethyl acetate, and N-methyl pyrrolidone; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; And an amine or an ammonium salt compound such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, benzyltriethylammonium chloride, or the like.
상기 카도계 바인더 수지를 전술한 아크릴계 바인더 수지와 함께 사용할 경우, 밀착력이 우수하고, 고해상도 및 고휘도 특성을 가지는 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.When the cationic binder resin is used together with the acrylic binder resin described above, a photosensitive resin composition having excellent adhesion and high resolution and high brightness characteristics can be obtained.
상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 3,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 컬러필터 제조시 잔사없이 패턴 형성이 잘 되며, 현상시 막 두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the cationic binder resin may be from 500 g / mol to 50,000 g / mol, such as from 3,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the cationic binder resin is within the above range, pattern formation is good without residue in the production of a color filter, no loss of film thickness during development, and good patterns can be obtained.
상기 카도계 바인더 수지는 100 mgKOH/g 내지 140 mgKOH/g의 산가를 가질 수 있다. The cadmium binder resin may have an acid value of from 100 mgKOH / g to 140 mgKOH / g.
상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성 및 밀착성을 얻을 수 있다.The binder resin may be contained in an amount of 1 wt% to 10 wt%, for example, 1 wt% to 7 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is contained within the above range, excellent sensitivity, developability and adhesiveness can be obtained.
광중합성Photopolymerization 화합물 compound
상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.
광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.By having the ethylenically unsaturated double bond, the photopolymerizable compound can form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern formation step.
광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethacrylate (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth) acrylate and the like.
광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of photopolymerizable compounds are as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, such as doah Gosei Kagaku Kogyo's (primary)社Aronix M-101 ®, the same M-111 ®, the same M-114 ®; KAYARAD TC-110S ® and TC-120S ® from Nihon Kayaku Co., Ltd.; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo (main)社of V-158 ®, V-2311 ®. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-210 ®, copper or the like M-240 ®, the same M-6200 ®; KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® and R-604 ® from Nihon Kayaku Corporation; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo Co., Ltd. of 社V-260 ®, V- 312 ®, V-335 HP ®. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-309 ®, the same M-400 ®, the same M-405 ®, the same M-450 ®, Dong M -710 ® , copper M-8030 ® , copper M-8060 ® and the like; Nippon Kayaku (Note)社of KAYARAD TMPTA ®, copper DPCA-20 ®, ® copper -30, -60 ® copper, copper ® -120 and the like; Osaka yukki Kayaku high (primary)社of V-295 ®, copper ® -300, -360 ® copper, copper -GPT ®, copper -3PA ®, and the like copper -400 ®. These products may be used alone or in combination of two or more.
상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be treated with an acid anhydride so as to give better developing properties.
상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 5 wt% to 15 wt%, for example, 5 wt% to 10 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above range, the pattern is formed with sufficient curing during exposure in the pattern formation process, and therefore, the pattern is excellent in heat resistance, light resistance and chemical resistance, and resolution and adhesion are excellent.
광중합Light curing 개시제Initiator
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator generally used in a photosensitive resin composition, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, a oxime compound, Can be used.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, pt Dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2- Chlorothioxanthone and the like.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho-1-yl) (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, and the like.
상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyloxime compounds, 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- ) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl- Etc. may be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin- 2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione -1-one oxime-O-acetate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime- O-acetate, and the like.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, a nonimidazole compound, or a fluorene compound in addition to the above compounds.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used in combination with a photosensitizer that generates a chemical reaction by absorbing light to be in an excited state and transferring its energy.
상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate and the like .
상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, for example, 0.1 wt% to 3 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, it is possible to obtain sufficient reliability due to sufficient curing during exposure in the pattern formation step, to have excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance, excellent resolution and adhesion, It is possible to prevent the transmittance from being lowered.
용매menstruum
상기 용매는 일 구현예에 따른 화합물, 안료, 바인더 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제 등과의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a compound having compatibility with a compound according to one embodiment, a pigment, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and the like but not reacting with the solvent.
상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisobutyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methylethylcarbitol, diethylcarbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl- ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate and butyl oxyacetate; Alkoxyacetic acid alkyl esters such as methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, and ethyl ethoxyacetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-methylpropionic acid esters such as methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy- Monooximonocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyls such as ethyl methyl propionate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and also include N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, And high boiling solvents such as ethyl acetate, diethyl oxalate, diethyl maleate,? -Butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.
이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.Among them, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and the like are preferably used in consideration of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.
상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 40 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 내 감광성 수지막 제조시 공정성이 우수하다.The solvent may be contained in an amount of from about 40% by weight to about 80% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is contained within the above range, the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, and hence the processability in the production of the photosensitive resin film in the color filter is excellent.
기타 첨가제Other additives
상기 감광성 수지 조성물은 도포시 얼룩이나 반점을 방지하고, 레벨링 성능을 개선하기 위해, 또한 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The above-mentioned photosensitive resin composition may contain at least one selected from the group consisting of malonic acid, malonic acid, and malonic acid, in order to prevent spots and spots upon application, to improve the leveling performance, 3-amino-1,2-propanediol; A silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group or an epoxy group; Leveling agents; Fluorine surfactants; A radical polymerization initiator, and the like.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane-based coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanate propyltriethoxysilane,? -Glycine (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. These may be used singly or in combination of two or more.
상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is contained within the above range, the adhesion and storage stability are excellent.
상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition may further include an epoxy compound to improve adhesion with the substrate.
상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolak epoxy compound, a tetramethylbiphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.
상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be contained in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, for example, 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is contained within the above range, the adhesiveness and storage stability are excellent.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. The above-mentioned photosensitive resin composition may further contain a surfactant for improving coatability and preventing defect formation if necessary.
상기 계면활성제로는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있고, 상기 불소계 계면활성제의 예로는 DIC社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등이 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the fluorine-based surfactant include F-482, F-484, F-478 and F-554 manufactured by DIC Corporation, but the present invention is not limited thereto.
상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is contained within the above range, uniformity of coating is ensured, no staining occurs, and wetting of the glass substrate is excellent.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.The photosensitive resin composition may contain a certain amount of other additives such as an antioxidant and a stabilizer within a range that does not impair the physical properties.
또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다. According to another embodiment, there is provided a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern forming process in the color filter is as follows.
상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판 상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. Applying the photosensitive resin composition on a support substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing or the like; Drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; Exposing the photosensitive resin composition film; Developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to produce a photosensitive resin film; And a step of heat-treating the photosensitive resin film. The process conditions and the like are well known in the art, and therefore, detailed description thereof will be omitted herein.
이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following Examples are only the preferred embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following Examples.
(화합물의 합성)(Synthesis of Compound)
합성예Synthetic example 1: 화학식 1-1로 표시되는 화합물의 합성 1: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-1
2,3,3-Trimethylindolenine에 1.5 당량의 2-iodoethanol을 넣고 toluene 용매 하에서 18시간 동안 환류하여 중간체 1을 얻었다. 얻어진 중간체 1에 1 당량의 N,N'-Diphenylformamidine과 1 당량의 triethyl orthoformate를 넣고 ethanol 용매 하에서 16시간 동안 환류하여 중간체 2를 얻었다.1.5 equivalents of 2-iodoethanol was added to 2,3,3-trimethylindolenine and refluxed for 18 hours in toluene solvent to obtain intermediate 1. One equivalent of N, N'-diphenylformamidine and one equivalent of triethyl orthoformate was added to Intermediate 1 obtained and refluxed for 16 hours in an ethanol solvent to obtain Intermediate 2.
2,3,3-Trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid에 1.5 당량의 1-iodobutane을 넣고, 상기 중간체 2의 제조 조건과 동일하게 반응시켜 중간체 3를 얻는다.1.5 equivalents of 1-iodobutane are added to 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid, and the reaction is carried out in the same manner as in the preparation of Intermediate 2 to obtain Intermediate 3.
상기 중간체 2와 2 당량의 중간체 3에 10배의 pyridine과 10 당량의 acetic anhydride을 넣고 반응하여 시아닌 형태의 중간체 4를 얻고, 이를 cyanoethyl methacrylate와 반응시켜, 총 30%의 수율로 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물(Maldi-tof MS: 627.8 m/z)을 얻었다.10 equivalents of pyridine and 10 equivalents of acetic anhydride were added to the intermediate 2 and 2 equivalents of the intermediate 3 to obtain a cyanine intermediate 4, which was reacted with cyanoethyl methacrylate to give a total yield of 30% (Maldi-tof MS: 627.8 m / z) was obtained.
합성예Synthetic example 2: 화학식 1-2로 표시되는 화합물의 합성 2: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-2
합성예 1에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid 및 1-iodobutane 대신에 2,3,3-Trimethylindolenine 및 4-bromobutanoic acid를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일하게 하여, 총 34% 수율로 하기 화학식 1-2로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 2,3,3-trimethylindolenine and 4-bromobutanoic acid were used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid and 1-iodobutane in Synthesis Example 1 Thereby obtaining a compound represented by the following formula (1-2) in a total yield of 34%.
[화학식 1-2][Formula 1-2]
Maldi-tof MS: 613.8 m/zMald-tof MS: 613.8 m / z
합성예Synthetic example 3: 화학식 1-3으로 표시되는 화합물의 합성 3: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-3
합성예 1에서 4-bromobutanoic acid 대신에 5-bromovaleric acid를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일하게 하여, 총 39% 수율로 하기 화학식 1-3으로 표시되는 화합물을 얻었다.A compound represented by the following Formula 1-3 was obtained in a total yield of 39% in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 5-bromovaleric acid was used instead of 4-bromobutanoic acid in Synthesis Example 1.
[화학식 1-3][Formula 1-3]
Maldi-tof MS: 627.8 m/zMald-tof MS: 627.8 m / z
합성예Synthetic example 4: 화학식 1-4로 표시되는 화합물의 합성 4: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-4
합성예 1에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid 대신에 potassium 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-sulfonate를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일하게 하여, 총 41% 수율로 하기 화학식 1-4로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that potassium 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-sulfonate was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid in Synthesis Example 1 To obtain a compound represented by the following formula (1-4) in a total yield of 41%.
[화학식 1-4][Formula 1-4]
Maldi-tof MS: 663.8 m/zMald-tof MS: 663.8 m / z
합성예Synthetic example 5: 화학식 1-5로 표시되는 화합물의 합성 5: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-5
합성예 1에서 2,3,3-Trimethylindolenine 대신에 2-methylbenzoxazole을 사용하고, 2,3,3-Trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid 대신에 2-methyl-1,3-benzoxazole-6-sulfonic acid를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일하게 하여, 총 34% 수율로 하기 화학식 1-5로 표시되는 화합물을 얻었다.2-methylbenzoxazole was used instead of 2,3,3-trimethylindolenine in Synthesis Example 1 and 2-methyl-1,3-benzoxazole-6-carboxylic acid was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H- sulfonic acid was used in the same manner as in Synthesis Example 1, the compound represented by the following Formula 1-5 was obtained in a total yield of 34%.
[화학식 1-5][Formula 1-5]
Maldi-tof MS: 611.7 m/zMald-tof MS: 611.7 m / z
합성예Synthetic example 6: 화학식 1-6으로 표시되는 화합물의 합성 6: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-6
합성예 1에서 2,3,3-Trimethylindolenine 대신에 2-methylbenzothiazole을 사용하고, 2,3,3-Trimethyl-3H-indole-5-carboxylic acid 대신에 2-methyl-1,3-benzothiazole-6-sulfonic acid를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일하게 하여, 총 31%의 수율로 하기 화학식 1-6으로 표시되는 화합물을 얻었다.2-methylbenzothiazole was used instead of 2,3,3-trimethylindolenine in Synthesis Example 1, and 2-methyl-1,3-benzothiazole-6-carboxylic acid was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H- sulfonic acid was used in the same manner as in Synthesis Example 1, the compound represented by the following Formula 1-6 was obtained in a total yield of 31%.
[화학식 1-6][Chemical Formula 1-6]
Maldi-tof MS: 643.8 m/zMald-tof MS: 643.8 m / z
합성예Synthetic example 7: 화학식 1-7로 표시되는 화합물의 합성 7: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-7
합성예 2에서 4-bromobutanoic acid 대신에 1,3-propanesultone을 사용한 것을 제외하고는 합성예 2와 동일하게 하여, 총 42%의 수율로 하기 화학식 1-7로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 2 except that 1,3-propanesultone was used instead of 4-bromobutanoic acid in Synthesis Example 2, a compound represented by the following Formula 1-7 was obtained in a total yield of 42%.
[화학식 1-7][Chemical Formula 1-7]
Maldi-tof MS: 649.8 m/zMald-tof MS: 649.8 m / z
합성예Synthetic example 8: 화학식 1-8로 표시되는 화합물의 합성 8: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-8
합성예 7에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indolenine 대신에 2-methylbenzoxazole을 사용한 것을 제외하고는 합성예 7과 동일하게 하여, 총 37%의 수율로 하기 화학식 1-8로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 7 except that 2-methylbenzoxazole was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indolenine in Synthesis Example 7, the compound represented by the following Formula 1-8 was obtained in a total yield of 37% .
[화학식 1-8][Chemical Formula 1-8]
Maldi-tof MS: 623.7 m/zMald-tof MS: 623.7 m / z
합성예Synthetic example 9: 화학식 1-9로 표시되는 화합물의 합성 9: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-9
합성예 7에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indolenine 대신에 2-methylbenzothiazole을 사용한 것을 제외하고는 합성예 7과 동일하게 하여, 총 35%의 수율로 하기 화학식 1-9로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 7, except that 2-methylbenzothiazole was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indolenine in Synthesis Example 7, the compound represented by the following Formula 1-9 was obtained in a total yield of 35% .
[화학식 1-9][Chemical Formula 1-9]
Maldi-tof MS: 639.8 m/zMald-tof MS: 639.8 m / z
합성예Synthetic example 10: 화학식 1-10으로 표시되는 화합물의 합성 10: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-10
합성에 7에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indolenine 대신에 2,3,3,5-Tetramethylindolenine을 사용한 것을 제외하고는 합성예 7과 동일하게 하여, 총 43%의 수율로 하기 화학식 1-10으로 표시되는 화합물을 얻었다.Synthesis Example 7 was repeated except that 2,3,3,5-Tetramethylindolenine was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indolenine in Synthesis 7 to obtain the compound represented by Formula 1- 10 was obtained.
[화학식 1-10][Chemical Formula 1-10]
Maldi-tof MS: 663.8 m/zMald-tof MS: 663.8 m / z
합성예Synthetic example 11: 화학식 1-11로 표시되는 화합물의 합성 11: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-11
합성예 7에서 2,3,3-Trimethyl-3H-indolenine 대신에 1,1,2-Trimethyl-1H-benz[e]indole을 사용한 것을 제외하고는 합성예 7과 동일하게 하여, 총 27%의 수율로 하기 화학식 1-11로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 7 except that 1,1,2-trimethyl-1H-benz [e] indole was used instead of 2,3,3-trimethyl-3H-indolenine in Synthesis Example 7, a total of 27% The compound represented by the following formula 1-11 was obtained in the yield.
[화학식 1-11][Formula 1-11]
Maldi-tof MS: 699.9 m/zMaldi-tof MS: 699.9 m / z
합성예Synthetic example 12: 화학식 1-12로 표시되는 화합물의 합성 12: Synthesis of Compound Represented by Formula 1-12
디메틸포름아미드 4.0 g, 클로로포름 70 g을 반응기에 투입하고 0℃ 상에서 냉각 교반하였다. 혼합물의 액체의 온도가 12℃를 초과하지 않도록 염화티오닐 5.0 g을 적가하고 0℃ 상에서 30 분간 교반하였다. 상온에서 합성예 7의 화학식 1-7 화합물 10 g을 천천히 첨가하고, 35℃ 상에서 3 시간 교반하였다. 그리고 염화티오닐 0.6 g을 추가한 후 35℃ 상에서 1.5 시간 교반하였다. 반응액을 다시 냉각하고 12℃를 초과하지 않도록 트리플루오로메탄 설폰아미드 7.3 g을 천천히 투입하고, 계속해서 트리에틸아민 12.3 g을 적가한 후 상온에서 14 시간 교반하였다. 불용물을 여과에 의해 제거하고 반응 용매는 감압 하에서 제거하였다. 물 100 g을 투입하고 15% 탄산나트륨 수용액을 적가하여 pH 7.0 ~ 7.5을 유지하면서 1시간 동안 현탁액을 교반하였다. 100 g의 다이클로로메탄을 이용하여 하기 화학식 1-12로 표시되는 화합물을 추출하고 다이클로로메탄/메탄올(15/1) 혼합액을 이용하여 컬럼 정제하였다. 유기 용매을 제거하고 건조하여 하기 화학식 1-12로 표시되는 화합물 6.1 g을 얻었다.4.0 g of dimethylformamide and 70 g of chloroform were placed in a reactor and the mixture was cooled and stirred at 0 ° C. 5.0 g of thionyl chloride was added dropwise so that the temperature of the liquid of the mixture did not exceed 12 캜, and the mixture was stirred at 0 캜 for 30 minutes. 10 g of the compound of the formula 1-7 in Synthesis Example 7 was slowly added at room temperature, and the mixture was stirred at 35 캜 for 3 hours. 0.6 g of thionyl chloride was added thereto, and the mixture was stirred at 35 DEG C for 1.5 hours. The reaction solution was cooled again, and 7.3 g of trifluoromethanesulfonamide was slowly added thereto so that the temperature did not exceed 12 ° C. Then, 12.3 g of triethylamine was added dropwise thereto, followed by stirring at room temperature for 14 hours. Insolubles were removed by filtration and the reaction solvent was removed under reduced pressure. 100 g of water was added, and 15% aqueous sodium carbonate solution was added dropwise thereto, and the suspension was stirred for 1 hour while maintaining the pH at 7.0 to 7.5. The compound represented by the following formula 1-12 was extracted using 100 g of dichloromethane and subjected to column purification using a dichloromethane / methanol (15/1) mixed solution. The organic solvent was removed and dried to obtain 6.1 g of a compound represented by the following formula 1-12.
[화학식 1-12][Formula 1-12]
Maldi-tof MS: 780.9 m/zMald-tof MS: 780.9 m / z
비교 compare 합성예Synthetic example 1: 화학식 C-1로 표시되는 화합물 1: A compound represented by the formula C-1
1,1'-Diethyl-3,3,3',3'-tetramethylindocarbocyanine Iodide (CAS No. 14696-39-0) / TCI / 제품코드 A26841,1'-Diethyl-3,3,3 ', 3'-tetramethylindocarbocyanine Iodide (CAS No. 14696-39-0) / TCI / product code A2684
[화학식 C-1][Chemical formula C-1]
비교 compare 합성예Synthetic example 2: 화학식 C-2로 표시되는 화합물의 합성 2: Synthesis of the compound represented by the formula C-2
합성예 1과 동일한 방법으로 합성하며, 2,3,3-Trimethylindolenine에 1.5 당량의 1-iodobutane을 넣고 toluene 용매 하에서 18시간 동안 환류하여 중간체 1을 얻는다. 얻어진 중간체 1에 당량의 N,N'-Diphenylformamidine과 당량의 triethyl orthoformate를 넣고 ethanol 용매 하에서 16시간 동안 환류하여 중간체 2를 얻는다.Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, 1.5-equivalent of 1-iodobutane was added to 2,3,3-trimethylindolenine and refluxed in a toluene solvent for 18 hours to obtain Intermediate 1. To the obtained intermediate 1, an equivalent amount of N, N'-diphenylformamidine and an equivalent amount of triethyl orthoformate are added, and reflux is carried out in an ethanol solvent for 16 hours to obtain intermediate 2.
2,3,3-Trimethylindolenine에 1.5 당량의 1,3-propanesultone을 넣고, 상기 중간체 2의 제조 조건과 동일하게 반응시켜 중간체 3를 얻는다.1.5 equivalent of 1,3-propanesultone was added to 2,3,3-trimethylindolenine and the reaction was carried out in the same manner as in the preparation of Intermediate 2 to obtain Intermediate 3.
중간체 2와 2 당량의 중간체 3에 10배의 pyridine과 10 당량의 acetic anhydride을 넣고 반응하여 총 41%의 수율로 하기 화학식 C-2로 표시되는 화합물을 얻었다.Intermediate 2 and 2 equivalents of Intermediate 3 were charged with 10 times pyridine and 10 equivalents of acetic anhydride and reacted to give the compound represented by the formula C-2 in a total yield of 41%.
[화학식 C-2][Chemical formula C-2]
Maldi-tof MS: 506.2 m/zMald-tof MS: 506.2 m / z
비교 compare 합성예Synthetic example 3: 화학식 C-3으로 표시되는 화합물의 합성 3: Synthesis of the compound represented by the formula C-3
비교 합성예 2에서 2,3,3-Trimethylindolenine 대신에 potassium 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-sulfonate를 사용한 것을 제외하괴는 비교 합성예 2와 동일하게 하여, 총 21% 수율로 하기 화학식 C-3으로 표시되는 화합물을 얻었다.Except that potassium 2,3,3-trimethyl-3H-indole-5-sulfonate was used in place of 2,3,3-trimethylindolenine in Comparative Synthesis Example 2, the same procedure as in Comparative Synthesis Example 2 was conducted to give a total yield of 21% To obtain a compound represented by the following formula (C-3).
[화학식 C-3][Formula C-3]
Maldi-tof MS: 520.2 m/zMald-tof MS: 520.2 m / z
(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of photosensitive resin composition)
실시예Example 1 One
하기 언급된 구성성분들을 하기 표 1에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The photosensitive resin composition according to Example 1 was prepared by mixing the following components in the compositions shown in Table 1 below.
구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 아크릴계 바인더 수지 및 광중합성 화합물을 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제로서 화학식 1-1로 표시되는 화합물(염료) 및 안료(안료분산액 형태)를 넣고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, a photopolymerization initiator was dissolved in a solvent and stirred at room temperature for 2 hours. Then, an acrylic binder resin and a photopolymerizable compound were added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Subsequently, a compound (dye) represented by the formula (1-1) and a pigment (in the form of a pigment dispersion) were added to the obtained reaction product as a colorant and stirred at room temperature for 1 hour. Then, the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.
분자량(Mw)=22,000g/mol
(A): 메타크릴산
(B): 벤질메타크릴레이트(A) / (B) = 15/85 (w / w),
Molecular weight (Mw) = 22,000 g / mol
(A): methacrylic acid
(B): benzyl methacrylate
실시예Example 2 2
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the general formula (1-2) was used in place of the compound represented by the general formula (1-1).
실시예Example 3 3
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by Formula 1-3 was used instead of the compound represented by Formula 1-1.
실시예Example 4 4
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-4로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by Formula 1-4 was used in place of the compound represented by Formula 1-1.
실시예Example 5 5
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-5로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by Formula (1-5) was used in place of the compound represented by Formula (1-1).
실시예Example 6 6
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-6으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by Formula 1-6 was used instead of the compound represented by Formula 1-1.
실시예Example 7 7
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-7로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by Formula 1-7 was used instead of the compound represented by Formula 1-1.
실시예Example 8 8
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-8로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the general formula (1-8) was used instead of the compound represented by the general formula (1-1).
실시예Example 9 9
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-9로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the general formula (1-9) was used instead of the compound represented by the general formula (1-1).
실시예Example 10 10
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-10으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by Formula 1-10 was used in place of the compound represented by Formula 1-1.
실시예Example 11 11
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-11로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the formula (1-11) was used in place of the compound represented by the formula (1-1).
실시예Example 12 12
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 1-12로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by Formula 1-12 was used instead of the compound represented by Formula 1-1.
비교예Comparative Example 1 One
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 C-1로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the formula (C-1) was used in place of the compound represented by the formula (1-1).
비교예Comparative Example 2 2
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 C-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the formula C-2 was used instead of the compound represented by the formula 1-1.
비교예Comparative Example 3 3
화학식 1-1로 표시되는 화합물 대신 화학식 C-3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the formula C-3 was used instead of the compound represented by the formula 1-1.
평가 1: 전압 보전율 측정Evaluation 1: Measurement of Voltage Conservation Rate
전압 보전율(VHR)을 측정하기 위해 Cell을 제작하였다. 구체적으로, ITO가 패터닝되어 있는 유리판 위에 실시예 7 내지 실시예 12 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물을 각각 코팅하여 노광, 현상 및 베이킹을 한 다음, ITO가 패터닝되어 있는 유리판을 그 위에 덮어 봉지(sealing)한다. 그 다음 유리판 사이의 틈을 액정으로 채워 cell을 제작하였다.Cells were fabricated to measure voltage preservation rate (VHR). Specifically, the photosensitive resin compositions according to Examples 7 to 12 and Comparative Examples 1 to 3 were coated on a glass plate on which ITO was patterned, exposed, developed and baked, and then a glass plate on which ITO was patterned And then covered and sealed. Then, the gap between the glass plates was filled with liquid crystal to prepare a cell.
상기 cell의 두 전극에 직류로 전압을 0.5V 내지 3V까지 걸어서 결과를 확인하고, 1V로 고정한 상태에서 교류로 60Hz 내지 120Hz로 주파수를 변화시키면서 상온(25℃) 및 60℃에서의 전압 보전율(VHR)을 측정하여, 그 결과를 하기 표 2 및 도 1에 나타내었다.The results were confirmed by applying a direct current voltage of 0.5 V to 3 V to the two electrodes of the cell. The voltage was maintained at 1 V and the frequency was changed from 60 Hz to 120 Hz by alternating current. The voltage was maintained at room temperature (25 ° C) ) Were measured, and the results are shown in Table 2 and Fig.
상기 표 2 및 도 1로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하는 실시예 7 내지 실시예 12는 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하지 않는 비교예 1 내지 비교예 3보다 높은 전압 보전율(VHR)을 가짐을 확인할 수 있다.From Table 2 and FIG. 1, it can be seen that Examples 7 through 12, which include the compounds according to one embodiment as dyes, have higher voltage holding ratios than Comparative Examples 1 through 3, (VHR).
평가 2: 내열성 측정Evaluation 2: Heat resistance measurement
탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 12 및 비교예 1 내지 비교예 3에서 제조한 감광성 수지 조성물을 스핀 코터를 이용하여 유리 기판에서 250rpm 내지 350rpm의 조건으로 코팅한 뒤, 90℃의 열판(hot plate)에서 프리베이킹을 진행하였다. 그 후 노광기에서 50mJ/cm2의 조건으로 전면 노광을 진행한 뒤, 현상기에서 111배 KOH 현상액을 이용하여 수세액/현상액=1/0.8의 조건에서 60초 현상, 60초 수세를 진행하여 현상이력을 주었다. 현상 후 230℃/20분 오븐(oven)에서 포스트베이킹을 진행하여 색 시편(Color chip)을 제작 완료하였다. 상기 제작된 색시편을 추가로 컨백션 오븐을 이용하여 230℃/60분 처리한 후에, 처리 전과 처리 후의 색 변화를 MCPD(오츠카社) 장비를 이용하여 C광원 기준 색 특성을 평가하였고, 그 결과를 △Eab* 값을 계산하여, 하기 표 3에 나타내었다.The photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 3 was coated on a glass substrate having a thickness of 1 mm to a thickness of 1 m to 3 m using a spin coater After coating at 250 rpm to 350 rpm, pre-baking was carried out on a hot plate at 90 ° C. Then, the entire exposure was carried out under the condition of 50 mJ / cm 2 in the exposure machine, and development was carried out in a development machine using a 111-fold KOH developer under the condition of washing solution / developing solution = 1 / 0.8 for 60 seconds and 60 seconds, . After development, post-baking was performed in an oven at 230 ° C for 20 minutes to prepare a color chip. The prepared color sample was further treated at 230 DEG C for 60 minutes using a convection oven, and the color change before and after the treatment was evaluated using the MCPD (Otsuka) Was calculated, and the results are shown in Table 3 below.
상기 표 3으로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하는 실시예 1 내지 실시예 12의 감광성 수지 조성물이 상기 화합물을 염료로 포함하지 않은 비교예 1 내지 비교예 3의 감광성 수지 조성물보다 우수한 내열성을 가짐을 확인할 수 있다. From the above Table 3, it can be seen that the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 12 containing the compound according to one embodiment as a dye have better heat resistance than those of the photosensitive resin compositions of Comparative Examples 1 to 3, As shown in Fig.
이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And it goes without saying that the invention belongs to the scope of the invention.
Claims (18)
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-CR6R7-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고, 상기 R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R1, R2 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고,
상기 R1 및 R2는 서로 결합하여 고리를 이룰 수 있고,
R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고,
단, 상기 R3 및 R4 중 어느 하나는 반드시 음이온 또는 말단에 상기 음이온을 포함하는 C1 내지 C20 알킬기이고, 다른 하나는 반드시 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
A compound represented by the following formula (1):
[Chemical Formula 1]
In Formula 1,
X 1 and X 2 are each independently * -CR 6 R 7 - *, * -O- * or * -S- *, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 To C10 alkyl group,
R 1 , R 2 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group,
R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring,
R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof,
Provided that any one of R 3 and R 4 is an anion or a C1 to C20 alkyl group containing an anion at the terminal thereof and the other is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
L 1 and L 2 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.
상기 음이온은 하기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 화합물.
[화학식 A-1]
[화학식 A-2]
[화학식 A-3]
The method according to claim 1,
Wherein the anion is represented by any one of the following formulas (A-1) to (A-3).
[A-1]
[A-2]
[A-3]
상기 R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
상기 R4는 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온인 화합물.
3. The method of claim 2,
R 3 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
Wherein R 4 is an anion represented by any one of formulas A-1 to A-3.
상기 R4는 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온인 화합물.
The method of claim 3,
Wherein R < 4 > is an anion represented by the above formula (A-2) or (A-3).
상기 R4는 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온인 화합물.
5. The method of claim 4,
And R < 4 > is an anion represented by the above formula (A-3).
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-1 내지 화학식 A-3 중 어느 하나로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
상기 R4는 수소 원자인 화합물.
3. The method of claim 2,
R 3 is an anion-substituted C 1 to C 20 alkyl group represented by any one of the above-mentioned formulas A-1 to A- 3 at the terminal,
Wherein R < 4 > is a hydrogen atom.
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-2 또는 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기인 화합물.
The method according to claim 6,
And R 3 is a C1 to C20 alkyl group substituted at the terminal thereof with an anion represented by the above formula (A-2) or (A-3).
상기 R3은 말단에 상기 화학식 A-3으로 표시되는 음이온이 치환된 C1 내지 C20 알킬기인 화합물.
8. The method of claim 7,
And R 3 is a C1 to C20 alkyl group substituted with an anion represented by the above formula (A-3) at the terminal.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-12 중 어느 하나로 표시되는 화합물.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-6]
[화학식 1-7]
[화학식 1-8]
[화학식 1-9]
[화학식 1-10]
[화학식 1-11]
[화학식 1-12]
The method according to claim 1,
The compound represented by the formula (1) is represented by any one of the following formulas (1-1) to (1-12).
[Formula 1-1]
[Formula 1-2]
[Formula 1-3]
[Formula 1-4]
[Formula 1-5]
[Chemical Formula 1-6]
[Chemical Formula 1-7]
[Chemical Formula 1-8]
[Chemical Formula 1-9]
[Chemical Formula 1-10]
[Formula 1-11]
[Formula 1-12]
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 450nm 내지 780nm의 파장범위에서 최대 흡광도를 가지는 화합물.
The method according to claim 1,
Wherein the compound represented by Formula 1 has a maximum absorbance in a wavelength range of 450 nm to 780 nm.
A photosensitive resin composition comprising the compound of any one of claims 1 to 10 as a dye in a colorant.
상기 염료는 적색 염료, 바이올렛 염료 또는 황색 염료인 감광성 수지 조성물.
12. The method of claim 11,
Wherein the dye is a red dye, a violet dye or a yellow dye.
상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
12. The method of claim 11,
The photosensitive resin composition further comprises a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
14. The method of claim 13,
Wherein the binder resin comprises an acrylic binder resin, a carcass binder resin or a combination thereof.
상기 착색제는 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
14. The method of claim 13,
Wherein the coloring agent further comprises a pigment.
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 착색제 5 중량% 내지 30 중량%;
상기 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 광중합성 화합물 5 중량% 내지 15 중량%;
상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및
상기 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
16. The method of claim 15,
The photosensitive resin composition preferably contains, relative to the total amount of the photosensitive resin composition,
5% to 30% by weight of the colorant;
1% by weight to 10% by weight of the binder resin;
5 wt% to 15 wt% of the photopolymerizable compound;
0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator and
The solvent balance
.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합 개시제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
14. The method of claim 13,
The photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent comprising malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a vinyl group or a (meth) acryloxy group, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, .
Priority Applications (1)
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