KR101994676B1 - Method of organic light emitting diode display device - Google Patents

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허준영
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    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources

Abstract

유기발광 다이오드 표시장치는 캐소드 접촉 전극 상부에 유기 막 층을 미리 형성하여 상기 캐소드 접촉 전극에 직접 정공 주입 층이 접촉되지 않도록 하고, 상기 유기 막 층을 제거하여 캐소드 전극과 상기 캐소드 접촉 전극이 바로 접촉할 수 있다. In the organic light emitting diode display device, an organic film layer is formed in advance on the cathode contact electrode so that the hole injection layer does not directly contact the cathode contact electrode, and the organic film layer is removed, can do.

Description

유기발광다이오드 표시장치의 제조 방법 {METHOD OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED)

본 발명은 유기발광다이오드 표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting diode display.

최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display: 이하 "LCD"라 한다), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display: FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: 이하 "PDP"라 한다) 및 전계발광장치(Electroluminescence Device) 등이 있다.2. Description of the Related Art Recently, various flat panel display devices capable of reducing weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes (CRTs), have been developed. Such a flat panel display device includes a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP) And a light emitting device (Electroluminescence Device).

PDP는 구조와 제조공정이 단순하기 때문에 경박단소하면서도 대화면화에 가장 유리한 표시장치로 주목받고 있지만 발광효율과 휘도가 낮고 소비전력이 큰 단점이 있다. TFT LCD(Thin Film Transistor LCD)는 가장 널리 사용되고 있는 평판표시소자이지만 시야각이 좁고 응답속도가 낮은 문제점이 있다. 전계발광장치는 발광층의 재료에 따라 무기발광다이오드 표시장치와 유기발광다이오드 표시장치로 대별되며, 이 중 유기발광다이오드 표시장치는 스스로 발광하는 자발광소자로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다.PDP has attracted attention as a display device that is most advantageous for large screen size but small size because of its simple structure and manufacturing process, but it has disadvantage of low luminous efficiency, low luminance and high power consumption. Thin Film Transistor LCD (TFT LCD) is the most widely used flat panel display device, but has a narrow viewing angle and low response speed. The electroluminescence device is divided into an inorganic light emitting diode display device and an organic light emitting diode display device according to the material of the light emitting layer. Of these organic light emitting diode display devices, self light emitting devices are self light emitting devices, There is a big advantage.

한편 유기발광다이오드 표시장치는 자체 발광을 위해 유기발광다이오드 소자(OLED)를 가진다. 유기발광다이오드 소자(OLED)는 애노드와 캐소드 사이에 형성된 유기 화합물 층을 구비한다. 유기 화합물층은 정공 주입 층(HIL, Hole Injection layer), 정공 전달 층(HTL, Hole transport layer), 발광층(EML, Emission layer), 전자 전달 층(ETL, Electron transport layer) 및 전자 주입 층(EIL, Electron Injection layer)을 포함한다. 유기발광다이오드 소자의 발광 원리는 애노드(Anode)와 캐소드(Cathode)에 구동전압이 인가 되어 정공 전달 층(HTL)을 통과한 정공과 전자 전달 층(ETL)을 통과한 전자가 발광층(EML)에서 결합되어 여기자를 형성하고, 이 여기자가 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어지면서 가시광을 발생하게 된다. 상기 정공 전달 층과 상기 전자 전달 층은 상기 정공과 상기 전자가 효율적으로 이동할 수 있도록 하여 발광 효율을 향상시킬 수 있다. 아래 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법에 대하여 살펴본다.Meanwhile, the organic light emitting diode display device has an organic light emitting diode (OLED) device for self-emission. The organic light emitting diode (OLED) has an organic compound layer formed between the anode and the cathode. The organic compound layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL) Electron Injection layer). The driving principle of the organic light emitting diode device is that a driving voltage is applied to an anode and a cathode, electrons passing through the hole transport layer (HTL) and electrons passing through the electron transport layer (ETL) To form excitons, which emit visible light as they fall from the excited state to the ground state. The hole transport layer and the electron transport layer can improve the luminous efficiency by allowing the holes and the electrons to move efficiently. A manufacturing method of the organic light emitting diode display device will be described below.

도 1은 종래의 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 유기 발광 다이오드 표시장치의 평면도이다.1 is a plan view of an organic light emitting diode display device for explaining a conventional method of manufacturing an organic light emitting diode display device.

도 1을 참조하면, 기판(1) 상부에 정공 주입 층(2), 상기 정공 주입 층(2) 상부에 정공 전달 층(3), 상기 정공 전달 층(3) 상부에 유기 발광 층(6), 상기 유기 발광 층(6) 상부에 전자 전달 층(12), 상기 전자 전달 층(12) 상부에 전자 주입 층(13)이 형성될 수 있다.1, a hole injecting layer 2 is formed on a substrate 1, a hole transporting layer 3 is formed on the hole injecting layer 2, an organic light emitting layer 6 is formed on the hole transporting layer 3, An electron transport layer 12 may be formed on the organic light emitting layer 6 and an electron injection layer 13 may be formed on the electron transport layer 12.

도 2 및 도3은 종래의 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.FIGS. 2 and 3 are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device for illustrating a method of manufacturing a conventional organic light emitting diode display device.

도 2를 참조하면, 기판(1) 상부에 애노드 전극(5) 및 캐소드 접촉 전극(Cathode Contact Electrode, 4)이 형성되고 상기 기판(1) 상부 전면에 정공 주입 층(2) 및 정공 전달 층(3)이 형성될 수 있다. 상기 기판(1) 상부 전면에 상기 정공 주입 층(2) 및 정공 전달 층(3)이 형성할 때, 상기 애노드 전극(5)뿐만 아니라 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역까지 상기 정공 주입 층(2) 및 상기 정공 전달 층(3)이 형성이 될 수 있다.2, an anode electrode 5 and a cathode contact electrode 4 are formed on a substrate 1 and a hole injecting layer 2 and a hole transporting layer 3) may be formed. When the hole injection layer 2 and the hole transport layer 3 are formed on the entire upper surface of the substrate 1 as well as the anode electrode 5 and the cathode contact electrode 4, 2) and the hole transport layer 3 may be formed.

도 3을 참조하면, 상기 애노드 전극(5)은 양극이 되고 상기 캐소드 전극(미도시)는 음극이 될 수 있다. 상기 양극과 음극 사이의 전기가 걸리면 상기 양극에서 정공(Hole)이 상기 음극 방향으로 이동하고 상기 음극에서 전자(Electron)가 상기 양극 방향으로 이동하여 상기 양극과 음극 사이의 유기 발광 층(6)에서 재결합하면서 엑시톤(Exiton)이 형성되어 빛을 낼 수 있다. 그런데 상기 캐소드 전극(미도시)을 상기 기판(1)에 형성할 때 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부에 상기 전자 주입 층(2) 및 전자 전달 층(3) 등이 형성이 되어 상기 캐소드 전극(미도시)과 상기 캐소드 접촉 전극(4)을 바로 연결 시킬 수가 없다.Referring to FIG. 3, the anode electrode 5 may be an anode and the cathode electrode (not shown) may be a cathode. When electricity is applied between the anode and the cathode, holes move in the cathode direction from the anode, electrons move in the anode direction from the cathode, and the organic light emitting layer (6) between the anode and the cathode Exitons can be formed and recombined to emit light. When the cathode electrode (not shown) is formed on the substrate 1, the electron injection layer 2 and the electron transport layer 3 are formed on the cathode contact electrode 4, And the cathode contact electrode 4 can not be directly connected to each other.

따라서 이 경우 건식 에칭 공정 등을 통하여 상기 애노드 전극(5)을 제외한 나머지 영역에 형성된 상기 정공 주입 층(2) 및 상기 정공 전달 층(3)을 제거할 필요가 있다. 이처럼 건식 에칭 공정 등을 통하여 상기 정공 주입 층(2) 및 상기 정공 전달 층(3) 등을 제거하는 경우 유기발광다이오드 표시장치의 전체 제조 공정이 복잡해지고 수율이 저하되며, 상기 정공 주입 층(2) 및 상기 정공 전달 층(3)을 제거 함에 있어서 상기 애노드 전극(5)에 손상이 가는 문제가 있다.Therefore, in this case, it is necessary to remove the hole injection layer 2 and the hole transport layer 3 formed in the remaining region except for the anode electrode 5 through a dry etching process or the like. When the hole injection layer 2 and the hole transport layer 3 are removed through a dry etching process or the like, the entire manufacturing process of the organic light emitting diode display device is complicated and the yield is reduced. And the anode electrode 5 is damaged when the hole transport layer 3 is removed.

본 발명은 캐소드 접촉 전극 상부에 유기 막 층을 미리 형성하여 상기 캐소드 접촉 전극에 직접 정공 주입 층 등이 접촉되지 않도록 하고, 추후 상기 유기 막 층을 제거하여 캐소드 전극과 상기 캐소드 접촉 전극이 바로 접촉할 수 있도록 한 발명이다. The organic film layer is formed in advance on the cathode contact electrode so that the hole injection layer or the like is not brought into direct contact with the cathode contact electrode and the organic film layer is subsequently removed so that the cathode electrode and the cathode contact electrode are in direct contact with each other .

실시 예는 기판에 제1 전극 및 제2 전극 접촉 전극을 형성하는 단계; 상기 기판상에 유기 막 층을 형성하는 단계; 상기 기판상에 유기 화합물 층을 형성하는 단계; 및 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계를 제공한다.Embodiments may include forming a first electrode and a second electrode contact electrode on a substrate; Forming an organic film layer on the substrate; Forming an organic compound layer on the substrate; And removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-contacting electrode.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층은 열에 의하여 경화되는 물질인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device, wherein the organic film layer is a material that is cured by heat.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층의 접착력은 상기 기판과 상기 유기 막 층의 접착력보다 큰 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, an adhesive force between the organic film layer and the organic compound layer is greater than an adhesive force between the substrate and the organic film layer.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층을 형성하는 단계는, 상기 기판상에 상기 유기 막 층, 열 흡수 층 및 필름을 코팅하는 단계; 상기 필름의 영역 중에서 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역에 레이저를 조사하여 상기 유기 막 층을 상기 기판에 부착시키는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.The forming of the organic film layer may include: coating the organic film layer, the heat absorbing layer and the film on the substrate; And irradiating a region of the film corresponding to the second electrode-contacting electrode with a laser to attach the organic film layer to the substrate.

실시 예에 따르면 상기 열 흡수 층은 열을 흡수하여 부피가 팽창하는 물질로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device in which the heat absorbing layer is made of a material that absorbs heat and expands in volume.

실시 예에 따르면 상기 열 흡수 층은, 카본 블랙(Carbon Black), 금속 산화물(Metal Oxide) 및 염료(Dye) 들 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the heat absorbing layer is formed of at least one of carbon black, metal oxide, and dye.

실시 예에 따르면 상기 기판상에 제2 전극을 형성하여 상기 제2 전극 접촉 전극과 연결시키는 단계를 더 포함하는 유기발광 다이오드 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode, further comprising forming a second electrode on the substrate and connecting the second electrode to the second electrode contact electrode.

실시 예에 따르면 상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극인 유기발광 다이오드 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.

실시 예에 따르면 상기 유기 화합물 층은, 정공 주입 층, 정공 전달 층, 유기 발광 층, 전자 전달 층 및 전자 주입 층을 포함하는 유기발광 다이오드 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the organic compound layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

실시 예에 따른 유기발광 다이오드 제조 방법은 제1 기판에 제1 전극 및 제2 전극 접촉 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판상에 제2 전극을 형성하는 단계; 상기 제2 기판상에 유기 막 층을 형성하는 단계; 상기 제2 기판 상에 유기 화합물 층을 형성하는 단계; 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계를 제공한다.A method of fabricating an organic light emitting diode according to an embodiment includes forming a first electrode and a second electrode contact electrode on a first substrate; Forming a second electrode on a second substrate opposite to the first substrate; Forming an organic film layer on the second substrate; Forming an organic compound layer on the second substrate; And removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-contacting electrode.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층은 열에 의하여 경화되는 물질인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device, wherein the organic film layer is a material that is cured by heat.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층의 접착력은 상기 제2 전극과 상기 유기 막 층의 접착력보다 큰 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment, an adhesive force between the organic film layer and the organic compound layer is greater than an adhesive force between the second electrode and the organic film layer.

실시 예에 따르면 상기 유기 막 층을 형성하는 단계는, 상기 제2 기판상에 상기 유기 막 층, 열 흡수 층 및 필름을 코팅하는 단계; 상기 필름의 영역 중에서 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역에 레이저를 조사하여 상기 유기 막 층을 상기 제2 기판의 상기 제2 전극 상에 부착시키는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment, the step of forming the organic film layer includes: coating the organic film layer, the heat absorbing layer and the film on the second substrate; And a step of irradiating a region of the film corresponding to the second electrode-contacting electrode with a laser to adhere the organic film layer onto the second electrode of the second substrate .

실시 예에 따르면 상기 열 흡수 층은 열을 흡수하여 부피가 팽창하는 물질로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device in which the heat absorbing layer is made of a material that absorbs heat and expands in volume.

실시 예에 따르면 상기 열 흡수 층은, 카본 블랙(Carbon Black), 금속 산화물(Metal Oxide) 및 염료(Dye) 들 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the heat absorbing layer is formed of at least one of carbon black, metal oxide, and dye.

실시 예에 따르면 상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극인 유기발광 다이오드 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.

실시 예에 따르면 상기 유기 화합물 층은, 정공 주입 층, 정공 전달 층, 유기 발광 층, 전자 전달 층 및 전자 주입 층을 포함하는 유기발광 다이오드 제조 방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, the organic compound layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

실시 예는 캐소드 접촉 전극 상부에 유기 막 층을 미리 형성하여 상기 캐소드 접촉 전극에 직접 정공 주입 층이 접촉되지 않도록 하고, 추후 상기 유기 막 층을 제거함으로 해서 캐소드 전극과 상기 캐소드 접촉 전극이 바로 접촉할 수 있도록 한다. 이 경우 상기 정공 주입 층 등을 제거하기 위한 별도의 건식 에칭 공정이 필요하지 않게 되어 공정을 단순화하고 복잡한 공정에 따른 애노드 전극의 손상을 방지할 수 있으며 수율을 향상시킬 수 있다.In an embodiment, an organic film layer is formed in advance on the cathode contact electrode so that the hole injection layer does not directly contact the cathode contact electrode, and the organic film layer is subsequently removed, so that the cathode electrode and the cathode contact electrode come into direct contact . In this case, a separate dry etching process for removing the hole injection layer and the like is not necessary, so that the process can be simplified, damage to the anode electrode due to complicated processes can be prevented, and the yield can be improved.

도 1은 종래의 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 유기 발광 다이오드 표시장치의 평면도.
도 2 및 도 3은 는 종래의 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
도 4 및 도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
도 6a 및 도 6b는 유기 막 층 형성을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
도 7 내지 도 9는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
도 10a 내지 10c는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
도 11a 내지 11c는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도.
1 is a plan view of an organic light emitting diode display device for explaining a conventional method of manufacturing an organic light emitting diode display device.
FIG. 2 and FIG. 3 are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device for illustrating a method of manufacturing a conventional organic light emitting diode display device.
FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a first embodiment of the present invention. FIG.
6A and 6B are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device shown to illustrate organic film layer formation;
7 to 9 are sectional views of an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a first embodiment of the present invention.
10A to 10C are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a second embodiment of the present invention.
11A to 11C are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a third embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 의한 유기 발광 다이오드 표시장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시 예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, the organic light emitting diode display device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of an apparatus may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 4 및 도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views illustrating an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing the organic light emitting diode display device according to the first embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 기판(1) 상부에 액티브(Active) 영역(5)과 캐소드 접촉 전극(4)을 형성할 수 있다. Referring to FIGS. 4 and 5, an active region 5 and a cathode contact electrode 4 may be formed on the substrate 1.

상기 액티브 영역(5)은 애노드 전극을 포함할 수 있다. (이하 설명의 편의상 액티브 영역(5)은 애노드 전극으로 표현한다.) The active region 5 may include an anode electrode. (For convenience of explanation, the active region 5 is represented by an anode electrode.)

도면에는 도시 하지 않았지만 상기 액티브 영역(5)은 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 구체적으로 설명하면 상기 기판(1) 상에 박막 트랜지스터가 형성되는 영역에는 소스영역, 채널영역, 드레인 영역을 포함하는 반도체층, 게이트절연막, 게이트 전극, 소스전극 및 드레인 전극이 형성된다. 상기 소스전극과 드레인 전극은 상기 게이트 전극 상에 형성된 층간 절연막과 게이트 절연막을 관통하여 형성된 콘택홀을 통해 상기 반도체층의 소스영역과 드레인 영역이 접속한다. 상기 소스전극 및 드레인 전극 상에는 보호층이 형성되고, 상기 보호층에는 상기 드레인 전극을 노출하는 콘택홀이 형성된다. 상기 노출된 드레인 전극은 상기 보호층 상에 형성된 연결전극과 전기적으로 연결된다.Although not shown in the figure, the active region 5 may include a thin film transistor. More specifically, a semiconductor layer including a source region, a channel region, and a drain region, a gate insulating film, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode are formed in a region where the thin film transistor is formed on the substrate 1. The source electrode and the drain electrode are connected to a source region and a drain region of the semiconductor layer through a contact hole formed through an interlayer insulating film formed on the gate electrode and a gate insulating film. A protective layer is formed on the source electrode and the drain electrode, and a contact hole exposing the drain electrode is formed in the protective layer. The exposed drain electrode is electrically connected to the connection electrode formed on the protection layer.

상기 박막 트랜지스터를 포함하는 기판(1) 전면에 평탄화막이 형성되고, 상기 평탄화막에는 상기 연결 전극이 노출되는 콘택홀이 형성된다. 상기 노출된 연결전극 상에 유기발광다이오드(OLED)의 제1 전극이 형성된다. 상기 제1 전극 상에 화소 영역 단위로 상기 제1 전극을 노출하는 뱅크(bank) 패턴이 형성될 수 있다. A planarization film is formed on the entire surface of the substrate 1 including the thin film transistor, and the planarization film is formed with a contact hole exposing the connection electrode. A first electrode of the organic light emitting diode (OLED) is formed on the exposed connection electrode. A bank pattern may be formed on the first electrode to expose the first electrode in units of pixel regions.

한편 상기 액티브 영역(5)에서 노출된 제1 전극 상에 유기 화합물 층이 형성되고, 상기 유기 화합물 층 상에 제2 전극이 형성된다. 또한 상기 유기 화합물 층은 수분이나 산소에 취약하기 때문에 상기 제2 전극 상에는 상기 유기 화합물 층을 수분, 가스 등으로부터 보호하고 밀봉하는 박막 봉지 층(Thin Film Encapsulation;TFE)이 형성될 수 있다.On the other hand, an organic compound layer is formed on the first electrode exposed in the active region 5, and a second electrode is formed on the organic compound layer. Further, since the organic compound layer is vulnerable to moisture or oxygen, a thin film encapsulation (TFE) may be formed on the second electrode to protect and seal the organic compound layer from moisture, gas, and the like.

상기 기판(1) 상부에 애노드 전극(5)과 캐소드 접촉 전극(4)을 형성한 후, 상기 기판(1) 상부에 유기 막 층(7)을 형성하고, 상기 유기 막 층(7) 상부에 열 흡수 층(8)을 형성하고, 상기 열 흡수 층(8) 상부에 베이스 필름(Base Film, 9)을 형성할 수 있다. An anode electrode 5 and a cathode contact electrode 4 are formed on the substrate 1 and then an organic film layer 7 is formed on the substrate 1 and an organic film layer 7 is formed on the organic film layer 7 A base film 9 may be formed on the heat absorbing layer 8 by forming a heat absorbing layer 8 on the heat absorbing layer 8.

상기 기판(1)에서 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역에 레이저(10)를 조사하면, 도 5에서와 같이 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역에만 상기 유기 막 층(7)을 형성할 수 있다.When the laser 10 is irradiated to the region where the cathode contact electrode 4 is formed on the substrate 1, the organic film layer 7 is formed only in the region where the cathode contact electrode 4 is formed as shown in FIG. 5 .

상기 기판(1) 상부에 정공 주입 층(2)이 먼저 형성되는 경우에는 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역에도 상기 정공 주입 층(2)이 형성될 수 있다. 이 경우 상기 정공 주입 층(2)을 제거하는 공정이 필요하여 공정이 복잡해지고, 상기 정공 주입 층(2)을 제거하는 공정 중에 애노드 전극(5)이 손상이 갈 수 있고 상기 정공 주입 층(2)의 외면에도 손상이 갈 수 있다. 또한 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역을 제외한 영역에만 상기 정공 주입 층(2) 등을 형성하고자 하는 경우 상기 기판(1)의 일부 영역에만 상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3) 등을 형성시켜야 하므로 제조 공정이 복잡해질 수 있다. 따라서 상기 정공 주입 층(2)을 형성하기 전에 미리 상기 유기 막 층(7)을 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역에 형성 시켜 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성되는 영역과 상기 애노드 전극(5)이 형성된 영역을 구분 지을 수 있고, 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부에 상기 정공 주입 층(2) 등이 형성되지 않도록 할 수 있다.When the hole injection layer 2 is formed on the substrate 1, the hole injection layer 2 may be formed in the region where the cathode contact electrode 4 is formed. In this case, the step is required to remove the hole injection layer 2, and the process becomes complicated. During the process of removing the hole injection layer 2, the anode electrode 5 can be damaged and the hole injection layer 2 ) May also be damaged. In the case where the hole injection layer 2 or the like is formed only in a region except for the region where the cathode contact electrode 4 is formed, the hole injection layer 2, the hole transport layer 3 ) Or the like must be formed, so that the manufacturing process can be complicated. The organic film layer 7 may be formed in the region where the cathode contact electrode 4 is formed before the hole injection layer 2 is formed so that the region where the cathode contact electrode 4 is formed and the anode electrode 5 may be formed and the hole injection layer 2 or the like may not be formed on the cathode contact electrode 4.

도 6a 및 도 6b는 유기 막 층 형성을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.6A and 6B are cross-sectional views of an organic light emitting diode display device shown for explaining organic film layer formation.

도 6a 및 도 6b를 참조하여, 캐소드 접촉 전극(미도시)에 유기 막 층(7)을 형성하는 방법에 대하여 구체적으로 살펴본다.6A and 6B, a method of forming the organic film layer 7 on the cathode contact electrode (not shown) will be described in detail.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 상기 기판(1) 상부에 스핀 코팅(Spin Coating) 방식이나 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식 또는 롤 코팅(Roll Coating) 방식을 통하여 유기 막 층(7), 열 흡수 층(8) 및 베이스 필름(9)을 형성하고, 열 처리를 통하여 상기 유기 막 층(7)을 경화시킬 수 있다. 상기 스핀 코팅 방식은 기판 위에 감광액을 떨어뜨려 기판을 고속으로 회전시켜 균일한 두께의 막을 형성시키는 방식이고, 상기 슬릿 코팅 방식은 길고 폭이 좁은 슬릿 형태의 노즐이 기판 위를 직선으로 이동하며 감광액을 분출하여 막을 형성시키는 방식이며, 롤 코팅 방식은 롤 위에 전개한 감광액을 기판에 전사하는 방식이다. 각각의 방식마다 장단점이 있으므로 사용되는 기판의 사이즈, 정밀도 등을 고려하여 선택될 수 있다.6A and 6B, an organic film layer 7 is formed on the substrate 1 by a spin coating method, a slit coating method or a roll coating method, The layer 8 and the base film 9 may be formed and the organic film layer 7 may be cured by heat treatment. In the spin coating method, a photosensitive liquid is dropped on a substrate to rotate the substrate at a high speed to form a film having a uniform thickness. In the slit coating method, a long, narrow slit-shaped nozzle moves linearly on the substrate, And a film is formed by spraying. In the roll coating method, a photosensitive liquid developed on a roll is transferred onto a substrate. Since each method has advantages and disadvantages, it can be selected in consideration of the size, precision, etc. of the substrate to be used.

상기 기판의 캐소드 접촉 전극(미도시) 상에 상기 유기 막 층(7)을 형성하는 방법으로는 상기 캐소드 접촉 전극(미도시)이 형성되어 있는 영역에 레이저(10)를 조사하면 베이스 필름(9)은 상기 레이저(10)를 통과시킨다. 상기 베이스 필름(9)을 통과한 상기 레이저(10)는 열 흡수 층(8)에 조사된다. 상기 열 흡수 층(8)은 상기 레이저(10)에 의한 광 에너지를 흡수하면서 상기 열 흡수 층(8)내의 전자가 들뜬 상태(Excited state)로 여기되고 상기 여기된 전자가 바닥 상태(ground state)로 이동하게 되면서 열 형태로 에너지를 방출하게 된다. In the method of forming the organic film layer 7 on the cathode contact electrode (not shown) of the substrate, when the laser 10 is irradiated to the region where the cathode contact electrode (not shown) is formed, the base film 9 Passes the laser 10 through. The laser 10 having passed through the base film 9 is irradiated onto the heat absorbing layer 8. The heat absorbing layer 8 absorbs light energy by the laser 10 and excites the electrons in the heat absorbing layer 8 to an excited state and excites the excited electrons to a ground state. The energy is released in the form of heat.

상기 레이저(10)가 조사되기 전에 상기 유기 막 층(7)은 상기 기판(1)의 전면에 배치될 수 있고, 일부에만 배치될 수도 있다. 상기 유기 막 층(7)이 상기 기판(1)의 전면에 배치되는 것이 공정의 복잡성을 줄일 수 있다.Before the laser 10 is irradiated, the organic film layer 7 may be disposed on the front surface of the substrate 1, or may be disposed on only a part of the substrate. The organic film layer 7 is disposed on the front surface of the substrate 1, which can reduce the complexity of the process.

상기 열 흡수 층(8)은 상기 유기 막 층(7)보다 면적이 크게 형성될 수 있고, 상기 베이스 필름은 상기 열 흡수 층(8)보다 면적이 크게 형성될 수 있다. The heat absorbing layer 8 may have a larger area than the organic film layer 7 and the base film may have a larger area than the heat absorbing layer 8.

도 6b를 참조하면, 상기 열 흡수 층(8)은 흡수한 열에 의하여 내부 분자의 운동에너지가 증가할 수 있다. 상기 분자의 운동에너지 증가로 상기 분자의 움직임이 활발해지게 되고 동시에 상기 분자가 차지하는 공간이 넓어질 수 있게 되면서 A 영역과 같이 부피가 팽창할 수 있다. 즉 상기 열 흡수 층(8) 내부의 각 각의 분자 주위의 빈 공간의 부피인 자유 부피(Free volume) 가 증가할 수 있게 된다. Referring to FIG. 6B, the kinetic energy of the internal molecules of the heat absorbing layer 8 may be increased by heat absorbed. As the kinetic energy of the molecule increases, the movement of the molecule becomes active. At the same time, the space occupied by the molecule can be widened, and the volume can expand like the A region. That is, the free volume, which is the volume of the void space around each molecule in the heat absorbing layer 8, can be increased.

도면상으로는 상기 열 흡수 층(8)의 하부 방향으로 부피가 팽창되어 있으나, 상기 열 흡수 층(8)은 상부 및 하부 방향으로도 부피가 팽창될 수 있다. 한편 상기 열 흡수 층(8)은 상부에 배치된 상기 베이스 필름(9)에 의하여 상부 방향으로 팽창되는 것이 저하될 수 있고, 이에 따라 상기 열 흡수 층(8) 내부의 분자들은 상기 열 흡수 층(8)의 하부 방향으로 움직임이 활발해 질 수 있다. 그리고 그에 따라 상기 열 흡수 층(8) 하부 방향으로 크게 팽창될 수 있다. Although the volume is expanded in the lower direction of the heat absorbing layer 8 in the drawing, the heat absorbing layer 8 can be bulged even in the upper and lower directions. On the other hand, the heat absorbing layer 8 may be lowered in the upward direction due to the base film 9 disposed on the upper portion, 8 in the lower direction. And can thereby be greatly expanded in the downward direction of the heat absorbing layer 8.

상기 A 영역의 부피가 증가하면서 상기 열 흡수 층(8)의 팽창 영역에 의하여 상기유기 막 층(7)이 기판(1) 하부 방향으로 압력을 받게 되면서, 상기 유기 막 층(7)은 상기 캐소드 접촉 전극(미도시)의 영역에 B 영역과 같이 부착될 수 있게 된다. 즉 상기 열 흡수 층(8)의 팽창 영역에 따른 압력에 의하여 상기 유기 막 층(7)의 일부 영역이 상기 기판(1) 상에 부착될 수 있다. 상기 유기 막 층(7)의 일부가 상기 캐소드 접촉 전극(미도시) 영역 상에 부착된 후, 상기 열 흡수 층(8) 및 베이스 필름(9)을 제거하면, 도 5에서와 같이 상기 캐소드 접촉 전극(4) 영역 상에만 상기 유기 막 층(7)이 형성될 수 있게 된다. The organic film layer 7 is pressed toward the lower portion of the substrate 1 by the expansion region of the heat absorbing layer 8 while the volume of the A region is increased, So that it can be attached to the region of the contact electrode (not shown) together with the region B. That is, a part of the organic film layer 7 may be deposited on the substrate 1 by the pressure along the expansion region of the heat absorbing layer 8. When the heat absorbing layer 8 and the base film 9 are removed after a part of the organic film layer 7 is deposited on the cathode contact electrode (not shown) region, The organic film layer 7 can be formed only on the electrode 4 region.

한편 상기 열 흡수 층(8)이 팽창되면서 상기 유기 막 층(7)과 상기 열 흡수 층(8)이 분리되므로 상기 베이스 필름(9)과 상기 열 흡수 층(8)을 상기 유기 막 층(7)으로부터 분리할 수 있고, 상기 베이스 필름(9)과 상기 열 흡수 층(8)을 분리하면 상기 기판(1) 상에 형성된 캐소드 접촉 전극(4)을 둘러싼 유기 막 층(7)이 형성될 수 있다.The organic film layer 7 and the heat absorbing layer 8 are separated while the heat absorbing layer 8 is expanded so that the base film 9 and the heat absorbing layer 8 are separated from the organic film layer 7 Separating the base film 9 and the heat absorbing layer 8 can form an organic film layer 7 surrounding the cathode contact electrode 4 formed on the substrate 1 have.

상기 유기 막 층(7)는 열에 의해 경화될 수 있는 물질로 구성될 수 있고, 상기 열 흡수 층(8)은 카본 블랙(Carbon Black), 금속 산화물(Metal Oxide), 염료(Dye) 등으로 이루어질 수 있고, 열을 흡수하고 방출하면서 부피가 팽창하는 물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 베이스 필름(9)은 유리나 플라스틱 재질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The organic film layer 7 may be formed of a material that can be cured by heat and the heat absorbing layer 8 may be made of carbon black, metal oxide, dye, or the like. And may be made of a material that bulges as it absorbs and releases heat, but is not limited thereto. The base film 9 may be made of glass or plastic but is not limited thereto.

도 7 내지 도 9는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.FIGS. 7 to 9 are cross-sectional views illustrating an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a first embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 기판(1) 상부에 애노드 전극(5)이 형성되고 캐소드 접촉 전극(4)에는 유기 막 층(7)이 형성될 수 있다. 상기 기판(1) 상부에 유기 화화물 층인 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13)이 차례로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 7, an anode electrode 5 may be formed on the substrate 1 and an organic film layer 7 may be formed on the cathode contact electrode 4. A hole injecting layer 2, a hole transporting layer 3, an organic light emitting layer 6, an electron transporting layer 12 and an electron injecting layer 13 may be sequentially formed on the substrate 1 have.

상기 유기 화합물 층은 패터닝 공정에 의해 형성될 수 있고, 상기 패터닝 공정은 포토리소그래피 공정, 잉크젯 프린팅 공정, 쉐도우 마스크등을 이용한 증착 공정을 통해 수행될 수 있다. 여기서, 상기 포토리소그래피 공정은 다른 패터닝 공정에 비해 고가의 장비를 필요로 하지 않아, 생산 비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라, 정밀한 패턴을 구현할 수 있다는 장점을 가진다.The organic compound layer may be formed by a patterning process, and the patterning process may be performed through a deposition process using a photolithography process, an inkjet printing process, a shadow mask, or the like. Here, the photolithography process does not require expensive equipment compared with other patterning processes, and thus has a merit that a production cost can be reduced and a precise pattern can be realized.

한편 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부에 형성된 제거 부(71)인 상기 유기 막 층(7), 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13)을 제거할 수 있다. 상기 제거 부(71)는 분리 필름 등을 이용하여 상기 제거 부(71)에 상기 접착 필름을 접촉시켜 상기 제거 부(71)를 제거시킬 수 있다.On the other hand, the organic film layer 7, the hole injecting layer 2, the hole transporting layer 3, the electron transporting layer 12, and the electron injecting layer 7, which are removed portions 71 formed on the cathode contact electrode 4, 13) can be removed. The removing unit 71 may remove the removing unit 71 by contacting the adhesive film to the removing unit 71 using a separation film or the like.

상기 제거 부(71)를 제거하는 방법으로는 분리 필름을 사용할 수 있다. 상기 분리 필름은 폴리에틸렌 테레 프탈레이트(PET) 또는 폴리이미드(PI) 재질의 필름 상에 접착력이 있는 물질이 도포된 것으로 상기 접착력이 있는 물질의 주 원료는 주원료는 메틸메타아클리레이트(MMA), 2-히드록시에틸메타아크릴레이트(2-HEMA), 2-에틸헥실아크릴레이트(2-EHA), 부틸아크릴레이트모노모(BAM), 글리실메타아크릴에이트(GMA), 에칠아크릴레이트(EA)가 될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. As a method of removing the removal portion 71, a separation film may be used. The separating film is formed by applying a substance having an adhesive property on a film made of polyethylene terephthalate (PET) or polyimide (PI), and the main raw material of the adhesive substance is methyl methacrylate (MMA), 2 2-ethylhexyl acrylate (2-EHA), butyl acrylate monomo (BAM), glycyl methacrylate (GMA), and ethyl acrylate (EA) But is not limited thereto.

상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12), 전자 주입 층(13) 및 상기 유기 막 층(7)의 접착력은 상기 유기 막 층(7)과 상기 기판(1)의 접착력보다 강하다. 즉 상기 유기 막 층(7)과 상기 정공 주입 층(2)의 계면을 분리하는데 필요한 에너지는 상기 유기 막 층(7)과 상기 기판(1)의 계면을 분리하는데 필요한 에너지보다 크다. 그리고 상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13) 각각의 접착력 또한 강하다. 그 이유는 상기 유기 막 층(7)은 상기 레이저(10) 전사를 통해 상기 기판(1) 상에 살짝 올려져 있는 상태이지만, 상기 유기 화합물 층의 경우 상기 기판(1) 상에 코팅되고 증착이 되므로 상기 유기 막 층(7)과의 부착력이 훨씬 강하다고 할 수 있다. 따라서 상기 분리 필름을 상기 전자 주입 층(13) 상부에 부착하여 상기 분리 필름을 때어내면 상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12), 전자 주입 층(13) 및 상기 유기 막 층(7) 전체가 상기 기판(1)으로부터 분리 가능하다.The adhesive force between the hole injection layer 2, the hole transport layer 3, the organic light emitting layer 6, the electron transport layer 12, the electron injection layer 13, and the organic film layer 7, (7) and the substrate (1). That is, the energy required to separate the interface between the organic film layer 7 and the hole injection layer 2 is greater than the energy required to separate the interface between the organic film layer 7 and the substrate 1. The adhesive force of each of the hole injection layer 2, the hole transport layer 3, the organic light emitting layer 6, the electron transport layer 12, and the electron injection layer 13 is also strong. This is because the organic film layer 7 is slightly raised on the substrate 1 through the transfer of the laser 10, but in the case of the organic compound layer, the organic film layer 7 is coated on the substrate 1, The adhesion to the organic film layer 7 is much stronger. The hole injection layer 2, the hole transport layer 3, the organic light emitting layer 6, the electron transport layer 12, and the hole transport layer 3 are formed by attaching the separation film to the upper portion of the electron injection layer 13, , The electron injection layer (13) and the organic film layer (7) can be separated from the substrate (1).

한편 상기 분리 필름을 상기 전자 주입 층(13)상에 부착할 때는 롤(Roll) 공정을 통해 부착할 수 있다. 그리고 상기 분리 필름을 제거할 때도 상기 롤 공정을 통해서 제거할 수 있다.On the other hand, when the separation film is attached onto the electron injection layer 13, it can be attached through a roll process. Also, when the separation film is removed, it can be removed through the roll process.

도 8 및 도 9를 참조하면, 캐소드 접촉 전극(4) 상부에는 개방되어 있고 기판(1) 상부에 캐소드 전극(11)을 형성하여 상기 캐소드 전극(11)과 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 접촉되도록 할 수 있다.8 and 9, a cathode electrode 11 is formed on the upper surface of the substrate 1 so as to be opened above the cathode contact electrode 4 so that the cathode electrode 11 and the cathode contact electrode 4 are in contact with each other .

상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부에 유기 막 층(7)을 형성하고 상기 기판(1) 전면에 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13)을 형성한 후 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상에 상기 유기 막 층(7)과 상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13)을 제거하여 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부를 개방시켜 놓을 수 있고, 상기 기판(1) 상에 캐소드 전극(11)을 형성 시 상기 캐소드 전극(11)과 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 바로 접촉되도록 할 수 있다. An organic film layer 7 is formed on the cathode contact electrode 4 and a hole injecting layer 2, a hole transporting layer 3, an electron transporting layer 12 and an electron injecting layer The hole transporting layer 3, the electron transporting layer 12 and the electron injecting layer 13 are formed on the cathode contact electrode 4, When the cathode electrode 11 is formed on the substrate 1, the cathode electrode 11 and the cathode contact electrode 4 may be directly connected to each other Contact with each other.

한편 상기 기판(1)은 플라스틱 또는 유리로 형성되어 있을 수 있다. 특히, 상기 기판(1)을 통하여 광이 통과되는 하부 발광 형일 경우, 상기 기판(1)은 투명성의 재질로 이루어질 수 있다. Meanwhile, the substrate 1 may be formed of plastic or glass. In particular, in the case of a bottom emission type in which light is transmitted through the substrate 1, the substrate 1 may be made of a transparent material.

상기 유기 발광 층(6)은 레드(Red), 그린(Green), 블루(Blue) 또는 화이트(White)의 발광체가 될 수 있다. 또한 상기 유기 발광 층(6)은 바(bar) 형태로 상기 정공 전달 층(3) 상부에 형성될 수 있고, 상기 유기 발광 층(6)은 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 발광체로 구성되어 차례로 형성될 수 있고, 레드(Red), 그린(Green), 블루(Blue) 및 화이트(White)의 발광체로 구성되어 차례로 형성될 수 도 있다. 뿐만 아니라 상기 유기 발광 층(6)은 화이트(White)의 발광체로만 구성되어 형성될 수 도 있다. 이 경우 컬러 필터를 이용하여 상기 화이트(White) 발광체에서 생성된 빛이 상기 컬러 필터를 통과하여 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 빛이 발생하도록 할 수 있다. The organic light emitting layer 6 may be a red, green, blue, or white light emitting material. The organic light emitting layer 6 may be formed on the hole transport layer 3 in the form of a bar and the organic light emitting layer 6 may be formed of red, And may be sequentially formed of red, green, blue, and white light emitting bodies. In addition, the organic light emitting layer 6 may be formed only of a white light emitting material. In this case, light generated in the white light emitting body may pass through the color filter to generate red, green, and blue light using a color filter.

한편 시간이 지남에 따라 상기 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 발광체 중에서 상기 블루(Blue) 발광체의 특성이 가장 빨리 나빠질 수 있다. 이 경우 상기 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 발광체의 조합으로 화이트(White) 빛을 생성하기 어려울 수 있으므로 상기 유기 발광 층(6)에 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 발광체 외에 추가적으로 화이트(White) 발광체를 포함 시킬 수 있다.Meanwhile, the characteristics of the blue light emitting body among the red, green, and blue light emitting materials may deteriorate as time passes. In this case, it may be difficult to generate white light due to the combination of the red, green and blue light emitting materials. Therefore, red, green, And a blue (Blue) light emitter, as well as a white light emitter.

상기 애노드 전극(5)은 양극이 되고 상기 캐소드 전극(11)은 음극이 될 수 있다. 상기 음극은 알루미늄(Al), 은(Ag) 등을 리튬(Lithium)과 합금한 물질로 이루어 질 수 있고, 일함수가 작은 도전 물질로 형성될 수 있다. 상기 양극은 산화인듐주석인 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어 질 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니고, 일함수가 높은 도전성 물질이 될 수 있고, 투명한 재질로 될 수 있다.  The anode electrode 5 may be an anode and the cathode electrode 11 may be a cathode. The cathode may be formed of a material alloyed with lithium such as aluminum (Al), silver (Ag), or the like, and may be formed of a conductive material having a small work function. The anode may be made of ITO (indium tin oxide), which is indium tin oxide, but is not limited thereto. The anode may be a conductive material having a high work function and may be made of a transparent material.

한편 상기 정공 전달 층(3)의 물질은 티타늄 디옥사이드(TiO2), 징크 옥사이트(SnO2) 및 틴 옥사이드(SnO2)와 같은 금속 산화물이 될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고 상기 전자 전달 층(12)의 물질은 8 -하이드록시퀴놀리노-알루미늄(Alq3), 벤조퀴놀리놀 착체(Bebq2), 트리아졸 유도체(TAZ), 페난트로린 유도체(MEPHPH) 등과 같은 전자수송성 유기·무기 금속 착체 화합물, 삼불화메탄술폰산 리튬(LiCF3SO3), 과염소산 리튬(LiClO4), 사불화붕산 리튬(LiBF4), 육불화인산 리튬(LiPF6) 및 리튬 비스트리플루오로메탄술포닐아미드(LiN(CF3SO2)2)등과 같은 이온성 화합물일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the material of the hole transport layer 3 may be a metal oxide such as titanium dioxide (TiO 2), zinc oxide (SnO 2), and tin oxide (SnO 2), but is not limited thereto. The material of the electron transport layer 12 is an electron transporting material such as 8-hydroxyquinolino-aluminum (Alq3), benzoquinolinol complex (Bebq2), triazole derivative (TAZ), phenanthroline derivative (MEPHPH) (LiCF3SO3), lithium perchlorate (LiClO4), lithium tetrafluoroborate (LiBF4), lithium hexafluorophosphate (LiPF6), and lithium bistrifluoromethanesulfonylamide (LiN CF3SO2) 2), and the like, but is not limited thereto.

상기 도면을 통해 설명된 제1 실시 예는 기판(1) 상에 애노드 전극(5), 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13) 및 캐소드 전극(11)을 차례로 형성하는 것에 관한 것이다. 그러나 이에 한정되지 않고 본 발명은 아래와 같은 제2 및 제3 실시 예를 가질 수 있다. The first embodiment described with reference to the drawings has an anode electrode 5, a hole injecting layer 2, a hole transporting layer 3, an organic light emitting layer 6, an electron transporting layer 12, And the electron injection layer 13 and the cathode electrode 11 in this order. However, the present invention is not limited thereto and may have the second and third embodiments as follows.

도 10a 내지 10c는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.10A to 10C are cross-sectional views illustrating an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a second embodiment of the present invention.

제2 실시 예의 설명에서 제1 실시 예와 동일한 기능이나 동일한 형상에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고 상세한 설명은 생략한다.In the description of the second embodiment, the same reference numerals are assigned to the same functions and the same features as those of the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

도 10a 내지 10c를 참조하면, 제1 및 제2 기판(100,101)을 이용하여 상기 제1 기판(100) 상에 애노드 전극(5) 및 캐소드 접촉 전극(4)을 형성하고 상기 제2 기판(101) 상에 캐소드 전극(11)을 형성할 수 있다. 상기 제2 기판(101) 상에 상기 캐소드 전극(11)을 형성하는 경우 상기 제1 기판(100)의 캐소드 접촉 전극(4)과 대응되는 영역에는 높이가 더 높도록 형성할 수 있다. 10A to 10C, an anode electrode 5 and a cathode contact electrode 4 are formed on the first substrate 100 using first and second substrates 100 and 101, and the second substrate 101 The cathode electrode 11 can be formed. When the cathode electrode 11 is formed on the second substrate 101, the height of the region corresponding to the cathode contact electrode 4 of the first substrate 100 may be higher.

한편 도 10b와 같이 상기 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역에 유기 막 층(7)을 형성할 수 있다. 상기 유기 막 층(7)을 형성하는 방법은 상기 제1 실시 예에서 설명한 바와 같이 상기 제1 기판(100) 상부에 상기 유기 막 층(7), 열 흡수 층(8) 및 베이스 필름(9)을 코팅하고 열을 통해 상기 유기 막 층(7)을 경화시킬 수 있다. 그리고 상기 제1 기판(100)의 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역 상에 레이져(미도시) 조사하여 상기 열 흡수 층(8)의 팽창에 따른 압력에 의해 상기 유기 막 층(7)이 상기 제1 기판(100) 상의 캐소드 접촉 전극(4)을 둘러싼 유기 막 층(7)을 형성할 수 있다. 그 다음 상기 제1 기판(100) 상에 상기 정공 주입 층(2), 정공 전달 층(3), 유기 발광 층(6), 전자 전달 층(12) 및 전자 주입 층(13)을 차례로 형성하고 상기 제1 기판(100)에서 상기 유기 막 층(7)이 포함된 제거 부(71)를 제거할 수 있다. 상기 제거 부(71)를 제거하는 방법은 상기 제1 실시 예에서 설명한 바와 같이 분리 필름을 이용하여 제거할 수 있다. 상기 제거 부(71)가 제거된 이후 도 10c와 같이 상기 제1 기판(100)과 상기 제2 기판(101)을 합착시킬 수 있고, 이 경우 상기 제1 기판(100)상의 캐소드 접촉 전극(4)과 상기 제2 기판(101)상의 상기 캐소드 전극(11)이 접속될 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 10B, the organic film layer 7 can be formed in a region where the cathode contact electrode 4 is formed. The organic film layer 7 is formed on the first substrate 100 by using the organic film layer 7, the heat absorbing layer 8 and the base film 9 as described in the first embodiment, And the organic film layer 7 can be cured through heat. A laser (not shown) is irradiated onto a region where the cathode contact electrode 4 of the first substrate 100 is formed and the organic film layer 7 is irradiated with the laser light by the pressure accompanying the expansion of the heat absorbing layer 8, The organic film layer 7 surrounding the cathode contact electrode 4 on the first substrate 100 can be formed. Next, the hole injection layer 2, the hole transport layer 3, the organic light emitting layer 6, the electron transport layer 12 and the electron injection layer 13 are sequentially formed on the first substrate 100 The removal part 71 including the organic film layer 7 may be removed from the first substrate 100. The method of removing the removal portion 71 may be removed using a separation film as described in the first embodiment. The first substrate 100 and the second substrate 101 may be bonded together after the removal portion 71 is removed. In this case, the cathode contact electrode 4 on the first substrate 100 And the cathode electrode 11 on the second substrate 101 may be connected.

도 11a 내지 11c는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 유기발광 다이오드 표시장치의 단면도이다.11A to 11C are sectional views of an organic light emitting diode display device for explaining a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to a third embodiment of the present invention.

제3 실시 예의 설명에서 제1 및 제2 실시 예와 동일한 기능이나 동일한 형상에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고 상세한 설명은 생략한다.In the description of the third embodiment, the same reference numerals are assigned to the same functions and the same features as those of the first and second embodiments, and a detailed description thereof will be omitted.

도 11a 내지 11c를 참조하면, 상기 제1 기판(100) 상에 애노드 전극(5) 및 캐소드 접촉 전극(4)을 형성하고 상기 제2 기판(101) 상에 캐소드 전극(11)을 형성하고, 도 11b와 같이 상기 제1 기판(100)의 캐소드 접촉 전극(4)과 대응되는 상기 제2 기판(101)의 영역 상에 상기 유기 막 층(7)을 형성하고, 상기 제2 기판(101) 상에 전자 주입 층(13), 전자 전달 층(12), 유기 발광 층(6), 정공 전달 층(3) 및 정공 주입 층(2)을 차례로 형성한 후 상기 유기 막 층(7)이 포함된 제거부(71)를 제거하고, 도 11c와 같이 상기 제1 기판(100)과 상기 제2 기판(101)을 합착시켜 상기 캐소드 접촉 전극(4)과 상기 캐소드 전극(11)이 접속되도록 할 수 있다.11A to 11C, an anode electrode 5 and a cathode contact electrode 4 are formed on the first substrate 100, a cathode electrode 11 is formed on the second substrate 101, The organic film layer 7 is formed on the region of the second substrate 101 corresponding to the cathode contact electrode 4 of the first substrate 100 as shown in FIG. After the electron injection layer 13, the electron transport layer 12, the organic light emitting layer 6, the hole transport layer 3 and the hole injection layer 2 are sequentially formed on the substrate 1, The first substrate 100 and the second substrate 101 are attached to each other to remove the removal agent 71 and connect the cathode contact electrode 4 and the cathode electrode 11 .

상기 캐소드 전극(11)을 상기 제2 기판(101)에 형성 시 상기 제1 기판(100)에 형성된 캐소드 접촉 전극(4)이 형성된 영역과 대응되는 영역에는 상기 캐소드 전극(11)을 더 크게 형성할 수 있다. 이에 따라 상기 캐소드 접촉 전극(4)과 대응되지 않는 상기 제2 기판(101)의 영역 상에 상기 전자 주입 층(13), 전자 전달 층(12), 유기 발광 층(6), 정공 전달 층(3) 및 정공 주입 층(2)이 형성된 후 상기 캐소드 전극(11)이 더 크게 형성된 영역의 표면과 상기 정공 주입 층(2)의 표면이 같은 평면을 이룰 수 있다.When the cathode electrode 11 is formed on the second substrate 101, the cathode electrode 11 is formed to be larger in a region corresponding to a region where the cathode contact electrode 4 formed on the first substrate 100 is formed can do. The electron injection layer 13, the electron transport layer 12, the organic light emitting layer 6, and the hole transport layer (not shown) are formed on the region of the second substrate 101 that does not correspond to the cathode contact electrode 4. [ 3 and the hole injection layer 2 are formed, the surface of the region where the cathode electrode 11 is formed larger and the surface of the hole injection layer 2 may be in the same plane.

이뿐만 아니라, 도면으로 도시하지는 않았지만, 제1 기판상의 캐소드 접촉 전극이 형성된 영역과 상기 캐소드 접촉 전극과 대응되는 상기 제2 기판의 영역 상에 상기 유기 막 층을 각각 형성하고 상기 전자 주입 층, 전자 전달 층, 유기 발광 층, 정공 전달 층 및 정공 주입 층을 상기 제1 기판이나 제2 기판에 공정 순서에 따라 차례로 증착시킨 후, 상기 제1 및 제2 기판상에 형성된 상기 유기 막 층을 제거하고, 상기 제1 및 제2 기판을 합착하여 상기 캐소드 접촉 전극과 상기 캐소드 전극이 접속되도록 할 수도 있다.In addition, although not shown in the drawing, the organic film layer is formed on the region where the cathode contact electrode is formed on the first substrate and on the region of the second substrate corresponding to the cathode contact electrode, Depositing a transfer layer, an organic light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer on the first substrate or the second substrate in order according to a process order, removing the organic film layer formed on the first and second substrates , And the first and second substrates may be bonded together to connect the cathode contact electrode and the cathode electrode.

상기와 같은 유기발광다이오드 표시장치 제조공정을 통해서 종래와 같이 상기 캐소드 접촉 전극(4) 상부에 형성된 정공 주입 층(2) 및 정공 전달 층(3) 등을 제거하기 위한 별도의 공정이 필요하지 않게 되고, 상기 정공 주입 층(2) 및 정공 전달 층(3) 등을 제거하면서 애노드 전극(5)의 손상이 가는 문제를 해결할 수 있다.It is not necessary to perform a separate process for removing the hole injection layer 2 and the hole transport layer 3 formed on the cathode contact electrode 4 in the conventional process of manufacturing the organic light emitting diode display device, And the problem that the anode electrode 5 is damaged while removing the hole injection layer 2 and the hole transport layer 3 can be solved.

이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

1.기판
2.정공 주입 층
3.정공 전달 층
4.캐소드 접촉 전극
5.애노드 전극
6.유기 발광 층
7.유기 막 층
8.열 흡수 층
9.베이스 필름
10.레이저
11.캐소드 전극
12.전자 전달 층
13.전자 주입 층
71. 제거 부
100. 제1 기판
101. 제2 기판
1. Substrate
2. Hole injection layer
3. hole transport layer
4. Cathode contact electrode
5. Anode electrode
6. Organic light emitting layer
7. Organic film layer
8. Heat absorbing layer
9. Base film
10. Laser
11. The cathode electrode
12. Electronic transfer layer
13. Electron injection layer
71. Removal section
100.
101. A liquid crystal display

Claims (19)

기판에 제1 전극 및 제2 전극 접촉 전극을 형성하는 단계;
상기 기판상에 유기 막 층을 형성하는 단계;
상기 기판상에 유기 화합물 층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
Forming a first electrode and a second electrode contact electrode on the substrate;
Forming an organic film layer on the substrate;
Forming an organic compound layer on the substrate; And
And removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-contacting electrode.
제1 항에 있어서,
상기 유기 막 층은 열에 의하여 경화되는 물질인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the organic film layer is a material that is cured by heat.
제1 항에 있어서,
상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층의 접착력은 상기 기판과 상기 유기 막 층의 접착력보다 큰 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the adhesive force between the organic film layer and the organic compound layer is greater than the adhesive force between the substrate and the organic film layer.
제1 항에 있어서,
상기 유기 막 층을 형성하는 단계는,
상기 기판상에 상기 유기 막 층, 열 흡수 층 및 필름을 코팅하는 단계;
상기 필름의 영역 중에서 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역에 레이저를 조사하여 상기 유기 막 층을 상기 기판에 부착시키는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein forming the organic film layer comprises:
Coating the organic film layer, the heat absorbing layer and the film on the substrate;
And applying a laser to a region of the film corresponding to the second electrode-contacting electrode to attach the organic film layer to the substrate.
제4 항에 있어서,
상기 열 흡수 층은 열을 흡수하여 부피가 팽창하는 물질로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the heat absorbing layer is made of a material that absorbs heat and expands in volume.
제4 항에 있어서,
상기 열 흡수 층은,
카본 블랙(Carbon Black), 금속 산화물(Metal Oxide) 및 염료(Dye) 들 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The heat absorbing layer
Wherein the organic light emitting diode display device comprises at least one of carbon black, metal oxide, and dye.
제1 항에 있어서,
상기 기판상에 제2 전극을 형성하여 상기 제2 전극 접촉 전극과 연결시키는 단계를 더 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
And forming a second electrode on the substrate and connecting the second electrode to the second electrode contact electrode.
제7 항에 있어서,
상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.
제1 항에 있어서,
상기 유기 화합물 층은,
정공 주입 층, 정공 전달 층, 유기 발광 층, 전자 전달 층 및 전자 주입 층을 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The organic compound layer may be formed,
A hole transporting layer, an organic light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injection layer.
제1 기판에 제1 전극 및 제2 전극 접촉 전극을 형성하는 단계;
상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판상에 제2 전극을 형성하는 단계;
상기 제2 기판상에 유기 막 층을 형성하는 단계;
상기 제2 기판상에 유기 화합물 층을 형성하는 단계;
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
Forming a first electrode and a second electrode contact electrode on a first substrate;
Forming a second electrode on a second substrate opposite to the first substrate;
Forming an organic film layer on the second substrate;
Forming an organic compound layer on the second substrate;
And removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-contacting electrode.
제10 항에 있어서,
상기 유기 막 층은 열에 의하여 경화되는 물질인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the organic film layer is a material that is cured by heat.
제10 항에 있어서,
상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층의 접착력은 상기 제2 전극과 상기 유기 막 층의 접착력보다 큰 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the adhesive force between the organic film layer and the organic compound layer is greater than the adhesive force between the second electrode and the organic film layer.
제10 항에 있어서,
상기 유기 막 층을 형성하는 단계는,
상기 제2 기판상에 상기 유기 막 층, 열 흡수 층 및 필름을 코팅하는 단계;
상기 필름의 영역 중에서 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역에 레이저를 조사하여 상기 유기 막 층을 상기 제2 기판의 상기 제2 전극 상에 부착시키는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein forming the organic film layer comprises:
Coating the organic film layer, the heat absorbing layer and the film on the second substrate;
And a step of irradiating a region of the film corresponding to the second electrode-contacting electrode with a laser to adhere the organic film layer onto the second electrode of the second substrate .
제13 항에 있어서,
상기 열 흡수 층은 열을 흡수하여 부피가 팽창하는 물질로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the heat absorbing layer is made of a material that absorbs heat and expands in volume.
제13 항에 있어서,
상기 열 흡수 층은,
카본 블랙(Carbon Black), 금속 산화물(Metal Oxide) 및 염료(Dye) 들 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어진 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
The heat absorbing layer
Wherein the organic light emitting diode display device comprises at least one of carbon black, metal oxide, and dye.
제10 항에 있어서,
상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극인 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.
제10 항에 있어서,
상기 유기 화합물 층은,
정공 주입 층, 정공 전달 층, 유기 발광 층, 전자 전달 층 및 전자 주입 층을 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
The organic compound layer may be formed,
A hole transporting layer, an organic light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injection layer.
제1 항에 있어서,
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계는,
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층에 접착력을 가진 분리 필름을 부착하는 단계; 및
상기 분리 필름을 떼어 내어 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 상기 기판으로부터 제거하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-
Attaching a separation film having an adhesive force to the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode contact electrode; And
Removing the separation film to remove the organic film layer and the organic compound layer in the region corresponding to the second electrode-contacting electrode from the substrate.
제10 항에 있어서,
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 제거하는 단계는,
상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층에 접착력을 가진 분리 필름을 부착하는 단계; 및
상기 분리 필름을 떼어 내어 상기 제2 전극 접촉 전극과 대응되는 영역의 상기 유기 막 층과 상기 유기 화합물 층을 상기 제2 기판으로부터 제거하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드 표시장치의 제조 방법.

11. The method of claim 10,
Wherein the step of removing the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode-
Attaching a separation film having an adhesive force to the organic film layer and the organic compound layer in a region corresponding to the second electrode contact electrode; And
Removing the separation film to remove the organic film layer and the organic compound layer in the region corresponding to the second electrode-contacting electrode from the second substrate.

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