KR101993341B1 - 플렉서블 표시 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 변형시켜서 보관하거나 반복 변형시킨 경우라도 틀이 잡히지 않는 플렉서블 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
플렉서블한 표시 소자(11)와, 표시 소자(11)의 일방 주면 측에 배치되고, 3차원 가교 구조를 가지는 재료에 의해 형성된 부재(12)를 가지고 있다.

Description

플렉서블 표시 장치{Flexible display device}
본 발명은 플렉서블 표시 장치에 관한 것이다.
최근에는 플렉서블한 표시 장치인 플렉서블 표시 장치가 제안되고 있다. 이러한 플렉서블 표시 장치의 기판으로는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET: Polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN: Polyethylene naphthalate), 폴리이미드(PI: Polyimide) 등이 사용되고 있다.
특허문헌 1: 일본특허공개공보 2003-280546 호 특허문헌 2: 일본특허공개공보 2011-85934 호 특허문헌 3: 일본특허공개공보 2013-210491 호 특허문헌 4: 일본특허공개공보 2014-16616 호 특허문헌 5: 일본특허공개공보 2006-73636 호 특허문헌 6: 일본특허공개공보 2006-39530 호
그러나 종래의 플렉서블 표시 장치에서는, 변형시킨 상태로 보관하거나 반복 변형시키면 틀이 잡혀버리는(완전한 평판(flat)으로 되돌아가지 않는) 경우가 있었다.
본 발명의 목적은, 변형시킨 상태로 보관하거나 반복 변형시켜도 틀이 잡히지 않는(충분히 평판으로 되돌아가는) 플렉서블 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 하나의 관점에 따르면, 플렉서블한 표시 소자와, 상기 표시 소자의 일방 주면 측에 배치되고, 3차원 가교 구조를 가지는 재료에 의해 형성된 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치가 제공된다.
본 발명에 의하면, 변형시킨 상태로 보관하거나 반복 변형시켜도 틀이 잡히지 않는(충분히 평판으로 되돌아가는) 플렉서블 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 일 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 중립면(neutral surface)을 도시한 도면이다.
도 3은 시료를 도시한 도면이다.
도 4는 컬(curl) 양의 평가 수법을 도시한 도면이다.
도 5는 변형 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치를 도시한 단면도이다.
<일 실시형태>
일 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치를 도 1 내지 도 4를 가지고 설명한다. 도 1은, 본 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치를 도시한 단면도이다.
도 1에 도시한 것과 같이 본 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치(10)는, 플렉서블한 표시 소자(11)와, 표시 소자(11)의 일방 주면 측(도 1에서의 상측면)에 구비된 부재(12)를 가지고 있다. 부재(12)는, 변형된 플렉서블 표시 장치(10)가 원래 상태로 되돌아가는 것을 재촉하는 것이다. 표시 소자(11)와 부재(12)는 모두 판상으로 형성되어 있다. 표시 소자(11)와 부재(12)의 평면 형상은, 예를 들면 직사각형이다. 표시 소자(11)와 부재(12)는, 서로 평행하게 배치되어 있다. 또한 표시 소자(11)와 부재(12)의 형상은, 직사각형으로 한정되는 것은 아니고 원형, 다각형 등 임의의 형상이어도 된다.
표시 소자(11)는 기판(13)을 포함하고 있다. 기판(13)의 일방 주면 측(도 1에서의 상측)에는, 복층 배리어막(14)이 형성되어 있다. 복층 배리어막(14) 상에는, 박막 트랜지스터(TFT: Thin-Film Transistor)를 포함하는 TFT층(박막 트랜지스터층, 15)이 형성되어 있다. TFT층(15) 상에는, 컬러필터층(16)이 형성되어 있다. 컬러필터층(16) 상에는, 유기 발광 다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)를 포함하는 OLED층(17)이 형성되어 있다. 이와 같이 복층 배리어막(14)이 형성된 기판(13) 상에는, TFT층(15)과 컬러필터층(16)과 OLED층(17)을 포함하는 구조체(18)가 형성되어 있다. 또한 여기서는, 적색 컬러필터(16R), 녹색 컬러필터(16G), 청색 컬러필터(16B), 백색 컬러필터(16W)를 포함하는 컬러필터층(16)과, 백색광을 발광하는 OLED층(17)을 조합하여 사용하는 경우를 예로 설명했지만, 여기에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 백색광을 발광하는 OLED층(17)을 대신하여, 적색광, 녹색광, 청색광을 각각 발광하는 OLED층을 사용해도 된다. 이 경우에는, 컬러필터층은 불필요하다.
기판(13)의 재료로는, 예를 들면 수지가 사용되고 있다. 이러한 수지로는, 예를 들면 폴리이미드(PI)가 사용되고 있다. 또한 기판(13)의 재료는 폴리이미드에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 복층 배리어막(14)과 TFT층(15)을 형성하는 공정의 온도 이상의 내열성을 가지는 수지를 사용할 수 있다. 기판(13) 두께는, 예를 들면 13μm 정도로 한다.
복층 배리어막(14)은, 산소와 수증기에 대해서 배리어성을 가지는 막인 배리어막을 복수 적층한 구조를 가지고 있다. 이러한 배리어막에는, 예를 들면 금속, 무기화합물, 폴리머 등이 사용되고 있다.
TFT층(15)은, OLED층(17)에 대한 전압 공급을 제어하는 TFT를 포함하고 있다. TFT는, p 채널형이어도 되고 n 채널형이어도 된다. TFT는, 반도체층과 전극을 포함하는 주지된 구성을 가지고 있다. TFT의 반도체층으로는, 예를 들면 아몰퍼스실리콘, 폴리실리콘 등이 사용되고 있다. TFT는, 도시하지 않은 제어 장치로부터 전극을 통하여 소정의 전압이 부여되면 OLED층(17)에 전압을 공급한다. TFT층(15)에 포함되는 TFT 수와 배치는, 플렉서블 표시 장치(10)의 구성에 따라서 임의로 설정된다. 플렉서블 표시 장치(10)가 bottom emission 타입인 경우, TFT층(15)에 포함되는 전극은, 빛을 투과하는 도전성 재료에 의해 구성된다. 이와 같은 재료로는, 예를 들면 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 등을 들 수 있다. TFT층(15)의 두께는, 예를 들면 4.5 μm 정도로 한다.
컬러필터층(16)은, 적색 컬러필터(16R)와 녹색 컬러필터(16G), 청색 컬러필터(16B), 백색 컬러필터(16W)를 포함하고 있다.
OLED층(발광층, 17)은, TFT층(15)으로부터 공급되는 전압에 따라서 발광하는 OLED, 즉 유기 EL(유기 일렉트로 루미네선스) 소자를 포함하고 있다. OLED는, 유기발광층과 전극을 포함하는 주지된 구성을 가지고 있다. 유기발광층에는, 예를 들면 색소계 재료, 금속착체계 재료, 고분자계 재료 등이 사용되고 있다. OLED층(17)은, 예를 들면 백색광을 발광한다. OLED층(17)에 포함되어 있는 OLED 수와 배치는, 플렉서블 표시 장치(10)의 구성에 따라서 임의로 설정된다. OLED층(17)에 포함되는 전극은, 빛을 투과하는 도전성 재료에 의해 구성되어 있다. 이와 같은 재료로는, 예를 들면 ITO 등을 들 수 있다. OLED 층(17)의 두께는, 예를 들면 0.6 μm 정도로 한다.
복층 배리어막(14) 상에는, 실링부(19)가 형성되어 있다. 실링부(19)는, TFT(15)와 컬러필터층(16)과 OLED층(17)을 포함하는 구조체(18)를 둘러싸듯이 복층 배리어막(14)의 주변둘레부 상에 형성되어 있다. 실링부(19)에 의해 둘러싸인 구조체(18)가 봉지층(20)에 의해 봉지되어 있다. 봉지층(20)은, 산소와 수증기에 대한 배리어성을 가지는 재료에 의해 형성되어 있다. 이러한 재료로는, 예를 들면 금속, 무기화합물, 폴리머 등을 들 수 있다. 구조체(18)의 하면은 복층 배리어막(14)에 의해 덮여 있고, 구조체(18)의 상면과 측면은 봉지층(20)에 의해 덮여 있다. 이와 같은 구성으로 되어 있기 때문에, 구조체(18)에 포함되어 있는 TFT층(15)과 OLED층(17)에 산소와 수증기가 도달하는 것을 방지할 수 있다.
봉지층(20)과 실링부(19)가 형성된 기판(13) 상에는, 금속층(21)이 배치되어 있다. 금속층(21)의 두께는, 예를 들면 50 μm 정도로 한다.
기판(13)의 타방 주면 측(도 1에서의 하측)에는, 전면 필름(22)과 하드 코팅막(23)을 포함하는 적층체(24)가 형성되어 있다. 이러한 적층체(24)는, 예를 들면 감압 접착제(PSA: Pressure-Sensitive Adhesive)로 이루어지는 접착층(25)에 의해 기판(13)의 타방 주면(도 1에서의 하측면)에 부착되어 있다. 전면 필름(22)의 두께는, 예를 들면 50 μm 정도로 한다. 하드 코팅막(23)의 두께는, 예를 들면 10 μm 미만으로 한다. 접착층(25)의 두께는, 예를 들면 25 μm 정도로 한다. 이렇게 해서 표시 소자(11)가 구성되어 있다.
부재(12)는 3차원 가교 구조를 가지는 재료, 즉 3차원 가교된 고분자를 포함하는 재료에 의해 형성되어 있다. 부재(12)로서 3차원 가교 구조를 가지는 재료를 사용하는 것은, 변형시킨 상태로 장시간 보관하거나 반복 변형시켜도 원래 상태로 되돌아가려고 하는 힘이 작용하여 틀이 잡히지 않도록 하기 위함이다. 또한 부재(12)로서 3차원 가교 구조를 가지는 재료를 사용하면, 부재(12)로부터 충분히 떨어진 위치에, 후술하는 중립면(31, 도 2, 도 3 참조)이 위치하기 때문에 표시 소자(11)에 잡힌 틀을, 부재(12)에 의해 원래 상태로 되돌리는 것이 가능하기 때문이다. 부재(12)에 사용되고 있는 재료의 유리 전이 온도(Tg)는, 플렉서블 표시 장치(10)의 보존 온도 범위의 하한보다 낮은 것으로 한다. 또한 본 명세서 중에서 플렉서블 표시 장치의 보존 온도 범위란, 플렉서블 표시 장치를 보존하기 위해서 허용되는 온도 범위를 말한다. 플렉서블 표시 장치(10)의 보존 온도 범위가 -20 ℃ ~ 50 ℃인 경우, 부재(12)의 유리 전이 온도(Tg)는 -20 ℃ 보다 낮은 것으로 한다. 이와 같은 부재(12)의 재료로는, 예를 들면 실리콘 고무를 들 수 있다. 실리콘 고무의 유리 전이 온도(Tg)는 -125 ℃ 부근으로, 플렉서블 표시 장치(10)의 보존 온도 범위의 하한에 비해서 충분히 낮다. 부재(12)의 유리 전이 온도(Tg)가 플렉서블 표시 장치(10)의 보존 온도 범위의 하한보다 낮기 때문에 플렉서블 표시 장치(10)를 변형시킨 상태로 저온 환경 하에서 보존한 경우라도, 플렉서블 표시 장치(10)를 변형되지 않은 상태로 되돌리는 것이 가능하다. 부재(12)의 두께는, 예를 들면 1 mm 정도로 한다. 부재(12)는, 예를 들면 감압 접착재로 이루어지는 접착층(26)에 의해 표시 소자(11)에 부착되어 있다. 접착층(26)은, 표시 소자(11)의 일방 주면(도 1에서의 상측면) 전체에 구비되어 있다. 또한 부재(12)의 재료는 실리콘 고무에 한정되는 것은 아니고, 플렉서블 표시 장치(10)의 보존 온도 범위의 하한보다 낮은 유리 전이 온도(Tg)를 가지는 재료를 부재(12)의 재료로서 적절히 사용할 수 있다. 예를 들면 우레탄 고무 등을 부재(12)의 재료로서 사용할 수 있다.
이렇게 해서 본 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치(10)가 구성되어 있다.
도 2(a)는 중립면을 도시한 도면이다. 물체(30)를 변형(만곡)시키면 일방 측(외주 측)에는 인장이 발생하고(도 2(a)의 a-a), 타방 측(내주 측)에는 압축이 발생한다(도 2(a)의 b-b). 인장이 발생하는 부분과 압축이 발생하는 부분 사이에는, 인장도 압축도 발생하지 않는 부분이 생긴다(도 2(a)의 c-c). 이러한 부분에서는, 물체(30)를 변형시킨 때에도 뒤틀림이 0이 된다. 물체(30)를 변형시킨 때에도 뒤틀림이 0인 면은 중립면으로 지칭된다.
부재(12) 위치와 중립면(31) 위치 사이의 거리(c)가 클수록 변형된 플렉서블 표시 장치(10)를 원래 상태로 되돌리는 힘의 모멘트가 커진다. 그래서 본 실시형태에서는, 플렉서블 표시 장치(10)의 중립면(31)이 부재(12)의 외부에 위치하도록 하고 있다.
플렉서블 표시 장치(10)를 만곡시켰을 때 TFT에 뒤틀림이 발생하면 양호한 표시를 얻지 못하게 되는 경우가 있다. 그래서 본 실시형태에서는, TFT층(15) 또는 TFT층(15) 근방에 중립면(31)을 위치시키고 있다.
중립면(31)의 위치를 TFT층(15) 또는 TFT층(15) 근방에 위치시키고 있으므로, 본 실시형태에 따르면, 변형된 플렉서블 표시 장치(10)를 원래 상태로 효과적으로 되돌릴 수 있을 뿐만 아니라, 플렉서블 표시 장치(10)를 만곡시켰을 때에 표시 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
도 2(b)는, 중립면(31) 계산 모델의 예를 도시한 도면이다. 도 2(b)는, 5층 구조의 물체(구조체, 30)에서의 중립면(31)의 계산 모델을 도시하고 있다. 중립면(31)의 위치는, 각 구성 요소의 두께와 탄성률(Young률)을 바탕으로 산출된다.
제 1 번째 층(1st Layer, 32)의 두께는 t1으로 하고, 제 1 번째 층(32)의 탄성률은 E1으로 한다. 제 2 번째 층(2nd Layer, 33)의 두께는 t2로 하고, 제 2 번째 층(33)의 탄성률은 E2로 한다. 제 3 번째 층(3rd Layer, 34)의 두께는 t3로 하고, 제 3 번째 층(34)의 탄성률은 E3로 한다. 제 4 번째 층(4th Layer, 35)의 두께는 t4로 하고, 제 4 번째 층(35)의 탄성률은 E4로 한다. 제 5 번째 층(5th Layer, 36)의 두께는 t5로 하고, 제 5 번째 층(36)의 탄성률은 E5로 한다. 제 1 번째 층(32)의 하면을 기준면(37)으로 하고, 기준면(37)과 중립면(31) 사이의 거리(c)는, 이하와 같은 식에 의해 구해진다.
c = (E1t1d1 + E2t2d2 + E3t3d3 + E4t4d4 + E5t5d5) / (E1t1 + E2t2 + E3t3 + E4t4 + E5t5) … (1)
단, d1 = t1 / 2, d2 = t1 + t2 / 2, d3= t1 + t2 + t3 / 2, d4= t1 + t2 + t3 + t4 / 2, d5= t1 + t2 + t3 + t4 + t5 / 2로 한다.
또한 탄성률(Young률)을 E, 단면 이차 모멘트를 I라고 하면, 휨 강성(EI)은 이하와 같은 식에 의해 구해진다.
EI = {[E1(y1 3 - (-c)3)] + [E2(y2 3 - y1 3)] + [E3(y3 3 - y2 3)] + [E4(y4 3 ? y3 3)] + [E5(y5 3 ? y4 3)]} / 3
단, t1 - c, y2 = t1 + t2 - c, y3 = y1 + y2 + y3 - c, y4 = y1 + y2 + y3 + y4 - c, y5 = y1 + y2 + y3 + y4 + y5 - c로 한다.
다음으로, 본 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치(10)의 평가 결과에 대하여 도 3을 가지고 설명한다. 도 3은, 시료를 도시한 단면도이다. 도 3(a)는 실시예 1의 시료(46)를 도시하고 있고, 도 3(b)는 비교예 1의 시료(47)를 도시하고 있고, 도 3(c)는 비교예 2의 시료(48)를 도시하고 있다. 실시예 1, 비교예 1, 비교예 2 중 어느 것에서도 시료(46 ~ 48)의 평면적 사이즈는 이하와 같이 했다. 즉, 시료(46 ~ 48)의 폭은 100 mm로 하고, 시료(46 ~ 48)의 길이는 200 mm로 했다.
도 3(a)에 도시한 실시예 1의 시료(46)는, 러버층(40)과 PSA층(41), 알루미늄층(42)과 PSA층(43), PET층(44)이 순차적으로 적층된 구조를 가지고 있다. 실시예 1의 시료(46)는 이하와 같이 해서 형성했다. 즉, PET층(44)에 PSA층(43)을 라미네이트하고, 또 알루미늄층(42)을 라미네이트하고, 더욱이 PSA층(41)을 라미네이트 하고, 또 러버층(40)을 라미네이트했다.
도 3(b)에 도시한 비교예 1의 시료(47)는, 알루미늄층(42)과 PSA층(43)과 PET층(44)이 순차적으로 적층된 구조를 가지고 있다. 비교예 1의 시료(47)는, 이하와 같이 해서 형성했다. 즉, PET층(44)에 PSA층(43)을 라미네이트하고, 더욱이 알루미늄층(42)을 라미네이트했다.
도 3(c)에 도시한 비교예 2의 시료(48)는, 스테인리스층(45)과 PSA층(41), 알루미늄층(42)과 PSA층(43), PET층(44)이 순차적으로 적층된 구조를 가지고 있다. 비교예 2의 시료(48)는, 이하와 같이 해서 형성했다. 즉, PET층(44)에 PSA층(43)을 라미네이트하고, 또 알루미늄층(42)을 라미네이트하고, 더욱이 PSA층(41)을 라미네이트하고, 또 스테인리스층(45)을 라미네이트했다.
러버층(40)은, 도 1에 도시한 부재(12)에 대응하고 있다. 러버층(40)의 재료로는, 실리콘 고무를 사용했다. 러버층(40)의 두께는 1000 μm로 했다. 러버층(40)의 탄성률은, 10 MPa 정도다.
PSA층(41)은, 도 1에 도시한 접착층(26)에 대응하고 있다. PSA층(41, 43)으로는, DIC주식회사의 양면 점착 시트(형식 번호: ZB7011W)를 사용했다. PSA층(41, 43)의 두께는 각각 25 μm로 했다. PSA층(41, 43)의 탄성률은 0.2 MPa로 했다.
알루미늄층(42)은, 도 1의 구조체(18)에 대응하는 것으로서 사용했다. 알루미늄층(42)에는, UACJ주식회사의 알루미늄박을 사용했다. 알루미늄층(42)의 두께는 50 μm로 했다. 알루미늄층(42)의 탄성률은 69 GPa이다.
PET층(44)은, 도 1에 도시한 기판(13)에 대응하고 있다. PET층(44)으로는, TOYOBO주식회사의 PET 필름(형식 번호: A4300)을 사용했다. PET층(44)의 두께는 50 μm로 했다. PET층(44)의 탄성률은 5 GPa로 했다.
스테인리스층(45)의 재료로는, 신닛테츠스미킨스테인리스주식회사의 스테인리스강(SUS304)을 사용했다. 스테인리스층(45)의 두께는 100 μm로 했다. 스테인리스층(45)의 탄성률은, 193 GPA다.
도 3(b)에 도시한 비교예 1의 시료(47)에서는, 기준면(37)과 중립면(31) 사이의 거리(c)는 30 μm이고, 중립면(31)은 알루미늄층(42)의 내부에 위치하고 있다. 도 3(c)에 도시한 비교예 2의 시료(48)에서는, 기준면(37)과 중립면(31) 사이의 거리(c)는 67 μm이고, 중립면(31)은 스테인리스층(45)의 내부에 위치하고 있다.
이에 비해서, 도 3(a)에 도시한 실시예 1의 시료(46), 즉 본 실시형태에 대응하는 시료(46)에서는, 기준면(37)과 중립면(31) 사이의 거리(c)는 1054 μm이고, 도 1에 도시한 구조체(18)에 대응하는 알루미늄층(42)의 내부에 위치하고 있다.
도 4는 컬 양의 평가 수법을 도시한 도면이다. 컬 양(a, 도 4(b) 참조)의 평가는, 시료(46 ~ 48)를 파이프(50)에 권취하고 오븐에서 장시간 가열함으로써 수행했다. 도 4(a)는, 시료(46 ~ 48)를 파이프(50) 외주에 권취한 상태를 도시하고 있다. 또한 시료(46 ~ 48)는 각각 별개의 파이프(50)에 권취된다. 파이프(50)의 중심축과 시료(46 ~ 48)의 장변이 서로 평행이 되는 것과 같은 상태에서, 시료(46 ~ 48)를 파이프(50)에 권취했다. 파이프(50)에 권취된 시료(46 ~ 48)는, 셀로판 테이프(51)를 사용하여 고정했다. 파이프(50)의 반경(r)은 30 mm로 했다. 파이프(50)에 권취한 시료(46 ~ 48)를 오븐 내에 도입하고, 가열 처리를 수행했다. 가열 온도는 60 ℃로 하고, 가열 시간은 24 시간으로 했다. 이와 같은 가열 처리가 완료된 후, 파이프(50)에 권취된 시료(46 ~ 48)를 오븐으로부터 꺼내 셀로판 테이프(51)를 벗기고, 시료(46 ~ 48)를 파이프(50)로부터 떼어내어 시료(46 ~ 48)의 컬 양(a)을 측정했다.
도 4(b)는, 컬 양(a)을 도시한 사시도이다. 비교예 1의 시료(47)에서는, 컬 양(a)은 72 mm였다. 비교예 1의 시료(47)에, 이와 같은 컬 양(a)이 발생하는 것은, 비교예 1의 시료(47)를 구성하는 PET층(44)과 PSA층(43)과 알루미늄층(42)의 적층체가 변형되는 한편 이러한 적층체의 변형을 되돌리는 구성 요소가 구비되어 있지 않기 때문이라고 생각된다.
비교예 2에서는, 컬 양(a)은 62 mm였다. 또한 스테인리스층(45) 단일체로 컬 양(a)을 평가했을 때 컬 양(a)은 0 mm였다. 스테인리스층(45) 단일체의 경우에 컬 양(a)이 0 mm인 한편 비교예 2의 경우에 컬 양(a)이 62 mm가 되는 것은, 비교예 2에서의 변형의 원인이, PET층(44)과 PSA층(43)과 알루미늄층(42)의 적층체의 변형인 것을 의미하고 있다. 또한 스테인리스층(45)은, PET층(44)과 PSA층(43)과 알루미늄층(42)의 적층체의 변형을 완전히 원래대로 되돌리는 힘은 없다고 생각된다. 이러한 적층체의 변형을 원래 상태로 되돌리는 효과가 스테인리스층(45)에서 작은 것은, 중립면(31)이 스테인리스층(45)의 내부에 위치해 있어, 이러한 적층체의 변형을 원래 상태로 되돌리는 힘의 모멘트가 작기 때문이라고 생각된다.
실시예 1에서는, 컬 양(a)은 0 mm였다. 실시예 1, 즉 본 실시형태에서 컬 양(a)이 0 mm가 되는 것은, 중립면(31)이 기준면(37)으로부터 충분히 떨어진 곳에 위치하고 있어, PET층(44)과 PSA층(43)과 알루미늄층(42)의 적층체의 변형을 원래 상태로 되돌리는 힘의 모멘트가 크기 때문이라고 생각된다.
이와 같이 본 실시형태에 의하면, 플렉서블한 표시 소자(11)의 일방 주면 측에, 3차원 가교 구조를 가지는 재료에 의해 형성된 부재가 구비되어 있다. 따라서 본 실시형태에 의하면 플렉서블 표시 장치를 변형시켜서 보관하거나 반복 변형시킨 경우라도 틀이 잡히지 않고, 평판으로 되돌릴 수 있다.
<변형 실시형태>
상기 실시형태에 한정되지 않고 다양한 변형이 가능하다.
예를 들면 상기 실시형태에서는, 변형된 플렉서블 표시 장치(10)가 원래 상태로 되돌아가는 것을 재촉하는 부재(12)가 표시 소자(11)의 배면 측에 구비되어 있지만, 여기에 한정되는 것은 아니다. 도 5는, 변형 실시형태에 따른 플렉서블 표시 장치를 도시한 단면도이다. 도 5에 도시한 것과 같이, 변형된 플렉서블 표시 장치(10)가 원래 상태로 되돌아가는 것을 재촉하는 부재(12)가 표시 소자(11)의 전면 측, 즉 표시 소자(11)의 출사면 측에 구비되어 있다. 표시 소자(11)의 전면 측에 이러한 부재(12)를 배치하는 경우에는, 이러한 부재(12)가 투명인 것이 요구된다. 이러한 부재(12)로는, 예를 들면 실리콘 고무와 우레탄 고무 등을 들 수 있다.
10: 플렉서블 표시 장치 11: 표시 소자
12: 부재 13: 기판
14: 복층 배리어막 15: TFT층
16: 컬러필터층 17: OLED층
18: 구조체 19: 실링부
20: 봉지층 21: 금속층
22: 전면 필름 23: 하드 코팅막
24: 적층체 25: 접착층
26: 접착층

Claims (12)

  1. 기판과, 상기 기판의 일방 주면 위에 배치된 OLED층을 포함하는 구조체와, 상기 기판에 배치되어 상기 구조체를 실링하는 실링부와, 상기 실링부에 의해 둘러싸인 영역에 형성되어 상기 구조체를 봉지하는 봉지층과, 상기 봉지층과 실링부 상부에 배치된 금속층을 포함하는 플렉서블한 표시 소자와,
    상기 표시 소자의 일방 주면 측에 배치되고, 3차원 가교 구조를 가지는 재료로 이루어져 변형된 표시 소자를 원래의 상태로 복원시키는 부재로 구성되며,
    상기 실링부는 상기 기판과 상기 금속층 사이에 배치되는 플렉서블 표시 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재는, 접착층에 의해 상기 표시 소자의 상기 일방 주면에 부착되어 있는 플렉서블 표시 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 접착층은, 상기 표시 소자의 상기 일방 주면 전체에 구비되어 있는 플렉서블 표시 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 접착층은, 감압 접착제로 이루어지는 플렉서블 표시 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재의 재료의 유리 전이 온도는, 플렉서블 표시 장치의 보존 온도 범위 하한보다 낮은 플렉서블 표시 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재는, 실리콘 고무 또는 우레탄 고무를 포함하는 플렉서블 표시 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    중립면이, 상기 부재의 외부에 위치하는 플렉서블 표시 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 구조체, 박막 트랜지스터가 형성된 박막 트랜지스터층을 포함하고,
    상기 중립면이, 상기 박막 트랜지스터층 또는 상기 박막 트랜지스터층의 근방에 위치하고 있는 플렉서블 표시 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재는 투명하고, 상기 표시 소자의 전면 측에 배치되어 있는 플렉서블 표시 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재는, 상기 표시 소자의 배면 측에 배치되어 있는 플렉서블 표시 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 부재의 탄성률은, 상기 표시 소자의 탄성률보다 작고,
    상기 부재의 두께는, 상기 표시 소자의 두께보다 큰 플렉서블 표시 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 표시 소자는, 판상으로 형성되어 있고,
    상기 부재는, 판상으로 형성되어 있는 플렉서블 표시 장치.
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