KR101985894B1 - Touch screen panel and method of fabricating the same - Google Patents

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KR101985894B1 KR1020110128123A KR20110128123A KR101985894B1 KR 101985894 B1 KR101985894 B1 KR 101985894B1 KR 1020110128123 A KR1020110128123 A KR 1020110128123A KR 20110128123 A KR20110128123 A KR 20110128123A KR 101985894 B1 KR101985894 B1 KR 101985894B1
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Abstract

본 발명은 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 다수의 제 1 전극패턴 및 다수의 제 2 전극패턴으로 이루어지는 전극부와; 제 1 라우팅 배선 및 제 2 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선부와; 제 1 패드전극 및 제 2 패드전극을 포함하는 패드부를 포함하며, 상기 다수의 제 1 전극패턴 상부에는 메쉬 구조인 메쉬금속 패턴이 형성되며, 상기 제 1 라우팅 배선은 투명 전극 재질의 라우팅 배선 패턴과 저저항 금속 재질의 금속배선 패턴으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the same, comprising: an electrode unit including a plurality of first electrode patterns and a plurality of second electrode patterns; A routing wiring section comprising a first routing wiring and a second routing wiring; A pad portion including a first pad electrode and a second pad electrode, wherein a mesh metal pattern having a mesh structure is formed on the plurality of first electrode patterns, and the first routing wire is formed of a routing wire pattern of a transparent electrode material; It is characterized by consisting of a metal wiring pattern of a low resistance metal material.

Description

터치 스크린 패널 및 그의 제조방법{TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 얼라인 공정 에러를 개선하기 위한 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a touch screen panel and a method of manufacturing the same for improving an alignment process error.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 증가하고 있으며, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전기발광표시장치(Electro Luminescent Display device) 등이 연구되고 있다.Recently, as the information society develops, the demand for the display field is increasing in various forms, and in response, various flat panel display devices, for example, liquid crystal, which have features such as thinning, light weight, and low power consumption Liquid crystal display devices, plasma display panel devices, electroluminescent display devices, and the like have been studied.

그리고, 표시장치의 표시패널 상에 터치패널(touch panel)을 부착한 터치스크린이 각광받고 있다.In addition, a touch screen having a touch panel attached to a display panel of a display device is in the spotlight.

터치스크린은, 영상을 표시하는 출력수단으로 사용되는 동시에, 표시된 영상의 특정부위를 터치하여 사용자의 명령을 입력 받는 입력수단으로 사용되는 것으로, 위치정보 검출방식에 따라 저항막방식, 정전용량방식, 적외선방식, 초음파방식 등으로 구분될 수 있다. The touch screen is used as an output means for displaying an image and is used as an input means for inputting a user's command by touching a specific portion of the displayed image, and according to the position information detection method, a resistive film type, a capacitive type, It may be classified into an infrared method, an ultrasonic method, and the like.

즉, 사용자가 표시패널에 표시되는 영상을 보면서 터치패널을 터치하면, 터치패널은 해당 부위의 위치정보를 검출하고 검출된 위치정보를 영상의 위치정보와 비교하여 사용자의 명령을 인식할 수 있다.
That is, when the user touches the touch panel while viewing the image displayed on the display panel, the touch panel detects the position information of the corresponding portion and recognizes the user's command by comparing the detected position information with the position information of the image.

도1및 도2는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 메탈 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도2는 도1를 절단선 Ⅱ-Ⅱ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.1 and 2 are views referred to to explain the metal patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a portion cut along the cutting line II-II 'of FIG.

종래의 터치 스크린 패널의 메탈 패터닝 공정에서는 도1및 도2에 도시한 바와 같이, 투명 기판(10) 상에 제 1 마스크 공정을 통해 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54) 등이 형성된다.In the metal patterning process of the conventional touch screen panel, as shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of connection patterns 11 and the first and second routing wires are formed on the transparent substrate 10 through a first mask process. TL and RL, and first and second pad electrodes 52 and 54 are formed.

이때, 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)은 동일 공정을 통해 투명 기판(10) 상에 형성되며, 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.In this case, the plurality of connection patterns 11, the first and second routing lines TL and RL, and the first and second pad electrodes 52 and 54 are formed on the transparent substrate 10 through the same process. For example, it may be formed of a metal having excellent conductivity such as aluminum (Al) and copper (Cu).

여기서, 다수의 연결 패턴(11)은 이후에 형성될 이웃하는 제 1 전극패턴들을 전기적으로 연결시키는 역할을 한다.
Here, the plurality of connection patterns 11 serve to electrically connect neighboring first electrode patterns to be formed later.

도3 및 도4는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 절연막 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도4는 도3을 절단선 Ⅳ-Ⅳ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.3 and 4 are views referred to for explaining the insulating film patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel. 4 is a schematic cross-sectional view of a portion cut along the cutting line IV-IV 'of FIG.

종래의 터치 스크린 패널의 절연막 패터닝 공정에서는 도3 및 도4에 도시한 바와 같이, 제 2 마스크 공정을 통해 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54) 상부에 전면적으로 절연막(20)이 형성된다.In the insulating film patterning process of the conventional touch screen panel, as shown in FIGS. 3 and 4, the plurality of connection patterns 11, the first and second routing lines TL and RL, and The insulating film 20 is formed over the first and second pad electrodes 52 and 54.

이때, 절연막(20)에는 각각의 연결 패턴(11) 양단에 각각 대응되는 제 1 및 제 2 콘택홀(CH1, CH2)과 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)을 노출시키기 위한 개구부(OA)가 형성된다.In this case, the insulating layer 20 has openings for exposing the first and second contact holes CH1 and CH2 and the first and second pad electrodes 52 and 54 respectively corresponding to both ends of the connection pattern 11. OA) is formed.

절연막(20)은 질화실리콘(SiNx) 등으로 이루어지며, 절연막(20)의 두께는 5,000Å~7,000Å인 것이 바람직하다.
The insulating film 20 is made of silicon nitride (SiNx) or the like, and the thickness of the insulating film 20 is preferably 5,000 kPa to 7,000 kPa.

도5 및 도6은 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 전극 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.5 and 6 are views referred to to explain the electrode patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel.

종래의 터치 스크린 패널의 전극 패터닝 공정에서는 도5 및 도6에 도시한 바와 같이, 제 3 마스크 공정을 통해 절연막(20) 상부에 다수의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)이 형성된다.In the electrode patterning process of the conventional touch screen panel, as illustrated in FIGS. 5 and 6, a plurality of first electrode patterns 12 and second electrode patterns 14 are formed on the insulating film 20 through a third mask process. Is formed.

여기서, 제 1 전극패턴(12)은 서로 분리되어 형성되기 때문에 절연막(20)에 형성된 제 1 및 제 2 콘택홀(도4의 CH1, CH2)을 통해 연결 패턴(도1의 12)과 전기적으로 연결되며, 제 1 방향(가로방향)으로 나란하게 배열되어 제 1 전극열을 이룬다.Here, since the first electrode pattern 12 is formed separately from each other, the first electrode pattern 12 is electrically connected to the connection pattern 12 of FIG. 1 through the first and second contact holes (CH1 and CH2 of FIG. 4) formed in the insulating film 20. Connected to each other and arranged side by side in a first direction (horizontal direction) to form a first electrode string.

반면에, 다수의 제 2 전극패턴(14)은 동일한 물질로 이루어지는 연결 전극(16)을 통해 서로 연결되며, 제 2 방향(세로방향)으로 나란하게 배열되어 제 2 전극열을 이룬다.
On the other hand, the plurality of second electrode patterns 14 are connected to each other through a connection electrode 16 made of the same material, and are arranged side by side in a second direction (vertical direction) to form a second electrode string.

이와 같이, 종래의 터치 스크린 패널은 전극부와 제 1 및 제 2 라우팅 배선(RL, TL)을 포함하는 라우팅 배선부 및 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)을 포함하는 패드부를 포함한다.As described above, the conventional touch screen panel includes a routing wiring part including an electrode part, first and second routing wires RL and TL, and a pad part including first and second pad electrodes 52 and 54. .

전극부는 예를 들어, 마름모 형상의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)을 포함할 수 있다.For example, the electrode unit may include a first electrode pattern 12 and a second electrode pattern 14 having a rhombus shape.

그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)과 다수의 연결 전극(16)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.In addition, the plurality of first electrode patterns 12 and the second electrode patterns 14 and the plurality of connection electrodes 16 formed on the electrode part may be made of the same material, for example, indium tin oxide (ITO). Can be.

라우팅 배선부는 전극부의 외곽에 형성되며, 제 1 라우팅 배선(TL)은 제 1 전극패턴(12)과 제 1 패드전극(52)을 연결하고, 제 2 라우팅 배선(RL)은 제 2 전극패턴(14)과 제 2 패드전극(54)을 연결하는 역할을 한다.
The routing wiring part is formed outside the electrode part, and the first routing wire TL connects the first electrode pattern 12 and the first pad electrode 52, and the second routing wire RL is connected to the second electrode pattern ( 14) and the second pad electrode 54 to connect.

종래의 터치 스크린 패널의 제조공정에서는 절연막 패터닝 공정 전과 전극 패터닝 공정 전에 두 번의 얼라인(Align) 공정이 필요했다.In the manufacturing process of the conventional touch screen panel, two alignment processes were required before the insulating film patterning process and before the electrode patterning process.

한편, 최근에는 롤투롤 공정을 이용하여 PET 등의 플렉서블 기판 상에 터치 센서를 제작하는 공정이 개발되고 있다.On the other hand, in recent years, a process for manufacturing a touch sensor on a flexible substrate such as PET using a roll-to-roll process has been developed.

이때, 터치 스크린 패널의 전극부에 마름모 구조(Diamond 구조)의 전극패턴을 적용하면 제 1 및 제 2 전극패턴을 기판의 단면에 형성 가능하기 때문에, 플렉서블 기판 상에 터치 센서를 제작할 수 있는 장점이 있다.In this case, when the electrode pattern of the diamond structure (Diamond structure) is applied to the electrode portion of the touch screen panel, the first and second electrode patterns can be formed on the cross-section of the substrate, so that a touch sensor can be manufactured on the flexible substrate. have.

그런데, 종래의 터치 스크린 패널에서의 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴 사이의 간격은 5~10㎛이므로, 얼라인 공정 시 정밀함이 요구되었었다.
However, since the interval between the first electrode pattern and the second electrode pattern in the conventional touch screen panel is 5 ~ 10㎛, it was required to be precise during the alignment process.

본 발명은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 전극층과 절연층과 금속층을 동시에 증착하고 임프린팅 공정으로 통해 형성된 다단의 패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 얼라인 공정 에러를 해결할 수 있는 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention is to solve the above problems, by aligning the process error by repeating the ashing and etching process using a multi-stage pattern formed by the electrode layer, the insulating layer and the metal layer at the same time and through the imprinting process An object of the present invention is to provide a touch screen panel and a method of manufacturing the same.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 터치 스크린 패널은, 다수의 제 1 전극패턴 및 다수의 제 2 전극패턴으로 이루어지는 전극부와; 제 1 라우팅 배선 및 제 2 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선부와; 제 1 패드전극 및 제 2 패드전극을 포함하는 패드부를 포함하며, 상기 다수의 제 2 전극패턴 상부에는 메쉬 구조인 메쉬금속 패턴이 형성되며, 상기 제 1 라우팅 배선은 투명 전극 재질의 라우팅 배선 패턴과 저저항 금속 재질의 금속배선 패턴으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a touch screen panel includes: an electrode unit including a plurality of first electrode patterns and a plurality of second electrode patterns; A routing wiring section comprising a first routing wiring and a second routing wiring; A pad portion including a first pad electrode and a second pad electrode, wherein a mesh metal pattern having a mesh structure is formed on the plurality of second electrode patterns, and the first routing wire is formed of a routing wire pattern of a transparent electrode material; It is characterized by consisting of a metal wiring pattern of a low resistance metal material.

여기서, 상기 다수의 제 1 전극패턴은 서로 상기 투명 전극 재질의 연결전극으로 연결되고, 상기 다수의 제 2 전극패턴은 브리지 패턴으로 연결될 수 있다.The plurality of first electrode patterns may be connected to each other by a connection electrode made of the transparent electrode material, and the plurality of second electrode patterns may be connected by a bridge pattern.

그리고, 상기 브리지 패턴은 저저항 금속 재질의 브리지 금속패턴 및 상기 브리지 금속패턴 하부에 형성되는 브리지 절연패턴을 포함하는 것이 바람직하다.The bridge pattern may include a bridge metal pattern made of a low resistance metal and a bridge insulation pattern formed under the bridge metal pattern.

또한, 상기 브리지 패턴과 상기 연결전극과의 교차영역에서는 상기 브리지 절연패턴 하부 중 상기 연결전극이 형성될 수 있다.
In addition, the connection electrode may be formed under the bridge insulation pattern in an intersection area between the bridge pattern and the connection electrode.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은, 투명 기판 상에 전극층과 절연층과 금속층을 증착하는 단계와; 임프린팅 공정을 통해 상기 금속층 상부에 제 1 내지 제 3 레진패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 내지 제 3 레진패턴을 마스크로 하여 상기 금속층 및 상기 절연층 그리고 상기 금속층을 에칭하여 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 레진패턴을 에싱하고 제 3 금속 패턴과 제 3 절연 패턴을 에칭하여 상기 라우팅 배선 패턴을 노출시키는 단계와; 상기 제 2 레진패턴 및 상기 제 3 레진패턴의 일부를 에싱하고 상기 제 2 금속 패턴을 에칭하여 브리지 금속패턴 및 메쉬금속 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키고 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention for achieving the above object comprises the steps of depositing an electrode layer, an insulating layer and a metal layer on a transparent substrate; Forming first to third resin patterns on the metal layer through an imprinting process; The metal layer, the insulating layer, and the metal layer are etched by using the first to third resin patterns as masks, and the first to third metal patterns, the first to third insulating patterns, and the first and second electrode patterns. Forming a routing wiring pattern; Ashing the first resin pattern and etching a third metal pattern and a third insulating pattern to expose the routing wiring pattern; Etching a portion of the second resin pattern and the third resin pattern and etching the second metal pattern to form a bridge metal pattern and a mesh metal pattern; Disconnecting the first electrode pattern and the second metal pattern and etching a part of the first insulating pattern and the second insulating pattern.

여기서, 제 1 내지 제 3 레진패턴은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴은 제 1 높이가 되도록 형성되고, 제 2 레진패턴은 제 1 높이 보다 높은 제 2 높이가 되도록 형성되며, 제 3 레진패턴은 제 2 높이의 일단과 제 4 높이인 2단으로 형성될 수 있다.The first to third resin patterns may have different heights. For example, the first resin pattern may be formed to have a first height, and the second resin pattern may have a second height higher than the first height. The third resin pattern may be formed of one end of the second height and two ends of the fourth height.

그리고, 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계에서, 라우팅 배선부에는 상기 제 3 금속 패턴과 상기 제 3 절연 패턴과 상기 라우팅 배선 패턴이 형성되고, 전극부에는 상기 제 1 및 제 2 금속 패턴과 상기 제 1 및 제 2 절연 패턴과 상기 제 1 및 제 2 전극패턴이 형성되며, 상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴은 연결 전극패턴에 의해 서로 연결되는 것이 바람직하다.In the forming of the first to third metal patterns, the first to third insulating patterns, the first electrode pattern, the second electrode pattern, and the routing wiring pattern, the routing wiring part may include the third metal pattern and the first wiring pattern. A third insulating pattern and the routing wiring pattern are formed, and first and second metal patterns, first and second insulating patterns, and first and second electrode patterns are formed in an electrode part, and the first electrode pattern is formed. The second electrode pattern is preferably connected to each other by a connection electrode pattern.

한편, 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계에서, 상기 제 2 절연패턴의 일부를 에싱하여 상기 브리지 금속패턴 하부에 브리지 절연패턴을 형성할 수 있다.Meanwhile, in the etching of a part of the first insulating pattern and the second insulating pattern, a portion of the second insulating pattern may be ashed to form a bridge insulating pattern under the bridge metal pattern.

그리고, 상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키는 단계에서, 상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴의 연결 전극패턴 일부를 제거하여 이웃하는 상기 제 1전극패턴을 연결하는 연결전극이 형성될 수 있다.In the disconnecting of the first electrode pattern and the second metal pattern, a connection electrode connecting the adjacent first electrode pattern by removing a part of the connection electrode pattern of the first electrode pattern and the second electrode pattern is formed. Can be formed.

또한, 상기 라우팅 배선 패턴 상부에 금속배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
The method may further include forming a metal wiring pattern on the routing wiring pattern.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에서는, 전극층과 절연층과 금속층을 순차적으로 증착하고 임프린팅 공정을 통해 형성된 다단의 패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 얼라인 공정 에러를 해결할 수 있다.As described above, in the touch screen panel and the method of manufacturing the same according to the present invention, the electrode layer, the insulating layer, and the metal layer are sequentially deposited, and the ashing and etching processes are repeated using a multi-stage pattern formed through an imprinting process. Align process error can be solved.

그리고, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은 롤투롤 공정을 이용하여 Flexible 기판 상에 터치 센서 제작하는데 적합하다.In addition, the method for manufacturing a touch screen panel according to the present invention is suitable for manufacturing a touch sensor on a flexible substrate using a roll-to-roll process.

또한, 일 전극열을 형성하는 다수의 전극패턴에는 메탈 메쉬 구조를 적용함에 따라 전체저항을 줄여 터치 센서의 성능을 향상시킬 수 있다.
In addition, as the metal mesh structure is applied to the plurality of electrode patterns forming one electrode string, the overall resistance may be reduced to improve the performance of the touch sensor.

도1및 도2는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 메탈 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도3 및 도4는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 절연막 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도5 및 도6은 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 전극 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 도면이다.
도8은 도7의 A부분을 확대한 확대도로, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서의 전극부를 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도9는 도8를 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도10은 도8를 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도11a 내지 도11f는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
1 and 2 are views referred to to explain the metal patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel.
3 and 4 are views referred to for explaining the insulating film patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel.
5 and 6 are views referred to to explain the electrode patterning process of the conventional manufacturing process of the touch screen panel.
7 is a schematic view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is an enlarged enlarged view of a portion A of FIG. 7 and is a view referred to for describing an electrode unit in a touch screen panel according to the present invention.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a portion taken along the cutting line VII-VII 'of FIG. 8; FIG.
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a portion taken along the cutting line VII-VII 'of FIG. 8; FIG.
11A to 11F are views referred to for describing a manufacturing process of a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도7은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 도면이고, 도8은 도7의 A부분을 확대한 확대도로, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서의 전극부를 설명하기 위해 참조되는 도면이다.FIG. 7 is a diagram schematically illustrating a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 8 is an enlarged view illustrating part A of FIG. 7 and is referred to for describing an electrode unit in the touch screen panel according to the present invention. It is a drawing.

도7에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 전극부, 라우팅 배선부 및 제 1 패드전극(152) 및 제 2 패드전극(154)을 포함하는 패드부 등을 포함한다.As shown in FIG. 7, the touch screen panel according to the present invention includes an electrode portion, a routing wiring portion, and a pad portion including a first pad electrode 152 and a second pad electrode 154.

전극부는 예를 들어, 마름모 형상의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)을 포함할 수 있다.For example, the electrode unit may include a first electrode pattern 112 and a second electrode pattern 114 having a rhombus shape.

여기서, 제 1 전극패턴(112)은 동일한 물질로 이루어지는 연결 전극(116)을 통해 서로 연결되며, 제 2 방향(세로방향)으로 나란하게 배열되어 제 1 전극열을 이룬다.Here, the first electrode patterns 112 are connected to each other through a connection electrode 116 made of the same material, and are arranged side by side in a second direction (vertical direction) to form a first electrode string.

반면에, 다수의 제 2 전극패턴(114)은 서로 분리되어 형성되는데, 제 1 방향(가로방향)으로 나란하게 배열되고 브리지 패턴(BP)에 의해 연결되어 제 2 전극열을 이룬다.On the other hand, the plurality of second electrode patterns 114 are formed to be separated from each other, arranged side by side in the first direction (horizontal direction) and connected by the bridge pattern (BP) to form a second electrode string.

그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)과 다수의 연결 전극(116)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.In addition, the plurality of first electrode patterns 112, the second electrode patterns 114, and the plurality of connection electrodes 116 formed on the electrode unit may be formed of the same material, for example, indium tin oxide (ITO). Can be.

한편, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에 있어서, 제 2 전극패턴(114)의 상부에는 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(도8의 138)이 형성된다.Meanwhile, in the touch screen panel according to the present invention, a mesh metal pattern (138 in FIG. 8) having a mesh structure is formed on the second electrode pattern 114.

이를 자세히 설명하면, 도8에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 제 2 전극열을 이루는 다수의 제 2 전극패턴(114)의 상부에 메탈 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(138)을 형성하고 있다.In detail, as shown in FIG. 8, the touch screen panel according to the present invention includes a mesh metal pattern 138 having a metal mesh structure on top of the plurality of second electrode patterns 114 constituting the second electrode string. Forming.

이때, 터치 스크린 패널을 구동하기 위한 신호들은 제 1 전극패턴(112) 및 메쉬금속 패턴(138)으로 각각 인가될 수 있다.
In this case, signals for driving the touch screen panel may be applied to the first electrode pattern 112 and the mesh metal pattern 138, respectively.

그런데, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 제 1 전극열 및 제 2 전극열 중에서 제 2 전극열의 길이가 더 길게 형성된다.However, in the touch screen panel according to the present invention, the length of the second electrode string is longer than the first electrode string and the second electrode string.

그 결과 길이가 긴 제 2 전극열을 이루는 다수의 제 2 전극패턴(114)에 의한 저항이 상대적으로 높다.As a result, the resistance of the plurality of second electrode patterns 114 constituting the long second electrode string is relatively high.

따라서, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 길이가 긴 제 2 전극열에 의한 저항을 차별적으로 낮추기 위해 다수의 제 2 전극패턴(114) 상부에 나노 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(138)을 형성하고 있다.Therefore, in the touch screen panel according to the present invention, a mesh metal pattern 138 having a nano mesh structure is formed on the plurality of second electrode patterns 114 in order to differentially lower the resistance caused by the long second electrode string.

즉, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 길이가 긴 제 2 전극열을 이루는 다수의 전극패턴을 ITO 전극 대신에 나노 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴을 형성함에 따라 전체저항을 감소시킬 수 있고, 그 결과 터치 스크린 패널의 성능도 향상시킬 수 있다.
That is, the touch screen panel according to the present invention can reduce the overall resistance by forming a mesh metal pattern of the nano-mesh structure instead of the ITO electrode of the plurality of electrode patterns forming the second long electrode string, and as a result touch The performance of the screen panel can also be improved.

다시 도7를 참조하면, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 라우팅 배선부는 전극부의 외곽에 형성되며, 제 1 라우팅 배선(TL) 및 제 2 라우팅 배선(RL)을 포함한다.Referring to FIG. 7 again, the routing line part of the touch screen panel according to the present invention is formed on the outer side of the electrode part and includes a first routing line TL and a second routing line RL.

여기서, 제 1 라우팅 배선(TL)은 제 1 전극패턴(112)과 제 1 패드전극(152)을 연결하고, 제 2 라우팅 배선(RL)은 제 2 전극패턴(114)과 제 2 패드전극(154)을 연결하는 역할을 한다.Here, the first routing line TL connects the first electrode pattern 112 and the first pad electrode 152, and the second routing line RL connects the second electrode pattern 114 and the second pad electrode ( 154).

이때, 제 1 라우팅 배선(TL)은 ITO 배선패턴과 금속배선 패턴의 2단으로 형성될 수 있으며, 제 2 라우팅 배선(RL)은 ITO 배선패턴과 절연 배선 패턴 그리고 금속배선 패턴의 3단으로 형성될 수 있다.In this case, the first routing line TL may be formed of two stages of an ITO wiring pattern and a metal wiring pattern, and the second routing line RL may be formed of three stages of an ITO wiring pattern, an insulated wiring pattern, and a metal wiring pattern. Can be.

그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(152, 154)은 동일 공정을 통해 투명 기판 상에 형성되며, 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.In addition, the first and second pad electrodes 152 and 154 may be formed on the transparent substrate through the same process. For example, the first and second pad electrodes 152 and 154 may be formed of a metal having excellent conductivity such as aluminum (Al) and copper (Cu).

한편, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서 제 1 라우팅 배선(TL)은 도금(Plating) 공정을 진행하여 라우팅 배선 패턴 상에 금속배선 패턴을 형성할 수 있다. 이는 도11d에서 자세히 설명하기로 한다.Meanwhile, in the touch screen panel according to the present invention, the first routing line TL may form a metallization pattern on the routing line pattern by performing a plating process. This will be described in detail with reference to FIG. 11D.

여기서는 제 1 라우팅 배선(TL)에 도금(Plating) 공정을 진행하는 것을 예를 들어 설명하나, 이에 한정되지 아니하고, 제 2 라우팅 배선(RL)에서 도금(Plating) 공정을 진행할 수도 있다.Herein, the plating process is performed on the first routing line TL. For example, the plating process is not limited thereto. The plating process may be performed on the second routing line RL.

그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)과 다수의 연결 전극(116)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.
In addition, the plurality of first electrode patterns 112, the second electrode patterns 114, and the plurality of connection electrodes 116 formed on the electrode unit may be formed of the same material, for example, indium tin oxide (ITO). Can be.

도9는 도8를 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이고, 도10은 도8를 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a portion taken along cut line VII-VII 'of FIG. 8, and FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a portion cut along line VII-VII' of FIG. It is a figure shown.

도9에 도시한 바와 같이, 투명 기판(110) 상에 제 1 전극패턴(112)이 형성되어 있고, 제 1 전극패턴(112)와 상이한 층에 브리지 절연패턴(126) 및 브리지 금속패턴(136)으로 구성되는 브리지 패턴(BP)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 9, the first electrode pattern 112 is formed on the transparent substrate 110, and the bridge insulation pattern 126 and the bridge metal pattern 136 are formed on a different layer from the first electrode pattern 112. The bridge pattern BP which consists of) is formed.

여기서, 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에서 브리지 패턴(BP)의 브리지 절연패턴(126)의 하부에는 제 1 전극패턴(112)과 동일한 층에 ITO 전극이 형성되지 않는다.Here, the ITO electrode is not formed on the same layer as the first electrode pattern 112 under the bridge insulation pattern 126 of the bridge pattern BP at the portion cut along the cutting line Ⅸ-Ⅸ '.

반면에, 도10에 도시한 바와 같이, 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에서 브리지 패턴(BP)의 브리지 절연패턴(126)의 하부에는 ITO 전극인 연결 전극(116)이 형성되어 있다.On the other hand, as shown in Fig. 10, a connection electrode 116, which is an ITO electrode, is formed under the bridge insulation pattern 126 of the bridge pattern BP at the portion cut along the cut line VIII '. .

다시 말해서, 제 1 전극패턴(112)은 연결 전극(116)에 의해 연결되어 있고, 연결 전극(116)과 브리지 패턴(BP)이 교차하는 영역(제 1 영역)에는 브리지 패턴(BP) 하부에 ITO 전극이 형성된다.In other words, the first electrode pattern 112 is connected by the connection electrode 116, and the area (first region) where the connection electrode 116 and the bridge pattern BP cross each other is under the bridge pattern BP. An ITO electrode is formed.

그리고, 연결 전극(116)은 브리지 절연패턴(126)에 의해 브리지 금속패턴(136)과 절연된다.The connection electrode 116 is insulated from the bridge metal pattern 136 by the bridge insulation pattern 126.

반면에, 브리지 패턴(BP) 중에서 연결 전극(116)과 교차하는 영역을 제외한 영역(제 2 영역)에는 브리지 패턴(BP) 하부에 ITO 전극이 형성되지 않는다.On the other hand, the ITO electrode is not formed under the bridge pattern BP in the area (second area) except for the area crossing the connection electrode 116 among the bridge pattern BP.

따라서, 제 2 전극패턴(도7의 114)은 서로 분리되어 형성되며, 브리지 패턴(BP)에 의해서 서로 연결된다.Accordingly, the second electrode pattern 114 of FIG. 7 is formed to be separated from each other, and is connected to each other by the bridge pattern BP.

결과적으로 이와 같은 구조의 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 동일한 층에 형성되는 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)은 단선시키고, 제 1 전극패턴(112)은 동일한 층에 형성되는 연결 전극(116)에 연결시키고, 제 2 전극패턴(114)은 상이한 층에 형성되는 브리지 패턴(BP)에 의해 연결시킬 수 있다.As a result, in the touch screen panel according to the present invention, the first electrode pattern 112 and the second electrode pattern 114 formed on the same layer are disconnected, and the first electrode pattern 112 is formed on the same layer. The connection electrode 116 may be connected to each other, and the second electrode pattern 114 may be connected to each other by a bridge pattern BP formed on a different layer.

이와 같은 구조의 본 발명에 따른 터치 스크린 패널을 적용하면, 종래의 터치 스크린 패널에서 연결 패턴을 형성하고 절연막을 형성한 후 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴을 형성하는 공정에서 각각 얼라인을 위한 과정을 제거할 수 있다.Applying the touch screen panel according to the present invention having such a structure, in the process of forming the first electrode pattern and the second electrode pattern after forming the connection pattern and the insulating film in the conventional touch screen panel, respectively for alignment You can eliminate the process.

이에 대해서는 이하의 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 통해 자세히 설명하기로 한다.
This will be described in detail through the manufacturing process of the touch screen panel according to the embodiment of the present invention.

도11a 내지 도11f는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도11a 내지 도11f에서 라우팅 배선부는 도7를 절단선 XI-XI'를 따라 절단한 부분에 대한 단면을 나타낸다.11A to 11F are views referred to for describing a manufacturing process of a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention. In Figs. 11A to 11F, the routing wiring portion shows a cross section of the portion cut along Fig. 7 along the cutting line XI-XI '.

먼저, 도11a에 도시한 바와 같이, 투명 기판(110) 상에 전극층(210)과 절연층(220)과 금속층(230)을 순차적으로 증착한다. 그리고 금속층(230) 상부에 레진층(미도시)을 도포한 후 임프린팅(Imprinting) 공정을 통해 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)을 형성한다.First, as shown in FIG. 11A, the electrode layer 210, the insulating layer 220, and the metal layer 230 are sequentially deposited on the transparent substrate 110. The first to third resin patterns 242, 244, and 246 are formed by applying a resin layer (not shown) on the metal layer 230 and performing an imprinting process.

여기서, 투명 기판(110)은 플렉서블 재질의 플락스틱 기판일 수 있으며, 전극층(210)은 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 전극으로 이루어질 수 있다.Here, the transparent substrate 110 may be a flexible substrate made of a flexible material, and the electrode layer 210 may be formed of a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO).

그리고, 절연층(220)은 질화실리콘(SiNx) 등으로 이루어질 수 있다.In addition, the insulating layer 220 may be made of silicon nitride (SiNx) or the like.

또한, 금속층(230)은 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.In addition, the metal layer 230 may be formed of a metal having excellent conductivity such as aluminum (Al), copper (Cu), and the like.

한편, 제 1 레진패턴(242)은 라우팅 배선부에 형성되며, 제 2 내지 제 3 레진패턴(244, 246)은 전극부에 형성될 수 있다.Meanwhile, the first resin pattern 242 may be formed in the routing line portion, and the second to third resin patterns 244 and 246 may be formed in the electrode portion.

그리고, 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴(242)은 제 1 높이(h1)가 되도록 형성되고, 제 2 레진패턴(244)은 제 1 높이(h1) 보다 높은 제 2 높이(h2)가 되도록 형성될 수 있다.The first to third resin patterns 242, 244, and 246 may have different heights. For example, the first resin pattern 242 is formed to have a first height h1, and the second The resin pattern 244 may be formed to have a second height h2 higher than the first height h1.

그리고, 제 3 레진패턴(246)은 제 2 높이(h2)를 가지는 일단과 제 4 높이(h4)를 가지는 2단으로 형성될 수 있다. (h4=h3+h2)
The third resin pattern 246 may be formed of one end having a second height h2 and two ends having a fourth height h4. (h4 = h3 + h2)

다음으로, 도11b에 도시한 바와 같이, 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)을 마스크로 하여 잔막을 에싱하는 에싱 공정과 금속 등을 에칭하는 에칭 공정을 수행할 수 있다.Next, as shown in FIG. 11B, an ashing process for ashing the remaining film and an etching process for etching metals or the like may be performed using the first to third resin patterns 242, 244 and 246 as masks.

에칭 공정시 금속층(230)과 절연층(220)과 전극층(210)이 순차적으로 제거될 수 있다.The metal layer 230, the insulating layer 220, and the electrode layer 210 may be sequentially removed during the etching process.

그 결과 라우팅 배선부에는 제 3 금속 패턴(231)과 제 3 절연 패턴(221)과 라우팅 배선 패턴(211)이 형성되고, 전극부에는 제 1 금속 패턴(232)과 제 1 절연 패턴(222)과 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 금속 패턴(234)과 제 2 절연 패턴(224)과 연결 전극패턴(214)이 형성될 수 있다.As a result, the third metal pattern 231, the third insulating pattern 221, and the routing wiring pattern 211 are formed in the routing wiring part, and the first metal pattern 232 and the first insulating pattern 222 are formed in the electrode part. The first electrode pattern 212, the second metal pattern 234, the second insulating pattern 224, and the connection electrode pattern 214 may be formed.

이때, 제 1 전극패턴(112)과 제 2 전극패턴(114)은 연결 전극패턴(214)에 의해 서로 연결되어 있다.
In this case, the first electrode pattern 112 and the second electrode pattern 114 are connected to each other by the connection electrode pattern 214.

도11c에 도시한 바와 같이, 레진패턴을 에싱하는 에싱공정을 진행하여 라우팅 배선부에서 제 1 높이(h1)인 제 1 레진패턴(242)을 제거할 수 있다.As shown in FIG. 11C, the ashing process of ashing the resin pattern may be performed to remove the first resin pattern 242 having the first height h1 from the routing wiring part.

그리고, 순차적으로 제 3 금속 패턴(231)과 제 3 절연 패턴(221)을 에칭할 수 있다.In addition, the third metal pattern 231 and the third insulating pattern 221 may be sequentially etched.

이때, 레진패턴 에싱공정 시 전극부의 제 2 레진패턴(244)의 제 2 높이(h2)가 제 2 변경높이(h2')로 변경되고, 제 3 레진패턴(246)의 제 2 높이(h2) 및 제 4 높이(h4)가 각각 제 2 변경높이(h2') 및 제 4 변경높이(h4')로 변경될 수 있다. (h4'=h3'+h2')
At this time, the second height h2 of the second resin pattern 244 of the electrode part is changed to the second change height h2 'during the resin pattern ashing process, and the second height h2 of the third resin pattern 246 is changed. And the fourth height h4 may be changed to the second change height h2 'and the fourth change height h4', respectively. (h4 '= h3' + h2 ')

도11d에 도시한 바와 같이, 라우팅 배선부에서는 도금(Plating) 공정을 진행하여 라우팅 배선 패턴(211) 상에 금속배선 패턴(223)을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 11D, in the routing wiring part, a plating process may be performed to form the metal wiring pattern 223 on the routing wiring pattern 211.

즉, 제 1 라우팅 배선(TL)은 라우팅 배선 패턴(211)과 금속배선 패턴(223)의 2단으로 형성될 수 있다.That is, the first routing line TL may be formed in two stages of the routing line pattern 211 and the metal line pattern 223.

여기서는 라우팅 배선부에서 도금(Plating) 공정이 먼저 진행되는 것을 예를 들어 설명하지만 이에 한정되지 아니하고 이하에 설명하고 있는 전극부에서 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴 및 브리지 패턴을 먼저 형성하고, 그 이후에 라우팅 배선부에서 도금(Plating) 공정이 진행되어도 무관하다.
Here, for example, the plating process is first performed in the routing wiring part, but the present invention is not limited thereto, but the mesh metal pattern and the bridge pattern of the mesh structure are first formed in the electrode part described below, followed by routing. Plating process may be performed in the wiring part.

한편, 도11e에 도시한 바와 같이, 전극부에서는 레진패턴을 에싱하는 에싱공정을 진행하여 제 2 변경높이(h2')인 제 2 레진패턴(244)을 제거할 수 있다.On the other hand, as shown in Fig. 11E, the electrode portion can be subjected to an ashing process for ashing the resin pattern to remove the second resin pattern 244, which is the second change height h2 '.

그리고 나서, 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234)을 에칭할 수 있다.Thereafter, the first metal pattern 232 and the second metal pattern 234 may be etched.

이때, 제 3 레진패턴(246)의 제 2 변경높이(h2')의 일단은 제거되고, 제 4 변경높이(h4')가 줄어들어 h4''로 변경될 수 있다.At this time, one end of the second change height h2 ′ of the third resin pattern 246 may be removed, and the fourth change height h4 ′ may be reduced to be changed to h4 ″.

한편, 제 1 금속 패턴(232)은 전부 에칭되어 제 1 절연 패턴(222)을 노출시키고, 제 2 금속 패턴(234)은 일부 에칭되어 제 3 레진패턴(246)에 대응하는 브리지 금속패턴(236)이 형성될 수 있다.Meanwhile, all of the first metal patterns 232 are etched to expose the first insulating patterns 222, and the second metal patterns 234 are partially etched to correspond to the bridge metal patterns 236 corresponding to the third resin patterns 246. ) May be formed.

그리고, 도시되지는 않았지만, 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234) 에칭 시 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234)과 동일한 층에 있으며 제 2 전극패턴(도7의 114)에 대응되는 금속 패턴(미도시)도 에칭될 수 있다.Although not shown, when etching the first metal pattern 232 and the second metal pattern 234, the second electrode pattern may be disposed on the same layer as the first metal pattern 232 and the second metal pattern 234. A metal pattern (not shown) corresponding to 114 of 7 may also be etched.

그 결과 제 2 전극패턴(114)에 대응되는 금속 패턴은 나노 메쉬구조가 되도록 에칭되어 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(도7의 138)을 형성할 수 있다.As a result, the metal pattern corresponding to the second electrode pattern 114 may be etched to have a nanomesh structure to form a mesh metal pattern 138 of FIG. 7.

또한, 도시되지는 않았지만, 라우팅 배선부에서는 제 2 라우팅 배선(RL)을 형성될 수 있으며, 이때, 제 2 라우팅 배선(RL)은 ITO 배선패턴과 절연패턴 그리고 금속배선 패턴의 3단으로 형성될 수 있다.
In addition, although not shown, the second routing line RL may be formed in the routing line unit. In this case, the second routing line RL may be formed of three stages of an ITO wiring pattern, an insulation pattern, and a metal wiring pattern. Can be.

그리고 나서, 도11f에 도시한 바와 같이, 제 1 절연 패턴(222)을 에칭하여 제 1 전극패턴(212)을 노출시키고, 제 3 레진패턴(246) 부근의 제 2 절연 패턴(224)의 일부 에칭하고 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 전극패턴(도7의 114)을 단선시키도록 연결 전극패턴(214)의 일부를 에칭할 수 있다.Then, as shown in FIG. 11F, the first insulating pattern 222 is etched to expose the first electrode pattern 212, and a part of the second insulating pattern 224 near the third resin pattern 246 is exposed. A portion of the connection electrode pattern 214 may be etched to etch and to disconnect the first electrode pattern 212 and the second electrode pattern (114 of FIG. 7).

좀 더 자세히 설명하면, 제 3 레진패턴(246) 부근의 제 2 절연 패턴(224) 중 에칭되는 영역은 그 상부에 형성된 브리지 금속패턴(236)과 대응되는 부분을 제외한 영역이다.In more detail, the etched region of the second insulating pattern 224 near the third resin pattern 246 is a region except for a portion corresponding to the bridge metal pattern 236 formed thereon.

그리고 나서 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 전극패턴(114)을 단선시키기 위하여 제 1 전극패턴(212)과 제 2 전극패턴(114)을 연결하는 연결 전극패턴(214)의 일부를 Over Etch 방법에 의해 제거할 수 있다.Then, part of the connecting electrode pattern 214 connecting the first electrode pattern 212 and the second electrode pattern 114 to over-etch the first electrode pattern 212 and the second electrode pattern 114 is over-etched. It can remove by a method.

이때, 연결 전극패턴(214) 중 잔존하는 영역은 이웃하는 제 1 전극패턴(212)을 연결시키는 연결 전극(도7의116)이 될 수 있다.
In this case, the remaining region of the connection electrode pattern 214 may be a connection electrode (116 of FIG. 7) connecting the neighboring first electrode pattern 212.

이와 같은 제조방법에 의해 제조된 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 전극층과 절연층과 금속층을 순차적으로 증착하고 다수의 레진패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 제 1 전극패턴과 제 2 전극패턴을 동시에 형성하기 때문에 별도의 얼라인 공정을 제거할 수 있어 얼라인 공정 시 발생하는 얼라인 에러를 방지할 수 있다.The touch screen panel according to the present invention manufactured by such a manufacturing method sequentially deposits an electrode layer, an insulating layer, and a metal layer, and repeats an ashing and etching process using a plurality of resin patterns. Since the electrode patterns are formed at the same time, a separate alignment process can be removed, thereby preventing alignment errors occurring during the alignment process.

그리고, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은 롤투롤 공정을 이용하여 플렉서블 기판 상에 터치 센서 제작하는데 효과적일 수 있다.In addition, the manufacturing method of the touch screen panel according to the present invention may be effective for manufacturing a touch sensor on the flexible substrate using a roll-to-roll process.

또한, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 일 전극열을 형성하는 다수의 전극패턴에 메탈 메쉬 구조를 적용함에 따라 전체저항을 줄여 터치 센서의 성능을 향상시킬 수 있다.In addition, the touch screen panel according to the present invention may improve the performance of the touch sensor by reducing the overall resistance by applying a metal mesh structure to a plurality of electrode patterns forming one electrode string.

한편, 이와 같이 제조된 터치 스크린 패널은 유기발광 다이오드 표시장치 및 액정표시장치 등에 적용될 수 있다.
Meanwhile, the touch screen panel manufactured as described above may be applied to an organic light emitting diode display and a liquid crystal display.

이상과 같은 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위 및 이와 균등한 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.
The embodiments of the present invention as described above are merely exemplary, and those skilled in the art may freely modify the present invention without departing from the gist of the present invention. Therefore, the protection scope of the present invention shall include modifications of the present invention within the scope of the appended claims and equivalents thereof.

112: 제 1 전극패턴 114: 제 2 전극패턴
116: 연결 전극 BP: 브리지 패턴
TL: 제 1 라우팅 배선 RL: 제 2 라우팅 배선
152: 제 1 패드전극 154: 제 2 패드전극
112: first electrode pattern 114: second electrode pattern
116: connection electrode BP: bridge pattern
TL: first routing wire RL: second routing wire
152: first pad electrode 154: second pad electrode

Claims (10)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 투명 기판 상에 전극층과 절연층과 금속층을 증착하는 단계와;
임프린팅 공정을 통해 상기 금속층 상부에 제 1 내지 제 3 레진패턴을 형성하는 단계와;
상기 제 1 내지 제 3 레진패턴을 마스크로 하여 상기 금속층 및 상기 절연층 그리고 상기 전극층을 에칭하여 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계와;
상기 제 1 레진패턴을 에싱하고 제 3 금속 패턴과 제 3 절연 패턴을 에칭하여 상기 라우팅 배선 패턴을 노출시키는 단계와;
상기 제 2 레진패턴 및 상기 제 3 레진패턴의 일부를 에싱하고 상기 제 2 금속 패턴을 에칭하여 브리지 금속패턴 및 메쉬금속 패턴을 형성하는 단계와;
상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키고 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
Depositing an electrode layer, an insulating layer and a metal layer on the transparent substrate;
Forming first to third resin patterns on the metal layer through an imprinting process;
The metal layer, the insulating layer, and the electrode layer are etched by using the first to third resin patterns as masks, and the first to third metal patterns, the first to third insulating patterns, and the first and second electrode patterns. Forming a routing wiring pattern;
Ashing the first resin pattern and etching a third metal pattern and a third insulating pattern to expose the routing wiring pattern;
Etching a portion of the second resin pattern and the third resin pattern and etching the second metal pattern to form a bridge metal pattern and a mesh metal pattern;
Disconnecting the first electrode pattern and the second metal pattern and etching a portion of the first insulating pattern and the second insulating pattern
Method of manufacturing a touch screen panel comprising a.
제5항에 있어서,
제 1 내지 제 3 레진패턴은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴은 제 1 높이가 되도록 형성되고,
제 2 레진패턴은 제 1 높이 보다 높은 제 2 높이가 되도록 형성되며,
제 3 레진패턴은 제 2 높이의 일단과 제 4 높이인 2단으로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
The method of claim 5,
Each of the first to third resin patterns may have a different height. For example, the first resin pattern may be formed to have a first height.
The second resin pattern is formed to be a second height higher than the first height,
The third resin pattern is a touch screen panel manufacturing method, characterized in that formed in two stages, one end of the second height and the fourth height.
제5항에 있어서,
제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계에서,
라우팅 배선부에는 상기 제 3 금속 패턴과 상기 제 3 절연 패턴과 상기 라우팅 배선 패턴이 형성되고,
전극부에는 상기 제 1 및 제 2 금속 패턴과 상기 제 1 및 제 2 절연 패턴과 상기 제 1 및 제 2 전극패턴이 형성되며,
상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴은 연결 전극패턴에 의해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
The method of claim 5,
In the step of forming the first to third metal pattern and the first to third insulating pattern, and the first electrode pattern and the second electrode pattern and routing wiring pattern,
The third metal pattern, the third insulating pattern, and the routing wiring pattern are formed in the routing wiring part.
In the electrode part, the first and second metal patterns, the first and second insulating patterns, and the first and second electrode patterns are formed.
And the first electrode pattern and the second electrode pattern are connected to each other by a connection electrode pattern.
제5항에 있어서,
상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계에서,
상기 제 2 절연패턴의 일부를 에싱하여 상기 브리지 금속패턴 하부에 브리지 절연패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
The method of claim 5,
Etching the portions of the first insulation pattern and the second insulation pattern,
And forming a bridge insulation pattern under the bridge metal pattern by ashing a portion of the second insulation pattern.
제5항에 있어서,
상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키는 단계에서,
상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴의 연결 전극패턴 일부를 제거하여 이웃하는 상기 제 1전극패턴을 연결하는 연결전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
The method of claim 5,
In the step of disconnecting the first electrode pattern and the second metal pattern,
And removing a portion of the connection electrode pattern between the first electrode pattern and the second electrode pattern to form a connection electrode connecting the neighboring first electrode pattern.
제5항에 있어서,
상기 라우팅 배선 패턴 상부에 금속배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
The method of claim 5,
Forming a metal wiring pattern on the routing wiring pattern further comprising the manufacturing method of the touch screen panel.
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