KR101982506B1 - 평탄도 조절장치 - Google Patents

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인하대학교 산학협력단
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Abstract

본 발명에 따른 평탄도 조절장치는 전원공급부로부터 전류를 인가받아 가공물을 전기화학 가공하는 전극부와 연결되어, 상기 전극부의 평탄도를 조절하는 평탄도 조절장치에 있어서, 상기 전극부의 일측에 이격배치되는 프레임; 상기 전극부의 일측에 구비되고, 상기 전극부의 전류밀도를 각각 감지하는 복수개의 전류센서; 일단이 상기 전극부에 구비되고 타단이 상기 프레임에 연결되어, 상기 전류센서가 감지한 상기 전극부의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부의 각도를 조정하는 구동부; 및 상기 구동부 및 상기 복수개의 전류센서에 전기적으로 연결되어, 상기 전류센서로부터 상기 전극부의 전류밀도를 전달받아 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함한다.
본 발명에 의한 본 발명에 의한 평탄도 조절장치는, 전극부에 공급되는 전류밀도에 대응하여 전극부의 각도를 조정함으로써, 전극부의 평탄도를 조절가능하다. 따라서 전극부에서 가공물에 방사하는 전류밀도가 균일하도록 조정할 수 있어 가공물의 가공균일성을 향상시킬 수 있다. 또한 정반을 사용하지 않고도 전극부의 평탄도를 조정할 수 있어 중량도가 감소할 수 있어 소형화가 가능하여 활용도가 향상될 수 있다.

Description

평탄도 조절장치{Controlling system of flatness}
본 발명은 평탄도 조절장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가공물을 전기화학 가공하는 전극부와 연결되어, 전극부에서 가공물에 방사되는 전류밀도가 일정하도록 전극부의 평탄도를 조절하는 평탄도 조절장치에 관한 것이다.
일반적으로 전기화학가공(Electrochemical Machining)은 전기 화학적 용해를 이용하여 금속재료를 가공하는 방법으로, 전기화학가공에는 전해가공, 전해연마 등이 있다. 상기한 바와 같은 전기화학가공을 이용하여 금소재료를 가공하기 위해서는, 전극부에 음극을 공급하고, 가공물에 양극을 공급하여 전극부와 가공물을 전해액에 담가 가공할 수 있다. 즉, 전극부와 가공물이 전해액에 담가진 상태에서 전류를 인가하면 양극인 가공물 표면에서 미량의 산소와 수소가 발생하며 전류가 집중되는 가공물의 표면이 용출되어 가공물의 표면 혹은 형상을 가공하게 된다. 이러한 전기화학가공에서는 가공물과 전극사이의 거리가 가까울수록 전류가 많이 흐르기 때문에 가공물과 전극사이의 거리인 간극(gap size)은 가공성에 영향을 미치게 된다. 따라서 가공물과 전극의 평행공차가 0에 가까울수록 전류가 균일하게 분포되어 가공성이 향상될 수 있다.
종래의 전기화학 가공장치는, 대한민국 공개특허 특2002-0087258호가 개시되어 있다.
하지만 종래의 전기화학 가공장치는 가공을 시작하기 전에 거리센서를 이용하여 전극과 가공물과의 거리를 정확하게 일치시킨 후 가공을 시작하게 된다. 이 때 전극과 가공물과의 거리를 일치시키기 위해서 기준이 되는 정반을 이용하게 되며, 정반을 이용하여 간극을 평탄하게 조정할 수 있다. 하지만 종래의 전기화학 가공장치와 같이 정반을 사용하여 평탄도를 조절하는 경우, 규모가 커져 소형화 시킬 수 없다는 단점이 있다.
한편 종래의 전기화학 가공장치는 전극부의 일측에서 전류를 공급받는 경우, 가공물을 가공하는 전극부의 전류밀도가 일정하지 않고 편향되어 형성될 수 있다는 문제점이 있으며, 간극이 조정된 상태에서 가공을 시작하고 가공이 완료 후 가공물에 대한 가공 상태를 확인할 수 있어 전류밀도의 편향으로 인하여 발생하는 불량을 실시간으로 조정할 수 없다는 단점이 있다. 따라서 종래의 전기화학 가공장치는, 가공이 완료된 후에 가공물의 가공 상태를 확인하도록 구성되어, 전극부의 전류밀도에 따른 가공불량이 발생하면, 재가공을 요구하여 가공 시간 및 비용이 소모되어 가공효율을 저하시킬 수 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 소형화가 가능하며, 전류밀도의 편향으로 발생하는 가공불량을 최소화하여 가공효율을 향상시킨 평탄도 조절장치를 제공하는 것에 목적이 있다.
본 발명의 일 측면에 따른 평탄도 조절장치는, 전원공급부로부터 전류를 인가받아 가공물을 전기화학 가공하는 전극부와 연결되어, 상기 전극부의 평탄도를 조절하는 평탄도 조절장치에 있어서, 상기 전극부의 일측에 이격배치되는 프레임; 상기 전극부의 일측에 구비되고, 상기 전극부의 전류밀도를 각각 감지하는 복수개의 전류센서; 일단이 상기 전극부에 구비되고 타단이 상기 프레임에 연결되어, 상기 전류센서가 감지한 상기 전극부의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부의 각도를 조정하는 구동부; 및 상기 구동부 및 상기 복수개의 전류센서에 전기적으로 연결되어, 상기 전류센서로부터 상기 전극부의 전류밀도를 전달받아 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.
여기서 상기 복수개의 전류센서는, 상기 전극부의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 배치된다.
또한 상기 구동부는, 상기 전극부의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격배치되어 복수개가 구비될 수 있으며, 일단이 상기 전극부에 연결되는 조절바와, 상기 조절바의 타단에 결합되고, 슬라이딩이동하도록 구비되어 상기 조절바의 타단을 이동시키는 슬라이딩부를 포함하는를 포함할 수 있다.
한편 본 발명의 평탄도 조절장치는, 상기 전극부와 상기 프레임 사이에 구비되고, 판 형상이며, 직선형상의 복수개의 가이드홀이 형성되고, 상기 조절바가 상기 가이드홀에 관통되어 상기 조절바의 이동을 가이드하는 가이드부를 더 포함할 수 있다.
여기서 상기 가이드홀은, 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 복수개가 형성되는 것이 바람직하다.
또한 상기 복수개의 전류센서는, 상기 전극부의 전류밀도를 실시간으로 측정하도록 구성될 수 있다.
한편 본 발명의 평탄도 조절장치는, 상기 복수개의 전류센서와 전기적으로 연결되어, 상기 복수개의 전류센서에서 측정하는 상기 전극부의 전류밀도를 실시간으로 전달받아 모니터링하는 모니터링부를 더 포함하는 것이 바람직하다.
또한 상기 제어부는, 상기 복수개의 전류센서가 감지한 상기 전극부의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부의 각도를 조정함으로써 상기 전극부와 가공물의 간극을 조절하는 것이 바람직하며, 상기 복수개의 전류센서로부터 각각 전달받은 상기 전극부의 전류밀도를 서로 비교하여, 상대적으로 전류밀도가 높은 측의 전극부와 가공물의 간극을 넓도록 형성시키고, 상대적으로 전류밀도가 낮은 측의 전극부와 가공물의 간극을 좁도록 형성시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 평탄도 조절장치는, 전극부에 공급되는 전류밀도에 대응하여 전극부의 각도를 조정함으로써, 전극부의 평탄도를 조절가능하여 가공물에 방사하는 전류밀도가 균일하도록 조정할 수 있어 가공물의 가공균일성을 향상시킬 수 있다.
또한 정반을 사용하지 않고도 전극부의 평탄도를 조정할 수 있어 중량도가 감소할 수 있어 소형화가 가능하고, 활용도가 향상될 수 있다.
더불어 전극부의 전류밀도를 전류센서를 통하여 실시간으로 감지할 수 있으며, 모니터링부에 의하여 전극부의 전류밀도를 실시간으로 모니터링 할 수 있어 가공불량을 최소화하여 가공효율이 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 평탄도 조절장치를 도시한 측면도,
도 2는 도 1에 나타낸 평탄도 조절장치의 일부를 도시한 사시도,
도 3은 도 1에 나타낸 평탄도 조절장치의 전극부의 평탄도를 조절하는 상태는 측면도,
도 4는 도 1에 도시한 평탄도 조절장치를 이용하여 전극부의 평탄도를 조절하는 과정을 개략적으로 도시한 사시도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들은 대체할 수 있는 균등한 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 평탄도 조절장치(10)는 가공물(P)을 전기화학가공하기 위한 전극부(100)의 평탄도를 조절하기 위한 장치이다. 여기서 상기 전원공급부(20)는 가공물(P)과 전극부(100)에 연결되어 가공물(P)과 전극부(100)에 전류를 인가할 수 있다. 다만, 상기 전원공급부(20)에 대한 세부구성은, 전기화학 가공장치와 관련된 공지의 기술에 해당하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다. 상기 평탄도 조절장치(10)는 상기 전극부(100)의 일측에 구비되며, 프레임(200), 복수개의 전류센서(300), 구동부(400), 제어부(500), 가이드부(600), 모니터링부(700)를 포함한다.
상기 프레임(200)은 상기 전극부(100)의 일측에 이격 배치된다.
상기 복수개의 전류센서(300)는 상기 전극부(100)의 전류밀도를 감지하기 위한 것으로, 상기 전극부(100)의 일측에 구비된다. 즉 상기 복수개의 전류센서(300)는 상기 전극부(100)에 결합되는 위치에서 상기 전극부(100)의 전류밀도를 각각 감지할 수 있으며, 상기 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 측정할 수 있다. 부연하면 상기 복수개의 전류센서(300)는, 상기 전극부(100)의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 배치되는 것이 바람직하다. 도면에서는 상기 복수개의 전류센서(300)가 3개 구비하도록 도시되었으나, 이에 한정하는 것은 아니며 상기 전극부(100)의 형상 및 크기에 대응하여 적절하게 변경하여 적용시킬 수 있을 것이다.
상기 구동부(400)는 상기 전류센서(300)가 감지한 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부(100)의 각도를 조정하기 위한 것으로, 일단이 상기 전극부(100)에 구비되고 타단이 상기 프레임(200)에 연결된다. 즉 상기 구동부(400)는 상기 복수개의 전류센서(300)에서 감지한 상기 전극부(100)의 전류밀도를 전달받을 수 있으며, 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부(100)의 각도를 조정하여 상기 전극부(100)에서 가공물에 방사하는 전류밀도가 일정하도록 조절한다. 상기 구동부(400)는 조절바(410)와 슬라이딩부(420)를 포함할 수 있으며, 상기 조절바(410)와 상기 슬라이딩부(420)는 상기 전극부(100)의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격 배치되어 복수개가 구비되는 것이 바람직하다.
상기 조절바(410)는 일단이 상기 전극부(100)에 연결되어 상기 전극부(100)의 평탄도를 조절한다. 즉 상기 조절바(410)는 일단이 상기 전극부(100)의 일측에 회동가능하도록 결합되어, 상기 전류센서(300)로부터 상기 전극부(100)의 전류밀도를 전달받을 수 있으며, 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 회동함으로써 상기 전극부(100)의 평탄도를 조절할 수 있다. 부연하면 상기 조절바(410)는 복수개가 구비됨으로써, 상기 전류센서(300)로부터 전달받은 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 각각 회동하는 것이 바람직하다. 또한 복수개의 상기 조절바(410)는 상기 전극부(100)가 수평인 상태에서 각각의 타단이 상기 프레임부(100)의 중심을 향하도록 배치되는 것이 바람직하다.
상기 슬라이딩부(420)는 슬라이딩 이동함으로써 상기 조절바(410)의 타단을 이동시킨다. 즉 상기 슬라이딩부(420)는 일측이 상기 조절바(410)의 타단에 결합되어, 슬라이딩 이동함으로써 상기 조절바(410)의 타단을 일측으로 이동시켜 상기 조절바(410)를 상기 전극부(100)로부터 회동시킬 수 있다. 상기 슬라이딩부(420)는 상기 조절바(410)의 타단에 회동가능하도록 구비되는 것이 바람직하며, 상기 조절바(410)의 개수에 대응하여 구비될 수 있다. 부연하면 상기 슬라이딩부(420)는 중심을 향해 배치된 상기 조절바(410)의 타단을 상기 프레임부(100)의 외측을 향하도록 이동시킴으로써, 상기 조절바(410)의 일단이 회동하여 상기 전극부(100)가 하측으로 이동하도록 조정할 수 있다. 즉 상기 슬라이딩부(420)는 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 전류밀도가 상대적으로 약한 위치의 전극부(100)를 하측으로 이동시킴으로써, 상기 전극부(100)와 가공물(P) 사이가 가까워지도록 조정하여 상기 전극부(100)로부터 가공물(P)에 방사되는 전류밀도가 높아지도록 조정할 수 있다. 부연하면 상기 슬라이딩부(420)는 랙기어(Rack gear)와 피니언기어(Pinion gear)로 구성될 수 있다. 즉 상기 피니언기어와 상기 랙기어가 서로 맞물리도록 구비되고, 상기 랙기어의 일측에 상기 조절바(410)의 타단이 회동가능하도록 결합되어, 상기 피니언기어가 회전함으로써 상기 랙기어가 일측으로 이동하여 상기 조절바(410)의 타단이 상기 랙기어를 따라 이동할 수 있다. 따라서 상기 조절바(410)의 타단이 상기 랙기어를 따라 이동함으로써, 상기 전극부(100)로부터 회동하여 상기 전극부(100)의 평탄도가 조절가능하다. 상기 슬라이딩부(420)는 랙기어와 피니언기어로 구성되도록 한정하는 것은 아니며, 리니어모터(linear motor) 또는 구동실린더와 같이 슬라이딩 가능한 다른 구성으로 적용할 수 있을 것이다.
상기 가이드부(600)는 상기 조절바(410)의 이동을 가이드하기 위한 것으로, 상기 전극부(100)와 상기 프레임(200) 사이에 구비된다. 상기 가이드부(600)는 상기 프레임(200)과 결합볼(601)을 통하여 중심이 결합되는 것이 바람직하다. 상기 가이드부(600)는, 판 형상이며, 직선형상의 복수개의 가이드홀(600h)이 형성된다. 상기 가이드홀(600h)은, 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 복수개가 형성되는 것이 바람직하다. 상기 조절바(410)는 상기 가이드홀(600h)에 관통되어 배치 될 수 있으며, 상기 가이드홀(600h)은 직선형상으로 형성되어 상기 가이드홀(600h)의 직선형상을 따라 상기 조절바(410)가 이동할 수 있다. 즉 상기 가이드부(600)는 상기 조절바(410)가 상기 슬라이딩부(420)에 의하여 이동할 때 상기 가이드홀(600h)을 따라 이동함으로써, 상기 조절바(410)의 이동을 가이드 할 수 있다.
상기 제어부(500)는 상기 구동부(400) 및 상기 복수개의 전류센서(300)에 전기적으로 연결되어, 상기 전류센서(300)로부터 상기 전극부(100)의 전류밀도를 전달받아 상기 구동부(400)를 제어한다. 즉 상기 제어부(500)는, 상기 복수개의 전류센서(300)가 감지한 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 상기 구동부(300)를 구동시킴으로써, 상기 전극부(100)의 각도를 조정하여 상기 전극부(100)와 가공물(P)의 간극을 조절할 수 있다. 부연하면 상기 제어부(500)는 상기 복수개의 전류센서(300)로부터 각각 전달받은 상기 전극부(100)의 전류밀도를 서로 비교하여, 상대적으로 전류밀도가 높은 측의 전극부(100)와 가공물(P)의 간극은 넓도록 조정하고, 상대적으로 전류밀도가 낮은 측의 전극부(100)와 가공물(P)의 간극은 좁도록 조정할 수 있다. 도 4를 참조하면, 도 4의 (a)는 상기 전극부(100)에서 가공물(P)에 방사하는 전류밀도가 일측(도 4의 (a)의 좌측)으로 편향된 모습을 개략적으로 도시한 사시도이다. 도 4의 (a)와 같이 전극부(100)에서 가공물(P)에 방사하는 전류밀도가 일측으로 편향된 상태에서, 상기 복수개의 전류센서(300)가 상기 전극부(100)의 전류밀도를 각각 감지하면, 상기 제어부(500)는 상기 전류센서(300)에서 감지한 전류밀도에 대응하여 상기 구동부(300)를 구동시켜 상기 전극부(100)에서 가공물(P)에 방사하는 전류밀도가 균일해지도록 전극부(100)의 각도를 조정한다. 즉, 도 4의 (b)에 도시한 바와 같이, 상기 제어부(500)는 상기 복수개의 전류센서(300)로부터 전달받은 상기 전극부(100)의 전류밀도를 서로 비교하여, 상대적으로 전류밀도가 높은 측(도 4의 (a)의 좌측)의 전극부(100)와 가공물(P)의 간극을 넓도록 조정하여 전류밀도가 전체적으로 균일해지도록 제어한다. 상기 전극부(100)의 전류밀도에 대응하여 가공물(P)의 간극을 조절함으로써, 상기 가공물(P)에 전달되는 상기 전극부(100)의 전류밀도가 균일하도록 방사할 수 있어, 가공물(P)의 가공균일성을 향상시킬 수 있다.
상기 모니터링부(700)는 상기 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 전달받아 모니터링하기 위한 것으로, 상기 복수개의 전류센서(300)와 전기적으로 연결되어 상기 복수개의 전류센서(300)에서 측정하는 상기 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 전달받을 수 있다. 상기 모니터링으로부터 상기 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 전달받을 수 있어, 가공물(P)이 가공되고 있는 중에도 상기 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 확인할 수 있어 전류밀도의 편향으로 발생하는 가공불량을 최소화하여 가공효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 의한 평탄도 조절장치(10)는, 전극부(100)에 공급되는 전류밀도에 대응하여 전극부의 각도를 조정함으로써, 전극부(100)의 평탄도를 조절가능하다. 따라서 전극부(100)에서 가공물(P)에 방사하는 전류밀도가 균일하도록 조정할 수 있어 가공물(P)의 가공균일성을 향상시킬 수 있다.
또한 정반을 사용하지 않고도 전극부(100)의 평탄도를 조정할 수 있어 중량도가 감소할 수 있어 소형화가 가능하여 활용도가 향상될 수 있다.
더불어 전극부(100)의 전류밀도를 전류센서(300)를 통하여 실시간으로 감지할 수 있으며, 모니터링부(700)에 의하여 전극부(100)의 전류밀도를 실시간으로 모니터링할 수 있어 가공불량을 최소화하여 가공효율이 향상될 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참ㄹ=고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10 : 평탄도 조절장치 20 : 전원공급부
100 : 전극부 200 : 프레임
300 : 전류센서 400 : 구동부
410 : 조절바 420 : 슬라이딩부
500 : 제어부 600 : 가이드부
601 : 결합볼 600h : 가이드홀
700 : 모니터링부 P : 가공물

Claims (10)

  1. 전원공급부로부터 전류를 인가받아 가공물을 전기화학 가공하는 전극부와 연결되어, 상기 전극부의 평탄도를 조절하는 평탄도 조절장치에 있어서,
    상기 전극부의 일측에 이격배치되는 프레임;
    상기 전극부의 일측에 구비되고, 상기 전극부의 전류밀도를 각각 감지하는 복수개의 전류센서;
    일단이 상기 전극부에 구비되고 타단이 상기 프레임에 연결되어, 상기 전류센서가 감지한 상기 전극부의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부의 각도를 조정하는 구동부; 및
    상기 구동부 및 상기 복수개의 전류센서에 전기적으로 연결되어, 상기 전류센서로부터 상기 전극부의 전류밀도를 전달받아 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함하는 평탄도 조절장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수개의 전류센서는,
    상기 전극부의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 배치되는 평탄도 조절장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 구동부는,
    상기 전극부의 중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격배치되어 복수개가 구비되는 평탄도 조절장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 구동부는,
    일단이 상기 전극부에 연결되는 조절바와,
    상기 조절바의 타단에 결합되고, 슬라이딩이동하도록 구비되어 상기 조절바의 타단을 이동시키는 슬라이딩부를 포함하는 평탄도 조절장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 전극부와 상기 프레임 사이에 구비되고, 판 형상이며, 직선형상의 복수개의 가이드홀이 형성되고, 상기 조절바가 상기 가이드홀에 관통되어 상기 조절바의 이동을 가이드하는 가이드부를 더 포함하는 평탄도 조절장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 가이드홀은,
    중심을 기준으로 방사상으로 일정간격 이격되어 복수개가 형성되는 평탄도 조절장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수개의 전류센서는,
    상기 전극부의 전류밀도를 실시간으로 측정하는 평탄도 조절장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 복수개의 전류센서와 전기적으로 연결되어, 상기 복수개의 전류센서에서 측정하는 상기 전극부의 전류밀도를 실시간으로 전달받아 모니터링하는 모니터링부를 더 포함하는 평탄도 조절장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 복수개의 전류센서가 감지한 상기 전극부의 전류밀도에 대응하여 상기 전극부의 각도를 조정함으로써 상기 전극부와 가공물의 간극을 조절하는 평탄도 조절장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 복수개의 전류센서로부터 각각 전달받은 상기 전극부의 전류밀도를 서로 비교하여,
    상대적으로 전류밀도가 높은 측의 전극부와 가공물의 간극을 넓도록 형성시키고,
    상대적으로 전류밀도가 낮은 측의 전극부와 가공물의 간극을 좁도록 형성시키는 평탄도 조절장치.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63267119A (ja) * 1987-04-21 1988-11-04 Stanley Electric Co Ltd 電解仕上げ用パルス電源装置
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