KR101980776B1 - 광학필름, 이를 포함하는 평판표시장치, 및 편광필름의 제조방법 - Google Patents

광학필름, 이를 포함하는 평판표시장치, 및 편광필름의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본원의 일 실시예는, 평판표시장치의 표시면 상에 구비될 수 있는 광학필름에 있어서, 베이스층; 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층; 상기 베이스층의 양면에 상기 패턴층을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층; 및 상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층을 포함하는 광학필름을 제공한다.
여기서, 상기 패턴층은 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착되고, 상기 베이스층과 함께 일방향으로 연신되어, 일방향의 직선 형태를 띠도록 재배열된 광흡수물질로 형성되는 선편광패턴; 및 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴을 포함한다.

Description

광학필름, 이를 포함하는 평판표시장치, 및 편광필름의 제조방법{OPTICAL FILM, FLAT DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본원은 광학필름, 이를 포함하는 평판표시장치, 및 광학필름의 제조방법에 관한 것이다.
본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라, 전기적 정보신호를 시각적으로 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전하고 있다. 이에, 여러가지 다양한 평판표시장치(Flat Display Device)에 대해 대면적화, 박형화, 경량화 및 저소비전력화 등의 성능을 개발시키기 위한 연구가 계속되고 있다.
이 같은 평판표시장치의 대표적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시장치(Electro Luminescence Display device: ELD), 전기습윤표시장치(Electro-Wetting Display device: EWD) 및 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display device: OLED) 등을 들 수 있다.
이러한 평판표시장치는 고유의 발광물질 또는 편광물질을 사이에 두고, 대면 합착된 한 쌍의 기판을 포함하는 평판표시패널을 포함한다. 여기서, 평판표시패널은 광이 표시면 측으로 방출되도록 광 경로를 조절하기 위한 반사층을 더 포함하는 것이 일반적이다.
그런데, 반사층은 평판표시패널로부터 방출되는 광(이하, "표시광"이라 함)뿐만 아니라, 외부로부터 입사된 광(이하, "외부광"이라 함)도 반사하여, 화질을 저하시키는 요인이 된다.
이에, 평판표시장치는 외부광 반사를 방지하고, 화질을 향상시키기 위하여, 표시면 상에 형성되는 적어도 하나의 광학필름을 포함한다. 예시적으로, 광학필름은 소정 방향의 광을 선택적으로 투과하는 편광층을 포함할 수 있다.
또는, 외부광 반사를 적극적으로 활용하여, 오프 상태의 평판표시장치에 거울 기능을 부가할 수도 있다. 이 경우, 평판표시장치의 광학필름은 광을 선택적으로 반사하기 위한 별도의 반투과층을 더 포함한다.
이와 같이, 별도의 반투과층 및 이를 편광층에 고정시키기 위한 점착층을 더 포함함에 따라, 광학필름 및 이를 포함하는 평판표시장치의 두께를 감소시키기에 한계가 있는 문제점, 반투과층에 의해 표시광의 휘도가 저하되는 문제점, 및 제조비용이 증가하고 제조공정이 복잡해지는 문제점이 있다.
본원은 별도의 반투과층 없이 평판표시장치에 거울기능을 부가할 수 있는 광학필름, 및 이의 제조방법, 그리고 이를 포함하여 턴오프상태에서 거울로 이용될 수 있는 평판표시장치를 제공하기 위한 것이다.
이와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본원의 일 실시예는 평판표시장치의 표시면 상에 구비될 수 있는 광학필름에 있어서, 베이스층; 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층; 상기 베이스층의 양면에 상기 패턴층을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층; 및 상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층을 포함하는 광학필름을 제공한다. 여기서, 상기 패턴층은 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착되고, 상기 베이스층과 함께 일방향으로 연신되어, 일방향의 직선 형태를 띠도록 재배열된 광흡수물질로 형성되는 선편광패턴; 및 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴을 포함한다.
그리고, 평판표시장치의 표시면 상에 구비될 수 있는 광학필름을 제조하는 방법에 있어서, 베이스층을 마련하는 단계; 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 패턴층을 형성하는 단계; 상기 베이스층의 양면에, 상기 패턴층을 덮는 제 1 및 제 2 커버층을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 위상지연층을 형성하는 단계를 포함하는 광학필름의 제조방법을 더 제공한다. 여기서, 상기 패턴층을 형성하는 단계는 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 광흡수물질을 흡착시키는 단계; 광을 선택적으로 투과하는 반투과패턴이 형성되도록, 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 금속분산재를 도포하는 단계; 및 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착된 광흡수물질이 일방향의 직선형태로 재배열되어, 선편광패턴이 형성되도록, 상기 베이스층을 상기 일방향으로 연신하는 단계를 포함한다.
또한, 거울기능을 포함하는 평판표시장치에 있어서, 표시면에 영상을 표시하기 위한 표시광을 방출하는 평판표시패널; 및 상기 평판표시패널의 표시면 상에 형성되어, 상기 표시광을 외부로 방출하고, 외부광의 적어도 일부를 선택적으로 반사하는 광학필름을 포함는 평판표시장치를 더 제공한다.
여기서, 상기 광학필름은 일방향으로 연신되는 베이스층; 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층; 상기 베이스층의 양면에 상기 패턴층을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층; 및 상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층을 포함하고, 상기 패턴층은 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착되고, 상기 베이스층과 함께 상기 일방향으로 연신되어, 일방향의 직선 형태를 띄는 광흡수물질로 형성되는 선편광패턴; 및 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴을 포함한다.
본원의 일 실시예에 따른 광학필름은 표시광을 투과하고 외부광을 반사하기 위한 별도의 반투과층을 포함하는 대신, 선편광패턴과 함께 베이스층의 일면 상에 도포된 금속분산재로 이루어진 반투과패턴을 포함한 패턴층을 포함한다.
이로써, 두께가 더욱 얇아질 수 있고, 제조공정이 더욱 간단해지며, 제조시간이 단축될 수 있다.
이러한 광학필름을 포함하는 평판표시장치는 거울기능을 더 포함하면서도, 별도의 반투과층 및 이를 부착하기 위한 점착층에 의한 화질 저하를 방지할 수 있다.
도 1은 본원의 일 실시예에 따른 광학필름을 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 패턴층을 나타낸 평면도이다.
도 3은 본원의 일 실시예에 따른 평판표시장치를 나타낸 단면도이다.
도 4a는 도 3의 평판표시장치에 있어서, 턴온상태의 광경로이다.
도 4b는 도 3의 평판표시장치에 있어서, 턴오프상태의 광경로이다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 광학필름을 제조하는 방법을 나타낸 순서도이다.
도 6 및 도 7은 도 5의 공정도이다.
이하, 본원의 각 실시예에 따른 광학필름, 이를 포함하는 평판표시장치, 및 광학필름의 제조방법에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름에 대해 설명한다.
도 1은 본원의 일 실시예에 따른 광학필름을 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1의 패턴층을 나타낸 평면도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름(10)은 베이스층(11), 베이스층(11)의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층(12), 베이스층(11)의 양면에 패턴층(12)을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층(13, 14), 및 제 1 및 제 2 커버층(13, 14) 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층(15)을 포함한다.
베이스층(11)은 점착성의 투명층이다. 예시적으로, 베이스층(11)은 PVA필름(Poly Vinyl Alcohol film)일 수 있다.
패턴층(12)은 베이스층(11)의 적어도 일면 상에 형성되고, 광을 편광하는 선편광패턴, 및 광을 선택적으로 투과 및 반사하는 반투과패턴을 포함한다.
도 2에 도시한 바와 같이, 패턴층(12)은 선편광패턴(12a)과 반투과패턴(12b)이 산재된 형태이다.
선편광패턴(12a)은 베이스층(11) 상에 흡착되고 일방향의 직선 형태를 띠도록 재배열된 광흡수물질로 형성된다. 여기서, 광흡수물질은 요오드계 복합물질일 수 있다.
예시적으로, 선편광패턴(12a)은 팽윤(swelling)처리된 베이스층(11)의 적어도 일면 상에 광흡수물질인 요오드계 복합물질, 및 베이스층(11)의 분자구조를 가교화하기 위한 붕산용액을 분사하여 염착시킨 다음, 베이스층(11)을 일방향으로 연신하여, 요오드계 복합물질을 일방향의 직선 형태로 재배열함으로써, 형성될 수 있다.
그리고, 반투과패턴(12b)은 베이스층(11)의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성된다.
여기서, 금속분산재(12b)는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd) 및 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 포함하는 전해질, 또는 WGP(White Gold Plated metal)로 형성된다.
더불어, 금속분산재(12b)의 입자 크기 및 도포율은 광학필름(10)의 광투과율 및 광반사율에 영향을 미치는 변수이다. 즉, 금속분산재(12b)의 입자 크기가 클수록, 또는 금속분산재(12b)의 도포율이 높을수록, 광학필름(10)의 광투과율은 낮아진다.
여기서, 광투과율과 광반사율은 상호 트레이드 오프(trade off)에 해당한다. 그리고, 광학필름(10)이 표시광 투과 및 외부광 반사에 적절하게 이용되기 위해서는, 광학필름(10)의 광투과율 및 광반사율을 각각 40% 이상으로 조절할 필요가 있다.
이에, 광학필름(10)이 40~60%의 광투과율을 나타내도록, 금속분산재(12b)의 입자 크기 및 도포율을 조절한다.
일 예로, 금속분산재(12b)의 입자 크기는 5~150㎚일 수 있다. 이때, 금속분산재(12b)의 입자크기가 작을수록 도포율 및 광투과율을 조절하는 데에 더욱 용이하다.
다만, 금속분산재(12b)의 입자 크기는 광학필름(10)의 타겟 광투과율, 금속분산재(12b)의 재료 및 베이스층(11)의 두께에 따라 다양하게 조절될 수 있음은 당연하다.
다른 예로, 금속분산재(12b)가 알루미늄(Al)을 포함한 전해질이면, 반투과패턴(12b)은 150Å의 두께로 형성될 수 있다. 이 경우에 대한 시뮬레이션 결과, 광학필름(10)의 광투과율은 40%으로 나타났다.
제 1 및 제 2 커버층(13, 14)은 베이스층(11)의 서로 다른 일면에 형성되어, 패턴층(12)을 덮는다. 이러한 제 1 및 제 2 커버층(13, 14)은 베이스층(11) 및 그의 적어도 일면에 형성된 패턴층(12)을 이물 침투 및 표면 손상 등으로부터 보호한다. 예시적으로, 제 1 및 제 2 커버층(13, 14) 각각은 TAC필름(triacetylcellulose film)일 수 있다.
위상지연층(15)은 제 1 및 제 2 커버층(13, 14) 중 어느 하나의 일면, 일 예로, 제 2 커버층(14)의 배면에 형성되고, 광을 λ/4 위상만큼 지연시킨다. 이에, 위상지연층(15)을 통과한 광은 시계방향 또는 반시계방향으로 원편광된다.
이상과 같이, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름(10)은, 베이스층(11) 상에 선편광패턴(12a)과 함께, 분산된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴(12b)을 포함함으로써, 광을 선택적으로 투과 및 반사하기 위한 별도의 반투과층 및 이를 부착하기 위한 점착층을 제거할 수 있다. 이로써, 광학필름(10)의 두께가 종래보다 얇아질 수 있을 뿐만 아니라, 1회의 부착공정이 삭제되어 제조공정이 더욱 간단해질 수 있다.
다음, 도 3, 도 4a 및 도 4b를 참조하여, 본원의 일 실시예에 따른 평판표시장치에 대해 설명한다.
도 3은 본원의 일 실시예에 따른 평판표시장치를 나타낸 단면도이다. 그리고, 도 4a는 도 3의 평판표시장치에 있어서, 턴온상태의 광경로이며, 도 4b는 도 3의 평판표시장치에 있어서, 턴오프상태의 광경로이다.
도 3에 도시한 바와 같이, 본원의 일 실시예에 따른 평판표시장치(1)는 평판표시패널(20) 및 그의 표시면 상에 형성되는 광학필름(10)을 포함한다. 여기서, 광학필름(10)은 도 1 및 도 2에 설명한 바와 동일하므로, 이하에서 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
평판표시패널(20)은 상호 대면 합착되는 제 1 및 제 2 기판(21, 22), 이들 사이에 개재되는 발광층(23), 및 발광층(23)을 기준으로 표시면에 반대되는 측에 형성되는 반사층(24)을 포함한다.
여기서, 발광층(23)은 구동신호에 기초하여 광을 방출하는 자발광소자일 수 있고, 또는, 광을 선택적으로 투과하는 편광소자일 수도 있다. 그리고, 도 3에 상세히 도시되어 있지 않으나, 발광층(23)이 편광소자인 경우, 평판표시장치(1)는 백라이트유닛을 더 포함할 수 있다.
반사층(24)은 발광층(23)의 광을 표시면 측으로 반사한다. 이러한 반사층(24)은 제 1 및 제 2 기판(21, 22) 중 어느 하나와 발광층(23) 사이에 형성되거나, 또는 제 1 및 제 2 기판(21, 22) 중 어느 하나의 일면에 형성될 수 있다.
도 4a에 도시한 바와 같이, 평판표시장치(1)가 턴온 상태인 경우, 발광층(23_on)은 구동신호에 기초하여 표시광(DL: Display Light)을 방출한다. 이때, 표시광(DL)은 위상지연층(15) 및 패턴층(12)을 투과하여 외부로 방출된다. 즉, 표시광(DL) 중 선편광패턴(도 2의 12a)과 일치하는 제 1 방향(도 4a에서 수평방향 화살표로 도시함)의 일부가 선택적으로 투과되어, 외부로 방출된다.
이때, 외부로부터 발광층(23) 측으로 입사된 광(OL: Outside Light, 이하, "외부광"이라 함)은 반사층(24)에 의해 반사되지만, 패턴층(12) 및 위상지연층(15)에 의해 다시 외부로 방출되지 않는다.
즉, 외부광(OL) 중 선편광패턴(12a)과 일치하는 제 1 방향의 일부가 발광층(23_on) 측으로 투과되고, 이는 위상지연층(15)에 의해 시계방향으로 원편광된다. 시계방향으로 원편광된 외부광은 반사층(24)에 의해 반사되어 반시계방향으로 원편광된다. 그리고, 반시계방향으로 원편광된 외부광은 다시 위상지연층(15)을 거쳐서, 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향(도 4a에서 수직방향 화살표로 도시함)의 광으로 변환된다. 이에, 제 2 방향의 외부광은 패턴층(12)의 선편광패턴(12a)을 투과하지 못하므로, 외부광(OL)이 반사층(24)에 의해 반사되어 외부로 방출되는 것이 방지된다.
이상과 같이, 평판표시장치(1)가 턴온 상태인 경우, 광학필름(10) 및 반사층(24)에 의해, 표시광(DL)은 표시면 측으로 방출되고, 외부광(OL)은 표시면 측으로 방출되지 않는다.
반면, 도 4b에 도시한 바와 같이, 평판표시장치(1)가 턴오프 상태인 경우, 발광층(23_off)은 표시광(도 4a의 DL)을 방출하지 않는다.
그리고, 외부광(OL)은 패턴층(12)의 반투과패턴(도 2의 12b)에 의해 반사된다. 즉, 평판표시장치(1)가 턴오프 상태인 경우, 외부광(OL) 중 패턴층(12)에 의해 반사된 일부가 표시면 측으로 방출됨으로써, 거울로 기능한다.
이상과 같이, 본원의 일 실시예에 따른 평판표시장치는 표시광을 투과하고 외부광을 반사하기 위한 별도의 반투과층 및 이를 점착하기 위한 점착층이 제거된 광학필름을 포함함으로써, 두께가 더욱 감소될 수 있고, 반투과층에 의한 휘도 저하를 방지할 수 있다.
다음, 도 5, 도 6 및 도 7을 참조하여, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름의 제조방법에 대해 설명한다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 광학필름을 제조하는 방법을 나타낸 순서도이고, 도 6 및 도 7은 도 5의 공정도이다.
도 5에 도시한 바와 같이, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름의 제조방법은 베이스층을 마련하는 단계(S11), 베이스층의 적어도 일면 상에 패턴층을 형성하는 단계(S12), 베이스층의 양면에 패턴층을 덮는 제 1 및 제 2 커버층을 형성하는 단계(S13) 및 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 위상지연층을 형성하는 단계(S14)를 포함한다.
도 6(a)에 도시한 바와 같이, 미연신 베이스층(11')을 마련하는 단계(S11)에서, 필름 저장부(31)로부터 미연신 베이스층(11')을 권출하고, 팽윤부(32)를 이용하여 권출된 미연신 베이스층(11')을 팽윤(swelling)시킨다. 이때, 팽윤된 미연신 베이스층(11')은, 팽윤에 의해 고분자 체인 사이의 공간이 넓어져서, 광흡수물질이 흡착되기가 용이해진다. 참고로, 미연신 베이스층(11')은 PVA필름일 수 있다.
도 6(b)에 도시한 바와 같이, 팽윤된 미연신 베이스층(11')의 적어도 일면 상에 패턴층(12)을 형성한다. (S12)
즉, 서로 다른 물질을 방출하는 둘 이상의 재료토출부(33a, 33b, 33c)를 이용하여, 팽윤된 미연신 베이스층(11')의 적어도 일면 상에 광흡수물질을 염착시키고, 금속분산재를 도포한다. 여기서, 광흡수물질은 선편광패턴(도 2의 12a)을 형성하기 위한 것이고, 금속분산재는 반투과패턴(도 2의 12b)을 형성하기 위한 것이다. 이로써, 미연신 베이스층(11')의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 이루어진 반투과패턴(12b)이 형성된다.
그리고, 재료토출부(33a, 33b, 33c) 중 어느 하나는, 미연신 베이스층(11')의 분자구조를 광흡수물질과 함께 가교화하기 위한 붕산용액을 방출하는 것일 수 있다.
더불어, 패턴층(12)을 형성하는 단계에서, 둘 이상의 재료토출부(33a, 33b, 33c)는 동일한 챔버 내에 구비되고, 함께 구동하여, 광흡수물질, 붕산용액 및 금속분산재의 도포는 동시에 실시될 수 있다.
그리고, 금속분산재는 (Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd) 및 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 포함하는 전해질, 또는 WGP(White Gold Plated metal)로 선택될 수 있다.
또한, 광학필름의 광투과율이 40~60%가 되도록, 금속분산재의 입자 크기 및 도포율 중 적어도 하나를 조절할 수 있다. 일 예로, 금속분산재의 입자 크기는 5~150㎚일 수 있다.
다음, 도 6(c)에 도시한 바와 같이, 연신부(34a, 34b)를 이용하여, 미연신 베이스층(11')을 일방향으로 연신한다.
이와 같이, 미연신 베이스층(11')을 연신하는 동안, 베이스층(11)이 형성되는 동시에, 베이스층(11)의 일면 상에 흡착된 광흡수물질이 일방향의 직선 형태로 재배열되어, 선편광패턴(12a)이 형성된다.
이때, 베이스층(11)의 양면에 제 1 및 제 2 커버층(13, 14)이 함께 형성될 수 있다. (S13)
이후, 도 7에 도시한 바와 같이, 제 1 및 제 2 커버층(13, 14) 중 어느 하나의 일면에 위상지연층(15)을 형성한다. (S14)
이상과 같이, 본원의 일 실시예에 따른 광학필름의 제조방법은 광을 반투과하기 위한 별도의 반투과층을 편광층에 부착시키는 공정 대신, 광흡수물질의 흡착과 함께 금속분산재를 도포함으로써, 반투과패턴을 형성한다. 이에, 제조시간이 단축되고, 제조공정이 더욱 용이해질 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
10: 광학필름 11: 베이스층
12: 패턴층 13, 14: 제 1 및 제 2 커버층
15: 위상지연층
12a: 선편광패턴 12b: 반투과패턴, 금속미립자
1: 평판표시장치 20: 평판표시패널
21, 22: 제 1 및 제 2 기판
23: 발광층 24: 반사층

Claims (15)

  1. 평판표시장치의 표시면 상에 구비될 수 있는 광학필름에 있어서,
    베이스층;
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층;
    상기 베이스층의 양면에 상기 패턴층을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층; 및
    상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층을 포함하고,
    상기 패턴층은
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착되고, 상기 베이스층과 함께 일방향으로 연신되어, 일방향의 직선 형태를 띠도록 재배열된 광흡수물질로 형성되는 선편광패턴; 및
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴을 포함하는 광학필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속분산재의 입자크기 및 도포율 중 적어도 하나에 대응하고, 40 ~ 60%인 광투과율을 나타내는 광학필름.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 금속분산재의 입자크기는 5 ~ 150㎚인 광학필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속분산재는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd) 및 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 포함하는 전해질, 또는 WGP(White Gold Plated metal)로 형성되는 광학필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 광흡수물질은 요오드계 복합물질인 광학필름.
  6. 평판표시장치의 표시면 상에 구비될 수 있는 광학필름을 제조하는 방법에 있어서,
    베이스층을 마련하는 단계;
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 패턴층을 형성하는 단계;
    상기 베이스층의 양면에, 상기 패턴층을 덮는 제 1 및 제 2 커버층을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 위상지연층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 패턴층을 형성하는 단계는
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 광흡수물질을 흡착시키는 단계;
    광을 선택적으로 투과하는 반투과패턴이 형성되도록, 상기 베이스층의 적어도 일면 상에 금속분산재를 도포하는 단계; 및
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착된 광흡수물질이 일방향의 직선형태로 재배열되어, 선편광패턴이 형성되도록, 상기 베이스층을 상기 일방향으로 연신하는 단계를 포함하는 광학필름의 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 금속분산재를 도포하는 단계에서,
    상기 광학필름의 광투과율이 40~60%가 되도록, 상기 금속분산재의 입자크기 및 도포율 중 적어도 하나를 조절하는 광학필름의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 금속분산재를 도포하는 단계에서,
    상기 금속분산재의 입자크기는 5 ~ 150㎚인 광학필름의 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 광흡수물질을 흡착시키는 단계 및 상기 금속분산재를 도포하는 단계는 하나의 챔버 내에서 동시에 실시되는 광학필름의 제조방법.
  10. 삭제
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 금속분산재를 도포하는 단계에서,
    상기 금속분산재는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd) 및 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 포함하는 전해질, 또는 WGP(White Gold Plated metal)로 형성되는 광학필름의 제조방법.
  12. 거울기능을 포함하는 평판표시장치에 있어서,
    표시면에 영상을 표시하기 위한 표시광을 방출하는 평판표시패널; 및
    상기 평판표시패널의 표시면 상에 형성되어, 상기 표시광을 외부로 방출하고, 외부광의 적어도 일부를 선택적으로 반사하는 광학필름을 포함하고,
    상기 광학필름은
    일방향으로 연신되는 베이스층;
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 형성되는 패턴층;
    상기 베이스층의 양면에 상기 패턴층을 덮도록 형성되는 제 1 및 제 2 커버층; 및
    상기 제 1 및 제 2 커버층 중 어느 하나의 일면에 형성되는 위상지연층을 포함하고,
    상기 패턴층은
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 흡착되고, 상기 베이스층과 함께 상기 일방향으로 연신되어, 일방향의 직선 형태를 띄는 광흡수물질로 형성되는 선편광패턴; 및
    상기 베이스층의 적어도 일면 상에 도포된 금속분산재로 형성되는 반투과패턴을 포함하는 평판표시장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 광학필름의 광투과율은 상기 금속분산재의 입자크기 및 도포율 중 적어도 하나에 대응하고, 40 ~ 60%인 평판표시장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 금속분산재의 입자크기는 5 ~ 150㎚인 평판표시장치.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 금속분산재는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd) 및 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 포함하는 전해질, 또는 WGP(White Gold Plated metal)로 형성되는 평판표시장치.
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