KR101948874B1 - Resin composition, manufacturing method the same, prepreg including the same, laminated plate including the same, metal foil coated with resin including the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to: a resin composition, a method for manufacturing the same, a prepreg comprising the same, a laminate comprising the same, and a resin-coated metal foil comprising the same. Specifically, embodiments of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, provide the resin composition having good coefficient of thermal expansion (CTE) and an adhesive force, while having low elasticity and low dielectric properties, thereby being processed in forms of a prepreg, a laminate sheet, a copper clad laminate and the like, and become suitable for application to electric devices such as automobiles.

Description

수지 조성물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 프리프레그, 이를 포함하는 적층판, 및 이를 포함하는 수지 부착 금속박 {RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD THE SAME, PREPREG INCLUDING THE SAME, LAMINATED PLATE INCLUDING THE SAME, METAL FOIL COATED WITH RESIN INCLUDING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a resin composition, a process for producing the same, a prepreg containing the same, a laminate including the same, and a metal foil with a resin containing the same. BACKGROUND ART INCLUDING THE SAME}

수지 조성물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 프리프레그, 이를 포함하는 적층판, 및 이를 포함하는 수지 부착 금속박에 관한 것이다.A resin composition, a process for producing the same, a prepreg containing the same, a laminate comprising the same, and a resin-coated metal foil containing the same.

최근 고성능 전자 기기에 대한 요구가 증가하면서, 다양한 특성을 가진 유기 물질이 주목 받고 있다.Recently, as the demand for high-performance electronic devices is increasing, organic materials having various characteristics are attracting attention.

예를 들어, 자동차 등의 전기 장치에 사용되는 유기 물질은, 저유전 특성뿐만 아니라, 저탄성이 요구되며, 양호한 열 팽창 계수(CTE) 및 접착력도 요구된다. For example, organic materials used in electric devices such as automobiles are required not only low dielectric properties but also low elasticity, and also have a good thermal expansion coefficient (CTE) and adhesion.

이러한 전기 장치에 적용되는 유기 물질로는, 에폭시 수지, 테플론 수지, 시아네이트 수지 등이 알려져 있지만, 테플론 수지는 접착 특성이 현저하게 낮고, 시아네이트 수지는 쉽게 겔화되어 그 사용에 제한이 있다. Epoxy resin, Teflon resin, cyanate resin, and the like are known as organic materials to be applied to such electric devices. However, Teflon resin has a remarkably low adhesive property and cyanate resin is easily gelled, which limits its use.

이로 인해, 비교적 저유전 특성을 가지며, 높은 접착 특성을 가지면서도 활용이 용이한 에폭시 수지가 널리 사용되고 있다. 다만, 일반적으로 알려진 에폭시 수지는 극성기를 포함하고 있기 때문에 고주파 영역에서 신호의 전파 속도 및 임피던스 제어에 불리하다는 단점을 가지고 있을 뿐만 아니라, 저탄성을 요구하는 분야에도 한계를 가지고 있다.As a result, an epoxy resin having relatively low dielectric properties and having high adhesion properties and being easy to use has been widely used. However, since a known epoxy resin contains a polar group, it has disadvantages in that it is disadvantageous in terms of signal propagation speed and impedance control in a high frequency region, and has limitations in fields requiring low elasticity.

본 발명의 구현예들에서는, 앞서 지적한 문제를 해결하기 위해, 저탄성 및 저유전 특성을 가지면서도, 양호한 열 팽창 계수 (CTE)와 접착력을 가져, 이는 프리프레그, 적층 시트, 동박 적층판 등의 형태로 가공되어 자동차 등의 전기 장치에 적용되기에 적합한 수지 조성물을 제공한다. In embodiments of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, it has a low coefficient of thermal expansion (CTE) and an adhesive strength while having low elasticity and low dielectric properties, and it has a form such as prepreg, laminated sheet, To provide a resin composition suitable for application to electric devices such as automobiles.

본 명세서에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본원의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 "~(하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~ 를 위한 단계"를 의미하지 않는다.In this specification, when a part is referred to as " including " an element, it is to be understood that it may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise. The terms " about ", " substantially ", etc. used to the extent that they are used throughout the specification are intended to be taken to mean the approximation of the manufacturing and material tolerances inherent in the stated sense, Accurate or absolute numbers are used to help prevent unauthorized exploitation by unauthorized intruders of the referenced disclosure. The word " step (or step) " or " step " used to the extent that it is used throughout the specification does not mean " step for.

본 명세서에서, 마쿠시 형식의 표현에 포함된 "이들의 조합"의 용어는 마쿠시 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 혼합 또는 조합을 의미하는 것으로서, 상기 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.In the present specification, the term " combination thereof " included in the expression of the machine form means one or more combinations or combinations selected from the group consisting of the constituents described in the expression of the machine form, ≪ / RTI > and the like.

본 명세서에서 "치환"이란 별도의 정의가 없는 한, 화합물 중 적어도 하나의 수소가 C1 내지 C30 알킬기; C2 내지 C30 알케닐기, C2 내지 C30 알키닐기, C1 내지 C10 알킬실릴기; C3 내지 C30 시클로알킬기; C6 내지 C30 아릴기; C1 내지 C30 헤테로아릴기; C1 내지 C10 알콕시기; 실란기; 알킬실란기; 알콕시실란기; 아민기; 알킬아민기; 아릴아민기; 에틸렌옥실기 또는 할로겐기로 치환된 것을 의미한다.As used herein, unless otherwise defined, at least one hydrogen in the compound is a C1 to C30 alkyl group; A C2 to C30 alkenyl group, a C2 to C30 alkynyl group, a C1 to C10 alkylsilyl group; A C3 to C30 cycloalkyl group; A C6 to C30 aryl group; A C1 to C30 heteroaryl group; A C1 to C10 alkoxy group; A silane group; Alkylsilane groups; An alkoxysilane group; An amine group; An alkylamine group; An arylamine group; An ethyleneoxy group or a halogen group.

본 명세서에서 "헤테로"란 별도의 정의가 없는 한, N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 의미한다. As used herein, " hetero " means an atom selected from the group consisting of N, O, S and P, unless otherwise defined.

본 명세서에서 "알킬(alkyl)기"란 별도의 정의가 없는 한, 어떠한 알케닐(alkenyl)기나 알키닐(alkynyl)기를 포함하고 있지 않은 "포화 알킬(saturated alkyl)기"; 또는 적어도 하나의 알케닐기 또는 알키닐기를 포함하고 있는 "불포화 알킬(unsaturated alkyl)기"를 모두 포함하는 것을 의미한다. 상기 "알케닐기"는 적어도 두 개의 탄소원자가 적어도 하나의 탄소-탄소 이중 결합을 이루고 있는 치환기를 의미하며, "알킨기" 는 적어도 두 개의 탄소원자가 적어도 하나의 탄소-탄소 삼중 결합을 이루고 있는 치환기를 의미한다. 상기 알킬기는 분지형, 직쇄형 또는 환형일 수 있다. As used herein, unless otherwise defined, the term " alkyl group " means a " saturated alkyl group " which does not include any alkenyl group or alkynyl group; Or an " unsaturated alkyl group " comprising at least one alkenyl or alkynyl group. The term " alkenyl group " means a substituent having at least two carbon atoms constituting at least one carbon-carbon triple bond. it means. The alkyl group may be branched, straight-chain or cyclic.

상기 알킬기는 C1 내지 C20의 알킬기 일 수 있으며, 구체적으로 C1 내지 C6인 저급 알킬기, C7 내지 C10인 중급 알킬기, C11 내지 C20의 고급 알킬기일 수 있다. The alkyl group may be a C1 to C20 alkyl group, and specifically may be a C1 to C6 lower alkyl group, a C7 to C10 intermediate alkyl group, or a C11 to C20 higher alkyl group.

예를 들어, C1 내지 C4 알킬기는 알킬쇄에 1 내지 4 개의 탄소원자가 존재하는 것을 의미하며 이는 메틸, 에틸, 프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, sec-부틸 및 t-부틸로 이루어진 군에서 선택됨을 나타낸다.For example, C1 to C4 alkyl groups mean that from 1 to 4 carbon atoms are present in the alkyl chain, which includes methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, sec-butyl and t- Indicating that they are selected from the group.

전형적인 알킬기에는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등이 있다. Typical examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an ethenyl group, a propenyl group, a butenyl group, a cyclopropyl group, Pentyl group, cyclohexyl group, and the like.

"방향족기"는 환형인 치환기의 모든 원소가 p-오비탈을 가지고 있으며, 이들 p-오비탈이 공액(conjugation)을 형성하고 있는 치환기를 의미한다. 구체적인 예로 아릴기(aryl)와 헤테로아릴기가 있다. &Quot; An aromatic group " means a substituent in which all the elements of the cyclic substituent have p-orbital, and these p-orbital forms a conjugation. Specific examples thereof include an aryl group and a heteroaryl group.

"아릴(aryl)기"는 단일고리 또는 융합고리, 즉, 탄소원자들의 인접한 쌍들을 나눠 가지는 복수의 고리 치환기를 포함한다. An " aryl group " includes a single ring or a fused ring, i.e., a plurality of ring substituents that divide adjacent pairs of carbon atoms.

"헤테로아릴(heteroaryl)기"는 아릴기 내에 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자가 포함되는 아릴기를 의미한다. 상기 헤테로아릴기가 융합고리인 경우, 각각의 고리마다 상기 헤테로 원자를 1 내지 3개 포함할 수 있다. &Quot; Heteroaryl group " means an aryl group containing a heteroatom selected from the group consisting of N, O, S and P in an aryl group. When the heteroaryl group is a fused ring, it may contain 1 to 3 heteroatoms in each ring.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "공중합"이란 블록 공중합, 랜덤 공중합, 그래프트 공중합 또는 교호 공중합을 의미할 수 있고, "공중합체"란 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체 또는 교호 공중합체를 의미할 수 있다.Unless otherwise defined herein, "copolymerization" may mean block copolymerization, random copolymerization, graft copolymerization or alternating copolymerization, and the term "copolymer" means a block copolymer, random copolymer, graft copolymer or alternating copolymer It can mean merging.

위와 같은 정의를 기반으로, 본 발명의 구현예들을 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이들은 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Based on the above definitions, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

수지 조성물Resin composition

본 발명의 일 구현예에서는, 제1 변성 에폭시 수지를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.In one embodiment of the present invention, there is provided a resin composition comprising a first modified epoxy resin.

상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지를 포함함으로써, 저탄성 및 저유전 특성을 가지면서도, 양호한 열 팽창 계수 (CTE)와 접착력을 가질 수 있는 것이다.The resin composition of one embodiment can have a good coefficient of thermal expansion (CTE) and adhesion, while having the low elasticity and low dielectric constant, by including the first modified epoxy resin.

나아가, 상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지 이외에, 선택적으로 다른 물질들(예컨대, 후술되는 제2 변성 에폭시 수지, 반응성 희석제 등)을 더 포함할 수 있고, 그에 따라 발현되는 특성이 개선될 여지가 있다. Further, in addition to the first modified epoxy resin, the resin composition of one embodiment may further include other materials (for example, a second modified epoxy resin, a reactive diluent, etc., described later) There is room for improvement.

상기 일 구현예의 수지 조성물이 선택적으로 더 포함하는 물질들에 대해서는 후술하기로 하고, 이하에서는 필수 구성 물질인 상기 제1 변성 에폭시 수지에 대해 상세히 설명하기로 한다.The first modified epoxy resin, which is an essential constituent, will be described in detail below.

제1 변성 에폭시 수지The first modified epoxy resin

구체적으로, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 하기 반복단위 1-1을 포함하는 제1 중합체; 및 하기 반복단위 1-1을 포함하며, 상기 제1 중합체와 동일하거나 상이한 제2 중합체;가 하기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)에 의해 연결된 것이다:Specifically, the first modified epoxy resin comprises a first polymer comprising the following repeating unit 1-1; And a second polymer having the following repeating unit 1-1, which is the same as or different from the first polymer, is connected by a linker represented by the following formula (1)

[반복단위 1-1][Repeat unit 1-1]

Figure 112018064366907-pat00001
Figure 112018064366907-pat00001

상기 반복단위 1-1에서, R1 내지 R10은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, x1은, 0<x1≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<x1≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating unit 1-1, R 1 to R 10 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, x1 may be a value that satisfies the range of 0 < x1 < 12, and more specifically, a value that satisfies the range of 0 &lt; x1 8.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112018064366907-pat00002
Figure 112018064366907-pat00002

상기 화학식 1에서, * 표시는 각각, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체와의 결합 부위를 의미하고 R12 내지 R21은, 각각 독립적으로, 수소; 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. .In the above formula (1), * denotes a bonding site with the first polymer and the second polymer, respectively, and R 12 to R 21 each independently represent hydrogen; Or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. .

또한, 상기 화학식 1의 R11은, C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기일 수 있다. In the above formula (1), R 11 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of the above substituents, a trimer formed by three of the three substituents, or a substituent having a structure in which they are mixed.

구체적으로, 상기 화학식 1의 R11은, (O=C=N)n-R11 구조의 폴리이소시아네이트(Polyisocyanate) 화합물로부터 유래한 것일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 1의 R11은, 상기 (O=C=N)n-R11 구조의 폴리이소시아네이트(Polyisocyanate) 화합물로부터 이소시아네이트기를 제외한 잔기에 해당될 수 있다 (여기서, n은 1 내지 5일 수 있고, 구체적으로 1.5 내지 4, 더욱 구체적으로 2 내지 3일 수 있다).Specifically, R 11 in the formula (1) may be derived from a polyisocyanate compound having an (O = C = N) nR 11 structure. More specifically, R 11 in the formula (1) may correspond to a residue other than an isocyanate group from a polyisocyanate compound having the structure (O = C = N) nR 11 wherein n is an integer of 1 to 5 And may be specifically from 1.5 to 4, more specifically from 2 to 3).

구체적인 예를 들어, 상기 폴리이소시아네이트 화합물은, For example, the polyisocyanate compound may be a polyisocyanate compound,

메틸렌비스(사이클로헥실 이소시아네이트) (methylenebis(cyclohexyl isocyanate));Methylenebis (cyclohexyl isocyanate));

메틸렌 디페닐 디이소시아네이트(Methylene diphenyl diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, MDI) 및 그 개질체, 더 많은 이소시아네이트기(isocyanate group)를 가진 MDI(여기서, "더 많은 이소시아네이트기를 가진 MDI"를 " polymeric-MDI"라 할 수 있다)를 포함하는 메틸렌 디페닐 디이소시아네이트(Methylene diphenyl diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, MDI) 계 화합물;(MDI) having more isocyanate groups than &quot; polymeric " (hereinafter referred to as " polyisocyanurate "), MDI having more isocyanate groups (Methylene diphenyl diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI)) -based compound, which may be referred to as &quot; -MDI &quot;

2,4-톨루엔 디이소시아네이트(2,4-toluene diisocynate) 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트(2,6-toluene diisocynate)을 포함하는 톨루엔 디이소시아네이트(toluene diisocynate, TDI)계 화합물;A toluene diisocynate (TDI) -based compound including 2,4-toluene diisocynate and 2,6-toluene diisocynate;

m-자일리렌 디이소시아네이트(m-xylylene diisocyanate);m-xylylene diisocyanate;

헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate, HMDI); 및 Hexamethylene diisocyanate (HMDI); And

이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate, IPDI);을 포함하는 군에서 선택된 1종, 이의 이성질체, 이의 유도체, 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물;일 수 있다. An isomer thereof, a derivative thereof, or a mixture of two or more thereof selected from the group consisting of isophorone diisocyanate (IPDI).

위와 같이 예시된 폴리이소시아네이트 화합물에 있어서, 이소시아네이트기를 제외한 잔기는, 상기 화학식 1의 R11이 될 수 있다. In the above-exemplified polyisocyanate compound, the residue other than the isocyanate group may be R 11 of the above formula (1).

보다 구체적인 예를 들어, 상기 화학식 1의 R11은, 메틸렌비스(사이클로헥실 (methylenebis(cyclohexyl)); 메틸렌 디페닐렌 (Methylene diphenylene); 메틸 페닐렌(methyl phenylene); m-자일리렌(m-xylylene); 헥사메틸렌 (hexamethylene); 및 이소포로닐렌(isophoronylene);을 포함하는 군에서 선택된 1종, 이의 이성질체, 이의 유도체, 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물;을 포함하는 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다. More specifically, for example, R 11 in the above formula (1) may be selected from the group consisting of methylenebis (cyclohexyl), methylene diphenylene, methylphenylene, m- xylylene, hexamethylene and isophoronylene; an isomer thereof, a derivative thereof, or a mixture of two or more selected from the group consisting of xylylene, hexamethylene, and isophoronylene; Or more.

다시 말해, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 1) 상기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)를 중심으로, 2) 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체가 결합된 구조를 가지는 것이다.In other words, the first modified epoxy resin has 1) a structure in which the first polymer and the second polymer are bonded to each other, with the linker represented by Formula 1 being the center.

1) 상기 제1 변성 에폭시 수지에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)는, 우레탄(urethane)기를 포함한다. 1) In the first modified epoxy resin, the linker represented by Formula 1 includes a urethane group.

여기서 우레탄(urethane)기는, 이소시아네이트를 가진 물질 및 하이드록시기를 가진 물질의 결합에 의해 형성될 수 있다. 이 물질들의 선택을 통하여, 상기 우레탄기의 연성 세그먼트(soft segment) 및 경성 세그먼트(hard sengment)를 제어할 수 있으며, 이를 적절히 제어함으로써 최종 목적물의 저탄성 물성을 구현할 수 있다. Here, the urethane group may be formed by a combination of a substance having an isocyanate and a substance having a hydroxy group. Through the selection of these materials, soft segments and hard sengments of the urethane groups can be controlled and suitably controlled to realize low elastic properties of the final object.

따라서, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 상기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)를 중심으로 하는 구조를 가짐으로써, 저탄성 특성을 발현할 수 있다.Therefore, the first modified epoxy resin can exhibit low elasticity properties by having a structure centered on a linker represented by the above-mentioned formula (1).

2) 또한, 상기 제1 변성 에폭시 수지에 있어서, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 서로 동일하거나 상이한 구조를 가질 수 있지만, 공통적으로 상기 반복단위 1-1로 표시되는 구조를 포함한다.2) In the first modified epoxy resin, the first polymer and the second polymer may have the same or different structures, but commonly include a structure represented by the repeating unit 1-1.

여기서, 상기 반복단위 1-1로 표시되는 구조는, DCPD (Dicyclopentadiene) 구조를 포함하는 에폭시 수지를 기반으로 하되, 치환 또는 비치환된 페놀에 의해 그 에폭시기가 변성된 구조를 의미할 수 있다. 여기서, 치환된 페놀에 의해 그 에폭시기가 변성된 경우, 페놀의 치환기는 수소; 또는 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다.Here, the structure represented by the recurring unit 1-1 may refer to a structure based on an epoxy resin containing a DCPD (Dicyclopentadiene) structure, wherein the epoxy group is modified by a substituted or unsubstituted phenol. Here, when the epoxy group is modified by the substituted phenol, the substituent of the phenol is hydrogen; Or a C1 to C6 alkyl group.

일반적으로, 에폭시 수지는 비교적 저유전 특성을 가지며, 높은 접착 특성을 가지면서도 활용이 용이한 것으로 알려진 물질이며, DCPD의 구조 역시 저유전 특성을 발현하는 데 유리한 구조로 알려져 있으며, 페놀류에 의한 에폭시 수지의 변성으로써 내열성이 향상되는 것으로 알려져 있다. In general, epoxy resins have relatively low dielectric properties, are known to have high adhesion properties, and are easy to use. The structure of DCPD is also known to be advantageous for exhibiting low dielectric properties. Epoxy resins It is known that the heat resistance is improved by the modification of

이와 관련하여, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체를 포함함으로써, 저유전 특성, 접착성, 및 내열성을 두루 발현할 수 있다. In this regard, the first modified epoxy resin can exhibit low dielectric properties, adhesiveness, and heat resistance by including the first polymer and the second polymer.

요컨대, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 1) 그 구조의 중심에 상기 화학식 1로 표시되는 연결기를 포함함으로써 저탄성 특성을 발현하며, 2) 그러한 연결기의 양쪽에 결합된 2종의 중합체에 기반하여 저유전 특성, 접착성, 및 내열성을 두루 발현할 수 있는 것이다.In short, the first modified epoxy resin has the following properties: 1) it exhibits low elasticity properties by including a linking group represented by the above-mentioned formula 1 at the center of its structure; and 2) based on two kinds of polymers bonded on both sides of such a linking group Low dielectric constant, adhesiveness, and heat resistance.

한편, 상기 제1 변성 에폭시 수지에 있어서, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로, 하기 반복단위 1-2 및 1-3 중 하나 이상의 반복 단위를 더 포함할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다:On the other hand, in the first modified epoxy resin, the first polymer and the second polymer may each independently include at least one repeating unit of the following repeating units 1-2 and 1-3, Not:

[반복단위 1-2] [Repeat unit 1-2]

Figure 112018064366907-pat00003
Figure 112018064366907-pat00003

상기 반복단위 1-2에서, R22 내지 R26은, 각각 독립적으로, 수소 또는, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, x2는, 0<x2≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<x2≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating unit 1-2, R 22 to R 26 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, x2 may be a value satisfying the range of 0 < x2 &amp;le; 12, and more specifically, a value satisfying the range of 0 &

[반복단위 1-3][Repeat unit 1-3]

Figure 112018064366907-pat00004
Figure 112018064366907-pat00004

또한, 상기 반복단위 1-3에서, R27 내지 R31은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기 일 수 있다. 여기서, x3는 0<x3≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<x3≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating units 1-3, R 27 to R 31 each independently may be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, x3 may be a value satisfying the range of 0 < x3 < = 12, specifically, a value satisfying the range of 0 &lt;

상기 반복단위 1-2의 포함 여부를 막론하고, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로, 에폭시기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기를 말단(terminal)으로 할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로, 하기 식으로 표시되는 말단을 가질 수 있다.Regardless of whether the repeating unit 1-2 is contained or not, the first polymer and the second polymer may each independently have a C6 to C30 aryl group substituted or unsubstituted with an epoxy group as a terminal. Specifically, the first polymer and the second polymer may each independently have a terminal represented by the following formula.

Figure 112018064366907-pat00005
Figure 112018064366907-pat00005

상기 식에서, R32 내지 R36은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 또한, 상기 식에서 * 표시는, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체 각각의 말단과 결합되는 부위를 의미한다.In the above formulas, R 32 to R 36 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. In the above formula, the symbol * denotes a site to be bonded to the terminal of each of the first polymer and the second polymer.

한편, 상기 제1 변성 에폭시 수지는, 수평균 분자량이 1,500 내지 3,500이고, 중량평균 분자량이 3,500 내지 4,500일 수 있지만, 이에 의해 상기 일 구현예의 수지 조성물이 제한되는 것은 아니다.On the other hand, the first modified epoxy resin may have a number average molecular weight of 1,500 to 3,500 and a weight average molecular weight of 3,500 to 4,500, but the resin composition of the embodiment is not limited thereto.

제2 변성 에폭시 수지The second modified epoxy resin

앞서 설명한 바와 같이, 상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지 이외에, 선택적으로 제2 변성 에폭시 수지를 포함할 수 있다.As described above, in addition to the first modified epoxy resin, the resin composition of one embodiment may optionally include a second modified epoxy resin.

상기 제2 변성 에폭시 수지는, 하기 반복단위 2-1 및 2-2를 포함하는 공중합체일 수 있다:The second modified epoxy resin may be a copolymer comprising the following repeating units 2-1 and 2-2:

[반복단위 2-1][Repeat unit 2-1]

Figure 112018064366907-pat00006
Figure 112018064366907-pat00006

[반복단위 2-2][Repeat unit 2-2]

Figure 112018064366907-pat00007
Figure 112018064366907-pat00007

상기 반복단위 2-1에서, R1 내지 R10은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서,y1은 0<y1≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<y1≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating unit 2-1, R 1 to R 10 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, y1 may be a value satisfying the range of 0 < y1 &amp;le; 12, specifically, a value satisfying a range of 0 &

상기 반복단위 2-2에서, R22 내지 R26은 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, y2는 0<y2≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<y2≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating unit 2-2, R 22 to R 26 each independently may be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, y2 may be a value satisfying 0 <y2? 12, specifically 0 <y2? 8.

상기 제2 변성 에폭시 수지에 있어서, 상기 반복단위 2-1은, 상기 제1 변성 에폭시 수지의 반복단위 1-1과 마찬가지로, DCPD (Dicyclopentadiene) 구조를 포함하는 에폭시 수지를 기반으로 하되, 치환 또는 비치환된 페놀에 의해 그 에폭시기가 변성된 구조를 의미할 수 있다. 여기서, 치환된 페놀에 의해 그 에폭시기가 변성된 경우, 페놀의 치환기는 수소; 또는 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다.In the second modified epoxy resin, the repeating unit 2-1 is based on an epoxy resin containing a DCPD (Dicyclopentadiene) structure, similar to the repeating unit 1-1 of the first modified epoxy resin, May refer to a structure in which the epoxy group is modified by a phenol that is converted. Here, when the epoxy group is modified by the substituted phenol, the substituent of the phenol is hydrogen; Or a C1 to C6 alkyl group.

또한, 상기 제2 변성 에폭시 수지에 있어서, 상기 반복단위 2-2는, DCPD 구조를 포함하는 에폭시 수지를 기반으로 하며, 그 에폭시기가 변성되지 않은 구조를 의미할 수 있다.In the second modified epoxy resin, the repeating unit 2-2 may be a structure based on an epoxy resin containing a DCPD structure, and the epoxy group may not be denatured.

이와 관련하여, 상기 제2 변성 에폭시 수지는, 상기 반복단위 2-1 및 2-2를 포함함으로써, 저유전 특성, 접착성, 및 내열성을 두루 발현할 수 있다. In this regard, the second modified epoxy resin includes the repeating units 2-1 and 2-2 to exhibit low dielectric properties, adhesiveness, and heat resistance.

상기 제2 변성 에폭시 수지는, 하기 반복단위 2-3을 더 포함하는 것일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다:The second modified epoxy resin may further include the following repeating unit 2-3, but is not limited thereto:

[반복단위 2-3][Repeat unit 2-3]

Figure 112018064366907-pat00008
Figure 112018064366907-pat00008

상기 반복단위 2-3에서, R27 내지 R31은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, y3는 0<y3≤12 범위를 만족하는 값일 수 있고, 구체적으로는 0<y3≤8의 범위를 만족하는 값일 수 있다.In the repeating unit 2-3, R 27 to R 31 each independently may be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, y3 may be a value satisfying the range of 0 < y3 &amp;le; 12, and more specifically, a value satisfying the range of 0 &

상기 반복단위 2-3의 포함 여부를 막론하고, 상기 제2 변성 에폭시 수지는, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기를 말단(terminal)으로 할 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 변성 에폭시 수지는, 하기 식으로 표시되는 말단을 가질 수 있다.The second modified epoxy resin may be a terminally substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group regardless of whether the repeating unit 2-3 is included or not. Specifically, the second modified epoxy resin may have a terminal represented by the following formula.

Figure 112018064366907-pat00009
Figure 112018064366907-pat00009

상기 식에서, R32 내지 R36은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기 일 수 있다. 또한, 상기 식에서 * 표시는, 상기 제2 변성 에폭시 수지의 말단에 결합되는 부위를 의미한다.In the above formulas, R 32 to R 36 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. In the above formula, the symbol * denotes a site to be bonded to the terminal of the second modified epoxy resin.

한편, 상기 일 구현예의 조성물이 상기 제2 변성 에폭시 수지를 더 포함할 때, 그 조성물의 에폭시 당량 범위는 230 내지 950g/eq 일 수 있고, 예컨대 250 내지 650 g/eq일 수 있다. 이 범위에서, 저탄성, 저유전, 고내열, 저CTE 효과, 작업성이 우수하게 발현될 수 있지만, 상기 일 구현예의 조성물은 이에 제한되지 않는다.On the other hand, when the composition of one embodiment further comprises the second modified epoxy resin, the epoxy equivalence range of the composition may be 230 to 950 g / eq, for example 250 to 650 g / eq. In this range, the low elasticity, low dielectric constant, high heat resistance, low CTE effect, and excellent workability can be exhibited, but the composition of this embodiment is not limited thereto.

반응성 희석제Reactive diluent

상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지 이외에, 선택적으로 반응성 희석제를 더 포함할 수도 있다.The resin composition of one embodiment may further include a reactive diluent in addition to the first modified epoxy resin.

이 경우, 상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지 및 반응성 희석제의 혼합물을 포함하거나, 상기 제1 변성 에폭시 수지, 상기 제2 변성 에폭시 수지 및 반응성 희석제의 혼합물을 포함할 수 있다. In this case, the resin composition of one embodiment may comprise a mixture of the first modified epoxy resin and a reactive diluent, or may comprise a mixture of the first modified epoxy resin, the second modified epoxy resin and a reactive diluent.

상기 일 구현예의 수지 조성물에 있어서, 상기 반응성 희석제로는, 일반적으로 수지 제조 분야에서 널리 사용되는 반응성 희석제를 사용할 수 있다.In the resin composition of one embodiment, as the reactive diluent, a reactive diluent generally used in the field of resin production can be used.

예컨대, 상기 반응성 희석제는, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다.For example, the reactive diluent may include a compound represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure 112018064366907-pat00010
Figure 112018064366907-pat00010

상기 화학식 2에서, R37은 하기 화학식 2A 또는 2B로 표시될 수 있다.In the above formula (2), R 37 may be represented by the following formula (2A) or (2B).

[화학식 2A](2A)

Figure 112018064366907-pat00011
Figure 112018064366907-pat00011

[화학식 2B](2B)

Figure 112018064366907-pat00012
Figure 112018064366907-pat00012

상기 화학식 2A에서, z는 0<z≤20 범위를 만족하는 값이고, 구체적으로는 0<z≤11 범위를 만족하는 값일 수 있다. 상기 화학식 2A 및 2B에서 * 표시는 각각, 상기 화학식 2의 R37에 연결되는 부위를 의미한다.In Formula 2A, z is a value satisfying the range of 0 < z < = 20, and more specifically, may be a value satisfying the range of 0 &lt; In the formulas (2A) and (2B), an asterisk denotes a moiety connected to R 37 in the formula (2).

수지 조성물의 제조 방법Method for producing resin composition

본 발명의 다른 일 구현예에서는, 전술한 제1 변성 에폭시 수지를 포함하는 수지 조성물을 제조하는 방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a resin composition comprising the aforementioned first modified epoxy resin.

전술한 제1 변성 에폭시 수지를 포함하는 수지 조성물은, 두 단계의 공정을 연속적으로 수행함에 따라 수득되는 생성물에 포함되는 것일 수 있다.The resin composition containing the above-mentioned first modified epoxy resin may be contained in the product obtained by continuously performing the two-step process.

구체적으로, 상기 일 구현예의 제조 방법은, 하기 제1 공정 및 하기 제2 공정을 연속적으로 수행하는 것일 수 있다.Specifically, the manufacturing method of one embodiment may be one in which the first step and the second step described below are successively performed.

제1 공정: 반응기 내에서, 하기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 반응시켜, 제1 생성물을 수득하는 공정Step 1: A step of reacting a polymer represented by the following formula (3) and a compound represented by the following formula (4) in a reactor to obtain a first product

제2 공정: 상기 제1 공정이 종결된 반응기에, 하기 화학식 5로 표시되는 중합체를 투입하고 상기 제1 생성물과 반응시켜, 제2 생성물을 수득하는 공정Step 2: A step of adding a polymer represented by the following formula (5) to the reactor in which the first step is completed and reacting with the first product to obtain a second product

[화학식 3](3)

Figure 112018064366907-pat00013
Figure 112018064366907-pat00013

상기 화학식 3에서, R38 내지 R47은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, 0<m1≤12 일 수 있고, 구체적으로는 0<m1≤8일 수 있다.In Formula 3, R 38 to R 47 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, 0 < m1 &amp;le; 12, and more specifically, 0 &lt;

[화학식 4][Chemical Formula 4]

(O=C=N)n-R11 (O = C = N) nR &lt; 11 &gt;

상기 화학식 4에서, n은 1 내지 5일 수 있고, 구체적으로 1.5 내지 4, 더욱 구체적으로 2 내지 3일 수 있다. 또한, R11은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기일 수 있고, 이에 대한 설명은 상기 화학식 1을 참고할 수 있다.In the formula (4), n may be 1 to 5, specifically 1.5 to 4, more specifically 2 to 3. R 11 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of these substituents, a trimer formed by three of the three substituents, or a substituent having a structure in which the two are substituted, The above formula (1) can be referred to.

[화학식 5] [Chemical Formula 5]

Figure 112018064366907-pat00014
Figure 112018064366907-pat00014

상기 화학식 5에서, R48 내지 R62는, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있다. 여기서, 0<m2≤12 일 수 있고, 구체적으로는 0<m1≤8일 수 있다.In Formula 5, R 48 to R 62 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group. Here, 0 < m < = 12, and more specifically, 0 &lt;

이하, 상기 각 공정을 상세히 설명한다.Hereinafter, each step will be described in detail.

제1 공정First step

상기 제1 공정에 있어서, 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체는, DCPD (Dicyclopentadiene)계 중합체의 일종으로, 치환 또는 비치환된 페놀기를 포함하는 것일 수 있있다. 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체에 포함된 페놀기가 치환기를 포함하는 경우, 그 치환기는 수소, 또는, C1 내지 C6의 알킬기일 수 있다. In the first step, the polymer represented by Formula 3 is a DCPD (Dicyclopentadiene) polymer, and may be a substituted or unsubstituted phenol group. When the phenol group contained in the polymer represented by Formula 3 includes a substituent, the substituent may be hydrogen or a C1 to C6 alkyl group.

또한, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은, (O=C=N)n-R11 구조의 폴리이소시아네이트(Polyisocyanate)계 화합물의 일종일 수 있다. 이로부터, 전술한 화학식 1의 R11의 구조가 형성될 수 있는데, R11에 대한 설명은 중복되므로 생략한다.The compound represented by the formula (4) may be a polyisocyanate compound having a structure of (O = C = N) nR 11 . From this, a structure of R 11 in the above-described formula (1) can be formed, and the description of R 11 is redundant and thus omitted.

따라서, 상기 제1 공정에서 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 반응이 진행되면, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 연결기(linker)로 전환되며, 그러한 연결기의 양쪽에 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체가 각각 결합되어, 그 반응 생성물을 형성할 수 있다. Accordingly, in the first step, when the reaction between the polymer represented by Formula 3 and the compound represented by Formula 4 proceeds, the compound represented by Formula 4 is converted into a linker, And the polymer represented by the general formula (3) are bonded to each other to form the reaction product.

구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 반응 생성물은, 하기 화학식 6으로 표시되는 중합체일 수 있다.Specifically, the reaction product of the polymer represented by the formula (3) and the compound represented by the formula (4) may be a polymer represented by the following formula (6).

[화학식 6]

Figure 112018064366907-pat00015
[Chemical Formula 6]
Figure 112018064366907-pat00015

상기 화학식 6에서, R63은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기일 수 있고, 이에 대한 설명은 상기 화학식 1의 R11과 동일할 수 있다.
또한, 상기 화학식 6에서, R64 내지 R83은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기;이고, n1은 0<n1≤12를 만족하는 값이고, n2는 0<n2≤12 를 만족하는 값이다. 이에 대한 설명은 상기 화학식 3의 R38 내지 R47, 그리고 m1을 참고할 수 있다.
In Formula 6, R 63 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of these substituents, a trimer formed by three of the three substituents, or a substituent having a structure in which the two are substituted, May be the same as R < 11 &gt; in the formula (1).
In the above formula (6), R 64 to R 83 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C 1 to C 6 alkyl group, n 1 is a value satisfying 0 <n 1 12, n 2 is 0 &lt; n2 12. For the explanation, R 38 to R 47 and m 1 in the above formula (3) can be referred to.

상기 우레탄 결합 형성 반응에 있어서, 비스(2-디메틸아미노에틸)에테르, 트리 메틸 아미노 에틸 에탄올 아민, N,N'-디메틸에탄올아민과 같은 3차 아민촉매, 디부틸틴 디라우레이트, 스테이너스 옥토에이트, 디부틸틴 디아세테이트 등과 같은 유기금속 화합물 등의 촉매를 화학식 4의 기준으로 100 내지 3,000ppm의 양으로 사용하거나 촉매를 아예 사용하지 않아도 무방하며 50℃ 내지 160℃의 반응 온도에서 30분 내지 6 시간 동안 반응시키는 것이 바람직하다.In the urethane bond formation reaction, a tertiary amine catalyst such as bis (2-dimethylaminoethyl) ether, trimethylaminoethylethanolamine and N, N'-dimethylethanolamine, dibutyltin dilaurate, Such as dibutyl tin diacetate, etc., in an amount of 100 to 3,000 ppm on the basis of the formula (4), or the catalyst may be used at all, and the reaction may be carried out at a reaction temperature of 50 to 160 ° C for 30 minutes It is preferable to carry out the reaction for 6 hours.

다만, 상기 제1 공정을 종결시켰을 때, 미반응 원료들이 잔존할 수 있다. 상기 제1 공정에 따른 제1 생성물은, 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 반응 생성물; 및 미반응된 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체;를 포함할 수 있다.However, when the first step is terminated, unreacted starting materials may remain. The first product according to the first step may include a reaction product of the polymer represented by Formula 3 and the compound represented by Formula 4; And a polymer represented by the above-mentioned general formula (3).

한편, 상기 제1 공정에 있어서, 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체의 수산기 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 이소시아네티기의 몰비는 66 : 1 내지 1.1 : 1으로 제어할 수 있다. 이는, OH기 몰수: NCO 몰수 = 66 : 1 내지 1.1 :1임을 의미할 수 있다, 이 범위에서, 화학식4의 이소시아네이트기가 많아질수록 저탄성에 유리하지만 중합도중 겔화의 위험 및 높은 점도로 인한 작업성 문제가 발생함을 고려한 것이지만, 상기 일 구현예가 이에 의해 제한되는 것은 아니다.In the first step, the molar ratio of the hydroxyl group of the polymer represented by the formula (3) and the isocyanate group of the compound represented by the formula (4) may be controlled to be 66: 1 to 1.1: 1. In this range, as the number of isocyanate groups in the formula (4) increases, it is advantageous in low elasticity, but the risk of gelation in the polymerization degree and the workability due to the high viscosity But the present invention is not limited thereto.

상기 화학식 3으로 표시되는 중합체의 수산기 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 이소시아네티기의 몰비는, 구체적으로 20 :1 내지 1.5 : 1 로 제어할 수 있지만, 상기 일 구현예가 이에 의해 제한되는 것은 아니다.The molar ratio of the hydroxyl group of the polymer represented by the formula (3) and the isocyanate group of the compound represented by the formula (4) can be controlled to be specifically 20: 1 to 1.5: 1, no.

한편, 제1공정은 용매와 함께 반응시키거나 용제가 없이 반응시키거나 모두 가능하다. 여기서 사용하는 용매는 케톤계 용매, 아세테이트계 용매, 카르비톨계 용매, 방향족 탄화수소계 용매, 및 아마이드계 용매를 포함하는 군에서 선택되는 어느 하나, 또는 이들 중 2 이상의 혼합물일 수 있다. On the other hand, the first step can be carried out either with the solvent or without the solvent. The solvent used herein may be any one selected from the group consisting of a ketone solvent, an acetate solvent, a carbitol solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, and an amide solvent, or a mixture of two or more thereof.

상기 케톤계 용매의 예로는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온 등이 있고, 상기 아세테이트계 용매의 예로는 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 상기 카르비톨계 용매의 예로는 셀로솔부, 부틸 카르비톨 등이 있고, 상기 방향족 탄화수소계 용매의 예로는 톨루엔, 크실렌 등이 있으며, 상기 아마이드계 용매의 예로는 디메틸 포름아마이드, 디메틸 아세트아마이드, N-메틸피롤리돈 등이 있다.Examples of the ketone solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of the acetate solvent include ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples of the toole-based solvent include cellosolve and butyl carbitol. Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene and xylene. Examples of the amide solvent include dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrole Money.

제2 공정Second Step

상기 제1 공정이 종결된 반응기에, 상기 제1 공정의 생성물(제1 생성물)을 정제하거나 분리하는 등의 조치를 취하지 않고, 상기 화학식 5로 표시되는 중합체를 투입함으로써, 상기 제2 공정을 진행할 수 있다.The second step is carried out by introducing the polymer represented by Chemical Formula 5 into the reactor in which the first step is completed, without taking measures such as purifying or separating the product (first product) of the first step .

한편, 상기 화학식 5의 투입 시점은 제1 공정 진행시 미리 투입해두거나 제2 공정 진행 시작 시점에서 투입하거나 어느 방법으로 진행하여도 무방하다.The time point of introduction of the compound of formula (5) may be added at the beginning of the first step or may be introduced at the beginning of the second step or may be carried out by any method.

상기 제2 공정에 있어서, 상기 화학식 5로 표시되는 중합체는, 에폭시기를 포함하는 DCPD (Dicyclopentadiene)계 중합체)의 일종이다.In the second step, the polymer represented by Formula 5 is a DCPD (Dicyclopentadiene) polymer containing an epoxy group.

따라서, 상기 제2 공정에서, 상기 제1 생성물 중 상기 화학식 6으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 5로 표시되는 중합체의 반응이 진행되면, 그 반응 부위는 전술한 반복 단위 1-1로 전환되고, 상기 화학식 6으로 표시되는 중합체에 포함된 연결기(linker)는 그대로 전술한 화학식 1이 되어, 전체로써 전술한 제1 변성 에폭시 수지를 형성할 수 있다. Accordingly, in the second step, when the reaction of the polymer represented by the formula (6) and the polymer represented by the formula (5) proceeds in the first product, the reaction site is converted to the repeating unit 1-1 described above, The linker contained in the polymer represented by the formula (6) can be directly converted to the above-described formula (1) to form the above-mentioned first modified epoxy resin as a whole.

한편, 상기 제1 생성물에 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체가 잔존하는 경우, 이 또한 상기 화학식 5로 표시되는 중합체)와 반응할 수 있다. On the other hand, when the polymer represented by the general formula (3) remains in the first product, the polymer may also be reacted with the polymer represented by the general formula (5).

구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 5로 표시되는 중합체)의 반응이 진행되면, 그 반응 부위는 전술한 반복단위 2-1로 전환되고, 상기 화학식 5로 표시되는 중합체)의 미반응 부위는 전술한 반복단위 2-2로 전환되어, 전체로써 전술한 제2 변성 에폭시 수지를 형성할 수 있다. Specifically, when the reaction of the polymer represented by the formula (3) and the polymer represented by the formula (5) proceeds, the reaction site is converted into the repeating unit 2-1 described above and the polymer represented by the formula (5) The reactive site can be converted to the above-mentioned repeating unit 2-2 to form the above-mentioned second modified epoxy resin as a whole.

물론, 상기 제2 공정을 종결시켰을 때에도, 미반응 원료들이 잔존할 수 있다.Of course, even when the second step is terminated, unreacted starting materials may remain.

한편 제2공정 진행 시, 상기 화학식 6으로 표시되는 중합체의 수산기 및 제1 생성물의 상기 화학식3으로 표시되는 미반응된 중합체의 수산기와 상기 화학식5로 표시되는 중합체의 에폭시기가 반응 시, 전 수산기 대비 에폭시기 몰비는 1 : 30 내지 1 : 1.5로 제어할 수 있다. 이는, OH기 몰수: EPOXY기 몰수 = 1 : 30 내지 1 :1.5임을 의미할 수 있다.On the other hand, when the hydroxyl group of the polymer represented by the formula (6) and the hydroxyl group of the unreacted polymer represented by the formula (3) of the first product are reacted with the epoxy group of the polymer represented by the formula (5) The epoxy group molar ratio can be controlled from 1: 30 to 1: 1.5. This may mean that the OH group moles: EPOXY moles = 1: 30 to 1: 1.5.

이 범위에서, 수산기의 몰수가 많아질수록 고내열, 저CTE, 고접착력에 유리하나 중합 도중 겔화의 위험 및 고분자화로 인한 작업성 문제가 발생함을 고려한 것이지만, 상기 일 구현예가 이에 의해 제한되는 것은 아니다.In this range, as the number of moles of hydroxyl group increases, it is considered that high heat resistance, low CTE and high adhesive strength are favorable, but there is a risk of gelation during polymerization and workability due to high molecular weight. However, no.

상기 반응에 있어서, 2-페닐이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 4,4'-메틸렌-비스(2-에틸-5-메틸이미다졸)과 같은 이미다졸계 촉매, 아민계 촉매, 테트라 페닐 포스포늄 브로마이드, 에틸 트리페닐 포스포늄 아이오다이드 등의 포스핀계 촉매, 또는 포스포늄 염 촉매 등을 화학식3을 기준으로 100 내지 3,000ppm의 양으로 사용할 수 있고, 100℃ 내지 250℃의 반응 온도에서 1 내지 10 시간 동안 반응시키는 것이 바람직하다. 이에 따라, 상기 제2 공정의 생성물(제2 생성물)은, 상기 제1 변성 에폭시 수지를 필수적으로 포함하며, 상기 제2 변성 에폭시 수지, 제2 공정의 미반응 원료들(화학식 6 및 5)를 선택적으로 포함할 수 있는 것이다.In the above-mentioned reaction, it is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of 2-phenylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, Ethyl-5-methylimidazole), an amine-based catalyst, a phosphine-based catalyst such as tetraphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, or a phosphonium salt catalyst, 3, preferably from 100 to 3,000 ppm, and the reaction is preferably carried out at a reaction temperature of 100 to 250 ° C for 1 to 10 hours. Accordingly, the product (second product) in the second step essentially contains the first modified epoxy resin, and the second modified epoxy resin, the unreacted raw materials (Chemical Formula 6 and 5) in the second step And may be optionally included.

제3 공정Third step

상기 제2 공정이 종결된 반응기에, 상기 제2 공정의 생성물(제2 생성물)을 정제하거나 분리하는 등의 조치를 취하지 않고, 반응성 희석제를 투입하고 혼합하는, 제3 공정;을 더 포함할 수 있지만, 이는 선택적인 공정이다.And a third step of adding and mixing a reactive diluent into the reactor in which the second step is completed without taking measures such as refining or separating the product (second product) of the second step However, this is an optional process.

상기 제3 공정을 더 포함할 때, 상기 제2 생성물의 총 중량 100 중량부 대비, 상기 반응성 희석제 1 내지 35 중량부로 투입할 수 있다. 이 범위에서 저탄성, 내열성, 및 저CTE의 다양한 물성이 적절히 균형을 이루는 효과가 있지만, 이에 의해 상기 일 구현예의 제조 방법이 제한되는 것은 아니다.When the third step is further included, the reactive diluent may be added in an amount of 1 to 35 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the second product. In this range, various properties of low elasticity, heat resistance, and low CTE are properly balanced, but the manufacturing method of the embodiment is not limited thereto.

한편, 상기 반응성 희석제의 구조 등에 대한 설명은, 전술한 바와 같아 생략한다.The structure and the like of the reactive diluent are the same as described above.

프리프레그(prepreg)The prepreg

본 발명의 또 다른 일 구현예에서는, 섬유 기재를 포함하며, 전술한 수지 조성물이 상기 섬유 기재에 함침된 것인, 프리프레그(prepreg)를 제공한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a prepreg comprising a fiber substrate, wherein the resin composition is impregnated in the fiber substrate.

예컨대, 상기 일 구현예의 프리프레그는, 전술한 수지 조성물 및 용매를 포함하는 바니쉬 조성물을 상기 섬유 기재에 함침시킨 뒤 건조함으로써 제조할 수 있다. For example, the prepreg of the embodiment can be produced by impregnating the fiber substrate with a varnish composition comprising the resin composition and the solvent as described above, followed by drying.

상기 섬유 기재의 경우, 특히 제한되지 않지만, 직포나 부직포 등의 섬유 기재를 사용할 수 있다. 예를 들면 유리, 알루미나, 석면, 붕소, 실리카 알루미나 유리, 실리카 글라스, 치라노, 탄화 규소, 질화 규소, 지르코니아등의 무기 섬유, 아라미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리에테르 설폰, 카본, 셀룰로오스 등의 유기 섬유 및 이들의 혼합계 섬유 기재를 사용할 수 있다.In the case of the above-mentioned fiber substrate, although not particularly limited, a fiber substrate such as a woven fabric or a nonwoven fabric can be used. For example, inorganic fibers such as glass, alumina, asbestos, boron, silica alumina glass, silica glass, chirano, silicon carbide, silicon nitride, and zirconia, aramid, polyetheretherketone, polyetherimide, polyethersulfone, Organic fibers such as cellulose, and mixed fiber based materials thereof may be used.

상기 용매는, 케톤계 용매, 아세테이트계 용매, 카르비톨계 용매, 방향족 탄화수소계 용매, 및 아마이드계 용매를 포함하는 군에서 선택되는 어느 하나, 또는 이들 중 2 이상의 혼합물일 수 있다. The solvent may be any one selected from the group consisting of a ketone solvent, an acetate solvent, a carbitol solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, and an amide solvent, or a mixture of two or more thereof.

상기 케톤계 용매의 예로는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온 등이 있고, 상기 아세테이트계 용매의 예로는 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 상기 카르비톨계 용매의 예로는 셀로솔부, 부틸 카르비톨 등이 있고, 상기 방향족 탄화수소계 용매의 예로는 톨루엔, 크실렌 등이 있으며, 상기 아마이드계 용매의 예로는 디메틸 포름아마이드, 디메틸 아세트아마이드, N-메틸피롤리돈 등이 있다.Examples of the ketone solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of the acetate solvent include ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples of the toole-based solvent include cellosolve and butyl carbitol. Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene and xylene. Examples of the amide solvent include dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrole Money.

상기 일 구현예의 프리프레그 제조 시 함침 조건은, 특별히 제한하는 것이 아니지만, 상기 바니쉬 조성물 내 고형분을 상기 섬유 기재 내에 함침시 적절한 점도 및 작업성을 고려하여 조절할 수 있다.The impregnation conditions in the preparation of the prepreg in one embodiment are not particularly limited, but the solid content in the varnish composition can be adjusted in consideration of proper viscosity and workability when impregnating the fibrous substrate.

또한, 상기 일 구현예의 프리프레그 제조 시 건조 조건은, 특별히 제한하는 것이 아니지만, 바니쉬 조성물을 상기 섬유 기재에 함침시킨 상태에서 20 내지 200 ℃의 온도 범위에서 1분 내지 30분 동안 열처리하는 것일 수 있고, 이 범위에서 적층판의 층간 접착성 등에 유리할 수 있다.The drying conditions for the preparation of the prepreg in the above embodiment are not particularly limited, but the varnish composition may be heat-treated in a temperature range of 20 to 200 캜 for 1 to 30 minutes in a state impregnated with the fiber substrate , And it may be advantageous in the range of interlaminar adhesion of the laminate.

적층판Laminates

본 발명의 또 다른 일 구현예에서는, 전술한 일 구현예의 프리프레그가 적어도 2층 이상 적층된, 적층판을 제공한다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a laminate in which at least two layers of prepregs of the above-described embodiment are laminated.

예컨대, 상기 일 구현예의 적층판은, 전술한 일 구현예의 프리프레그를 한 장 또는 복수 장 적층하고, 필요에 따라 그 편면 또는 양면에 금속박을 겹친 뒤, 가열 가압함으로써 제조할 수 있다.For example, the laminate of this embodiment can be produced by laminating one or more prepregs of the above-described embodiment, and laminating a metal foil on one side or both sides thereof, if necessary, followed by heating and pressing.

또한, 상기 일 구현예의 적층판 제조 시 가열 가압을 위한 기기로는, 다단 프레스, 다단 진공 프레스, 연속 성형, 오토클레이브 성형기 등을 사용할 수 있다지만, 이에 의해 상기 일 구현예의 적층판이 제한되는 것은 아니다.In addition, the multi-stage press, multi-stage vacuum press, continuous molding, autoclave molding machine or the like may be used as the device for heating and pressing in the production of the laminate of the embodiment, but the laminate of the embodiment is not limited thereto.

상기 일 구현예의 적층판 제조 시 금속박이 사용되는 경우, 특별히 제한되는 것이 아니지만, 구리, 알루미늄, 니켈, 니켈-인, 니켈-주석 합금, 니켈-철합금, 납, 납-주석 합금 중 1 이상의 금속으로 이루어진 금속박을 한 장 또는 복수 장 사용할 수 있다. In the case of using the metal foil in the production of the laminate of one embodiment, the metal foil is not particularly limited, but may be at least one metal selected from the group consisting of copper, aluminum, nickel, nickel-phosphorus, nickel-tin alloy, nickel- One or more sheets of metal foil may be used.

수지 부착 금속박Metal foil with resin

본 발명의 또 다른 일 구현예에서는, 금속박;을 포함하며, 전술한 일 구현예의 수지 조성물을 포함하는 수지층;을 포함하는, 수지 부착 금속박을 제공한다. In another embodiment of the present invention, there is provided a resin-coated metal foil comprising: a metal foil; and a resin layer comprising the resin composition of one embodiment described above.

예컨대, 상기 일 구현예의 수지 부착 금속박은, 전술한 일 구현예와 같이 프리프레그로 가공하지 않은 수지 조성물을 바니쉬 조성물로 제조하여 금속박에 도포한 뒤 건조함으로써 제조할 수 있다.For example, the resin-coated metal foil of the embodiment can be produced by preparing a resin composition which is not processed into a prepreg, as in the above-described embodiment, with a varnish composition, applying the composition to a metal foil and then drying the resin foil.

상기 일 구현예의 수지 부착 금속박의 제조를 위한 바니쉬 조성물은, 전술한 프리프레그 제조를 위한 바니쉬 조성물과 마찬가지로 용매를 포함하되, 경화제, 경화 촉매 등을 더 포함할 수 있다.The varnish composition for producing the resin-coated metal foil of one embodiment may further include a solvent as well as a curing agent, a curing catalyst, and the like as the varnish composition for preparing the prepreg described above.

상기 경화제는, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 디사이클로펜타디엔 수지, 및 디시안디아마이드를 포함하는 군에서 선택되는 어느 하나, 또는 이들 중 2 이상의 혼합물을 포함하는 것일 수 있다. The curing agent may be one selected from the group consisting of phenol novolak resin, cresol novolak resin, dicyclopentadiene resin, and dicyandiamide, or a mixture of two or more thereof.

상기 경화 촉매는, 이미다졸류 화합물, 포스핀류 화합물, 포스포늄 염, 및 3급 아민을 포함하는 군에서 선택되는 어느 하나, 또는 이들 중 2 이상의 혼합물일 수 있다.The curing catalyst may be any one selected from the group consisting of an imidazole compound, a phosphine compound, a phosphonium salt, and a tertiary amine, or a mixture of two or more thereof.

상기 일 구현예의 수지 조성물은, 상기 제1 변성 에폭시 수지를 포함함으로써, 저탄성 특성 및 저유전 특성을 가지면서도, 양호한 열 팽창 계수 (CTE)와 접착력을 가질 수 있는 것이다.The resin composition of one embodiment can have a good thermal expansion coefficient (CTE) and an adhesive strength while having the low elasticity property and the low dielectric property by including the first modified epoxy resin.

이는 프리프레그, 적층 시트, 동박 적층판 등의 형태로 가공되어 자동차 등의 전기 장치에 적용되기에 적합할 수 있다.This can be processed in the form of a prepreg, a laminated sheet, a copper clad laminate, or the like, and is suitable for being applied to an electric apparatus such as an automobile.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

실시예 1Example 1

1) 제1 공정 (step 1) 1) First step (step 1)

교반기, 질소 유입구, 냉각관과 연결된 환류관이 장착된 4구 플라스크에, 180g의 DCPD-페놀 수지(제품명: KDN-7011, 국도화학 社 OHEW 186 g/eq, S.P 105℃)를 투입한 뒤 130 ℃에서 용융시켰다. 상기 DCPD-페놀 수지는, 하기 화학식 3에서 m1이 1~7 이며, 수평균 분자량이 565이고 중량평균 분자량이 784인 고상 원료이다.180 g of DCPD-phenol resin (product name: KDN-7011, OHEW 186 g / eq by Kukdo Chemical Co., SP 105 ° C) was charged into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet and a reflux tube connected to a cooling tube, &Lt; / RTI &gt; The DCPD-phenol resin is a solid raw material having m1 of 1 to 7, number average molecular weight of 565 and weight average molecular weight of 784 in the following general formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112018064366907-pat00016
Figure 112018064366907-pat00016

상기 4구 플라스크 내 온도가 안정화되고, 상기 DCPD-페놀 수지가 모두 용융된 후, 10 중량%의 디부틸틴 디라우레이트 촉매 용액(in MEK)을 0.1 ml 투입하였다.After the temperature in the four-necked flask was stabilized and the DCPD-phenol resin was completely melted, 0.1 ml of a 10 wt% dibutyltin dilaurate catalyst solution (in MEK) was added.

상기 촉매가 투입된 4구 플라스크의 온도를 130 ℃로 승온시키고, 그 온도가 안정화되면, 30 분에 걸쳐 MDI(4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 제품명: COSMONATE PI, 금호미쓰이화학 社, MDI의 NCO 함량 33.6 wt%) 60g을 적하하였다.The temperature of the four-necked flask equipped with the catalyst was raised to 130 DEG C, and when the temperature was stabilized, the NCO content of MDI (4,4'-diphenylmethane diisocyanate, product name: COSMONATE PI, Kumho Mitsui Chemicals, 33.6 wt%) was added dropwise thereto.

상기 MDI 적하 종료 후, 130 ℃에서 3 내지 4 시간 교반하며 제1 공정의 반응을 진행시켰다.After completion of the dropwise addition of the MDI, the mixture was stirred at 130 DEG C for 3 to 4 hours to carry out the reaction of the first step.

2) 제2 공정 (step 2)2) the second step (step 2)

상기 제2 공정이 종결된 4구 플라스크에, 1800 g의 DCPD-에폭시 수지(제품명: KDCP-150, 국도화학 社, EEW 287.5 g/eq, S.P 79.7 ℃)를 투입한 뒤 이를 130 ℃에서 용융시켰다. 상기 DCPD-에폭시 수지는, 하기 화학식 5에서 m2가 0~7이며, 수평균 분자량이 598이고 중량평균 분자량이 1,005인 고상 원료이다.1800 g of DCPD-epoxy resin (product name: KDCP-150, Kukdo Chemical Co., Ltd., EEW 287.5 g / eq, SP 79.7 占 폚) was added to the four-necked flask in which the second step was completed and then melted at 130 占 폚 . The DCPD-epoxy resin is a solid raw material having a number average molecular weight of 598 and a weight average molecular weight of 1,005 in the following formula (5).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112018064366907-pat00017
Figure 112018064366907-pat00017

상기 4구 플라스크의 온도가 안정화되고, 상기 DCPD-에폭시 수지가 모두 용융된 후, 10 중량%의 2PI(2-phenylimidazole)가 용해된 촉매 용액(in MeOH)을 0.1 ml 투입하였다.After the temperature of the four-necked flask was stabilized and all of the DCPD-epoxy resin was melted, 0.1 ml of a catalyst solution (in MeOH) in which 10% by weight of 2-phenylimidazole was dissolved was added.

상기 촉매가 투입된 4구 플라스크의 온도를 160 ℃로 승온시키고, 그 온도가 안정화된 상태에서 3 내지 4 시간 교반하며 제2 공정의 반응을 진행시켰다.The temperature of the four-necked flask in which the catalyst was charged was raised to 160 ° C, and the reaction was allowed to proceed in the second step with stirring for 3 to 4 hours while the temperature was stabilized.

3) 제3 공정 (step 3)3) Third step (step 3)

상기 제2 공정이 종결된 4구 플라스크에, 용제인 MEK(methyl ethyl ketone)를 874 g 투입하여, 상기 제2 공정의 반응 생성물을 희석시켰다. 874 g of methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent was added to the four-necked flask in which the second step was completed, and the reaction product of the second step was diluted.

이에 따라 최종적으로 수득된 수지 조성물의 분석 결과, 에폭시 당량은 357.1 g/eq, 점도는 5,237 cps (@ 25 ℃)인 것으로 확인되었다. As a result of the analysis of the finally obtained resin composition, it was confirmed that the epoxy equivalent was 357.1 g / eq and the viscosity was 5,237 cps (@ 25 DEG C).

실시예 2Example 2

1)& 2) 제1 공정 (step 1) 및 제2 공정 (step 2)1) & 2) The first step (step 1) and the second step (step 2)

실시예 1의 제2 공정까지 동일하게 진행하였다.The same procedure was applied to the second step of Example 1.

3) 제3 공정 (step 3)3) Third step (step 3)

실시예 1와 동일하게 제2 공정이 종결된 4구 플라스크에, 300g의 3 관능성 반응성 희석제(Trimethylol Propane triglycidyl ether, 상품명: YH-300, 국도화학 社, EEW 138.5 g/eq, 점도 115 cps @ 25 ℃)를 투입한 뒤, 실시예 1과 동일한 MEK 1002g 투입함으로써, 상기 제2 공정의 반응 생성물을 희석시켰다. 상기 3 관능성 반응성 희석제는 하기 화학식 2로 표시되는 액상 원료이되, 하기 화학식 2에서 R37은 하기 화학식 2B로 표시되고, 하기 화학식 2B에서 * 표시는 하기 화학식2의 R37에 연결되는 부위를 의미한다.300 g of Trimethylol Propane triglycidyl ether (trade name: YH-300, manufactured by Kukdo Chemical Co., Ltd., EEW 138.5 g / eq, viscosity 115 cps) was added to a four-necked flask, 25 ° C) was charged, and 1002 g of the same MEK as in Example 1 was added to dilute the reaction product of the second step. The trifunctional reactive diluent to liquid wonryoyi being, to be displayed in the formula (2) as is the formula 2B R 37, to the formula 2B * display represented by the formula (2) refers to the region that is connected to R 37 of formula (II) do.

[화학식 2](2)

Figure 112018064366907-pat00018
Figure 112018064366907-pat00018

[화학식 2B](2B)

Figure 112018064366907-pat00019
Figure 112018064366907-pat00019

이에 따라 최종적으로 수득된 수지 조성물의 분석 결과, 수평균 분자량이 689이고 중량평균 분자량이 2092, 에폭시 당량은 294.8 g/eq, 점도는 1,745 cps (@ 25 ℃)인 것으로 확인되었다.As a result, the resin composition finally obtained was found to have a number average molecular weight of 689, a weight average molecular weight of 2092, an epoxy equivalent of 294.8 g / eq, and a viscosity of 1,745 cps (@ 25 DEG C).

실시예 3Example 3

1) 제1 공정 (step 1)1) First step (step 1)

MDI 대신 HDI(hexamethylene diisocyanate, 아사히 카세이 社, HDI 1 몰 당 NCO 함량 50 wt%)를 사용한 점을 제외하고, 나머지는 실시예 1의 제1 공정과 동일하게 하였다.Except for using HDI (hexamethylene diisocyanate, Asahi Kasei Co., Ltd., NCO content of 50 wt% per mole of HDI) instead of MDI. The remainder was the same as the first step of Example 1.

2) 제2 공정2) Second step

실시예 3의 제1 공정이 종결된 4구 플라스크에서, 실시예 1의 제2 공정과 동일한 원료, 조건 등을 이용하여, 제2 공정을 진행하였다.In the four-necked flask in which the first step of Example 3 was completed, the second step was carried out by using the same raw materials, conditions, and the like as in the second step of Example 1. [

3) 제3 공정3) Third step

실시예 3의 제2 공정이 종결된 4구 플라스크에, 2관능성 반응성 희석제(Aliphatic glycidyl ether, 상품명: PG-207P, 국도화학 社, EEW 318.3 g/eq, 점도 47 cps @ 25 ℃)를 300g 적하한 뒤 이를 용해시킨 다음, 실시예 1과 동일한 용제(MEK)를 1002 g 투입함으로써, 상기 제2 공정의 반응 생성물을 희석시켰다. 상기 2 관능성 반응성 희석제는 하기 화학식 2-1로 표시되는 액상 원료이되, 하기 화학식 2-1에서 R37은 하기 화학식 2A로 표시되고, 하기 화학식 2A에서 z는 구체적으로는 0 ~11이며 * 표시는 하기 화학식 2-1의 R37에 연결되는 부위를 의미한다.300 g of a bifunctional reactive diluent (Aliphatic glycidyl ether (trade name: PG-207P, Kukdo Chemical Co., Ltd., EEW 318.3 g / eq, viscosity 47 cps at 25 ° C) was added to a four- The reaction product of the second step was diluted by adding 1002 g of the same solvent (MEK) as in Example 1 after the dropwise addition. The bifunctional reactive diluent is a liquid raw material represented by the following formula (2-1), R 37 in the following formula (2-1) is represented by the following formula (2A), and z in the following formula (2A) is specifically 0 to 11, Means a moiety connected to R 37 of the following formula (2-1).

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112018064366907-pat00020
Figure 112018064366907-pat00020

[화학식 2A](2A)

Figure 112018064366907-pat00021
Figure 112018064366907-pat00021

이에 따라 최종적으로 수득된 수지 조성물의 분석 결과, 수평균 분자량이 3,141이고 중량평균 분자량이 13,880, 에폭시 당량은 366 g/eq, 점도는 676 cps (@ 25 ℃)인 것으로 확인되었다.As a result, the final resin composition was found to have a number average molecular weight of 3,141, a weight average molecular weight of 13,880, an epoxy equivalent of 366 g / eq, and a viscosity of 676 cps (@ 25 DEG C).

비교예 1Comparative Example 1

시판되는 고내열 DOPO-HQ 변성 인계 에폭시 수지(상품명: KDP-555MC80, 국도화학 社, EEW 225.4 g/eq, 점도 16,600 cps @ 25 ℃)를 사용하였다.(Trade name: KDP-555MC80, available from Kukdo Chemical Co., Ltd., EEW 225.4 g / eq, viscosity: 16,600 cps at 25 DEG C) was used as a heat-resistant high-heat resistant DOPO-HQ modified phosphorus epoxy resin.

비교예 2Comparative Example 2

시판되는 DCPD-에폭시 수지(상품명: KDCP-130EK80, 국도화학 社, EEW 254.7 g/eq, 점도 1,150 cps @ 25 ℃)를 사용하였으며, 그 구조는 다음과 같다.A commercially available DCPD-epoxy resin (trade name: KDCP-130EK80, Kukdo Chemical Co., Ltd., EEW 254.7 g / eq, viscosity 1,150 cps at 25 ° C) was used.

Figure 112018064366907-pat00022
Figure 112018064366907-pat00022

비교예 3Comparative Example 3

시판되는 페놀 노볼락 에폭시 수지(상품명: YDPN-638EK80, 국도화학 社, EEW 179.7 g/eq, 점도 370 cps @ 25 ℃)를 사용하였으며, 그 구조는 다음과 같다.A commercially available phenol novolac epoxy resin (trade name: YDPN-638EK80, Kido Chemical Co., Ltd., EEW 179.7 g / eq, viscosity 370 cps at 25 ° C) was used.

Figure 112018064366907-pat00023
Figure 112018064366907-pat00023

평가예 1Evaluation example 1

다음과 같은 방법으로 각 실시예 및 비교예의 물성을 평가하고, 그 평가 결과를 하기 표 1에 기록하였다.The physical properties of each of the examples and comparative examples were evaluated in the following manner, and the evaluation results thereof were recorded in the following Table 1.

(1) 평가 방법(1) Evaluation method

1) CCL 평가용 시편 제조 방법1) Method of preparing sample for CCL evaluation

경화제로는 연화점이 91.2 ℃인 페놀 노볼락 경화제를 사용하고, 촉매로는 2MI(2Methylimidazole), 필러로는 M2 EPO를 사용하여, 각 실시예 및 비교예, 경화제, 및 촉매를 하기 표 1의 조성으로 혼합하고, 용매로는 MEK를 사용하여, 고형분 함량이 50 중량%인 바니쉬 용액을 각각 제조하였다.As the curing agent, phenol novolac curing agent having a softening point of 91.2 ° C was used, 2MI (2Methylimidazole) was used as a catalyst and M2 EPO was used as a filler. Each of the examples and comparative examples, the curing agent, , And a varnish solution having a solid content of 50% by weight was prepared by using MEK as a solvent.

각각의 바니쉬 용액을 2116 type E-glass 유리 섬유에 함침시킨 뒤, 175 ℃의 오븐에 넣고 2 분 동안 건조시켜, 각각의 프리프레그(Prepreg)를 제조하였다.Each varnish solution was impregnated with 2116 type E-glass glass fiber and then placed in an oven at 175 DEG C for 2 minutes to prepare each prepreg.

각각의 프리프레그 8장을 1 oz.의 동박 두 장 사이에 위치시킨 뒤, 180 ℃의 온도 및 200 psi의 압력으로 1시간 30분간 열간 압연(hot press)하여, 각각의 CCL 물성 평가용 시편을 수득하였다.Each of the prepregs was placed between two copper foils of 1 oz., Hot pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 200 psi for 1 hour and 30 minutes, .

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 CCL
평가용 시편
조성
(단위:
중량부)
CCL
Evaluation Piece
Furtherance
(unit:
Weight part)
에폭시 수지
(Epoxy Resin)
Epoxy resin
(Epoxy Resin)
5858 5656 5858 5151 5353 4848
경화제(Hardener)Hardener PN*1 PN * 1 1212 1414 1212 1919 1717 2222 촉매(Catalyst)Catalyst 0.080.08 필러(Filler)Filler 3030 물성
평가
결과
Properties
evaluation
result
Tg(℃, DSC)Tg (占 폚, DSC) 161161 125125 117117 177177 180180 170170
CTE(ppm/℃)CTE (ppm / ° C) XX 1212 1212 1212 1515 1515 1616 YY 1212 1313 1212 1515 1616 1717 ZZ 4545 3434 4747 4545 4545 4747 Storage Modulus(GPa)Storage Modulus (GPa) 1.01.0 0.80.8 0.60.6 2.02.0 2.12.1 1.91.9 Dk(@1GHz)Dk (@ 1 GHz) 3.93.9 3.93.9 3.93.9 4.34.3 4.04.0 4.54.5 Df(@1GHz)Df (@ 1 GHz) 0.0110.011 0.0120.012 0.0110.011 0.0150.015 0.0150.015 0.0190.019 Td(℃)Td (占 폚) 420.3420.3 420.1420.1 420.1420.1 372372 423423 394394 90° Peel Strength(kgf/mm2)90 [deg.] Peel Strength (kgf / mm 2 ) 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.11.1 0.90.9 0.80.8

2) 유리 전이 온도(Tg)2) Glass transition temperature (Tg)

유리 전이 온도(Tg)는, 각 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 180 ℃에서 6시간 유지하여 경화시킨 다음, 시차주사열계량법(DSC)을 이용하여 IPC TM-650 2.4.25 규격에 따라 측정하였다.The glass transition temperature (Tg) was measured by keeping the resin composition of each of the examples and comparative examples at 180 DEG C for 6 hours and then by using differential scanning calorimetry (DSC) according to the IPC TM-650 2.4.25 standard .

3) 열 팽창 계수 (Coefficients of thermal expansion. CTE)3) Coefficients of thermal expansion (CTE)

열 팽창 계수(CTE)는, 각 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 180 ℃에서 6시간 유지하여 경화시킨 다음, IPC TM-650 2.4.24 규격에 따라 측정하였다.The coefficient of thermal expansion (CTE) of the resin compositions of each of the examples and comparative examples was maintained at 180 캜 for 6 hours and cured, and then measured according to the IPC TM-650 2.4.24 standard.

4) 저장 탄성률(Storage modulus)4) Storage modulus

저장 탄성률은, 각 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 금속박에 부착시킴으로써 각각의 수지가 부착된 금속박을 제조하고, 각각의 수지가 부착된 금속박 2장에 대해 수지 면이 마주보도록 겹침으로써 양면 동박 적층박을 제작하였다. 각각의 양면 동박 적층박을 전면 에칭한 뒤, 폭 5mm X 길이 30 mm로 절단하고, DMA(Dynamic Mechanical Analysis)를 이용하여 산출하였다.The storage elastic modulus was obtained by attaching the resin composition of each of the Examples and Comparative Examples to a metal foil to prepare a metal foil with each resin adhered thereto, Respectively. Each of the double-sided copper-clad laminated foils was entirely etched, cut into 5 mm wide and 30 mm long, and calculated by DMA (Dynamic Mechanical Analysis).

5) 유전 특성5) Dielectric Properties

IPC TM-650 2.5.5.9 규격에 따라, 각 실시예 및 비교예의 CCL 시편에 대해, 1GHz에서의 유전율(Dielectric Constant, Dk) 및 유전 손실율(Dissipation Factor, Df)를 측정하였다. IPC TM-650 2.5.5.9 The dielectric constant (Dk) and dielectric dissipation factor (Df) at 1 GHz were measured for the CCL specimens of the examples and comparative examples according to the standard.

6) 열 분해 온도(Decomposition Temperatures, Td) 6) Decomposition Temperatures (Td)

열분해 온도(Td)는, 각 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 180 ℃에서 6시간 유지하여 경화시킨 다음, 열분석법(TGA)을 이용하여 IPC TM-650 2.4.24.6 규격에 따라 측정하였다.The thermal decomposition temperature (Td) was determined by keeping the resin composition of each of the examples and the comparative examples at 180 캜 for 6 hours and curing the resin composition according to the IPC TM-650 2.4.24.6 standard using a thermal analysis method (TGA).

7) 박리 강도(Peel Strength)7) Peel Strength

IPC TM-650 2.4.8 규격에 따라, 각 실시예 및 비교예의 CCL 시편에 대해 90 ° 박리 강도(Peel Strength) 를 측정하였다. According to the IPC TM-650 2.4.8 standard, the 90 ° peel strength was measured for the CCL specimens of each of the examples and comparative examples.

(2) 평가 결과 검토(2) Review of evaluation result

요컨대, 각 실시예는 각 비교예에 대비하여, 저탄성(low modulus) 특성 및 저유전 특성을 가지면서도, 양호한 열 팽창 계수 (CTE)와 접착력을 가져, 이는 프리프레그, 적층 시트, 동박 적층판 등의 형태로 가공되어 자동차 등의 전기 장치에 적용되기에 적합한 열경화성 수지 조성물로 평가할 수 있다. That is, each of the embodiments has a low modulus characteristic and a low dielectric property, and has a good coefficient of thermal expansion (CTE) and adhesion, as compared with the respective comparative examples. This is because the prepreg, laminated sheet, And can be evaluated by a thermosetting resin composition suitable for application to electric devices such as automobiles.

1) 저장 탄성률 평가1) Evaluation of storage elasticity

구체적으로, 표 1에 따르면, 각 실시예는 각 비교예에 대비하여, 저장 탄성률 (storage modulus)를 나타내며, 이에 따라 높은 신뢰도로 납땜부 균열(solder crack)을 억제하는 특성을 가짐을 알 수 있다. Specifically, according to Table 1, it can be seen that each embodiment exhibits a storage modulus in comparison with each comparative example, and thus has a characteristic of suppressing solder crack with high reliability .

이처럼 각 실시예에서 낮은 저장 탄성률를 나타내는 것은, 각 비교예와 달리, 우레탄 결합이 도입되고, 반응성 희석제가 첨가된 효과로 추론된다.Unlike the comparative examples, the reason why the low storage modulus is shown in each of the examples is that the urethane bond is introduced and the reactive diluent is added.

앞서 설명한 바와 같이, 우레탄 결합은, 이소시아네이트를 가진 물질 및 하이드록시기를 가진 물질의 결합에 의해 형성될 수 있다. 이 물질들의 선택을 통하여, 상기 우레탄기의 연성 세그먼트(soft segment) 및 경성 세그먼트(hard sengment)를 제어할 수 있으며, 이를 적절히 제어함으로써 최종 목적물의 저탄성 물성을 구현할 수 있다.As described above, the urethane bond can be formed by bonding a substance having an isocyanate and a substance having a hydroxy group. Through the selection of these materials, soft segments and hard sengments of the urethane groups can be controlled and suitably controlled to realize low elastic properties of the final object.

이와 관련하여, 실시예 2 및 3의 차이는, 각각의 실시예에 사용된 이소시아네이트 물질의 차이에 기반하여, 우레탄 결합 사이에 형성된 구조가 일부 상이한 것에 있다. 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트(MDI)를 사용하여 우레탄 결합을 형성시킨 실시예 2의 경우, 우레탄 결합 사이에 벤젠 고리가 존재함을 알 수 있다. 그에 반면, 헥사메틸렌 디이소시아네이트(HDI)를 사용하여 우레탄 결합을 형성시킨 실시예 3의 경우, 우레탄 결합 사이에 지방족 고리가 존재한다. 이처럼 우레탄 결합 사이에 형성된 구조에 따라, 저탄성 특성이 일부 상이하게 나타날 수 있다. 실시예 2에 비해 실시예 3에서 더욱 유리한 저탄성 효과가 발현되는 것도 이 때문임을 알 수 있다. In this regard, the difference between Examples 2 and 3 lies in the fact that, based on the difference in isocyanate material used in each example, the structure formed between the urethane bonds is somewhat different. In the case of Example 2 in which a urethane bond is formed using 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), it can be seen that a benzene ring exists between the urethane bonds. On the other hand, in Example 3 in which urethane bonds are formed using hexamethylene diisocyanate (HDI), an aliphatic ring exists between urethane bonds. As such, depending on the structure formed between the urethane bonds, the low elasticity properties may be partially different. This is also the reason why the low elastic effect is more advantageous in Example 3 than in Example 2.

한편, 반응성 희석제의 도입으로써, 저탄성 및 저점도를 구현할 수 있고, 그 결과 모듈러스를 낮추면서도 작업성은 향상시킬 수 있다. 이와 관련하여, 실시예 1 내지 3의 차이는, 반응성 희석제의 종류에서도 찾을 수 있다. On the other hand, by introducing a reactive diluent, low elasticity and low viscosity can be realized, and as a result, workability can be improved while lowering the modulus. In this connection, the difference between Examples 1 and 3 can be found also in the kind of reactive diluent.

보다 구체적으로, 반응성 희석제를 사용하지 않은 실시예 1의 경우, 저장 탄성률이 1.0 GPa로 구현되는데, 반응성 희석제로 Trimethylol Propane triglycidyl ether를 전체 조성물(용제 제외) 중의 13 % 양으로 사용한 실시예 2의 경우. 저장 탄성률이 0.8GPa로 구현됨을 확인할 수 있다.또한, 반응성 희석제로 Aliphatic glycidyl ether 를 13 % 의 양으로 사용한 실시예 3의 경우, 저장 탄성률이 0.6GPa 로 구현됨을 확인할 수 있다. 이처럼, 실시예 1 내지 3의 효과는, 반응성 희석제의 종류 및 유무에도 의존할 수 있다.More specifically, in the case of Example 1 in which a reactive diluent is not used, the storage elastic modulus is 1.0 GPa. In the case of Example 2 in which trimethylolpropane triglycidyl ether was used as a reactive diluent in an amount of 13% of the total composition (excluding solvent) . It can be confirmed that the storage elastic modulus is realized to be 0.8 GPa. Also, in the case of Example 3 using Aliphatic glycidyl ether as the reactive diluent in an amount of 13%, it can be confirmed that the storage elastic modulus is realized to be 0.6 GPa. As described above, the effects of Examples 1 to 3 can also be dependent on the kind and presence or absence of the reactive diluent.

2) 유전 특성 평가2) Evaluation of dielectric properties

한편, 표 1의 유전율(Dk) 및 유전 손실율(Df) 평가 결과로부터, 각 실시예는 각 비교예에 대비하여 저유전 특성을 보이며, 유전 손실율 또한 감소한 것을 확인할 수 있다.On the other hand, from the evaluation results of the dielectric constant (Dk) and the dielectric loss factor (Df) in Table 1, it can be seen that each of the Examples shows low dielectric properties and decreases the dielectric loss ratio in comparison with the respective Comparative Examples.

이는, 각 실시예의 제1 공정에서 사용되는 화학식 3 및 제2 공정에서 사용되는 화학식 5의 DCPD 구조 도입 효과로써, 유전율이 낮아졌을 것으로 추론된다.It can be deduced that the dielectric constant was lowered by the effect of introducing the DCPD structure of the formula (5) used in the first step of each example and the second step used in the second step.

구체적으로, DCPD 구조는, 부피가 크면서도 견고(rigid)하고, 나아가 비극성을 가지면서도 대칭 구조를 가지는 것이다. 이러한 구조적 특성으로 인하여, DCPD는 저유전 특성을 구현하기에 유리한 구조일 수 있다. 각 실시예의 제2 공정에서 사용되는 화학식 5 및 비교예 2의 DCPD 구조 에폭시에 대비하여, 이에 따라 합성되는 물질의 유전 특성이 더욱 우수하다. 이는, 합성되는 물질이 DCPD 구조를 가지면서도 제1 공정에 의해 바니쉬 조성물의 에폭시기가 감소함에 따라, 에폭시기의 경화 후 이차 알코올기의 형성률도 감소한 효과로 인함으로 추론된다.Specifically, the DCPD structure is bulky, rigid, and non-polar, yet has a symmetrical structure. Due to these structural characteristics, DCPD can be advantageous for realizing low dielectric properties. Compared to the DCPD structure epoxy of the formula (5) and the comparative example (2) used in the second step of each example, the dielectric material of the material thus synthesized is superior in dielectric properties. This is because the composition to be synthesized has a DCPD structure and the formation rate of the secondary alcohol group after the curing of the epoxy group is reduced as the epoxy group of the varnish composition is reduced by the first process.

Claims (22)

하기 반복단위 1-1을 포함하는 제1 중합체; 및 하기 반복단위 1-1을 포함하며, 상기 제1 중합체와 동일하거나 상이한 제2 중합체;가 하기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)에 의해 연결된, 제1 변성 에폭시 수지를 포함하는,
수지 조성물:
[반복단위 1-1]
Figure 112018064366907-pat00024

상기 반복단위 1-1에서,
R1 내지R10은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이며,
x1은 0<x1≤12 범위를 만족하는 값이고,
[화학식 1]
Figure 112018064366907-pat00025

상기 화학식 1에서,
R11은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기이고,
* 표시는 각각, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체와의 결합 부위를 의미하며,
R12 내지 R21은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이다.
A first polymer comprising the following repeating unit 1-1; And a second polymer which is the same as or different from the first polymer, the first polymer comprising a first modified epoxy resin and a second polymer,
Resin composition:
[Repeat unit 1-1]
Figure 112018064366907-pat00024

In the repeating unit 1-1,
R 1 to R 10 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
x1 is a value satisfying the range of 0 < x1 &lt; 12,
[Chemical Formula 1]
Figure 112018064366907-pat00025

In Formula 1,
R 11 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of the above substituents, a trimer formed by three of these substituents, or a substituent having a structure in which they are mixed,
* Indicates a bonding site of the first polymer and the second polymer, respectively,
R 12 to R 21 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group.
제1항에 있어서,
상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로,
하기 반복단위 1-2를 더 포함하는 것인,
수지 조성물:
[반복단위 1-2]
Figure 112018064366907-pat00026

상기 반복단위 1-2에서,
R22 내지 R26은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이고,
x2는, 0<x2≤12 범위를 만족하는 값이다.
The method according to claim 1,
Wherein the first polymer and the second polymer are each, independently,
And further comprises the following repeating units 1-2.
Resin composition:
[Repeat unit 1-2]
Figure 112018064366907-pat00026

In the repeating unit 1-2,
R 22 to R 26 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
x2 is a value satisfying the range of 0 < x2? 12.
제1항에 있어서,
상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로,
하기 반복단위 1-3을 더 포함하는 것인,
수지 조성물:
[반복단위 1-3]
Figure 112018064366907-pat00027

상기 반복단위 1-3에서, R27 내지 R31은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이고 x3는 0<x3≤12 범위를 만족하는 값이다.
The method according to claim 1,
Wherein the first polymer and the second polymer are each, independently,
And further comprises the following repeating units 1-3.
Resin composition:
[Repeat unit 1-3]
Figure 112018064366907-pat00027

In the repeating units 1-3, R 27 to R 31 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group, and x3 is a value satisfying 0 <x3? 12.
제1항에 있어서,
상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로, 에폭시기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기를 말단(terminal)으로 하는 것인,
수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the first polymer and the second polymer each independently have a C6 to C30 aryl group substituted or unsubstituted with an epoxy group.
Resin composition.
제4항에 있어서,
상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체는, 각각 독립적으로, 하기 식으로 표시되는 말단을 포함하는 것인,
수지 조성물:
Figure 112018126014063-pat00039

상기 식에서, R32 내지 R36은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기일 수 있고;
* 표시는, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체 각각의 말단과 결합되는 부위를 의미한다.
5. The method of claim 4,
Wherein the first polymer and the second polymer each independently comprise a terminal represented by the following formula:
Resin composition:
Figure 112018126014063-pat00039

In the above formulas, R 32 to R 36 may each independently be hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group;
* Indicates a site to be bonded to the ends of the first polymer and the second polymer, respectively.
제1항에 있어서,
하기 반복단위 2-1 및 2-2를 포함하는 공중합체인, 제2 변성 에폭시 수지;를 더 포함하는,
수지 조성물:
[반복단위 2-1]
Figure 112018064366907-pat00028

[반복단위 2-2]
Figure 112018064366907-pat00029

상기 반복단위 2-1에서,
R1 내지 R10은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이며,
y1은, 0<y1≤12 범위를 만족하는 값이고,
상기 반복단위 2-2에서,
R22 내지 R26은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이며,
y2는, 0<y2≤12 범위를 만족하는 값이다.
The method according to claim 1,
And a second modified epoxy resin, which is a copolymer comprising the following repeating units 2-1 and 2-2.
Resin composition:
[Repeat unit 2-1]
Figure 112018064366907-pat00028

[Repeat unit 2-2]
Figure 112018064366907-pat00029

In the repeating unit 2-1,
R 1 to R 10 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
y1 is a value satisfying the range 0 <y1? 12,
In the repeating unit 2-2,
R 22 to R 26 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
y2 is a value satisfying the range of 0 < y2? 12.
제6항에 있어서,
상기 제2 변성 에폭시 수지는,
하기 반복단위 2-3을 더 포함하는 것인,
수지 조성물:
[반복단위 2-3]
Figure 112018064366907-pat00030

상기 반복단위 2-3에서,
R27 내지 R31은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이며, y3는 0<y3≤12 범위를 만족하는 값이다.
The method according to claim 6,
The second modified epoxy resin may contain,
And further comprises the following repeating units 2-3.
Resin composition:
[Repeat unit 2-3]
Figure 112018064366907-pat00030

In the repeating unit 2-3,
R 27 to R 31 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group, and y3 is a value satisfying 0 <y3? 12.
제6항에 있어서,
상기 수지 조성물의 에폭시 당량 범위는, 230 내지 950g/eq인 수지 조성물.
The method according to claim 6,
The epoxy equivalent weight of the resin composition is 230 to 950 g / eq.
제1항에 있어서,
반응성 희석제를 더 포함하는 것인,
수지 조성물.
The method according to claim 1,
&Lt; / RTI &gt; further comprising a reactive diluent.
Resin composition.
제9항에 있어서,
상기 반응성 희석제는,
하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 것인,
수지 조성물.
[화학식 2]
Figure 112018064366907-pat00031

상기 화학식 2에서,
R37은 하기 화학식 2A 또는 2B로 표시되고,
[화학식 2A]
Figure 112018064366907-pat00032

[화학식 2B]
Figure 112018064366907-pat00033

상기 화학식 2A에서, z는 0<z≤20 범위를 만족하는 값이고,
상기 화학식 2A 및 2B에서 각각 * 표시는, 상기 화학식 2의 R37에 연결되는 부위를 의미한다.
10. The method of claim 9,
The reactive diluent may include,
Wherein R < 1 &gt;
Resin composition.
(2)
Figure 112018064366907-pat00031

In Formula 2,
R 37 is represented by the following formula (2A) or (2B)
(2A)
Figure 112018064366907-pat00032

(2B)
Figure 112018064366907-pat00033

In the formula (2A), z is a value satisfying a range of 0 &lt;
In each of the formulas (2A) and (2B), an asterisk denotes a site connected to R 37 in the formula (2).
반응기 내에서, 하기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 반응시켜, 제1 생성물을 수득하는 제1 공정; 및
상기 제1 공정이 종결된 반응기에, 하기 화학식 5로 표시되는 중합체를 투입하고 상기 제1 생성물과 반응시켜, 제2 생성물을 수득하는 제2 공정;을 포함하는,
수지 조성물의 제조 방법:
[화학식 3]
Figure 112018064366907-pat00034

상기 화학식 3에서,
R38 내지 R47은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이고,
m1은 0<m1≤12를 만족하는 값이고
[화학식 4]
(O=C=N)n-R11
상기 화학식 4에서,
n은 1 내지 5이고,
R11은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기이고,
[화학식 5]
Figure 112018064366907-pat00035

상기 화학식 5에서,
R48 내지 R62는, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이고
m2는 0<m2≤12를 만족하는 값이다.
A first step of reacting a polymer represented by the following formula (3) and a compound represented by the following formula (4) in a reactor to obtain a first product; And
And a second step of adding a polymer represented by the following formula (5) to the reactor in which the first step is terminated and reacting with the first product to obtain a second product:
Method of producing resin composition:
(3)
Figure 112018064366907-pat00034

In Formula 3,
R 38 to R 47 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
m1 is a value satisfying 0 < m1 12
[Chemical Formula 4]
(O = C = N) nR < 11 &gt;
In Formula 4,
n is from 1 to 5,
R 11 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of the above substituents, a trimer formed by three of these substituents, or a substituent having a structure in which they are mixed,
[Chemical Formula 5]
Figure 112018064366907-pat00035

In Formula 5,
R 48 to R 62 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C 1 to C 6 alkyl group
m2 is a value satisfying 0 &lt; m &lt;
제11항에 있어서,
상기 화학식3의 수산기의 몰수 및 상기 화학식 4의 이소시아네이트기의 몰수의 비는 66 : 1 내지 1.1 : 1인, 수지 조성물의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the ratio of the number of moles of hydroxyl groups of formula (3) to the number of moles of isocyanate groups of formula (4) is from 66: 1 to 1.1: 1.
제11항에 있어서,
상기 제1 생성물은,
상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 반응 생성물; 및
미반응된 상기 화학식 3으로 표시되는 중합체;를 포함하는 것인,
수지 조성물의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the first product comprises:
A reaction product of the polymer represented by Formula 3 and the compound represented by Formula 4; And
And a polymer represented by the general formula (3).
A method for producing a resin composition.
제13항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 반응 생성물은,
하기 화학식 6으로 표시되는 중합체인 것인,
수지 조성물의 제조 방법:
[화학식 6]
Figure 112018126014063-pat00036

상기 화학식 6에서,
R63은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기이고,
R64 내지 R83은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기;이고,
n1은 0<n1≤12를 만족하는 값이고, n2는 0<n2≤12 를 만족하는 값이다.
14. The method of claim 13,
The reaction product of the polymer represented by the formula (3) and the compound represented by the formula (4)
Is a polymer represented by the following formula (6)
Method of producing resin composition:
[Chemical Formula 6]
Figure 112018126014063-pat00036

In Formula 6,
R 63 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of the above substituents, a trimer formed by three of these substituents, or a substituent having a structure in which they are mixed,
R 64 to R 83 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group;
n1 is a value satisfying 0 < n1 12, and n2 is a value satisfying 0 < n2 12.
제14항에 있어서,
상기 제2 생성물은,
상기 화학식 5로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 6으로 표시되는 중합체의 반응 생성물;
상기 화학식 3으로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 5으로 표시되는 중합체의 반응 생성물; 및
미반응된 화학식 5로 표시되는 중합체;를 포함하는 것인,
수지 조성물의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the second product comprises:
A reaction product of the polymer represented by Formula 5 and the polymer represented by Formula 6;
A reaction product of the polymer represented by Formula 3 and the polymer represented by Formula 5; And
And a polymer represented by the general formula (5)
A method for producing a resin composition.
제15항에 있어서,
상기 화학식 5로 표시되는 중합체 및 상기 화학식 6으로 표시되는 중합체의 반응 생성물은,
하기 반복단위 1-1을 포함하는 제1 중합체; 및 하기 반복단위 1-1을 포함하며, 상기 제1 중합체와 동일하거나 상이한 제2 중합체;가 하기 화학식 1로 표시되는 연결기(linker)에 의해 연결된, 제1 변성 에폭시 수지인 것인,
수지 조성물의 제조 방법:
[반복단위 1-1]
Figure 112018126014063-pat00037

상기 반복단위 1-1에서, R1 내지 R10은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이며,
x1은 0<x1≤12 범위를 만족하는 값이고,
[화학식 1]
Figure 112018126014063-pat00038

상기 화학식 1에서,
R11은 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알킬렌기; C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 시클로알케닐렌기; 및 C1 내지 C3 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기; 중에서 선택되는 어느 하나의 치환기, 이들 중 두 개의 치환기가 형성하는 이합체(dimer), 이들 중 세 개의 치환기가 형성하는 삼합체(trimer), 또는 이들이 혼합된 구조의 치환기이고,
* 표시는 각각, 상기 제1 중합체 및 상기 제2 중합체와의 결합 부위를 의미하고,
R12 내지 R21은, 각각 독립적으로, 수소, 또는, 치환 또는 비치환된 C1내지 C6의 알킬기이다.
16. The method of claim 15,
The reaction product of the polymer represented by the formula (5) and the polymer represented by the formula (6)
A first polymer comprising the following repeating unit 1-1; And a second polymer which is the same as or different from the first polymer, the second polymer being a first modified epoxy resin, the second polymer being connected by a linker represented by the following formula (1)
Method of producing resin composition:
[Repeat unit 1-1]
Figure 112018126014063-pat00037

In the repeating unit 1-1, R 1 to R 10 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group,
x1 is a value satisfying the range of 0 < x1 &lt; 12,
[Chemical Formula 1]
Figure 112018126014063-pat00038

In Formula 1,
R 11 is a C 2 to C 30 alkylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; A C3 to C30 cycloalkenylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; And a C6 to C30 arylene group substituted or unsubstituted with a C1 to C3 alkyl group; , A dimer formed by two of the above substituents, a trimer formed by three of these substituents, or a substituent having a structure in which they are mixed,
* Indicates a bonding site of the first polymer and the second polymer, respectively,
R 12 to R 21 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group.
제11항에 있어서,
상기 제2 공정이 종결된 반응기에, 반응성 희석제를 투입하고 혼합하는, 제3 공정;을 더 포함하는,
수지 조성물의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
And a third step of adding and mixing a reactive diluent into the reactor in which the second step is terminated.
A method for producing a resin composition.
제17항에 있어서,
상기 반응성 희석제는,
상기 제2 생성물의 총 중량 100 중량부 대비, 1 내지 35 중량부로 투입하는 것인,
수지 조성물의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
The reactive diluent may include,
And 1 to 35 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the second product.
A method for producing a resin composition.
섬유 기재; 및
상기 섬유 기재에 함침된, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 수지 조성물;을 포함하는,
프리프레그(prepreg).
Fiber substrates; And
The resin composition according to any one of claims 1 to 10 impregnated into the fiber substrate.
Prepreg.
제19항의 프리프레그가 적어도 2층 이상 적층된, 적층판.
The laminate according to claim 19, wherein at least two prepregs are laminated.
제20항에 있어서,
상기 적층판은,
상기 프리프레그가 적어도 2층 이상 적층된 상태에서 가열 가압된 것인,
적층판.
21. The method of claim 20,
Wherein the laminated plate comprises:
Wherein the prepreg is heated and pressed in a state in which at least two or more layers of the prepreg are laminated,
Laminates.
금속박; 및
상기 금속박 상에 위치하며, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 수지 조성물을 포함하는 수지층;을 포함하는,
수지 부착 금속박.
Metal foil; And
A resin layer disposed on the metal foil and comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 10;
Metal foil with resin.
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