KR101938280B1 - Recycling method of tungsten scrap having metal coating layer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법으로서, 본 발명에서는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 염기성 용액으로 처리하고, 이를 분쇄한 다음 산성 용액으로 처리한 후, 이를 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척하여 산화 및 환원시킴으로써, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 고순도의 텅스텐 분말을 회수할 수 있는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법을 제공한다.The present invention relates to a method for recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer, which comprises treating a tungsten scrap formed with a metal coating layer with a basic solution, pulverizing the same, treating the tungsten scrap with an acidic solution, The present invention provides a method of recycling a tungsten scrap in which a metal coating layer capable of recovering high purity tungsten powder is formed from a tungsten scrap having a metal coating layer formed thereon by washing and oxidation and reduction.

Description

금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법{RECYCLING METHOD OF TUNGSTEN SCRAP HAVING METAL COATING LAYER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a recycling method of a tungsten scrap having a metal coating layer,

본 발명은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 알루미늄 코팅층이 형성된 텅스텐 필라멘트로부터 발생된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer, and more particularly, to a method for recycling a tungsten scrap generated from a tungsten filament formed with an aluminum coating layer.

본 발명은 산업통상자원부와 한국에너지기술평가원의 “에너지자원순환기술개발사업”지원으로 수행된 연구 결과이다(과제고유번호 : 1415145563, 세부과제번호 : 20165020301260).The present invention is a result of research conducted by the Ministry of Commerce, Industry and Energy and the Korea Energy Technology Evaluation & Consulting Service under the support of the "Energy resource circulation technology development project" (task number: 1415145563, detailed project number: 20165020301260).

텅스텐은 무겁고 단단하면서도 녹는점이 높고 증기압이 낮아, 백열등, 진공관, 음극관, 할로겐 램프 등의 필라멘트 성분으로 활용되고 있다. 상기 백열등, 진공관, 음극관, 할로겐 램프 등은 각종 반응에 의해 열을 방출함에 따라, 장시간 사용할 경우 그 내부 온도가 매우 높아져 텅스텐 필라멘트의 열화 또는 기화 현상이 발생되는 문제가 있었다. 이에 따라, 최근에는 텅스텐 필라멘트에 각종 금속을 코팅시킴으로써 상기와 같은 문제를 해결하고 있으며, 그 중에서도 알루미늄 금속이 코팅된 텅스텐 필라멘트의 우수한 성능에 의해 그 사용이 증가하고 있다.Tungsten is heavy and hard, has a high melting point, low vapor pressure, and is used as a filament component for incandescent lamps, vacuum tubes, cathode tubes and halogen lamps. As the incandescent lamp, the vacuum tube, the cathode tube, the halogen lamp, and the like emit heat by various reactions, the internal temperature of the incandescent lamp, the cathode tube, and the halogen lamp becomes very high when they are used for a long period of time, resulting in deterioration or vaporization of the tungsten filament. In recent years, the above problems have been solved by coating various metals on tungsten filaments. Among them, the use of tungsten filaments coated with aluminum metal is increasing due to their excellent performance.

한편, 텅스텐은 매우 고가의 금속이므로 금속 코팅층이 형성된 텅스텐의 사용 과정에서 다수의 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩이 발생된다. 텅스텐은 고가의 금속에 해당하므로 일반적으로는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩에서 금속 코팅층 및 불순물을 제거한 뒤, 순수한 텅스텐을 회수하여 재활용하는 다양한 방법들이 공지되어 있다.On the other hand, since tungsten is a very expensive metal, a tungsten scrap is formed in which a plurality of metal coating layers are formed during the use of tungsten in which a metal coating layer is formed. Since tungsten is an expensive metal, various methods for recovering and recycling pure tungsten after removing the metal coating layer and impurities from a tungsten scrap formed with a metal coating layer are generally known.

주로 원료의 형태나 재생을 고려하여 나트륨염 용융범과 아연처리법으로 텅스텐 스크랩 또는 텅스텐 슬러리가 재활용되고 있으나, 이는 텅스텐 스크랩에 적합할 뿐 상기의 방법들로는 표면에 알루미늄 코팅층 또는 증착층을 가지는 텅스텐 스크랩에서 순수한 텅스텐 분말을 수득하는 것에는 어려움이 있었다.Tungsten scrap or tungsten slurry is recycled mainly by sodium salt melting process and zinc treatment method considering the shape and regeneration of raw materials, but it is suitable only for tungsten scrap. In the above methods, tungsten scrap having aluminum coating layer or vapor deposition layer on its surface, There was a difficulty in obtaining tungsten powder.

대한민국 등록특허 제10-1311712호에서는 표면에 알루미늄을 이용한 코팅피막이 형성된 폐초경합금(텅스텐)을 과산화수소 용매 또는 과산화수와 왕수의 혼합용매에 장입하고 이를 가열함으로써 코팅피막을 제거하는 방법을 개시하고 있다. 상기 특허는 일반 산성 용액에 비해 매우 강력한 산화력을 가지는 과산화수소 용액을 고농도로 사용함에 따라, 과산화수소의 사용을 위한 전처리 및 후처리가 실시되어 공정이 복잡해지는 문제가 있었다. 또한, 상기 등록특허에는 초음파 처리가 개시되어 있으나 초음파의 주파수가 10kHz ~ 5MHz(5000kHz)로 매우 광범위하여, 금속 코팅층의 박리 효과를 향상시키기 위한 주파수 범위를 도출해내는 데에 어려움이 있었다.Korean Patent No. 10-1311712 discloses a method for removing a coating film by charging a waste cemented carbide (tungsten) having a coating film formed of aluminum on its surface into a hydrogen peroxide solvent or a mixed solvent of water and water. The above patent has a problem in that the process is complicated because a hydrogen peroxide solution having a very strong oxidizing power is used at a high concentration as compared with a general acidic solution, and a pretreatment and a post treatment are performed for use of hydrogen peroxide. Although the ultrasonic wave treatment is started in the above-mentioned patent, the frequency of the ultrasonic wave is very wide, from 10 kHz to 5 MHz (5000 kHz), and it is difficult to derive the frequency range for improving the peeling effect of the metal coating layer.

이에 따라, 상기와 같은 문제를 해결하면서도 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 높은 순도의 텅스텐을 회수할 수 있는 텅스텐 스크랩의 재활용 방법이 요구되고 있다.Accordingly, there is a demand for a method of recycling tungsten scrap that can recover tungsten of high purity from tungsten scrap formed with a metal coating layer while solving the above problems.

대한민국 등록특허 제10-0656807호Korea Patent No. 10-0656807

본 발명의 목적은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 고순도의 텅스텐(분말)을 회수할 수 있는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법을 제공하는 데에 있다.An object of the present invention is to provide a method of recycling a tungsten scrap in which a metal coating layer capable of recovering high purity tungsten (powder) from a tungsten scrap formed with a metal coating layer is formed.

본 발명의 목적은 상기된 바와 같은 기술적 과제로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수 있다. The object of the present invention is not limited to the above-described technical problems, and another technical problem can be derived from the following description.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하는 단계, (b) 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩을 분쇄하여 텅스텐 스크랩 분말을 형성하는 단계, (c) 상기 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액으로 처리하는 단계, (d) 상기 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말을 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척하는 단계, (e) 상기 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산화하여 산화텅스텐 분말을 형성하는 단계 및 (f) 상기 산화텅스텐 분말을 환원하여 텅스텐 분말을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 (a) 단계의 텅스텐 스크랩은 금속 코팅층이 형성된 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법을 제공한다.The method includes the steps of: (a) treating a tungsten scrap with a basic solution; (b) pulverizing the tungsten scrap treated with the basic solution to form a tungsten scrap powder; (c) Treating the scrap powder with an acidic solution, (d) washing the tungsten scrap powder treated with the acidic solution with a cleaning composition comprising a surfactant and a solvent, (e) oxidizing the washed tungsten scrap powder And (f) reducing the tungsten oxide powder to form tungsten powder, wherein the tungsten scrap in the step (a) is a method of recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer on which a metal coating layer is formed .

상기 (a) 단계에서는 초음파 처리를 실시할 수 있다.In the step (a), ultrasonic treatment can be performed.

상기 (a) 단계에서는 상기 초음파 처리를 주파수 30 ~ 35 kHz 및 20 ~ 30 μm 진폭의 조건에서 실시할 수 있다.In the step (a), the ultrasonic treatment may be performed at a frequency of 30 to 35 kHz and an amplitude of 20 to 30 μm.

상기 금속 코팅층은 알루미늄 코팅층인 것일 수 있다.The metal coating layer may be an aluminum coating layer.

상기 (b) 단계에서 상기 텅스텐 스크랩 분말은 80 ~ 100 마이크로미터의 입경을 가질 수 있다.In the step (b), the tungsten scrap powder may have a particle diameter of 80 to 100 micrometers.

상기 세척용 조성물은 상기 세척용 조성물 총 중량 기준으로 계면활성제 15 ~ 40 중량% 및 잔량의 용매를 포함할 수 있다.The cleaning composition may contain 15 to 40% by weight of a surfactant based on the total weight of the cleaning composition and a residual amount of a solvent.

상기 계면활성제는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 1 : 0.5 ~ 2 : 0.5 ~ 2의 중량비로 포함할 수 있다.The surfactant may include a polyoxyalkylene alkyl ether, a sorbitan fatty acid ester, and a polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester in a weight ratio of 1: 0.5 to 2: 0.5 to 2.

상기 염기성 용액은 수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼슘(Ca(OH)2) 용액 및 수산화칼륨(KOH) 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.The basic solution may include at least one selected from the group consisting of a sodium hydroxide (NaOH) solution, a calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) solution and a potassium hydroxide (KOH) solution.

상기 산성 용액은 염산(HCl) 용액, 질산(HNO3) 용액 및 황산(H2SO4) 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.The acidic solution may include one or more selected from the group consisting of a hydrochloric acid (HCl) solution, a nitric acid (HNO 3 ) solution, and a sulfuric acid (H 2 SO 4 ) solution.

본 발명은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 염기성 용액으로 처리하고, 이를 분쇄한 다음 산성 용액으로 처리한 후 이를 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척한 다음 산화 및 환원시킴으로써, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 고순도의 텅스텐(분말)을 회수할 수 있다.The present invention relates to a method for producing a metal coating layer, which comprises treating a basic solution of a tungsten scrap formed with a metal coating layer with a basic solution, treating the solution with an acidic solution, washing it with a cleaning composition containing a surfactant and a solvent, High-purity tungsten (powder) can be recovered from tungsten scrap.

특히, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하는 과정에서 초음파 처리를 함께 실시함으로써 고순도의 텅스텐 분말의 회수는 더욱 용이해질 수 있다. 또한, 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르가 특정 비율로 혼합된 계면활성제를 포함하는 세척용 조성물로 세척을 실시함으로써 고순도의 텅스텐 분말의 회수는 더욱 용이해질 수 있다.Particularly, the treatment of the tungsten scrap formed with the metal coating layer with the basic solution can also facilitate the recovery of the high-purity tungsten powder by performing the ultrasonic treatment. Also, by washing with a cleaning composition comprising a polyoxyalkylene alkyl ether, a sorbitan fatty acid ester and a polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester in a specific ratio, the recovery of the high purity tungsten powder is easier .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법의 순서를 도시한 흐름도이다.
도 2는 실시예 4의 텅스텐 순도 분석 시험결과를 도시한 도면이다.
1 is a flowchart illustrating a method of recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram showing the results of a tungsten purity analysis test of Example 4. Fig.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts not related to the description are omitted.

본 발명의 명세서 및 청구범위에 사용된 용어 또는 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 아니하며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.It is to be understood that the terms or words used in the specification and claims are not to be construed in a conventional or dictionary sense and that the inventor may properly define the concept of a term in order to best describe its invention And should be construed in accordance with the principles and meanings and concepts consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명의 명세서 전체에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the specification of the present invention, when a component is referred to as " comprising ", it means that it can include other components as well as other components, .

본 발명의 명세서 전체에 있어서, "A 및/또는 B"는, A 또는 B, 또는 A 및 B를 의미한다.Throughout the specification of the present invention, " A and / or B " means A or B, or A and B.

본 발명의 명세서 전체에 있어서, "금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩"은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐의 가공, 사용, 폐기 과정에서 발생되는 스크랩을 의미할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Throughout the specification of the present invention, "tungsten scrap formed with a metal coating layer" may mean scrap generated during processing, use and disposal of tungsten in which a metal coating layer is formed, but is not limited thereto.

본 발명의 명세서 전체에 있어서, "금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법"은 금속 코팅층이 형성된 텅스텐의 가공, 사용, 폐기 과정에서 발생되는 스크랩으로부터 고순도의 텅스텐(분말)을 회수하는 방법을 의미할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Throughout the specification of the present invention, "a method of recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer" means a method of recovering high-purity tungsten (powder) from scraps generated during processing, use and disposal of tungsten in which a metal coating layer is formed But is not limited thereto.

본 발명의 명세서 전체에 있어서, "금속 코팅층"은 텅스텐 표면에 형성 가능한 모든 금속의 코팅층을 의미하며, 바람직하게는 알루미늄 코팅층, 더욱 바람직하게는 알루미늄 증착층일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Throughout the specification of the present invention, the term " metal coating layer " means a coating layer of all metals that can be formed on the tungsten surface, preferably an aluminum coating layer, more preferably an aluminum deposition layer.

이하에서 본 발명을 구체적으로 설명하였으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The present invention has been specifically described below, but the present invention is not limited thereto.

본 발명에서는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법을 제공한다.The present invention provides a method of recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer.

본 발명의 일 실시예에서는 (a) 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하는 단계, (b) 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩을 분쇄하여 텅스텐 스크랩 분말을 형성하는 단계, (c) 상기 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액으로 처리하는 단계, (d) 상기 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말을 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척하는 단계, (e) 상기 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산화하여 산화텅스텐 분말을 형성하는 단계 및 (f) 상기 산화텅스텐 분말을 환원하여 텅스텐 분말을 형성하는 단계를 포함함에 따라, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 고순도의 텅스텐(분말)을 회수할 수 있는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법을 제공한다. 특히, 금속 코팅층이 금속 증착층인 경우에는 텅스텐으로부터의 분리가 어려웠으나, 본 실시예에 따른 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법에 따르면 금속 증착층 또한 용이하게 분리 내지 제거될 수 있다.(A) treating the tungsten scrap with a basic solution, (b) pulverizing the tungsten scrap treated with the basic solution to form a tungsten scrap powder, (c) (D) washing the tungsten scrap powder treated with the acidic solution with a cleaning composition comprising a surfactant and a solvent, (e) oxidizing the washed tungsten scrap powder to remove tungsten oxide powder And (f) reducing the tungsten oxide powder to form a tungsten powder. The tungsten scrap having a metal coating layer capable of recovering high purity tungsten (powder) from a tungsten scrap formed with a metal coating layer, A method for recycling of the same. In particular, when the metal coating layer is a metal deposition layer, separation from tungsten is difficult. However, according to the recycling method of the tungsten scrap formed with the metal coating layer according to the present embodiment, the metal deposition layer can also be easily separated or removed.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법의 순소를 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method for recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer according to an embodiment of the present invention.

(a) 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하는 단계(10)(a) treating the tungsten scrap with a basic solution (10)

본 실시예의 (a) 단계에서는 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하며, 상기 텅스텐 스크랩은 금속 코팅층이 형성된 것이다. 상기 금속 코팅층은 바람직하게는 알루미늄 코팅층, 더욱 바람직하게는 알루미늄 증착층일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In the step (a) of this embodiment, the tungsten scrap is treated with a basic solution, and the tungsten scrap is formed with a metal coating layer. The metal coating layer may preferably be an aluminum coating layer, more preferably an aluminum deposition layer, but is not limited thereto.

더 상세히, 본 실시예의 (a) 단계에서는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩을 염기성 용액에 충분히 잠기도록 담근 후 이를 가열 및 교반함으로써, 텅스텐 스크랩의 일측에 형성된 금속 코팅층을 제거할 수 있다. 이에 따라, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩이 본 실시예의 (a) 단계를 거친 후에는, 금속 코팅층이 제거된 텅스텐 스크랩과 금속 코팅층이 제거되지 않고 그대로 형성되어 있는 텅스텐 스크랩이 혼합된 형태일 수 있다. More specifically, in the step (a) of the present embodiment, the metal coating layer formed on one side of the tungsten scrap can be removed by immersing the tungsten scrap formed with the metal coating layer in the basic solution so as to be sufficiently immersed, followed by heating and stirring. Accordingly, after the tungsten scrap formed with the metal coating layer is subjected to the step (a) of the present embodiment, the tungsten scrap in which the metal coating layer is removed and the tungsten scrap in which the metal coating layer is not removed may be mixed.

본 실시예의 염기성 용액은 수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼슘(Ca(OH)2) 용액 및 수산화칼륨(KOH) 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 텅스텐 스크랩으로부터 금속 코팅층을 제거할 수 있는 염기성 용액이라면 제한 없이 적용될 수 있다. 본 실시예의 염기성 용액은 바람직하게는 수산화나트륨 용액일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 3 ~ 10 % 수산화나트륨 용액일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The basic solution of the present embodiment may include at least one selected from the group consisting of a sodium hydroxide (NaOH) solution, a calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) solution and a potassium hydroxide (KOH) solution, Any basic solution that can be used is not limited. The basic solution of this embodiment may preferably be a sodium hydroxide solution, more preferably a 3 to 10% sodium hydroxide solution, but is not limited thereto.

만약, 상기 금속 코팅층이 알루미늄 증착층인 경우에는 하기 (1) ~ (3)과 과 같이 반응할 수 있다.If the metal coating layer is an aluminum deposition layer, it can be reacted as shown in the following (1) to (3).

(1) 2Al + 2NaOH + 2H2O → 2NaAlO2 + 3H2(g)(1) 2Al + 2NaOH + 2H 2 O → 2NaAlO 2 + 3H 2 (g)

(2) NaAlO2 + 2H2O → Al(OH)3(S) + NaOH(2) NaAlO 2 + 2H 2 O? Al (OH) 3 (S) + NaOH

(3) 2Al(OH)3 → Al2O3 + 3H2O (3) 2Al (OH) 3 → Al 2 O 3 + 3H 2 O

본 실시예의 (a) 단계에서는 가열이 실시될 수 있으며, 본 실시예의 (a) 단계의 가열은 80 ~ 100 ℃, 바람직하게는 83 ~ 95 ℃, 더욱 바람직하게는 85 ~ 93℃에서 실시될 수 있다. 만약, 80 ℃ 미만으로 가열하게 되면 금속 코팅층과 염기성 용액의 반응이 충분히 활성되지 못할 수 있다. 반면, 100 ℃ 를 초과하여 가열하게 되면 염기성 용액의 수분이 증발되어 반응이 어려운 문제가 있을 뿐 아니라 염기성 용액의 화학 반응성에 의해 발화, 연기발생, 부산물 생성 등의 문제가 발생될 수 있다.In the step (a) of this embodiment, heating may be performed, and heating in the step (a) of this embodiment may be carried out at 80 to 100 ° C, preferably 83 to 95 ° C, more preferably 85 to 93 ° C have. If the temperature is lower than 80 캜, the reaction between the metal coating layer and the basic solution may not be sufficiently activated. On the other hand, if heated above 100 ° C, moisture of the basic solution evaporates to cause difficulty in the reaction, and problems such as ignition, smoke generation, and by-product formation may occur due to the chemical reactivity of the basic solution.

본 실시예의 (a) 단계에서는 교반이 실시될 수 있으며, 교반 속도 및 교반 도구는 별도로 제한되지 않고, 공지된 모든 방법이 적용될 수 있다.In the step (a) of this embodiment, stirring may be performed, and the stirring speed and stirring tool are not limited to each other, and all known methods may be applied.

한편, 본 실시예의 (a) 단계에서는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 금속 코팅층의 박리, 융해 또는 용융을 활성화하기 위하여, 주파수 30 ~ 35 kHz 및 20 ~ 30 μm 진폭의 조건에서 초음파 처리를 실시할 수 있다.Meanwhile, in the step (a) of this embodiment, ultrasonic treatment can be performed under the conditions of a frequency of 30 to 35 kHz and an amplitude of 20 to 30 μm in order to activate the peeling, melting or melting of the metal coating layer from the tungsten scrap formed with the metal coating layer have.

상기 (a) 단계에서는 상기 초음파 처리를 주파수 30 ~ 35 kHz 및 20 ~ 30 μm 진폭의 조건에서 실시할 수 있다. 상기 주파수는 30 ~ 35 kHz, 바람직하게는 30 ~ 33 kHz, 더욱 바람직하게는 31 ~ 32 kHz일 수 있다.In the step (a), the ultrasonic treatment may be performed at a frequency of 30 to 35 kHz and an amplitude of 20 to 30 μm. The frequency may be 30 to 35 kHz, preferably 30 to 33 kHz, and more preferably 31 to 32 kHz.

만약, 초음파 처리시 주파수가 30 kHz 미만일 경우에는 초음파 처리에 의한 금속 코팅층의 박리, 융해 또는 용융이 충분히 활성화되지 못하는 문제가 있을 수 있으며, 초음파 처리시 주파수가 35 kHz를 초과할 경우에는 부반응이 발생되어 부산물이 형성되고, 이러한 부산물이 텅스텐 표면에 부착되어 텅스텐의 회수 효율 또는 순도를 저하시키는 문제가 있을 수 있다.If the frequency is less than 30 kHz during the ultrasonic treatment, there may be a problem that the peeling, melting or melting of the metal coating layer is not sufficiently activated by the ultrasonic treatment. If the frequency exceeds 35 kHz during the ultrasonic treatment, And by-products are formed, and such by-products adhere to the surface of the tungsten, which may cause a problem of lowering the recovery efficiency or purity of tungsten.

상기 (a) 단계에서 상기 초음파 처리는 주파수 30 ~ 35 kHz인 조건에서 실시되되, 진폭이 20 ~ 30 μm(마이크로미터)인 조건에서 실시될 수 있으며, 이에 의해 초음파 처리에 의한 금속 코팅층의 박리, 융해 또는 용융이 충분히 활성화될 수 있다. 만약, 진폭이 20 μm 미만일 경우에는 초음파 처리에 따른 효과가 미미할 수 있으며, 진폭이 30 μm를 초과할 경우에는 효율이 낮아 경제적이지 못한 문제가 있을 수 있다. In the step (a), the ultrasonic treatment may be performed under the condition that the frequency is 30 to 35 kHz, and the amplitude is 20 to 30 μm (micrometer), whereby the peeling of the metal coating layer by ultrasonic treatment, Melting or melting can be sufficiently activated. If the amplitude is less than 20 μm, the effect of ultrasonic treatment may be insignificant. If the amplitude is more than 30 μm, the efficiency may be low, which may result in an economical problem.

즉, 본 실시예의 (a) 단계에서는 염기성 용액을 처리함과 동시에 초음파 처리를 실시함으로써, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩으로부터 금속 코팅층의 박리, 융해 또는 용융이 활성화되어, 고순도의 텅스텐을 효율적으로 회수할 수 있다.That is, in the step (a) of this embodiment, by performing the ultrasonic treatment while treating the basic solution, the peeling, melting or melting of the metal coating layer is activated from the tungsten scrap formed with the metal coating layer to efficiently recover high purity tungsten .

(b) 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩을 분쇄하여 텅스텐 스크랩 분말을 형성하는 단계(20)(b) milling the tungsten scrap treated with the basic solution to form tungsten scrap powder (20)

본 실시예의 (b) 단계에서는 본 실시예의 (a) 단계에서 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩을 분쇄하여 텅스텐 스크랩 분말을 형성하며, 바람직하게는 미세 분쇄할 수 있다.In step (b) of the present embodiment, the tungsten scrap treated with the basic solution in step (a) of the present embodiment may be pulverized to form tungsten scrap powder, and preferably fine pulverized.

본 실시예의 (b) 단계에서 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩은 공지된 모든 방법에 의해 미세 분쇄될 수 있으며, 이에 의해 텅스텐 스크랩 분말은 80 ~ 100 마이크로미터, 바람직하게는 85 ~ 95 마이크로미터, 더욱 바람직하게는 85 ~ 90 마이크로미터의 입경을 가질 수 있다.The tungsten scrap treated with the basic solution in step (b) of this embodiment can be finely pulverized by any known method, whereby the tungsten scrap powder has a particle size of 80 to 100 micrometers, preferably 85 to 95 micrometers, And more preferably from 85 to 90 micrometers.

만약, 텅스텐 스크랩 분말의 입경이 80 마이크로미터 미만일 경우에는 텅스텐 스크랩 분말 입자 간의 응집력에 의해 텅스텐 스크랩 분말이 덩어리를 형성하게 되는 문제가 있을 수 있다. 이에 의해, (c) 단계의 산성 용액 및 (d) 단계의 세척용 조성물에 의한 세척이 효율적으로 이루어질 수 없어, 고순도 텅스텐의 회수가 어려워지는 문제가 있을 수 있다. 반면, 텅스텐 스크랩 분말의 입경이 100 마이크로미터를 초과할 경우에는 (c) 단계의 산성 용액 및 (d) 단계의 세척용 조성물에 의한 세척이 효율적으로 이루어질 수 없으며, 텅스텐 스크랩 분말의 균일한 가열이 어려워져, 고순도 텅스텐의 회수가 어려워지는 문제가 있을 수 있다. If the particle diameter of the tungsten scrap powder is less than 80 micrometers, there may be a problem that the tungsten scrap powder forms a lump due to the cohesive force between the tungsten scrap powder particles. As a result, the cleaning with the acidic solution in the step (c) and the cleaning composition in the step (d) can not be efficiently carried out, and recovery of high purity tungsten may be difficult. On the other hand, if the particle size of the tungsten scrap powder exceeds 100 micrometers, the cleaning with the acidic solution in step (c) and the cleaning composition in step (d) can not be efficiently performed and uniform heating of the tungsten scrap powder There is a problem that it is difficult to recover high-purity tungsten.

본 실시예의 (b) 단계에서는 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩을 조 크러셔(Jaw crusher)를 이용하여 1차 분쇄한 다음, 볼밀을 이용하여 2차 미세 분쇄할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In the step (b) of the present embodiment, the tungsten scrap formed with the metal coating layer may be firstly pulverized using a jaw crusher, and then finely pulverized using a ball mill, but the present invention is not limited thereto.

(c) 상기 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액으로 처리하는 단계(30)(c) treating (30) the tungsten scrap powder with an acidic solution,

본 실시예의 (c) 단계에서는 본 실시예의 (b) 단계의 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액으로 처리할 수 있으며, 이때 산성 용액으로 처리한다는 것은 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액에 충분히 잠기도록 담그는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 더 상세히, 본 실시예의 (c) 단계에서는 본 실시예의 (b) 단계의 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액에 충분히 잠기도록 담근 후 이를 가열 및 교반함으로써, (a) 단계에서 제거되지 못한 금속 코팅층을 제거할 수 있다. 이에 의해, 회수되는 텅스텐의 순도는 더욱 높아질 수 있다.In step (c) of this embodiment, the tungsten scrap powder of step (b) of the present embodiment may be treated with an acidic solution, and the treatment with the acidic solution may be such that the tungsten scrap powder is immersed sufficiently in the acidic solution, But is not limited thereto. More specifically, in step (c) of the present embodiment, the tungsten scrap powder of step (b) of this embodiment is soaked in the acidic solution sufficiently to be immersed therein, followed by heating and stirring to remove the metal coating layer that has not been removed in step . Thereby, the purity of the recovered tungsten can be further increased.

본 실시예의 산성 용액은 염산(HCl) 용액, 질산(HNO3) 용액 및 황산(H2SO4) 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 텅스텐 스크랩 분말의 일면에 형성되거나 남아있는 금속 코팅층을 박리, 용해 또는 용융시킬 수 있는 것 이라면 제한 없이 적용될 수 있다. 본 실시예의 산성 용액은 바람직하게는 질산 용액일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 1 ~ 5 % 질산 용액일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The acidic solution of the present embodiment may include one or more selected from the group consisting of a hydrochloric acid (HCl) solution, a nitric acid (HNO 3 ) solution and a sulfuric acid (H 2 SO 4 ) solution, Can be applied without limitation as long as it can peel, dissolve or melt the metal coating layer. The acid solution of this embodiment may be a nitric acid solution, more preferably a 1 to 5% nitric acid solution, but is not limited thereto.

본 실시예의 (c) 단계에서는 가열이 실시될 수 있으며, 본 실시예의 (a) 단계의 가열은 50 ~ 70 ℃, 바람직하게는 53 ~ 65 ℃, 더욱 바람직하게는 55 ~ 62℃에서 실시될 수 있다. 만약, 50 ℃ 미만으로 가열하게 되면 금속 코팅층과 산성 용액의 반응이 충분히 활성되지 못할 수 있다. 반면, 70 ℃ 를 초과하여 가열하게 되면 산성 용액의 수분이 증발되어 반응이 어려운 문제가 있을 수 있을 뿐 아니라 산성 용액의 화학 반응성에 의해 발화, 연기발생, 부산물 생성등의 문제가 발생될 수 있다.In step (c) of this embodiment, heating may be performed. Heating in step (a) of this embodiment may be carried out at 50 to 70 ° C, preferably at 53 to 65 ° C, more preferably at 55 to 62 ° C have. If heated to less than 50 캜, the reaction between the metal coating layer and the acidic solution may not be sufficiently activated. On the other hand, when the temperature exceeds 70 ° C, moisture of the acidic solution may be evaporated and the reaction may be difficult. In addition, the chemical reactivity of the acidic solution may cause problems such as ignition, smoke generation, and by-product formation.

본 실시예의 (c) 단계에서는 교반이 실시될 수 있으며, 교반 속도 및 교반 도구는 별도로 제한되지 않고, 공지된 모든 방법이 적용될 수 있다.In the step (c) of the present embodiment, stirring may be performed, and the stirring speed and stirring tool are not particularly limited, and all known methods may be applied.

또한, 본 실시예의 (c) 단계에서도 상기 (a) 단계와 동일하게 초음파 처리가 실시될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In the step (c) of the present embodiment, the ultrasonic treatment may be performed in the same manner as in the step (a), but the present invention is not limited thereto.

(d) 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말을 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척하는 단계(40)(d) washing (40) the tungsten scrap powder treated with the acidic solution with a cleaning composition comprising a surfactant and a solvent,

본 실시예의 (d) 단계에서는 본 실시예의 (c) 단계에서 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말을 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척할 수 있다. 더 상세히, 본 실시예의 (c) 단계에서 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말은 잔여 산성 용액 또는 각종 부산물이 묻어 있거나 혼합되어 있는 상태이므로, 본 실시예의 (d) 단계에서는 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물을 이용하여 잔여 산성 용액 또는 각종 부산물을 제거할 수 있다. 이에 의해, 더욱 높은 순도의 텅스텐의 회수가 가능할 수 있다.In step (d) of this embodiment, the tungsten scrap powder treated with the acidic solution in step (c) of this embodiment may be washed with a cleaning composition containing a surfactant and a solvent. More specifically, since the tungsten scrap powder treated with the acidic solution in step (c) of the present embodiment is in a state in which residual acidic solution or various by-products are present or mixed, the step (d) The cleaning composition can be used to remove residual acidic solution or various by-products. As a result, it is possible to recover tungsten having a higher purity.

본 실시예의 세척용 조성물은 세척용 조성물 총 중량 기준으로 계면활성제 15 ~ 40 중량% 및 잔량의 용매를 포함할 수 있다. 만약, 본 실시예의 세척용 조성물 총 중량 기준으로 계면활성제를 15 중량% 미만으로 포함할 경우에는 세척 효율이 충분하지 못할 수 있으며, 계면활성제를 40 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 오히려 텅스텐 스크랩 분말의 표면에 계면활성제가 부착 내지 흡착되어 텅스텐 분말의 순도를 저하시킬 수 있다.The cleaning composition of the present embodiment may contain 15 to 40% by weight of a surfactant and a residual amount of a solvent based on the total weight of the cleaning composition. If the surfactant is contained in an amount of less than 15 wt% based on the total weight of the cleaning composition of the present invention, the cleaning efficiency may not be sufficient. If the surfactant is contained in an amount exceeding 40 wt%, the tungsten scrap powder The surface active agent may be adhered or adsorbed on the surface of the tungsten powder to lower the purity of the tungsten powder.

본 실시예의 계면활성제는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 폴리옥시알킬렌 알킬 페놀 에테르, 폴리옥시알킬렌 아릴 페놀 에테르, 폴리옥시알킬렌 지방산 에스터, 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스터, 폴리옥시알킬렌 알킬 아민, 솔비탄 지방산 에스터, 알킬 알코올 아민 및 아릴 알코올 아민으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The surfactant of this example is a polyoxyalkylene alkyl ether, a polyoxyalkylene alkylphenol ether, a polyoxyalkylene arylphenol ether, a polyoxyalkylene fatty acid ester, a polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester, a polyoxyalkylene alkyl Amines, sorbitan fatty acid esters, alkyl alcohol amines, and aryl alcohol amines, but is not limited thereto.

더 상세히, 본 실시예의 세척용 조성물에서 계면활성제는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 1 : 0.5 ~ 2 : 0.5 ~ 2의 중량비로 포함할 수 있다.More specifically, in the cleaning composition of this embodiment, the surfactant may include polyoxyalkylene alkyl ethers, sorbitan fatty acid esters, and polyoxyalkylene sorbitan fatty acid esters, preferably polyoxyalkylene alkyl ethers, Fatty acid esters and polyoxyalkylene sorbitan fatty acid esters at a weight ratio of 1: 0.5 to 2: 0.5 to 2.

본 실시예에서는 상기와 같이 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 1 : 0.5 ~ 2 : 0.5 ~ 2의 중량비, 바람직하게는 1 : 1 ~ 1 : 1 ~ 2, 더욱 바람직하게는 1 : 1 : 2의 비율로 포함된 계면활성제를 포함하는 세척용 조성물을 사용함에 따라, 회수되는 텅스텐 분말의 순도를 더욱 높일 수 있다. 특히, 세척용 조성물 내에 동일한 양의 계면활성제가 포함될 때, 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르 중에서 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르의 함량이 높을수록 더욱 높은 순도의 텅스텐의 회수가 가능할 수 있다.In this embodiment, the polyoxyalkylene alkyl ether, the sorbitan fatty acid ester and the polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester are mixed at a weight ratio of 1: 0.5 to 2: 0.5 to 2, preferably 1: 1 to 1: 1 To 2, more preferably 1: 1: 2, the purity of the recovered tungsten powder can be further increased. Particularly, when the same amount of the surfactant is contained in the cleaning composition, the content of the polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester in the polyoxyalkylene alkyl ether, the sorbitan fatty acid ester and the polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester is higher Recovery of high purity tungsten may be possible.

본 실시예의 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르로는 공지된 모든 물질이 적용될 수 있으나, 바람직하게는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르(Polyoxyethylene alkyl ether)일 수 있다. 더욱 바람직하게는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르는 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.As the polyoxyalkylene alkyl ether of this embodiment, any known substance may be applied, but it may preferably be a polyoxyethylene alkyl ether. More preferably, the polyoxyethylene alkyl ether may be polyoxyethylene lauryl ether, but is not limited thereto.

본 실시예의 솔비탄 지방산 에스터로는 공지된 모든 물질이 적용될 수 있으나, 바람직하게는 솔비탄 모노오레인산 에스터일 수 있다.As the sorbitan fatty acid ester of this embodiment, any known substance may be applied, but it may preferably be a sorbitan monooleate ester.

본 실시예의 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스터로는 공지된 모든 물질이 적용될 수 있으나, 바람직하게는 폴리옥시에틸렌 솔비탄 모노팔미테이트일 수 있다.As the polyoxyalkylene sorbit fatty acid ester of this embodiment, any known substance may be applied, but it may preferably be polyoxyethylene sorbitan monopalmitate.

본 실시예의 용매는 계면활성제를 용해시키면서도 본 실시예의 산성 용액과의 반응성이 낮은 것이라면 제한 없이 적용될 수 있으며, 바람직하게는 증류수일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The solvent of this embodiment can be applied without limitation as long as the surfactant is dissolved and reactivity with the acidic solution of this embodiment is low, and it is preferably, but not limited to, distilled water.

(e) 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산화하여 산화텅스텐 분말을 형성하는 단계(50)(e) oxidizing the washed tungsten scrap powder to form tungsten oxide powder (50)

본 실시예의 (e) 단계에서는 본 실시예의 (d) 단계에서 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산화하여 산화텅스텐 분말을 형성한다. 더 상세히, 본 실시예의 (e) 단계에서는 본 실시예의 (d) 단계에서 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산소를 포함하는 기체 분위기에서 약 850 ~ 950 ℃로 약 1 ~ 3 시간 동안 가열함으로써 산화텅스텐 분말을 형성할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In step (e) of this embodiment, the tungsten scrap powder washed in step (d) of the present embodiment is oxidized to form tungsten oxide powder. More specifically, in step (e) of the present embodiment, the tungsten scrap powder washed in step (d) of the present embodiment is heated at about 850 to 950 ° C for about 1 to 3 hours in a gas atmosphere containing oxygen to remove tungsten oxide powder But is not limited thereto.

본 실시예에서 산소를 포함하는 기체는 공기 또는 산소와 N2, He, Ar 등의 불활성 기체의 혼합 기체를 의미하는 것일 수 있다. 또한, 상기 산소를 포함하는 기체는 과산화수소를 포함할 수 있으나, 과산화수소는 단독으로 사용하지 않고 반드시 불활성 기체와 혼합되어 사용될 수 있도록 한다.In the present embodiment, the gas containing oxygen may mean air or a mixed gas of oxygen and an inert gas such as N 2 , He, or Ar. In addition, the oxygen-containing gas may include hydrogen peroxide, but hydrogen peroxide is not used alone, but may be mixed with an inert gas to be used.

본 실시예의 (e) 단계에서는 텅스텐 스크랩을 850 ~ 950 ℃, 바람직하게는 860 ~ 920℃, 더욱 바람직하게는 880 ~ 910 ℃에서 가열할 수 있다.In the step (e) of this embodiment, the tungsten scrap can be heated at 850 to 950 ° C, preferably 860 to 920 ° C, more preferably 880 to 910 ° C.

만약, 본 실시예의 (e) 단계에서는 텅스텐 스크랩 분말을 850 ℃ 미만으로 가열할 경우에는 텅스텐 스크랩 분말의 산화가 충분히 일어나지 않을 수 있으며, 텅스텐 스크랩 분말을 950 ℃를 초과하여 가열할 경우에는 입경이 80 ~ 1000 마이크로미터를 갖는 텅스텐 스크랩 분말의 산화반응이 폭발적으로 진행됨에 따라 텅스텐 스크랩 분말이 응집되어 하나의 결합체 또는 덩어리를 형성하는 문제가 있을 수 있다.If the tungsten scrap powder is heated to a temperature lower than 850 ° C, oxidation of the tungsten scrap powder may not occur sufficiently. If the tungsten scrap powder is heated to a temperature higher than 950 ° C, As the oxidation reaction of the tungsten scrap powder having ~ 1000 micrometer progresses explosively, the tungsten scrap powder may be agglomerated to form a single bond or a lump.

본 실시예의 (e) 단계에서 생성되는 산화텅스텐은 WO2, WO3일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The tungsten oxide produced in step (e) of this embodiment may be WO 2 or WO 3 , but is not limited thereto.

(f) 산화텅스텐 분말을 환원하여 텅스텐 분말을 형성하는 단계(60)(f) reducing tungsten oxide powder to form tungsten powder (60)

본 실시예의 (f) 단계에서는 본 실시예의 (e) 단계에서 형성된 산화텅스텐 분말을 환원하여 텅스텐 분말을 형성한다. 더 상세히, 본 실시예의 (f) 단계에서는 본 실시예의 (e) 단계에서 형성된 산화텅스텐 분말을 수소를 포함하는 기체 분위기 하에서 약 800 ~ 900 ℃로 약 1 ~ 3 시간동안 가열함으로써 텅스텐 분말을 형성할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In step (f) of this embodiment, the tungsten oxide powder formed in step (e) of the present embodiment is reduced to form tungsten powder. More specifically, in step (f) of this embodiment, the tungsten oxide powder formed in step (e) of this embodiment is heated at about 800 to 900 ° C. for about 1 to 3 hours under a gas atmosphere containing hydrogen to form tungsten powder But is not limited thereto.

본 실시예에서 수소를 포함하는 기체는 공기 또는 수소와 N2, He, Ar 등의 불활성 기체의 혼합 기체를 의미하는 것일 수 있다. 본 실시예의 (f) 단계에서는 산화텅스텐 분말을 800 ~ 900 ℃, 바람직하게는 820 ~ 875 ℃, 더욱 바람직하게는 840 ~ 860 ℃에서 가열할 수 있다. 만약, 산화텅스텐 분말을 800 ℃ 미만으로 가열할 경우에는 산화텅스텐의 환원이 충분히 일어나지 않을 수 있으며, 산화텅스텐 분말을 900 ℃ 를 초과하여 가열할 경우에는 텅스텐 분말이 응집되어 하나의 결합체 또는 덩어리를 형성하는 문제가 있을 수 있다.In this embodiment, the hydrogen-containing gas may be air or a mixed gas of hydrogen and an inert gas such as N 2 , He or Ar. In the step (f) of this embodiment, the tungsten oxide powder can be heated at 800 to 900 占 폚, preferably 820 to 875 占 폚, and more preferably 840 to 860 占 폚. If the tungsten oxide powder is heated to less than 800 ° C., the reduction of the tungsten oxide may not be sufficiently performed. If the tungsten oxide powder is heated to a temperature exceeding 900 ° C., the tungsten powder may aggregate to form a single bond or a lump There may be a problem.

본 실시예의 (f) 단계에서는 산화텅스텐 분말을 환원시키며, 더 상세히 본 실시예의 (f) 단계에서 WO3는 WO2.9로 환원되고, 상기 WO2.9는 WO2.72로 환원되며, 상기 WO2.72는 WO2로 환원되고, 상기 WO2는 W로 환원됨으로써, 최종적으로 텅스텐 분말을 수득할 수 있다. 이때, (f) 단계를 통해 회수된 텅스텐 분말의 입경은 2 ~ 15 마이크로미터일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.This embodiment (f) step, sikimyeo reducing the tungsten oxide powder, WO 3 in more detail the embodiment (f) phase present is reduced to WO 2.9, the WO 2.9 is reduced to WO 2.72, the WO 2.72 is WO 2 , And the WO 2 is reduced to W, whereby tungsten powder can be finally obtained. In this case, the particle diameter of the tungsten powder recovered through the step (f) may be 2 to 15 micrometers, but is not limited thereto.

이하 실시예, 비교예, 및 실험예를 통하여 본 발명의 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법에 대해 구체적으로 설명하기로 한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이므로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지는 않는다.Hereinafter, a method of recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer according to the present invention will be described in detail through examples, comparative examples, and experimental examples. These embodiments are only for illustrating the present invention, and thus the scope of the present invention is not construed as being limited by these embodiments.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1 내지 3 1 to 3

알루미늄이 증착된 텅스텐 필라멘트의 제조 및 폐기 과정에서 발생된 알루미늄이 증착된 텅스텐 스크랩을 준비하였다.Tungsten scrap deposited with aluminum generated during the manufacturing and disposal of aluminum-deposited tungsten filaments was prepared.

반응기 1에 상기 알루미늄이 증착된 텅스텐 스크랩과 함께 상기 알루미늄이 증착된 텅스텐 스크랩이 잠기도록 5 % 수산화나트륨 용액을 투입한 다음, 1 시간 동안 90 ℃로 가열하면서 교반(150 ~ 400 rpm)한 뒤에 이를, 증류수로 세척하였다. (b) 이어서, 이를 평균 입경이 약 90 마이크로미터(± 5 마이크로미터)가 되도록 조 크러셔 및 볼밀로 분쇄하여, 텅스텐 스크랩 분말을 형성하였다. (c) 반응기 2에 상기 텅스텐 스크랩 분말과 함께 상기 텅스텐 스크랩 분말이 잠기도록 1 % 질산 용액을 투입한 다음, 1 시간 동안 60 ℃로 가열하면서 교반(150 ~ 400 rpm)하였다. (d)반응기 2로부터 1 % 질산 용액을 제거한 뒤, 계면활성제(하기 표 1의 중량비) 30 중량% 및 증류수 70 중량%로 이루어진 세척용 조성물을 텅스텐 스크랩 분말이 잠길 정도로 반응기 2에 투입하여, 텅스텐 스크랩 분말을 세척하였다.5% sodium hydroxide solution was added to the tungsten scrap in which the aluminum was deposited in the reactor 1 so that the tungsten scrap deposited with aluminum was immersed in the reactor 1, and then stirred (150-400 rpm) while heating at 90 ° C for 1 hour. , And washed with distilled water. (b) Next, it was pulverized with a jaw crusher and a ball mill so as to have an average particle size of about 90 micrometers (± 5 micrometers) to form a tungsten scrap powder. (c) 1% nitric acid solution was added to the reactor 2 so that the tungsten scrap powder and the tungsten scrap powder were immersed in the reactor 2, and then stirred (150-400 rpm) while heating to 60 ° C for 1 hour. (d) After removing the 1% nitric acid solution from the reactor 2, a cleaning composition consisting of 30 wt% of a surfactant (weight ratio in Table 1 below) and 70 wt% of distilled water was charged into the reactor 2 so that the tungsten scrap powder was locked, The scrap powder was washed.

(e) 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 연속로에 충전하고, 연속로 내부에 산소(5 %)를 포함하는 공기를 5L/min 의 속도로 흘려주면서 상온에서 약 900 ℃까지 가열하여 이를 약 2 시간 동안 유지함으로써, 산화텅스텐 분말을 형성하였다. (f) 산화텅스텐 분말을 연속로에 충전하고, 연속로 내부에 수소(5 %)및 잔량의 질소가 혼합된 혼합기체를 5L/min 의 속도로 흘려주면서 상온에서 약 850 ℃ 까지 가열하고, 이를 약 2 시간 동안 유지함으로써, 텅스텐 분말을 수득하였다. (e) The washed tungsten scrap powder was charged into a continuous furnace, and air containing oxygen (5%) was continuously flowed therein at a rate of 5 L / min while continuously heating it from room temperature to about 900 ° C, Thereby forming a tungsten oxide powder. (f) A tungsten oxide powder was continuously charged, and a mixed gas in which hydrogen (5%) and the remaining amount of nitrogen were continuously mixed was continuously fed at a rate of 5 L / min while being heated to about 850 캜 at room temperature. By maintaining for about 2 hours, a tungsten powder was obtained.

이때, 계면활성제로는 하기 표 1의 중량비로 혼합된 것을 사용하였으며, 실시예 1 내지 3은 하기 표 1의 중량비로 혼합된 계면활성제를 사용한 것 이외에는 모두 동일한 방법에 따라 텅스텐 분말을 수득하였다.In this case, the surfactant was mixed in the weight ratio shown in Table 1 below, and tungsten powder was obtained in the same manner as in Examples 1 to 3 except that the surfactant mixed in the weight ratio shown in the following Table 1 was used.

상기 (a) ~ (f) 이외에 텅스텐 분말을 수득하기 위한 별도의 처리가 더 포함될 수 있으며, 상기 내용에서는 이를 생략하였다.In addition to the above (a) to (f), a separate treatment for obtaining a tungsten powder may be further included, which is omitted in the above description.

중량비Weight ratio 실시예Example 1 One 실시예Example 2 2 실시예Example 3 3 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르Polyoxyethylene alkyl ether 1One 1One 1One 솔비탄 모노오레인산 에스테르Sorbitan monooleate ester 1One 1One 1One 폴리옥시에틸렌 솔비탄 모노팔미테이트Polyoxyethylene sorbitan monopalmitate 0.50.5 1One 22

실시예Example 4 4

5 % 수산화나트륨 용액을 처리함과 동시에 주파수 32 kHz 및 25 μm 진폭의 조건으로 초음파 처리를 실시한 것을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 3, except that the 5% sodium hydroxide solution was treated and the ultrasonic treatment was performed under the conditions of a frequency of 32 kHz and an amplitude of 25 탆.

[[ 비교예Comparative Example ]]

비교예Comparative Example 1 One

5 % 수산화나트륨 용액을 처리하는 과정(a)을 생략한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that the step (a) of treating the 5% sodium hydroxide solution was omitted.

비교예Comparative Example 2 2

1 % 질산 용액을 처리하는 과정(c)을 생략한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that step (c) of treating 1% nitric acid solution was omitted.

비교예Comparative Example 3 3

계면활성제 및 증류수를 포함하는 세척용 조성물로 세척하는 과정(d)을 생략한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the step (d) of washing with a cleaning composition containing a surfactant and distilled water was omitted.

비교예Comparative Example 4 내지 6 4 to 6

하기 표 2의 계면활성제를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surfactant of Table 2 was used.

중량비Weight ratio 비교예Comparative Example 4 4 비교예Comparative Example 5 5 비교예Comparative Example 6 6 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르Polyoxyethylene alkyl ether 1One 1One 1One 솔비탄 모노오레인산 에스테르Sorbitan monooleate ester 1One 1One 1One 폴리옥시에틸렌 솔비탄 모노팔미테이트Polyoxyethylene sorbitan monopalmitate 0.10.1 33 44

비교예Comparative Example 7 7

상기 (b)에서 텅스텐 스크랩 분말의 입경이 60 마이크로미터인 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 제조하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the tungsten scrap powder had a particle size of 60 micrometers.

비교예Comparative Example 8 8

상기 (b)에서 텅스텐 스크랩 분말의 입경이 120 마이크로미터인 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 제조하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the particle size of the tungsten scrap powder was 120 micrometers in the step (b).

비교예Comparative Example 9 9

5 % 수산화나트륨 용액을 처리함과 동시에 주파수 40 kHz 및 25 μm 진폭의 조건으로 초음파 처리를 실시한 것을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 3, except that the 5% sodium hydroxide solution was treated and the ultrasonic wave treatment was performed under the conditions of a frequency of 40 kHz and an amplitude of 25 占 퐉.

비교예Comparative Example 10 10

계면활성제 10 중량% 및 증류수 90 중량%가 혼합된 세척용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that a cleaning composition containing 10% by weight of a surfactant and 90% by weight of distilled water was used.

비교예Comparative Example 11 11

계면활성제 50 중량% 및 증류수 50 중량%가 혼합된 세척용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 텅스텐 분말을 수득하였다.Tungsten powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that a cleaning composition containing 50% by weight of a surfactant and 50% by weight of distilled water was used.

[[ 실험예Experimental Example ]]

실험예Experimental Example 1 One

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 11에 따라 수득된 텅스텐 분말을 ICP-OES(Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometry, iCAP 6000 Series, 제작사 : Thermo, Type : Plasma, RF Generator : 27.12 MHz solid state generator)를 이용하여 분석하여, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The tungsten powders obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 11 were subjected to ICP-OES (iCAP 6000 Series, manufactured by Thermo, Type: Plasma, RF Generator: 27.12 MHz solid state generator ), And the results are shown in Table 3 below.

하기 표 3에서 텅스텐 순도는 분석 결과 내 텅스텐 함량을 의미하는 것이며, 실시예 4의 시험결과를 도 2에 도시하였다. In Table 3, tungsten purity means the tungsten content in the result of the analysis, and the test result of Example 4 is shown in Fig .

텅스텐 순도Tungsten purity 텅스텐 순도Tungsten purity 실시예 1Example 1 95.811 %95.811% 비교예 5Comparative Example 5 89.437 %89.437% 실시예 2Example 2 96.794 %96.794% 비교예 6Comparative Example 6 91.736 %91.736% 실시예 3Example 3 97.562 %97.562% 비교예 7Comparative Example 7 89.418 %89.418% 실시예 4Example 4 99.631 %99.631% 비교예 8Comparative Example 8 86.447 %86.447% 비교예 1Comparative Example 1 57.113 %57.113% 비교예 9Comparative Example 9 92.764 %92.764% 비교예 2Comparative Example 2 68.469 %68.469% 비교예 10Comparative Example 10 83.059 %83.059% 비교예 3Comparative Example 3 78.274 %78.274% 비교예 11Comparative Example 11 87.314 %87.314% 비교예 4Comparative Example 4 86.145 %86.145%

표 3을 보면, 실시예의 텅스텐 순도가 비교예에 비해 현저히 우수함을 확인할 수 있다. 특히, 실시예 1 내지 4의 경우에는 순도가 95 % 이상으로 매우 높았으며, 그 중에서도 초음파 처리를 실시한 경우 순도가 99 % 이상으로 가장 우수하였다.Table 3 shows that the tungsten purity of the examples is significantly better than that of the comparative example. In particular, in Examples 1 to 4, the purity was as high as 95% or more, and in particular, when the ultrasonic treatment was carried out, the purity was the highest at 99% or more.

또한, 염기성 용액 처리, 산성 용액 처리, 세척용 조성물을 이용한 세척 처리를 실시하지 않은 비교예 1 내지 3의 경우 텅스텐의 순도가 현저히 낮음을 확인할 수 있다.In addition, it can be confirmed that the purity of tungsten is remarkably low in Comparative Examples 1 to 3 in which basic solution treatment, acidic solution treatment, and cleaning treatment using a cleaning composition are not performed.

또한, 본 실시예와 같이 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 포함하여도, 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 1 : 0.5 ~ 2 : 0.5 ~ 2의 중량비로 포함하지 않을 경우에도 텅스텐의 순도가 저하됨을 확인할 수 있다.Also, as in this embodiment, even if polyoxyalkylene alkyl ether, sorbitan fatty acid ester, and polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester are contained, polyoxyalkylene alkyl ether, sorbitan fatty acid ester, and polyoxyalkylene sorbitan It can be confirmed that the purity of tungsten is lowered even when the fatty acid ester is not contained at a weight ratio of 1: 0.5 to 2: 0.5 to 2.

또한, 초음파 처리를 실시한 실시예 4 및 비교예 9를 비교하면, 본 발명에서 제시한 범위를 벗어나는 주파수로 초음파 처리를 한 비교예 9의 경우에는 오히려 텅스텐 순도가 저하됨을 확인할 수 있다.Comparing Example 4 and Comparative Example 9 in which the ultrasonic treatment was performed, it can be confirmed that the tungsten purity is lowered in the case of Comparative Example 9 in which the ultrasonic treatment was performed at a frequency outside the range suggested in the present invention.

전술한 바와 같이, 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention. You will understand. It is therefore to be understood that the embodiments described above are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

Claims (9)

(a) 텅스텐 스크랩을 염기성 용액으로 처리하는 단계;
(b) 상기 염기성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩을 분쇄하여 텅스텐 스크랩 분말을 형성하는 단계;
(c) 상기 텅스텐 스크랩 분말을 산성 용액으로 처리하는 단계;
(d) 상기 산성 용액으로 처리된 텅스텐 스크랩 분말을 계면활성제 및 용매를 포함하는 세척용 조성물로 세척하는 단계;
(e) 상기 세척된 텅스텐 스크랩 분말을 산화하여 산화텅스텐 분말을 형성하는 단계; 및
(f) 상기 산화텅스텐 분말을 환원하여 텅스텐 분말을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 (a) 단계의 텅스텐 스크랩은 금속 코팅층이 형성된 것이되,
상기 산성 용액은 염산 용액, 질산 용액 및 황산 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하고,
상기 계면활성제는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
(a) treating the tungsten scrap with a basic solution;
(b) pulverizing the tungsten scrap treated with the basic solution to form tungsten scrap powder;
(c) treating the tungsten scrap powder with an acidic solution;
(d) washing the tungsten scrap powder treated with the acid solution with a cleaning composition comprising a surfactant and a solvent;
(e) oxidizing the washed tungsten scrap powder to form tungsten oxide powder; And
(f) reducing the tungsten oxide powder to form tungsten powder,
The tungsten scrap of the step (a) may be a metal coating layer,
Wherein the acidic solution comprises at least one selected from the group consisting of a hydrochloric acid solution, a nitric acid solution and a sulfuric acid solution,
Wherein the surfactant comprises a polyoxyalkylene alkyl ether, a sorbitan fatty acid ester, and a polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester.
제 1 항에 있어서,
상기 (a) 단계에서는
초음파 처리를 실시하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
In the step (a)
A method for recycling a tungsten scrap formed with a metal coating layer, characterized in that ultrasonic treatment is performed.
제 2 항에 있어서,
상기 (a) 단계에서는
상기 초음파 처리를 주파수 30 ~ 35 kHz 및 20 ~ 30 μm 진폭의 조건에서 실시하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
3. The method of claim 2,
In the step (a)
Wherein the ultrasonic treatment is carried out at a frequency of 30 to 35 kHz and an amplitude of 20 to 30 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 금속 코팅층은
알루미늄 코팅층인 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
The metal coating layer
Wherein the metal coating layer is an aluminum coating layer.
제 1 항에 있어서,
상기 (b) 단계에서
상기 텅스텐 스크랩 분말은 80 ~ 100 마이크로미터의 입경을 갖는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
In the step (b)
Wherein the tungsten scrap powder has a particle size of 80 to 100 micrometers.
제 1 항에 있어서,
상기 세척용 조성물은
상기 세척용 조성물 총 중량 기준으로 계면활성제 15 ~ 40 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
The cleaning composition
Wherein the cleaning composition comprises 15 to 40% by weight of a surfactant based on the total weight of the cleaning composition and a residual solvent.
제 1 항에 있어서,
상기 계면활성제는
폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 폴리옥시알킬렌 솔비탄 지방산 에스테르를 1 : 0.5 ~ 2 : 0.5 ~ 2의 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
The surfactant
A method for recycling a tungsten scrap comprising a metal coating layer, wherein the metal coating layer comprises a polyoxyalkylene alkyl ether, a sorbitan fatty acid ester, and a polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester in a weight ratio of 1: 0.5 to 2: 0.5 to 2.
제 1 항에 있어서,
상기 염기성 용액은
수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼슘(Ca(OH)2) 용액 및 수산화칼륨(KOH) 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 코팅층이 형성된 텅스텐 스크랩의 재활용 방법.
The method according to claim 1,
The basic solution
Wherein the metal coating layer comprises at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide (NaOH) solution, calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) solution and potassium hydroxide (KOH) solution.
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