KR101930843B1 - 멤브레인 필터 평가를 위한 나노입자 및 이를 이용하는 멤브레인 필터 평가방법 - Google Patents

멤브레인 필터 평가를 위한 나노입자 및 이를 이용하는 멤브레인 필터 평가방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 (i) 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 ; 및 (ii) 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 겔형성용 분자를 구비한 Pd 코어-쉘 입자를 함유하는 금속 함유 불순물 모사용 조성물 ; 이의 제조방법; 및 이의 포토레지스트 용액의 정제용 멤브레인 필터로서의 용도에 관한 것이다.

Description

멤브레인 필터 평가를 위한 나노입자 및 이를 이용하는 멤브레인 필터 평가방법{Nanoparticle to evalulate membrane filter and evaluation method of membrane filter using the same}
본 발명은 멤브레인 필터 평가를 위한 나노입자 및 이를 이용하는 멤브레인 필터 평가방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토레지스트 정제용 멤브레인 필터 평가에 사용되는 나노입자 및 이를 이용한 멤브레인 성능 평가방법에 관한 것이다.
반도체 공정에는 포토레지스트 용액, 유기물 또는 레지스트 잔산 제거를 위한 세정액, 에칭 용액, 현상액, 린스액 등 다양한 용액이 사용되고 있다.
반도체 공정에서 선폭의 점진적인 감소로 인하여 포토레지스트 용액(photoresist solution)의 불순물 제거가 점점 중요시되고 있다. 불순물 제거가 이루어지지 않을 경우 패턴의 불량을 초래하게 된다. 상기 포토레지스트 용액 중에 포함된 불순물은 주로 금속 입자인 하드 파티클(hard particle)과 고분자와 금속의 응집체인 겔 파티클(gel particle) 혹은 소프트 파티클(soft particle)이 원인이 된다.
그러나, 이러한 미량의 겔 입자를 효율적으로 제거할 수 있는 멤브레인의 기술 발전은 이루어지지 않고 있으며 현재 상용화되어 있는 멤브레인의 경우도 이러한 나노입자를 제거하기는 불충분하다.
한편, 겔 입자의 제거에 사용되는 멤브레인의 성능을 평가하는 방법으로도, 포토레지스트 용액 내에 강제로 고분자와 금속의 응집체인 겔 입자 또는 소프트 파티클(soft particle)을 형성시켜 포토레지스트 용액을 패턴 위에 코팅하여 불순물 함유 여부를 평가하는 방법 이외에는 다른 방법이 없는 실정이다.
이러한 배경 하에서, 본 발명자들은 겔 입자의 제거에 사용되는 멤브레인의 성능을 간단하게 평가할 수 있는 방법을 찾고자 노력한 결과, 팔라듐을 포함하는 코어에 친수성기 및/또는 소수성기를 포함하는 쉘을 형성하여 제조한 코어-쉘 형태의 소프트 파티클을 멤브레인의 성능 평가에 사용할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 멤브레인 필터의 성능을 평가할 수 있는 코어-쉘 형태의 소프트 파티클, 이의 제조방법 및 이를 이용하는 멤브레인 필터 평가방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1양태는 (i) 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 ; 및 (ii) 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 겔형성용 분자를 구비한 Pd 코어-쉘 입자를 함유하는 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 제공한다.
본 발명의 제2양태는 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자의 제조방법으로서, 상기 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자는 Pd 코어-쉘 입자이고, Pd 금속과 공유결합할 수 있는 작용기를 구비하고 분산가능한 쉘 형성용 분자 및 환원제를 함유하는 제1용액을 준비하는 제1단계; Pd 제공 전구체를 함유하는 제2용액을 준비하는 제2단계; 제1용액과 제2용액을 혼합 및 반응시켜, 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 ; 및 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 쉘 형성용 분자를 구비한 Pd 코어-쉘 입자를 형성하는 제3단계를 포함하는 것이 특징인 불순물 모사 입자의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 제3양태는 제1양태의 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 필터에 투과시켜, Pd 코어-쉘 입자의 제거율을 확인하는 단계를 포함하는, 필터 평가방법을 제공한다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
포토레지스트 용액 내에는 나노스케일의 금속입자들이 극소량 포함되어 있어서, 이를 제거할 수 있는 멤브레인 필터를 평가하여 사용하기가 어렵다.
본 발명은 다른 금속과 달리 팔라듐(Pd)의 경우 직경 2~3 nm의 나노입자를 형성할 수 있는 점을 이용하여, 포토레지스트 용액 내 금속 함유 불순물을 모사하는 다양한 나노 크기 등급의 입자를 제조하고자 하였으나, 2 - 10 nm인 Pd 나노입자는 용매내 분산되지 아니하는 문제점을 해결하고자, 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 형성시 Pd 금속과 공유결합할 수 있는 작용기를 구비하고 용매에 분산가능한 분자와 반응시켜, 형성된 Pd 나노입자를 코어로, 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 상기 분산가능한 분자를 쉘로 구비하는 Pd 코어-쉘 입자를 형성하여, 멤브레인 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사용 입자로 사용하는 것이 특징이다.
따라서, 본 발명에 따른 금속 함유 불순물 모사용 조성물은 (i) 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 ; 및 (ii) 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 겔형성용 분자를 구비한 Pd 코어-쉘 입자를 함유한다.
본 발명에 따른 Pd 코어-쉘 입자는, 금속입자와 달리, 쉘의 겔형성용 분자에 의해 소프트 표면을 갖는 "소프트 파티클(soft particle)"에 해당한다.
본 발명에 따른 Pd 코어-쉘 입자는 (iii) 쉘의 겔형성용 분자에 함침된 용매를 더 구비한 Pd 코어-쉘 겔입자일 수 있다.
상기 (iii)의 용매는 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 금속 함유 불순물 모사용 조성물은 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일한 용매 또는 이와 혼화성이 있는 용매를 더 함유하는 것일 수 있다.
본 발명에 따른 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 이용하는 금속 함유 불순물 제거 대상은 포토레지스트 용액과 같은 반도체 공정용 용액일 수 있다.
포토레지스트 용액의 성분은 크게 용매, 고분자(resin), 감광제(PAG) 및 첨가제로 나눌 수 있으며, 약 97% 정도가 PGMEA(propylene, glycol, monoether acetate), 사이클로헥산, 에틸 락테이트(ethyl lactate) 등의 용매이다.
따라서, 금속 함유 불순물 제거 대상이 포토레지스트 용액인 경우, 본 발명에서 사용되는 용매는 사이클로헥산, 에틸 락테이트 또는 이와 혼화가능한 용매일 수 있다.
상기 겔형성용 분자에서, Pd 금속과 공유결합할 수 있는 작용기의 비제한적인 예로는, 아미드기, 우레탄기, 요소기, 우레아기, 에스터기, 에테르기, 술폰기, 술폭사이드기, 술페이트기, C6-12 아릴기, C6-12 헤테로아릴기, 케톤기, 포스페이트기, 아민기, 술폰산기, 카르복시산기 등이 있다. 겔형성용 분자와 Pd 나노입자의 공유결합으로 인해, 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액에서, 상기 용액 내 분산가능한 겔형성용 분자와 공유결합으로 연결되어 있는 Pd 나노입자의 분산도를 높일 수 있다.
상기 겔형성용 분자는 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매(들)에 따라 친수성 분자 또는 소수성 분자일 수 있다. 상기 겔형성용 분자는 포토레지스트 성분인 사이클로헥산, 에틸 락테이트, 프로필렌글리콜 등의 용매에 용해될 수 있는 것이 바람직하다.
상기 친수성 분자는 포토레지스트 용액의 사이클로헥산에 잘 녹는 것이 바람직하다.
친수성 분자 중 친수성기는 아미드기, 우레탄기, 요소기, 우레아기, 에스터기, 에테르기, 술폰기, 술폭사이드기, 술페이트기, C6-12 아릴기, C6-12 헤테로아릴기, 케톤기, 포스페이트기, 아민기, 술폰산기, 카르복시산기 등일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
예를 들어, 상기 친수성 분자는 폴리비닐 피롤리돈(polyvinyl pyrrolidone), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리아크릴산(PAA), 폴리메타크릴산(PMAA), 셀룰로스계 고분자, 폴리에틸렌글리콜(PEG), 폴리프로필렌글리콜(PPG) 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 바람직하게는, 폴리비닐 피롤리돈(polyvinyl pyrrolidone)일 수 있다.
바람직하게는 상기 친수성기는 포토레지스트 용액 정제용 멤브레인 필터 성능 평가에 적합하도록 아미드기로 치환된 것일 수 있다. 아미드기 이외의 친수성기를 사용할 경우 본 발명의 코어-쉘 입자가 합성되지 않을 수 있다.
상기 소수성 분자는 포토레지스 용액의 에틸 락테이트(ethyl lactate)에 잘 녹는 것이 바람직하다.
소수성 분자 중 소수성기는 C1-15 알킬기 등일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다, 바람직하기로는, 상기 소수성기는 C5-20 트리알킬 포스파인(trialkyl phosphine)일 수 있다. 더욱 바람직하기로는, 트리옥틸 포스파인(trioctyl phosphine)일 수 있다.
상기 소수성 분자는 C5-20 트리알킬 포스파인(trialkyl phosphine)일 수 있다. 바람직하게는, 트리옥틸 포스파인(trioctyl phosphine)일 수 있다.
바람직하게는, 상기 소수성기는 포토레지스트 용액 정제용 멤브레인 필터 성능 평가에 적합하도록 아미드기로 치환된 것일 수 잇다.
본 발명의 Pd 코어-쉘 입자에서, 코어부는 직경이 1 내지 10 nm, 바람직하게는 2 내지 5 nm일 수 있다.
본 발명의 Pd 코어-쉘 입자에서, 친수성 분자를 포함하는 쉘부의 두께는 1 내지 20 nm일 수 있으며, 소수성 분자를 포함하는 쉘부의 두께는 1 내지 5 nm일 수 있다.
바람직하게는, 본 발명의 Pd 코어-쉘 입자는 평균 직경이 2 내지 20 nm일 수 있다. 평균 직경이 2 nm 미만이면 멤브레인 필터에 의해 제거되지 않을 수 있으며, 평균 직경이 20 nm를 초과할 경우 멤브레인 필터의 겔 입자 제거능 평가에 미흡할 수 있다.
특히, 본 발명의 Pd 코어-쉘 입자는 포토레지스트 고분자와 미량의 금속 입자간의 반응에 의해 발생하는 겔 입자와 유사한 입자 크기 및 연질 특성을 가지므로, 포토레지스트 용액의 정제에 사용되는 멤브레인의 성능을 평가하기 위해 유리하게 사용될 수 있다.
본 발명에 따라 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자로서 Pd 코어-쉘 입자의 제조방법은
Pd 금속과 공유결합할 수 있는 작용기를 구비하고 분산가능한 쉘 형성용 분자 및 환원제를 함유하는 제1용액을 준비하는 제1단계;
Pd 제공 전구체를 함유하는 제2용액을 준비하는 제2단계;
제1용액과 제2용액을 혼합 및 반응시켜, 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자; 및 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 쉘 형성용 분자를 구비한 Pd 코어-쉘 입자를 형성하는 제3단계
를 포함한다.
쉘 형성용 분자 및 환원제를 함유하는 제1용액에서 용매는 물, 올레일 아민(oleyl amine), 알콜류, 아민류, 에스터류, 케톤류 등일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 제1용액의 용매는 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매인 것이 바람직하다.
상기 Pd 제공 전구체를 Pd 금속로 환원시키는 환원제의 비제한적인 예로는 시트르산, 아스코르브산(ascorbic acid), NaBH4 등이 있다.
상기 제1 용액은 팔라듐 표면에 강하게 음이온들이 부착하여 PVP 등의 친수성 분자와 공유할 수 있는 장소를 제공할 수 있도록 KBr, KI, KCN 등의 첨가제를 포함할 수 있다.
Pd 제공 전구체의 비제한적인 예로는 Na2PdCl4, K2PdCl4, K2PdCl6, (NH4)2PdCl4, (NH4)2PdCl6, PdCl2, 이의 혼합물 등이 있다. 바람직하게는, K2PdCl4 을 사용할 수 있다.
Pd 제공 팔라듐 전구체 : 쉘 형성용 분자의 중량비는 1 : 0.5 ~ 4일 수 있다. 중량비가 1 : 0.5 미만이면 구형입자 형성이 어렵고 1 : 4를 초과하면 응집이 일어나서 코어-쉘 나노입자의 형성이 잘 이루어지지 않는다.
Pd 제공 전구체를 함유하는 제2용액의 용매로 물을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.
제1용액과 제2용액을 혼합 및 반응시키는 제3단계는 60 ℃ 이상의 온도에서 0.5 시간 이상 동안 반응시키는 단계일 수 있다. 상기 단계에서 반응온도가 60 ℃ 미만이면 Pd 전구체의 환원이 충분하지 않을 수 있다. 상기 단계에서 반응시간이 0.5 시간 미만이면 반응이 충분히 일어나지 않아 입자의 응집이 일어날 수 있다.
제3단계에 형성된 Pd 코어-쉘 입자는 아세톤으로 고형화할 수 있다.
본 발명에 따라 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자로서 Pd 코어-쉘 입자의 제조방법은 제3단계에 형성된 Pd 코어-쉘 입자를 건조한 후 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매에 분산시켜 Pd 코어-쉘 겔입자를 형성하는 제4단계를 더 포함할 수 있다.
제4단계에서 사용되는 용매는 물, 사이클로헥산, 에틸 락테이트 등일 수 있으며, 제4단계에서, Pd 코어-쉘 입자는 용매에 분산되어 겔화(gellation)된 소프트 파티클일 수 있다.
본 발명에 따른 필터 평가방법은 본 발명의 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 필터에 투과시켜, Pd 코어-쉘 입자의 제거율을 확인하는 단계를 포함하는 것이 특징이다.
Pd 코어-쉘 입자의 제거율을 확인하기 위해 유도결합플라즈마 질량분석기(ICP-MS)를 이용할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.
본 발명의 금속 함유 불순물 모사용 조성물은 나노크기의 입자 제거능이 필요한 멤브레인의 성능 평가에 사용될 수 있다. 바람직하게는, 포토레지스트 용액의 정제에 사용되는 멤브레인의 성능 평가에 사용될 수 있다.
종래에는 고가의 포토레지스트 용액에 강제로 겔 입자(소프트 입자)를 형성시켜 패턴 위에 코팅하여 불순물 함유 여부를 평가하는 방식으로 멤브레인의 성능을 평가했으나, 본 발명에 따르면 고가의 포토레지스트 용액을 사용하지 않고도 소프트 나노입자를 이용하여 포토레지스트 용액 정제용 멤브레인의 성능을 평가할 수 있다.
본 발명에 따르면 팔라듐을 포함하는 코어에 친수성기 및/또는 소수성기를 포함하는 쉘을 결합시킴으로써 겔 입자와 유사한 물성을 갖는 나노입자를 얻을 수 있고, 이를 이용하여 멤브레인 필터, 특히 포토레지스트 용액 정제용 멤브레인의 겔 입자 제거 성능을 간단한 방법으로 용이하게 평가할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 친수성 소프트 파티클(soft particle)의 TEM 사진을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예 4에 따라 제조된 소수성 소프트 파티클(soft particle)의 TEM 사진을 나타낸 것이다.
이하, 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 효과를 보다 더 구체적으로 설명하고자 하나, 이들 실시예는 본 발명의 예시적인 기재일 뿐 본 발명의 범위가 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
제조예 1: 개질된 나일론 66 멤브레인 제조
0.2 ㎛의 평균 기공크기를 갖는 나일론 66 멤브레인을 방향족 폴리아미드인 메타-아라미드(m-aramid) 30 중량% 용액에 함침하고 물 속에서 고형화시켜 평균기공크기가 0.02 ㎛인 개질된 멤브레인을 제조하였다. 상기 개질된 멤브레인은 상용 포토레지스트 용액(photoresist solution) 내 불순물, 즉 금속입자 함유 나노겔입자를 제거하였으며, 이를 본 발명의 소프트 나노파티클(soft nanoparticle)을 평가하는데 사용하였다.
제조예 2: 나일론 46 멤브레인 제조
나일론 46 35중량%를 개미산 및 에탄올 혼합용액 (10/1) 65중량%에 용해시킨 후 습도 80%에서 3분간 노출시킨 후 물에 침지하여 평균기공크기가 0.018 ㎛인 멤브레인을 제조하였다. 이를 본 발명의 소프트 나노파티클(soft nanoparticle)을 평가하는데 사용하였다.
실시예 1: 친수성 소프트 나노파티클 (hydrophilic soft nanoparticle )의 제조 및 멤브레인 평가
증류수 8ml에 폴리비닐 피롤리돈(polyvinyl pyrrolidone, PVP, MW 40,000) 105mg, 아스코르브산(ascorbic acid) 60mg 및 KBr 300mg를 용해시키고, 80℃에서 10분간 유지시켜 제1 용액을 준비하였다. 물 3ml에 사염화팔라듐산 칼륨(K2PdCl4) 57 mg을 녹여 제2 용액을 준비한 후, 제1 용액과 80℃에서 3시간 반응시켰다. 이어서, 아세톤으로 고형화시킨 후 에탄올로 세척 및 건조하여 소프트 Pd 나노입자를 얻었다. 이의 TEM 분석 결과는 도 1에 나타나 있으며, 평균 입자크기를 측정한 결과 평균입경이 5 - 6 nm이었다.
상기 소프트 Pd 나노입자를 물에 500ppm의 농도로 분산시킨 후, 제조예 1에서 제조한 나일론 66/m-aramid 멤브레인, 및 제조예 2에서 제조한 나일론 46 멤브레인에 대하여 1기압에서 투과시킨 후 제거율을 ICP-MS로 측정하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
실시예 2: 친수성 소프트 나노파티클의 제조 및 멤브레인 평가
실시예 1에서 얻은 소프트 Pd 나노파티클을 에틸 락테이트(Ethyl lactate)에 500ppm으로 분산시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 나노입자 제거율을 측정하였다.
실시예 3: 친수성 소프트 나노파티클의 제조 및 멤브레인 평가
실시예 1에서 제조된 소프트 나노파티클을 고형화시키지 않고 소프트 Pd 나노파티클 용액 자체를 제조예 1의 나일론 66/m-aramid 멤브레인 및 제조예 2의 나일론 46 멤브레인에 대하여 1기압에서 투과시킨 후 제거율을 ICP-MS로 측정한 후, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
실시예 4: 소수성 소프트 나노파티클 (hydrophobic soft nanoparticle )의 제조 및 멤브레인 평가
올레일 아민(Oleyl amine) 8ml에 트리옥틸 포스파인(trioctyl phosphine)(TOP) 105mg, ascorbic acid 60mg, KBr 300mg를 용해시키고 80℃에서 10분간 유지시켜 제1 용액을 준비하였다. 물 3ml에 K2PdCl4 57mg을 녹여 제2 용액을 준비하였다. 제1 용액과 제2 용액 혼합하여 80℃에서 3시간 반응시킨 후 아세톤으로 고형화시킨 후 에탄올로 세척 및 건조하여 소프트 Pd 나노파티클을 얻었다. 이의 TEM 분석 결과는 도 2에 나타나 있으며, 평균 입자크기를 측정한 결과 평균입경이 5 - 6 nm이었다.
상기 소프트 나노파이클을 물에 500ppm으로 분산시킨 후 제조예 1의 나일론 66/m-aramid 멤브레인 및 제조예 2의 나일론 46 멤브레인에 1기압에서 투과시킨 후 제거율을 ICP-MS로 측정한 후, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
실험예 1: 멤브레인의 성능평가
제조예 1에서 제조된 나일론 66/m-aramid 멤브레인, 및 제조예 2에서 제조된 나일론 46 멤브레인은 Permporometer를 이용하여 평균기공크기를 측정한 결과 같은 기공크기를 가진 것으로 나타났다. 나일론 46는 나일론 66보다 극성이 크지만 메타 아라미드(m-aramid)보다는 극성이 떨어진다. 이러한 멤브레인의 고분자 성질에 따른 soft nanoparticle의 흡착능에 따른 멤브레인 제거율을 비교하였다.
각 제조예에서 제조된 멤브레인은 다음 식을 이용하여 각 실시예에서 제조된 소프트 나노입자의 제거율을 특정하였고 하기 표 1에 그 결과를 나타내었다(측정압력, 1 kgf/㎠).
R = (Cf - Cp)*100 / Cf
상기 식에서 R은 제거율, Cf는 원액의 농도, Cp는 투과액의 농도를 나타낸다.
제거율 (%)
나일론 46
(제조예 2)		 나일론 66/m-aramid
(제조예 1)
실시예 1 7 92
실시예 2 5 90
실시예 3 4 96
실시예 4 5 93
상기 표 1에서 알 수 있듯이, 실시예 1 ~ 4에 따라 준비된 친수성 및 소수성 소프트 파티클은 멤브레인의 종류에 따라 같은 기공크기를 갖더라도 흡착능에서 큰 차이를 보인다는 것을 확인하였다.
즉, 나일론 46 멤브레인과 나일론 66에 메타-아라미드(m-aramid)를 함침한 멤브레인(나일론 66/m-aramide)은 기공크기가 비슷하지만, 나일론 46 멤브레인의 경우 소프트 파티클을 거의 제거하지 못하지만, 메타-아라미드(m-aramid)로 함침한 멤브레인은 소프트 파티클을 90% 이상 제거하는 것을 확인할 수 있었다.

Claims (10)

  1. (i) 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자 ; 및 (ii) 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 겔형성용 분자를 구비한 소프트 파티클(soft particle)인 Pd 코어-쉘 입자를 함유하는 금속 함유 불순물 모사용 조성물에 있어서, 상기 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 이용하는 금속 함유 불순물 제거 대상은 반도체 공정용 포토레지스트 용액인 것이 특징인 금속 함유 불순물 모사용 조성물.
  2. 제1항에 있어서, Pd 코어-쉘 입자는 (iii) 쉘의 겔형성용 분자에 함침된 용매를 더 구비한 Pd 코어-쉘 겔입자인 것이 특징인 금속 함유 불순물 모사용 조성물.
  3. 제2항에 있어서, (iii)의 용매는 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매인 것이 특징인 금속 함유 불순물 모사용 조성물.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일한 용매 또는 이와 혼화성이 있는 용매를 더 함유하는 것이 특징인 금속 함유 불순물 모사용 조성물.
  7. 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자의 제조방법으로서,
    상기 필터 평가용 금속 함유 불순물 모사 입자는 Pd 코어-쉘 입자이고, 상기 금속 함유 불순물 모사 입자를 이용하는 금속 함유 불순물 제거 대상은 반도체 공정용 포토레지스트 용액이며,
    Pd 금속과 공유결합할 수 있는 작용기를 구비하고 분산가능한 쉘 형성용 분자 및 환원제를 함유하는 제1용액을 준비하는 제1단계;
    Pd 제공 전구체를 함유하는 제2용액을 준비하는 제2단계; 및
    제1용액과 제2용액을 혼합 및 반응시켜, 코어로 평균직경이 2 - 10 nm인 Pd 나노입자; 및 쉘로 상기 Pd 나노입자에 공유결합된 쉘 형성용 분자를 구비한 소프트 파티클(soft particle)인 Pd 코어-쉘 입자를 형성하는 제3단계
    를 포함하는 것이 특징인 불순물 모사 입자의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 제3단계에 형성된 Pd 코어-쉘 입자를 건조한 후 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매에 분산시켜 Pd 코어-쉘 겔입자를 형성하는 제4단계를 더 포함하는 것이 특징인 불순물 모사 입자의 제조방법.
  9. 제7항에 있어서, 제1용액의 용매는 금속 함유 불순물 제거 대상인 용액 내 용매와 동일하거나 또는 이와 혼화성이 있는 용매인 것이 불순물 모사 입자의 제조방법.
  10. 제1항 내지 제3항 및 제6항 중 어느 한 항에 기재된 금속 함유 불순물 모사용 조성물을 필터에 투과시켜, 소프트 파티클(soft particle)인 Pd 코어-쉘 입자의 제거율을 확인하는 단계를 포함하는, 필터 평가방법.
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