KR101917631B1 - 파티클 클리닝 포집 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 파티클 클리닝 포집 장치에 관한 것으로서, 팁이 설치되는 본체부; 상기 본체부에 설치되며, 회전력을 제공하는 회전부; 상기 본체부에 설치되며, 상기 회전부에 의해 회전되어 상기 팁에 형성된 파티클을 제거하는 브러시부; 및 상기 회전부가 정지하는 경우, 상기 브러시부가 상기 팁에 접촉되지 않도록 상기 브러시부의 위치를 조절하는 조절부를 포함하되, 상기 브러시부는, 상기 회전부에 연결되는 베이스부와, 상기 팁에 접촉되도록 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 접촉부와, 한쌍의 자성체로 마련되어 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 자석부를 포함하며, 상기 조절부는, 자성력에 의해 상기 자석부에 붙도록 자성체로 마련되되 복수개로 마련되어 상기 회전부의 원주면을 따라 각각 설치되며, 상기 팁은, 복수개의 상기 조절부 사이의 공간에 마주되도록 상기 본체부에 설치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 회전부가 정지하는 경우 브러시부의 위치가 조절됨으로써, 브러시부가 팁에 접촉, 간섭되지 않아 팁에서의 코로나 방전이 효과적으로 실시될 수 있다.

Description

파티클 클리닝 포집 장치{CLEANING APPARATUS FOR COLLECTING PARTICLE}

본 발명은 파티클 클리닝 포집 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 회전부가 정지하는 경우 브러시부가 팁에 접촉되지 않도록 브러시부의 위치를 조절하는 것이 가능한 파티클 클리닝 포집 장치에 관한 것이다.

이오나이저(Ionizer)란, 이온을 이용하여 대상체에 생성된 정전기를 중화함으로써 정전기를 제거하는 장치로, 디스플레이, 반도체, 필름인쇄, 화학 및 나노 공정 등의 생산라인 등에 널리 사용된다.

이러한 이오나이저는 고압전원을 팁(Tip)에 인가함으로써 생성되는 코로나 방전을 정전기 제거에 이용하는데, 제전 방식에 따라 블로워(Blower) 방식, 에어 건(Air Gun) 방식, 에어 노즐(Air Nozzle) 방식 등으로 구분될 수 있다.

블로워 방식의 이오나이저의 경우, 코로나 방전에 따라 이온을 생성함과 더불어 송풍을 실시함으로써, 이온을 대상체로 전달한다. 상술한 과정에 의해서 전달된 이온은 대상체에 형성된 정전기를 중화시키며, 이에 의해서, 대상체에 형성된 정전기가 제거된다.

상술한 바와 같은 블로워 방식의 이오나이저의 경우, 누적적인 사용에 따라 팁에 파티클, 즉, 불순물이 형성될 수 있다. 이러한 파티클은 이오나이저의 제전 성능에 악영향을 미치므로 주기적으로 제거되어야 할 필요성이 있는데, 이에 파티클 클리닝 장치가 사용된다.

일반적인 종래의 파티클 클리닝 장치는 브러시 타입으로, 별도의 구동장치에 의해 회전되어 팁에 형성된 파티클을 제거한다. 종래의 파티클 클리닝 장치는 단순히 모터 등에 의해 회전된다. 따라서, 클리닝이 종료되어 모터가 정지되면, 브러시가 팁에 접촉된 상태로 정지되는 경우가 발생 되는데, 이러한 상황에서 팁에서 코로나 방전이 개시되면, 심각한 문제가 야기될 수 있다.

본 발명의 목적은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 회전부가 정지하는 경우 브러시부가 팁에 접촉되지 않도록 브러시의 위치를 조절하는 것이 가능한 파티클 클리닝 포집 장치를 제공함에 있다.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 팁이 설치되는 본체부; 상기 본체부에 설치되며, 회전력을 제공하는 회전부; 상기 본체부에 설치되며, 상기 회전부에 의해 회전되어 상기 팁에 형성된 파티클을 제거하는 브러시부; 및 상기 회전부가 정지하는 경우, 상기 브러시부가 상기 팁에 접촉되지 않도록 상기 브러시부의 위치를 조절하는 조절부를 포함하되, 상기 브러시부는, 상기 회전부에 연결되는 베이스부와, 상기 팁에 접촉되도록 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 접촉부와, 한쌍의 자성체로 마련되어 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 자석부를 포함하며, 상기 조절부는, 자성력에 의해 상기 자석부에 붙도록 자성체로 마련되되 복수개로 마련되어 상기 회전부의 원주면을 따라 각각 설치되며, 상기 팁은, 복수개의 상기 조절부 사이의 공간에 마주되도록 상기 본체부에 설치되는 것을 특징으로 하는 파티클 클리닝 포집 장치에 의해 달성된다.

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본 발명에 따르면, 회전부가 정지하는 경우 브러시부의 위치가 조절됨으로써, 브러시부가 팁에 접촉, 간섭되지 않아 팁에서의 코로나 방전이 효과적으로 실시될 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 팁에 파티클이 효과적으로 제거되므로, 이오나이저의 출력 향상, 감쇠시간(Decay time)의 감소 및 제전거리의 증가 등의 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 설치 위치를 도시한 것이고,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 정면 사시도 이고,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 분해 사시도 이고,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 배면 사시도 이고,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 정면도 이고,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제1동작을 도시한 것이고,
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제2동작을 도시한 것이고,
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제3동작을 도시한 것이다.

이하, 본 발명의 일부 실시 예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다.

그리고 본 발명의 실시 예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.

또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치에 대해서 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 설치 위치를 도시한 것이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 정면 사시도 이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 분해 사시도 이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 배면 사시도 이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 정면도 이다.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치(100)는 본체부(110)와 회전부(120)와 브러시부(130)와 조절부(140)를 포함한다.

본체부(110)는 팁(t)이 설치되는 것으로써, 몸체부(111)와, 상판부(112)와 하판부(113)를 포함한다.

몸체부(111)는 후술하는 브러시부(130)와 회전부(120)가 설치되는 것으로써, 원통형으로 마련된다. 이러한 몸체부(111)에는 후술하는 회전부(120)가 회전될 수 있는 공간인 회전공간이 형성된다. 회전공간의 중심부분에는 회전부(120) 및 브러시부(130)가 설치될 수 있도록 원판형 플레이트가 형성되며, 회전공간을 형성하는 몸체부(111)의 내주면에는 복수개의 팁(t)이 소정간격으로 이격되어 각각 설치된다.

또한, 원판형 플레이트에는 후술하는 복수개의 조절부(140)가 회전부(120)의 외주면을 따라 설치된다.

또한, 몸체부(111)의 일측에는 관통홀(111a)이 형성된다. 회전부(120)가 회전함으로써 브러시부(130)가 팁(t)에 형성된 파티클(P)을 제거하는 경우, 제거된 파티클(P)이 상술한 관통홀(111a)을 통해서 외부로 배출된다.

도 5에 도시된 바와 같이, 관통홀(111a)의 하측에는 필터와 흡입팬(f)이 배치될 수 있다. 이러한 필터와 흡입팬(f)에 따르면, 관통홀(111a)을 통해 배출되는 파티클(P)이 외부로 더욱 효과적으로 배출될 수 있다.

상판부(112)는 원반형으로 마련되는 것으로써, 상술한 몸체부(111)의 상면에 설치된다.

하판부(113)는 상술한 상판부(112)와 마찬가지로 원반형으로 마련되는 것으로써, 상술한 몸체부(111)의 하면에 설치된다.

상술한 상판부(112)와 하판부(113)는 몸체부(111)에서 탈부착가능하게 마련되므로, 상판부(112) 및 하판부(113)에 따르면, 몸체부(111) 내부를 청소, 수리, 유지, 보수하는 것이 용이 해지는 효과가 있다.

회전부(120)는 회전력을 제공하는 것으로써, 본체부(110)의 중심에 형성된 원판형 플레이트에 설치된다. 이러한 회전부(120)는 제어부(미도시)에 의해서 제어되어 팁(t)에서 코로나 방전이 종료되면 작동된다.

브러시부(130)는 회전부(120)에 의해 회전되어 팁(t)에 형성된 파티클(P)을 제거하는 것으로써, 회전부(120)에 연결된다. 이러한 브러시부(130)는 베이스부(131)와 접촉부(132)와 자석부(133)를 포함한다.

베이스부(131)는 바(Bar) 형상으로 마련되어 상술한 회전부(120)에 연결되는 것으로써, 회전부(120)에 의해 회전된다. 또한, 베이스부(131)의 양단부에는 후술하는 접촉부(132)가 각각 설치된다. 한편, 베이스부(131)에는 후술하는 자석부(133)가 설치되는데, 자석부(133)는 상술한 몸체부(111)의 원판형 플레이트에 설치된 조절부(140)에 대응되는 위치에 배치된다.

접촉부(132)는 회전부(120)에 의해 베이스부(131)가 회전되는 경우, 회전되어 팁(t)에 접촉하는 것으로써, 접촉에 따라 팁(t)에 형성된 파티클(P)을 제거한다. 이러한 접촉부(132)는 베이스부(131)의 양단부에 각각 설치된다.

한편, 상술한 접촉부(132)는 일측에 홈을 형성할 수 있다. 이러한 홈은 팁(t)에 대응되는 위치에 형성되는데, 이러한 팁(t)에 의해서, 접촉부(132)와 팁(t)의 간섭이 감소되며, 이에 따라, 브러시부(130)가 원할하게 회전될 수 있다.

자석부(133)는 자성체로 마련되는 것으로써, 상술한 베이스부(131)에 설치된다. 이러한 자석부(133)는 상술한 바와 같이, 몸체부(111)의 원판형 플레이트에 설치된 조절부(140)에 대응되는 위치에 배치된다.

따라서, 상술한 베이스부(131)와 접촉부(132)와 자석부(133)를 포함하는 브러시부(130)에 따르면, 팁(t)에 형성된 파티클(P)이 효과적으로 제거될 수 있다.

조절부(140)는 회전부(120)가 정지하는 경우, 브러시부(130)가 팁(t)에 접촉되지 않도록 브러시의 위치를 조절하는 것으로써, 상술한 몸체부(111)의 원판형 플레이트에 설치된다. 또한, 상술한 조절부(140)는 복수개로 마련되어 회전부(120)의 외주면을 따라 설치된다.

한편, 팁(t)은 몸체부(111)의 회전공간을 형성하는 내주면을 따라 설치되는데, 이때, 팁(t)은 복수개의 조절부(140) 사이의 공간에서 몸체부(111)의 회전공간을 형성하는 내주면의 방향으로 수직하게 연장되는 가상의 직선과 내주면과 접하는 지점에 설치된다.

따라서, 회전부(120)가 정지하는 경우, 브러시부(130)에 설치된 자석부(133)는 조절부(140)와의 자기력에 의해 조절부(140) 측으로 이동한 후, 조절부(140)와 마주하게 배치된 상태로 정지(위치가 고정)하게 된다. 상술한 과정에 따라, 접촉부(132)는 팁(t)과 팁(t) 사이의 공간에 위치, 고정된다.

즉, 상술한 과정에 따르면, 회전부(120)가 정지될 때에 접촉부(132)가 팁(t)에 접촉되는 경우, 자기력에 의해 접촉부(132)가 팁(t)과 팁(t) 사이의 공간으로 이동되어 그 위치가 고정될 뿐만 아니라, 접촉부(132)가 중력, 또는 기타 외력에 의해서 다시 팁(t) 측으로 접근하는 것도 효과적으로 방지된다.

상술한 바와 같은 본체부(110)와 회전부(120)와 브러시부(130)와 조절부(140)를 포함하는 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치(100)에 따르면, 회전부(120)가 정지하는 경우 브러시부(130)의 위치가 조절됨으로써, 브러시부(130)가 팁(t)에 접촉, 간섭되지 않아 팁(t)에서의 코로나 방전이 효과적으로 실시될 수 있다.

또한, 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치(100)에 따르면, 팁(t)에 파티클(P)이 효과적으로 제거되므로, 이오나이저의 출력 향상, 감쇠시간(Decay time)의 감소 및 제전거리의 증가 등의 효과가 있다.

지금부터는 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 동작에 대해서 상세히 설명한다.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제1동작을 도시한 것이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제2동작을 도시한 것이고, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치의 제3동작을 도시한 것이다.

도 6에 도시된 바와 같이, 코로나 방전이 정지되면, 회전부(120)가 제어부(미도시)에 의해 구동되어 브러시부(130)가 회전한다. 이러한 브러시부(130)의 회전에 따라 팁(t)에 형성된 파티클(P)이 제거되며, 제거된 파티클(P)은 몸체부(111)에 형성된 관통홀(111a)을 통해 외부로 배출된다.

도 7에 도시된 바와 같이, 클리닝이 적절하게 실시되고 나면, 제어부(미도시)에 의해서 회전부(120)가 정지한다. 이때, 접촉부(132)가 팁(t)에 접촉한 상태의 위치에서 브러시부(130)가 정지될 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이, 조절부(140)와 자석부(133)의 자성에 의해서, 브러시부(130)가 조절부(140) 측으로 회전하게 된다. 한편, 팁(t)은 복수개의 조절부(140) 사이의 공간에서 몸체부(111)의 회전공간을 형성하는 내주면의 방향으로 수직하게 연장되는 가상의 직선과 내주면과 접하는 지점에 설치되므로, 상술한 과정에 따라, 접촉부(132)는 팁(t)과 팁(t) 사이의 공간에 위치, 고정된다.

즉, 상술한 과정에 따르면, 회전부(120)가 정지될 때에 접촉부(132)가 팁(t)에 접촉되는 경우, 자기력에 의해 접촉부(132)가 팁(t)과 팁(t) 사이의 공간으로 이동되어 그 위치가 고정될 뿐만 아니라, 접촉부(132)가 중력, 또는 기타 외력에 의해서 다시 팁(t) 측으로 접근하는 것도 효과적으로 방지된다.

따라서, 상술한 바와 같은 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치(100)의 동작에 따르면, 회전부(120)가 정지하는 경우 브러시부(130)의 위치가 조절됨으로써, 브러시부(130)가 팁(t)에 접촉, 간섭되지 않아 팁(t)에서의 코로나 방전이 효과적으로 실시될 수 있다.

이상에서, 본 발명의 실시 예를 구성하는 모든 구성 요소들이 하나로 결합하거나 결합하여 동작하는 것으로 설명되었다고 해서, 본 발명이 반드시 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 목적 범위 안에서라면, 그 모든 구성요소들이 하나 이상으로 선택적으로 결합하여 동작할 수도 있다.

또한, 이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재할 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미가 있다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

그리고 이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.

따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

100 : 본 발명의 일실시예에 따른 파티클 클리닝 포집 장치
110 : 본체부
111 : 몸체부
111a: 관통홀
112 : 상판부
113 : 하판부
120 : 회전부
130 : 브러시부
131 : 베이스부
132 : 접촉부
133 : 자석부
140 : 조절부
t : 팁
P : 파티클
I : 이오나이저
f : 흡입팬

Claims (5)

1. 팁이 설치되는 본체부;
   상기 본체부에 설치되며, 회전력을 제공하는 회전부;
   상기 본체부에 설치되며, 상기 회전부에 의해 회전되어 상기 팁에 형성된 파티클을 제거하는 브러시부; 및
   상기 회전부가 정지하는 경우, 상기 브러시부가 상기 팁에 접촉되지 않도록 상기 브러시부의 위치를 조절하는 조절부를 포함하되,
   상기 브러시부는,
   상기 회전부에 연결되는 베이스부와, 상기 팁에 접촉되도록 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 접촉부와, 한쌍의 자성체로 마련되어 상기 베이스부의 양단부에 각각 설치되는 자석부를 포함하며,
   상기 조절부는,
   자성력에 의해 상기 자석부에 붙도록 자성체로 마련되되 복수개로 마련되어 상기 회전부의 원주면을 따라 각각 설치되며,
   상기 팁은,
   복수개의 상기 조절부 사이의 공간에 마주되도록 상기 본체부에 설치되는 것을 특징으로 하는 파티클 클리닝 포집 장치.
   
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