KR101916620B1 - Transparent base having stain-proof film attached thereto - Google Patents

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Abstract

(해결 수단) 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와, 상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고, 상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공한다.A transparent base body having a first main surface and a second main surface opposed to the first main surface, the surface of the first main surface being embossed and embroidered; and an antifouling film formed on the first main surface side of the transparent substrate, Wherein the antifouling film has a surface roughness RMS of 0.05 mu m or more and 0.25 mu m or less and an average length RSm of the elements of the roughness curve is 10 mu m or more and 40 mu m or less.

Description

방오막이 형성된 투명 기체{TRANSPARENT BASE HAVING STAIN-PROOF FILM ATTACHED THERETO}{TRANSPARENT BASE HAVING STAIN-PROOF FILM ATTACHED THERETO}

본 발명은, 방오막이 형성된 투명 기체에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent substrate on which an antifouling film is formed.

최근에 특히 휴대 디바이스나, 차재용 기기에 있어서 액정 디스플레이 등의 각종 표시 장치가 많이 사용되게 되었다. 이와 같은 표시 장치에 있어서는, 그 커버 부재로서 종래부터 투명 기체를 배치한 구성이 채용되고 있다. 또, 투명 전극이 형성된 터치 패널과 커버 유리가 일체화된 기판 구성도 알려져 있다.2. Description of the Related Art In recent years, various display devices such as a liquid crystal display have been widely used particularly in portable devices and in-vehicle devices. In such a display device, a configuration in which a transparent substrate is conventionally disposed as the cover member is employed. Also known is a substrate structure in which a touch panel having a transparent electrode and a cover glass are integrated.

이와 같은 표시 장치에 있어서는, 투명 기체 표면에 사람의 손가락 등이 닿을 기회가 많고, 사람의 손가락 등이 닿는 경우에 투명 기체 표면에 기름기 등이 부착되기 쉽다. 그리고, 기름기 등이 부착된 경우에는 시인성에 영향을 미치는 점에서, 투명 기체의 표면에 방오 처리가 실시된 것이 사용되고 있다.In such a display device, there is a large chance that a finger of a person touches the surface of the transparent substrate, and when the finger or the like of a person touches the surface of the transparent substrate, grease or the like tends to adhere to the surface of the transparent substrate. In the case where an oil or the like is adhered, the surface of the transparent substrate is subjected to an antifouling treatment because it affects the visibility.

표면에 방오 처리를 실시한 투명 기체로서, 예를 들어 특허문헌 1 에는, 요철 형상을 갖는 유리 기판의 표면에 발수층을 형성한 발수성 유리가 개시되어 있다.As a transparent substrate subjected to an antifouling treatment on its surface, for example, Patent Document 1 discloses a water repellent glass in which a water repellent layer is formed on the surface of a glass substrate having a concavo-convex shape.

또한, 발수층을 형성한 발수성 유리에 있어서는, 발수제와 유리의 접착력이 약하기 때문에 발수 성능을 유지하기 곤란한 점에서, 그 내구성을 높이기 위해, 유리 기판의 표면 형상을 소정 형상으로 하는 방법이 검토되어 왔다 (예를 들어 특허문헌 2).In addition, in the water-repellent glass in which the water-repellent layer is formed, it is difficult to maintain the water-repellent performance because the adhesion between the water-repellent agent and the glass is weak, so that a method of setting the surface shape of the glass substrate to a predetermined shape has been studied (For example, Patent Document 2).

일본 공개특허공보 평07-126041호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 07-126041 일본 공개특허공보 평11-171594호Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-171594

그러나, 특허문헌 2 의 발수성 유리는, 방풍 유리나, 창유리판 등의 용도를 목적으로 개발된 것으로서, 표시 장치 등의 투명 기체로서 사용하는 것은 예정되지 않았다.However, the water-repellent glass of Patent Document 2 has been developed for the purpose of windshield glass, window glass plate, and the like, and is not intended to be used as a transparent substrate for a display device or the like.

이 때문에, 액정 디스플레이 등의 표시 장치의 커버 부재나 터치 패널의 투명 전극과 일체화하는 커버 유리로서 이러한 발수성 유리를 사용한 경우, 방현 특성이 거의 없기 때문에 주위의 광이 비쳐, 표시 부분에 대한 시인성이 저하된다는 문제가 있었다.Therefore, when such a water-repellent glass is used as a cover glass integrated with a cover member of a display device such as a liquid crystal display or a transparent electrode of a touch panel, there is little antiglare property, so ambient light is reflected, .

또, 상기와 같이 특허문헌 2 의 발수성 유리는 창유리 등, 사람의 손에 닿을 기회가 적은 부분에 사용하는 것을 예정한 발수성 유리이기 때문에, 표시 장치와 같이 보다 높은 빈도로 사람 손에 닿을 가능성이 있는 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 사용하기에는, 내구성이 충분하지 않았다.In addition, as described above, the water-repellent glass of Patent Document 2 is a water-repellent glass intended to be used in a part where chances of reaching human hands are small, such as a windowpane, and therefore, Durability was not sufficient for use as a substrate integrated with a cover member or a touch panel.

본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 문제를 감안하여, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the problems of the prior art, it is an object of the present invention to provide a transparent base having an anti-fouling film having an anti-fouling characteristic and an enhanced durability.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와,In order to solve the above-described problems, the present invention provides a transparent substrate having a first main surface and a second main surface opposed to the first main surface,

상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고,And a fluorine-containing organic silicon compound coating film which is an antifouling film formed on the first main surface side of the transparent substrate,

상기 제 1 주면의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 15 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하이고,Wherein the surface roughness RMS of the first main surface is 0.05 탆 or more and 0.25 탆 or less and the mean length RSm of the elements of the roughness curve is 15 탆 or more and 40 탆 or less,

상기 투명 기체가 유리 기판인, 방오막이 형성된 투명 기체를 제공한다.Wherein the transparent substrate is a glass substrate, and the antifouling film is formed.

본 발명에 있어서는, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공할 수 있다.In the present invention, it is possible to provide a transparent substrate having an anti-fouling film having an anti-fouling characteristic and an enhanced antifouling film durability.

도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 방오막이 형성된 투명 기체의 구성의 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 방오막이 형성된 투명 기체의 구성의 설명도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is an explanatory diagram of the configuration of a transparent substrate having an antifouling film according to a first embodiment of the present invention; Fig.
2 is an explanatory diagram of the configuration of a transparent substrate having an antifouling film according to a second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해 도면을 참조하여 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시형태에 제한되지는 않으며, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고 하기의 실시형태에 다양한 변형 및 치환을 부가할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions may be made without departing from the scope of the present invention. can do.

[제 1 실시형태][First Embodiment]

본 실시형태에서는, 본 발명의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 설명한다.In the present embodiment, the transparent substrate on which the antifouling film of the present invention is formed will be described.

본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체는, 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와, 상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고 있다. 그리고, 상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인 것을 특징으로 한다.The transparent substrate on which the antifouling film is formed according to the present embodiment comprises a transparent substrate having a first main surface and a second main surface opposed to the first main surface, the surface of the first main surface being subjected to antiglare processing, Containing organic silicon compound coating film which is an antifouling film formed on one main surface side. The surface roughness RMS of the antifouling film is 0.05 μm or more and 0.25 μm or less, and the average length RSm of the elements of the roughness curve is 10 μm or more and 40 μm or less.

본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 도 1 을 사용하여 설명한다. 도 1 은 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 단면도를 모식적으로 나타낸 것으로서, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면측에 방오막 (12) 이 배치된 구성을 갖고 있다. 방오막이 형성된 투명 기체를 구성하는 각 부재에 대해 이하에 설명한다.The transparent substrate on which the antifouling film of this embodiment is formed will be described with reference to Fig. Fig. 1 schematically shows a cross-sectional view of a transparent substrate on which an antifouling film is formed according to the present embodiment. The antifouling film 12 is arranged on the first main surface side of the transparent substrate 11. The respective members constituting the transparent substrate on which the antifouling film is formed will be described below.

먼저, 투명 기체 (11) 의 재료로는 특별히 한정되는 것이 아니며, 적어도 가시광을 투과시키는 각종 투명 기체를 이용할 수 있다. 예를 들어 플라스틱 기판, 유리 기판 등의 각종 재료를 들 수 있다. 그 중에서도 투명성이나 강도 등의 관점에서 투명 기체는 유리 기판인 것이 바람직하다. 이 경우, 유리의 종류는 특별히 한정되는 것이 아니며, 무알칼리 유리나, 소다라임 유리, 알루미노실리케이트 유리 등 각종 유리를 이용할 수 있다. 그 중에서도 그 상면에 형성되는 층 (막) 과의 밀착성의 관점에서, 소다라임 유리를 사용하는 것이 바람직하다.Firstly, the material of the transparent substrate 11 is not particularly limited, and various transparent substrates that transmit at least visible light can be used. For example, various materials such as a plastic substrate and a glass substrate. Among them, the transparent substrate is preferably a glass substrate in view of transparency and strength. In this case, the type of glass is not particularly limited, and various glasses such as alkali-free glass, soda lime glass, and aluminosilicate glass can be used. Among them, from the viewpoint of adhesion with the layer (film) formed on the upper surface thereof, it is preferable to use soda lime glass.

투명 기체 (11) 가 유리 기판인 경우, 투명 기체 자체의 강도의 면에서는, 알루미노실리케이트 유리를 화학 강화 처리한 강화 유리 기판 (예를 들어,「드래곤트레일 (등록 상표)」 등) 을 사용하는 것이 바람직하다.When the transparent substrate 11 is a glass substrate, a tempered glass substrate (for example, "Dragon Trail (registered trademark)") in which an aluminosilicate glass is chemically reinforced is used in terms of strength of the transparent substrate itself .

화학 강화 처리란, 유리 표면의 이온 반경이 작은 알칼리 이온 (예를 들어, 나트륨 이온) 을 이온 반경이 큰 알칼리 이온 (예를 들어, 칼륨 이온) 으로 치환시키는 처리를 말한다. 예를 들어, 나트륨 이온을 함유하는 유리를 칼륨 이온을 함유하는 용융염으로 처리함으로써 화학 강화할 수 있다. 이와 같은 화학 강화 처리 후의 유리 기판 표면의 압축 응력층의 조성은 화학 강화 처리 전의 조성과 약간 상이하지만, 기판 심층부의 조성은 화학 강화 처리 전의 조성과 거의 동일하다.The chemical strengthening treatment refers to a treatment for replacing an alkali ion (for example, sodium ion) having a small ionic radius on a glass surface with an alkali ion (for example, potassium ion) having a large ionic radius. For example, a glass containing sodium ions can be chemically strengthened by treating it with a molten salt containing potassium ions. The composition of the compressive stress layer on the surface of the glass substrate after such chemical strengthening treatment is slightly different from the composition before the chemical strengthening treatment, but the composition of the substrate deep layer portion is almost the same as that before chemical strengthening treatment.

화학 강화의 조건으로는 특별히 한정되는 것이 아니며, 화학 강화에 제공하는 유리의 종류나 요구되는 화학 강화의 정도 등에 따라 선택할 수 있다.The conditions of the chemical strengthening are not particularly limited, and can be selected depending on the type of the glass provided for chemical strengthening, the degree of chemical strengthening required, and the like.

화학 강화 처리를 실시하기 위한 용융염으로는, 화학 강화에 제공하는 유리 기판에 따라 선택하면 된다. 예를 들어, 질산칼륨, 황산나트륨, 황산칼륨, 염화나트륨 및 염화칼륨 등의 알칼리 황산염 및 알칼리 염화염 등을 들 수 있다. 이들 용융염은 단독으로 사용해도 되고, 복수 종을 조합하여 사용해도 된다.The molten salt for carrying out the chemical strengthening treatment may be selected according to the glass substrate provided for the chemical strengthening. Examples thereof include alkali sulfate and alkali salt such as potassium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, sodium chloride and potassium chloride. These molten salts may be used alone or in combination of plural kinds.

용융염의 가열 온도는 350 ℃ 이상이 바람직하고, 380 ℃ 이상이 보다 바람직하다. 또, 500 ℃ 이하가 바람직하고, 480 ℃ 이하가 보다 바람직하다.The heating temperature of the molten salt is preferably 350 DEG C or higher, more preferably 380 DEG C or higher. The temperature is preferably 500 占 폚 or lower, more preferably 480 占 폚 or lower.

용융염의 가열 온도를 350 ℃ 이상으로 함으로써, 이온 교환 속도의 저하에 의해 화학 강화가 잘 들어가지 않게 되는 것을 방지한다. 또, 500 ℃ 이하로 함으로써 용융염의 분해·열화를 억제할 수 있다.By setting the heating temperature of the molten salt to 350 DEG C or more, it is prevented that the chemical strengthening is prevented from entering by the lowering of the ion exchange rate. When the temperature is lower than or equal to 500 ° C, decomposition and deterioration of the molten salt can be suppressed.

또, 유리 기판을 용융염에 접촉시키는 시간은, 충분한 압축 응력을 부여하기 위해서는, 1 시간 이상이 바람직하고, 2 시간 이상이 보다 바람직하다. 또, 장시간의 이온 교환에서는, 생산성이 떨어짐과 함께, 완화에 의해 압축 응력값이 저하되기 때문에, 24 시간 이하가 바람직하고, 20 시간 이하가 보다 바람직하다.The time for bringing the glass substrate into contact with the molten salt is preferably not less than 1 hour, more preferably not less than 2 hours, in order to impart sufficient compressive stress. Further, in the long-term ion exchange, the productivity is lowered and the compressive stress value is lowered by relaxation. Therefore, the period of 24 hours or less is preferable, and 20 hours or less is more preferable.

투명 기체의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것이 아니며, 각종 형상의 투명 기체를 이용할 수 있다.The shape of the transparent substrate is not particularly limited, and transparent substrates of various shapes can be used.

투명 기체 (11) 는, 상기 서술한 바와 같이, 제 1 주면 (11A) 과, 이것에 대향하는 제 2 주면 (11B) 을 갖고 있다. 그리고, 제 1 주면 (11A) 에는 원하는 요철 형상을 형성하는 방현 가공이 실시되어 있다. 이 때, 제 1 주면 (11A) 의 표면 조도인 RMS 를 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하, 제 1 주면 (11A) 의 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 을 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써, 후술하는 방오막의 표면 조도 RMS, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 을 원하는 범위로 할 수 있다.As described above, the transparent substrate 11 has a first main surface 11A and a second main surface 11B opposed to the first main surface 11A. The first main surface 11A is subjected to embossing processing to form a desired concavo-convex shape. At this time, it is preferable that the surface roughness RMS of the first main surface 11A is not less than 0.05 mu m and not more than 0.25 mu m, and the average length RSm of the elements of the roughness curve of the first main surface 11A is not less than 10 mu m and not more than 40 mu m . By setting this range, the surface roughness RMS of the antifouling film to be described later and the average length RSm of the elements of the roughness curve can be set in a desired range.

여기서, 표면 조도 RMS 란, 기준면 (여기서는 표면 처리 전의 기판 표면) 으로부터의 요철의 평균 깊이이다. 또한, 제곱 평균 조도라고도 하며, Rq 로 나타내는 경우도 있다. 또 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이란, 기준면 상에 취한 기준 길이에 포함되는 조도 곡선에 있어서, 일 주기분의 요철이 발생하는 기준면 상의 길이를 평균낸 길이이다. 표면 조도 RMS (㎛) 및 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 은, JIS B 0601 (2001) 에서 규정되는 방법에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.Here, the surface roughness RMS is an average depth of irregularities from a reference surface (surface of the substrate before surface treatment in this case). Also, it may be referred to as a square-average roughness or Rq. The average length RSm of the elements of the roughness curve is a length obtained by averaging the length on the reference surface on which protrusions and protrusions occur for one cycle in the roughness curve included in the reference length taken on the reference surface. The surface roughness RMS (占 퐉) and the average length RSm of the elements of the roughness curve can be measured by a method in accordance with the method specified in JIS B 0601 (2001).

이것은, 본 발명의 발명자들이 방오막이 형성된 투명 기체에 있어서, 방오막의 내구성을 높이기 위해 검토를 실시한 결과, 제 1 주면 (11A) 의 표면 특성이 상기 특성을 가짐으로써, 방현 특성에 추가하여, 종래의 방오막이 형성된 투명 기체와 비교하여 방오막의 내구성이 특히 향상되는 것을 알아낸 것이다.This is because the inventors of the present invention have conducted studies to improve the durability of the antifouling film in the transparent substrate on which the antifouling film has been formed. As a result, the surface characteristics of the first main surface 11A have the above characteristics, The inventors have found that the durability of the antifouling film is particularly improved as compared with the transparent substrate having the antifouling film formed thereon.

방오막은 투명 기체의 제 1 주면측에 형성되어 있고, 방오막은 투명 기체의 표면 형상을 트레이스하기 때문에, 방오막 표면도 투명 기체와 거의 동일한 표면 조도의 특성을 갖고 있다.Since the antifouling film is formed on the first main surface side of the transparent substrate and the antifouling film traces the surface shape of the transparent substrate, the surface of the antifouling film also has almost the same surface roughness characteristics as the transparent substrate.

투명 기체의 제 1 주면 (11A) 이 상기 규정을 만족시킴으로써, 종래 사용되었던, RMS 가 0.25 ㎛ 를 초과하거나 또는 RSm 이 40 ㎛ 를 초과하는 방현 가공이 실시된 투명 기체와 비교하여, 투명 기체의 제 1 주면의 미세한 요철에 있어서, 오목부 사이의 피치가 작아지고, 볼록부의 면적이 증대된 것을 의미하고 있다. 그리고, 상기와 같이 방오막의 표면도 동일한 표면 형상을 갖게 된다.Compared with a transparent substrate having an RMS of more than 0.25 mu m or an RSM of more than 40 mu m subjected to antiglare processing, the first main surface 11A of the transparent substrate satisfying the above- Means that the pitch between the concave portions is reduced and the area of the convex portions is increased in the minute unevenness of one main surface. As described above, the surface of the antifouling film also has the same surface shape.

이러한 방오막이 형성된 투명 기체의 표면, 즉, 방오막에 손가락 등이 접촉한 경우, 손가락 등과 접촉하는 방오막의 볼록부의 면적이, 종래의 방오막이 형성된 투명 기체와 비교하여 커졌다. 이 때문에, 손가락 등에 의해 방오막이 형성된 투명 기체의 표면 (방오막) 부분에 가해지는 힘이 분산되어, 방오막에 가해지는 압력을 저감시킬 수 있고, 방오막의 박리, 마모를 억제할 수 있는 것으로 추인된다.When the surface of the transparent substrate on which the antifouling film is formed, that is, the finger or the like, is in contact with the antifouling film, the area of the convex portion of the antifouling film contacting the finger or the like is larger than that of the transparent substrate on which the antifouling film is formed. Therefore, the force applied to the surface (antifouling film) portion of the transparent substrate on which the antifouling film is formed by the finger or the like is dispersed, the pressure applied to the antifouling film can be reduced and the peeling and abrasion of the antifouling film can be suppressed do.

조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 이 작을수록, 즉 오목부의 피치가 작을수록, 손가락과의 접촉 면적이 커지고, 내구성이 향상될 것이 추찰된다. 그러나, RSm 을 매우 작게 하기 위해서는, 예를 들어 포토마스크를 사용한 에칭 처리 등을 실시할 필요가 있어, 비용의 관점에서는, RSm 이 10 ㎛ 이상이면 바람직하게 제조할 수 있다. 이 때문에, 방오막을 형성하는 면에 대해, 상기 RSm 범위를 만족시키는 투명 기체를 사용하는 것이 바람직하다.It is envisaged that the smaller the RSm, the average length of the elements of the roughness curve, that is, the smaller the pitch of the concave portions, the larger the contact area with the fingers and the better the durability. However, in order to make RSm very small, etching treatment using a photomask, for example, needs to be performed. From the viewpoint of cost, it is preferable that RSm is 10 m or more. Therefore, it is preferable to use a transparent substrate satisfying the RSm range for the surface on which the antifouling film is formed.

또, RMS, RSm 이 상기 수치 범위에 있는 투명 기체의 경우, 오목부의 피치가 적절한 범위에 있기 때문에, 방현 특성도 갖는 투명 기체로 할 수 있다.In the case of a transparent substrate having RMS and RSm in the above numerical ranges, the transparent substrate having an anti-glare characteristic can be obtained because the pitch of the recesses is within a suitable range.

또한, 제 1 주면 (11A) 의 표면 조도인 RMS 는 0.08 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 이 15 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이들 파라미터를 충족시킴으로써, 방오막의 내구성을 보다 향상시키는 것이 가능해진다.More preferably, the surface roughness RMS of the first main surface 11A is not less than 0.08 mu m and not more than 0.20 mu m, and more preferably the average length RSm of the roughness curve is not less than 15 mu m and not more than 35 mu m. By satisfying these parameters, it is possible to further improve the durability of the antifouling film.

이와 같은 표면 특성을 갖는 투명 기체로 하는 방현 가공 방법은 특별히 한정되는 것이 아니며, 제 1 주면에 대해 표면 처리를 실시하여, 원하는 요철을 형성하는 방법을 이용할 수 있다.The method of embossing with a transparent substrate having such a surface property is not particularly limited, and a method of forming a desired concavity and convexity by applying a surface treatment to the first main surface can be used.

구체적으로는, 투명 기체의 제 1 주면에 대해 프로스트 처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 프로스트 처리는, 예를 들어, 불화수소와 불화암모늄의 혼합 용액에 피처리체인 투명 기체를 침지시켜, 침지면을 화학적으로 표면 처리함으로써 실시할 수 있다.Specifically, the first main surface of the transparent substrate may be subjected to a frost treatment. The frost treatment can be carried out, for example, by immersing the transparent substrate to be treated in a mixed solution of hydrogen fluoride and ammonium fluoride and chemically surface-treating the immersed surface.

또, 이와 같은 화학적 처리에 의한 방법 이외에도, 예를 들어, 결정질 이산화규소분 (粉), 탄화규소분 등을 가압 공기로 투명 기체 표면에 분사하는 이른바 샌드 블라스트 처리나, 결정질 이산화규소분, 탄화규소분 등을 부착시킨 브러시를 물로 적신 것으로 닦는 등의 물리적 처리에 의한 방법도 이용할 수 있다.In addition to the chemical treatment, a so-called sand blast treatment in which a crystalline silicon dioxide powder or a silicon carbide powder is sprayed onto the surface of a transparent substrate with pressurized air, a method in which a crystalline silicon dioxide powder, a silicon carbide powder, A method of physical treatment such as brushing with a brush attached with water or the like may be used.

특히, 불화수소 등의 약액을 사용하여 화학적으로 표면 처리하는 프로스트 처리를 실시하는 방법에서는, 피처리체 표면에 있어서의 마이크로 크랙이 잘 발생하지 않고, 기계적 강도의 저하가 잘 발생하지 않기 때문에, 투명 기체의 표면 처리를 실시하는 방법으로서 바람직하게 이용할 수 있다.Particularly, in the method in which the frost treatment is carried out by chemically surface-treating a chemical liquid such as hydrogen fluoride, microcracks do not easily occur on the surface of the object to be treated and the mechanical strength is not lowered. As a method of performing the surface treatment of the substrate.

이와 같이 하여 요철을 제조한 후, 표면 형상을 가지런히 하기 위해, 유리 표면을 화학적으로 에칭하는 것이 일반적으로 실시되고 있다. 이렇게 함으로써, 에칭량에 의해 헤이즈를 원하는 값으로 조정할 수 있고, 샌드 블라스트 처리 등으로 발생한 크랙을 제거할 수 있으며, 또 번쩍임을 억제할 수 있다.After the irregularities are produced in this way, chemical etching of the glass surface is generally carried out in order to align the surface shape. By doing so, the haze can be adjusted to a desired value by the amount of etching, cracks caused by the sandblast treatment and the like can be removed, and glare can be suppressed.

에칭으로는, 불화수소를 주성분으로 하는 용액에 피처리체인 투명 기체를 침지시키는 방법이 바람직하게 사용된다. 불화수소 이외의 성분으로는, 염산·질산·시트르산 등을 함유해도 된다. 이들을 함유함으로써, 유리에 함유되어 있는 알칼리 성분과 불화수소가 반응하여 석출 반응이 국소적으로 일어나는 것을 억제할 수 있어, 에칭을 면내 균일하게 진행시킬 수 있다.As the etching, a method of immersing a transparent gas to be treated in a solution containing hydrogen fluoride as a main component is preferably used. As the components other than hydrogen fluoride, hydrochloric acid, nitric acid, citric acid, or the like may be contained. By containing them, the alkali component contained in the glass reacts with hydrogen fluoride to suppress the locally occurrence of the precipitation reaction, and the etching can be uniformly advanced in the plane.

투명 기체의 제 2 주면 (11B) 에 대해서는 그 특성은 특별히 한정되는 것이 아니며, 제 1 주면과 동일한 표면 조도 RMS 및 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 을 갖도록 가공을 실시할 수도 있다.The characteristic of the second main surface 11B of the transparent substrate is not particularly limited, and the surface roughness RMS and the average length RSm of the elements of the roughness curve, which are the same as those of the first main surface, may be processed.

또, 투명 기체의 제 2 주면 (11B) 에 터치 패널용 투명 전극을 제조할 수도 있다. 이와 같이, 터치 패널의 투명 전극과 방오막이 형성된 투명 기체가 일체화된 구성으로 함으로써, 보다 더 박형 경량화를 달성할 수 있다. 또한 이 경우에는, 제 2 주면 (11B) 에 대해 상기한 제 1 주면 (11A) 과 동일한 방현 가공은 실시하지 않는 것이 바람직하다.In addition, a transparent electrode for a touch panel may be manufactured on the second main surface 11B of the transparent substrate. In this manner, the transparent electrode of the touch panel and the transparent substrate on which the antifouling film is formed can be integrated, thereby achieving further thinning and weight reduction. In this case, it is preferable not to perform the same embossing processing as that of the first main surface 11A with respect to the second main surface 11B.

그리고, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면 (11A) 측에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이 방오막 (12) 이 형성되어 있다. 방오막 (12) 은 불소 함유 유기 규소 화합물에 의해 구성할 수 있다.On the first main surface 11A side of the transparent substrate 11, an antifouling film 12 is formed as shown in Fig. The antifouling film 12 may be composed of a fluorine-containing organic silicon compound.

여기서, 불소 함유 유기 규소 화합물에 대해 설명한다. 본 실시형태에서 사용하는 불소 함유 유기 규소 화합물로는, 방오성, 발수성, 발유성을 부여하는 것이면 특별히 한정되지 않고 사용할 수 있다.Here, the fluorine-containing organic silicon compound will be described. The fluorine-containing organosilicon compound used in the present embodiment is not particularly limited as long as it imparts antifouling property, water repellency and oil repellency.

이와 같은 불소 함유 유기 규소 화합물로는 예를 들어, 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물을 들 수 있다. 또한, 폴리플루오로폴리에테르기란, 폴리플루오로알킬렌기와 에테르성 산소 원자가 교대로 결합된 구조를 갖는 2 가의 기를 말한다.Examples of such a fluorine-containing organic silicon compound include a fluorine-containing organic silicon compound having at least one group selected from the group consisting of a polyfluoro polyether group, a polyfluoroalkylene group and a polyfluoroalkyl group . Further, the polyfluoropolyether group refers to a divalent group having a structure in which a polyfluoroalkylene group and an etheric oxygen atom are alternately bonded.

이 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물의 구체예로는, 하기 일반식 (Ⅰ) ∼ (Ⅴ) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the fluorine-containing organic silicon compound having at least one group selected from the group consisting of the polyfluoro polyether group, the polyfluoroalkylene group and the polyfluoroalkyl group include the following general formulas (I) to (V) And the like.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112017119997086-pat00001
Figure 112017119997086-pat00001

식 중, Rf 는 탄소수 1 ∼ 16 의 직사슬형의 폴리플루오로알킬기 (알킬기로서, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등), X 는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 저급 알킬기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등), R1 은 가수 분해 가능한 기 (예를 들어, 아미노기, 알콕시기 등) 또는 할로겐 원자 (예를 들어, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등), m 은 1 ∼ 50, 바람직하게는 1 ∼ 30 의 정수 (整數), n 은 0 ∼ 2, 바람직하게는 1 ∼ 2 의 정수, p 는 1 ∼ 10, 바람직하게는 1 ∼ 8 의 정수이다.Rf represents a linear polyfluoroalkyl group having a carbon number of 1 to 16 (for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an isopropyl group or an n-butyl group) (For example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group or an n-butyl group), a hydrolyzable group (for example, an amino group, M is an integer of 1 to 50, preferably an integer of 1 to 30, and n is an integer of 0 to 2, preferably an integer of 1 to 2, or a halogen atom (e.g., fluorine, chlorine, bromine, , and p is an integer of 1 to 10, preferably 1 to 8.

Figure 112017119997086-pat00002
Figure 112017119997086-pat00002

여기서, q 는 1 이상, 바람직하게는 2 ∼ 20 의 정수이다.Here, q is an integer of 1 or more, preferably 2 to 20.

일반식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로는 예를 들어, n-트리플루오로(1,1,2,2-테트라하이드로)프로필실라잔 (n-CF3CH2CH2Si(NH2)3), n-헵타플루오로(1,1,2,2-테트라하이드로)펜틸실라잔 (n-C3F7CH2CH2Si(NH2)3) 등을 예시할 수 있다.A compound represented by the general formula (Ⅱ) are, for example, with trifluoroacetic n- (1,1,2,2-tetrahydro) propyl silazane (n-CF 3 CH 2 CH 2 Si (NH 2) 3) , n-heptafluoro (1,1,2,2-tetrahydro) pentylsilazane (nC 3 F 7 CH 2 CH 2 Si (NH 2 ) 3 ).

Figure 112017119997086-pat00003
Figure 112017119997086-pat00003

여기서, q' 는 1 이상, 바람직하게는 1 ∼ 20 의 정수이다.Here, q 'is an integer of 1 or more, preferably 1 to 20.

일반식 (Ⅲ) 으로 나타내는 화합물로는, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸트리메톡시실란 (n-C8F17CH2CH2Si(OCH3)3) 등을 예시할 수 있다.Examples of the compound represented by the general formula (III) include 2- (perfluorooctyl) ethyltrimethoxysilane (nC 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ) and the like.

[화학식 2](2)

Figure 112017119997086-pat00004
Figure 112017119997086-pat00004

식 (Ⅳ) 중, Rf2 는 -(OC3F6)s-(OC2F4)t-(OCF2)u- (s, t, u 는 각각 독립적으로 0 ∼ 200 의 정수) 로 나타내는 2 가의 직사슬형 폴리플루오로폴리에테르기이고, R2, R3 은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 1 가 탄화수소기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등) 이다. X2, X3 은 독립적으로 가수 분해 가능한 기 (예를 들어, 아미노기, 알콕시기, 아실옥시기, 알케닐옥시기, 이소시아네이트기 등) 또는 할로겐 원자 (예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등) 이고, d, e 는 독립적으로 1 ∼ 2 의 정수이고, c, f 는 독립적으로 1 ∼ 5 (바람직하게는 1 ∼ 2) 의 정수이고, a 및 b 는 독립적으로 2 또는 3 이다.R f2 represents - (OC 3 F 6 ) s - (OC 2 F 4 ) t - (OCF 2 ) u - (s, t and u are each independently an integer of 0 to 200) R 2 and R 3 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an isopropyl group , n-butyl group, etc.). X 2 and X 3 are independently hydrolyzable groups such as an amino group, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkenyloxy group and an isocyanate group, or a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, , Iodine atom and the like), d and e are independently integers of 1 to 2, c and f are independently integers of 1 to 5 (preferably 1 to 2), a and b are independently 2 or 3 to be.

화합물 (Ⅳ) 가 갖는 Rf2 에 있어서 s ＋ t ＋ u 는 20 ∼ 300 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 100 인 것이 보다 바람직하다. 또, R2, R3 으로는, 메틸기, 에틸기, 부틸기가 보다 바람직하다. X2, X3 으로 나타내는 가수 분해성기로는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 특히 바람직하다. 또, a 및 b 는 각각 3 이 바람직하다.In R f2 of the compound (IV), s + t + u is preferably 20 to 300, more preferably 25 to 100. As R 2 and R 3 , a methyl group, an ethyl group and a butyl group are more preferable. As hydrolyzable groups represented by X 2 and X 3 , an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable. Each of a and b is preferably 3.

[화학식 3](3)

Figure 112017119997086-pat00005
Figure 112017119997086-pat00005

식 (Ⅴ) 중, v 은 1 ∼ 3 의 정수이고, w, y, z 는 각각 독립적으로 0 ∼ 200 의 정수이고, h 는 1 또는 2 이고, i 는 2 ∼ 20 의 정수이고, X4 는 가수 분해성기이고, R4 는 탄소수 1 ∼ 22 의 직사슬 또는 분기의 탄화수소기이고, k 는 0 ∼ 2 의 정수이다. w ＋ y ＋ z 는 20 ∼ 300 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 100 인 것이 보다 바람직하다. 또, i 는 2 ∼ 10 인 것이 보다 바람직하다. X4 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 보다 바람직하다. R4 로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 보다 바람직하다.Equation (Ⅴ) of, v is an integer from 1 ~ 3, w, y, z are each independently an integer of 0 ~ 200, h is 1 or 2, i is an integer of 2 ~ 20, X 4 is R 4 is a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and k is an integer of 0 to 2. w + y + z is preferably 20 to 300, more preferably 25 to 100. It is more preferable that i is 2 to 10. X 4 is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. As R 4 , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

또, 시판되고 있는 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물로서, KP-801 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY178 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY-130 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY-185 (상품명, 신에츠 화학사 제조) 옵툴 (등록 상표) DSX 및 옵툴 AES (모두 상품명, 다이킨사 제조) 등을 바람직하게 사용할 수 있다.As the fluorine-containing organosilicon compound having at least one group selected from the group consisting of commercially available polyfluoropolyether groups, polyfluoroalkylene groups and polyfluoroalkyl groups, KP-801 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (Trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-185 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), OPTUL (registered trademark) DSX, Can be preferably used.

또한, 불소 함유 유기 규소 화합물은, 대기 중의 수분과의 반응에 의한 열화 억제 등을 위해 불소계 용매 등의 용매와 혼합하여 보존되고 있는 것이 일반적인데, 이들 용매를 함유한 채로 성막 공정에 제공하면, 얻어진 박막의 내구성 등에 악영향을 미치는 경우가 있다.The fluorine-containing organosilicon compound is generally mixed and stored with a solvent such as a fluorine-based solvent for suppressing deterioration due to reaction with moisture in the atmosphere. When the fluorine-containing organosilicon compound is provided in a film-forming process while containing these solvents, The durability of the thin film may be adversely affected.

이 때문에, 본 실시형태에 있어서는, 가열 용기에서 가열을 실시하기 전에 미리 용매 제거 처리를 실시한 불소 함유 유기 규소 화합물, 또는 용매로 희석되지 않은 (용매를 첨가하지 않은) 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 불소 함유 유기 규소 화합물 용액 중에 함유되는 용매의 농도로서 1 ㏖％ 이하의 것이 바람직하고, 0.2 ㏖％ 이하의 것이 보다 바람직하다. 용매를 함유하지 않는 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.Therefore, in the present embodiment, the fluorine-containing organosilicon compound previously subjected to the solvent removal treatment before the heating in the heating container or the fluorine-containing organosilicon compound not diluted with the solvent (the solvent is not added) is used . For example, the concentration of the solvent contained in the fluorine-containing organic silicon compound solution is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.2 mol% or less. It is particularly preferable to use a fluorine-containing organosilicon compound containing no solvent.

또한, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물을 보존할 때에 사용되고 있는 용매로는, 예를 들어, 퍼플루오로헥산, 메타자일렌헥사플루오라이드 (C6H4(CF3)2), 하이드로플루오로폴리에테르, HFE7200/7100 (상품명, 스미토모 3M 사 제조, HFE7200 은 C4F9C2H5, HFE7100 은 C4F9OCH3 으로 나타낸다) 등을 들 수 있다.Examples of the solvent used for preserving the fluorine-containing organosilicon compound include perfluorohexane, meta xylene hexafluoride (C 6 H 4 (CF 3 ) 2 ), hydrofluoropolyether , HFE7200 / 7100 and the like (trade name, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd., HFE7200 is C 4 F 9 C 2 H 5 , HFE7100 is represented by C 4 F 9 OCH 3).

불소계 용매를 함유하는 불소 함유 유기 규소 화합물 용액으로부터의 용매 (용제) 의 제거 처리는, 예를 들어 불소 함유 유기 규소 화합물 용액을 넣은 용기를 진공 배기시킴으로써 실시할 수 있다.The removal treatment of the solvent (solvent) from the fluorine-containing organic silicon compound solution containing the fluorine-containing solvent can be carried out, for example, by evacuating the vessel containing the fluorine-containing organic silicon compound solution.

진공 배기를 실시하는 시간에 대해서는, 배기 라인, 진공 펌프 등의 배기 능력, 용액의 양 등에 따라 변화하기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 10 시간 정도 이상이어도 된다.The time for performing the vacuum evacuation is not limited because it varies depending on the exhausting ability of the exhaust line, the vacuum pump and the like, the amount of the solution, and the like, but it may be, for example, about 10 hours or more.

본 실시형태의 방오막의 성막 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기와 같은 재료를 사용하여 진공 증착에 의해 성막하는 것이 바람직하다.The method of forming the antifouling film of the present embodiment is not particularly limited, but it is preferable to form the antifouling film by vacuum evaporation using the above-mentioned materials.

또, 상기 용매의 제거 처리는, 방오막을 성막하는 성막 장치의 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물 용액을 도입 후, 승온시키기 전에 실온에서 가열 용기 내를 진공 배기시킴으로써 실시할 수도 있다. 또, 가열 용기에 도입하기 전에 미리 이배퍼레이터 등에 의해 용매 제거를 실시해 둘 수도 있다.The removal treatment of the solvent may be performed by introducing a fluorine-containing organosilicon compound solution into a heating vessel of a film forming apparatus for forming an antifouling film, and evacuating the inside of the heating vessel at room temperature before raising the temperature. In addition, the solvent may be removed beforehand in a heating vessel by using an effervescent apparatus or the like.

단, 전술한 바와 같이 용매 함유량이 적거나 또는 함유하지 않는 불소 함유 유기 규소 화합물은 용매를 함유하고 있는 것과 비교하여, 대기와 접촉함으로써 열화되기 쉽다.However, as described above, the fluorine-containing organosilicon compound having little or no solvent content is liable to be deteriorated by contact with the atmosphere, as compared with a solvent containing the solvent.

이 때문에, 용매 함유량이 적은 (또는 함유하지 않는) 불소 함유 유기 규소 화합물의 보관 용기는 용기 중을 질소 등의 불활성 가스로 치환, 밀폐시킨 것을 사용하여, 취급할 때에는 대기로의 노출, 접촉 시간이 짧아지도록 하는 것이 바람직하다.Therefore, the storage container for the fluorine-containing organosilicon compound having a low content of the solvent (or not containing the solvent) is a container in which the inside of the container is replaced with an inert gas such as nitrogen and sealed, It is preferable to make it shorter.

구체적으로는, 보관 용기를 개봉 후에는 바로 방오막을 성막하는 성막 장치의 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물을 도입하는 것이 바람직하다. 그리고, 도입 후에는, 가열 용기 내를 진공으로 하거나, 질소, 희가스 등의 불활성 가스에 의해 치환시킴으로써, 가열 용기 내에 함유되는 대기 (공기) 를 제거하는 것이 바람직하다. 대기와 접촉시키지 않고 보관 용기 (저장 용기) 로부터 본 제조 장치의 가열 용기에 도입할 수 있도록, 예를 들어 저장 용기와 가열 용기가 밸브가 형성된 배관에 의해 접속되어 있는 것이 보다 바람직하다.Specifically, it is preferable to introduce the fluorine-containing organosilicon compound into the heating container of the film-forming apparatus for forming the antifouling film immediately after opening the storage container. After the introduction, it is preferable to remove the atmosphere (air) contained in the heating container by evacuating the inside of the heating container or by replacing the inside of the heating container with an inert gas such as nitrogen or a rare gas. It is more preferable that the storage container and the heating container are connected by a pipe in which the valve is formed so that the storage container and the heating container can be introduced into the heating container of the manufacturing apparatus from the storage container (storage container) without being brought into contact with the atmosphere.

그리고, 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물을 도입 후, 용기 내를 진공 또는 불활성 가스로 치환시킨 후에는, 바로 성막을 위한 가열을 개시하는 것이 바람직하다.After introducing the fluorine-containing organosilicon compound into the heating vessel, after the inside of the vessel is replaced with a vacuum or an inert gas, heating for film formation is preferably started.

방오막의 성막 방법으로서, 본 실시형태의 설명에서는 용액 또는 원액의 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용한 예를 서술하였지만, 이것에 한정되지는 않는다. 다른 방법으로서 예를 들어, 미리 포러스한 금속 (예를 들어, 주석이나 구리) 이나 섬유상 금속 (예를 들어, 스테인리스스틸) 에 불소 함유 유기 규소 화합물을 일정량 함침시킨, 이른바 증착용 펠릿이 시판되고 있으며 (일례로서, 캐논 옵트론사 제조의 서프클리어), 이것을 사용하는 방법이 있다. 이 경우, 증착 장치의 용량이나 필요 막두께에 따른 양의 펠릿을 증착원으로 하여, 간편하게 방오막을 성막할 수도 있다.As an example of the film forming method of the antifouling film, the description of the present embodiment has been made on the example of using the fluorine-containing organosilicon compound as the solution or the undiluted solution, but the present invention is not limited thereto. As another method, so-called thickening pellets, for example, in which a predetermined amount of a fluorine-containing organosilicon compound is impregnated with a precious metal (for example, tin or copper) or a fibrous metal (for example, stainless steel) (For example, Surf Clear manufactured by Canon Optronics), and a method of using the same. In this case, an antifouling film can be easily formed by using pellets in an amount corresponding to the capacity of the evaporation apparatus or the required film thickness as an evaporation source.

상기 서술한 바와 같이 방오막은 투명 기체의 표면 형상을 그대로 트레이스하기 때문에, 그 표면 특성은, 투명 기체의 표면 조도 RMS, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 과 동등해진다. 이 때문에, 그 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하가 된다. 또, 특히 표면 조도 RMS 는 0.08 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 15 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.As described above, since the antifouling film traces the surface shape of the transparent substrate as it is, the surface characteristics thereof are equivalent to the surface roughness RMS of the transparent substrate and the average length RSm of the elements of the roughness curve. Therefore, the surface roughness RMS is 0.05 μm or more and 0.25 μm or less, and the average length RSm of the elements of the roughness curve is 10 μm or more and 40 μm or less. More preferably, the surface roughness RMS is more preferably 0.08 탆 or more and 0.20 탆 or less, and the average length RSm of the elements of the roughness curve is more preferably 15 탆 or more and 35 탆 or less.

또, 투명 기체와 방오막의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 투명 기체와 방오막 사이에 밀착층을 삽입해도 된다. 밀착층을 삽입하는 경우, 방오막을 성막하기 전에 미리 투명 기재의 제 1 주면에 형성해 두면 된다. 밀착층으로는, 산화규소막이 바람직하게 사용된다. 막두께로는 2 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하, 바람직하게는 5 ㎚ 이상 20 ㎚ 이하이다.In order to improve the adhesion between the transparent substrate and the antifouling film, an adhesive layer may be interposed between the transparent substrate and the antifouling film. In the case of inserting the adhesive layer, the antifouling film may be formed on the first main surface of the transparent substrate before the film formation. As the adhesion layer, a silicon oxide film is preferably used. The film thickness is 2 nm or more and 50 nm or less, preferably 5 nm or more and 20 nm or less.

이상 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 각 부재에 대해 설명해 왔는데, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 헤이즈는 2 ％ 이상 30 ％ 이하인 것이 바람직하다. 헤이즈가 2 ％ 이상이면, 광의 비침을 방현 가공이 실시되지 않은 기판에 비해 육안으로 확인하여 유의하게 억제할 수 있지만, 30 ％ 보다 크면 광을 난반사시키게 되어, 표시 장치의 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 사용한 경우, 표시 장치의 표시의 시인성을 저하시키기 때문이다. 또, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 헤이즈는 15 ％ 이상 27 ％ 이하인 것이 보다 바람직하다.Each of the members of the transparent substrate provided with the antifouling film of this embodiment has been described above. However, the haze of the transparent substrate having the antifouling film of this embodiment is preferably 2% or more and 30% or less. When the haze is 2% or more, the non-reflectance of the light can be visually confirmed and visually suppressed compared with the substrate not subjected to the embroidering processing. However, if the haze is larger than 30%, the light is diffusely reflected, When used as a substrate, the visibility of the display of the display device is lowered. It is more preferable that the haze of the transparent substrate having the antifouling film of the present embodiment is 15% or more and 27% or less.

헤이즈가 상기 범위에 있음으로써 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체가 충분한 방현 특성을 갖는 것을 나타내고 있으며, 표시 장치 등의 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.When the haze is in the above range, the transparent substrate having the antifouling film of the present embodiment shows sufficient antiglare property, and can be more preferably used as a cover member such as a display device or a substrate integrated with a touch panel.

이상 설명해 온 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 의하면, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체로 할 수 있다.According to the transparent substrate provided with the antifouling film of the present embodiment described above, a transparent substrate having an antifouling film having enhanced antifouling film durability can be obtained while having antiglare properties.

[제 2 실시형태][Second Embodiment]

본 실시형태에서는, 제 1 실시형태에 있어서, 저반사막을 추가로 형성한 구성에 대해 설명한다. 그 밖의 구성에 대해서는 제 1 실시형태에서 설명한 바와 같기 때문에, 여기서는 생략한다.In the present embodiment, a configuration in which a low reflection film is additionally formed in the first embodiment will be described. Other configurations are the same as those described in the first embodiment, and therefore are omitted here.

저반사막은 방오막이 형성된 투명 기체 표면에서의 광의 반사를 억제할 수 있기 때문에, 방현 특성을 보다 높이는 것이 가능해진다. 예를 들어 표시 장치의 커버 부재로서 사용한 경우, 주위의 광의 비침을 억제하여, 표시 장치의 표시의 시인성을 보다 높이는 것이 가능해진다.Since the low reflection film can suppress the reflection of light on the surface of the transparent substrate on which the antifouling film is formed, the anti-glare characteristic can be further improved. For example, when the cover member is used as a cover member of a display device, it is possible to suppress visibility of ambient light, and to further improve the visibility of display of the display device.

저반사막의 재료는 특별히 한정되는 것이 아니며, 반사를 억제할 수 있는 재료이면 각종 재료를 이용할 수 있다. 예를 들어 저반사막으로는, 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킨 구성으로 할 수 있다.The material of the low reflection film is not particularly limited, and various materials can be used as long as the material can suppress reflection. For example, as the low reflection film, a high refractive index layer and a low refractive index layer may be laminated.

고굴절률층과 저굴절률층은, 각각 1 층씩 포함하는 형태여도 되지만, 각각 2 층 이상 포함하는 구성이어도 된다. 고굴절률층과 저굴절률층을 각각 2 층 이상 포함하는 경우에는, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층시킨 형태인 것이 바람직하다.Each of the high refractive index layer and the low refractive index layer may include one layer, but each layer may include two or more layers. When two or more high refractive index layers and two low refractive index layers are included, it is preferable that the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated.

충분한 반사 방지 성능으로 하기 위해서는, 저반사막은 복수의 막 (층) 이 적층된 적층체인 것이 바람직하다. 예를 들어 그 적층체는 전체로 2 층 이상 6 층 이하의 막이 적층되어 있는 것이 바람직하고, 2 층 이상 4 층 이하의 막이 적층되어 있는 것이 보다 바람직하다. 여기서의 적층체는, 상기와 같이 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킨 적층체인 것이 바람직하고, 고굴절률층과 저굴절률층의 층수의 총계가 상기 범위인 것이 바람직하다.In order to achieve sufficient antireflection performance, it is preferable that the low reflection film is a laminate in which a plurality of films (layers) are laminated. For example, it is preferable that the laminate has a total of two or more and six or less laminated films, more preferably two or more and four or less laminated films. The laminate here is preferably a laminate obtained by laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer as described above, and it is preferable that the total number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is in the above range.

고굴절률층, 저굴절률층의 재료는 특별히 한정되는 것이 아니며, 요구되는 반사 방지의 정도나 생산성 등을 고려하여 선택할 수 있다. 고굴절률층을 구성하는 재료로는, 예를 들어 산화니오브 (Nb2O5), 산화티탄 (TiO2), 산화지르코늄 (ZrO2), 질화규소 (SiN), 산화탄탈 (Ta2O5) 에서 선택된 1 종 이상을 바람직하게 이용할 수 있다. 저굴절률층을 구성하는 재료로는, 산화규소 (SiO2) 를 바람직하게 이용할 수 있다.The material of the high refractive index layer and the low refractive index layer is not particularly limited and can be selected in consideration of the required degree of antireflection and productivity. A material constituting the high refractive index layer is, for example, from a niobium oxide (Nb 2 O 5), titanium (TiO 2), zirconium oxide (ZrO 2), silicon nitride (SiN), tantalum (Ta 2 O 5) oxide One or more selected from among the above-mentioned compounds can be preferably used. As the material constituting the low refractive index layer, silicon oxide (SiO 2 ) can be preferably used.

고굴절률층으로는, 생산성이나 굴절률의 정도에서, 특히 산화니오브를 바람직하게 이용할 수 있다. 이 때문에, 상기 저반사막은 산화니오브층과 산화규소층의 적층체인 것이 보다 바람직하다.As the high refractive index layer, niobium oxide can be preferably used particularly in terms of productivity and degree of refractive index. Therefore, it is more preferable that the low reflection film is a laminate of a niobium oxide layer and a silicon oxide layer.

본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 있어서, 저반사막을 형성하는 장소에 대해서는 특별히 한정되는 것이 아니며, 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 및/또는 제 2 주면 (11B) 에 배치 형성할 수 있다. 특히 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 에 형성하는 것이 바람직하다. 예를 들어 도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면 (11A) 의 표면에 (제 1 주면측에서부터) 저반사막 (13), 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 (12) 의 순서로 적층된 구성으로 하는 것이 보다 바람직하다.In the transparent substrate on which the antifouling film of the present embodiment is formed, the place where the low reflection film is formed is not particularly limited, and it may be disposed on the first main surface 11A and / or the second main surface 11B of the transparent substrate . It is particularly preferable to form it on the first main surface 11A of the transparent substrate. The low reflection film 13 and the fluorine-containing organic silicon compound coating 12 are formed on the surface of the first main surface 11A of the transparent substrate 11 (from the first main surface side) in this order It is more preferable to use a laminated structure.

이와 같이 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 상에 저반사막 (13), 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 (방오막) (12) 을 적층시킨 구성으로 함으로써, 저반사막 (13) 에 대해서도 박리되는 것을 방지하여, 내구성을 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다.By forming the low reflection film 13 and the fluorine-containing organic silicon compound film (antifouling film) 12 on the first main surface 11A of the transparent substrate in this way, it is possible to prevent the low reflection film 13 from being peeled off Thereby improving the durability.

또, 방오막의 내구성을 높이는 밀착층을 삽입하는 경우에는, 저반사막과 방오막 사이에 넣는 것이 바람직하다. 이 경우에도 산화실리콘막이 바람직하게 사용되는 재료인데, 상기 예와 같이 저반사막의 최상층도 산화실리콘인 경우, 저반사성과 밀착층의 효과를 동시에 달성할 수 있기 때문에 바람직한 구성이다.In the case of inserting the adhesion layer for enhancing the durability of the antifouling film, it is preferable to be placed between the low reflection film and the antifouling film. Also in this case, a silicon oxide film is preferably used, and when the uppermost layer of the low reflection film is silicon oxide as in the above example, the effect of the low reflection property and the adhesion layer can be simultaneously achieved.

도 2 에 있어서, 저반사막 (13) 은 2 개의 층 (131, 132) 이 적층된 구성으로 하였지만, 이러한 형태에 한정되는 것이 아니며, 상기와 같이 추가로 복수의 층이 적층된 구성으로 할 수도 있다.2, the low reflection film 13 has a structure in which two layers 131 and 132 are laminated. However, the low reflection film 13 is not limited to this configuration, and a structure in which a plurality of layers are stacked as described above may also be used .

또, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해서도 제 1 실시형태에서 설명한 동일한 이유에서 헤이즈는 2 ％ 이상 30 ％ 이하인 것이 바람직하고, 15 ％ 이상 27 ％ 이하인 것이 보다 바람직하다.The haze of the transparent substrate formed with the antifouling film of this embodiment is preferably 2% or more and 30% or less, more preferably 15% or more and 27% or less for the same reason described in the first embodiment.

이상, 본 실시형태에서는, 저반사막을 갖는 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 설명해 왔는데, 이러한 구성을 가짐으로써, 방현 특성을 보다 향상시킬 수 있다. 이 때문에, 표시 장치의 커버 장치나 터치 패널과 일체화된 기판 등, 방현 특성이 특히 요구되는 용도에 있어서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.As described above, in the present embodiment, the transparent substrate having the antifouling film having the low reflection film has been described. By having such a configuration, the antiglare property can be further improved. For this reason, it can be more preferably used in applications in which anti-glare properties are particularly required, such as a cover device of a display device or a substrate integrated with a touch panel.

실시예Example

이하에 구체적인 실시예를 들어 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 예 1 ∼ 예 4 는 실시예, 예 5 ∼ 예 7 은 비교예이다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 4 are Examples, and Examples 5 to 7 are Comparative Examples.

(1) 평가 방법(1) Evaluation method

이하의 예 1 ∼ 예 7 에 있어서 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체의 특성 평가 방법에 대해 이하에 설명한다.A method for evaluating the characteristics of the transparent substrate having the antifouling film obtained in the following Examples 1 to 7 will be described below.

(표면 형상의 측정)(Measurement of surface shape)

예 1 ∼ 예 7 에서 사용한 방오막 성막 후의 시료의 방오막의 표면 형상에 대해, 레이저 현미경 (키엔스사 제조, 상품명 : VK-9700) 을 사용하여, 50 배의 배율로 평면 프로파일을 측정하였다. 그리고, 얻어진 평면 프로파일로부터, JIS B 0601 (2001) 에 기초하여 표면 조도 RMS 및 조도 곡선 요소의 평균 길이 RSm 의 값을 얻었다.The surface profile of the antifouling film of the sample after forming the antifouling film used in Examples 1 to 7 was measured at a magnification of 50 times using a laser microscope (trade name: VK-9700, manufactured by Keyence Corporation). From the obtained planar profile, the values of the surface roughness RMS and the average length RSm of the roughness curve elements were obtained based on JIS B 0601 (2001).

각 예에 있어서 성막되는 방오막이나 저반사막은, 투명 기체의 두께에 대하여 매우 얇은 막이므로, 표면의 요철 구조는 실질적으로 투명 기체의 표면 형상을 그대로 트레이스한다. 따라서, 투명 기재의 (방오막을 형성한 측의 면의) 표면 형상에 대해서도 동등한 것이라고 생각된다.The antifouling film or low reflection film to be formed in each example is a very thin film relative to the thickness of the transparent substrate, so that the concave-convex structure of the surface substantially traces the surface shape of the transparent substrate. Therefore, the surface shape of the transparent substrate (on the side on which the antifouling film is formed) is considered to be equivalent.

(헤이즈의 측정)(Measurement of haze)

실시예, 비교예에 있어서, 방오막을 형성한 후의 시료에 대해 투과 헤이즈의 측정을 실시하였다. 헤이즈의 측정은, 헤이즈미터 (스가 시험기 주식회사 제조, 형식 : HZ-V3) 를 사용하여 실시하였다.In Examples and Comparative Examples, the measurement of the transmission haze was performed on the sample after the formation of the antifouling film. The haze was measured using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., model: HZ-V3).

(문지름 내구성 (내마모성) 시험)(Rub durability (abrasion resistance) test)

예 1 ∼ 예 7 에 있어서 방오막 성막 후의 시료에 대해, 그 시료의 방오막에 대해 문지름 내구성 시험을 이하의 순서에 의해 실시하였다.With respect to the samples after the antifouling film formation in Examples 1 to 7, the antifouling film of the samples was subjected to the rubbing durability test in the following procedure.

먼저, 예 1 ∼ 7 의 방오막에 대해 이하의 순서에 의해 문지름 시험을 실시하였다.First, the antifouling films of Examples 1 to 7 were rubbed by the following procedure.

바닥면이 10 ㎜ × 10 ㎜ 인 평면 금속 압자의 표면에 스틸울 ＃0000 을 장착하여, 샘플을 문지르는 마찰자로 하였다.A steel wool # 0000 was attached to the surface of a flat metal indenter having a bottom surface of 10 mm x 10 mm, and the rubbing member was rubbed with the sample.

다음으로, 상기 마찰자를 사용하여 평면 마모 시험기 3 련식 (타이에이 과학 정기사 제조, 형식 : PA-300A) 으로 문지름 시험을 실시하였다. 구체적으로는, 먼저 상기 압자의 바닥면이 샘플의 방오막면에 접촉하도록 마모 시험기에 장착하고, 마찰자에 대한 가중이 1000 g 이 되도록 추를 얹고, 평균 속도 6400 ㎜/min, 편도 40 ㎜ 로 왕복 슬라이딩하였다. 왕복 1 회를 문지름 횟수 1 회로 세어, 문지름 횟수 1000 회가 되도록 시험을 실시하였다.Next, a rubbing test was conducted using the above-mentioned rubbing member in a plane abrasion tester 3 (manufactured by Taejon Scientific Co., model: PA-300A). Specifically, first, the indenter of the indenter was brought into contact with the surface of the antifouling film of the sample, the weight was placed on the friction tester so that the weight of the rubbing member was 1000 g, and the average speed was 6400 mm / Respectively. One round trip was counted as one round of rubbing, and the test was conducted so that the number of rubbing was 1,000 times.

그 후, 방오막에 대해 이하의 순서에 의해 수 접촉각의 측정을 실시하였다.Thereafter, the water contact angle of the antifouling film was measured by the following procedure.

방오막의 수 접촉각의 측정은, 자동 접촉각계 (쿄와 계면 과학사 제조, 형식 : DM-501) 를 사용하여, 방오막 상에 순수 1 ㎕ 를 적하하고, 그 접촉각을 측정함으로써 실시하였다. 측정시에는, 각 시료에 대해 방오막 표면의 10 개 지점에서 측정을 실시하고, 그 평균값을 당해 시료의 내구성 시험 후의 수 접촉각으로 하였다.The water contact angle of the antifouling film was measured by dropping 1 占 퐇 of pure water onto the antifouling film using an automatic contact meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model: DM-501) and measuring the contact angle thereof. At the time of measurement, measurements were made at ten points on the surface of the antifouling film with respect to each sample, and the average value was defined as the water contact angle after the endurance test of the sample.

이 때, 수 접촉각이 90°이상을 합격으로 하고, 90°이하를 불합격으로 하여 평가하였다.At this time, the water contact angle was evaluated as 90 degrees or more and 90 degrees or less as the rejection.

(2) 실험 순서(2) Procedure of experiments

[예 1][Example 1]

이하의 순서에 의해, 방오막이 형성된 투명 기체를 제조하였다.A transparent substrate on which an antifouling film was formed was produced in the following procedure.

본 예에서는 투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 소정의 프로스트 처리가 된 유리 기판 (이하, 투명 기체 A 로 한다) 을 사용하였다.In this example, a glass substrate (trade name: Dragon Trail (registered trademark) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) subjected to chemical strengthening treatment as a transparent substrate is used, and a glass substrate Hereinafter referred to as transparent gas A) was used.

그리고, 투명 기체 A 의 제 1 주면에 이하의 순서에 의해 방오막을 성막하였다.Then, an antifouling film was formed on the first main surface of the transparent substrate A by the following procedure.

먼저, 증착 재료로서, 불소 함유 유기 규소 화합물 (신에츠 화학사 제조, 상품명 : KY-185) 을 가열 용기 내에 도입하였다. 그 후, 가열 용기 내를 진공 펌프로 10 시간 이상 탈기시키고 용액 중의 용매 제거를 실시하여 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 형성용 조성물로 하였다.First, a fluorine-containing organosilicon compound (trade name: KY-185, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was introduced into a heating container as an evaporation material. Thereafter, the inside of the heating container was degassed with a vacuum pump for at least 10 hours, and the solvent was removed from the solution to obtain a fluorine-containing organic silicon compound film-forming composition.

이어서, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물이 들어 있는 가열 용기를 270 ℃ 까지 가열하였다. 270 ℃ 에 도달한 후, 온도가 안정될 때까지 10 분간 그 상태를 유지하였다.Subsequently, the heating container containing the composition for forming a fluorine-containing organic silicon compound film was heated to 270 캜. After reaching 270 占 폚, the state was maintained for 10 minutes until the temperature stabilized.

그리고, 진공 챔버 내에 설치된 투명 기체 A 의 제 1 주면 (프로스트 처리된 면) 에 대해, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물이 들어 있는 가열 용기와 접속된 노즐로부터, 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물을 공급하여, 성막을 실시하였다.Then, from the nozzle connected to the heating vessel containing the composition for forming a fluorine-containing organic silicon compound film, a fluorine-containing organic silicon compound film (fluorine-containing organic silicon compound film) was formed on the first main surface And the film formation was carried out.

성막시에는, 진공 챔버 내에 설치된 수정 진동자 모니터에 의해 막두께를 측정하면서 실시하고, 투명 기체 A 상에 형성된 불소 함유 유기 규소 화합물막의 막두께가 10 ㎚ 가 될 때까지 성막을 실시하였다.The film formation was carried out while measuring the film thickness by a quartz oscillator monitor provided in a vacuum chamber and the film formation was carried out until the film thickness of the fluorine-containing organic silicon compound film formed on the transparent substrate A became 10 nm.

불소 함유 유기 규소 화합물막이 10 ㎚ 가 된 시점에서 노즐로부터 원료의 공급을 정지시키고, 진공 챔버로부터 불소 함유 유기 규소 화합물막이 형성된 투명 기체 A 를 꺼냈다.At the time when the fluorine-containing organic silicon compound film became 10 nm, the supply of the raw material from the nozzle was stopped, and the transparent substrate A on which the fluorine-containing organic silicon compound film was formed was taken out from the vacuum chamber.

꺼내어진 불소 함유 유기 규소 화합물막이 형성된 투명 기체 A 는, 핫 플레이트에 막면을 상향으로 하여 설치하고, 대기 중에서 150 ℃, 60 분간 열처리를 실시하였다.The transparent substrate A on which the fluorine-containing organosilicon compound film was taken out was placed on the hot plate with the film surface facing upward, and heat treatment was performed at 150 ° C for 60 minutes in the atmosphere.

이와 같이 하여 얻어진 시료에 대해 상기 표면 형상의 측정, 헤이즈의 측정, 문지름 내구성 시험을 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The thus obtained sample was subjected to measurement of the surface shape, measurement of haze, and rubbing durability test. The results are shown in Table 1.

[예 2][Example 2]

투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 B 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 B 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Dragon Trail (registered trademark)) subjected to a chemical strengthening treatment as a transparent substrate was used and a transparent substrate B subjected to frost treatment was used on the first main surface of the glass substrate, An antifouling film was formed on the first main surface of the transparent substrate B. The obtained transparent substrate on which the antifouling film had been formed was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[예 3][Example 3]

투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 C 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 C 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Dragon Trail (registered trademark)) subjected to a chemical strengthening treatment as a transparent substrate was used and a transparent substrate C frosted on the first main surface of the glass substrate was used, An antifouling film was formed on the first main surface of the transparent substrate C. The obtained transparent substrate on which the antifouling film had been formed was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[예 4][Example 4]

투명 기체 A 상에 이하와 같이 하여 저반사막을 성막하였다.A low reflection film was formed on the transparent substrate A in the following manner.

먼저, 아르곤 가스에 10 체적％ 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 산화니오브 타깃 (AGC 세라믹스사 제조, 상품명 NBO 타깃) 을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 투명 기체 A 의 제 1 주면 상에 두께 13 ㎚ 의 산화니오브 (니오비아) 로 이루어지는 고굴절률층을 형성하였다.First, a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a power density of 3.8 W / cm < 2 > was measured using a niobium oxide target (NBO target manufactured by AGC Ceramics Co., Ltd.) while introducing a mixed gas obtained by mixing 10% Cm 2 and an inverted pulse width of 5 μsec to form a high refractive index layer made of niobium oxide (niobia) having a thickness of 13 nm on the first main surface of the transparent substrate A.

이어서, 아르곤 가스에 40 체적％ 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 실리콘 타깃을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 상기 고굴절률층 상에 두께 30 ㎚ 의 산화규소 (실리카) 로 이루어지는 저굴절률층을 형성하였다.Subsequently, while introducing a mixed gas in which argon gas was mixed with 40% by volume of oxygen gas, a silicon target was used and pulsed at a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a power density of 3.8 W / cm 2, And a width of 5 占 퐏 ec to form a low refractive index layer made of silicon oxide (silica) having a thickness of 30 nm on the high refractive index layer.

이어서 아르곤 가스에 10 체적％ 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 산화니오브 타깃 (AGC 세라믹스사 제조, 상품명 NBO 타깃) 을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 상기 저굴절률층 상에 두께 110 ㎚ 의 산화니오브 (니오비아) 로 이루어지는 고굴절률층을 형성하였다.A pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, and a power density of 3.8 W / cm < 2 > using a niobium oxide target (NBO target manufactured by AGC Ceramics Co., Ltd.) while introducing a mixed gas obtained by mixing 10% And an inverted pulse width of 5 占 퐏 ec to form a high refractive index layer made of niobium oxide (niobia) having a thickness of 110 nm on the low refractive index layer.

이어서, 아르곤 가스에 40 체적％ 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 실리콘 타깃을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 두께 90 ㎚ 의 산화규소 (실리카) 로 이루어지는 저굴절률층을 형성하였다.Subsequently, while introducing a mixed gas in which argon gas was mixed with 40% by volume of oxygen gas, a silicon target was used and pulsed at a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a power density of 3.8 W / cm 2, Pulse sputtering was performed under the conditions of a width of 5 占 퐏 ec to form a low refractive index layer made of silicon oxide (silica) having a thickness of 90 nm.

이와 같이 하여, 산화니오브 (니오비아) 와 산화규소 (실리카) 가 총계 4 층 적층된 저반사막을 형성하였다.In this way, a low reflection film in which niobium oxide (niobia) and silicon oxide (silica) were laminated in four layers in total was formed.

다음으로, 예 1 과 동일하게 하여 저반사막 상에 방오막을 형성하였다.Next, an antifouling film was formed on the low reflection film in the same manner as in Example 1.

얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해, 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The obtained transparent substrate on which the antifouling film was formed was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[예 5][Example 5]

투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 D 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 D 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Dragon Trail (registered trademark)) subjected to a chemical strengthening treatment as a transparent substrate was used and a transparent substrate D subjected to frost treatment was used on the first main surface of the glass substrate, An antifouling film was formed on the first main surface of the transparent substrate D. The obtained transparent substrate on which the antifouling film had been formed was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[예 6][Example 6]

투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 E 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 E 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Dragon Trail (registered trademark)) subjected to a chemical strengthening treatment as a transparent gas was used and a transparent substrate E subjected to a frost treatment was used on the first main surface of the glass substrate, An antifouling film was formed on the first main surface of the transparent substrate E. The obtained transparent substrate on which the antifouling film had been formed was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[예 7][Example 7]

투명 기체로서 예 5 와 동일한 투명 기체 D 를 사용한 것 이외에는 예 4 와 동일하게 하여 저반사막과 방오막을 형성하고, 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해, 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Reflective film and an antifouling film were formed in the same manner as in Example 4 except that the transparent substrate D as in Example 5 was used as the transparent substrate. The transparent substrate having the obtained antifouling film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 112017119997086-pat00006
Figure 112017119997086-pat00006

표 1 에 나타낸 결과에 따르면, 본 발명의 규정을 충족시키는 예 1 ∼ 4 에 대해서는 모두 문지름 내구성 시험에 있어서 수 접촉각이 90°이상으로 된 반면, 예 5 ∼ 7 에 대해서는 80°이하였다.According to the results shown in Table 1, in Examples 1 to 4 satisfying the requirements of the present invention, the water contact angle in the rubbing durability test was 90 ° or more, while in Examples 5 to 7, it was 80 ° or less.

방오막은 발수성을 갖고 있고, 상기와 같이 수 접촉각이 작아진 경우, 방오막이 박리, 마모된 것을 나타낸다. 이 때문에, 예 5 ∼ 7 에 대해서는 방오막이 박리, 마모된 것을 알 수 있다.The antifouling film has water repellency, and when the water contact angle is reduced as described above, the antifouling film is peeled off and worn. Therefore, it can be seen that the antifouling film is peeled off and worn out in Examples 5 to 7.

이것들의 결과로부터, 본 발명의 규정을 충족시키는 예 1 ∼ 4 에 대해서는, 비교예인 예 5 ∼ 7 과 비교하여 방오막의 내구성이 매우 높아진 것을 확인할 수 있었다.From these results, it was confirmed that the durability of the antifouling film was very high in Examples 1 to 4, which satisfied the requirements of the present invention, as compared with Comparative Examples 5 to 7.

또, 예 1 ∼ 4 에 대해서는, 그 헤이즈의 값으로부터 적절한 방현 특성을 갖는 것인 것도 확인할 수 있었다.It was also confirmed that Examples 1 to 4 had appropriate anti-glare properties from the haze value.

이상에 방오막이 형성된 투명 기체를 실시형태 및 실시예 등으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시형태 및 실시예 등에 한정되지 않는다. 특허청구범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에 있어서, 다양한 변형, 변경이 가능하다.The transparent substrate on which the antifouling film is formed has been described in the embodiments and the examples, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples. Various modifications and variations are possible within the scope of the present invention described in the claims.

본 출원은, 2013년 1월 30일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허출원 2013-015968호에 기초한 우선권을 주장하는 것으로서, 일본 특허출원 2013-015968호의 전체 내용을 본 국제출원에 원용한다.This application is based on Japanese Patent Application No. 2013-015968 filed with the Japanese Patent Office on Jan. 30, 2013, and the entire contents of Japanese Patent Application No. 2013-015968 are hereby incorporated by reference.

11 : 투명 기체
12 : 방오막
13 : 저반사막11: Transparent gas
12: Antifouling film
13:

Claims (7)

제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와,
상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고,
상기 제 1 주면의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 15 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하이고,
상기 투명 기체가 유리 기판인, 방오막이 형성된 투명 기체.A transparent substrate having a first main surface and a second main surface opposed to the first main surface, the surface of the first main surface being embossed,
And a fluorine-containing organic silicon compound coating film which is an antifouling film formed on the first main surface side of the transparent substrate,
Wherein the surface roughness RMS of the first main surface is 0.05 탆 or more and 0.25 탆 or less and the mean length RSm of the elements of the roughness curve is 15 탆 or more and 40 탆 or less,
Wherein the transparent substrate is a glass substrate. 제 1 항에 있어서,
헤이즈가 2 % 이상 30 % 이하인, 방오막이 형성된 투명 기체.The method according to claim 1,
And a haze of not less than 2% and not more than 30%. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 주면의 표면 조도 RMS 가 0.08 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하인, 방오막이 형성된 투명 기체.The method according to claim 1,
Wherein a surface roughness RMS of the first main surface is 0.08 탆 or more and 0.20 탆 or less. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 주면의 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 15 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인, 방오막이 형성된 투명 기체.The method according to claim 1,
And an average length RSm of the elements of the roughness curve on the first main surface is not less than 15 占 퐉 and not more than 35 占 퐉. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 기체의 상기 제 1 주면의 표면에 저반사막, 불소 함유 유기 규소 화합물 피막의 순서로 적층되어 있는, 방오막이 형성된 투명 기체.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein a low reflectivity film and a fluorine-containing organic silicon compound film are laminated in this order on the surface of the first main surface of the transparent substrate, wherein the antifouling film is formed. 제 5 항에 있어서,
상기 저반사막이 산화니오브층과 산화규소층의 적층체인, 방오막이 형성된 투명 기체.6. The method of claim 5,
Wherein the low reflectivity film is a laminate of a niobium oxide layer and a silicon oxide layer, the antifouling film being formed. 제 5 항에 있어서,
상기 저반사막이 복수의 막이 적층된 적층체로서, 그 적층체는 전체로 2 층 이상 6 층 이하의 막이 적층되어 있는, 방오막이 형성된 투명 기체.6. The method of claim 5,
Wherein the low reflection film is a laminate having a plurality of films laminated, wherein the laminate has a laminate of two or more and six or less films as a whole.
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6693420B2 (en) * 2014-11-20 2020-05-13 Ａｇｃ株式会社 Transparent plate, touch pad, and touch panel
BR112017011030A2 (en) * 2014-11-25 2018-02-14 Ppg Ind Ohio Inc curable film-forming sol-gel composition, coated article and method of forming an anti-gloss coating on a substrate
WO2016140146A1 (en) * 2015-03-03 2016-09-09 株式会社スリーボンド Anti-fogging agent composition
CN105022202A (en) * 2015-08-04 2015-11-04 汕头超声显示器（二厂）有限公司 Anti-reflective electrically-driven 3D liquid crystal lens
WO2017026318A1 (en) * 2015-08-10 2017-02-16 旭硝子株式会社 Glass sheet with antifouling layer
WO2017030046A1 (en) * 2015-08-19 2017-02-23 旭硝子株式会社 Laminate
US11884576B2 (en) 2015-09-11 2024-01-30 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Display cover member and production method therefor
CN105174735B (en) * 2015-10-19 2017-08-11 上海光和光学制造股份有限公司 A kind of anti-dazzle glas and preparation method thereof
JP2017116573A (en) 2015-12-21 2017-06-29 旭硝子株式会社 Method for producing glass substrate and glass substrate
JP7306438B2 (en) * 2016-01-12 2023-07-11 Ａｇｃ株式会社 Glass substrate with antifouling layer and front plate for display device
JP6969626B2 (en) * 2016-01-12 2021-11-24 Ａｇｃ株式会社 Manufacturing method of glass substrate with antifouling layer
JP6686449B2 (en) * 2016-01-12 2020-04-22 Ａｇｃ株式会社 Glass substrate with antifouling layer and front plate for display
JP2017206392A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 旭硝子株式会社 Glass article
JP6696486B2 (en) * 2016-10-07 2020-05-20 Ａｇｃ株式会社 Substrate with antiglare film, liquid composition for forming antiglare film, and method for producing substrate with antiglare film
JP6939398B2 (en) * 2016-11-07 2021-09-22 Ａｇｃ株式会社 Laminate
CN110023794A (en) 2016-12-12 2019-07-16 日本电气硝子株式会社 Transparent articles
DE102018002397A1 (en) 2017-03-23 2018-09-27 Asahi Glass Company, Limited ANTI-GLARE GLASS SUBSTRATE
US11852785B2 (en) 2017-04-11 2023-12-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Transparent article having a roughened uneven surface
CN110573351B (en) * 2017-04-27 2021-08-10 京瓷株式会社 Decorative part
JP6819446B2 (en) * 2017-04-27 2021-01-27 大日本印刷株式会社 Method for selecting surface members for touch panels, touch panels, display devices, and surface members for touch panels
CN110997587B (en) 2017-05-08 2022-07-26 康宁股份有限公司 Glass, glass-ceramic and ceramic articles having durable lubricious anti-fingerprint coatings on optical and scratch-resistant coatings and methods of making same
JP2018197183A (en) * 2017-05-23 2018-12-13 Ａｇｃ株式会社 Glass article, and display unit
JP6805966B2 (en) * 2017-05-24 2020-12-23 Ａｇｃ株式会社 Cover member, manufacturing method of cover member and display device
WO2018235808A1 (en) * 2017-06-20 2018-12-27 Ａｇｃ株式会社 Glass plate
JP7120241B2 (en) * 2017-08-30 2022-08-17 日本電気硝子株式会社 transparent goods
JP6881172B2 (en) * 2017-09-13 2021-06-02 Ａｇｃ株式会社 Transparent substrate with antireflection film and display device using it
JP7275471B2 (en) * 2017-10-02 2023-05-18 Ａｇｃ株式会社 Transparent substrate and display device
JP7040234B2 (en) 2018-04-04 2022-03-23 日本電気硝子株式会社 Goods
JP2019203931A (en) * 2018-05-21 2019-11-28 株式会社ダイセル Anti-glare film, and manufacturing method and application of the same
WO2020179657A1 (en) 2019-03-01 2020-09-10 日産化学株式会社 Anti-glare coating film formation coating liquid, anti-glare coating film, and laminate including anti-glare coating film
CN113891919A (en) * 2019-05-31 2022-01-04 Ａｇｃ株式会社 Substrate with water-repellent and oil-repellent layer
KR20220016050A (en) * 2019-05-31 2022-02-08 에이지씨 가부시키가이샤 Transparent substrate with antifouling layer
WO2023204145A1 (en) * 2022-04-19 2023-10-26 Ａｇｃ株式会社 Layered glass product, cover glass, and display device
CN114713031A (en) * 2022-04-19 2022-07-08 杭州卧特松环保科技有限公司 Reverse osmosis membrane layer assembly and reverse osmosis membrane element resistant to high COD and impurity pollution

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007144916A (en) 2005-11-30 2007-06-14 Asahi Glass Co Ltd Super-water repellent substrate
JP2009109850A (en) * 2007-10-31 2009-05-21 Toppan Printing Co Ltd Reflection preventive film, manufacturing method therefor, polarizing plate using reflection preventive film, and manufacturing method therefor

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07126041A (en) 1993-10-27 1995-05-16 Asahi Glass Co Ltd Water-repellent light-scattering glass formed body and product thereof
US5674625A (en) * 1993-11-10 1997-10-07 Central Glass Company, Limited Multilayered water-repellent film and method of forming same on glass substrate
EP0748775A3 (en) * 1995-05-30 1998-11-25 Central Glass Company, Limited Water-repellent glass plate having minutely roughed metal-oxide base film
JPH11171594A (en) 1997-12-15 1999-06-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Water repellent glass article and its production
JP3802842B2 (en) 1998-07-07 2006-07-26 住友化学株式会社 Upper transparent electrode plate for touch panel and apparatus including the same
DE102004026344B4 (en) * 2004-05-26 2008-10-16 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Method for producing a hydrophobic coating, device for carrying out the method and substrate having a hydrophobic coating
US7291386B2 (en) * 2004-08-26 2007-11-06 3M Innovative Properties Company Antiglare coating and articles
FR2893266B1 (en) * 2005-11-14 2007-12-21 Commissariat Energie Atomique SUPERHYDROPHIL OR SUPERHYDROPHOBIC PRODUCT, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND USE THEREOF
KR20090089286A (en) 2006-12-15 2009-08-21 아사히 가라스 가부시키가이샤 Articles having water-repellent surfaces
US20090197048A1 (en) * 2008-02-05 2009-08-06 Jaymin Amin Damage resistant glass article for use as a cover plate in electronic devices
JP5326407B2 (en) * 2008-07-31 2013-10-30 セイコーエプソン株式会社 Watch cover glass and watch
JP5036827B2 (en) * 2008-09-05 2012-09-26 株式会社シンクロン Film-forming method and oil-repellent substrate
JP5114355B2 (en) * 2008-10-08 2013-01-09 株式会社Ｓｎｔ Water- and oil-repellent coated articles and their manufacture
JP5641498B2 (en) * 2009-04-10 2014-12-17 国立大学法人 香川大学 Water / oil repellent transparent member, method for producing the same, and article using them
US20100285272A1 (en) * 2009-05-06 2010-11-11 Shari Elizabeth Koval Multi-length scale textured glass substrates for anti-fingerprinting
US20100304086A1 (en) * 2009-05-29 2010-12-02 Alain Robert Emile Carre Super non-wetting, anti-fingerprinting coatings for glass
JPWO2011004873A1 (en) * 2009-07-10 2012-12-20 旭硝子株式会社 Antifogging article, method for producing the same, and coating kit for forming antifogging film
JP5716679B2 (en) * 2010-01-19 2015-05-13 旭硝子株式会社 Water-repellent substrate and method for producing the same
JP2011180211A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Sumitomo Chemical Co Ltd Polarizing plate, liquid crystal panel, and liquid crystal display device
US9017566B2 (en) * 2010-04-30 2015-04-28 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
US20120107558A1 (en) * 2010-11-01 2012-05-03 Shari Elizabeth Koval Transparent substrate having durable hydrophobic/oleophobic surface

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007144916A (en) 2005-11-30 2007-06-14 Asahi Glass Co Ltd Super-water repellent substrate
JP2009109850A (en) * 2007-10-31 2009-05-21 Toppan Printing Co Ltd Reflection preventive film, manufacturing method therefor, polarizing plate using reflection preventive film, and manufacturing method therefor

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