KR101910378B1 - 플라즈몬 나노입자의 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 표면에 자기회합을 통한 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체 - Google Patents

플라즈몬 나노입자의 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 표면에 자기회합을 통한 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판 상에 형성된 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 상에 플라즈몬 나노입자가 자기회합을 통해 흡착된 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체에 관한 것으로, 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 상에 플라즈몬 나노입자 회합시 나노입자 분산 용액의 온도를 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도 이상 또는 이하로 조절하거나 혹은 플라즈몬 나노입자의 표면 성분을 조절할 경우에 패턴의 형태가 조절되는 것을 특징으로 하는 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체에 관한 것이다.
본 발명에 따른 나노구조체는 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 상에 회합되는 플라즈몬 나노입자의 분산용액의 온도 조절을 통해 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 조절할 수 있으며, 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자간의 회합구조, 거리 및 밀도를 조절할 수 있고, 이에 따라 기판의 광학적 신호를 대면적에서도 폭넓고 균일하게 조절할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 나노구조체는 복잡한 공정 없이도 패턴의 크기, 형태 등을 나노수준으로 조절할 수 있는바, 유/무기 패턴 기술을 필요로 하는 바이오, 전자산업, 에너지 산업 등 다양한 분야에 기술 및 장치적 제약 없이 효율적으로 활용될 수 있을 뿐만 아니라, 외부자극에 가역적으로 응답할 수 있는 플라즈몬 기반 센서, 태양전지 및 디스플레이 소재 분야에 유용하게 적용할 수 있다.

Description

플라즈몬 나노입자의 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 표면에 자기회합을 통한 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체{Two dimensional hybrid nanopatternd structures through spontaneous self-assembly of plasmonic nanoparticles on a hydrogel colloidal crystal monolayer}
본 발명은 기판 상에 형성된 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 상에 플라즈몬 나노입자가 자기회합을 통해 흡착된 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체에 관한 것으로, 상세하게는 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 상에 플라즈몬 나노입자 회합시 나노입자 분산 용액의 온도를 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도 이상 또는 이하로 조절하거나 혹은 플라즈몬 나노입자의 표면 성분을 조절할 경우에 패턴의 형태가 조절되는 것을 특징으로 하는 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체에 관한 것이다.
최근 플라즈몬 나노입자의 내부 구조를 제어하는 것에서부터 회합(assembly)구조를 형성하는 것까지 다양하게 입자의 광학적 및 전자기적 특성을 제어할 수 있는 방법들이 개발되었다. 이중에서도 외부환경의 변화에 따라 특성이 변화하는 고분자와 같은 유기화합물과 플라즈몬 나노입자를 결합시켜 하이브리드 입자를 제조하여 외부자극에 따라 플라즈몬 나노입자의 광학적 및 전자기적 특성을 제어하는 연구가 활발히 이루어지고 있다. 가령, 최근에 금 나노입자에 상보적 DNA 사슬을 결합시켜 온도변화에 따라 회합 및 분리의 열가역적인 변화를 나타내는 나노복합체(비특허 문헌 1), 정전기적 상호작용을 이용하여 금 나노입자를 온도 변화에 따라 열가역적으로 일차원적인 회합 및 분리를 나타내는 나노복합체(비특허 문헌 2) 및 하이드로겔의 팽창과 수축 특성을 이용하여 겔 표면에 결합된 금 나노입자가 온도에 따라 광신호의 변화를 나타내는 복합체(비특허 문헌 3) 등이 개발된 바 있다.
그러나 상기의 구조체들은 수용액에 분산된 상태로, 디스플레이 소재, 태양전지 및 기판상의 분석물을 검출해야 하는 센서 소재 등으로 활용하기 위해서는 이러한 구조체를 다양한 소재의 2차원 기판 위에 균일하게 나노구조체의 특성을 구현해야 한다는 어려움이 있다 이러한 기술은 태양광의 에너지 전환 효율을 높이기 위한 태양광 산업에 있어서 매우 중요한 사항이다.
이러한 기술과 관련된 유사 기술들을 살펴보면, 대한민국 공개특허 제10-2016-0087260호(특허문헌 1)의 경우, 온도감응성 고분자 하이드로겔 입자가 2차원 기판상에 규칙적으로 배열되어 있는 단층막 구조 위에 나노 두께의 금 필름을 증착하여 플라즈모닉 금속-고분자 복합 나노구조체를 제조하였다. 이 구조체는 수용액상에서 온도 변화에 따라 하이드로겔 입자로 구성된 단층막 표면의 형태가 변화되어 단층막 위에 형성된 금 필름의 미세구조 변화가 야기됨으로써 구조체의 전자기장의 변화 및 이에 따라 SERS 신호가 변화한다. 상기 기술은 기판전체가 규칙적으로 배열되어있는 하이드로겔 입자 단층막으로 구성된바, 기판 전체에서 균일한 금 나노박막의 미세구조 변화가 나타난다. 하지만, 단단한 금속 필름이기 때문에 미세구조 변화가 나타날 수 있는 두께가 매우 한정적이고, 광특성을 조절시키는 데 어려운 한계점을 가지고 있다. 비특허문헌 4 (J. Phys. Chem. C 2013, 117, 18634-18641)의 경우, 고분자로 코팅된 금 나노입자를 스핀코팅 방법을 통해 육방 비조밀구조(hexagonal non-close packing)를 제조하고 플라즈마 처리를 통해 고분자를 제거하는 과정을 반복하여 금 나노입자가 2차원의 벌집구조를 형성시켜 광특성을 변화시켰다. 그러나 상기 기술은 단거리 영역에서 부분적으로 벌집구조를 형성하여 기판전체에 걸쳐 균일한 구조체를 형성시키지는 못하였다. 또한, 플라즈마 처리를 위해서 고가의 플라즈마 장치를 사용해야 한다는 단점이 있다.
한편, 상술한 상기 입자들을 패터닝하는 기술로서 포토리소그래피, 소프트 리소그래피, 딥펜 리소그래피, 잉크젯 프린팅 기술, 콜로이드 리소그래피(Colloidal lithgraphy) 기술들이 알려져있다. 특히 상기 패터닝 기술 중 atomic force microscopy (AFM)에서 사용되는 다양한 특성의 probe tip을 활용하여 기판을 미세하게 패턴할 수 있는 딥펜 리소그래피(비특허문헌 5)와 나노입자들로 구성된 2차원 결정단층막 혹은 3차원 입자 결정 다층막을 형성시킨 후, 이를 기반으로 다양한 패턴을 얻는 콜로이드 리소그래피 기술(비특허문헌 6-11)이 주목받고 있다. 그러나 딥펜 리소그래피의 경우 마스크의 제작 없이도 나노수준의 패턴이 가능하지만 AFM (atomic force microscopy)이라는 장비를 사용해야 한다는 단점이 있으며, 콜로이드 리소그래피의 경우 패턴구조의 변화를 위해 ion beam 에칭 등의 부가적인 공법을 사용해야 한다는 단점이 있다.
따라서, 상술한 종래의 유/무기 패턴 기술의 단점을 해결함과 동시에, 제조 공정이 간단하면서도 높은 재현성과 안정적인 패턴을 형성하는 것과, 더 나아가 다양한 플라즈몬 금속의 종류, 크기 및 형태에 구애받지 않고 대면적의 기판상에 균일한 하이브리드 패턴을 형성함으로써 다양한 광학적 특성을 나타낼 수 있는 기술이 무엇보다 필요한 실정이다.
대한민국 공개특허 제10-2016-0087260호
Elghanian, R.; Storhoff, J. J.; Mucic, R. C.; Letsinger, R. L.; Mirkin, C. A. Science 1997, 277, 1078-1081 Liu, Y.; Han, X.; He, L.; Yin, Y. Angew. Chem., Int. Ed. 2012, 51, 6373-6377. Meyerbroker, N.; Kriesche, T.; Zharnikov, M. ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 2641-2649. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 18634-18641 B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, G. M. Whitesides, Chem. Rev., 2005, 105, 1171-1196. X. Ye, L. Qi, Nano Today, 2011, 6, 608-631. S.-M. Yang, S. G. Jang, D.-G. Choi, S. Kim, H. K. Yu, Small, 2006, 2, 458-475. C. L. Haynes, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B, 2001, 105, 5599-5611. D. L. J. Vossen, D. Fific, J. Penninkhof, T. van Dillen, A. Polman, A. van Blaaderen, Nano Lett., 2005, 5, 1175-1179. D.-G. Choi, S. Kim, E. Lee, S.-M. Yang, J. Am. Chem. Soc., 2005, 127, 1636-1637. X. Wang, C.J. Summers, Z.L. Wang, Nano Lett., 2004, 4, 423-426.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 하이드로겔 콜로이드 결정단층막을 플라즈몬 나노입자 분산 용액에 담가 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 상에 플라즈몬 나노입자가 자기회합되어 형성된 2차원 하이브리드 나노패턴 구조체의 제조 기술로서, 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도 조절 혹은 플라즈몬 나노입자의 표면 성분의 조절에 따라 패턴의 형태를 조절함으로써, 대면적에서도 균일한 광학적 신호를 손쉽게 조절할 수 있는 나노구조체 및 이의 용도를 제공하고자 한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여,
기판; 상기 기판 상에, 다수의 구형 하이드로겔 콜로이드 입자가 분산되어 형성되는 결정단층막; 및 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자;를 포함하고,
상기 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도인 공정온도가 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도에 비해 상대적으로 높은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 수축되면서 서로 이격되는 제1 패턴을 형성하며,
상기 공정온도가 상기 전이온도에 비해 상대적으로 낮은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창되면서 서로 접촉하고, 접촉된 경계를 지나는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외측 가장자리를 따라 상기 플라즈몬 나노입자가 상대적으로 고밀도로 배치되어 환형의 나노입자를 구비하는 제2 패턴을 형성하는 나노구조체를 제공한다.
상기 제1 패턴 형성시 상기 플라즈몬 나노입자는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면 전체에 걸쳐 부착되는 것을 특징으로 한다.
상기 플라즈몬 나노입자는 구형, 큐브형, 케이지형, 막대형, 와이어형, 피라미드형 및 프리즘형 중에서 선택될 수 있다.
또한, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 온도 변화에 따라 가역적으로 팽창 또는 수축하여 크기가 변화할 수 있으며, 상기 공정온도에 의해 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창 또는 수축됨에 따라 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자간의 회합구조, 거리 및 밀도가 변화할 수 있다.
결과적으로, 상기 나노구조체는 상기 공정온도의 변화에 따라 패턴의 형태가 조절됨과 동시에 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자간의 회합구조, 거리 및 밀도가 변화하게 되고 이로 인하여 광학적 특성이 변화하게 되는바, 본 발명에 따른 나노구조체는 상기 공정온도 조절을 통해 나노구조체의 광학적 특성을 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도는 30 내지 40 ℃일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 플라즈몬 나노입자는 금, 은, 백금, 알루미늄, 팔라듐 및 구리 중에서 선택될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 플라즈몬 나노입자의 직경은 1 내지 100 nm일 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 기판은 실리콘 웨이퍼, 규소/규소산화물 재질의 유리, 석영 커버글라스, indium tin oxide, ZnO, TiO2 금속산화물 층, poly(dimethylsiloxane), polyethylene, polypropylene, poly(methyl methacrylate), polystyrene, poly(ethylene terephtalate) 또는 이들의 공중합체와 같은 고분자 기질로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 나노구조체를 포함하여 온도 변화에 따른 광학적 신호의 변화를 검출할 수 있는 센서를 제공한다.
본 발명에 따른 나노구조체는 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 상에 회합되는 플라즈몬 나노입자의 분산용액의 온도 조절을 통해 기판 상에 형성되는 패턴의 형태를 조절할 수 있으며, 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자간의 회합구조, 거리 및 밀도를 조절할 수 있고, 이에 따라 기판의 광학적 신호를 대면적에서도 폭넓고 균일하게 조절할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 나노구조체는 복잡한 공정 없이도 패턴의 크기, 형태 등을 나노수준으로 조절할 수 있는바, 유/무기 패턴 기술을 필요로 하는 바이오, 전자산업, 에너지 산업 등 다양한 분야에 기술 및 장치적 제약 없이 효율적으로 활용될 수 있을 뿐만 아니라, 외부자극에 가역적으로 응답할 수 있는 플라즈몬 기반 센서, 태양전지 및 디스플레이 소재 분야에 유용하게 적용할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 나노구조체의 공정 온도에 따른 패턴의 변화 및 나노구조체의 제조과정을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명을 구성하는 하이드로겔 콜로이드 결정단층막의 SEM 이미지이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1-1에 따른 나노구조체의 공정온도에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
도 4는 본 발명의 실시예 2에 따른 은 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도에 따른 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
도 5는 본 발명의 실시예 1-1 내지 1-3에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 높은 경우(공정온도 50 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
도 6은 본 발명의 실시예 3에 따른 은 나노큐브 입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
도 7은 본 발명의 실시예 4에 따른 금 나노케이지 입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
도 8은 본 발명의 실시예 1-1에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)에 플라즈몬 나노입자의 농도에 따른 패턴의 형태를 나타낸 SEM 이미지이다.
도 9는 본 발명의 실시예 1-1에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도에 따른 가시광선 영역의 반사 스펙트럼을 측정한 결과이다.
도 10은 본 발명의 실시예 2에 따른 은 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도에 따른 가시광선 영역의 반사 스펙트럼을 측정한 결과이다.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
본 발명에서는 종래 유/무기 패턴 기술들의 마스크 제작, AFM (atomic force microscopy) 사용, ion beam 에칭 등의 복잡한 공정과 고가의 장비들을 필요로 하는 단점을 해결하고, 제조 공정이 간단하면서도 높은 재현성과 안정적인 패턴을 형성함으로써, 패턴 형태를 나노수준으로 손쉽게 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 대면적에서도 균일하게 광학적 신호를 조절할 수 있는 새로운 나노구조체를 제공하고자 한다.
이에, 본 발명은 기판; 상기 기판 상에, 다수의 구형 하이드로겔 콜로이드 입자가 분산되어 형성되는 결정단층막; 및 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자;를 포함하고,
상기 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도인 공정온도가 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도에 비해 상대적으로 높은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 수축되면서 서로 이격되는 제1 패턴을 형성하며,
상기 공정온도가 상기 전이온도에 비해 상대적으로 낮은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창되면서 서로 접촉하고, 접촉된 경계를 지나는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외측 가장자리를 따라 상기 플라즈몬 나노입자가 상대적으로 고밀도로 배치되어 환형의 나노입자를 구비하는 제2 패턴을 형성하는 나노구조체를 제공한다(도 1).
이때, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 상기 기판 상에 분산되어 결정단층막을 형성하며(도 2), 수중에서 온도의 변화에 따라 가역적으로 수축 또는 팽창하여 크기가 변화할 수 있고, 특히 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도(30-40 ℃) 부근에서 급격한 입자 크기의 변화가 생기는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 전이온도는 하이드로겔 콜로이드 입자의 수화도가 변화하는 온도를 의미할 수 있으며, 구체적으로 상기 전이온도 이하에서는 하이드로겔 콜로이드 입자의 수화작용으로 내부에 다량의 물분자가 존재함으로써 입자가 팽창하며, 상기 전이온도 이상에서는 하이드로겔 콜로이드 입자의 탈수작용으로 내부에 존재하던 물분자가 빠져나감으로써 입자가 수축하게 된다.
또한, 상기 제1 패턴이 형성될 때, 상기 플라즈몬 나노입자는 도 1에 도시된 바와 같이 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면 전체에 걸쳐 부착되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자는 정전기적 인력에 의해 부착되어 회합되어 있으며, 상기 공정온도에 의해 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창 또는 수축함에 따라 상기 플라즈몬 나노입자의 회합구조(응집도, 플라즈몬 입자간 거리)가 변화하게 된다.
이때, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 표면과 상기 플라즈몬 나노입자의 표면은 서로 반대되는 전하를 띄도록 표면 처리된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 상기 플라즈몬 나노입자의 표면은 음전하를 띈 리간드로 표면처리된 것일 수 있으며, 따라서, 상기 하이드로겔 콜로이드의 표면은 양전하를 띄도록 표면처리된 것일 수 있다.
이처럼, 상기 플라즈몬 나노입자의 표면이 음전하를 띄고, 상기 하이드로겔 콜로이드의 표면이 양전하를 띄게 되면, 다수의 플라즈몬 나노입자가 정전기적 인력에 의해 상기 하이드로겔 콜로이드의 외면에 부착되어 회합된 구조를 이루게 된다.
이때, 상기 음전하를 띈 리간드는 싸이올기(-SH), 다이싸이올기(-S2, -CH(SH)(CH2CH2SH)), 아민기(-NH2, -NH), 포스포네이트기(-PO3H), 포스파이드기(-P), 포스핀옥사이드기(-P=O), 카르복시기(-COOH), 하이드록시기(-OH), 이미다졸기(-imidazole), 다이올기(-diole)를 말단으로 하고 이를 제외한 부분에서 음전하를 띌 수 있는 유기분자 리간드면 모두 가능하며, 예를 들어 시트레이트(citrate), 타닌산(tannic acid), 메르캅토초산(mercaptoacetic acid), 아스코르브산(ascorbic acid)일 수 있다. 또한, 상기 음전하를 띈 리간드는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴산, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐피롤리돈과 같은 고분자 리간드일 수 있다.
또한, 상기 하이드로겔 콜로이드의 표면이 음전하를 띄도록 표면처리된 것일 경우, 상기 플라즈몬 나노입자가 그에 대해 반대되는 전하인 양전하의 표면전하를 가지도록 하는 유기분자 리간드인 세틸트리메틸암모늄브로마이드 (CTAB) 혹은 폴리알릴아민 염화수소산염 등으로 표면처리할 수 있다.
또한, 상기 플라즈몬 나노입자의 모양은 반드시 이에 제한되는 것은 아니지만, 구형, 큐브형, 케이지형, 막대형, 와이어형, 피라미드형 및 프리즘형 중에서 선택될 수 있다.
상기 음전하를 띈 리간드가 폴리비닐피롤리돈이거나 상기 플라즈몬 나노입자가 큐브형 또는 케이지형인 경우, 리간드가 시트레이트 또는 타닌산과 같은 유기분자 리간드이거나 플라즈몬 나노입자가 구형인 경우에 비해 약한 음전하를 띄고 입체적으로 bulky하여 상대적으로 상기 플라즈몬 나노입자와 상기 하이드로겔 콜로이드 사이에 끼치는 힘 중에서 중력의 영향이 커지는바, 상기 제2 패턴 형성시에 상기 음전하를 띈 리간드가 시트레이트 또는 타닌산이거나 상기 플라즈몬 나노입자가 구형인 경우보다 상기 하이드로겔 콜로이드의 외측 가장자리를 따라 상기 플라즈몬 나노입자가 더욱 고밀도로 배치되는 현상을 나타낼 수 있다(도 6, 7 참조).
즉, 본 발명에 따르면, 상기 제2 패턴 형성시에 플라즈몬 나노입자의 표면 성질 및 플라즈몬 나노입자의 형태 조절을 통해 환형 패턴이 형성되는 정도를 조절할 수 있다.
결과적으로, 상기 나노구조체는 상기 공정온도의 변화 즉 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도를 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도보다 높거나 낮게 조절함으로써 하이드로겔 콜로이드 입자의 크기 변화에 따른 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착되는 플라즈몬 나노입자의 흡착 양상 조절을 통한 패턴의 형태를 다양하게 조절할 수 있으며, 또한, 상기 플라즈몬 나노입자의 표면 성질 및 플라즈몬 나노입자의 형태를 조절함으로써 패턴의 형태를 더욱 다양하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 패턴의 형태가 조절됨에 따라 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자간의 회합구조, 거리 및 밀도 또한 변화하게 되는바, 상기 패턴 형태의 변화 및 플라즈몬 나노입자의 회합구조 변화에 따른 표면 플라즈몬 공명 흡수/산란 피크의 변화에 따라 나노구조체의 광학적 특성이 변화한다. 따라서, 본 발명에 따른 나노구조체는 하기 실시예로부터 알 수 있는 바와 같이 공정온도의 조절을 통해 나노구조체의 광학적 특성을 조절할 수 있다(도 9, 도 10).
상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 팽창 또는 수축을 유발하여 하이드로겔 콜로이드 입자의 크기가 급격하게 변화하는 하는 범위라면 반드시 이에 제한되는 것은 아니지만, 바람직하게는 30 내지 40 ℃일 수 있다.
또한, 상기 하이드로젤 콜로이드 입자는 직경이 수 ㎚-수 ㎛인 것을 사용할 수 있으나, 더욱 바람직하게는 직경 10 nm 내지 5 ㎛ 범위의 입자를 사용할 수 있다.
또한, 상기 플라즈몬 나노입자의 종류는 반드시 이에 제한되는 것은 아니지만, 금, 은, 백금, 알루미늄, 팔라듐 및 구리 중에서 선택될 수 있다.
또한, 상기 플라즈몬 나노입자의 직경은 1 내지 100 nm일 수 있고, 상기 플라즈몬 나노입자의 직경을 조절할 경우, 보다 넓은 대역폭에서 공정온도 변화에 따른 광학적 신호의 변화를 구현할 수 있다.
또한, 상기 기판은 하이드로겔 콜로이드 결정 단층막 및 상기 단층막 상에 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성시킬 수 있는 모든 기질이 가능한데, 예를 들어, 실리콘 웨이퍼, 규소/규소산화물 재질의 유리, 석영 커버글라스, indium tin oxide, ZnO, TiO2 금속산화물 층, poly(dimethylsiloxane), polyethylene, polypropylene, poly(methyl methacrylate), polystyrene, poly(ethylene terephtalate) 또는 이들의 공중합체와 같은 고분자 기질로 이루어진 군에서 선택하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 수용액상에서 온도에 따라 가역적으로 수축 또는 팽창하는 특성을 제공하는 것이라면 모두 가능하며, 예를 들어 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 나노구조체는 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도(공정온도), 플라즈몬 나노입자의 특성(표면 성질, 형태, 직경, 농도 등)에 따라 패턴의 크기, 형태 등을 손쉽게 조절하여 광학적 신호를 균일하고도 폭넓게 변화시킬 수 있는바, 외부자극에 응답할 수 있는 플라즈몬 기반 센서 분야, 광학적 특성 조절이 요구되는 전자소자, 태양에너지 산업 등에 유용하게 적용할 수 있다.
따라서, 본 발명은 상기 나노구조체를 포함하여 온도 변화에 따른 광학적 신호 변화를 검출할 수 있는 센서, 태양전지, 에너지하베스팅 장치 및 디스플레이 소재로 응용 가능하다.
이하에서는 바람직한 실시예 등을 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 이들 실시예 등은 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이에 의하여 제한되지 않는다는 것은 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
제조예 .
(1) 하이드로겔 콜로이드(폴리(N-이소프로필아크릴아미드-co-알릴아민))의 합성
N-이소프로필아크릴아미드(1.5 g)과 N,N'-메틸렌 비스(아크릴아미드)(0.08 g)을 탈이온수 100 g을 혼합하여 얻은 수용액에 70 ㎕의 알릴아민과 2 ㎖의 과황산칼륨 수용액(0.025 g/㎖)을 순차적으로 첨가하면서 80 ℃, 500 rpm으로 가열 및 교반하였다. 4 시간 동안 반응을 수행한 후 반응을 종료시켜 1.5 wt%의 폴리(N-이소프로필아크릴아미드-co-알릴아민) 하이드로겔 콜로이드 수용액을 합성하였다.
(2) 구형 금 나노입자의 합성
1) 15 ㎚ 구형 금 나노입자는 우선, 반응기 내에서 95 ㎖의 HAuCl4 수용액(0.26 mM)을 100 ℃에서 40 분 동안 평형에 도달하도록 한 후, 5 ㎖의 0.5 wt% 트리소듐 시트레이트 수용액을 첨가하고, 30분 동안 반응시킨 다음 생성된 생성물을 실온으로 냉각시키고 4 ℃에 보관하여 제조하였다.
2) 33 ㎚ 구형 금 나노입자는 우선, 반응기에 150 ㎖의 트리소듐 시트레이트 수용액(2.2 mM)을 100 ℃에서 15분 동안 교반하여 평형에 도달하도록 하였다. 이후, 1 ㎖의 HAuCl4 수용액(25 mM)을 반응기에 첨가하고, 40분 동안 반응시킨 다음 온도를 90 ℃로 낮추어 1 ㎖의 HAuCl4(25 mM) 수용액을 30분 간격으로 2회 첨가하여 씨드 용액을 제조하였다. 용액 중 55 ml를 제하고, 53 ml의 탈이온수와 2 ml의 트리소듐 시트레이트 수용액(60 mM)을 첨가하여 1 ml의 HAuCl4(25 mM) 수용액을 첨가 후 30분 동안 반응시켜 생성된 생성물을 실온으로 냉각시켜 제조하였다.
3) 50 nm 구형 금 나노입자는 33 nm 구형 금 나노입자와 동일한 과정으로 씨드 용액을 합성하여 용액 중 55 ml를 제하고, 53 ml의 탈이온수와 2 ml의 트리소듐 시트레이트 수용액 (60 mM)을 첨가하여 1 ml의 HAuCl4 (25 mM) 수용액을 30분 간격으로 3회 첨가하는 과정을 총 3회 반복하여 제조 후, 생성된 생성물을 실온으로 냉각시켰다.
(3) 구형 은 나노입자의 합성
15 nm 구형 은 나노입자는 19.45 ml의 타닌산 수용액(0.5 mM)과 0.05 ml의 탄산칼륨 수용액 혼합물을 35 ℃, 500 rpm으로 30분간 가열 및 교반하였다. 질산은 수용액 (0.1 M) 0.5 ml를 상기 혼합물에 첨가 후 2시간 동안 반응하여 실온으로 냉각시켜 제조하였다.
(4) 은 나노큐브 입자의 합성
은 나노큐브 입자의 합성은 에틸렌 글라이콜 50 ml를 반응기에 넣고 150 ℃, 400 rpm으로 가열 및 교반하여 평형에 도달하도록 한 후, 순차적으로 0.6 ml NaHS 에틸렌 글라이콜 용액 (3 mM), 5 ml의 염산 에틸렌 글라이콜 용액 (3 mM), 12.5 ml의 폴리(비닐피롤리돈) 에틸렌 글라이콜 용액 (2 wt%)과 4 ml의 CF3COOAg 에틸렌 글라이콜 용액 (282 mM)을 첨가하여 30분 동안 반응시켰다. 반응 30분 후, 얼음물에 sonication을 치면서 급냉시켜 은 나노큐브 입자를 제조하였다.
(5) 금 나노케이지 입자의 합성
금 나노케이지 입자의 합성은 상기 제조된 은 나노큐브 입자 분산액 20 ml를 200 ml의 폴리(비닐 피롤리돈) 수용액(9 mM)을 혼합하여 100 ℃에서 1시간 동안 가열 및 교반하였다. 시린지 펌프를 이용하여 HAuCl4 수용액 (0.5 mM)을 조금씩 주입하여 700-800 nm 파장영역대의 플라즈몬 공명 피크가 나오고, 400-500 nm 파장영역대의 플라즈몬 공명 피크가 사라질 때, 주입을 멈추고 1시간 동안 반응을 진행하였다. 반응을 통해 합성된 생성물을 염화나트륨이 포화될 때까지 녹이고 원심분리를 통해 상층액 제거 후 탈이온수에 재분산시키는 과정을 5회 반복하여, 도 7에 도시된 바와 같이 내부가 비어있는 금 나노케이지 입자를 제조하였다.
(6) 기판 상에 하이드로겔 콜로이드 결정단층막 형성
상기 (1)에서 제조된 하이드로겔 콜로이드를 원심분리를 통해 상층액 제거 후 이소프로판올(Isopropanol, IPA)에 재분산시켰다. 1.0 × 1.0 cm2 크기의 실리콘 웨이퍼(Si wafer)를 에탄올에 담가 bath형 초음파 세척기를 이용하여 30분간 세척한 후, 탈이온수에 담가 동일한 세척과정을 거친 후 충분히 말려주었다. 이후, 둥근 모양의 페트리 접시 (직경 3.5 cm)에 물을 가득 채우고 표면 위에 하이드로겔 콜로이드 이소프로판올 분산액을 물의 표면을 가득 채우도록 2-3방울 떨어뜨려 2차원으로 규칙적인 육방 밀집구조로 자기조립(self-assembly)시켰다.
이후, 상기 세척한 실리콘 웨이퍼의 한쪽 모서리 끝을 집게로 잡고 물속 깊이 담구어 물 표면위에 자기조립되어 있는 하이드로젤 콜로이드를 떠내어 실리콘 웨이퍼 상에 하이드로겔 콜로이드 결정단층막을 형성하였다.
실시예 . 본 발명에 따른 나노구조체의 제조
실시예 1.
(1) 실시예 1-1.
상기 제조예 (2)의 1)을 통해 제조한 15 ㎚ 구형 금 나노입자가 분산된 수용액 5 ml에 상기 제조예 (6)을 통해 제조된 하이드로겔 콜로이드 결정단층막이 형성된 기판을 담가 2일간 방치하였으며, 이때, 상기 금 나노입자가 분산된 수용액의 온도를 상온(T<Ttr), 30 (T≒Ttr), 50 (T>Ttr)로 각각 유지시켰다(이때 T는 나노입자 분산 수용액의 온도이고, Ttr은 하이드로겔 콜로이드의 전이온도임). 2일 뒤 상기 각각의 기판을 빼내어 각 해당하는 온도에서 충분히 건조시켜 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
(2) 실시예 1-2.
상기 제조예 (2)의 2)를 통해 제조한 33 nm 구형 금 나노입자가 분산된 수용액을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
(3) 실시예 1-3.
상기 제조예 (2)의 3)을 통해 제조한 51 nm 구형 금 나노입자가 분산된 수용액을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
실시예 2.
상기 제조예 (3)을 통해 제조한 15 nm 구형 은 나노입자가 분산된 수용액을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
실시예 3.
상기 제조예 (4)를 통해 은 나노큐브 입자가 분산된 수용액을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
실시예 4.
상기 제조예 (5)를 통해 금 나노케이지 입자가 분산된 수용액을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 본 발명에 따른 나노구조체를 제조하였다.
시험예 1. 공정 온도 변화에 따른 나노구조체 패턴의 SEM 이미지 분석
(1) 도 3은 본 발명의 실시예 1-1에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도에 따른 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이고, 도 4는 본 발명의 실시예 2에 따른 은 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도에 따른 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
이를 통해, 플라즈몬 나노입자 분산용액의 온도 즉 공정온도가 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도보다 높을 경우(50 ℃), 인접한 양쪽의 하이드로겔 콜로이드 입자가 수축되면서 서로 이격되며, 따라서 플라즈몬 나노입자가 상기 하이드로겔 콜로이드 입자 외면 전체에 걸쳐 부착되어 제1 패턴이 형성되는 것을 확인할 수 있으며, 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮을 경우(상온, room temperature; RT) 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창되면서 인접한 하이드로겔 콜로이드 입자끼리 접촉하고, 플라즈몬 나노입자가 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면 전체에 부착되기는 하지만, 상기 접촉된 경계를 지나는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외측 가장자리를 따라 상기 플라즈몬 나노입자가 상대적으로 고밀도로 배치되어 환형의 나노입자를 구비하는 제2 패턴이 형성되는 것을 확인할 수 있다.
(2) 도 5는 본 발명의 실시예 1-1 내지 1-3에 따른 금 나노입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 높은 경우(공정온도 50 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
이를 통해 구형 플라즈몬 나노입자 분산용액의 온도 즉 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 높을 경우(50 ℃), 나노입자의 크기에 상관없이 인접한 양쪽의 하이드로겔 콜로이드 입자가 수축되면서 서로 이격되며, 따라서 플라즈몬 나노입자가 상기 하이드로겔 콜로이드 외면 전체에 걸쳐 부착되어 제1 패턴을 형성하는 것을 확인할 수 있다.
(3) 도 6은 본 발명의 실시예 3에 따른 은 나노큐브 입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다. 도 7은 본 발명의 실시예 4에 따른 금 나노케이지 입자-수화겔 콜로이드 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)의 패턴의 형태를 나타낸 저배율 및 고배율 SEM 이미지이다.
이를 통해, 플라즈몬 나노입자의 형태가 큐브형 또는 케이지형이거나, 플라즈몬 나노입자의 표면이 폴리비닐피롤리돈과 같은 리간드로 처리된 경우에는 플라즈몬 나노입자의 형태가 구형이거나 표면이 시트레이트 또는 타닌산으로 처리된 경우(실시예 1, 2)와 비교할 때, 제2 패턴 형성시 하이드로겔 콜로이드 입자의 외측 가장자리를 따라 플라즈몬 나노입자가 더욱 고밀도로 배치되어 보다 뚜렷한 환형 패턴이 형성되는 것을 확인할 수 있다.
즉, 본 발명에 따르면, 제2 패턴 형성시에 플라즈몬 나노입자의 형태 및 표면 성질의 조절을 통해 환형 패턴이 형성되는 정도를 조절할 수 있음을 확인하였다.
시험예 2. 플라즈몬 나노입자 분산용액의 농도에 따른 나노구조체 패턴의 SEM 이미지 분석
플라즈몬 나노입자 분산용액의 농도에 따른 패턴의 형성 양상 확인을 위하여, 상기 실시예 1-1에 따른 나노구조체와, 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 농도를 실시예 1-1에 사용된 플라즈몬 나노입자 분산용액의 농도의 1/2로 조절하여 제조된 나노구조체(실시예 1-1-2로 칭함)의 패턴 형태를 관찰하였다.
도 8은 본 발명의 실시예 1-1에 따른 나노구조체의 공정온도가 하이드로겔 콜로이드의 전이온도보다 낮은 경우(공정온도 25 ℃)에 플라즈몬 나노입자의 농도에 따른 패턴의 형태를 나타낸 SEM 이미지이다.
이를 통해, 플라즈몬 나노입자의 농도가 감소됨에 따라 하이드로겔 콜로이드에 부착되는 플라즈몬 나노입자의 흡착량이 감소되는 것을 확인할 수 있으며, 다만 농도 변화에 관계없이 동일한 형태의 제2 패턴을 형성함을 확인하였다.
시험예 3. 공정 온도 변화에 따른 나노구조체의 광학적 특성 분석
도 9는 본 발명의 실시예 1-1에 따른 나노구조체의 공정온도에 따른 가시광선 영역의 반사 스펙트럼을 측정한 결과이고, 도 10은 본 발명의 실시예 2에 따른 나노구조체의 공정온도에 따른 가시광선 영역의 반사 스펙트럼을 측정한 결과이다.
이를 통해, 플라즈몬 나노입자 분산용액의 온도 즉 공정온도에 따라 패턴의 형태와 하이드로겔 콜로이드에 부착된 플라즈몬 나노입자간의 회합구조가 변화하게 됨으로써 빛의 파장에 따른 반사율이 변화함을 확인할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 나노구조체는 플라즈몬 나노입자 분산 용액의 온도즉 공정온도와 플라즈몬 나노입자의 특성(표면 성질, 형태, 직경, 농도 등)에 따라 패턴의 크기, 형태 등을 조절함으로써 구조체의 광학적 특성을 변화시킬 수 있는바, 외부자극에 응답할 수 있는 플라즈몬 기반 센서 분야, 광학적 특성 조절이 요구되는 전자소자, 태양에너지 산업 등에 유용하게 적용할 수 있음을 확인하였다.

Claims (12)

  1. 기판;
    상기 기판 상에, 다수의 구형 하이드로겔 콜로이드 입자가 분산되어 형성되는 결정단층막; 및
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자;를 포함하고,
    상기 플라즈몬 나노입자의 부착을 위하여 상기 기판 상에 형성된 다수의 구형 하이드로겔 콜로이드 입자의 결정 단층막과 접촉하는 플라즈몬 나노입자 분산용액의 온도인 공정온도가 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도에 비해 상대적으로 높은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 수축되면서 서로 이격되고, 상기 이격된 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면 전체에 플라즈몬 나노입자가 부착되어 있는 제1 패턴을 형성하며,
    상기 공정온도가 상기 전이온도에 비해 상대적으로 낮은 경우에는, 인접한 양쪽의 상기 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창되면서 서로 접촉하고, 접촉된 경계를 지나는 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외측 가장자리를 따라 상기 플라즈몬 나노입자가 상대적으로 고밀도로 배치되어 환형의 플라즈몬 나노입자의 분포 특성을 나타내는 제2 패턴을 형성하며,
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 온도 변화에 따라 가역적으로 팽창 또는 수축하여 크기가 변화하고, 상기 공정온도에 의하여 하이드로겔 콜로이드 입자가 팽창 또는 수축됨에 따라 상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 외면에 부착된 다수의 플라즈몬 나노입자 간의 회합 구조 및 밀도가 변화하는 나노구조체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 양전하를 띄는 한편, 상기 플라즈몬 나노입자의 표면은 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴산, 폴리비닐 알코올, 및 폴리비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택되는 음전하의 고분자 리간드로 처리된 것임을 특징으로 하는 나노구조체.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈몬 나노입자는 구형, 큐브형, 케이지형, 막대형, 와이어형, 피라미드형 및 프리즘형 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 양전하를 띄는 한편, 상기 플라즈몬 나노입자의 표면은 시트레이트(citrate), 타닌산(tannic acid), 메르캅토초산(mercaptoacetic acid) 및 아스코르브산(ascorbic acid)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 음전하의 유기 리간드로 처리된 것임을 특징으로 하는 나노구조체.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 공정온도의 변화에 따라 상기 나노구조체의 광학적 특성이 조절되는 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자의 전이온도는 30 내지 40 ℃인 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈몬 나노입자는 금, 은, 백금, 알루미늄, 팔라듐 및 구리 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈몬 나노입자의 직경은 1 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 실리콘 웨이퍼, 규소/규소산화물 재질의 유리, 석영 커버글라스, indium tin oxide, ZnO, TiO2 금속산화물 층, poly(dimethylsiloxane), polyethylene, polypropylene, poly(methyl methacrylate), polystyrene, poly(ethylene terephtalate) 또는 이들의 공중합체와 같은 고분자 기질로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 하이드로겔 콜로이드 입자는 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노구조체.
  12. 제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 나노구조체를 포함하는 센서.
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‘온도에 따라 가역적으로 색과 분광스펙트럼이 조절되는 금-수화젤 하이브리드 나노입자의 제조’, 임소라, 한양대학교대학원 석사학위논문 (2014.08.)*

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