KR101864113B1 - 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록 - Google Patents

원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록 Download PDF

Info

Publication number
KR101864113B1
KR101864113B1 KR1020170014775A KR20170014775A KR101864113B1 KR 101864113 B1 KR101864113 B1 KR 101864113B1 KR 1020170014775 A KR1020170014775 A KR 1020170014775A KR 20170014775 A KR20170014775 A KR 20170014775A KR 101864113 B1 KR101864113 B1 KR 101864113B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
inlet
block
module
groove
Prior art date
Application number
KR1020170014775A
Other languages
English (en)
Inventor
강동원
Original Assignee
(주)뉴젠텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)뉴젠텍 filed Critical (주)뉴젠텍
Priority to KR1020170014775A priority Critical patent/KR101864113B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101864113B1 publication Critical patent/KR101864113B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3244—Gas supply means
    • H01J37/32449—Gas control, e.g. control of the gas flow

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

본 발명은 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 공정 공간의 세척과 같이 산업용 플라즈마를 원격에서 발생시켜 정해진 공간으로 공급되도록 하는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다. 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록은 내부에 1 유동 통로가 형성된 1 유도 몸체(11a, 11b) 및 2 유동 통로가 형성된 2 유도 몸체(12a, 12b)로 이루어진 생성 몸체 모듈(10); 생성 몸체 모듈(10)의 한쪽에 결합되면서 플라즈마의 발생을 위한 기체를 유입시키는 유입 모듈(20); 및 생성 몸체 모듈(10)의 다른 쪽에 결합되면서 발생된 플라즈마를 외부로 배출시키는 배출 모듈(30)로 이루어지고, 상기 유입 모듈(20)은 생성 몸체 모듈(10)과 연결되는 유입 유도 블록(21)과 유입 유도 블록(21)에 형성된 유도 홈에 결합되는 유입 블록(22)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록{A Plasma Source Block for Generating a Remote Plasma}
본 발명은 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 공정 공간의 세척과 같이 산업용 플라즈마를 원격에서 발생시켜 정해진 공간으로 공급되도록 하는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다.
원격 플라즈마는 진공 챔버 또는 공정 챔버로부터 분리된 위치에 설치된 플라즈마 발생 장치에 의하여 생성된 플라즈마 또는 격리된 공간에서 발생되어 확산이 되는 플라즈마를 말한다. 이와 같이 발생된 플라즈마는 진공 챔버 또는 공정 챔버의 세척을 위하여 적절한 유도 경로를 통하여 진공 챔버의 내부로 유도될 수 있다.
원격 플라즈마는 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 소스 블록에서 발생되어 이동 경로를 통하여 공정 챔버로 유도될 필요가 있고 이와 같은 플라즈마 발생 장치가 이 분야에 공지되어 있다.
특허공개번호 제10-2014-0091430호는 서로 맞대어져 결합되며, 내주 면에 호형의 제1 환형 홈이 형성된 제1 및 제2 바디로 구성된 외부 본체; 상기 외부 본체의 내부에 삽입되면서 서로 마주보면서 결합되고, 제1 환형 홈과 대칭되는 호형의 제1 환형 홈이 외주 면에 형성된 제3 및 제4 바디로 구성된 내부 본체를 포함하는 원격 플라즈마 발생기에 대하여 개시한다. 특허공개번호 제10-2016-0122497호는 가스 주입구 및 플라즈마 배출구를 구비하고, 방전 가스 및 플라즈마가 이동하는 플라즈마 발생 관을 포함하는 몸체 부분; 상기 몸체 부분에 고정되며, 자기장을 발생시켜 상기 몸체 부분의 내부에 플라즈마를 생성하는 구동 부분; 및 상기 플라즈마 발생 관의 내측에 배치되어 플라즈마로부터 상기 플라즈마 발생 관을 보호하는 보호 튜브를 포함하는 원격 플라즈마 발생 장치에 대하여 개시한다. 또한 특허공개번호 제10-2016-0110183호는 코어 엘리먼트의 각각의 하나 또는 그 초과의 제1 부분 주위에 배치된 하나 또는 그 초과의 코일을 포함하면서 플라즈마 생성 용적이 제1 축 상에 위치하는 제1 점에 대하여 수직인 복수의 수직 축을 중심으로 대칭인 제1 영역을 포함하고, 제1 영역은 제1 축에 대해 평행한 방향의 폭 및 제1 축으로부터 수직한 방향의 깊이를 갖는 원격 플라즈마 소스에 대하여 개시한다.
플라즈마 소스 블록은 다양한 용량을 가지도록 만들어질 수 있고, 예를 들어 1 내지 50 L의 단위 시간 당 생성 용량을 가질 수 있다. 플라즈마 소스 블록은 생성되어야 하는 원격 플라즈마의 용량에 적합한 구조로 만들어질 필요가 있다. 그리고 각각의 구조에서 안정적인 플라즈마의 생성을 위하여 플라즈마 블록 자체의 구조가 우선적으로 고려되어야 한다. 그러나 상기 선행기술은 안정적인 구조를 가지는 플라즈마 블록의 구조에 대하여 개시하지 않는다.
본 발명은 선행기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.
선행기술 1: 특허공개번호 제10-2014-0091430호(주식회사 테라텍, 2014년07월21일 공개) 원격 플라즈마 발생기 선행기술 2: 특허공개번호 제10-2016-0122497호(삼성전자 주식회사, 2016년10월24일 공개) 세라믹을 이용하여 파티클 저감 효과를 가지는 원격 플라즈마 발생 장치 선행기술 3: 특허공개번호 제10-2016-0110183호(어플라이드 머티어리얼스, 인코퍼레이티드, 2016년09월21일 공개) 플라즈마 스큐를 제어하기 위한 원격 플라즈마 소스
본 발명의 목적은 원격 플라즈마가 안정적으로 생성될 수 있도록 하는 구조를 가지는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록을 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록은 내부에 1 유동 통로가 형성된 1 유도 몸체 및 2 유동 통로가 형성된 2 유도 몸체로 이루어진 생성 몸체 모듈; 생성 몸체 모듈의 한쪽에 결합되면서 플라즈마의 발생을 위한 기체를 유입시키는 유입 모듈; 및 생성 몸체 모듈의 다른 쪽에 결합되면서 발생된 플라즈마를 외부로 배출시키는 배출 모듈로 이루어지고, 상기 유입 모듈은 생성 몸체 모듈과 연결되는 유입 유도 블록과 유입 유도 블록에 형성된 유도 홈에 결합되는 유입 블록으로 이루어진다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 생성 몸체 모듈과 유입 모듈을 연결시키는 유입 연결 블록을 더 포함하고, 유입 연결 블록에 상기 1 유동 통로 및 2 유동 통로가 서로 연결되도록 하는 유입 홈이 형성된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 생성 몸체 모듈과 배출 모듈을 연결시키는 배출 연결 블록을 더 포함하고, 배출 연결 블록에 1 유동 통로 및 2 유동 통로가 서로 연결되도록 하는 배출 홈이 형성된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 유입 모듈 또는 배출 모듈에 형성된 유동 제어 구조를 더 포함하고, 유동 제어 구조는 1 유동 통로 및 2 유동 통로의 유동 방향에 대하여 경사진 형상으로 유체가 이동되도록 하는 유동 제어 홀을 포함한다.
본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 원격 플라즈마가 안정적으로 생성되도록 하면서 이와 동시에 플라즈마의 생성 또는 이동에 따른 내부 경로의 손상이 방지되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 20 L 이상의 대용량의 플라즈마 생성에 적합하다. 추가로 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 서로 다른 공간 사이에서 기체의 이동이 제어된 형태로 이루어지도록 하는 것에 의하여 플라즈마가 안정적으로 생성되도록 한다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 유입 모듈의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 배출 모듈의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록에 결합되는 유동 제어 유닛의 실시 예를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록에서 기체 또는 플라즈마의 이동 제어 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록이 적용된 플라즈마 발생 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 아래의 설명에서 서로 다른 도면에서 동일한 도면 부호를 가지는 구성요소는 유사한 기능을 가지므로 발명의 이해를 위하여 필요하지 않는다면 반복하여 설명이 되지 않으며 공지의 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 생략이 되지만 본 발명의 실시 예에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 플라즈마 소스 블록은 내부에 1 유동 통로가 형성된 1 유도 몸체(11a, 11b) 및 2 유동 통로가 형성된 2 유도 몸체(12a, 12b)로 이루어진 생성 몸체 모듈(10); 생성 몸체 모듈(10)의 한쪽에 결합되면서 플라즈마의 발생을 위한 기체를 유입시키는 유입 모듈(20); 및 생성 몸체 모듈(10)의 다른 쪽에 결합되면서 발생된 플라즈마를 외부로 배출시키는 배출 모듈(30)로 이루어지고, 상기 유입 모듈(20)은 생성 몸체 모듈(10)과 연결되는 유입 유도 블록(21)과 유입 유도 블록(21)에 형성된 유도 홈에 결합되는 유입 블록(22)으로 이루어진다.
플라즈마 소스(remote plasma source) 블록은 플라즈마의 생성을 위한 플라즈마 발생 장치의 프레임 구조를 형성할 수 있고, 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 소스 블록, 철심 코어, 트랜스포머 또는 전극과 같은 것을 포함할 수 있다. 플라즈마의 발생을 위하여 원격 플라즈마 소스 블록의 세척을 위한 불화질소(NF3) 또는 아르곤과 같은 불활성 기체로 이루어진 세정 기체가 플라즈마 소스에 투입될 수 있다. 원격 플라즈마 소스 블록의 내부에 배치된 플라즈마 발생 유닛에 의하여 플라즈마가 발생될 수 있다. 플라즈마는 F, F2, N, N2 또는 Ar을 포함할 수 있고 플라즈마 소스 블록의 내부에 형성된 내부 경로를 통하여 배출되어 진공 챔버 또는 공정 챔버로 유도될 수 있다. 그리고 발생된 플라즈마는 세척 공정을 위하여 사용될 수 있다. 다만 본 발명에 따른 플라즈마 블록은 다양한 용도의 플라즈마 발생을 위한 플라즈마 발생 장치에 적용될 수 있고 플라즈마의 용도에 의하여 제한되지 않는다.
생성 몸체 모듈(10)은 서로 연결된 다수 개의 블록으로 이루어질 수 있고, 예를 들어 직육면체 형상의 11 블록(11a)과 12 블록(11b)이 서로 연결되고, 21 블록(12a)과 22 블록(12b)이 서로 연결될 수 있다. 11 블록(11a), 12 블록(11b), 21 블록(12a) 및 22 블록(12b)은 동일한 구조로 만들어질 수 있고, 각각의 블록(11a 내지 12b)의 내부에 실린더 형상의 유동 통로가 형성될 수 있다. 그리고 11 블록(11a)과 12 블록(11b)이 서로 결합이 되면서 유동 통로가 연결되어 1 유동 통로를 형성할 수 있다. 또한 21 블록(12a)과 22 블록(12b)이 서로 결합이 되면서 유동 통로가 연결되어 2 유동 통로를 형성할 수 있다. 1 유도 몸체(11a, 11b)와 2 유도 몸체(12a, 12b)는 서로 평행하게 배치될 수 있고, 이에 따라 1 유동 통로와 2 유동 통로가 서로 평행하게 배치될 수 있다.
생성 몸체 모듈(10)의 한쪽 및 다른 쪽에 각각 유입 연결 블록(13) 및 배출 연결 블록(14)이 결합될 수 있고, 유입 연결 블록(13) 및 배출 연결 블록(14)에 1 유동 통로 및 2 유동 통로와 연결되는 유입 홈 및 배출 홈이 형성될 수 있다. 구체적으로 유입 연결 블록(13)에 하나의 유입 홈이 형성되고, 1 유동 통로와 2 유동 통로의 한 쪽 끝이 유입 홈에 연결될 수 있다. 그리고 1 유동 통로와 2 유동 통로의 다른 끝이 배출 홈에 연결될 수 있다. 유입 홈을 통하여 플라즈마의 생성을 위한 기체가 1, 2 유동 통로로 유입될 수 있고, 1, 2 유도 몸체(11a 내지 12b)에 배치된 전극, 코일 또는 플라즈마 생성을 위한 부품에 의하여 플라즈마가 생성될 수 있다. 이후 생성된 플라즈마는 1, 2 유동 통로를 통하여 이동되어 배출 홈으로 유도되어 배출 모듈(30)을 통하여 미리 결정된 공간으로 이동될 수 있다.
유입 연결 블록(13)에 유입 모듈(20)이 연결되고, 배출 연결 블록(14)에 배출 모듈(30)이 연결될 수 있다. 유입 모듈(20)은 유입 연결 블록(13)과 연결되는 유입 유도 블록(21)과 유입 유도 블록(21)에 형성된 유도 홈에 결합되는 유입 블록(22)으로 이루어질 수 있다. 유입 유도 블록(21)의 한쪽 면에 유입 홈이 형성되고, 유입 유도 블록(21)의 다른 쪽 면에 결합 홈이 형성될 수 있다. 결합 홈의 내부에 다수 개의 유동 홀이 형성될 수 있고, 유동 홀은 1, 2 유동 통로와 연결될 수 있다. 결합 홈에 유입 블록(22)이 결합될 수 있고, 유입 블록(22)을 통하여 플라즈마의 생성을 위한 기체가 플라즈마 소스 블록의 내부로 유입될 수 있다.
유입 모듈(20)을 통하여 유입된 플라즈마 생성 기체는 유입 연결 블록(13)을 통하여 생성 몸체 모듈(10)에 형성된 1, 2 유동 통로로 유입될 수 있다. 생성 몸체 모듈(10)에서 플라즈마로 만들어져 배출 연결 블록(14)으로 유도될 수 있다. 그리고 배출 연결 블록(14)에서 서로 다른 경로에서 생성된 플라즈마가 혼합되어 배출 모듈을 통하여 정해진 공간으로 이동될 수 있다. 이와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 하나의 경로를 통하여 유입된 플라즈마 유도 기체를 서로 다른 경로를 통하여 유도하여 플라즈마가 생성되도록 한다. 그리고 서로 다른 경로에서 생성된 플라즈마가 하나이 공간을 통하여 배출되도록 하는 것에 의하여 플라즈마의 생성이 빠르게 이루어지도록 하면서 큰 용량의 플라즈마 생성이 가능하도록 한다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 유입 모듈의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2의 (가)는 유입 모듈을 형성하는 유입 유도 블록(21)과 유입 블록(22)의 한쪽 면, 도 2의 (나)의 다른 쪽 면 그리고 도 2의 (다)는 결합된 형태를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 유입 유도 블록(21)은 유입 베이스(211); 유입 베이스(211)의 한쪽 면에 형성된 연결 홈(212); 및 유입 베이스(211)의 다른 쪽 면에 형성된 유도 홈(214)을 포함할 수 있다. 또한 유입 블록(22)은 유도 베이스(221); 유도 베이스(221)의 한쪽 면에 형성되어 유도 홈(214)과 함께 체류 공간을 형성하는 결합 홈(223); 및 유도 베이스(221)의 다른 쪽 면에 형성된 유입 홀 유닛(222a)으로 이루어질 수 있다.
유입 베이스(211)는 사각형상의 기판과 기판에 대하여 상대적으로 작은 단면적을 가지면서 기판에 결합된 블록 구조로 이루어질 수 있고, 블록 구조의 한 쪽 끝에 연결 홈(212)이 형성될 수 있다. 연결 홈(212)은 위에서 설명된 1 유동 통로 및 2 유동 통로의 한 쪽 끝과 연결되는 유입 연결 블록과 결합되어 유입된 기체를 서로 다른 유동 통로로 분배시킬 수 있다. 연결 홈(212)의 맞은편에 유도 홈(214)이 형성될 수 있고, 유도 홈(214)에 유입 블록(22)이 결합될 수 있다.
유도 홈(214)은 사각형 단면은 가지는 1 유도 홈과 1 유도 홈의 내부에 형성되는 2 유도 홈으로 이루어질 수 있다. 1 유도 홈은 유도 베이스(221)의 두께에 대응되는 깊이로 형성될 수 있고, 2 유도 홈은 결함 홈(223)에 대응되는 형상으로 만들어질 수 있다. 2 유도 홈과 결함 홈(223)이 서로 결합되어 체류 공간을 형성하게 되고, 체류 공간으로부터 1 유동 통로 및 2 유동 통로로 균일하게 유입 기체를 배분시킬 수 있다. 이와 같은 균일 분배를 위하여 유입 기체는 2 유도 홈의 둘레 면의 측면을 따라 형성된 유동 홀을 통하여 이동될 수 있다. 또한 연결 홈(212)으로 1, 2 유동 통로로 기체의 이동은 연결 홈(212)의 측면에 형성된 유동 홀을 통하여 이루어질 수 있다.
도 2에 제시된 실시 예에서 연결 홈(212), 결함 홈(223) 또는 2 유도 홈은 양쪽 끝이 반-구형이 되면서 중간 부분이 반-실린더 구조를 가지지만, 다양한 형상으로 만들어질 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록의 배출 모듈(30)의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 배출 모듈(30)은 사각 형상의 베이스 기판(31); 베이스 기판(31)의 한쪽 면에 결합된 배출 유도 블록(33); 배출 유도 블록(33)에 형성된 배출 유도 홈(34); 및 베이스 기판(31)의 다른 쪽에 형성된 배출 유도 유닛(32)으로 이루어질 수 있다. 베이스 기판(31)과 배출 유도 블록(33)은 위에서 설명된 유입 모듈의 유입 베이스와 동일 또는 유사한 구조가 될 수 있고, 배출 유도 홈(34)은 연결 홈과 동일 또는 유사한 구조로 만들어질 수 있다.
배출 유도 홈(34)은 위에서 설명된 배출 연결 블록에 형성된 통로 연결 홈과 결합되어 체류 공간을 형성할 수 있다. 이와 같은 구조는 유입 모듈과 연결되는 유입 연결 블록에 동일 또는 유사하게 적용될 수 있다.
1, 2 유동 통로를 통하여 이동되는 플라즈마는 배출 유도 홈(34) 및 통로 연결 홈의 결합에 의하여 형성되는 체류 공간에서 합쳐지고, 이후 배출 유도 유닛(32)을 통하여 미리 결정된 공간으로 이동될 수 있다. 이를 위하여 배출 유도 유닛(32)에 형성된 배출 홀(32a)에 유동 제어 유닛이 연결될 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록에 결합되는 유동 제어 유닛의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 배출 유도 유닛(32)에 결합되는 유동 제어 유닛(40)은 한쪽 면이 열린 실린더 형상의 제어 몸체(41); 및 제어 몸체(41)의 측면에 결합되는 유도 관(42)로 이루어질 수 있다. 제어 몸체(41)는 배출 유도 유닛(32)을 밀폐시키는 방식으로 베이스 기판(31)과 결합될 수 있고, 제어 몸체(41)는 밀폐 테두리(411); 밀폐 테두리(411)의 내부에 원통 형상으로 만들어지는 제어 홈(412) 및 제어 홈(412)의 한쪽 측면에 연장 방향에 대하여 경사진 입구를 형성하여 기체의 유동이 제한되도록 하는 유동 제어 입구(413)가 형성될 수 있다. 이와 같이 유동 제어 입구(413)가 원형이 되는 제어 홈(412)의 한쪽에 편향되어 위치하면서 기체가 유입되는 부분이 꺾인 형상이 되면서 경사면이 형성되도록 하는 것에 의하여 플라즈마가 제어된 형태로 유도 관(42)을 따라 흐르도록 한다.
배출 유도 유닛(32)은 다양한 구조로 만들어질 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록에서 기체 또는 플라즈마의 이동 제어 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 5를 참조하면, 유입 모듈 또는 배출 모듈에 형성된 유동 제어 구조를 더 포함하고, 유동 제어 구조는 1 유동 통로 및 2 유동 통로의 유동 방향에 대하여 경사진 형상으로 유체가 이동되도록 하는 유동 제어 홀(351a, 351b)을 포함한다.
배출 유도 블록과 결합되는 배출 유도 블록(33)에 배출 유도 홈(34)이 형성될 수 있고, 배출 유도 홈(34)은 위에서 설명된 것처럼, 양쪽 끝 부분이 반-구형 또는 이와 유사한 형상이 된다. 또한 양쪽 끝 부분을 연결하는 중간 부분은 반-실린더 형상 또는 이와 유사한 형상이 될 수 있다. 이와 같은 구조에서 반-구형 또는 반-실린더 형상의 둘레 면은 유동 면(35)을 형성하게 된다. 유동 면으로 또는 유동 면을 통하여 플라즈마 생성을 위한 기체 또는 플라즈마가 이동하게 되고, 기체 또는 플라즈마의 유동이 조절될 필요가 있다. 이를 위하여 배출 유도 홈(34)의 길이 방향을 따른 중간 부분의 양쪽 측면에 유동 제어 구조(351)가 형성될 수 있다. 유동 제어 구조는 타원 또는 이와 유사한 형상을 가지는 다수 개의 유동 제어 홀(351a, 351b)로 이루어질 수 있다. 유동 제어 구조(351)는 한 쌍의 유동 제어 홀(351a, 351a)의 유동 면(351)의 가장자리 영역을 따라 서로 분리되어 배치되는 구조로 만들어질 수 있다. 또한 한 쌍의 유동 제어 홀(351a, 351b)의 타원 장축의 방향을 동일하고, 서로 인접하는 한 쌍의 유동 제어 홀(351a, 351b)의 탄원 장축의 방향은 서로 다를 수 있다. 구체적으로 서로 인접하는 한 쌍의 유동 제어 홀(351a, 351b)의 장축의 연장 방향은 90 내지 150도의 각으로 만날 수 있다.
유동 제어 구조(351)는 다양한 구조로 만들어질 수 있고, 유입 모듈도 위에서 설명한 것과 동일 또는 유사한 유동 제어 구조를 가질 수 있다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록이 적용된 플라즈마 발생 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 6을 참조하면, 플라즈마 소스 블록(100)은 플라즈마 발생 장치에 적용될 수 있고, 플라즈마의 발생을 위하여 플라즈마 소스 블록(100)은 생성 몸체 모듈의 둘레 면에 고전압을 유도하기 위한 트랜스포머(62), 방전을 위한 전극 또는 이와 유사한 부품이 배치될 수 있다 그리고 플라즈마 소스 블록(100)은 고정 프레임(61a, 61b)에 고정될 수 있고, 고전압의 유도에 따른 열을 제거하기 위한 냉각 수단(63)이 배치될 수 있다. 그리고 고정 프레임(61a)의 한쪽으로 플라즈마 발생을 위한 기체가 공급되고, 플라즈마 소스 블록(100)에서 발생된 플라즈마가 다른 고정 프레임(61b)의 배출 경로를 통하여 배출될 수 있다.
본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 원격 플라즈마가 안정적으로 생성되도록 하면서 이와 동시에 플라즈마의 생성 또는 이동에 따른 내부 경로의 손상이 방지되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 20 L 이상의 대용량의 플라즈마 생성에 적합하다. 추가로 본 발명에 따른 플라즈마 소스 블록은 서로 다른 공간 사이에서 기체의 이동이 제어된 형태로 이루어지도록 하는 것에 의하여 플라즈마가 안정적으로 생성되도록 한다.
위에서 본 발명은 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.
10: 생성 몸체 모듈 11a, 11b: 1 유도 몸체
11a: 11 블록 11b: 12 블록
12a, 12b: 2 유도 몸체 12a: 21 블록
12b: 22 블록 13: 유입 연결 블록
14: 배출 연결 블록 20: 유입 모듈
21: 유입 유도 블록 22: 유입 블록
30: 배출 모듈 31: 베이스 기판
32: 배출 유도 유닛 32a: 배출 홀
33: 배출 유도 블록 34: 배출 유도 홈
35: 유동 면 40: 유동 제어 유닛
41: 제어 몸체 42: 유도 관
61a, 61b: 고정 프레임 62: 트랜스포머
63: 냉각 수단 100: 플라즈마 소스 블록
211: 유입 베이스 212: 연결 홈
214: 유도 홈 221: 유도 베이스
222a: 유입 홀 유닛 223: 결합 홈
351: 유동 제어 구조 351a, 351b: 유동 제어 홀
411: 밀폐 테두리 412: 제어 홈
413: 유동 제어 입구

Claims (4)

  1. 내부에 1 유동 통로가 형성된 1 유도 몸체(11a, 11b) 및 2 유동 통로가 형성된 2 유도 몸체(12a, 12b)로 이루어진 생성 몸체 모듈(10);
    생성 몸체 모듈(10)의 한쪽에 결합되면서 플라즈마의 발생을 위한 기체를 유입시키는 유입 모듈(20); 및
    생성 몸체 모듈(10)의 다른 쪽에 결합되면서 발생된 플라즈마를 외부로 배출시키는 배출 모듈(30)로 이루어지고,
    상기 유입 모듈(20)은 생성 몸체 모듈(10)과 연결되는 유입 유도 블록(21)과 유입 유도 블록(21)에 결합되는 유입 블록(22)으로 이루어지고,
    생성 몸체 모듈(10)과 유입 모듈(20)을 연결시키는 유입 연결 블록(13)을 더 포함하고, 유입 연결 블록(13)에 상기 1 유동 통로 및 2 유동 통로가 서로 연결되도록 하는 유입 홈이 형성되고,
    상기 유입 유도 블록(21)은 유입 베이스(211); 유입 베이스(211)의 한쪽 면에 형성되어 상기 유입 연결 블록(13)과 결합하는 연결 홈(212); 및 유입 베이스(211)의 다른 쪽 면에 형성되어 상기 유입 블록(22)이 결합하는 유도 홈(214)을 포함하고,
    상기 유입 블록(22)은 유도 베이스(221); 유도 베이스(221)의 한쪽 면에 형성되어 상기 유도 홈(214)과 함께 체류 공간을 형성하는 결합 홈(223); 및 유도 베이스(221)의 다른 쪽 면에 형성된 유입 홀 유닛(222)을 포함하는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서, 생성 몸체 모듈(10)과 배출 모듈(30)을 연결시키는 배출 연결 블록(14)을 더 포함하고, 배출 연결 블록(14)에 1 유동 통로 및 2 유동 통로가 서로 연결되도록 하는 배출 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록.
  4. 청구항 1에 있어서, 유입 모듈(20) 또는 배출 모듈(30)에 형성된 유동 제어 구조를 더 포함하고, 유동 제어 구조는 1 유동 통로 및 2 유동 통로의 유동 방향에 대하여 경사진 형상으로 유체가 이동되도록 하는 유동 제어 홀(351a, 351b)을 포함하는 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록.
KR1020170014775A 2017-02-02 2017-02-02 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록 KR101864113B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170014775A KR101864113B1 (ko) 2017-02-02 2017-02-02 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170014775A KR101864113B1 (ko) 2017-02-02 2017-02-02 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101864113B1 true KR101864113B1 (ko) 2018-06-04

Family

ID=62628312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170014775A KR101864113B1 (ko) 2017-02-02 2017-02-02 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101864113B1 (ko)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110008537A (ko) * 2009-07-20 2011-01-27 세메스 주식회사 원격 플라즈마 소스를 구비한 유기금속 화학 기상 증착 장치
KR20120054830A (ko) * 2010-11-22 2012-05-31 (주)뉴젠텍 원격 플라즈마 소스 블록
KR20140091430A (ko) 2013-01-11 2014-07-21 주식회사 테라텍 원격 플라즈마 발생기
KR20160027565A (ko) * 2014-09-01 2016-03-10 (주)씨엔원 기생 플라즈마 방지가 가능한 반도체 증착 장비용 샤워헤드 장치 및 그의 기생 플라즈마 발생 방지 방법
KR20160110183A (ko) 2015-03-13 2016-09-21 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 플라즈마 스큐를 제어하기 위한 원격 플라즈마 소스
KR20160122497A (ko) 2015-04-14 2016-10-24 삼성전자주식회사 세라믹을 이용하여 파티클 저감 효과를 가지는 원격 플라즈마 발생장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110008537A (ko) * 2009-07-20 2011-01-27 세메스 주식회사 원격 플라즈마 소스를 구비한 유기금속 화학 기상 증착 장치
KR20120054830A (ko) * 2010-11-22 2012-05-31 (주)뉴젠텍 원격 플라즈마 소스 블록
KR20140091430A (ko) 2013-01-11 2014-07-21 주식회사 테라텍 원격 플라즈마 발생기
KR20160027565A (ko) * 2014-09-01 2016-03-10 (주)씨엔원 기생 플라즈마 방지가 가능한 반도체 증착 장비용 샤워헤드 장치 및 그의 기생 플라즈마 발생 방지 방법
KR20160110183A (ko) 2015-03-13 2016-09-21 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 플라즈마 스큐를 제어하기 위한 원격 플라즈마 소스
KR20160122497A (ko) 2015-04-14 2016-10-24 삼성전자주식회사 세라믹을 이용하여 파티클 저감 효과를 가지는 원격 플라즈마 발생장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102024503B1 (ko) 플라즈마 소스 디바이스 및 방법들
US20170110292A1 (en) Tunable gas delivery assembly with internal diffuser and angular injection
US6432261B2 (en) Plasma etching system
US20160300749A1 (en) Holding equipment, holding system, control method, and conveyance equipment
US20190145002A1 (en) Showerhead and substrate processing device including the same
JP2013539159A5 (ko)
KR100984121B1 (ko) 기판처리장치 및 방법
KR101864113B1 (ko) 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 블록
KR101232200B1 (ko) 배플, 기판 처리 장치 및 그 처리 방법
US20150040829A1 (en) Multizone hollow cathode discharge system with coaxial and azimuthal symmetry and with consistent central trigger
EP3490356B1 (en) Liquid cooling module and liquid cooling apparatus
CN1334885A (zh) 大面积等离子体源
US10470284B2 (en) Plasma source
TWI463594B (zh) 用於真空晶圓處理系統的液體輸送機制
US20120152900A1 (en) Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers
CN104134624A (zh) 托盘及等离子体加工设备
JP7133454B2 (ja) プラズマ処理装置
KR101593070B1 (ko) 반도체 제조장비용 배출가속기
WO2016138797A1 (zh) 一种用于冷却和加热的圆筒构件
KR102048658B1 (ko) 오존발생시스템
WO2021134891A1 (zh) 一种陶瓷进气接射频清洗装置
KR101022663B1 (ko) 정전척에서의 냉각 가스 공급구조
KR101453860B1 (ko) 플라즈마 히터
KR101598808B1 (ko) 광폭 대기압 플라즈마 방전장치
KR101864114B1 (ko) 원격 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 블록 모듈

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant