KR101858855B1 - 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈 및 이를 포함하는 소재의 표면 처리 장치 - Google Patents

슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈 및 이를 포함하는 소재의 표면 처리 장치 Download PDF

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Abstract

슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈은, 인산염 용액이 수용된 인산염 욕조와, 인산염 욕조 내부의 상부에 구비된 상부 히터와, 인산염 욕조 내부의 하부에 구비된 하부 히터와, 상부 히터와 하부 히터간 열편차가 발생되도록 상부 히터 및 하부 히터의 발열량을 각각 제어하는 제어 모듈을 포함하며, 열편차에 의해 인산염 용액이 상하로 유동 교반됨으로써 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시킬 수 있다.

Description

슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈 및 이를 포함하는 소재의 표면 처리 장치{PHOSPHATE BATH MODULE CAPABLE OF REDUCING SLUDGE AND APPARATUS FOR TREATING SURFACE OF MATERIAL COMPRISING THEREOF}
본 출원은, 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈 및 이를 포함하는 소재의 표면 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 자동차 소재의 조립라인은 크게 성형 - 용접 - 도장 라인으로 구분되며, 도장 라인은 전처리 공정(탈지 공정 - 수세 공정 - 표면 조정 공정 - 인산염 처리 공정)과 도장 공정(전착 도장 - 중도 - 상도 - 클리어 코팅)으로 세분화될 수 있다.
전처리 공정을 통해 소재표면에 생성된 인산염은 일시적인 방청효과를 가지며, 소재와 도장간 밀착력 향상을 통해 내식성 효과를 크게 증대시킬 수 있다. 따라서, 자동차 도장에서 인산염 품질은 상당히 중요한 의미를 가지며 현재에도 자동차사와 용액사의 연구가 끊임없이 진행되고 있다.
특히, 상술한 인산염 처리 공정은 탈지 공정, 수세 공정, 표면 조정 공정과 연결된 단계로, 인산염 욕조 내에는 인산염 용액의 원활한 유동을 위해 교반 장치와 온도 유지를 위한 히터, 온도계 등이 설치된다.
하지만, 소재에 인산염 처리 과정에서 슬러지가 계속 생성되며, 이러한 슬러지는 교반 속도에 비례해서 증가하는 경향이 있다(즉, 교반 속도가 클수록 슬러지 발생량이 증가함). 이러한 슬러지가 인산염 용액 내에 축적되게 되면 인산염 커버리지(coverage), 결정 크기, 부착량 등에 문제가 발생할 수 있어 도장 품질을 떨어뜨리는 문제점이 있다.
관련 선행 기술로, 한국공개특허 제2010-0067885호(‘표면처리장치’, 공개일: 2010년06월22일)
1. 한국공개특허 제2010-0067885호(‘표면처리장치’, 공개일: 2010년06월22일)
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 슬러지를 저감 내지 제거하여 도장 품질을 향상할 수 있는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈 및 이를 포함하는 소재의 표면 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 인산염 용액이 수용된 인산염 욕조; 상기 인산염 욕조 내부의 상부에 구비된 상부 히터; 상기 인산염 욕조 내부의 하부에 구비된 하부 히터; 및 상기 상부 히터와 상기 하부 히터간 열편차가 발생되도록 상기 상부 히터 및 상기 하부 히터의 발열량을 각각 제어하는 제어 모듈을 포함하며, 상기 열편차에 의해 상기 인산염 용액이 상하로 유동 교반됨으로써 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시키는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈을 제공한다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 표면에 다수의 안착홈들이 형성되며, 상기 안착홈들 각각에는 탈지 욕조 모듈, 수세 욕조 모듈, 표면 조정 욕조 모듈 및 인산염 욕조 모듈이 순차적으로 안착된 원형의 지지 플레이트; 및 상기 원형의 지지 플레이트의 중앙부에 구비되어 상승, 하강, 회전 이동을 통해 일단에 고정된 소재를 상기 탈지 욕조 모듈, 상기 수세 욕조 모듈, 상기 표면 조정 욕조 모듈 및 상기 인산염 욕조 모듈로 순차적으로 이동시키는 소재 이송 모듈을 포함하며, 상기 인산염 욕조 모듈은, 인산염 용액이 수용된 인산염 욕조와, 상기 인산염 욕조 내부의 상부에 구비된 상부 히터와, 상기 인산염 욕조 내부의 하부에 구비된 하부 히터와, 상기 상부 히터와 상기 하부 히터간 열편차가 발생되도록 상기 상부 히터 및 상기 하부 히터의 발열량을 각각 제어하는 제어 모듈을 포함하며, 상기 열편차에 의해 상기 인산염 용액이 상하로 유동 교반됨으로써 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시키는 소재의 표면 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 인산염 욕조 내의 상하부에 히터를 각각 구비하고, 상하부의 히터간 열편차를 발생시켜 인산염 용액을 상하로 유동 교반시킴으로써, 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 상술한 상하부 히터를 통해 인산염 용액을 상하로 유동 교반시킴으로써, 추가로 구비되는 교반 부재는 저속으로 회전시킬 수 있으며, 인산염 욕조 내에 구비된 분리 필터를 통해 침전되는 슬러지를 걸러냄으로써, 인산염 용액 내의 슬러지를 제거할 수 있다.
도 1a 및 도 1b은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 인산염 욕조 모듈을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 원형의 지지 플레이트와 원형의 지지 플레이트에 설치되는 소재 이송 모듈을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 소재의 표면 처리 장치를 도시한 것이다.
도 4는 전처리 공정이 미흡한 경우 후공정인 도장 공정에서 발생하는 불량 중 하나인 핀홀을 도시하고 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 그러나 본 발명의 실시형태는 여러 가지의 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로만 한정되는 것은 아니다. 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.
도 1a 및 도 1b은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 인산염 욕조 모듈을 도시한 것으로, 도 1a는 인산염 욕조(110)를 포함한 인산염 욕조 모듈(100) 전체를, 도 1b는 인산염 욕조(110) 내에 구비되는 요소들(상부 히터, 하부 히터 등)만을 도시한 것이다.
인산염 욕조 모듈(100)은, 인산염 욕조(110)와, 인산염 욕조(110) 내에 구비되는 한 쌍의 히터(110a, 110b)와, 인산염 용액을 강제 교반하는 교반 부재(120)와, 인산염 용액 내의 슬러지를 제거하는 분리 필터(130)와, 인산염 용액의 온도를 측정하는 온도계(140)와, 한 쌍의 히터(110a, 110b)의 발열량을 제어함과 동시에 교반 부재(120)의 회전 속도를 제어하는 제어 모듈(150)을 포함할 수 있다.
구체적으로, 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 인산염 욕조(110)는, 내부가 빈 원통 형상으로, 내부에는 인산염 용액이 수용될 수 있다. 이러한 인산염 욕조(110)는 다양한 재질로 만들어질 수 있으나, 인산염 용액의 유동 및 슬러지와 같은 침전물의 관찰을 위해 투명한 재질로 만들어지면 좋다. 인산염 욕조(110)는 내부가 빈 원통 형상을 도시하고 있으나, 이는 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 다양한 형태가 사용될 수 있음은 당업자에게 자명하다.
한 쌍의 히터(110a, 110b)는, 인산염 욕조(110) 내부의 상부에 구비된 상부 히터(110b)와 인산염 욕조(110) 내부의 하부에 구비된 하부 히터(110a)를 포함할 수 있다. 이러한 한 쌍의 히터(110a, 110b)는, 인산염 욕조(110)의 내벽으로부터 안쪽으로 일정 간격(D) 이격된 채 인산염 욕조(110)의 내벽을 따라 링 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 한 쌍의 히터(110a, 110b)의 내부는 열선이, 외부는 열선 보호 목적으로 일정한 커버(절연체)가 구비될 수 있다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 상부 히터(110b)의 발열량과 하부 히터(110a)의 발열량은 상이할 수 있다. 예를 들면, 하부 히터(110a)의 발열량은 상부 히터(110b)의 발열량보다 크도록 함으로써, 상부 히터(110b)와 하부 히터(110a) 간 열편차를 야기할 수 있다. 이러한 열편차는 인산염 욕조(110) 내에 수용된 인산염 용액의 상하 밀도차를 유발하여 인산염 용액을 상하로 유동시킴으로써 저속 교반시킬 수 있으며, 이러한 저속 교반에 의해 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지가 저감될 수 있다.
또한, 인산염 욕조(110) 내에는 내벽으로부터 일정 간격(D) 이격된 채 깊이 방향으로 설치된 파이프(P)가 구비될 수 있으며, 파이프(P)에 의해 상술한 한 쌍의 히터(100a, 110b)가 인산염 욕조(110) 내에 고정될 수 있다. 비록, 도 1a 및 도 1b에서, 인산염 욕조(110) 내의 지름 방향 양단의 대향하는 방향에 구비된 2개의 파이프(P)를 도시하고 있으나, 파이프(P)의 개수는 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다. 상술한 파이프(P)는 내부가 비어 있는 중공 형태이며, 내부를 통해 케이블(C)이 통과될 수 있다.
한편, 인산염 욕조 모듈(100)은 인산염 욕조(110) 내에 수용된 인산염 용액을 강제로 교반시키기 위한 교반 부재(120)를 더 포함할 수 있다.
이러한 교반 부재(120)의 일 예로, 마그네틱 보드(120a)와 마그네틱 바(120b)가 도시되어 있다. 마그네틱 보드(120a)는 외주에 바 이탈 방지를 위한 일정한 높이를 가진 턱받이가 형성되며, 케이블(C)로부터 전류를 인가받아 회전 자계를 발생시킬 수 있는 핫 플레이트(hot plate)와 같은 것일 수 있다. 또한, 마그네틱 바(120b)는 마그네틱 보드(120a) 위에 놓여지며, 마그네틱 보드(120a)에 회전 자계가 발생되면 마그네틱 보드(120a) 내에서 일정 속도로 회전하는 영구 자석일 수 있다. 한 쌍의 히터(110a, 110b)가 인산염 용액을 상하로 유동시키는 반면, 교반 부재(120)는 좌우, 즉 원주 방향으로 인산염 용액을 유동시킴으로써, 인산염 용액의 교반을 극대화할 수 있다. 이러한 교반 부재(120)는 후술하는 분리 필터(130)의 중앙부에 구비될 수 있으나, 반드시 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또한, 도 1a 및 도 1b에서 도시된 마그네틱 보드(120a)와 마그네틱 바(120b) 외에도 다양한 요소들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 인산염 용액을 강제 교반시키기 위해 프로펠러, 임펠러, 순환 펌프와 같은 장치들이 사용될 수 있다.
다만, 상술한 교반 부재(120)는 저속으로 회전하는 것이어야 한다. 배경 기술에서 설명한 바와 같이, 슬러지의 발생량은 교반 속도와 비례하므로, 저속으로 교반될 수 있는 정도의 회전 속도를 가지면 된다. 구체적인 회전 속도는 인산염 욕조(110)의 크기, 인산염 욕조(110) 내에 수용되는 인산염 용액의 양 등에 따라 달라질 수 있는바, 본 발명에서는 구체적인 수치를 제시하지 않음에 유의하여야 한다.
한편, 인산염 욕조 모듈(100)은, 상부 히터(110b)와 하부 히터(110a) 사이에 구비되어 소재의 표면 처리 과정에서 발생되어 침전되는 슬러지를 걸러내는 분리 필터(130)를 더 포함할 수 있다.
이러한 분리 필터(130)는 원형 형상을 가지며, 표면에는 미세한 망사가 이중으로 설치되어 있다. 분리 필터(130)는 상부 히터(110b)보다는 하부 히터(110a)에 더 가깝게 위치하며, 분리 필터(130)의 외주에는 인산염 욕조(110) 내벽과의 밀착을 위해 고무링(131)이 구비될 수 있다. 또한, 분리 필터(130)에는 관통홀이 더 형성되며, 형성된 관통홀을 통해 파이프(P)과 통과할 수 있다.
또한, 인산염 욕조 모듈(100)은, 인산염 욕조(110) 내에 수용된 인산염 용액의 온도를 측정하기 온도계(140)를 더 포함할 수 있다. 온도계(140)는 디지털 형식이며, 인산염 용액의 온도가 숫자로 표시될 수 있고, 인산염 욕조(110)의 에지에 걸어두는 형식으로 사용될 수 있다. 이러한 온도계(140)에서 측정된 인산염 용액의 온도는 제어 모듈(150)로 전달될 수 있다.
마지막으로, 제어 모듈(150)은 상부 히터(110b)와 하부 히터(110a)간 열편차가 발생되도록 상부 히터(110b) 및 하부 히터(110a)의 발열량을 각각 제어할 수 있다. 또한, 상술한 교반 부재(120)의 회전 속도(순환 펌프의 경우는 초당 펌핑량)를 제어할 수 있다.
한편, 도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 원형의 지지 플레이트(210)와 원형의 지지 플레이트(210)에 설치되는 소재 이송 모듈(220)을 도시한 것이다. 도 2에서 원형의 지지 플레이트(210)와 소재 이송 모듈(220)은 도면부호 200으로 도시하였다. 한편, 도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 소재의 표면 처리 장치(300)를 도시한 것이다.
우선, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 원형의 지지 플레이트(210)의 표면에는 다수의 안착홈들(H)이 형성되며, 안착홈들(H) 각각에는 탈지 욕조 모듈(10), 수세 욕조 모듈(20), 표면 조정 욕조 모듈(30) 및 인산염 욕조 모듈(110)이 순차적으로 안착될 수 있다. 다수의 안착홈들(H)은 원형의 지지 플레이트(210)의 원주 방향으로 일정 간격으로 형성될 수 있다.
한편, 소재 이송 모듈(220)은, 원형의 지지 플레이트(210)의 중앙부에 구비되어 상승, 하강, 회전 이동을 통해 일단에 고정된 소재(미도시)를 탈지 욕조 모듈(10), 수세 욕조 모듈(20), 표면 조정 욕조 모듈(30) 및 인산염 욕조 모듈(40)로 순차적으로 이동시킬 수 있다.
구체적으로, 소재 이송 모듈(220)은 원형의 지지 플레이트(210)의 중앙부에 구비된 스토퍼(221)와, 스토퍼(221) 일단에 부착되어 상승/하강(D1 참조) 및 회전(D2 참조) 가능하도록 구성된 실린더(222)와, 실린더(222)에 부착된 샤프트(223)와, 샤프트(223)의 일단에 구비되어 소재를 고정하는 지그(224)로 구성될 수 있다.
상술한 탈지 욕조 모듈(10)과 표면 조정 욕조 모듈(30) 각각에는, 도 1a 및 도 1b와 동일하게, 각 모듈(10, 30) 하부에 구비된 하부 히터와, 내부에 수용된 용액을 강제 교반시키는 교반 부재와 슬러지를 제거하는 분리 필터를 포함할 수 있으며, 수세 욕조 모듈(20)에는, 하부에 구비된 하부 히터와, 내부에 수용된 용액을 강제 교반시키는 교반 부재를 포함할 수 있다.
하기의 [표 1]은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 실험 조건을 도시한 것이다.
히터 온도 조건 교반 속도
기존 설비 43℃ 80rpm
개선 설비(A 조건) 상부 42℃, 하부 50℃ 80rpm
개선 설비(B 조건) 상부 35℃, 하부 54℃ 80rpm
개선 설비(C 조건) 상부 25℃, 하부 60℃ 80rpm
기존 설비는 하부 히터는 43도(정확히는 히터의 열선 온도임), A 조건은 상부 히터는 42도, 하부 히터는 50도, B 조건은 상부 히터는 35도, 하부 히터는 54도, C 조건은 상부 히터는 25도, 하부 히터는 60도로 설정하였으며, 교반 속도(즉, 마그네틱 바의 회전 속도)는 모두 80rpm인 경우이다.
하기의 [표 2]는 상술한 [표 1]의 실험 조건하에서 처리된 인산염 품질 결과를 도시하고 있다.
인산염 커버리지 인산염 부착량
기존 설비 하(90%) 2.1g/m2
개선 설비(A 조건) 중(94%) 2.2g/m2
개선 설비(B 조건) 중(94%) 2.2g/m2
개선 설비(C 조건) 상(100%) 2.4g/m2
[표 2]에서 알 수 있는 바와 같이, 기존 설비에서는 인산염 커버리지(coverage, 덮힘성)가 90% 수준으로 다소 열위하나, 개선 설비에서는 인산염 욕조개선조건에서는 인산염 커버리지가 점차 개선됨(94% → 100%)을 확인할 수 있다.
하기의 [표 3]은 상술한 [표 1]의 실험 조건하에서 처리된 인산염 품질 결과를 도시하고 있다.
슬러지 양
기존 설비 20g/day
개선 설비(A 조건) 13g/day
개선 설비(B 조건) 11g/day
개선 설비(C 조건) 5g/day 이하
[표 3]에서 알 수 있는 바와 같이, 기존 설비에서는 슬러지 양이 하루에 20g이었으나, 개선 설비에서는 슬러지 양이 점차로 감소됨(13g/day → 5g/day 이하)을 확인할 수 있다.
한편, 하기의 [표 4]는 상술한 [표 1]의 실험 조건하에서 처리된 전착 도면 두께 및 선영성을 도시하고 있다.
전착 도막 두께 선영성
기존 설비 18㎛ 중
개선 설비(A 조건) 19㎛ 중
개선 설비(B 조건) 19㎛ 중
개선 설비(C 조건) 20㎛ 상
전착 도장 공정시 인가전압 등 모든 조건을 동일하게 실험하였으나, 기존 설비 대비 개선 설비에서 다소 전착 도막이 두껍게 형성되었음을 알 수 있다.
마지막으로, 도 4는 전처리 공정이 미흡한 경우 후공정인 도장 공정에서 발생하는 불량 중 하나인 핀홀을 도시하고 있다. (a)는 소재(S)의 표면 확대도이며, (b)는 (a)의 도면부호 400을 따라 측정한 핀홀의 깊이를 도시하고 있다.
핀홀은, 도장이 순간적으로 터져서 소재(S)에 바늘 형태의 빈 공간이 생기는 도장 불량을 말한다. 기존 설비에서는 열위한 인산염 커버리지로 인해 도 4에 도시된 바와 같은 핀홀이 과다 발생하였다. 이에 반해, 개선 설비에서는 향상된 인산염 품질이 우수한 전착도장을 형성할 수 있게 하여 핀홀도 점차 줄어들 수 있었다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 인산염 욕조 내의 상하부에 히터를 각각 구비하고, 상하부의 히터간 열편차를 발생시켜 인산염 용액을 상하로 유동 교반시킴으로써, 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 상술한 상하부 히터를 통해 인산염 용액을 상하로 유동 교반시킴으로써, 추가로 구비되는 교반 부재는 저속으로 회전시킬 수 있으며, 인산염 욕조 내에 구비된 분리 필터를 통해 침전되는 슬러지를 걸러냄으로써, 인산염 용액 내의 슬러지를 제거할 수 있다.
본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되지 아니한다. 첨부된 청구범위에 의해 권리범위를 한정하고자 하며, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경할 수 있다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
10: 탈지 욕조 모듈 20: 수세 욕조 모듈
30: 표면 조정 욕조 모듈 100: 인산염 욕조 모듈
110: 인산염 욕조 110a: 하부 히터
110b: 상부 히터 120: 교반 부재
120a: 마그네틱 보드 120b: 마그네틱 바
130: 분리 필터 131: 고무링
140: 온도계 150: 제어 모듈
210: 지지 플레이트 220: 소재 이송 모듈
221: 스토퍼 222: 실린더
223: 샤프트 224: 지그
P: 파이프 C: 케이블

Claims (18)

  1. 인산염 용액이 수용된 인산염 욕조;
    상기 인산염 욕조 내부의 상부에 구비된 상부 히터;
    상기 인산염 욕조 내부의 하부에 구비된 하부 히터; 및
    상기 상부 히터와 상기 하부 히터간 열편차가 발생되도록 상기 상부 히터 및 상기 하부 히터의 발열량을 각각 제어하는 제어 모듈을 포함하며,
    상기 열편차에 의해 상기 인산염 용액이 상하로 유동 교반됨으로써 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시키는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제어 모듈은,
    상기 하부 히터의 발열량이 상기 상부 히터의 발열량보다 크도록 상기 하부 히터 및 상기 상부 히터의 발열량을 제어하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 소재의 표면 처리 장치는,
    상기 인산염 욕조의 내에 수용된 상기 인산염 용액을 강제 교반시키는 교반 부재를 더 포함하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 교반 부재는,
    외주에 바 이탈 방지를 위한 일정한 높이를 가진 턱받이가 형성되며, 회전 자계를 발생시키는 마그네틱 보드; 및
    상기 마그네틱 보드에 놓여지며, 상기 회전 자계에 의해 상기 마그네틱 보드 내에서 회전하는 마그네틱 바를 포함하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 교반 부재는,
    프로펠러, 임펠러 및 순환 펌프 중 어느 하나를 포함하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    상기 상부 히터 및 상기 하부 히터 사이에 구비되어 상기 소재의 표면 처리 과정에서 발생되어 침전되는 슬러지를 걸러내는 분리 필터를 더 포함하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 상부 히터 및 상기 하부 히터는, 상기 인산염 욕조의 내벽으로부터 안쪽으로 일정 간격 이격된 채 상기 인산염 욕조의 내벽을 따라 형성되며,
    상기 분리 필터는, 상기 상부 히터보다 상기 하부 히터에 더 가깝게 위치하며,
    상기 분리 필터의 외주에는 상기 인산염 욕조 내벽과의 밀착을 위해 고무링이 구비되는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    상기 인산염 욕조 내에 수용된 상기 인산염 용액의 온도를 측정하기 위한 온도계를 더 포함하는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 인산염 욕조는,
    투명한 재질로 만들어지는 슬러지의 발생 저감을 위한 인산염 욕조 모듈.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    상기 인산염 욕조의 내벽으로부터 일정 간격 이격된 채 깊이 방향으로 설치된 파이프를 더 포함하며,
    상기 상부 히터 및 상기 하부 히터는 상기 파이프에 의해 상기 인산염 욕조 내에 고정되는 인산염 욕조 모듈.
  11. 표면에 다수의 안착홈들이 형성되며, 상기 안착홈들 각각에는 탈지 욕조 모듈, 수세 욕조 모듈, 표면 조정 욕조 모듈 및 인산염 욕조 모듈이 순차적으로 안착된 원형의 지지 플레이트; 및
    상기 원형의 지지 플레이트의 중앙부에 구비되어 상승, 하강, 회전 이동을 통해 일단에 고정된 소재를 상기 탈지 욕조 모듈, 상기 수세 욕조 모듈, 상기 표면 조정 욕조 모듈 및 상기 인산염 욕조 모듈로 순차적으로 이동시키는 소재 이송 모듈을 포함하며,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    인산염 용액이 수용된 인산염 욕조와, 상기 인산염 욕조 내부의 상부에 구비된 상부 히터와, 상기 인산염 욕조 내부의 하부에 구비된 하부 히터와, 상기 상부 히터와 상기 하부 히터간 열편차가 발생되도록 상기 상부 히터 및 상기 하부 히터의 발열량을 각각 제어하는 제어 모듈을 포함하며,
    상기 열편차에 의해 상기 인산염 용액이 상하로 유동 교반됨으로써 소재의 표면 처리 과정에서 발생되는 슬러지를 저감시키는 소재의 표면 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제어 모듈은,
    상기 하부 히터의 발열량이 상기 상부 히터의 발열량보다 크도록 상기 하부 히터 및 상기 상부 히터의 발열량을 제어하는 소재의 표면 처리 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    상기 인산염 욕조의 내에 수용된 상기 인산염 용액을 강제 교반시키는 교반 부재를 더 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 교반 부재는,
    외주에 바 이탈 방지를 위한 일정한 높이를 가진 턱받이가 형성되며, 회전 자계를 발생시키는 마그네틱 보드; 및
    상기 마그네틱 보드에 놓여지며, 상기 회전 자계에 의해 상기 마그네틱 보드 내에서 회전하는 마그네틱 바를 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 교반 부재는,
    프로펠러, 임펠러 및 순환 펌프 중 어느 하나를 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 인산염 욕조 모듈은,
    상기 상부 히터 및 상기 하부 히터 사이에 구비되어 상기 소재의 표면 처리 과정에서 발생되어 침전되는 슬러지를 걸러내는 분리 필터를 더 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 소재 이송 모듈은,
    상기 지지 플레이트의 중앙부에 구비된 스토퍼;
    상기 스토퍼 일단에 부착되어 상승, 하강 및 회전 가능하도록 구성된 실린더;
    상기 실린더에 부착된 샤프트; 및
    상기 샤프트의 일단에 구비되어 소재를 고정하는 지그를 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 탈지 욕조 모듈, 상기 표면 조정 욕조 모듈 각각에는,
    하부에 구비된 하부 히터와, 내부에 수용된 용액을 강제 교반시키는 교반 부재와, 슬러지를 제거하는 분리 필터를 포함하고,
    상기 수세 욕조 모듈에는, 하부에 구비된 하부 히터와, 내부에 수용된 용액을 강제 교반시키는 교반 부재를 포함하는 소재의 표면 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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