KR101858753B1 - Process for forming pixel pattern, color filter and display device - Google Patents

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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용한 경우, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성을 충분히 발현시키기 위한 화소 패턴의 형성 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 해결 수단은 (1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정, 및 (2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정을 포함하고, 상기 방사선의 분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수개의 피크를 가지며, 상기 방사선의 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 것을 특징으로 하는 화소 패턴의 형성 방법이다.
Disclosure of the Invention The object of the present invention is to provide a method of forming a pixel pattern for sufficiently expressing excellent color characteristics of a dye or a lake pigment when a dye or a lake pigment is used as a coloring agent.
(1) A process for forming a coating film of a coloring and radiation-sensitive composition containing at least one kind selected from the group consisting of a dye and a rake pigment on a substrate, and (2) Characterized in that the spectral distribution of the radiation has a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm and the maximum intensity of the radiation at less than 350 nm is the maximum peak at 350 nm to 450 nm And the strength is 50% or less of the strength.

Description

화소 패턴의 형성 방법, 컬러 필터 및 표시 소자{PROCESS FOR FORMING PIXEL PATTERN, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a color filter and a display device,

본 발명은 화소 패턴의 형성 방법, 이 방법에 의해 제조된 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는 표시 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a method for forming a pixel pattern, a color filter manufactured by the method, and a display element including the color filter.

컬러 필터는 가시광 내의 특정한 파장 영역의 광을 투과시켜, 착색된 투과광을 생성한다. 액정을 이용한 액정 표시 소자는 그 자체가 발색하는 것은 불가능하지만, 컬러 필터를 사용함으로써 컬러 액정 표시 소자로서 기능할 수 있다. 또한, 컬러 필터는 백색 발광층을 이용한 유기 EL(Electro Luminescence) 소자나, 전자페이퍼 등의 컬러 표시에도 이용된다. 또한, 컬러 필터를 이용하면 CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 컬러 촬영이 가능해진다.The color filter transmits light in a specific wavelength range in visible light, and produces colored transmitted light. A liquid crystal display element using a liquid crystal can not be developed by itself, but it can function as a color liquid crystal display element by using a color filter. The color filter is also used for an organic EL (Electro Luminescence) element using a white light emitting layer, and for color display of an electronic paper or the like. In addition, when a color filter is used, color imaging of solid-state image pickup devices such as CCD image sensors and CMOS image sensors becomes possible.

컬러 필터의 제조 방법으로는 다음과 같은 것이 알려져 있다. 예를 들면, 투명 기판 상 또는 원하는 패턴의 차광층이 형성된 투명 기판 상에, 적당한 조사선에 감응하는 착색 조성물로서 착색 감방사선성 조성물을 도포한다. 이어서 도막을 건조시킨 후, 마스크를 통해 건조 도막에 방사선을 조사(이하, "노광"이라 함)하고, 현상 처리를 실시한다. 이에 따라, 각 색의 화소를 얻는 방법이다(예를 들면, 특허문헌 1 및 2 참조.). 또한, 착색 경화성 수지 조성물을 이용하여, 잉크젯 방식에 의해 각 색의 화소를 얻는 방법 등도 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 3 참조).The following are known as a method of manufacturing a color filter. For example, a coloring and radiation-sensitive composition is applied as a coloring composition sensitive to a suitable irradiation line on a transparent substrate or on a transparent substrate on which a light-shielding layer of a desired pattern is formed. Subsequently, the coated film is dried, and the dried film is irradiated with a radiation (hereinafter referred to as "exposure") through a mask and subjected to development processing. Thus, a method of obtaining pixels of each color (see, for example, Patent Documents 1 and 2). A method of obtaining pixels of each color by an ink-jet method using a colored curable resin composition is also known (see, for example, Patent Document 3).

그런데 표시 소자의 고휘도화와 고색순도화, 또는 고체 촬상 소자의 고정밀화를 실현하기 위해서는, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용하는 것이 유효하다는 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 4 및 5 참조).However, it is known that it is effective to use a dye or a lake pigment as a coloring agent (for example, see Patent Documents 4 and 5) in order to realize high luminance and high color purity of a display element or high definition of a solid state image pickup element.

일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-144502 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보Japanese Patent Laid-Open Publication No. 3-53201 일본 특허 공개 제2000-310706호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-310706 일본 특허 공개 제2008-304766호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-304766 일본 특허 공개 제2001-081348호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-081348

그러나, 염료나 레이크 안료를 포함하는 착색 감방사선성 조성물은 안료만을 포함하는 착색 감방사선성 조성물에 비하여 색도 특성의 공정 안정성이 현저히 떨어진다. 이 때문에, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용하더라도, 결국 안료에 대하여 색도 특성에 우위성이 있는 컬러 필터가 얻어지기 어렵다는 문제가 있다.However, the coloring and radiation-sensitive composition containing a dye or a lake pigment has a remarkably poor process stability in chromaticity characteristics as compared with a coloring and radiation-sensitive composition containing only a pigment. For this reason, even when a dye or a lake pigment is used as a coloring agent, there is a problem that it is difficult to obtain a color filter having superior chromaticity characteristics to pigments.

본 발명은 이상과 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용한 경우, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성을 충분히 발현시키기 위한 화소 패턴의 형성 방법, 상기 방법에 의해 형성된 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는, 색도 특성이 우수한 표시 소자를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a method of forming a pixel pattern for sufficiently exhibiting excellent chromaticity characteristics of a dye or a rake pigment when a dye or a rake pigment is used as a coloring agent, a color filter formed by the method, And which is excellent in chromaticity characteristics.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 화소 패턴을 형성할 때에 노광 방사선으로서 특정한 자외선을 이용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a specific ultraviolet ray as exposure radiation when forming a pixel pattern.

즉, 본 발명은 (1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정, 및 (2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정을 포함하고, 상기 방사선의 분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수개의 피크를 가지며, 상기 방사선의 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 것을 특징으로 하는 화소 패턴의 형성 방법을 제공하는 것이다. 또한, 이하에서는 "분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수의 피크를 가지며, 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 방사선"을 "특정 방사선"이라고도 한다.That is, the present invention provides a process for producing a coloring and radiation-sensitive composition comprising the steps of (1) forming a coating film of a coloring and radiation-sensitive composition containing at least one kind selected from the group consisting of a dye and a rake pigment on a substrate, and (2) Wherein the spectral distribution of the radiation has a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm and wherein the maximum intensity of the radiation at less than 350 nm is greater than the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm Is 50% or less of that of the pixel pattern. Hereinafter, the term "radiation having a spectral distribution in a range of 350 nm to 450 nm with a plurality of peaks and having a maximum intensity at a wavelength of less than 350 nm of not more than 50% of a maximum peak intensity at a wavelength of 350 nm to 450 nm" "Is also called.

또한, 본 발명은 상기 방법에 의해 형성된 화소 패턴을 구비하여 이루어지는 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는 표시 소자를 제공하는 것이다.The present invention also provides a color filter comprising a pixel pattern formed by the above method, and a display element comprising the color filter.

본 발명에 따르면, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용한 경우, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성이 충분히 발휘되는 컬러 필터를 제조할 수 있다.According to the present invention, when a dye or a rake pigment is used as a coloring agent, a color filter in which excellent coloring characteristics of a dye and a rake pigment are sufficiently exhibited can be produced.

도 1은 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선의 대표적인 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 2는 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 1을 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 3은 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 2를 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 4는 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 3을 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
1 is a view showing a representative spectral distribution of radiation radiated from an ultra-high pressure mercury lamp.
2 is a view showing the spectral distribution of the radiation obtained by interposing the ultraviolet cut filter 1 on the radiation radiated from the ultra-high pressure mercury lamp.
3 is a diagram showing the spectral distribution of radiation obtained by interposing the ultraviolet cut filter 2 on the radiation radiated from the ultra-high pressure mercury lamp.
4 is a diagram showing the spectral distribution of radiation obtained by interposing the ultraviolet cut filter 3 on the radiation radiated from the ultra-high pressure mercury lamp.

이하, 본 실시 형태에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, the present embodiment will be described in detail.

<화소 패턴의 형성 방법 및 컬러 필터> &Lt; Pixel pattern formation method and color filter >

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법은, 적어도 하기 (1) 및 (2)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of forming a pixel pattern according to the present invention includes at least the following steps (1) and (2).

(1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정(이하, "도막 형성 공정"이라고도 함)(1) a step of forming, on a substrate, a coating film of a coloring and radiation-sensitive composition containing at least one kind selected from the group consisting of a dye and a rake pigment (hereinafter also referred to as a &

(2) 상기 도막의 적어도 일부에 특정 방사선을 노광하는 공정(이하, "노광 공정"이라고도 함)(2) a step of exposing a specific radiation to at least a part of the coating film (hereinafter also referred to as "exposure step &

이하에서는, (1) 및 (2)의 각 공정에 대해서 구체예를 들어 상세히 설명한다.Hereinafter, each step of (1) and (2) will be described in detail with specific examples.

(1) 도막 형성 공정(1) Coating film formation process

우선 기판을 준비한다. 기판으로는, 예를 들면 붕규산 유리, 알루미노붕규산 유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 합성 석영 유리, 소다석회 유리, 화이트사파이어 등의 투명한 유리 기판을 사용할 수 있다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴, 폴리아미드, 폴리아세탈, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 신디오택틱·폴리스티렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 불소 수지, 폴리에테르니트릴, 폴리카르보네이트, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리시클로헥센, 폴리노르보르넨계 수지, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드 또는 열가소성 폴리이미드 등의 투명 수지 필름을 이용할 수도 있다. 특히, 무알칼리 유리는 열팽창률이 작은 소재이고, 치수 안정성 및 고온 가열 처리에 있어서의 특성이 우수하다는 점에서 바람직하게 이용된다.First, a substrate is prepared. As the substrate, for example, a transparent glass substrate such as borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, synthetic quartz glass, soda lime glass, white sapphire or the like can be used. In addition, it is also possible to use a polymer such as acrylic, polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, Polyether ether ketone, fluorine resin, polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, polynorbornene resin, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyamideimide, A transparent resin film such as a polyimide or a thermoplastic polyimide may be used. Particularly, alkali-free glass is preferably used because it is a material having a small coefficient of thermal expansion and is excellent in dimensional stability and characteristics in a high-temperature heat treatment.

또한 이들 기판에는, 필요에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리나 플라즈마 처리 이외에, 이온 플레이팅법, 스퍼터링법, 기상 반응법 또는 진공 증착법 등에 의한 이산화규소막의 성막 등의 적당한 전처리를 실시해 둘 수도 있다.These substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as film formation of a silicon dioxide film by an ion plating method, a sputtering method, a gas phase reaction method, or a vacuum deposition method in addition to a chemical treatment or a plasma treatment with a silane coupling agent as necessary.

다음으로, 기판 상에, 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층(블랙 매트릭스)을 형성한다. 예를 들면, 스퍼터나 증착에 의해 성막된 크롬 등의 금속 박막을, 포토리소그래피법을 이용하여 원하는 패턴으로 가공한다. 또는, 흑색의 착색제를 함유하는 감방사선성 조성물을 기판 상에 도포하고, 포토리소그래피법에 의해서 원하는 패턴을 형성할 수도 있다. 금속 박막을 포함하는 차광층의 막 두께는 통상 0.1 ㎛ 내지 0.2 ㎛로 하는 것이 바람직하다. 한편, 흑색의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 차광막의 막 두께는 1 ㎛ 전후로 하는 것이 바람직하다.Next, a light-shielding layer (black matrix) is formed on the substrate so as to partition a portion for forming a pixel. For example, a metal thin film such as chromium film formed by sputtering or vapor deposition is processed into a desired pattern by photolithography. Alternatively, a radiation-sensitive composition containing a black colorant may be applied on a substrate, and a desired pattern may be formed by photolithography. The thickness of the light-shielding layer including the metal thin film is preferably set to 0.1 to 0.2 mu m. On the other hand, it is preferable that the thickness of the light-shielding film formed using the black radiation sensitive composition is about 1 탆.

또한, 차광층은 불필요해지는 경우도 있으며, 그 경우에는 차광층 형성의 공정은 생략할 수 있다.Further, the light shielding layer may be unnecessary, and in this case, the step of forming the light shielding layer may be omitted.

다음으로, 상기한 기판 상에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 네가티브형의 청색 감방사선성 조성물을 도포한다. 이어서, 프리베이킹을 행하여 용제를 증발시켜 도막을 형성한다.Next, a negative-type blue radiation-sensitive composition containing, for example, a blue dye or a lake pigment is applied on the above-mentioned substrate. Subsequently, prebaking is performed to evaporate the solvent to form a coating film.

착색 감방사선성 조성물을 기판에 도포할 때에는 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿다이 도포법 또는 바 코팅법 등을 적절하게 선택할 수 있다. 균일한 막 두께의 도막이 얻어진다는 점에서는 스핀 코팅법 또는 슬릿다이 도포법을 채용하는 것이 바람직하다.When the coloring and radiation-sensitive composition is applied to a substrate, a spraying method, a roll coating method, a spin coating method (spin coating method), a slit die coating method, or a bar coating method can be appropriately selected. It is preferable to employ a spin coating method or a slit die coating method in order to obtain a coating film having a uniform film thickness.

프리베이킹은 통상 감압 건조와 가열 건조를 조합하여 행해진다. 감압 건조는 통상 50 Pa 내지 200 Pa에 도달할 때까지 행한다. 또한, 가열 건조의 조건은 통상 핫 플레이트를 이용하여, 70 ℃ 내지 110 ℃의 온도하에서 1 분간 내지 10 분간 정도이다. 또한, 도포되는 도막의 두께는 건조 후의 막 두께로서 통상 0.6 ㎛ 내지 8 ㎛, 바람직하게는 1.2 ㎛ 내지 5 ㎛이다.Prebaking is usually carried out in combination with reduced pressure drying and heat drying. The reduced-pressure drying is usually carried out until the pressure reaches 50 Pa to 200 Pa. The conditions of heat drying are usually about 1 minute to about 10 minutes at a temperature of from 70 캜 to 110 캜 using a hot plate. The thickness of the coated film to be applied is usually 0.6 to 8 占 퐉, preferably 1.2 to 5 占 퐉, as a film thickness after drying.

또한, 기판 상에 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 다른 예로서, 일본 특허 공개 (평)7-318723호 공보, 일본 특허 공개 제2000-310706호 공보 등에 개시되어 있는 잉크젯 방식에 의한 방법도 들 수 있다. 이 방법에 있어서는, 우선 기판의 표면 상에 차광 기능도 겸비한 격벽을 형성한다. 이어서, 이 격벽 내에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 착색 감방사선성 조성물을 잉크젯 장치에 의해 토출시킨다. 그 후, 프리베이킹을 행하여 용매를 증발시킨다. 프리베이킹의 방법이나 조건은 상기한 제1 예와 마찬가지이다.As another example of forming a coating film of a color sensitive radiation-sensitive composition on a substrate, there is also a method by an ink jet method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-318723 and 2000-310706 . In this method, first, a partition wall having a light shielding function is formed on the surface of the substrate. Then, the coloring and radiation-sensitive composition containing, for example, a blue dye or a lake pigment is discharged into the partition wall by an ink jet apparatus. Thereafter, prebaking is performed to evaporate the solvent. The method and conditions of prebaking are the same as those in the first example described above.

또한, 상술한 격벽은 차광 기능뿐만 아니라, 구획 내에 토출된 각 색의 착색 감방사선성 조성물이 혼색되지 않기 위한 기능도 하고 있다. 이 때문에, 상기한 제1 예에서 사용되는 차광층(블랙 매트릭스)에 비하여 막 두께가 두껍다. 격벽은 통상 흑색의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된다.In addition, the above-mentioned partition walls function not only to shield the light-shielding function but also to prevent the coloring and radiation-sensitive compositions of the respective colors ejected into the compartment from being mixed. Therefore, the film thickness is thicker than the light-shielding layer (black matrix) used in the first example. The barrier ribs are usually formed using a black radiation sensitive composition.

또한, 기판 상에 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 추가적인 예로서, 일본 특허 공개 (평)9-5991호 공보 등에 개시되어 있는 드라이 필름법도 들 수 있다. 이 방법에 있어서는, 필름상의 지지체 상에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 착색 감방사선성 조성물을 도포하고, 프리베이킹을 행하여 유기 용제를 증발시킴으로써, 지지체 상에 착색 감방사선성 조성물층이 형성된 드라이 필름을 제조한다. 그리고, 이 착색 감방사선성 조성물층이 형성된 지지체를, 라미네이터를 이용하여 컬러 필터 형성용 기판에 라미네이트한다. 그 후, 착색 감방사선성 조성물층을 지지체로부터 박리시킴으로써, 착색 감방사선성 조성물층을 기판에 전사시킨다. 지지체 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하는 방법이나, 프리베이킹의 방법 및 조건은 상기한 제1 예와 마찬가지이다.Further, as a further example of forming a coated film of the colored and radiation-sensitive composition on a substrate, dry film methods disclosed in JP-A-9-5991 can be used. In this method, a coloring and radiation-sensitive composition containing, for example, a blue dye or a rake pigment is applied on a film-like support, and the organic solvent is evaporated by carrying out prebaking, whereby a coloring and radiation- To form a layered dry film. Then, the support on which the coloring and radiation-sensitive composition layer is formed is laminated to a substrate for forming a color filter using a laminator. Thereafter, the layer of the colored and radiation-sensitive composition is transferred to the substrate by peeling the layer from the support. The method of applying the coloring and radiation-sensitive composition onto the support, and the method and conditions of prebaking are the same as those of the first example described above.

(2) 노광 공정(2) Exposure process

도막 형성 공정 후, 형성된 도막의 적어도 일부에, 통상 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 통해 노광한다. 본 발명은 이 때 이용하는 노광 방사선이 특정한 분광 특성을 나타내는 것을 특징으로 한다. 통상, 컬러 액정 표시용 컬러 필터를 제조할 때에 이용되는 초고압 수은등으로부터 조사되는 방사선은 도 1과 같은 분광 특성을 나타낸다. 도 1에 있어서, 436 nm의 피크가 g선, 405 nm의 피크가 h선, 365 nm의 피크가 i선인데, 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선은 통상 이들 이외에, 350 nm 미만에도 몇개의 피크를 갖는 심자외선을 포함하고 있다. 본 발명자들은 이러한 분광 특성을 나타내는 노광 방사선에 대하여 350 nm 미만의 광 강도를 감소시킴으로써, 염료 및 레이크 안료의 안정성이 증가하는 것을 발견하여 본 발명에 이르렀다.After the coating film forming process, at least a part of the formed coating film is exposed through a photomask having a predetermined pattern. The present invention is characterized in that the exposure radiation used at this time exhibits specific spectral characteristics. Generally, the radiation irradiated from the ultra-high pressure mercury lamp used when manufacturing the color filter for color liquid crystal display shows the spectroscopic characteristics as shown in Fig. 1, a peak at 436 nm is a g line, a peak at 405 nm is an h line, and a peak at 365 nm is an i line. Radiation emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp usually has several peaks at a wavelength of less than 350 nm It contains deep ultraviolet rays. The present inventors have found that the stability of dyes and lake pigments is increased by decreasing the light intensity of less than 350 nm with respect to the exposure radiation exhibiting such spectroscopic characteristics, thereby leading to the present invention.

특정 방사선에 있어서, 350 nm 미만에서의 최대 강도는 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하이지만, 원하는 효과를 높이기 위해서는 45 % 이하인 것이 바람직하고, 30 % 이하인 것이 더욱 바람직하다.For a specific radiation, the maximum intensity at less than 350 nm is 50% or less of the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm, but it is preferably 45% or less, more preferably 30% or less, in order to enhance the desired effect.

특정 방사선은, 광원으로서 상기한 바와 같은 분광 특성을 나타내는 램프를 이용하여 얻을 수 있지만, 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터를 개재시켜 얻을 수도 있다. 자외선 차단 필터로는 350 nm 미만의 광 강도를 상기 조건까지 감소시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 자외선 차단 필터 UV-35, UV-33, UV-31(도시바 가라스사 제조) 등을 들 수 있다.The specific radiation can be obtained by using a lamp which exhibits the spectroscopic characteristics as described above as the light source, but it can also be obtained by interposing an ultraviolet cut filter in the radiation radiated from the ultrahigh pressure mercury lamp. The ultraviolet shielding filter is not particularly limited as long as it can reduce the light intensity of less than 350 nm to the above-mentioned conditions. For example, the ultraviolet shielding filter UV-35, UV-33 and UV-31 (manufactured by Toshiba Glass) .

특정 방사선의 노광량은 통상 10 내지 10,000 J/㎡이지만, 원하는 효과를 높이기 위해서는 50 내지 5,000 J/㎡인 것이 바람직하고, 100 내지 2,000 J/㎡인 것이 더욱 바람직하다.The exposure dose of the specific radiation is usually 10 to 10,000 J / m 2, but it is preferably 50 to 5,000 J / m 2, more preferably 100 to 2,000 J / m 2 to enhance the desired effect.

상기 노광 공정 후, 필요에 따라 (3) 노광 후의 도막을 현상하는 공정(이하, "현상 공정"이라고도 함) 및/또는 (4) 도막을 포스트 베이킹하는 공정이 행해진다.(3) a step of developing the coated film after exposure (hereinafter, also referred to as "developing step") and / or (4) a step of post-baking the coated film are carried out after the above exposure step.

(3) 현상 공정(3) Development process

노광 공정 후 현상액으로 현상함으로써, 도막의 미노광부를 용해 제거한다. 현상액으로는 알칼리 현상액이 바람직하고, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 이용된다. 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제나, 계면활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 처리 후에는 통상 수세를 행한다.After the exposure process, the resist film is developed with a developing solution to dissolve and remove the unexposed portion of the coating film. The developing solution is preferably an alkali developer, and examples thereof include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] 5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene and the like can be used. A water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol or a surfactant may be added in an appropriate amount to the alkali developing solution. After the alkali developing treatment, washing with water is usually carried out.

현상 처리법으로는, 예를 들면 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 딥(침지) 현상법 또는 퍼들(액고임) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은, 예를 들면 상온에서 5 초간 내지 300 초간으로 할 수 있다.As the development processing method, for example, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, or a puddle (liquid immersion) development method can be applied. The developing conditions can be, for example, 5 seconds to 300 seconds at room temperature.

또한, 상기 잉크젯 방식에 의해 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성한 경우, 현상 공정은 불필요하여 생략된다.Further, when a coating film of a color sensitive radiation-sensitive composition is formed by the ink jet method, a developing step is unnecessary since it is unnecessary.

(4) 도막을 포스트 베이킹하는 공정(4) Step of post-baking the coating film

현상 공정 후, 또는 상기 잉크젯 방식에 의해 도막을 형성하고 노광 공정을 거친 후, 패터닝된 도막을 포스트 베이킹하는 것이 경화성을 높이는 점에서 바람직하다. 포스트 베이킹의 조건은 온풍 가열로를 이용한 경우, 예를 들면 150 ℃ 내지 250 ℃에서 20 분간 내지 40 분간 정도로 할 수 있다.Post-baking of the patterned coating film after the development process or after the formation of the coating film by the inkjet method and the exposure process is preferable in terms of enhancing the curability. The post-baking conditions may be, for example, from 150 to 250 占 폚 for 20 minutes to 40 minutes in the case of using a hot air furnace.

이와 같이 하여 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는, 청색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 형성할 수 있다. 다음으로, 네가티브형의 녹색 감방사선성 조성물을 이용하여 상기 공정을 반복함으로써 녹색의 화소 패턴을 동일한 기판 상에 형성하고, 추가로 네가티브형의 적색 감방사선성 조성물을 이용하여 상기 공정을 반복함으로써 적색의 화소 패턴을 동일한 기판 상에 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 기판 상에 형성할 수 있다. 단, 본 실시 형태에 있어서는, 각 색의 화소 패턴을 기판 상에 형성하는 순서는 상술한 예로 한정되지 않는다. 각 색의 형성순서는 적절하게 변경하는 것이 가능하다.In this way, a pixel array in which blue pixel patterns containing a blue dye or a lake pigment are arranged in a predetermined arrangement can be formed. Next, the above process is repeated by using a negative-type green-sensitive radiation-sensitive composition to form a green pixel pattern on the same substrate, and further repeating the above process using a negative-type red radiation- Are formed on the same substrate, a pixel array in which pixel patterns of three primary colors of red, green, and blue are arranged in a predetermined arrangement can be formed on a substrate. In the present embodiment, however, the order of forming the pixel patterns of the respective colors on the substrate is not limited to the above example. The order of formation of each color can be appropriately changed.

이상과 같이 하여 형성된 화소 패턴의 막 두께는 통상 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛, 바람직하게는 1.0 ㎛ 내지 3 ㎛이다.The film thickness of the pixel pattern formed as described above is usually 0.5 탆 to 5 탆, preferably 1.0 탆 to 3 탆.

또한, 본 발명에서 컬러 필터를 구성하는 화소 패턴은 적색, 녹색 및 청색으로 한정되는 것은 아니고, 황색, 마젠타색 및 시안색을 3원색으로 하는 화소 패턴일 수도 있다. 또한, 3원색의 화소에 대응하는 착색 패턴에 추가로, 제4나 제5의 착색 패턴을 형성할 수도 있다. 예를 들면, 일본 특허 공표 제2005-523465호 공보 등에 개시되어 있는 바와 같이 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소에 대응하는 착색 패턴에 추가로, 표색 범위를 넓히기 위한 제4 화소(황색 화소)나 제5 화소(시안 화소)를 배치할 수 있다.In the present invention, the pixel pattern constituting the color filter is not limited to red, green, and blue, and may be a pixel pattern having three primary colors of yellow, magenta, and cyan. In addition to the coloring pattern corresponding to the pixel of the three primary colors, the fourth or fifth coloring pattern may be formed. For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-523465, a fourth pixel (yellow pixel) for widening the coloring range is provided in addition to a coloring pattern corresponding to three primary color pixels of red, green and blue, Or a fifth pixel (cyan pixel) can be arranged.

이와 같이 하여 형성된 화소 패턴 상에 추가로 보호막을 설치함으로써, 표시 소자의 표시 특성을 높일 수 있다. 보호막으로는 경화성 조성물로부터 형성되는 유기막 또는 유기 무기 하이브리드막, 또는 SiNx막 및 SiOx막 등의 무기막을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 경화성 조성물을 이용하여 보호막을 형성하는 것이 바람직하다.By providing a protective film on the pixel pattern thus formed, the display characteristics of the display element can be enhanced. As the protective film, an organic film or an organic-inorganic hybrid film formed from a curable composition, or an inorganic film such as a SiNx film and a SiOx film can be given. In the present embodiment, it is preferable to form a protective film using the curable composition.

경화성 수지 조성물을 이용하여 보호막을 형성하는 방법으로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)4-53879호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)6-192389호 공보 등에 개시되어 있는 방법을 채용할 수 있다.As a method of forming a protective film by using the curable resin composition, for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-53879 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-192389 can be adopted .

보호막의 형성에 이용되는 경화성 수지 조성물로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)3-188153호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)4-53879호 공보 등에 개시되어 있는 열경화성 수지 조성물, 일본 특허 공개 (평)6-192389호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)8-183819호 공보 등에 개시되어 있는 감방사선성 수지 조성물, 일본 특허 공개 제2006-195420호 공보 또는 일본 특허 공개 제2008-208342호 공보 등에 개시되어 있는 폴리오르가노실록산을 함유하는 경화성 조성물 등을 들 수 있다.Examples of the curable resin composition used for forming the protective film include thermosetting resin compositions disclosed in JP-A-3-188153 and JP-A-4-53879, 6-192389 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-183819, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-195420, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2008-208342, etc. And a curing composition containing a polyorganosiloxane which is incorporated therein.

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 따르면, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성이 소실되지 않고 발휘되는, 즉 노광 전후에서의 색차(ΔE*ab)가 작은 화소 패턴이 얻어진다. 따라서, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법을 이용함으로써, 색도 특성이 우수한 컬러 필터를 얻는 것이 가능해진다. 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법은, 예를 들면 컬러 액정 표시 소자용 컬러 필터, 고체 촬상 소자의 색 분해용 컬러 필터, 유기 EL 표시 소자용 컬러 필터, 전자페이퍼용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 바람직하고, 특히 대형 기판을 이용하는 컬러 액정 표시 소자용 컬러 필터의 제조에 바람직하다.According to the pixel pattern forming method of the present invention, it is possible to obtain a pixel pattern in which excellent chromaticity characteristics of a dye or a rake pigment are exhibited without being lost, that is, a color difference (? E * ab) between before and after exposure. Therefore, by using the method of forming a pixel pattern of the present invention, it is possible to obtain a color filter excellent in chromaticity characteristics. The method of forming a pixel pattern of the present invention can be applied to various color filters such as a color filter for a color liquid crystal display element, a color filter for color separation of a solid-state image pickup element, a color filter for an organic EL display element, And is particularly suitable for manufacturing a color filter for a color liquid crystal display device using a large substrate.

다음으로, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 이용되는 착색 감방사선성 조성물에 대해서 설명한다. 상기 착색 감방사선성 조성물은, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 착색제, 결합제 수지, 가교제 및 광중합 개시제를 적어도 함유한다. 착색 감방사선성 조성물은, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로 하여 사용된다.Next, the colored and radiation sensitive composition used in the method of forming a pixel pattern of the present invention will be explained. The coloring and radiation-sensitive composition contains at least a colorant, a binder resin, a cross-linking agent and a photopolymerization initiator, which contain at least one kind selected from the group consisting of a dye and a lake pigment. The coloring and radiation-sensitive composition is usually used as a liquid composition by blending a solvent.

이하, 각 성분에 대해서 설명한다.Each component will be described below.

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 이용되는 착색 감방사선성 조성물은, 착색제로서 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유한다. 염료로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 크산텐계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 붙여져 있는 것을 들 수 있다.The coloring and radiation-sensitive composition used in the method for forming a pixel pattern of the present invention contains at least one kind selected from the group consisting of a dye and a lake pigment as a coloring agent. Examples of the dye include, but are not limited to, azo dyes, anthraquinone dyes, xanthene dyes, triarylmethane dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, Dye and the like. Specifically, the color index (C.I.) name is attached as follows.

C.I. 애시드 옐로우 11, C.I. 애시드 오렌지 7, C.I. 애시드 레드 37, C.I. 애시드 레드 180, C.I. 애시드 블루 29, C.I. 솔벤트 레드 89, C.I. 다이렉트 레드 28, C.I. 다이렉트 레드 83, C.I. 다이렉트 옐로우 12, C.I. 다이렉트 오렌지 26, C.I. 다이렉트 그린 28, C.I. 다이렉트 그린 59, C.I. 리액티브 옐로우 2, C.I. 리액티브 레드 17, C.I. 리액티브 레드 120, C.I. 디스퍼스 오렌지 5, C.I. 디스퍼스 레드 58, C.I. 디스퍼스 블루 165, C.I. 베이직 블루 41, C.I. 베이직 레드 18, C.I. 몰단트(mordant) 레드 7, C.I. 몰단트 옐로우 5 등의 아조계 염료; C.I. Acid Yellow 11, C.I. Acid Orange 7, C.I. Acid Red 37, C.I. Acid Red 180, C.I. Acid Blue 29, C.I. Solvent Red 89, C.I. Direct Red 28, C.I. Direct Red 83, C.I. Direct Yellow 12, C.I. Direct Orange 26, C.I. Direct Green 28, C.I. Direct Green 59, C.I. Reactive Yellow 2, C.I. Reactive Red 17, C.I. Reactive Red 120, C.I. Disperse Orange 5, C.I. Disperse Red 58, C.I. Disperse Blue 165, C.I. Basic Blue 41, C.I. Basic Red 18, C.I. Mordant red 7, C.I. Azo dyes such as Mordant Yellow 5;

C.I. 배트 블루 4, C.I. 애시드 블루 40, C.I. 애시드 그린 25, C.I. 리액티브 블루 19, C.I. 리액티브 블루 49, C.I. 디스퍼스 레드 60, C.I. 디스퍼스 블루 56, C.I. 디스퍼스 블루 60 등의 안트라퀴논계 염료; C.I. Bat Blue 4, C.I. Acid Blue 40, C.I. Acid Green 25, C.I. Reactive blue 19, C.I. Reactive Blue 49, C.I. Disperse Red 60, C.I. Disperse Blue 56, C.I. Anthraquinone type dyes such as Disperse Blue 60;

C.I. 베이직 레드 1, C.I. 베이직 레드 1:1, C.I. 베이직 바이올렛 10, C.I. 솔벤트 레드 49 등의 크산텐계 염료; C.I. Basic Red 1, C.I. Basic Red 1: 1, C.I. Basic violet 10, C.I. Xanthene dyes such as Solvent Red 49;

C.I. 베이직 블루 7, C.I. 베이직 블루 11 등의 트리아릴메탄계 염료; C.I. Basic Blue 7, C.I. Triarylmethane dyes such as Basic Blue 11;

C.I. 패드 블루 5 등의 프탈로시아닌계 염료; C.I. Phthalocyanine dyes such as Pad Blue 5;

C.I. 베이직 블루 3, C.I. 베이직 블루 9 등의 퀴논이민계 염료; C.I. Basic Blue 3, C.I. Quinone imine dyes such as Basic Blue 9;

C.I. 솔벤트 옐로우 33, C.I. 애시드 옐로우 3, C.I. 디스퍼스 옐로우 64 등의 퀴놀린계 염료; C.I. Solvent Yellow 33, C.I. Acid Yellow 3, C.I. Quinoline dyes such as Disperse Yellow 64;

C.I. 애시드 옐로우 1, C.I. 애시드 오렌지 3, C.I. 디스퍼스 옐로우 42 등의 니트로계 염료; C.I. Acid Yellow 1, C.I. Acid Orange 3, C.I. Nitro-based dyes such as Disperse Yellow 42;

C.I. 솔벤트 옐로우 179 등의 메틴계 염료. C.I. Methine dyes such as Solvent Yellow 179.

그 밖에 일본 특허 공개 제2010-168531호 공보의 청구항 3 또는 청구항 4, 일본 특허 공개 제2010-170073호 공보, 일본 특허 공개 제2010-170074호 공보, 일본 특허 공개 제2010-275531호 공보, 일본 특허 공개 제2010-275533호 공보 등에 기재된 아조계 염료, 일본 특허 공표 2007-503477호 공보의 청구항 14, 국제 공개 제10/123071호 공보 등에 기재된 트리아릴메탄계 염료, 일본 특허 공표 2007-503477호 공보의 청구항 3, 일본 특허 공개 제2010-244027호 공보, 일본 특허 공개 제2010-254964호 공보 등에 기재된 크산텐계 염료 등을 들 수 있다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-168531, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-170073, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-170074, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-275531, Japanese Patent Azo dyes described in JP-A-2010-275533 and the like, triarylmethane dyes described in JP-A No. 2007-503477, JP-A No. 10/123071 and JP-A 2007-503477 The xanthene dyes described in claim 3, the Japanese patent publication No. 2010-244027, the Japanese patent publication No. 2010-254964, and the like.

이들 염료 중 아조계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 크산텐계 염료, 메틴계 염료가, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 특히 우수한 효과가 얻어진다는 점에서 바람직하다.Of these dyes, azo dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes and methine dyes are preferable in that particularly excellent effects can be obtained in the method for forming a pixel pattern of the present invention.

본 발명에서 염료는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the dyes may be used alone or in combination of two or more.

또한, 레이크 안료란 가용성인 염료를 침전제에 의해 불용성의 안료로 한 것이다. 침전제로는, 예를 들면 염화바륨, 염화칼슘, 황산암모늄, 염화알루미늄, 아세트산알루미늄, 아세트산납, 탄닌산, 카타놀, 타몰, 이소폴리산, 헤테로폴리산(예를 들면, 포스포텅스텐산, 포스포몰리브덴산, 포스포텅스텐·몰리브덴산, 실리코텅스텐몰리브덴산, 실리코텅스텐산, 실리코몰리브덴산) 등을 들 수 있다. 이들 중에서 침전제로는 이소폴리산, 헤테로폴리산이 바람직하다.Further, the lake pigment is a soluble dye, which is made insoluble by the precipitant. Examples of the precipitating agent include barium chloride, calcium chloride, ammonium sulfate, aluminum chloride, aluminum acetate, lead acetate, tannic acid, catanol, tamol, isopoly acid, heteropoly acid (for example, phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid , Phosphotungsten-molybdic acid, silico tungsten molybdic acid, silicotungstic acid, silicomolybdic acid). Of these, isopiolic acid and heteropolyacid are preferable as the precipitating agent.

이러한 레이크 안료로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 붙여져 있는 것을 들 수 있다.As such a lake pigment, the following color index (C.I.) name is attached.

C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 2, C.I. 피그먼트 블루 3, C.I. 피그먼트 블루 9, C.I. 피그먼트 블루 10, C.I. 피그먼트 블루 14, C.I. 피그먼트 블루 17:1, C.I. 피그먼트 블루 24, C.I. 피그먼트 블루 24:1, C.I. 피그먼트 블루 56, C.I. 피그먼트 블루 61, C.I. 피그먼트 블루 62, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 2, C.I. Pigment Blue 3, C.I. Pigment Blue 9, C.I. Pigment Blue 10, C.I. Pigment Blue 14, C.I. Pigment Blue 17: 1, C.I. Pigment Blue 24, C.I. Pigment Blue 24: 1, C.I. Pigment Blue 56, C.I. Pigment Blue 61, C.I. Pigment Blue 62,

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 2, C.I. 피그먼트 바이올렛 3, C.I. 피그먼트 바이올렛 3:1, C.I. 피그먼트 바이올렛 3:3, C.I. 피그먼트 바이올렛 27, C.I. 피그먼트 바이올렛 39, C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 2, C.I. Pigment Violet 3, C.I. Pigment Violet 3: 1, C.I. Pigment Violet 3: 3, C.I. Pigment Violet 27, C.I. Pigment Violet 39,

C.I. 피그먼트 그린 1, C.I. 피그먼트 그린 4, C.I. Pigment Green 1, C.I. Pigment Green 4,

C.I. 피그먼트 레드 48:1, C.I. 피그먼트 레드 48:2, C.I. 피그먼트 레드 48:3, C.I. 피그먼트 레드 48:4, C.I. 피그먼트 레드 48:5, C.I. 피그먼트 레드 49, C.I. 피그먼트 레드 49:1, C.I. 피그먼트 레드 49:2, C.I. 피그먼트 레드 49:3, C.I. 피그먼트 레드 52:1, C.I. 피그먼트 레드 52:2, C.I. 피그먼트 레드 53:1, C.I. 피그먼트 레드 54, C.I. 피그먼트 레드 57:1, C.I. 피그먼트 레드 58, C.I. 피그먼트 레드 58:1, C.I. 피그먼트 레드 58:2, C.I. 피그먼트 레드 58:3, C.I. 피그먼트 레드 58:4, C.I. 피그먼트 레드 60:1, C.I. 피그먼트 레드 63, C.I. 피그먼트 레드 63:1, C.I. 피그먼트 레드 63:2, C.I. 피그먼트 레드 63:3, C.I. 피그먼트 레드 64:1, C.I. 피그먼트 레드 68, C.I. 피그먼트 레드 81, C.I. 피그먼트 레드 81:1, C.I. 피그먼트 레드 200, C.I. 피그먼트 레드 237, C.I. 피그먼트 레드 239, C.I. 피그먼트 레드 247, C.I. Pigment Red 48: 1, C.I. Pigment Red 48: 2, C.I. Pigment Red 48: 3, C.I. Pigment Red 48: 4, C.I. Pigment Red 48: 5, C.I. Pigment Red 49, C.I. Pigment Red 49: 1, C.I. Pigment Red 49: 2, C.I. Pigment Red 49: 3, C.I. Pigment Red 52: 1, C.I. Pigment Red 52: 2, C.I. Pigment Red 53: 1, C.I. Pigment Red 54, C.I. Pigment Red 57: 1, C.I. Pigment Red 58, C.I. Pigment Red 58: 1, C.I. Pigment Red 58: 2, C.I. Pigment Red 58: 3, C.I. Pigment Red 58: 4, C.I. Pigment Red 60: 1, C.I. Pigment Red 63, C.I. Pigment Red 63: 1, C.I. Pigment Red 63: 2, C.I. Pigment Red 63: 3, C.I. Pigment Red 64: 1, C.I. Pigment Red 68, C.I. Pigment Red 81, C.I. Pigment Red 81: 1, C.I. Pigment Red 200, C.I. Pigment Red 237, C.I. Pigment Red 239, C.I. Pigment Red 247,

C.I. 피그먼트 옐로우 61, C.I. 피그먼트 옐로우 61:1, C.I. 피그먼트 옐로우 62, C.I. 피그먼트 옐로우 100, C.I. 피그먼트 옐로우 104, C.I. 피그먼트 옐로우 133, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 169, C.I. 피그먼트 옐로우 183, C.I. 피그먼트 옐로우 191, C.I. 피그먼트 옐로우 191:1, C.I. 피그먼트 옐로우 206, C.I. 피그먼트 옐로우 209, C.I. 피그먼트 옐로우 209:1 및 C.I. 피그먼트 옐로우 212. C.I. Pigment Yellow 61, C.I. Pigment Yellow 61: 1, C.I. Pigment Yellow 62, C.I. Pigment Yellow 100, C.I. Pigment Yellow 104, C.I. Pigment Yellow 133, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 169, C.I. Pigment Yellow 183, C.I. Pigment Yellow 191, C.I. Pigment Yellow 191: 1, C.I. Pigment Yellow 206, C.I. Pigment Yellow 209, C.I. Pigment Yellow 209: 1 and C.I. Pigment Yellow 212.

이들 레이크 안료 중, C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 2, C.I. 피그먼트 블루 3, C.I. 피그먼트 블루 9, C.I. 피그먼트 블루 10, C.I. 피그먼트 블루 14, C.I. 피그먼트 블루 62, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 2, C.I. 피그먼트 바이올렛 3, C.I. 피그먼트 바이올렛 27, C.I. 피그먼트 바이올렛 39 등의 트리아릴메탄계 레이크 안료가, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 특히 우수한 효과가 얻어진다는 점에서 바람직하다. 이소폴리산 또는 헤테로폴리산을 침전제로 하는 트리아릴메탄계 레이크 안료는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2011-150195호 공보, 일본 특허 공개 제2011-186043호 공보 등에도 개시되어 있다.Of these lake pigments, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 2, C.I. Pigment Blue 3, C.I. Pigment Blue 9, C.I. Pigment Blue 10, C.I. Pigment Blue 14, C.I. Pigment Blue 62, C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 2, C.I. Pigment Violet 3, C.I. Pigment Violet 27, C.I. Pigment Violet 39 and the like are preferable in that a particularly excellent effect can be obtained in the method for forming a pixel pattern of the present invention. The triarylmethane lake pigment containing isopoly acid or heteropoly acid as a precipitating agent is also disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-150195 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 186043/1986.

본 발명에서 레이크 안료는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the lake pigment may be used singly or in a mixture of two or more kinds.

본 발명에서는 착색제로서 상기 염료 및 레이크 안료와 함께 다른 착색제를 사용할 수도 있다. 다른 착색제로는 특별히 한정되는 것은 아니고, 컬러 필터의 용도에 따라 색채나 재질을 적절하게 선택할 수 있다. 구체적으로는, 유기 안료, 무기 안료 및 천연 색소가 모두 착색제로서 사용될 수 있지만, 높은 색순도, 휘도 및 콘트라스트가 요구되기 때문에, 유기 안료가 바람직하게 사용된다.In the present invention, other colorants may be used together with the above-mentioned dyes and lake pigments as colorants. The other colorants are not particularly limited, and the color and the material can be appropriately selected depending on the use of the color filter. Concretely, although organic pigments, inorganic pigments and natural pigments can all be used as colorants, organic pigments are preferably used because they require high color purity, brightness and contrast.

유기 안료의 바람직한 구체예로는, 컬러 인덱스(C.I.)명으로, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58, C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 80, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 211, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 바이올렛 23 등을 들 수 있다. Specific examples of the organic pigments include, by color index (C.I.) name, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue 80, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment Yellow 211, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Violet 23 and the like.

착색제의 함유 비율은 휘도가 높고 색순도가 우수한 화소를 형성한다는 점에서, 통상 착색 감방사선성 조성물의 고형분 중에 5 내지 70 질량%, 바람직하게는 5 내지 60 질량%이다. 여기서 말하는 고형분이란, 후술하는 용매 이외의 성분이다.The content of the colorant is usually 5 to 70% by mass, preferably 5 to 60% by mass in the solid content of the coloring and radiation-sensitive composition in that a pixel having high luminance and excellent color purity is formed. The solid content referred to herein is a component other than the solvent described later.

또한, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 합계 함유 비율은 전체 착색제 중에 바람직하게는 5 질량% 이상, 특히 바람직하게는 10 질량% 이상이다.The total content of at least one selected from the group consisting of dyes and lake pigments is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, in the total colorant.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 결합제 수지로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 산성 관능기를 갖는 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 산성 관능기로는, 예를 들면 카르복실기, 페놀성 수산기, 이미드산기, 술포기, 술피노기 또는 술페노기 등을 들 수 있다. 이들 중 카르복실기가 바람직하게 이용된다.The binder resin in the coloring and radiation-sensitive composition is not particularly limited, but preferably contains a polymer having an acidic functional group. Examples of the acidic functional group include a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, an imidic acid group, a sulfo group, a sulfino group or a sulfo group. Of these, a carboxyl group is preferably used.

카르복실기를 갖는 중합체로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)5-19467호 공보, 일본 특허 공개 (평)6-230212호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-140654호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-207211호 공보, 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보, 일본 특허 공개 (평)09-325494호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-31308호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-300922호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-140144호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-174224호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-231523호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-258415호 공보, 일본 특허 공개 제2000-56118호 공보, 일본 특허 공개 제2002-296778호 공보, 일본 특허 공개 제2004-101728호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-181095호 공보 등에 개시되어 있는 중합체를 들 수 있다.Examples of the polymer having a carboxyl group include those disclosed in JP-A-5-19467, JP-A-6-230212, JP-A-7-140654, JP-A-7-207211, JP-8-259876, JP-A-09-325494, JP-A-10-31308, JP- Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-300922, 11-140144, 11-174224, 11-231523, 11- Polymers disclosed in JP-A-258415, JP-A 2000-56118, JP-A 2002-296778, JP-A 2004-101728, and JP-A 2008-181095 .

결합제 수지의 산가는 바람직하게는 10 내지 200 KOH/mg, 보다 바람직하게는 30 내지 270 KOH/mg, 더욱 바람직하게는 50 내지 250 KOH/mg이다. 여기서 "산가"란, 결합제 수지의 고형분 1 g을 중화시키는 데에 필요한 KOH의 mg수를 나타낸다. 본 발명에서 결합제 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The acid value of the binder resin is preferably 10 to 200 KOH / mg, more preferably 30 to 270 KOH / mg, and still more preferably 50 to 250 KOH / mg. Here, "acid value" means the number of mg of KOH required to neutralize 1 g of the solid content of the binder resin. In the present invention, the binder resins may be used alone or in combination of two or more.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 가교제는, 2개 이상의 중합 가능한 기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 중합 가능한 기로는, 예를 들면 에틸렌성 불포화기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 또는 N-알콕시메틸아미노기 등을 들 수 있다.The crosslinking agent in the coloring and radiation-sensitive composition is not particularly limited as long as it is a compound having two or more polymerizable groups. Examples of the polymerizable group include an ethylenic unsaturated group, an oxiranyl group, an oxetanyl group and an N-alkoxymethylamino group.

본 발명에서 가교제로는 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 또는 2개 이상의 N-알콕시메틸아미노기를 갖는 화합물이 바람직하게 이용된다.As the crosslinking agent in the present invention, a compound having two or more (meth) acryloyl groups or a compound having two or more N-alkoxymethyl amino groups is preferably used.

특히 바람직한 가교제로는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물, 일본 특허 공개 (평)11-44955호 공보의 단락〔0015〕내지 단락〔0018〕에 기재되어 있는 카프로락톤 변성된 다관능 (메트)아크릴레이트, N,N,N',N',N",N"-헥사(알콕시메틸)멜라민 또는 N,N,N',N'-테트라(알콕시메틸)벤조구아나민 등을 들 수 있다.Particularly preferred crosslinking agents include, for example, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate and succinic anhydride , Compounds obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with succinic anhydride, compounds obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with succinic anhydride, compounds obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with succinic anhydride, compounds obtained by reaction of caprolactone (Alkoxymethyl) melamine or N, N, N ', N'-tetra (alkoxymethyl) benzoguanamine, and the like, .

본 발명에서 가교제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 광중합 개시제는 특정 방사선의 노광에 의해, 상술한 가교제의 경화 반응을 개시시킬 수 있는 활성종을 발생할 수 있는 화합물이다.The photopolymerization initiator in the coloring and radiation-sensitive composition is a compound capable of generating an active species capable of initiating the curing reaction of the crosslinking agent described above by exposure to a specific radiation.

바람직한 광중합 개시제로는, 예를 들면 티오크산톤계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 디아조계 화합물 또는 이미드술포네이트계 화합물 등을 들 수 있다.Preferred examples of the photopolymerization initiator include a thioxanthone compound, an acetophenone compound, a nonimidazole compound, a triazine compound, an O-acyloxime compound, an onium salt compound, a benzoin compound, an? -diketone compound, a polynuclear quinone compound, a diazo compound or an imidosulfonate compound.

본 발명에서 광중합 개시제는 공지된 증감제나 수소 공여체와 병용할 수 있다. 또한, 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the photopolymerization initiator may be used in combination with a known sensitizer or a hydrogen donor. The photopolymerization initiator may be used alone or in admixture of two or more.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 용매는 착색 감방사선성 조성물을 구성하는 각 성분을 분산 또는 용해시키고, 또한 이들 성분과 반응하지 않으며, 적당한 휘발성을 갖는 것인 한 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The solvent in the coloring and radiation-sensitive composition can be appropriately selected and used as long as it disperses or dissolves each component constituting the coloring and radiation-sensitive composition, does not react with these components, and has appropriate volatility.

본 발명에서 바람직한 용매로는, 예를 들면 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸 또는 피루브산에틸 등을 들 수 있다.Examples of suitable solvents in the present invention include propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether , Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,6-hexanediol diacetate, ethyl lactate, ethyl 3-methoxypropionate Methyl 3-methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, propionic acid n -Butyl, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate or ethyl pyruvate.

본 발명에서 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the solvents may be used alone or in admixture of two or more.

착색 감방사선성 조성물은 그 밖의 성분을 더 함유할 수도 있다. 그 밖의 성분으로서, 예를 들면 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르계 분산제, 폴리에틸렌글리콜디에스테르계 분산제, 소르비탄 지방산 에스테르계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, 아크릴계 분산제 등의 분산제; 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제 등을 들 수 있다.The coloring and radiation-sensitive composition may further contain other components. Examples of other components include a urethane-based dispersant, a polyethyleneimine-based dispersant, a polyoxyethylene alkyl ether-based dispersant, a polyoxyethylene alkyl phenyl ether-based dispersant, a polyethylene glycol diester-based dispersant, a sorbitan fatty acid ester- Dispersing agents such as a dispersant and an acrylic dispersant; Surfactants such as fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants; Vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3- Propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like, and the like.

<표시 소자> <Display element>

본 발명의 표시 소자는 상술한 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 것이다. 표시 소자의 구체예로는, 컬러 액정 표시 소자, 유기 EL 표시 소자 또는 전자페이퍼 등을 들 수 있다.The display element of the present invention comprises a color filter manufactured by the above-described method. Specific examples of the display element include a color liquid crystal display element, an organic EL display element, or an electronic paper.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자는, 예를 들면 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)가 배치된 구동용 기판과, 본 실시 형태의 컬러 필터가 설치된 별도의 기판이 액정층을 개재하여 대향하는 구조로 할 수 있다. 또는, 컬러 액정 표시 소자는 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판의 표면 상에 본 실시 형태의 컬러 필터를 형성한 기판과, ITO(Indium Tin Oxide: 주석을 도핑한 산화인듐) 전극을 형성한 기판이 액정층을 개재하여 대향한 구조로 할 수도 있다. 후자의 구조는 개구율을 현저히 향상시킬 수 있어, 밝고 고정밀한 액정 표시 소자가 얻어진다는 이점을 갖는다.The color liquid crystal display device having the color filter manufactured by the method of the present invention can be applied to a liquid crystal display device having a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) The liquid crystal layer can be opposed to the liquid crystal layer. Alternatively, the color liquid crystal display element may be formed by forming a substrate on which a color filter of the present embodiment is formed and an ITO (indium tin oxide: tin-doped indium oxide) electrode on the surface of a driving substrate on which a thin film transistor A structure in which one substrate faces the liquid crystal layer is also possible. The latter structure can remarkably improve the aperture ratio and has an advantage that a bright and high-definition liquid crystal display element can be obtained.

컬러 액정 표시 소자는 백 라이트 유닛을 구비한다. 백 라이트 유닛으로는, 예를 들면 냉음극 형광관(CCFL: Cold Cathode Fluorescent Lamp) 등의 형광관과, 산란판이 조합된 구조인 것을 사용할 수 있다. 또한, 백색 LED를 광원으로 하는 백 라이트 유닛을 이용할 수도 있다. 백색 LED로는, 예를 들면 적색 LED와 녹색 LED와 청색 LED를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 적색 LED와 녹색 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 적색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 YAG계 형광체의 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 오렌지색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 자외선 LED와 적색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체와 청색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED 등을 들 수 있다.The color liquid crystal display element includes a backlight unit. As the backlight unit, for example, a structure in which a fluorescent tube such as a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) or the like and a scattering plate are combined can be used. Further, a backlight unit using a white LED as a light source may also be used. Examples of white LEDs include white LEDs that combine red LEDs, green LEDs, and blue LEDs to obtain white light by mixing colors, white LEDs that combine blue LEDs, red LEDs, and green phosphors to obtain white light by mixing colors, A white LED for obtaining a white light by mixing a red light emitting phosphor and a green light emitting phosphor and a white LED for obtaining white light by mixing a blue LED and a YAG based phosphor, a blue LED, an orange light emitting phosphor and a green light emitting phosphor A white LED for obtaining white light by mixing white light, an ultraviolet LED and a white LED for obtaining a white light by mixing a red light emitting phosphor, a green light emitting phosphor and a blue light emitting phosphor in combination, and the like.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자에는, TN(Twisted Nematic)형, STN(Super Twisted Nematic)형, IPS(In-Planes Switching)형, VA(Vertical Alignment)형, OCB(Optically Compensated Birefringence)형 등의 적절한 액정 모드를 적용할 수 있다.The color liquid crystal display device having the color filter manufactured by the method of the present invention may be applied to a color liquid crystal display device such as TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Twisted Nematic) type, IPS (In- And an OCB (Optically Compensated Birefringence) type liquid crystal mode.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 갖는 유기 EL 표시 소자는 적절한 구조를 채용하는 것이 가능하고, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)11-307242호 공보에 개시되어 있는 구조를 들 수 있다.An organic EL display device having a color filter manufactured by the method of the present invention can adopt a suitable structure, and includes a structure disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 11-307242.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 갖는 전자페이퍼는 적절한 구조를 채용하는 것이 가능하고, 예를 들면 일본 특허 공개 제2007-41169호 공보에 개시되어 있는 구조를 들 수 있다.An electronic paper having a color filter manufactured by the method of the present invention can adopt a suitable structure, and for example, there is a structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-41169.

이상, 본 실시 형태에 대해서 설명했지만 본 발명이 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니고, 요지를 일탈하지 않은 범위에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.Although the present embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the scope of the present invention.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명이 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

〔안료 염료 혼합액 등의 제조〕[Preparation of Pigment Dye Mixture, etc.]

제조예 1Production Example 1

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/C.I. 솔벤트 옐로우 179=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 염료 혼합액 (A1)을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 58 / C.I. 15 mass parts of solvent yellow 179 = 60/40 (by mass ratio), 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK) as a dispersant (nonvolatile component = 40 mass%) and propylene glycol monomethyl ether acetate Were mixed and dispersed by a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dye mixture (A1).

제조예 2Production Example 2

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/C.I. 베이직 블루 7=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 염료 혼합액 (A2)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 / C.I. 10 parts by mass (nonvolatile component = 40% by mass) of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK) as a dispersing agent, 15 parts by mass of a mixture of Basic Blue 7 = 60/40 (mass ratio) and propylene glycol monomethyl ether acetate Were mixed and dispersed by a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dye mixture (A2).

제조예 3Production Example 3

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/하기 화학식으로 표시되는 황색 염료(바르비투르산 아조계 염료)=70/30(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 염료 혼합액 (A3)을 제조하였다.As a colorant, C.I. 15 parts by mass of a yellow pigment (barbituric acid azo dye) = 70/30 (mass ratio) represented by Pigment Green 58 and 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK) as a dispersing agent Non-volatile component = 40% by mass), and 75 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed and dispersed by a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dye mixture (A3).

Figure 112012025062192-pat00001
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제조예 4Production Example 4

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/C.I. 피그먼트 옐로우 150=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 분산액 (A4)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 58 / C.I. 15 mass parts of Pigment Yellow 150 = 60/40 (by mass ratio), 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK) as a dispersant (nonvolatile component = 40 mass%) and propylene glycol monomethyl ether Acetate were mixed and dispersed in a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dispersion (A4).

제조예 5Production Example 5

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/크산텐계 염료인 C.I. 로다민 6G=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 염료 혼합액 (A5)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 / xanthene dye C.I. 10 parts by mass (nonvolatile component = 40% by mass) of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK) as a dispersant, 15 parts by mass of a mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate Were mixed and dispersed by a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dye mixture (A5).

제조예 6Production Example 6

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/하기 화학식으로 표시되는 트리아릴메탄계 레이크 안료(식 중, x=1 내지 2)=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산시켜 안료 분산액 (A6)을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 15 parts by weight of a triarylmethane lake pigment (wherein x = 1 to 2) = 60/40 (mass ratio) mixture represented by the following formula: BYK-LPN21116 (BYK ) (Nonvolatile component = 40% by mass) and 75 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed and dispersed with a bead mill for 12 hours to prepare a pigment dispersion (A6).

Figure 112012025062192-pat00002
Figure 112012025062192-pat00002

〔결합제 수지의 합성〕[Synthesis of binder resin]

합성예 1 Synthesis Example 1

냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 2 질량부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 질량부를 투입하고, 계속해서 메타크릴산 15 질량부, N-페닐말레이미드 20 질량부, 벤질메타크릴레이트 55 질량부, 스티렌 10 질량부 및 분자량 조절제로서 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐(닛본 유시(주) 제조, 상품명: 노프마 MSD) 3 질량부를 투입하고, 질소 치환하였다. 그 후 완만히 교반하고 반응 용액의 온도를 80 ℃로 상승시키고, 이 온도를 5시간 동안 유지하여 중합함으로써, 수지 용액(고형분 농도=33 질량%)을 얻었다. 얻어진 수지는 Mw=16,000, Mn=7,000이었다. 이 수지 용액을 "결합제 수지 용액 (B1)"로 한다.A cooling tube and a stirrer, 2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged. Then, 15 parts by mass of methacrylic acid, 50 parts by mass of N-phenylmaleimide 20 mass parts of benzyl methacrylate, 55 mass parts of styrene, and 3 mass parts of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (trade name: , And the mixture was purged with nitrogen. Thereafter, the mixture was gently stirred, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C, and this temperature was maintained for 5 hours to polymerize to obtain a resin solution (solid content concentration = 33 mass%). The resin thus obtained had Mw = 16,000 and Mn = 7,000. This resin solution is referred to as "binder resin solution (B1) ".

합성예 2 Synthesis Example 2

냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에 p-비닐벤질글리시딜에테르 44 질량부, N-페닐말레이미드 40 질량부, 벤질메타크릴레이트 16 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 300 질량부에 용해시키고, 추가로 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 8 질량부 및 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 8 질량부를 투입하고, 질소 치환하였다. 그 후, 완만히 교반하면서, 질소 버블링하면서 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 5시간 동안 중합하였다.44 parts by mass of p-vinylbenzyl glycidyl ether, 40 parts by mass of N-phenylmaleimide and 16 parts by mass of benzyl methacrylate were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, Further, 8 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 8 parts by mass of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the reaction solution was heated to 80 캜 while bubbling with nitrogen while gently stirring, and the polymerization was carried out at this temperature for 5 hours.

이어서, 이 반응 용액에 메타크릴산 17 질량부, p-메톡시페놀 0.5 질량부 및 테트라부틸암모늄브로마이드 4.4 질량부를 첨가하고, 120 ℃의 온도에서 9시간 동안 반응을 행하였다. 또한, 무수 숙신산 18.5 질량부를 첨가하고, 100 ℃의 온도에서 6시간 동안 반응을 행한 후, 반응 용액 온도를 85 ℃로 유지한 상태에서 2회 수세하고, 감압 농축을 행함으로써 결합제 수지 용액(고형분 농도=33 질량%)을 얻었다. 얻어진 결합제 수지는 Mw=7,800, Mn=5,000이었다. 이 결합제 수지 용액을 "결합제 수지 용액 (B2)"로 한다.Then, 17 parts by mass of methacrylic acid, 0.5 parts by mass of p-methoxyphenol and 4.4 parts by mass of tetrabutylammonium bromide were added to this reaction solution, and the reaction was carried out at a temperature of 120 ° C for 9 hours. After 18.5 parts by mass of succinic anhydride was added and the reaction was carried out at a temperature of 100 ° C for 6 hours, the reaction solution was rinsed twice with the temperature maintained at 85 ° C and concentrated under reduced pressure to obtain a binder resin solution = 33 mass%). The resulting binder resin had Mw = 7,800 and Mn = 5,000. This binder resin solution is referred to as "binder resin solution (B2) ".

실시예 1Example 1

〔착색 감방사선성 조성물의 제조〕[Preparation of coloring and radiation-sensitive composition]

안료 염료 혼합액 (A1) 100 질량부, 결합제 수지로서 결합제 수지 용액 (B1) 18 질량부(고형분 농도=33 질량%), 가교제로서 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조 카야라드(KAYARAD) MAX-3510(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물) 8 질량부와 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조 카야라드 DPCA-60(카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트) 4 질량부, 광중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 1 질량부와 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심) 3 질량부, 불소계 계면활성제로서 DIC 가부시끼가이샤 제조 메가팩 F-554를 0.2 질량부 및 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 혼합하여 고형분 농도 15 질량%의 녹색 감방사선성 조성물을 제조하였다.18 parts by mass (solid content concentration = 33% by mass) of the binder resin solution (B1) as the binder resin and 100 parts by mass of the pigment dye mixture solution (KAARAD MAX-3510 manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha, , 8 parts by mass of a mixture of pentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate), 4 parts by mass of Kayalad DPCA-60 (caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Kagaku Co., Ltd., 1 part by mass of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one as an initiator and 1 part by mass of ethanone, 1- [ -Carbazol-3-yl] -, 1- (O-acetyloxime), 0.2 part by mass of Megafac F-554 manufactured by DIC Corporation as a fluorine surfactant, and propylene glycol monomethyl ether acetate To prepare a green radiation-sensitive composition having a solid content concentration of 15 mass% The.

〔화소 패턴의 형성 및 색 안정성의 평가〕[Formation of Pixel Pattern and Evaluation of Color Stability]

얻어진 녹색 감방사선성 조성물을 유리 기판 상에 슬릿다이 코터를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트로 4 분간 프리베이킹을 행하여 막 두께 2 ㎛의 도막을 형성하였다.The green radiation sensitive composition thus obtained was coated on a glass substrate using a slit die coater and prebaked on a hot plate at 90 DEG C for 4 minutes to form a coating film having a thickness of 2 mu m.

이어서, 도막이 형성된 기판을 실온으로 냉각시킨 후, 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 1(UV-31(도시바 가라스사 제조))을 개재시켜 얻어진 도 2의 분광 특성을 나타내는 방사선을 이용하여, 스트라이프상 포토마스크를 통해 2,000 J/㎡의 노광량으로 도막을 노광하였다. 그 후, 얻어진 기판에 대하여 23 ℃의 0.04 질량% 수산화칼륨 수용액을 포함하는 현상액을 현상압 1 kgf/㎠(노즐 직경 1 mm)로 토출시킴으로써, 1 분간 샤워 현상을 행하였다. 그 후, 이 기판을 초순수로 세정, 풍건하고, 기판 상에 녹색의 스트라이프상 화소 패턴을 형성하였다.Subsequently, the coated substrate was cooled to room temperature and irradiated with ultraviolet ray cut filter 1 (UV-31 (manufactured by Toshiba Kagas Co., Ltd.)) to radiation radiated from ultra-high pressure mercury lamp, And the coating film was exposed through a striped photomask at an exposure dose of 2,000 J / m &lt; 2 &gt;. Subsequently, a developer containing 0.04 mass% potassium hydroxide aqueous solution at 23 캜 was ejected to the obtained substrate at a developing pressure of 1 kgf / cm 2 (nozzle diameter: 1 mm) to perform showering for 1 minute. Thereafter, this substrate was cleaned with ultra-pure water and air-dried to form a green stripe-shaped pixel pattern on the substrate.

노광 전의 도막 및 형성된 화소 패턴에 대해서, 컬러 분석기(오오쓰카 덴시(주) 제조 MCPD2000)를 이용하여 분광 특성을 측정하고, 색차(ΔE*ab)를 구하였다. 평가 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The spectral characteristics of the coated film and the formed pixel pattern before exposure were measured using a color analyzer (MCPD2000 manufactured by OTSUKA DENKI CO., LTD.) To obtain a color difference (DELTA E * ab). The evaluation results are shown in Table 1 below.

실시예 2 내지 11, 비교예 1 내지 5 및 참고예 1 내지 2Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 5, and Reference Examples 1 to 2

실시예 1에 있어서, 각 성분의 종류와 함유량을 표 1에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 각 착색 감방사선성 조성물을 제조하였다. 이어서, 얻어진 착색 감방사선성 조성물을 이용하고, 노광 방사선을 표 1에 나타낸 바와 같이 선택한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 화소 패턴을 형성하고, 색 안정성의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타내었다. 또한, 도 3의 분광 특성을 나타내는 방사선은 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 2(UV-33(도시바 가라스사 제조))를 개재시켜 얻어지는 것이고, 도 4의 분광 특성을 나타내는 방사선은 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 3(UV-35(도시바 가라스사 제조))을 개재시켜 얻어지는 것이다.Each coloring and radiation sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the kind and content of each component in Example 1 were changed as shown in Table 1. Subsequently, a pixel pattern was formed in the same manner as in Example 1, except that the obtained coloring and radiation-sensitive composition was used and exposure radiation was selected as shown in Table 1, and color stability was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1. 3 is obtained by interposing an ultraviolet cut filter 2 (UV-33 (manufactured by Toshiba Garasu)) to the radiation radiated from the ultrahigh pressure mercury lamp, and the radiation showing the spectral characteristics of Fig. (UV-35, manufactured by Toshiba Kagas Co., Ltd.) to the radiation emitted from the ultraviolet ray shielding filter 3.

Figure 112012025062192-pat00003
Figure 112012025062192-pat00003

표 1에 있어서, 각 성분은 하기와 같다.In Table 1, the respective components are as follows.

C1: 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 DPCA-60) C1: caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: Kayalad DPCA-60, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha)

C2: 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(도아 고세이 가부시끼가이샤 제조, 상품명 TO-1382)C2: a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and monoesters of succinic acid, dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (trade name TO-1382, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

C3: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 MAX-3510) C3: A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (trade name KAYARAD MAX-3510, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha)

C4: 에틸렌옥시드 올리고머 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 DPEA-12) C4: ethylene oxide oligomer-modified dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPEA-12, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha)

D1: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 369) D1: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (Irgacure 369 available from Ciba Specialty Chemicals)

D2: 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심)(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 OXE02) D2: ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -, 1- (O- acetyloxime) Cure OXE02)

D3: 2-메르캅토벤조티아졸 D3: 2-Mercaptobenzothiazole

D4: 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸(호도가야 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조, 상품명 B-CIM) D4: 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole (manufactured by Hodogaya Chemical Co., CIM)

D5: 2,4-디에틸티오크산톤(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야큐어(CAYACURE) DETX-S) D5: 2,4-Diethylthioxanthone (trade name: CAYACURE DETX-S, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha)

D6: 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 D6: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone

D7: 아데카 제조『상품명 NCI930』 D7: manufactured by Adeka &quot; NCI930 &quot;

Claims (3)

(1) 기판 상에, 녹색, 청색, 황색 또는 시안색의 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 착색제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정, 및 (2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정을 포함하고,
상기 착색제의 함유 비율이 상기 착색 감방사선성 조성물의 고형분 중에 5 내지 70 질량%이고,
상기 방사선의 분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수개의 피크를 가지며, 상기 방사선의 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 것을 특징으로 하는, 녹색, 청색, 황색 또는 시안색의 화소 패턴의 형성 방법.
(1) a step of forming on a substrate a coating film of a coloring and radiation-sensitive composition containing a coloring agent containing at least one kind selected from the group consisting of dyes of green, blue, yellow or cyan and a lake pigment, and 2) irradiating at least a part of the coating film with radiation,
Wherein the content of the colorant is 5 to 70% by mass in the solid content of the coloring and radiation-sensitive composition,
Characterized in that the spectral distribution of the radiation has a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm and the maximum intensity of the radiation at less than 350 nm is not more than 50% of the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm. Green, blue, yellow or cyan.
제1항에 기재된 방법에 의해 형성된 화소 패턴을 구비하여 이루어지는 컬러 필터.A color filter comprising a pixel pattern formed by the method according to claim 1. 제2항에 기재된 컬러 필터를 구비하는 표시 소자.A display device comprising the color filter according to claim 2.
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